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特開2023-132183積層セラミック電子部品、および積層セラミック電子部品の製造方法
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  • 特開-積層セラミック電子部品、および積層セラミック電子部品の製造方法 図1
  • 特開-積層セラミック電子部品、および積層セラミック電子部品の製造方法 図2
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  • 特開-積層セラミック電子部品、および積層セラミック電子部品の製造方法 図4
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  • 特開-積層セラミック電子部品、および積層セラミック電子部品の製造方法 図6
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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023132183
(43)【公開日】2023-09-22
(54)【発明の名称】積層セラミック電子部品、および積層セラミック電子部品の製造方法
(51)【国際特許分類】
   H01G 4/30 20060101AFI20230914BHJP
【FI】
H01G4/30 201N
H01G4/30 201L
H01G4/30 515
H01G4/30 512
H01G4/30 517
H01G4/30 311F
H01G4/30 311Z
【審査請求】未請求
【請求項の数】20
【出願形態】OL
(21)【出願番号】P 2022037359
(22)【出願日】2022-03-10
(71)【出願人】
【識別番号】000204284
【氏名又は名称】太陽誘電株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100087480
【弁理士】
【氏名又は名称】片山 修平
(72)【発明者】
【氏名】津島 湧使
(72)【発明者】
【氏名】松本 康宏
(72)【発明者】
【氏名】森田 浩一郎
【テーマコード(参考)】
5E001
5E082
【Fターム(参考)】
5E001AB03
5E001AC10
5E001AE02
5E001AE03
5E001AE04
5E001AH01
5E001AH05
5E001AH06
5E001AH07
5E001AH09
5E001AJ01
5E001AJ02
5E001AJ03
5E082AB03
5E082BC19
5E082EE23
5E082EE26
5E082FG04
5E082FG26
5E082FG46
5E082FG54
5E082GG10
5E082GG26
5E082GG28
5E082LL02
5E082LL03
5E082MM24
5E082PP03
(57)【要約】
【課題】 良好な耐湿性および良好な信頼性を両立することができる積層セラミック電子部品およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 複数の誘電体層(11)と、複数の内部電極層(12)とが交互に積層された積層部分を含み、複数の内部電極層が、対向する2端面に交互に露出するように配置され、2端面以外に積層方向の上面および下面と、2側面とを有する素体(10)を備え、素体は、異なる端面に接続された内部電極層同士が対向する容量領域(14)と、複数の誘電体層および複数の内部電極層の2側面側の端部を覆うように設けられサイドマージン(16)と、容量領域とサイドマージンとの間に設けられ接合部(17)と、を備え、A/B比は、容量領域よりもサイドマージンの方が大きく、容量領域よりも接合部の方が小さい。
【選択図】 図3
【特許請求の範囲】
【請求項1】
AサイトおよびBサイトを有する一般式ABOで表されるペロブスカイト構造を有するセラミックを主成分とする複数の誘電体層と、複数の内部電極層とが交互に積層された積層部分を含み、積層された複数の前記内部電極層が、対向する2端面に交互に露出するように配置され、前記2端面以外に積層方向の上面および下面と、2側面とを有する素体を備え、
前記素体は、異なる端面に接続された前記内部電極層同士が対向する容量領域と、前記複数の誘電体層および前記複数の内部電極層の前記2側面側の端部を覆うように設けられAサイトおよびBサイトを有する一般式ABOで表されるペロブスカイト構造を有するセラミックを主成分とするサイドマージンと、前記容量領域と前記サイドマージンとの間に設けられAサイトおよびBサイトを有する一般式ABOで表されるペロブスカイト構造を有するセラミックを主成分とする接合部と、を備え、
A/B比は、前記容量領域よりも前記サイドマージンの方が大きく、前記容量領域よりも前記接合部の方が小さい、積層セラミック電子部品。
【請求項2】
前記誘電体層、前記サイドマージンおよび前記接合部は、チタン酸バリウムを主成分とする、請求項1に記載の積層セラミック電子部品。
【請求項3】
前記容量領域における前記複数の誘電体層のA/B比は、0.980以下である、請求項1または請求項2に記載の積層セラミック電子部品。
【請求項4】
前記容量領域における前記複数の誘電体層のA/B比は、0.970以上である、請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の積層セラミック電子部品。
【請求項5】
前記容量領域における前記複数の誘電体層のA/B比は、0.975以上である、請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の積層セラミック電子部品。
【請求項6】
前記サイドマージンにおけるA/B比は、1.005以上、1.010以下である、請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の積層セラミック電子部品。
【請求項7】
前記サイドマージンにおけるA/B比は、1.008以下である、請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の積層セラミック電子部品。
【請求項8】
前記サイドマージンにおけるA/B比は、1.006以下である、請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の積層セラミック電子部品。
【請求項9】
前記接合部におけるA/B比は、0.960以下である、請求項1から請求項8のいずれか一項に記載の積層セラミック電子部品。
【請求項10】
前記接合部におけるA/B比は、0.955以下である、請求項1から請求項9のいずれか一項に記載の積層セラミック電子部品。
【請求項11】
前記接合部におけるA/B比は、0.950以上である、請求項1から請求項10のいずれか一項に記載の積層セラミック電子部品。
【請求項12】
前記サイドマージンは、ポアを有し、
前記サイドマージンの断面における前記ポアの面積の比率は、10%未満である、請求項1から請求項11のいずれか一項に記載の積層セラミック電子部品。
【請求項13】
前記複数の誘電体層は、ペロブスカイト構造におけるBサイトにジルコニウムまたはハフニウムを少なくとも1つさらに含む、請求項1から請求項12のいずれか一項に記載のセラミック電子部品。
【請求項14】
AサイトおよびBサイトを有する一般式ABOで表されるペロブスカイト構造を有するセラミックを主成分セラミックとするセラミックグリーンシートと内部電極パターンとが交互に積層され、対向する2端面に前記内部電極パターンが交互に露出する積層体と、前記積層体において積層方向の上面および下面ならびに前記2端面以外の2側面にAサイトおよびBサイトを有する一般式ABOで表されるペロブスカイト構造を有するセラミックを主成分セラミックとする接合シートとAサイトおよびBサイトを有する一般式ABOで表されるペロブスカイト構造を有するセラミックを主成分セラミックとするサイドマージンシートとが順に積層されたセラミック積層体を準備する工程と、
前記セラミック積層体を焼成する工程と、を含み、
A/B比は、前記セラミックグリーンシートよりも前記サイドマージンシートの方が大きく、前記セラミックグリーンシートよりも前記接合シートの方が小さい、積層セラミック電子部品の製造方法。
【請求項15】
前記セラミックグリーンシート、前記接合シートおよび前記サイドマージンシートはチタン酸バリウムを主成分セラミックとする請求項14に記載の積層セラミック電子部品の製造方法。
【請求項16】
前記セラミックグリーンシートにおけるA/B比は、0.980以下である、請求項14または請求項15に記載の積層セラミック電子部品の製造方法。
【請求項17】
前記セラミックグリーンシートにおけるA/B比は、0.970以上である、請求項14から請求項16のいずれか一項に記載の積層セラミック電子部品の製造方法。
【請求項18】
前記サイドマージンシートにおけるA/B比は、1.005以上、1.010以下である、請求項14から請求項17のいずれか一項に記載の積層セラミック電子部品の製造方法。
【請求項19】
前記接合シートにおけるA/B比は、0.960以下である、請求項14から請求項18のいずれか一項に記載の積層セラミック電子部品の製造方法。
【請求項20】
前記接合シートにおけるA/B比は、0.950以上である、請求項14から請求項19のいずれか一項に記載の積層セラミック電子部品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、積層セラミック電子部品、および積層セラミック電子部品の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
携帯電話を代表とする高周波通信用システムにおいて、ノイズを除去するために、積層セラミックコンデンサなどの積層セラミック電子部品が用いられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開2011-124429号広報
【特許文献2】特開2017-011172号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
積層セラミック電子部品は、電気容量を有する容量領域と、容量領域を挟むサイドマージンとを備えている。サイドマージンは、内部電極層からの拡散量が少ないことから、容量領域に比べて緻密化温度が高く、容量領域に比べて十分に緻密化されずに耐湿性に問題が起きるおそれがある。サイドマージンの緻密化を促進させるために、ケイ素やマンガンをサイドマージンに添加する手法(特許文献1,2)も挙げられるが、容量領域にケイ素やマンガンが拡散し、誘電率低下や異常粒成長を引き起こし信頼性が低下するおそれがある。そのため、なるべくサイドマージンに添加剤を入れずに、サイドマージンと容量領域とを同組成に近づけることが好ましい。
【0005】
他の方法として、チタンに対するバリウムのモル比率(Ba/Ti比)を容量領域よりもサイドマージンの方で大きくすることで、サイドマージンの緻密化温度を下げる手法が挙げられる。しかしながら、この場合、Ba/Ti比の差に起因してサイドマージンから容量領域へバリウムが拡散しやすくなり、容量領域に異常粒成長が生じやすくなり、信頼性が低下するおそれがある。
【0006】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、良好な耐湿性および良好な信頼性を両立することができる積層セラミック電子部品およびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明に係る積層セラミック電子部品は、AサイトおよびBサイトを有する一般式ABOで表されるペロブスカイト構造を有するセラミックを主成分とする複数の誘電体層と、複数の内部電極層とが交互に積層された積層部分を含み、積層された複数の前記内部電極層が、対向する2端面に交互に露出するように配置され、前記2端面以外に積層方向の上面および下面と、2側面とを有する素体を備え、前記素体は、異なる端面に接続された前記内部電極層同士が対向する容量領域と、前記複数の誘電体層および前記複数の内部電極層の前記2側面側の端部を覆うように設けられAサイトおよびBサイトを有する一般式ABOで表されるペロブスカイト構造を有するセラミックを主成分とするサイドマージンと、前記容量領域と前記サイドマージンとの間に設けられAサイトおよびBサイトを有する一般式ABOで表されるペロブスカイト構造を有するセラミックを主成分とする接合部と、を備え、A/B比は、前記容量領域よりも前記サイドマージンの方が大きく、前記容量領域よりも前記接合部の方が小さい。
【0008】
上記積層セラミック電子部品において、前記誘電体層、前記サイドマージンおよび前記接合部は、チタン酸バリウムを主成分としてもよい。
【0009】
上記積層セラミック電子部品において、前記容量領域における前記複数の誘電体層のA/B比は、0.980以下であってもよい。
【0010】
上記積層セラミック電子部品において、前記容量領域における前記複数の誘電体層のA/B比は、0.970以上であってもよい。
【0011】
上記積層セラミック電子部品において、前記容量領域における前記複数の誘電体層のA/B比は、0.975以上であってもよい。
【0012】
上記積層セラミック電子部品において、前記サイドマージンにおけるA/B比は、1.005以上、1.010以下であってもよい。
【0013】
上記積層セラミック電子部品において、前記サイドマージンにおけるA/B比は、1.008以下であってもよい。
【0014】
上記積層セラミック電子部品において、前記サイドマージンにおけるA/B比は、1.006以下であってもよい。
【0015】
上記積層セラミック電子部品において、前記接合部におけるA/B比は、0.960以下であってもよい。
【0016】
上記積層セラミック電子部品において、前記接合部におけるA/B比は、0.955以下であってもよい。
【0017】
上記積層セラミック電子部品において、前記接合部におけるA/B比は、0.950以上であってもよい。
【0018】
上記積層セラミック電子部品において、前記サイドマージンは、ポアを有し、前記サイドマージンの断面における前記ポアの面積の比率は、10%未満であってもよい。
【0019】
上記積層セラミック電子部品において、前記複数の誘電体層は、ペロブスカイト構造におけるBサイトにジルコニウムまたはハフニウムを少なくとも1つさらに含んでいてもよい。
【0020】
積層セラミック電子部品の製造方法は、AサイトおよびBサイトを有する一般式ABOで表されるペロブスカイト構造を有するセラミックを主成分セラミックとするセラミックグリーンシートと内部電極パターンとが交互に積層され、対向する2端面に前記内部電極パターンが交互に露出する積層体と、前記積層体において積層方向の上面および下面ならびに前記2端面以外の2側面にAサイトおよびBサイトを有する一般式ABOで表されるペロブスカイト構造を有するセラミックを主成分セラミックとする接合シートとAサイトおよびBサイトを有する一般式ABOで表されるペロブスカイト構造を有するセラミックを主成分セラミックとするサイドマージンシートとが順に積層されたセラミック積層体を準備する工程と、前記セラミック積層体を焼成する工程と、を含み、A/B比は、前記セラミックグリーンシートよりも前記サイドマージンシートの方が大きく、前記セラミックグリーンシートよりも前記接合シートの方が小さい。
【0021】
上記積層セラミック電子部品の製造方法において、前記セラミックグリーンシート、前記接合シートおよび前記サイドマージンシートはチタン酸バリウムを主成分セラミックとしてもよい。
【0022】
上記積層セラミック電子部品の製造方法において、前記セラミックグリーンシートにおけるA/B比は、0.980以下であってもよい。
【0023】
上記積層セラミック電子部品の製造方法において、前記セラミックグリーンシートにおけるA/B比は、0.970以上であってもよい。
【0024】
上記積層セラミック電子部品の製造方法において、前記サイドマージンシートにおけるA/B比は、1.005以上、1.010以下であってもよい。
【0025】
上記積層セラミック電子部品の製造方法において、前記接合シートにおけるA/B比は、0.960以下であってもよい。
【0026】
上記積層セラミック電子部品の製造方法において、前記接合シートにおけるA/B比は、0.950以上であってもよい。
【発明の効果】
【0027】
本発明によれば、良好な耐湿性および良好な信頼性を両立することができる積層セラミック電子部品およびその製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0028】
図1】積層セラミックコンデンサの部分断面斜視図である。
図2図1のA-A線断面図である。
図3図1のB-B線断面図である。
図4】積層セラミックコンデンサの製造方法のフローを例示する図である。
図5】(a)は内部電極形成工程を例示する図であり、(b)は圧着工程を例示する図である。
図6】(a)および(b)はサイドマージン形成工程を例示する図である。
【発明を実施するための形態】
【0029】
以下、図面を参照しつつ、実施形態について説明する。
【0030】
(実施形態)
図1は、実施形態に係る積層セラミックコンデンサ100の部分断面斜視図である。図2は、図1のA-A線断面図である。図3は、図1のB-B線断面図である。図1図3で例示するように、積層セラミックコンデンサ100は、略直方体形状を有する素体10と、素体10のいずれかの対向する2端面に設けられた外部電極20a,20bとを備える。なお、素体10の当該2端面以外の4面のうち、積層方向の上面および下面以外の2面を側面と称する。外部電極20a,20bは、素体10の積層方向の上面、下面および2側面に延在している。ただし、外部電極20a,20bは、互いに離間している。
【0031】
なお、図1図3において、X軸方向は、素体10の長さ方向であって、素体10の2端面が対向する方向であり、外部電極20aと外部電極20bとが対向する方向である。Y軸方向は、内部電極層の幅方向であり、素体10の4側面のうち2端面以外の2側面が対向する方向である。Z軸方向は、積層方向であり、素体10の上面と下面とが対向する方向である。X軸方向と、Y軸方向と、Z軸方向とは、互いに直交している。
【0032】
素体10は、誘電体として機能するセラミック材料を含む誘電体層11と、内部電極層12とが、交互に積層された構成を有する。各内部電極層12の端縁は、素体10の外部電極20aが設けられた端面と、外部電極20bが設けられた端面とに、交互に露出している。それにより、各内部電極層12は、外部電極20aと外部電極20bとに、交互に導通している。その結果、積層セラミックコンデンサ100は、複数の誘電体層11が内部電極層12を介して積層された構成を有する。また、誘電体層11と内部電極層12との積層体において、積層方向の最外層には内部電極層12が配置され、当該積層体の上面および下面は、カバー層13によって覆われている。カバー層13は、セラミック材料を主成分とする。例えば、カバー層13は、誘電体層11と組成が同じであっても、異なっていても構わない。なお、内部電極層12が異なる2つの面に露出して、異なる外部電極に導通していれば、図1から図3の構成に限られない。
【0033】
積層セラミックコンデンサ100のサイズは、例えば、長さ0.25mm、幅0.125mm、高さ0.125mmであり、または長さ0.4mm、幅0.2mm、高さ0.2mm、または長さ0.6mm、幅0.3mm、高さ0.3mmであり、または長さ1.0mm、幅0.5mm、高さ0.5mmであり、または長さ3.2mm、幅1.6mm、高さ1.6mmであり、または長さ4.5mm、幅3.2mm、高さ2.5mmであるが、これらのサイズに限定されるものではない。
【0034】
内部電極層12は、ニッケル(Ni)、銅(Cu)、スズ(Sn)等の卑金属を主成分とする。内部電極層12として、白金(Pt)、パラジウム(Pd)、銀(Ag)、金(Au)などの貴金属やこれらを含む合金を用いてもよい。内部電極層12の厚みは、例えば、0.1μm以上3μm以下であり、0.1μm以上1μm以下であり、0.1μm以上0.5μm以下である。
【0035】
誘電体層11は、誘電体組成物であって、例えば、一般式ABOで表されるペロブスカイト構造を有するセラミック材料を主成分とする。なお、当該ペロブスカイト構造は、化学量論組成から外れたABO3-αを含む。本実施形態では、当該セラミック材料として、チタン酸バリウム(BaTiO)を用いる。例えば、誘電体層11において、チタン酸バリウムは、90at%以上含まれている。誘電体層11の厚みは、例えば、0.2μm以上10μm以下であり、0.2μm以上5μm以下であり、0.2μm以上2μm以下である。
【0036】
誘電体層11には、添加物が添加されていてもよい。誘電体層11への添加物として、ジルコニウム(Zr)、ハフニウム(Hf)、マグネシウム(Mg)、マンガン(Mn)、モリブデン(Mo)、バナジウム(V)、クロム(Cr)、希土類元素(イットリウム(Y)、サマリウム(Sm)、ユウロピウム(Eu)、ガドリニウム(Gd)、テルビウム(Tb)、ジスプロシウム(Dy)、ホロミウム(Ho)、エルビウム(Er)、ツリウム(Tm)およびイッテルビウム(Yb))の酸化物、または、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)、リチウム(Li)、ホウ素(B)、ナトリウム(Na)、カリウム(K)もしくはケイ素(Si)を含む酸化物、または、コバルト、ニッケル、リチウム、ホウ素、ナトリウム、カリウムもしくはケイ素を含むガラスが挙げられる。
【0037】
図2で例示するように、外部電極20aに接続された内部電極層12と外部電極20bに接続された内部電極層12とが対向する領域は、積層セラミックコンデンサ100において電気容量を生じる領域である。そこで、当該電気容量を生じる領域を、容量領域14と称する。すなわち、容量領域14は、異なる外部電極に接続された隣接する内部電極層12同士が対向する領域である。
【0038】
外部電極20aに接続された内部電極層12同士が、外部電極20bに接続された内部電極層12を介さずに対向する領域を、エンドマージン15と称する。また、外部電極20bに接続された内部電極層12同士が、外部電極20aに接続された内部電極層12を介さずに対向する領域も、エンドマージン15である。すなわち、エンドマージン15は、同じ外部電極に接続された内部電極層12が異なる外部電極に接続された内部電極層12を介さずに対向する領域である。エンドマージン15は、電気容量を生じない領域である。
【0039】
図3で例示するように、素体10において、サイドマージン16は、誘電体層11および内部電極層12の2側面側の端部(Y軸方向の端部)を覆うように設けられた領域である。サイドマージン16も、電気容量を生じない領域である。Y軸方向において、サイドマージン16と容量領域14との間に、サイドマージン16と容量領域14とを接合する接合部17が設けられている。サイドマージン16および接合部17は、チタン酸バリウムを主成分とする。例えば、サイドマージン16および接合部17において、チタン酸バリウムは、90%以上含まれている。
【0040】
本実施形態においては、一般式ABOで表せるペロブスカイト構造を有するチタン酸バリウムにおけるA/B比、すなわち、チタン100molに対するバリウムのモル比率(Ba/Ti比)は、容量領域14よりもサイドマージン16の方が大きく、容量領域14よりも接合部17の方が小さくなっている。この構成によれば、サイドマージン16におけるBa/Ti比が大きくなることから、サイドマージン16の緻密化温度を低下させることができる。それにより、サイドマージン16のポア率が低下し、耐湿性が向上する。次に、Ba/Ti比が容量領域14よりも接合部17の方が小さくなっていることから、サイドマージン16のバリウムは主として接合部17に拡散することになり、サイドマージン16から容量領域14へのバリウムの拡散は抑制されることになる。それにより、容量領域14における異常粒成長が抑制され、積層セラミックコンデンサ100の寿命が長くなり、信頼性が向上する。以上のことから、本実施形態によれば、良好な耐湿性および良好な信頼性を両立することができる。
【0041】
なお、容量領域14におけるBa/Ti比がストイキオメトリ近傍であると、ジルコニウムの若干量の混入によってA/B比が1/1000単位でも変動すると、積層セラミックコンデンサ100の信頼性に大きく影響するおそれがある。そこで、容量領域14において、Ba/Ti比をストイキオメトリよりも小さくすることが好ましい。例えば、容量領域14におけるBa/Ti比は、0.980以下であることが好ましく、0.970以下であることがより好ましく、0.965以下であることがさらに好ましい。
【0042】
一方、容量領域14におけるBa/Ti比が小さすぎると、容量領域14の緻密化温度が高温化し、十分に容量領域14を緻密化させることができないおそれがある。そこで、容量領域14におけるBa/Ti比に下限を設けることが好ましい。例えば、容量領域14におけるBa/Ti比は、0.970以上であることが好ましく、0.973以上であることがより好ましく、0.975以上であることがさらに好ましい。
【0043】
サイドマージン16におけるBa/Ti比が大きすぎると、サイドマージン16の緻密化温度が高温化し、サイドマージン16を十分に緻密化させることができないおそれがある。そこで、サイドマージン16におけるBa/Ti比に上限を設けることが好ましい。例えば、サイドマージン16におけるBa/Ti比は、1.010以下であることが好ましく、1.008以下であることが好ましく、1.006以下であることが好ましい。
【0044】
一方、サイドマージン16におけるBa/Ti比が小さすぎると、サイドマージン16に異常粒成長が生じるおそれがある。そこで、サイドマージン16におけるBa/Ti比に下限を設けることが好ましい。例えば、サイドマージン16におけるBa/Ti比は、1.005以上であることが好ましく、1.0055以上であることがより好ましく、1.006以上であることがさらに好ましい。
【0045】
接合部17におけるBa/Ti比が大きすぎると、サイドマージン16から容量領域14へのバリウムの拡散を十分に抑制できないおそれがある。そこで、接合部17におけるBa/Ti比に上限を設けることが好ましい。例えば、接合部17におけるBa/Ti比は、0.960以下であることが好ましく、0.955以下であることがより好ましく、0.950以下であることがさらに好ましい。
【0046】
一方、接合部17におけるBa/Ti比が小さすぎると、緻密化温度が高温化し、接合部17を十分に緻密化させることができないおそれがある。そこで、接合部17におけるBa/Ti比に下限を設けることが好ましい。例えば、接合部17におけるBa/Ti比は、0.950以上であることが好ましく、0.96以上であることがより好ましく、0.97以上であることがさらに好ましい。
【0047】
サイドマージン16におけるポア率が高いと、水分が侵入しやすくなり、積層セラミックコンデンサ100の耐湿性が低下するおそれがある。そこで、サイドマージン16におけるポア率に上限を設けることが好ましい。例えば、積層方向に沿った断面において、ポアの面積比率が10%未満であることが好ましく、5%以下であることがより好ましく、3%以下であることがさらに好ましい。なお、サイドマージン16のポア率は、サイドマージンの緻密化温度を低下させて緻密化を促進することで低下させることができる。
【0048】
容量領域14における誘電体層11は、ジルコニウムおよびハフニウムの少なくともいずれか一方をペロブスカイト構造におけるBサイトに含んでいてもよい。例えば、ジルコニウムおよびハフニウムは、チタン酸バリウムのBサイトに置換固溶していてもよい。誘電体層11にジルコニウムおよびハフニウムの少なくともいずれか一方が含まれることによって、サイドマージン16から誘電体層11へのバリウムの拡散が抑制される。
【0049】
接合部17のY軸方向の厚みは、例えば、1μm以上10μm以下であり、20μm以上40μm以下であり、80μm以上100μm以下である。また、接合部17のY軸方向の厚みは、サイドマージン16のY軸方向の厚みに対して、0.1倍以上0.3倍以下であり、0.4倍以上0.6倍以下であり、0.8倍以上1.0倍以下である。
【0050】
なお、上記例ではA/B比の一例としてBa/Ti比に着目しているが、AサイトおよびBサイトの少なくともいずれか一方に他の元素が含まれる場合には、A/B比とは、Bサイト元素の合計に対するAサイト元素の合計のモル比率のことである。
【0051】
続いて、積層セラミックコンデンサ100の製造方法について説明する。図4は、積層セラミックコンデンサ100の製造方法のフローを例示する図である。
【0052】
(原料粉末作製工程)
まず、誘電体層11を形成するための誘電体材料を用意する。誘電体層11に含まれるAサイト元素およびBサイト元素は、通常はABOの粒子の焼結体の形で誘電体層11に含まれる。例えば、チタン酸バリウムは、ペロブスカイト構造を有する正方晶化合物であって、高い誘電率を示す。このチタン酸バリウムは、一般的に、二酸化チタンなどのチタン原料と炭酸バリウムなどのバリウム原料とを反応させてチタン酸バリウムを合成することで得ることができる。誘電体層11の主成分セラミックの合成方法としては、従来種々の方法が知られており、例えば固相法、ゾル-ゲル法、水熱法等が知られている。本実施形態においては、これらのいずれも採用することができる。
【0053】
得られたセラミック粉末に、目的に応じて所定の添加化合物を添加する。添加化合物としては、ジルコニウム、ハフニウム、マグネシウム、マンガン、モリブデン、バナジウム、クロム、希土類元素(イットリウム、サマリウム、ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホロミウム、エルビウム、ツリウムおよびイッテルビウム)の酸化物、または、コバルト、ニッケル、リチウム、ホウ素、ナトリウム、カリウムもしくはケイ素を含む酸化物、または、コバルト、ニッケル、リチウム、ホウ素、ナトリウム、カリウムもしくはケイ素を含むガラスが挙げられる。
【0054】
例えば、セラミック原料粉末に添加化合物を含む化合物を湿式混合し、乾燥および粉砕してセラミック材料を調製する。例えば、上記のようにして得られたセラミック材料について、必要に応じて粉砕処理して粒径を調節し、あるいは分級処理と組み合わせることで粒径を整えてもよい。以上の工程により、誘電体材料が得られる。なお、粉砕の際には、ジルコニアビーズなどを用いることができる。ジルコニアビーズを用いることで、誘電体材料にジルコニウムを若干量添加することができる。
【0055】
(塗工工程)
次に、得られた原料粉末に、ポリビニルブチラール(PVB)樹脂等のバインダと、エタノール、トルエン等の有機溶剤と、可塑剤とを加えて湿式混合する。得られたスラリを使用して、例えばダイコータ法やドクターブレード法により、図5(a)中に例示する基材51上にセラミックグリーンシート52を塗工して乾燥させる。基材51は、例えば、PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムである。塗工工程を例示する図は省略した。
【0056】
(内部電極形成工程)
次に、図5(a)で例示するように、セラミックグリーンシート52上に、内部電極パターン53を成膜する。図5(a)では、一例として、セラミックグリーンシート52上に4層の内部電極パターン53が所定の間隔を空けて成膜されている。内部電極パターン53が成膜されたセラミックグリーンシート52を、積層単位とする。内部電極パターン53には、内部電極層12の主成分金属の金属ペーストを用いる。金属ペーストには、共材としてセラミック粒子を添加する。セラミック粒子の主成分は、特に限定するものではないが、誘電体層11の主成分セラミックと同じであることが好ましい。例えば、平均粒子径が50nm以下のチタン酸バリウムを均一に分散させてもよい。
【0057】
(圧着工程)
次に、セラミックグリーンシート52を基材51から剥がしつつ、図5(b)で例示するように、積層単位を積層する。次に、積層単位が積層されることで得られた積層体の上下にカバーシート54を所定数(例えば2~10層)だけ積層して熱圧着させ、所定チップ寸法(例えば1.0mm×0.5mm)にカットする。図5(b)の例では、点線に沿ってカットする。カバーシート54は、セラミックグリーンシート52と同じ成分であってもよく、添加物が異なっていてもよい。図6(a)は、カットした後の積層体のYZ平面での断面図である。
【0058】
(サイドマージン形成工程)
次に、図6(b)で例示するように、積層体のY軸方向端に、接合シート55とサイドマージンシート56とを順に貼り付ける。接合シート55およびサイドマージンシート56における主成分セラミックは、チタン酸バリウムとする。チタン100molに対するバリウムのモル比率は、セラミックグリーンシート52よりもサイドマージンシート56の方が大きく、セラミックグリーンシート52よりも接合シート55の方が小さくなるように材料を選択する。
【0059】
(焼成工程)
このようにして得られたセラミック積層体を、N雰囲気で脱バインダ処理した後に外部電極20a,20bの下地層となる金属ペーストをディップ法で塗布し、酸素分圧が10-12MPa~10-9MPa、1160℃~1280℃の還元雰囲気で、5分~10時間の焼成を行なう。
【0060】
(再酸化処理工程)
還元雰囲気で焼成された誘電体層11の部分的に還元された主相であるチタン酸バリウムに酸素を戻すために、内部電極層12を酸化させない程度に、約1000℃でNと水蒸気の混合ガス中、もしくは500℃~700℃の大気中での熱処理が行われることがある。この工程は、再酸化処理工程とよばれる。
【0061】
(めっき処理工程)
その後、外部電極20a,20bの下地層上に、めっき処理により、銅、ニッケル、スズ等の金属コーティングを行う。以上の工程により、積層セラミックコンデンサ100が完成する。
【0062】
本実施形態に係る製造方法によれば、チタン100molに対するバリウムのモル比率(Ba/Ti比)が、容量領域14よりもサイドマージン16の方が大きく、容量領域14よりも接合部17の方が小さくなる。それにより、良好な耐湿性および良好な信頼性を両立することができる。
【0063】
なお、セラミックグリーンシート52におけるBa/Ti比がストイキオメトリ近傍であると、ジルコニウムの若干量の混入によってA/B比が1/1000単位でも変動すると、積層セラミックコンデンサ100の信頼性に大きく影響するおそれがある。そこで、セラミックグリーンシート52において、Ba/Ti比をストイキオメトリよりも小さくすることが好ましい。例えば、セラミックグリーンシート52におけるBa/Ti比は、0.980以下であることが好ましく、0.970以下であることがより好ましく、0.965以下であることがさらに好ましい。
【0064】
一方、セラミックグリーンシート52におけるBa/Ti比が小さすぎると、セラミックグリーンシート52の緻密化温度が高温化し、十分に容量領域14を緻密化させることができないおそれがある。そこで、セラミックグリーンシート52におけるBa/Ti比に下限を設けることが好ましい。例えば、セラミックグリーンシート52におけるBa/Ti比は、0.970以上であることが好ましく、0.973以上であることがより好ましく、0.975以上であることがさらに好ましい。
【0065】
サイドマージンシート56におけるBa/Ti比が大きすぎると、サイドマージン16の緻密化温度が高温化し、サイドマージン16を十分に緻密化させることができないおそれがある。そこで、サイドマージンシート56におけるBa/Ti比に上限を設けることが好ましい。例えば、サイドマージンシート56におけるBa/Ti比は、1.010以下であることが好ましく、1.008以下であることが好ましく、1.006以下であることが好ましい。
【0066】
一方、サイドマージンシート56におけるBa/Ti比が小さすぎると、サイドマージン16に異常粒成長が生じるおそれがある。そこで、サイドマージンシート56におけるBa/Ti比に下限を設けることが好ましい。例えば、サイドマージンシート56におけるBa/Ti比は、1.005以上であることが好ましく、1.0055以上であることがより好ましく、1.006以上であることがさらに好ましい。
【0067】
接合シート55におけるBa/Ti比が大きすぎると、サイドマージン16から容量領域14へのバリウムの拡散を十分に抑制できないおそれがある。そこで、接合シート55におけるBa/Ti比に上限を設けることが好ましい。例えば、接合シート55におけるBa/Ti比は、0.960以下であることが好ましく、0.955以下であることがより好ましく、0.950以下であることがさらに好ましい。
【0068】
一方、接合シート55におけるBa/Ti比が小さすぎると、緻密化温度が高温化し、接合部を十分に緻密化させることができないおそれがある。そこで、接合シート55におけるBa/Ti比に下限を設けることが好ましい。例えば、接合シート55におけるBa/Ti比は、0950以上であることが好ましく、0.960以上であることがより好ましく、0.970以上であることがさらに好ましい。
【0069】
なお、上記各実施形態においては、積層セラミック電子部品の一例として積層セラミックコンデンサについて説明したが、それに限られない。例えば、バリスタやサーミスタなどの、他の積層セラミック電子部品を用いてもよい。
【実施例0070】
以下、実施形態に係る積層セラミックコンデンサを作製し、特性について調べた。
【0071】
(実施例1~3および比較例1~5)
チタン酸バリウムの粉末にバインダと、有機溶剤と、可塑剤とを加えて湿式混合し、得られたスラリを使用して、基材上にセラミックグリーンシートを塗工して乾燥させ、その上に内部電極パターンを成膜し、積層単位を作成した。積層単位を積層して得られた積層体の上下にカバーシートを積層して熱圧着させ、所定チップ寸法にカットした。次に、積層体のY軸方向端に、チタン酸バリウムを主成分セラミックとする接合シートおよびサイドマージンシートを順に貼り付けた。このようにして得られたセラミック積層体を、脱バインダ処理した後に還元雰囲気で焼成した。Ba/Ti比について、サイドマージンシート>セラミックグリーンシート>接合シートとなるように材料を選択した。
【0072】
(Ba/Ti比)
実施例1~3および比較例1~5の積層セラミックコンデンサについて、各部のBa/Ti比を調べた。具体的には、積層セラミックコンデンサを研磨機により断面が露出するように研磨し、研磨した断面に対してLA-ICP-MS(レーザアブレーション誘導結合プラズマ質量分析)を用いて測定を行った。表1に結果を示す。なお、Ba/Ti比の勾配の中間点をサイドマージンと接合部との境界と定めた。例えば、実施例1~2および比較例1~4では積層セラミックコンデンサのY軸方向端から50μmまでの領域をサイドマージンと定め、サイドマージンと容量領域との間の10μmの領域を接合部と定めた。
【表1】
【0073】
実施例1では、サイドマージンにおけるBa/Ti比が1.010であり、接合部におけるBa/Ti比が0.960であり、容量領域におけるBa/Ti比が0.980であった。実施例2では、サイドマージンにおけるBa/Ti比が1.006であり、接合部におけるBa/Ti比が0.960であり、容量領域におけるBa/Ti比が0.980であった。比較例1では、サイドマージンにおけるBa/Ti比が0.980であり、接合部におけるBa/Ti比が0.980であり、容量領域におけるBa/Ti比が0.980であった。比較例2では、サイドマージンにおけるBa/Ti比が0.940であり、接合部におけるBa/Ti比が0.960であり、容量領域におけるBa/Ti比が0.980であった。比較例3では、サイドマージンにおけるBa/Ti比が1.003であり、接合部におけるBa/Ti比が0.997であり、容量領域におけるBa/Ti比が0.960であった。比較例4では、サイドマージンにおけるBa/Ti比が1.001であり、接合部におけるBa/Ti比が0.990であり、容量領域におけるBa/Ti比が0.980であった。
【0074】
(耐湿性)
実施例1~2および比較例1~4の積層セラミックコンデンサについて、積層セラミックコンデンサを研磨機により断面が露出するように研磨し、露出した断面をSEM(走査電子顕微鏡)で観察し、サイドマージンのポア率=(ポアの断面積)/(サイドマージンの断面積)により算出した。
【0075】
実施例1では、サイドマージンのポア率は、5%であった。実施例2では、サイドマージンのポア率は、3%であった。比較例1では、サイドマージンのポア率は、20%であった。比較例2では、サイドマージンのポア率は、25%であった。比較例3では、サイドマージンのポア率は、2%であった。比較例4では、サイドマージンのポア率は、1%であった。
【0076】
ポア率が高くなると耐湿性が低下することから、ポア率が10%を上回る場合には耐湿性が不良「×」であると判定し、ポア率が10%未満の場合には耐湿性が良好「〇」と判定した。実施例1~2および比較例3,4については、耐湿性が良好「〇」と判定された。比較例1,2については、耐湿性が不良「×」と判定された。
【0077】
(寿命)
実施例1~2および比較例1~4の積層セラミックコンデンサについて、高加速寿命を測定した。具体的には、170℃、125Vで20個のサンプルが全数故障するまで試験を行ない、それらの寿命の平均時間を寿命値とした。実施例1では、寿命値は4500minであった。実施例2では、寿命値は4900minであった。比較例1では、寿命値は4800minであった。比較例2では、寿命値は4200minであった。比較例3では、寿命値は200minであった。比較例4では、寿命値は500minであった。
【0078】
寿命値が3000min以上となった場合には寿命特性が良好「〇」と判定した。寿命値が3000min未満となった場合には寿命特性が不良「×」と判定した。実施例1~2および比較例1~2については、寿命特性が良好「〇」と判定された。比較例3,4については、寿命特性が不良「×」と判定された。
【0079】
(総合判定)
耐湿性および寿命特性の両方が良好「〇」と判定された場合に、総合判定が良好「〇」であると判定した。耐湿性および寿命特性のいずれか一方でも不良「×」と判定された場合に、総合判定が不良「×」であると判定した。
【0080】
実施例1~2のいずれにおいても総合判定が良好「〇」と判定された。これは、Ba/Ti比が、サイドマージン>容量領域>接合部となったことで、サイドマージンに良好な緻密性が得られたとともに、容量領域の異常粒成長が抑制されたからであると考えられる。
【0081】
比較例1~4のいずれにおいても総合判定が不良「×」と判定された。比較例1,2については、Ba/Ti比が、サイドマージン≦接合部≦容量領域となったことで、サイドマージンのBa/Ti比が小さく、サイドマージンの緻密化温度が低くならなかったからであると考えられる。比較例3,4については、Ba/Ti比がサイドマージン≧接合部≧容量領域となったことで、接合部のBa/Ti比が十分に小さくならず、Baが容量領域に拡散して異常粒成長が生じたからであると考えられる。
【0082】
以上、本発明の実施例について詳述したが、本発明は係る特定の実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。
【符号の説明】
【0083】
10 素体
11 誘電体層
12 内部電極層
13 カバー層
14 容量領域
15 エンドマージン
16 サイドマージン
17 接合部
20a,20b 外部電極
100 積層セラミックコンデンサ
図1
図2
図3
図4
図5
図6