特開 2023-134078 塗布膜形成方法及びインクジェット塗布装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023134078

(43)【公開日】2023-09-27

(54)【発明の名称】塗布膜形成方法及びインクジェット塗布装置

(51)【国際特許分類】

   B05D 1/26 20060101AFI20230920BHJP

   B05D 3/00 20060101ALI20230920BHJP

   B05D 1/36 20060101ALI20230920BHJP

   B05C 5/00 20060101ALI20230920BHJP

   B05C 11/10 20060101ALI20230920BHJP

   B41J 2/01 20060101ALI20230920BHJP

【ＦＩ】

B05D1/26 Z

B05D3/00 D

B05D1/36 Z

B05C5/00 101

B05C11/10

B41J2/01 205

【審査請求】未請求

【請求項の数】4

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022039423

(22)【出願日】2022-03-14

(71)【出願人】

【識別番号】000219314

【氏名又は名称】東レエンジニアリング株式会社

(72)【発明者】

【氏名】塩田 智広

(72)【発明者】

【氏名】浅井 一夫

【テーマコード（参考）】

2C056

4D075

4F041

4F042

【Ｆターム（参考）】

2C056EA08

2C056EB27

2C056EB40

2C056EC79

2C056FA13

4D075AC06

4D075AC09

4D075AC88

4D075AC91

4D075AE02

4D075CA47

4D075CA48

4D075DA04

4D075DA06

4D075DB13

4D075DB31

4D075DC19

4D075DC21

4D075DC22

4D075EA05

4F041AA02

4F041AA05

4F041AB01

4F041BA01

4F041BA10

4F041BA13

4F041BA23

4F042AA02

4F042AA06

4F042AB00

4F042BA08

4F042BA12

4F042CB07

4F042DH09

(57)【要約】

【課題】不良ノズルが発生した場合でも塗布ムラが形成されるのを抑えることができる塗布膜形成方法及びインクジェット塗布装置を提供する。
【解決手段】基材上の膜形成領域にインクジェット法により液滴を吐出して塗布膜を形成する塗布膜形成方法であって、液滴を吐出する複数のノズルのうち、不良ノズルを検出する不良ノズル検出工程と、不良ノズル検出工程により検出された不良ノズルにより形成されるべき膜形成領域である欠膜形成領域に、予め正常ノズルで液滴を吐出することにより膜形成を行うプレ膜形成工程と、不良ノズルが吐出すべき着弾位置以外の領域に膜形成を行う本塗布工程と、をこの順に行うように構成する。
【選択図】図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

基材上の膜形成領域にインクジェット法により液滴を吐出して塗布膜を形成する塗布膜形成方法であって、
液滴を吐出する複数のノズルのうち、不良ノズルを検出する不良ノズル検出工程と、
前記不良ノズル検出工程により検出された不良ノズルにより形成されるべき膜形成領域である欠膜形成領域に、予め正常ノズルで液滴を吐出することにより膜形成を行うプレ膜形成工程と、
前記不良ノズルが吐出すべき着弾位置以外の領域に膜形成を行う本塗布工程と、
をこの順に行うことを特徴とする塗布膜形成方法。

【請求項2】

前記欠膜形成領域は、前記不良ノズルが吐出すべき着弾位置で形成されていることを特徴とする請求項１に記載の塗布膜形成方法。

【請求項3】

前記欠膜形成領域は、前記不良ノズルが吐出すべき着弾位置を中心とした所定領域で形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の塗布膜形成方法。

【請求項4】

基材を載置するステージと、
前記ステージに載置された基材に対し相対的に移動しつつ、基材上の膜形成領域に液滴を吐出して塗布膜を形成する液滴ユニットと、
前記ステージと前記液滴ユニットとを制御する制御装置と、
を有するインクジェット塗布装置であって、
前記制御装置は、液滴を吐出する複数のノズルのうち、不良ノズルを検出する不良ノズル検出モードと、
前記不良ノズル検出処理により検出された不良ノズルにより形成されるべき膜形成領域である欠膜形成領域に、予め正常ノズルで液滴を吐出することにより膜形成を行うプレ膜形成モードと、
前記不良ノズルが吐出すべき着弾位置以外の領域に膜形成を行う本塗布モードと、
を行うことを特徴とするインクジェット塗布装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、基材上に液滴を吐出して塗布膜を形成する塗布膜形成方法及びインクジェット塗布装置であって、特に塗布ムラを抑えることができる塗布膜形成方法及びインクジェット塗布装置に関するものである。

【背景技術】

【0002】

ガラスやフィルム等の基材上にインクジェット法により液滴を吐出し、線分、矩形状等、様々な形状の塗布膜（膜パターンともいう）を形成することが望まれている。例えば、プリント基板やパッケージ基板のような配線基板（基材）における配線パターン、パワー半導体の絶縁膜パターンは、インクジェット装置を用いることにより、薄い膜パターン（薄膜）を形成することが検討されている。

【0003】

このインクジェット塗布は、図９（ａ）に示すようなインクジェット塗布装置により行われる。すなわち、インクジェット塗布装置は、基材Ｗを載置するステージ１００と、塗布材料である液滴を吐出する複数のノズル１０４（図１０参照）を有する塗布ユニット１０１とが備えられており、この塗布ユニット１０１がステージ１００上の基材Ｗに対して移動しつつ液滴を吐出することにより塗布膜Ｃが形成されるようになっている（図９（ｂ））。

【0004】

具体的には、塗布ユニット１０１は、基材Ｗに対して相対的に主走査方向（図においてＸ軸方向）に移動するガントリ部１０１ａを有しており、このガントリ部１０１ａに複数のノズル１０４を有するヘッドユニット１０２が設けられている。このヘッドユニット１０２は、図１０（ａ）に示すように、複数のノズル１０４を有するヘッドモジュール１０３が配列されて形成されている。このヘッドモジュール１０３は、主走査方向（Ｘ軸方向）と直交する副走査方向（Ｙ軸方向）に配列ピッチｔでノズル１０４が配列されている。すなわち、Ｘ軸方向から見て、ノズル１０４がＹ軸方向に等間隔で配列されるようになっている（図１０（ｂ））。

【0005】

そして、すべてのノズル１０４には、インクを吐出すべき着弾位置が予め設定されており、それぞれのノズル１０４が、設定された着弾位置に位置した時に液滴が吐出されるようになっている。具体的には、例えば平面状の膜パターンを形成する場合には、着弾位置は、基材Ｗ上に格子状に設定されており、それぞれのノズル１０４が、着弾位置のＸ軸位置に位置したときに液滴が吐出されることにより、そのＸ軸位置において、Ｙ軸方向に延びる直線状の膜が形成される。そして、基材Ｗに対してガントリ部１０１ａを相対的にＸ軸方向に１回移動させて所定の着弾位置に液滴を吐出させることにより、直線状の膜がＸ軸方向に連続的に形成されて、基材Ｗ上に一様で平坦な塗布膜Ｃが形成される（図１１（ａ））。

【0006】

ここで、ヘッドユニット１０２に不良ノズル１０４ｂ（図１２参照。不吐出、吐出不良含む）が存在すると、図１１（ｂ）に示すように、不良ノズル１０４ｂが存在した位置での塗布材料が不足することから、塗布膜Ｃを形成する膜Ｃ’の間に主走査方向に材料が不足する領域（未塗布領域ｆ）が形成されてしまう。この未塗布領域ｆが形成されると、筋状のムラの要因となり、部分的に塗布膜の厚さ寸法基準をクリアできないという塗布ムラの問題が生じる。そのため、不良ノズル１０４ｂが発生した場合には、不良ノズル１０４ｂにより形成された未塗布領域ｆに対して、再度、ヘッドユニット１０２を走査して、ヘッドユニット１０２内の正常ノズル１０４ａから液滴の補充を行って未塗布領域ｆを埋めるリカバリー塗布が行われ、全体として一様な塗布膜Ｃが形成されるようになっている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0007】

【特許文献1】特開２００８－１１１９９４号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0008】

ところが、未塗布領域ｆに正常ノズル１０４ａによりリカバリー塗布する従来の方法では、未塗布領域ｆを完全にはなくすことができないという問題があった。すなわち、図１２（ｂ）に示すように、未塗布領域ｆに液滴を吐出して補充を行うと、補充のために吐出された液滴が未塗布領域ｆを形成する周囲の膜Ｃ’に表面張力により吸収されてしまう。そのため、未塗布領域ｆが形成された後、リカバリー塗布のために吐出した液滴１０５では、未塗布領域ｆの窪みを埋めることができず、未塗布領域ｆを平坦化することができないという問題があった。

【0009】

本発明は、上記の問題点を鑑みてなされたものであり、不良ノズルが発生した場合でも塗布ムラが形成されるのを抑えることができる塗布膜形成方法及びインクジェット塗布装置を提供することを目的としている。

【課題を解決するための手段】

【0010】

上記課題を解決するために本発明の塗布膜形成方法及びインクジェット塗布装置は、基材上の膜形成領域にインクジェット法により液滴を吐出して塗布膜を形成する塗布膜形成方法であって、液滴を吐出する複数のノズルのうち、不良ノズルを検出する不良ノズル検出工程と、前記不良ノズル検出工程により検出された不良ノズルにより形成されるべき膜形成領域である欠膜形成領域に、予め正常ノズルで液滴を吐出することにより膜形成を行うプレ膜形成工程と、前記不良ノズルが吐出すべき着弾位置以外の領域に膜形成を行う本塗布工程と、をこの順に行うことを特徴としている。

【0011】

上記塗布膜形成方法及びインクジェット塗布装置によれば、プレ膜形成工程により、本来、不良ノズルにより形成されるべき膜形成領域である欠膜形成領域に、予め膜（プレ膜）を形成し、その後、本塗布工程が行われることにより、欠膜形成領域に窪みが形成されるのを抑えることができる。すなわち、予めプレ膜が形成されることにより、欠膜形成領域にすでに膜が形成されていることに加え、そのプレ膜が、次の本塗布工程により欠膜形成領域の周囲に形成される膜同士を繋げる役割を果たすと考えられることにより、従来のように未塗布領域が形成された後、液滴を追加する方法に比べて、欠膜形成領域に窪みが形成されづらくなり、塗布ムラが形成されるのを抑えることができる。

【0012】

また、前記欠膜形成領域は、前記不良ノズルが吐出すべき着弾位置で形成されている構成にしてもよい。

【0013】

この構成によれば、欠膜形成領域が着弾位置とされるため、プレ膜形成工程において、予め不良ノズルにより形成される未塗布領域に確実にプレ膜を形成することができる。

【0014】

また、前記欠膜形成領域は、前記不良ノズルが吐出すべき着弾位置を中心とした所定領域で形成されている構成にしてもよい。

【0015】

この構成によれば、プレ膜が着弾位置からある一定の幅を持った領域に形成されるため、欠膜形成領域の周囲に形成される膜同士を確実に繋げることができる。

【発明の効果】

【0016】

本発明の塗布膜形成方法及びインクジェット塗布装置によれば、不良ノズルが発生した場合でも塗布ムラが形成されるのを抑えることができる。

【図面の簡単な説明】

【0017】

【図1】本発明のインクジェット塗布装置を概略的に示す側面図である。

【図2】上記インクジェット塗布装置の上面図である。

【図3】インクジェットヘッド部を示す図であり、（ａ）はヘッドモジュールの配列を示す図であり、（ｂ）はノズル配置を示す図である。

【図4】欠膜形成領域を仮想的に示す図であり、（ａ）は欠膜形成領域が線状である場合を示す図であり、（ｂ）は欠膜形成領域が円形である場合を示す図である。

【図5】塗布膜が形成される状況を説明するための図であり、（ａ）はプレ膜形成工程が行われた状態を示す図、（ｂ）はプレ膜形成後に本塗布工程が行われた状態を示す図である。

【図6】上記インクジェット塗布装置の塗布動作を示すフローチャートである。

【図7】基材上にプレ膜が形成された状態を示す図であり、（ａ）は上から見た図、（ｂ）はＸ軸方向から見た図である。

【図8】塗布膜が形成された状態を示す図であり、（ａ）は基材全体を上から見た図、（ｂ）はプレ膜と、その両隣に形成された膜が馴染み合う状態を示す図、（ｃ）は（ｂ）の状態から一体となって塗布膜が形成された状態を示す図である。

【図9】従来のインクジェット塗布装置を概略的に示す図であり、（ａ）は、側面図、（ｂ）は上面図である。

【図10】インクジェットヘッド部を示す図であり、（ａ）はヘッドモジュールの配列を示す図であり、（ｂ）はノズル配置を示す図である。

【図11】未塗布領域が形成された塗布膜を含む塗布膜が形成された状態を示す図であり、（ａ）は基材全体を上から見た図、（ｂ）はＸ軸方向から見た図である。

【図12】塗布膜が形成される状態を説明するための図であり、（ａ）は不良ノズルにより未塗布領域が形成される状態を示す図であり、（ｂ）はリカバリー塗布が行われた状態を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0018】

本発明の塗布膜形成方法及びインクジェット塗布装置に係る実施の形態について図面を用いて説明する。

【0019】

図１は、インクジェット塗布装置の一実施形態を示す側面図であり、図２は、インクジェット塗布装置の上面図である。

【0020】

インクジェット塗布装置は、図１、図２に示すように、基材Ｗを載置するステージ１０と、基材Ｗに液滴Ｄ（塗布材料）を塗布する液滴ユニット２とを有しており、液滴ユニット２がステージ１０に載置された基材Ｗ上を移動しつつ、液滴Ｄ（塗布液とも言う）を吐出することにより、基材Ｗ上に塗布膜Ｃが形成される。

【0021】

なお、以下の説明では、この液滴ユニット２が移動する方向をＸ軸方向（主走査方向）、これと水平面上で直交する方向をＹ軸方向（副走査方向、又は、幅方向）、Ｘ軸およびＹ軸方向の双方に直交する方向をＺ軸方向として説明を進めることとする。

【0022】

インクジェット塗布装置は、基台１を有しており、この基台１上にステージ１０、液滴ユニット２が設けられている。具体的には、基台１上にステージ１０が設けられており、このステージ１０をＹ軸方向に跨ぐように液滴ユニット２が設けられている。

【0023】

ステージ１０は、基材Ｗを載置するものであり、載置された基材Ｗが水平な姿勢を維持した状態で載置できるようになっている。具体的には、ステージ１０の表面は、平坦に形成されており、その表面には、吸引孔が複数形成されている。この吸引孔には真空ポンプが接続されており、ステージ１０の表面に基材Ｗを載置した状態で真空ポンプを作動させることにより、吸引孔に吸引力が発生し、基材Ｗが水平な姿勢でステージ１０の表面に吸着保持できるようになっている。

【0024】

また、液滴ユニット２は、基材Ｗ上に塗布材料である液滴Ｄを着弾させて塗布するものであり、塗布材料を吐出するインクジェットヘッド部２１と、このインクジェットヘッド部２１を支持するガントリ部２２とを有している。

【0025】

このガントリ部２２は、ステージ１０のＹ軸方向両外側に配置される脚部２２ａと、これらの脚部２２ａを連結しＹ軸方向に延びるビーム部材２２ｂとを有する略門型形状に形成されている。そして、このビーム部材２２ｂにインクジェットヘッド部２１が取付けられており、ガントリ部２２は、ステージ１０をＹ軸方向に跨いだ状態でＸ軸方向に移動可能に取り付けられている。本実施形態では、基台１のＹ軸方向両端部分にはそれぞれＸ軸方向に延びるレール（不図示）が設置されており、脚部２２ａがこのレールにスライド自在に取り付けられている。そして、脚部２２ａにはリニアモータが取り付けられており、このリニアモータを駆動制御することにより、ガントリ部２２がＸ軸方向に移動し、任意の位置で停止できるようになっている。

【0026】

また、リニアモータには、エンコーダが設けられており、エンコーダからの周期的な駆動パルス信号により、インクジェットヘッド部２１のＸ軸方向の位置を把握することができる。すなわち、エンコーダと後述の制御装置（コントローラ）とが接続されており、エンコーダからの駆動パルス信号を受信した制御装置により、インクジェットヘッド部２１のＸ軸上の位置が検出されるようになっている。

【0027】

また、ビーム部材２２ｂは、両脚部２２ａを連結する柱状部材である。このビーム部材２２ｂには、インクジェットヘッド部２１が取付けられている。具体的には、ビーム部材２２ｂのＸ軸方向一方側の側面に、インクジェットヘッド部２１が取り付けられており、このインクジェットヘッド部２１に設けられたノズル４０（図３参照）がステージ１０の表面に向く姿勢で取付けられている。したがって、ガントリ部２２がＸ軸方向に移動又は停止するにしたがって、インクジェットヘッド部２１もそれに付随してＸ軸方向に移動又は停止を行うことができ、ガントリ部２２の移動量を調節することにより、ステージ１０の表面に載置された基材Ｗ上にインクジェットヘッド部２１を位置させて基材Ｗ上に塗布材料ある液滴Ｄを吐出できるようになっている。

【0028】

また、インクジェットヘッド部２１は、複数のノズル４０を一体化させたものである。本実施形態では、インクジェットヘッド部２１は、複数のノズル４０を有しており、それぞれのノズル４０から液滴Ｄを吐出できるようになっている。

【0029】

インクジェットヘッド部２１は、図３（ａ）に示すように、ノズル４０を有する複数のヘッドモジュール３１を備えている。本実施形態では、複数のヘッドモジュール３１がＹ軸方向（副走査方向）に沿って配列されており、塗布方向に対して直交する方向に配置されている。また、ヘッドモジュール３１は、複数のノズル４０を有しており、ノズル４０が一方向に所定の配列ピッチｔで整列した状態で設けられている（図３（ｂ））。

【0030】

また、ヘッドモジュール３１は、それぞれが互いに重複する部分を有するようにずらして配置されている。図３（ａ）の例では、隣接するヘッドモジュール３１がＸ軸方向に交互にずらして配置されている。すなわち、これらのヘッドモジュール３１は、ノズル４０の配置間隔とヘッドモジュール３１の両端部分とでは寸法が異なっているため、この両端部分の寸法分を相殺できるようにＸ軸方向にずらしつつＹ軸方向に配列される。すなわち、インクジェットヘッド部２１は、Ｘ軸方向に見て通常ノズル４０がＹ軸方向に等間隔で配置されており、インクジェトヘッド部２１全体としてＸ軸方向に見て、すべての通常ノズル４０がＹ軸方向に沿って一定の配列ピッチで配列され、Ｘ軸方向から見てＹ軸方向に亘って等間隔で配置されている。これにより、図２に示すように、ガントリ部２２がＸ軸方向に移動することにより、１回の走査で基材Ｗ上の膜形成領域Ｓすべてに液滴Ｄを着弾させることができる。

【0031】

また、上記インクジェット塗布装置は、制御装置を有している。制御装置は、上述した各種ユニットの駆動を制御するものであり、予め記憶されたプログラムに従って一連の塗布動作を実行すべく、各ユニットの駆動装置を駆動制御するとともに、塗布動作に必要な各種演算を行うものである。本実施形態では、制御装置には、平坦状の一様な塗布膜Ｃを形成する塗布プログラムが記憶されている。そして、制御装置には、塗布膜Ｃを形成するために必要な処理モードが備えられており、本実施形態では、不良ノズル検出モード、プレ膜形成モード、本塗布モードが記憶されている。すなわち、これらのモードを実行することにより、不良ノズル４０ｂ（図５（ｂ）参照）が発生した場合であっても、不良ノズル４０ｂに起因する塗布ムラを抑え、平坦な塗布膜Ｃを形成することができる。

【0032】

不良ノズル検出モードは、インクジェットヘッド部２１の各ノズル４０に対して不良ノズル４０ｂ（不吐出、吐出不良含む）の有無を確認するためのモードである。具体的には、塗布膜Ｃ形成前に吐出状態が検査され、例えば、テストパターンフィルム（不図示）上にすべてのノズル４０から液滴Ｄを着弾させ、着弾された液滴Ｄの画像情報から形状、位置が確認され、不良ノズル４０ｂの有無が判断される。

【0033】

ここで、不良ノズル検出モードにより不良ノズル４０ｂが検出されると、本来、この不良ノズル４０ｂが正常であった場合に吐出される着弾位置Ｐに液滴Ｄが吐出されないため、膜が欠けた領域（塗布液が不足する領域）、すなわち、未塗布領域が発生する。そのため、塗布膜Ｃを形成するための着弾位置データであるマッピングデータにおいて、不良ノズル４０ｂが吐出すべき着弾位置Ｐに不良ノズル４０ｂに代わって液滴Ｄを吐出する代用ノズル４０ｃが正常ノズル４０ａから選定される。この代用ノズル４０ｃは、不良ノズル４０ｂ、１本に対して、１本でも複数本でもよく、タクトタイムの観点から塗布膜Ｃを効率よく形成できるように代用ノズル４０ｃが選定される。

【0034】

ここで、欠膜形成領域Ｒは、未塗布領域の発生を抑えるために、予め膜（プレ膜Ｅ）を形成するための設定領域である。この欠膜形成領域Ｒは、不良ノズル４０ｂが正常ノズル４０ａであった場合の着弾位置Ｐに設定されてもよいが、本実施形態では、不良ノズル４０ｂの着弾位置Ｐを中心とした所定の幅を持つ領域として設定されている。ここで、図４は、欠膜形成領域Ｒを仮想的に示す図であり、斜線部分は、プレ膜Ｅ形成後に正常ノズル４０ａで形成される膜Ｃ’を示しており、これらの膜Ｃ’の間に欠膜形成領域Ｒが形成されている。また、図４（ａ）の円形は着弾位置Ｐを示している。本実施形態では、欠膜形成領域Ｒは、図４（ａ）に示すように、本来の不良ノズル４０ｂの着弾位置Ｐ（実線の円形）を中心として、その両隣に１ノズル分の着弾位置Ｐ’（破線の円形）が含まれる領域として設定されている。これにより、正常ノズル４０ａで形成される両隣の膜Ｃ’同士と馴染みやすくなり、膜同士を確実に繋げることができる。なお、本実施形態では、図４（ａ）において、実線で示された着弾位置Ｐには、不良ノズル４０ｂの代用ノズル４０ｃで液滴Ｄを吐出するが、破線で示された着弾位置Ｐには、その代用ノズル４０ｃを用いてもよいが、タクトタイムの関係で代用ノズル４０ｃ以外の正常ノズル４０ａ（選定ノズル４０ｄという）、例えば代用ノズル４０ｃの両隣に位置する正常ノズル４０ａが別途、選定ノズル４０ｄとして選択される。

【0035】

プレ膜形成モードは、塗布膜Ｃを形成する前に、予め、欠膜形成領域Ｒに膜（プレ膜Ｅ）を形成するためのモードである。すなわち、選定された代用ノズル４０ｃにより、不良ノズル４０ｂが吐出すべき着弾位置Ｐに液滴Ｄを吐出してプレ膜Ｅが形成される。本実施形態では、欠膜形成領域Ｒが所定領域に設定されているため、代用ノズル４０ｃ及び選定ノズル４０ｄにより欠膜形成領域Ｒに液滴Ｄが吐出され、プレ膜Ｅが形成される（図５（ａ））。

【0036】

本塗布モードは、不良ノズル４０ｂが吐出すべき着弾位置Ｐ以外の領域に膜を形成するモードである。具体的には、不良ノズル４０ｂ以外の正常ノズル４０ａから、マッピングデータに従って、それぞれの着弾位置Ｐに液滴Ｄが吐出される。すなわち、図４（ａ）の斜線領域における着弾位置Ｐ（不図示）にノズル４０から液滴Ｄを吐出して膜を形成する。そして、本来、不良ノズル４０ｂの着弾位置Ｐの隣の着弾位置Ｐ’にも液滴Ｄが吐出されることにより、液滴Ｄ同士が馴染み、形成される膜Ｃ’（図４（ａ）斜線領域の膜）同士がプレ膜Ｅを介して連結される（図５（ｂ））。これにより、基材Ｗ上には平坦な塗布膜Ｃが形成される。

【0037】

次に、本実施形態のインクジェット塗布装置の塗布膜形成方法について図６のフローチャートに基づいて説明する。

【0038】

まず、ステップＳ１において、不良ノズル検出工程が行われる。具体的には、インクジェットヘッド部２１の全ノズル４０からテストパターンフィルム（不図示）上に液滴Ｄを吐出し、吐出された液滴Ｄの画像情報から不良ノズル４０ｂの有無が判断される。そして、不良ノズル４０ｂが検出された場合、この不良ノズル４０ｂの着弾位置Ｐに液滴Ｄを吐出する代用ノズル４０ｃが選定される。

【0039】

次に、ステップＳ２において、基材搬入工程が行われる。具体的には、基材Ｗがステージ１０上に供給されると、基材Ｗが所定位置に位置決めされてステージ１０上に吸着固定される。そして、搬入された基材Ｗデータに基づいて、当該基材Ｗのマッピングデータが演算される。欠膜形成領域Ｒに形成されるプレ膜Ｅのマッピングデータと、欠膜形成領域Ｒ以外の領域に形成される膜のマッピングデータとが演算され、プレ膜形成モード、及び、本塗布モードの着弾位置Ｐと、その着弾位置Ｐに吐出させるノズル４０の選定が行われる。

【0040】

次に、ステップＳ３において、塗布工程が行われる。すなわち、ステップＳ３１、ステップＳ３２が順次実行されることにより、基材Ｗ上に塗布膜Ｃが形成される。

【0041】

まず、ステップＳ３１により、プレ膜形成工程が行われる。具体的には、マッピングデータに基づいて、インクジェットヘッド部２１を走行させつつ、代用ノズル４０ｃ及び選定ノズル４０ｄから液滴Ｄを吐出させることにより、基材Ｗの欠膜形成領域Ｒにプレ膜Ｅが形成される（図５（ａ））。なお、本実施形態では、塗布膜Ｃ形成領域において、図７（ａ）に示すように、Ｘ軸方向に延びる形状のプレ膜Ｅが形成される。

【0042】

次に、ステップＳ３２により、本塗布工程が行われる。具体的には、マッピングデータに基づいて、不良ノズル４０ｂが吐出すべき着弾位置Ｐ以外の領域に、正常ノズル４０ａを用いて液滴Ｄを吐出し、膜を形成する。すなわち、予め形成されたプレ膜Ｅと隣接するように、不良ノズル４０ｂが吐出すべき着弾位置Ｐ以外の着弾位置Ｐに正常ノズル４０ａで液滴Ｄが吐出されることにより膜が形成される（図８（ａ））。そして、本実施形態では、不良ノズル４０ｂが吐出すべき着弾位置Ｐの隣に位置する両隣の着弾位置Ｐにも液滴Ｄが吐出されるため、プレ膜Ｅと液滴Ｄが馴染みやすくなり、欠膜形成領域Ｒの両隣に形成される膜Ｃ’同士が連結されやすくなる（図８（ｂ））。これにより、欠膜形成領域Ｒの両隣に形成される膜Ｃ’同士が互いに引き合って一体化することにより、不良ノズル４０ｂが吐出すべき着弾位置Ｐに窪みが形成されることが抑制され、平坦な塗布膜Ｃが形成される。

【0043】

次に、ステップＳ４により、基材搬出工程が行われる。すなわち、基材Ｗ上の膜形成領域Ｓに膜パターンＣが形成されると、ロボットハンド等により、基材Ｗがステージ１０から搬出される。

【0044】

このように、上記実施形態における塗布膜形成方法及びインクジェット塗布装置によれば、プレ膜形成工程により、本来、不良ノズル４０ｂにより形成されるべき膜形成領域Ｓである欠膜形成領域Ｒに、予め膜（プレ膜Ｅ）を形成し、その後、本塗布工程が行われることにより、欠膜形成領域Ｒに窪みが形成されるのを抑えることができる。すなわち、予めプレ膜Ｅが形成されることにより、欠膜形成領域Ｒにすでに膜が形成されていることに加え、そのプレ膜Ｅが、次の本塗布工程により欠膜形成領域Ｒの周囲に形成される膜Ｃ’同士を繋げる役割を果たすと考えられることにより、従来のように未塗布領域が形成された後、液滴Ｄを追加する方法に比べて、欠膜形成領域Ｒに窪みが形成されづらくなり、塗布ムラが形成されるのを抑えることができる。

【0045】

また、上記実施形態では、液滴ユニット２が１スキャンで塗布膜Ｃが形成され、欠膜形成領域ＲがＸ軸方向に延びる直線形状である場合について説明したが、インクジェットヘッド部２１がＸ軸方向及びＹ軸方向に複数回スキャン移動して塗布膜Ｃが形成されるような場合、すなわち、欠膜形成領域Ｒが点状に形成される場合にも適用することができる。この場合、欠膜形成領域Ｒは、例えば、図４（ｂ）に示すように、本来の不良ノズル４０ｂの着弾位置Ｐ（実線の円形）を中心として、その周囲に１ノズル分の着弾位置Ｐ’（破線の円形）が含まれる領域として設定する。これにより、中心に位置する液滴Ｄ（プレ膜Ｅ）と、その周囲の膜が馴染むことにより、欠膜形成領域Ｒに窪みが形成されるのを抑えることができる。

【0046】

また、上記実施形態では、欠膜形成領域Ｒについて、不良ノズル４０ｂが吐出すべき着弾位置Ｐを中心とした所定領域で形成される例について説明したが、所定領域を設けず、欠膜形成領域Ｒが不良ノズル４０ｂが吐出すべき着弾位置Ｐそのものであってもよい。

【0047】

また、上記実施形態では、欠膜形成領域Ｒの所定領域が、不良ノズル４０ｂが吐出すべき着弾位置Ｐの両隣に１ノズル分の着弾位置Ｐに設定される例について説明したが、２ノズル、３ノズル分の着弾位置Ｐに設定されてもよく、着弾位置Ｐに設定されない領域を設定してもよい。ただ、欠膜形成領域Ｒの設定領域を広げすぎると、窪みを抑えきれない虞があるため、窪みが形成されないように、適宜調整して設定する必要がある。

【符号の説明】

【0048】

２ 液滴ユニット
１０ ステージ
２１ インクジェットヘッド部
２２ ガントリ部
４０ ノズル
４０ａ 正常ノズル
４０ｂ 不良ノズル
４０ｃ 代用ノズル
４０ｄ 選定ノズル
Ｃ 塗布膜
Ｅ プレ膜
Ｐ、Ｐ’ 着弾位置
Ｒ 欠膜形成領域
Ｓ 膜形成領域
Ｗ 基材

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】