特開 2023-136494 加工液清浄システム

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023136494

(43)【公開日】2023-09-29

(54)【発明の名称】加工液清浄システム

(51)【国際特許分類】

   B23Q 11/00 20060101AFI20230922BHJP

   B03C 1/00 20060101ALI20230922BHJP

   B03C 1/247 20060101ALI20230922BHJP

   B24B 55/12 20060101ALI20230922BHJP

【ＦＩ】

B23Q11/00 U

B03C1/00 A

B03C1/00 B

B03C1/247

B24B55/12

【審査請求】未請求

【請求項の数】6

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022042208

(22)【出願日】2022-03-17

(71)【出願人】

【識別番号】000001247

【氏名又は名称】株式会社ジェイテクト

(71)【出願人】

【識別番号】591139574

【氏名又は名称】株式会社ジェイテクトコーティング

(74)【代理人】

【識別番号】110000028

【氏名又は名称】弁理士法人明成国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】堀田 将司

(72)【発明者】

【氏名】松本 晃

(72)【発明者】

【氏名】亀井 裕人

【テーマコード（参考）】

3C011

3C047

【Ｆターム（参考）】

3C011BB33

3C047GG13

(57)【要約】      （修正有）

【課題】十分に清浄化されていない加工液がタンク内からクリーン槽部に流出することを抑制する技術を提供する。
【解決手段】加工液清浄システム１は、洗浄装置１１と、底部２０１と、少なくとも一部が曲面状の側壁部２１と、底部２０１と側壁部２１とによって囲まれた内部室２００であって、洗浄装置１１によって清浄化された加工液が流入する内部室２００と、流出口２５１と、を有する中子部と、クリーン槽部５０と、循環装置と、を備え、側壁部２１は、底部２０１とは反対側の上方側から見た第１の場合に、側壁部２１に沿った方向のうちで導入口１１１が位置する側から導入口１１１から離れる延在方向において、曲率半径が次第に小さくなる収束壁部２２１を有し、吸入口３１１は、収束壁部２２１のうちで曲率半径が最も大きい大径端部２２１ａよりも、曲率半径が最も小さい小径端部２２１ｂに近い位置に配置されている。
【選択図】図３

【特許請求の範囲】

【請求項1】

加工液清浄システムであって、
被加工物の加工によって生じた異物を含む加工液を清浄化する洗浄装置と、
底部と、少なくとも一部が曲面状の側壁部と、前記底部と前記側壁部とによって囲まれた内部室であって、前記洗浄装置によって清浄化された前記加工液が流入する内部室と、前記側壁部に形成され、前記内部室の前記加工液を外側に流出させる流出口と、を有する中子部と、
前記中子部の外側に形成され、前記流出口を介して前記中子部と連通されるクリーン槽部と、
前記内部室に配置された吸入口を有し、前記吸入口から前記内部室の前記加工液を吸入して前記洗浄装置に送り込む循環装置と、を備え、
前記流出口の下端部は、前記吸入口よりも高い位置に形成され、
前記洗浄装置は、清浄化した前記加工液を前記内部室に導入する導入口を有し、
前記側壁部は、前記底部とは反対側の上方側から見た第１の場合に、前記側壁部に沿った方向のうちで前記導入口が位置する側から前記導入口から離れる延在方向において、曲率半径が次第に小さくなる収束壁部を有し、
前記吸入口は、前記収束壁部のうちで前記曲率半径が最も大きい大径端部よりも、前記曲率半径が最も小さい小径端部に近い位置に配置されている、加工液清浄システム。

【請求項2】

請求項１に記載の加工液清浄システムであって、
前記流出口は、前記収束壁部のうちで、前記大径端部よりも前記小径端部に近い位置に形成されている、加工液清浄システム。

【請求項3】

請求項２に記載の加工液清浄システムであって、
前記側壁部は、さらに、前記延在方向において、前記収束壁部よりも前記導入口側に位置する前記曲率半径が一定の円弧部を有する、加工液清浄システム。

【請求項4】

請求項３に記載の加工液清浄システムであって、
前記導入口は、前記延在方向において、前記円弧部のうちで、前記収束壁部が位置する先端部とは反対側の基端部に配置される、加工液清浄システム。

【請求項5】

請求項４に記載の加工液清浄システムであって、
前記円弧部の中心角は９０度である、加工液清浄システム。

【請求項6】

請求項４または請求項５に記載の加工液清浄システムであって、
前記側壁部は、さらに、接続壁部を有し、
前記接続壁部は、前記円弧部の前記基端部と前記収束壁部の前記小径端部とを接続する平板状である、加工液清浄システム。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、加工液清浄システムの技術に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、工作機械などの加工点に供給された加工液であって、被加工物の加工によって生じた切り屑や砥粒などの異物を含む加工液を清浄化する技術が知られている（特許文献１）。この技術では、磁気分離器などの洗浄装置によって清浄化された加工液をタンクに受け入れた後に、タンク内の加工液を循環装置によって吸入して再び磁気分離器に送り込むことで、加工液に残存する異物量を低減させている。タンクの側壁部には、タンクの外側に形成されたクリーン槽部とタンクとを連通させる流出口が形成されている。流出口を介してタンク内からクリーン槽部へと流れた加工液は、クリーン槽部において吸引されて、再び加工液として加工点に供給される。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２００２－１０３１７２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

従来の技術では、タンク内において、加工液が循環装置に吸入される吸入方向への流れよりも、加工液が流出口からクリーン槽部側へと流出する流出方向への流れが優位となる場合があった。吸入方向への流れよりも流出方向への流れが優位となった場合には、異物を含む加工液が循環装置の吸入口付近に集まりづらく、清浄化効率が上がりにくい場合が生じ得る。これにより、十分に清浄化されていない加工液がタンク内からクリーン槽部に流出するおそれがあった。

【課題を解決するための手段】

【0005】

本開示は、以下の形態として実現することが可能である。

【0006】

（１）本開示の一形態によれば、加工液清浄システムが提供される。この加工液清浄システムは、被加工物の加工によって生じた異物を含む加工液を清浄化する洗浄装置と、底部と、少なくとも一部が曲面状の側壁部と、前記底部と前記側壁部とによって囲まれた内部室であって、前記洗浄装置によって清浄化された前記加工液が流入する内部室と、前記側壁部に形成され、前記内部室の前記加工液を外側に流出させる流出口と、を有する中子部と、前記中子部の外側に形成され、前記流出口を介して前記中子部と連通されるクリーン槽部と、前記内部室に配置された吸入口を有し、前記吸入口から前記内部室の前記加工液を吸入して前記洗浄装置に送り込む循環装置と、を備え、前記流出口の下端部は、前記吸入口よりも高い位置に形成され、前記洗浄装置は、清浄化した前記加工液を前記内部室に導入する導入口を有し、前記側壁部は、前記底部とは反対側の上方側から見た第１の場合に、前記側壁部に沿った方向のうちで前記導入口が位置する側から前記導入口から離れる延在方向において、曲率半径が次第に小さくなる収束壁部を有し、前記吸入口は、前記収束壁部のうちで前記曲率半径が最も大きい大径端部よりも、前記曲率半径が最も小さい小径端部に近い位置に配置されている。この形態によれば、延在方向において曲率半径が次第に小さくなる収束壁部のうち、大径端部側に導入口が配置され、小径端部側に吸入口が配置される。このようにすると、導入口から排出されて内部室を流れる加工液について、大径端部から小径端部に向けて、収束壁部に沿った流れを積極的に形成することができる。これにより、吸入口が位置する小径端部側に異物を含む加工液を集めやすくできる。そのため、吸入口から異物を含む加工液を効率良く吸入できる。よって、加工液の清浄化効率を向上させることができる。さらに、流出口の下端部は、吸入口よりも高い位置に形成されている。これにより、異物が十分に除去されていない内部室の加工液が流出口付近に到達した場合でも、十分に清浄化されていない加工液が、内部室からクリーン槽部へと流出する可能性を低減することができる。
（２）上記形態であって、前記流出口は、前記収束壁部のうちで、前記大径端部よりも前記小径端部に近い位置に形成されていてもよい。この形態によれば、異物を含む加工液が導入口から流出口へと到達するまでの距離を長くすることができる。これにより、加工液に含まれる異物が中子部の底部に沈殿する可能性を高めることができる。よって、異物が内部室からクリーン槽部へと流出する可能性を低減することができる。
（３）上記形態であって、前記側壁部は、さらに、前記延在方向において、前記収束壁部よりも前記導入口側に位置する前記曲率半径が一定の円弧部を有してもよい。この形態によれば、導入口の近傍には、曲率半径が一定の円弧部が形成されている。このようにすると、導入口から排出された加工液は、円弧部から大径端部を経て小径端部側へと流れる。これにより、導入口から排出された加工液が、内部室のうちで、導入口の近傍に滞留することを抑制できる。よって、内部室における加工液の流れを円滑にすることができる。
（４）上記実施形態であって、前記導入口は、前記延在方向において、前記円弧部のうちで、前記収束壁部が位置する先端部とは反対側の基端部に配置されてもよい。この形態によれば、導入口は、延在方向である加工液の流れ方向において、小径端部から最も離れた位置に配置される。これにより、導入口から吸入口および流出口へと到達するまでの距離をさらに長くすることができる。これにより、流出口に加工液が到達するまでの間に、加工液に含まれる異物が中子部の底部に沈殿する可能性をさらに高めることができる。
（５）上記実施形態であって、前記円弧部の中心角は９０度であってもよい。この形態によれば、第１の場合において、円弧部の基端部を基準点としての０度とした場合に、基端部から円弧部に沿って９０度だけ移動させた位置に大径端部が形成される。これにより、曲率半径が最大となる円弧部を、導入口から排出された加工液が内部室のうちで導入口の近傍に滞留することを抑制できる程度に大きくできる。
（６）上記実施形態であって、前記側壁部は、さらに、接続壁部を有し、前記接続壁部は、前記円弧部の前記基端部と前記収束壁部の前記小径端部とを接続する平板状であってもよい。この形態によれば、接続壁部が円弧部の基端部と収束壁部の小径端部とを直線的に接続させることで、洗浄装置などの他の部材を配置するスペースを確保することができる。
本開示は、上記の加工液清浄システム以外の種々の形態で実現することが可能である。例えば、加工液清浄システムの製造方法や加工液清浄システムの制御方法、その制御方法を実現するためのコンピュータプログラム、そのコンピュータプログラムを記録した一時的でない記録媒体等の形態で実現することができる。

【図面の簡単な説明】

【0007】

【図1】本実施形態における加工液清浄システムの概略構成を模式的に示す斜視図。

【図2】中子部の形状を説明するための図。

【図3】加工液清浄システムを上方側から見た図。

【図4】加工液清浄システムを側方側から見た図。

【図5】収束壁部を有さない加工液清浄システムを上方側から見た図。

【発明を実施するための形態】

【0008】

Ａ．実施形態：
図１は、本実施形態における加工液清浄システム１の概略構成を模式的に示す斜視図である。図１には、互いに直交する軸としてのＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸が描かれている。Ｘ軸，Ｙ軸，Ｚ軸の矢印が向いている方向は、それぞれＸ軸，Ｙ軸，Ｚ軸に沿った正の方向を示している。Ｘ軸，Ｙ軸，Ｚ軸に沿った正の方向を、それぞれ＋Ｘ方向，＋Ｙ方向，＋Ｚ方向とする。Ｘ軸，Ｙ軸，Ｚ軸の矢印が向いている方向と逆の方向が、それぞれＸ軸，Ｙ軸，Ｚ軸に沿った負の方向である。Ｘ軸，Ｙ軸，Ｚ軸に沿った負の方向を、それぞれ－Ｘ方向，－Ｙ方向，－Ｚ方向とする。Ｘ軸，Ｙ軸，Ｚ軸に沿った方向で正負を問わないものを、それぞれＸ方向，Ｙ方向，Ｚ方向と呼ぶ。また、本実施形態では、＋Ｙ方向側を上方側、－Ｙ方向側を下方側とも呼ぶ。これ以降に示す図および説明についても同様である。

【0009】

加工液清浄システム１は、工作機械などの加工点に供給された加工液を清浄化するためのシステムである。加工点に供給された後の加工液は異物を含む。ここで言う異物とは、例えば、被加工物の加工によって生じた切り屑や砥粒である。加工液は、例えば、クーラントである。加工液清浄システム１は、洗浄装置１１と、中子部２０と、循環装置３１と、クリーン槽部５０とを備える。

【0010】

洗浄装置１１は、被加工物の加工によって生じた異物を含む加工液（以下、異物含有加工液）を清浄化する装置である。異物含有加工液は、例えば、切削加工において、切削工具と被加工物とが接触する加工点に供給された加工液に、切削加工によって生じた切り屑が混入することで生じる。異物含有加工液は、例えば、切削工具や被加工物を支持する部材を備えた加工台（例えば、ベッド）の下部に設けられた図示しない貯留室に貯留される。そして、異物含有加工液は、貯留室と洗浄装置１１とを接続する図示しない輸送配管を通って洗浄装置１１に送り込まれる。

【0011】

洗浄装置１１は、洗浄部１１５と、導入口１１１とを備える。図１に示す例では、洗浄装置１１は、クリーン槽部５０の上方側（＋Ｙ方向側）、かつ、後述する加工液吐出用ポンプ８１および加工台洗浄用ポンプ８２が位置する側とは反対側の角部に配置されている。洗浄装置１１の下端面１１ｂの一部は、後述する側壁部２１の上端部２２１ｄに載置されている。

【0012】

洗浄部１１５は、加工液に含まれる異物を除去することで、加工液を清浄化する。加工液清浄システム１は、洗浄部１１５として磁気分離器を備える。磁気分離器は、例えば、非磁性体によって形成された回転式のドラムの内部に磁石が固定された円筒部材と、電動機と、円筒部材の下部に形成された加工液を流通させるための流路とを備える。流路を流れる加工液と円筒部材とは、接触可能に構成されている。磁気分離器は、回転ドラムを電動機によって回転させた回転状態において、異物含有加工液を流路内に流通させることによって、回転ドラムの外周面に磁性体の切り屑を吸着させる。これにより、磁気分離器は、加工液に含まれる磁性体の切り屑を取り除いて、加工液を清浄化する。

【0013】

導入口１１１は、洗浄部１１５によって清浄化した加工液を後述する内部室２００に導入するための開口である。図１に示す例では、導入口１１１は、清浄化された異物含有加工液を後述する内部室２００に供給可能な位置として、洗浄装置１１の－Ｘ方向側の端面１１ａに形成されている。以下において、導入口１１１から排出される異物含有加工液を、処理後加工液とも呼ぶ。処理後加工液は、例えば、図示しないポンプによって押し出されるようにして、導入口１１１から排出方向Ｄ２（後述の図３）に向けて排出される。そして、処理後加工液は、上方側（＋Ｙ方向側）に位置する導入口１１１から、下方側（－Ｙ方向側）に位置する内部室２００に向けて排出される。つまり、本実施形態では、導入口１１１は、後述する側壁部２１の上端部２２１ｄよりも高い位置に形成されている。

【0014】

なお、導入口１１１から排出される処理後加工液には、洗浄部１１５において除去しきれなかった異物が含まれる場合がある。よって、加工液清浄システム１では、循環装置３１を用いて、内部室２００の処理後加工液を再び洗浄装置１１へと供給する。

【0015】

図２は、中子部２０の形状を説明するための図である。中子部２０は、処理後加工液を収容する。中子部２０は、図１に示すように、導入口１１１から排出された処理後加工液を受入可能な位置に形成される。本実施形態では、中子部２０は、加工液清浄システム１の概ね中央付近に配置されている。中子部２０は、図２に示すように、底部２０１と、側壁部２１と、内部室２００と、流出口２５１とを有する。

【0016】

底部２０１は、中子部２０の底面である。本実施形態では、図１に示すように、中子部２０の底部２０１は、後述するクリーン槽部５０の底面５０１と一体に形成されている。具体的には、クリーン槽部５０の内部に側壁部２１が載置されることによって、中子部２０の底部２０１が形成される。中子部２０の底部２０１は、Ｘ方向およびＺ方向に沿ったＸＺ平面上に形成されている。

【0017】

側壁部２１は、クリーン槽部５０と内部室２００とを区切るために設けられた壁面である。側壁部２１は、中子部２０の側面を形成する。図２に示すように、側壁部２１の少なくとも一部は、曲面状である。側壁部２１は、円弧部２１１と、収束壁部２２１と、接続壁部２４１とを有する。円弧部２１１と、収束壁部２２１と、接続壁部２４１とは、一体に形成されている。側壁部２１は、流出口２５１が形成されている部分を除いて、予め定められた高さＬ１を有する。側壁部２１のうちで、流出口２５１が形成されている部分は、流出口２５１が形成されていない部分の高さＬ１よりも低い高さＬ２となるように形成されている。本実施形態では、側壁部２１の高さ方向Ｄ３は、Ｙ方向に沿った方向である。円弧部２１１、収束壁部２２１、および、接続壁部２４１の詳細は、後述する。

【0018】

内部室２００は、図１に示すように、洗浄装置１１によって清浄化された処理後加工液が流入する空間である。つまり、内部室２００は、処理後加工液を受け入れるタンクである。内部室２００は、底部２０１と側壁部２１とに囲まれることで形成される。よって、中子部２０のうち、底部２０１側とは反対側の上方側（＋Ｘ方向側）は開口している。

【0019】

流出口２５１は、図１に示すように、内部室２００の処理後加工液を外側に位置するクリーン槽部５０へと流出させる。流出口２５１は、側壁部２１に形成される。本実施形態では、流出口２５１は、図２に示すように、側壁部２１の高さ方向Ｄ３における上端部２２１ｄであって、底部２０１とは反対側の上方側に位置する上端部２２１ｄから、底部２０１側に向けて切り欠かれた切り欠きである。なお、流出口２５１の形状は、これに限られるものではない。流出口２５１は、例えば、側壁部２１の上端部２２１ｄと下端部２２１ｅとの間に形成された開口であってもよい。流出口２５１の形成位置などの詳細は、後述する。

【0020】

循環装置３１は、図１に示すように、内部室２００に配置された吸入口３１１を有する。循環装置３１は、吸入口３１１から内部室２００の処理後加工液を吸入して洗浄装置１１に送り込む。これにより、加工液清浄システム１は、洗浄装置１１に送り込まれた処理後加工液が再び清浄化されることで、処理後加工液に異物が残存する異物量を低減させる。吸入口３１１の詳細は、後述する。

【0021】

クリーン槽部５０は、処理後加工液を再び被加工物の加工点側に供給するために、流出口２５１から流出した処理後加工液を収容する。クリーン槽部５０は、中子部２０の外側に形成されている。クリーン槽部５０は、底面５０１と、側面５１１と、収容室５００と、加工液吐出用ポンプ８１と、加工台洗浄用ポンプ８２と、２つの仕切部８５１，８５２とを有する。

【0022】

クリーン槽部５０の底面５０１は、図１に示すように、Ｘ方向およびＺ方向に沿ったＸＺ平面上に形成されている。クリーン槽部５０の側面５１１は、クリーン槽部５０と外部とを区切るために設けられ、予め定められた高さＬ３を有する。

【0023】

収容室５００は、流出口２５１を介して、中子部２０の内部室２００と連通する。収容室５００は、内部室２００の処理後加工液を流出口２５１から流入させる空間である。収容室５００は、底面５０１と側面５１１とに囲まれることで形成される。収容室５００は、底面５０１とは反対側の上方側（＋Ｘ方向側）が開口した箱形状である。

【0024】

加工液吐出用ポンプ８１は、クリーン槽部５０の処理後加工液を吸引して、処理後加工液を再び被加工物の加工点に供給する。加工液吐出用ポンプ８１を介して、加工点に供給された加工液は、再び図示しない貯留室に貯留された後に、図示しない輸送配管を介して、再び洗浄装置１１に送り込まれる。これにより、清浄化された加工液は、異物量を低減させた状態で繰り返し使用される。このように、加工液清浄システム１を用いて、加工液に含まれる異物量を低減させた状態において、加工点に加工液を供給することで、被加工物の表面が異物によって傷付くことを抑制する。加工液吐出用ポンプ８１は、仕切部８５１，８５２に囲まれた領域内に配置されている。

【0025】

加工台洗浄用ポンプ８２は、クリーン槽部５０の処理後加工液を吸引して、処理後加工液をベッドなどの加工台に供給する。加工台に供給された加工液は、加工台に付着した切り屑などの異物を洗浄するために用いられる。本実施形態では、図１に示すように、加工台洗浄用ポンプ８２は、仕切部８５１，８５２に囲まれた領域内に配置されている。なお、加工台洗浄用ポンプ８２は、加工液清浄システム１において必須の構成ではない。

【0026】

第１仕切部８５１と第２仕切部８５２とのそれぞれは、クリーン槽部５０の内部において、加工液吐出用ポンプ８１と加工台洗浄用ポンプ８２とを収容するために設けられた仕切りである。２つの仕切部８５１，８５２にはそれぞれ、加工液を連通させるための開口部８５１ａ，８５２ａが形成されている。

【0027】

本実施形態では、第１仕切部８５１は、収束壁部２２１の大径端部２２１ａとクリーン槽部５０の側面５１１とを接続するように形成されている。第２仕切部８５２は、大径部Ｂ（後述の図３）のうちで、延在方向Ｄ１（後述の図３）において大径端部２２１ａよりも小径端部２２１ｂに近い位置と、クリーン槽部５０の側面５１１とを接続するように形成されている。

【0028】

図３は、加工液清浄システム１を上方側から見た図である。図３では、収束壁部２２１に囲まれた領域にハッチングを付している。収束壁部２２１は、底部２０１とは反対側の上方側（＋Ｙ方向側）から見た第１の場合に、側壁部２１に沿った方向のうちで、導入口１１１が位置する側から導入口１１１から離れる方向である延在方向Ｄ１における曲率半径ｒ１～ｒ４が次第に小さくなるように形成されている。つまり、第１の場合においては、側壁部２１の少なくとも一部は、曲線状である。曲率半径ｒ１～ｒ５は、第１の場合における側壁部２１上の１点と予め定められた中心点Ｏとの直線距離である。

【0029】

収束壁部２２１は、延在方向Ｄ１における上流端である大径端部２２１ａと、下流端である小径端部２２１ｂとを有する。大径端部２２１ａは、収束壁部２２１ののうちで、曲率半径ｒ１が最も大きい端部である。本実施形態では、第１の場合において、後述する円弧部２１１の基端部２１１ａを基準点Ｐとしての０度とした場合に、基準点Ｐから中心点Ｏを中心とした周方向に９０度回転した位置にある点Ｐ１を第１点Ｐ１とする。このとき、第１の場合において、大径端部２２１ａは、第１点Ｐ１と一致する。なお、中心点Ｏを中心とした周方向は、延在方向Ｄ１と概ね一致する。

【0030】

小径端部２２１ｂは、収束壁部２２１のうちで、曲率半径ｒ４が最も小さい端部である。本実施形態では、小径端部２２１ｂは、収束壁部２２１のうちで、基準点Ｐから中心点Ｏを中心とした周方向に３６０度回転させた位置に配置されている。小径端部２２１ｂは、接続壁部２４１と接続されている。

【0031】

第１の場合において、収束壁部２２１のうちで、基準点Ｐから中心点Ｏを中心とした周方向に１８０度回転した位置にある点２２１ｆを第１中間点２２１ｆと呼ぶ。第１中間点２２１ｆにおける曲率半径ｒ２は、大径端部２２１ａにおける曲率半径ｒ１よりも小さく、第２中間点２２１ｇにおける曲率半径ｒ３よりも大きい。また、第１の場合において、収束壁部２２１のうちで、基準点Ｐから中心点Ｏを中心とした周方向に２７０度回転させた位置にある点２２１ｇを第２中間点２２１ｇと呼ぶ。第２中間点２２１ｇにおける曲率半径ｒ３は、第１中間点２２１ｆにおける曲率半径ｒ２よりも小さく、小径端部２２１ｂにおける曲率半径ｒ４よりも大きい。つまり、収束壁部２２１は、大径端部２２１ａから小径端部２２１ｂに近づくに従って、曲率半径ｒ１～ｒ４が縮小する。

【0032】

以下において、収束壁部２２１のうちで、大径端部２２１ａが位置する側を大径部Ｂと呼び、小径端部２２１ｂが位置する側を小径部Ｓと呼ぶ。本実施形態では、図２および図３に示すように、大径部Ｂは、収束壁部２２１のうちで、延在方向Ｄ１において、大径端部２２１ａから第１中間点２２１ｆに至るまでの部分である。また、小径部Ｓは、収束壁部２２１のうちで、延在方向Ｄ１において、第１中間点２２１ｆから小径端部２２１ｂに至るまでの部分である。なお、収束壁部２２１における大径部Ｂと小径部Ｓとのそれぞれの範囲は、これに限られるものではない。

【0033】

円弧部２１１は、曲率半径ｒ５が一定となるように形成されている。円弧部２１１の曲率半径ｒ５は、大径端部２２１ａにおける曲率半径ｒ１と同一である。円弧部２１１は、側壁部２１のうちで、延在方向Ｄ１において、収束壁部２２１よりも導入口１１１側に位置する。本実施形態では、導入口１１１は、円弧部２１１の先端部２１１ｂとは反対側の基端部２１１ａに配置される。つまり、導入口１１１は、基準点Ｐの位置に配置されている。円弧部２１１の先端部２１１ｂは、収束壁部２２１の大径端部２２１ａと接続されている。円弧部２１１の基端部２１１ａは、接続壁部２４１と接続されている。

【0034】

また、本実施形態では、円弧部２１１の中心角は９０度である。これにより、曲率半径ｒ５が最大となる円弧部２１１の領域を、導入口１１１から排出された処理後加工液が内部室２００のうちで導入口１１１の近傍に滞留することを抑制できる程度に大きくできる。

【0035】

接続壁部２４１は、円弧部２１１の基端部２１１ａと、収束壁部２２１の小径端部２２１ｂとを直線的に接続させる。接続壁部２４１は、平板状である。本実施形態では、接続壁部２４１の延びる方向は、中心点Ｏと小径端部２２１ｂとを結んだ直線に沿った方向（Ｚ方向）である。接続壁部２４１は、洗浄装置１１のうちで導入口１１１を有する端面１１ａと接触または近接するように形成されている。これにより、洗浄装置１１などの他の部材を配置するスペースを確保することができる。

【0036】

処理後加工液は、排出方向Ｄ２への流れによって、円弧部２１１の基端部２１１ａ側から先端部２１１ｂ（大径端部２２１ａ）側へと流れる。そして、処理後加工液は、さらに、収束壁部２２１の大径端部２２１ａから小径端部２２１ｂに向けて、内部室２００を延在方向Ｄ１に沿って流れる。つまり、加工液清浄システム１では、第１の場合に、延在方向Ｄ１における曲率半径ｒ１～ｒ４が次第に小さくなるように収束壁部２２１を形成することで、大径端部２２１ａから小径端部２２１ｂに向けた渦状の流れを主な流れとして形成できる。これにより、加工液清浄システム１は、内部室２００の処理後加工液の流れについて、側壁部２１の形状に沿うような流れを生じさせている。

【0037】

処理後加工液に含まれる異物は、内部室２００において、円弧部２１１から大径端部２２１ａを経て小径端部２２１ｂ側へと流れる間に、自重によって徐々に中子部２０の底部２０１に沈殿していく。このとき、収束壁部２２１は、大径端部２２１ａから小径端部２２１ｂに向けた流れを形成することで、上流側に位置する導入口１１１から下流側に位置する流出口２５１へと処理後加工液が到達するまでの距離を長くすることができる。これにより、流出口２５１に処理後加工液が到達するまでの間に、処理後加工液に含まれる異物が中子部２０の底部２０１に沈殿する可能性を高めることができる。よって、異物が内部室２００からクリーン槽部５０側へと流出する可能性を低減することができる。

【0038】

流出口２５１は、収束壁部２２１のうち、小径端部２２１ｂを含む位置に形成されている。つまり、流出口２５１は、延在方向Ｄ１における処理後加工液の流れ方向において、下流側に形成される。導入口１１１から流出口２５１へと処理後加工液が到達するまでの距離をより一層長くすることで、流出口２５１に処理後加工液が到達するまでの間に、処理後加工液に含まれる異物が中子部２０の底部２０１に沈殿する可能性をさらに高めることができる。よって、加工液清浄システム１は、収束壁部２２１の形状と流出口２５１の形成位置とによって、流出口２５１に処理後加工液が到達するまでの間に、処理後加工液に含まれる異物が中子部２０の底部２０１に沈殿することを促進させることができる。

【0039】

図４は、加工液清浄システム１を側方側から見た図である。図４では、加工液清浄システム１を大径端部２２１ａ側（－Ｘ方向側）から見た状態を図示している。流出口２５１の下端部２５１ａは、循環装置３１の吸入口３１１よりも高い位置に形成される。これにより、中子部２０の底部２０１に沈殿した異物が、流出口２５１を介して内部室２００からクリーン槽部５０側へと流出する可能性をより一層低減できる。

【0040】

循環装置３１の吸入口３１１は、処理後加工液に含まれる異物をより吸入しやすい位置に形成されることが好ましい。そこで、図３に示すように、吸入口３１１は、収束壁部２２１のうちで、大径端部２２１ａよりも小径端部２２１ｂに近い位置に配置されている。具体的には、吸入口３１１は、内部室２００のうち、収束壁部２２１に囲まれた領域（図３にてハッチングが付された領域）において、大径端部２２１ａと吸入口３１１との直線距離よりも、小径端部２２１ｂと吸入口３１１との直線距離の方が短くなる位置に形成されている。つまり、処理後加工液の流れにおける下流側に吸入口３１１が配置されている。これにより、加工液清浄システム１は、中子部２０の底部２０１に沈殿した異物を吸入口３１１から効率良く吸入できるようにしている。本実施形態では、吸入口３１１の形状は、中心点Ｏを中心とした円形状である。

【0041】

図５は、収束壁部２２１を有さない加工液清浄システム９を上方側から見た図である。図５では、収束壁部２２１を有さない加工液清浄システム９（以下、従来型清浄システム９）の一例を示している。従来型清浄システム９は、本実施形態における加工液清浄システム１（図３）との差異を説明するための比較例である。図３と同一の構成については、同一の符号を付して説明を省略する。

【0042】

従来型清浄システム９は、側壁部２１の構成が本実施形態の加工液清浄システム１とは異なる。具体的には、従来型清浄システム９の側壁部９１（以下、従来型側壁部９１）は、収束壁部２２１を有さない。従来型側壁部９１は、曲率半径ｒ９が一定、かつ、中心点Ｏを中心とした周方向において、一端部９１１ａから他端部９１１ｂに延びるように形成されている。図５に示す例では、一端部９１１ａは、従来型側壁部９１のうち、導入口１１１が形成されている基準点Ｐを０度とした場合に、基準点Ｐから中心点Ｏを中心とした周方向に約１８０度回転した位置に配置されている。他端部９１１ｂは、第２仕切部８５２と接続されている。図５に示す例では、他端部９１１ｂは、従来型側壁部９１のうち、基準点Ｐから中心点Ｏを中心とした周方向に約１５０度回転した位置に配置されている。また、側壁部９１の曲率半径ｒ９は、円弧部２１１の曲率半径ｒ５および大径端部２２１ａにおける曲率半径ｒ１と同一である。

【0043】

従来型側壁部９１は、流出口９３（以下、従来型流出口９３）を形成するための隔壁部９５を有する。隔壁部９５は、従来型側壁部９１の他端部９１１ｂに接続されている。隔壁部９５は、他端部９１１ｂから内部室９００側に延びるように形成された平板状の壁面である。つまり、従来型流出口９３は、一端部９１１ａと隔壁部９５とによって形成された開口である。よって、従来型流出口９３の下端部９３ａは、クリーン槽部５０の底面５０１によって形成される。そのため、従来型流出口９３の下端部９３ａは、吸入口３１１よりも低い位置に形成されている。なお、クリーン槽部５０の各構成要素、洗浄装置１１の各構成要素および吸入口３１１の配置は、図３と図５とにおいて同一である。

【0044】

従来型清浄システム９のように収束壁部２２１を有さない場合には、本実施形態における加工液清浄システム１と比べて、導入口１１１から排出された処理後加工液が側壁部９１の形状に沿って流れにくい。そして、従来型清浄システム９では、内部室９００の処理後加工液は、吸入口３１１から吸引される流れよりも、流出口９３を介して内部室９００からクリーン槽部５０側へと流出する流れが優位となりやすい。これにより、処理後加工液に含まれる異物を吸入口３１１の近傍に集めにくい場合が生じ得る。また、従来型清浄システム９のように、従来型流出口９３の下端部９３ａが吸入口３１１よりも低い位置に形成されている場合には、底面５０１に沈殿した異物が吸入口３１１から吸入されにくく、内部室２００からクリーン槽部５０側へと流出しやすい。

【0045】

上記実施形態によれば、図３に示すように、延在方向Ｄ１において曲率半径ｒ１～ｒ４が次第に小さくなる収束壁部２２１のうち、大径端部２２１ａ側に導入口１１１が配置され、小径端部２２１ｂ側に吸入口３１１が配置される。このようにすると、内部室２００を流れる処理後加工液について、大径端部２２１ａから小径端部２２１ｂに向けて、収束壁部２２１に沿った流れを積極的に形成することができる。これにより、吸入口３１１が位置する小径端部２２１ｂ側に処理後加工液を集めやすくできる。そのため、吸入口３１１から処理後加工液を効率良く吸入できる。よって、処理後加工液の清浄化効率を向上させることができる。さらに、流出口２５１の下端部２５１ａは、吸入口３１１よりも高い位置に形成されている。これにより、異物が十分に除去されていない内部室２００の処理後加工液が流出口２５１付近に到達した場合であっても、十分に清浄化されていない処理後加工液が、内部室２００からクリーン槽部５０へと流出する可能性を低減することができる。

【0046】

また、上記実施形態によれば、図３に示すように、流出口２５１は、収束壁部２２１のうち、大径端部２２１ａよりも小径端部２２１ｂに近い位置に形成されている。このようにすると、処理後加工液が導入口１１１から流出口２５１へと到達するまでの距離をより一層長くすることができる。つまり、処理後加工液が導入口１１１から流出口２５１へと到達するまでの時間をより一層長くすることができる。これにより、流出口２５１に処理後加工液が到達するまでの間に、処理後加工液に含まれる異物が中子部２０の底部２０１に沈殿する可能性をより一層高めることができる。換言すると、流出口２５１に処理後加工液が到達するまでの間において、処理後加工液に含まれる異物が中子部２０の底部２０１に沈殿することを促進させることができる。

【0047】

また、上記実施形態によれば、図３に示すように、導入口１１１の近傍には、曲率半径ｒ５が一定の円弧部２１１が形成されている。このようすると、導入口１１１から排出された処理後加工液は、円弧部２１１から大径端部２２１ａを経て小径端部２２１ｂ側へと流れる。これにより、導入口１１１から排出された処理後加工液が、内部室２００のうちで、導入口１１１の近傍に滞留することを抑制できる。よって、内部室２００における処理後加工液の流れを円滑にすることができる。

【0048】

また、上記実施形態によれば、図３に示すように、導入口１１１は、円弧部２１１のうち、大径端部２２１ａと接続された先端部２１１ｂとは反対側の基端部２１１ａに配置されている。つまり、導入口１１１は、延在方向Ｄ１である加工液の流れ方向において、小径端部２２１ｂから最も離れた位置に配置される。これにより、処理後加工液が導入口１１１から吸入口３１１および流出口２５１へと到達するまでの距離をさらに長くすることができる。よって、流出口２５１に処理後加工液が到達するまでの間に、処理後加工液に含まれる異物が中子部２０の底部２０１に沈殿する可能性をさらに高めることができる。

【0049】

また、上記実施形態によれば、小径端部２２１ｂは、図３に示すように、基端部２１１ａ上の基準点Ｐから中心点Ｏを中心とした周方向に３６０度回転した位置に配置される。このようにすると、処理後加工液が導入口１１１から流出口２５１へと到達するまでの距離をさらに長くすることができる。これにより、流出口２５１に処理後加工液が到達するまでの間に、処理後加工液に含まれる異物が中子部２０の底部２０１に沈殿する可能性をさらに高めることができる。

【0050】

また、上記実施形態によれば、処理後加工液に含まれる異物は、自重によって徐々に中子部２０の底部２０１に沈殿していく。そのため、異物を含む処理後加工液が循環装置３１の吸入口３１１付近に集まりづらい場合には、中子部２０の底部２０１に堆積した異物を清掃などによって除去する必要がある。このとき、加工液清浄システム１は、中子部２０の底部２０１に沈殿した異物を吸入口３１１から効率良く吸入できるように、側壁部２１および吸入口３１１が形成されている。このようにすると、工作機械を停止させて、中子部２０の底部２０１に堆積した異物を除去するための清掃回数を減らすことができる。これにより、例えば、工作機械などによって被加工物を加工する場合に、生産性を向上させることができる。

【0051】

Ｂ．他の実施形態：
Ｂ－１．他の実施形態１：
上記実施形態では、図３に示すように、流出口２５１は、収束壁部２２１のうちで、大径端部２２１ａよりも小径端部２２１ｂに近い位置に形成されていた。しかし、本開示は、これに限られるものではなく、流出口２５１は、大径端部２２１ａ側に形成されていてもよい。

【0052】

Ｂ－２．他の実施形態２：
上記実施形態では、洗浄部１１５は、磁性体の切り屑を取り除くための磁気分離器であった。しかし、本開示は、これに限られるものではない。洗浄部１１５は、例えば、研削加工によって生じた砥粒を除去するための濾過装置であってもよい。また、洗浄部１１５は、例えば、遠心分離を利用した粉体分離器であってもよい。このような形態であれば、洗浄部１１５の構成を変更することによって、異物の種類を限定することなく加工液清浄システム１を用いることができる。

【0053】

Ｂ－３．他の実施形態３：
上記実施形態では、図１に示すように、導入口１１１は、側壁部２１の上端部２２１ｄよりも高い位置に形成されていた。しかし、洗浄装置１１における導入口１１１の形成位置は、これに限られるものではない。導入口１１１は、側壁部２１の上端部２２１ｄよりも低い位置に形成されてもよい。例えば、洗浄装置１１は、導入口１１１を有し、内部室２００側に向けて突出するように形成された図示しない突出管を備えてもよい。そして、接続壁部２４１に設けられた図示しない凹部に嵌合するように突出管が配置されることで、導入口１１１が内部室２００の内部に配置されてもよい。また、接続壁部２４１に設けられた図示しない貫通口に突出管を貫通させることで、導入口１１１が内部室２００の内部に配置されてもよい。このような形態であっても、加工液は、図示しないポンプによって導入口１１１から排出されるため、洗浄部１１５側に逆流することなく内部室２００へと直接的に排出できる。また、このような形態であれば、加工液の排出方向Ｄ２は、－Ｘ方向と概ね一致する。そのため、収束壁部２２１の形状に沿って、大径端部２２１ａから小径端部２２１ｂへと向かう処理後加工液の流れをより確実に形成することができる。

【0054】

Ｂ－４．他の実施形態４：
上記実施形態では、側壁部２１は、円弧部２１１を有し、円弧部２１１の基端部２１１ａに導入口１１１が配置されていた。しかし、本開示は、これに限られるものではない。側壁部２１は、円弧部２１１を有することなく、収束壁部２２１と接続壁部２４１とによって構成されてもよい。側壁部２１に円弧部２１１が形成されない場合には、例えば、導入口１１１は、収束壁部２２１の大径端部２２１ａに配置される。そして、第１の場合において、収束壁部２２１の大径端部２２１ａを基準点Ｐとしての０度とした場合に、小径端部２２１ｂは、基準点Ｐから３６０度回転した位置に配置すればよい。また、接続壁部２４１は、大径端部２２１ａと小径端部２２１ｂとを直線的に接続させればよい。このような形態であっても、大径端部２２１ａから小径端部２２１ｂに向けた加工液の流れを形成することができる。

【0055】

本開示は、上述の実施形態に限られるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲において種々の構成で実現することができる。例えば、発明の概要の欄に記載した各形態中の技術的特徴に対応する実施形態の技術的特徴は、上述の課題の一部又は全部を解決するために、あるいは、上述の効果の一部又は全部を達成するために、適宜、差し替えや、組み合わせを行うことが可能である。また、その技術的特徴が本明細書中に必須なものとして説明されていなければ、適宜、削除することが可能である。

【符号の説明】

【0056】

１…加工液清浄システム、９…従来型清浄システム、１１…洗浄装置、１１ａ…洗浄装置の端面、１１ｂ…洗浄装置の下端面、２０…中子部、２１…側壁部、３１…循環装置、５０…クリーン槽部、８１…加工液吐出用ポンプ、８２…加工台洗浄用ポンプ、９１…従来型側壁部、９３…従来型流出口、９３ａ…従来型流出口の下端部、９５…隔壁部、１１１…導入口、１１５…洗浄部、２００…内部室、２０１…底部、２１１…円弧部、２１１ａ…基端部、２１１ｂ…先端部、２２１…収束壁部、２２１ａ…大径端部、２２１ｂ…小径端部、２２１ｄ…上端部、２２１ｅ…側壁部の下端部、２２１ｆ…第１中間点、２２１ｇ…第２中間点、２４１…接続壁部、２５１…流出口、２５１ａ…流出口の下端部、３１１…吸入口、５００…収容室、５０１…底面、５１１…収容室の側面、８５１…第１仕切部、８５１ａ，８５２ａ…開口部、８５２…第２仕切部、９００…内部室、９１１ａ…一端部、９１１ｂ…他端部、Ｂ…大径部、Ｄ１…延在方向、Ｄ２…排出方向、Ｄ３…高さ方向、Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３…高さ、Ｏ…中心点、Ｐ…基準点、Ｐ１…第１点、Ｓ…小径部、ｒ１～ｒ５，ｒ９…曲率半径

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】