特開2023-141514描画データ生成装置、描画システムおよび描画データ生成方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023141514
(43)【公開日】2023-10-05
(54)【発明の名称】描画データ生成装置、描画システムおよび描画データ生成方法
(51)【国際特許分類】
G03F 7/20 20060101AFI20230928BHJP
【ＦＩ】
G03F7/20 501
G03F7/20 521
【審査請求】未請求
【請求項の数】7
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022047870
(22)【出願日】2022-03-24
(71)【出願人】
【識別番号】000207551
【氏名又は名称】株式会社ＳＣＲＥＥＮホールディングス
(74)【代理人】
【識別番号】100110847
【弁理士】
【氏名又は名称】松阪 正弘
(74)【代理人】
【識別番号】100136526
【弁理士】
【氏名又は名称】田中 勉
(74)【代理人】
【識別番号】100136755
【弁理士】
【氏名又は名称】井田 正道
(72)【発明者】
【氏名】中津 智史
(72)【発明者】
【氏名】坂本 道昭
(72)【発明者】
【氏名】八坂 智
【テーマコード（参考）】
2H197
【Ｆターム（参考）】
2H197AA22
2H197AA26
2H197AA28
2H197AA29
2H197CA01
2H197CC05
2H197CD02
2H197CD12
2H197CD35
2H197DA03
2H197DA04
2H197EA19
2H197EB16
2H197EB23
2H197HA03
2H197HA04
2H197HA05
(57)【要約】
【課題】所望のフォント種類および所望のフォントサイズを有する文字を基板上に描画する。
【解決手段】描画データ生成装置６は、基板への描画を行う描画装置１用の描画データを生成する。描画データ生成装置６のパターンデータ変換部６２は、描画されるパターンおよび文字に関する情報を含むベクトル形式の設計データから、当該パターンに関するパターン設計データを取得し、当該パターン設計データをラスタ形式のパターン描画データに変換する。フォント準備部６４は、上述の設計データに含まれる文字設計データに基づいて、所望のフォント種類および所望のフォントサイズを有するラスタ形式の文字描画データを準備する。描画データ生成部６６は、上述のパターン描画データと文字描画データとを用いてラスタ形式の描画データを生成する。これにより、所望のフォント種類および所望のフォントサイズを有する文字を基板上に描画することができる。
【選択図】図３
【解決手段】描画データ生成装置６は、基板への描画を行う描画装置１用の描画データを生成する。描画データ生成装置６のパターンデータ変換部６２は、描画されるパターンおよび文字に関する情報を含むベクトル形式の設計データから、当該パターンに関するパターン設計データを取得し、当該パターン設計データをラスタ形式のパターン描画データに変換する。フォント準備部６４は、上述の設計データに含まれる文字設計データに基づいて、所望のフォント種類および所望のフォントサイズを有するラスタ形式の文字描画データを準備する。描画データ生成部６６は、上述のパターン描画データと文字描画データとを用いてラスタ形式の描画データを生成する。これにより、所望のフォント種類および所望のフォントサイズを有する文字を基板上に描画することができる。
【選択図】図３
【特許請求の範囲】
【請求項1】
基板への描画を行う描画装置用の描画データを生成する描画データ生成装置であって、
描画されるパターンおよび文字に関する情報を含むベクトル形式の設計データから前記パターンに関するパターン設計データを取得し、前記パターン設計データをラスタ形式のパターン描画データに変換するパターンデータ変換部と、
前記設計データに含まれる文字設計データに基づいて、所望のフォント種類および所望のフォントサイズを有するラスタ形式の文字描画データを準備するフォント準備部と、
前記パターン描画データと前記文字描画データとを用いてラスタ形式の描画データを生成する描画データ生成部と、
を備えることを特徴とする描画データ生成装置。
描画されるパターンおよび文字に関する情報を含むベクトル形式の設計データから前記パターンに関するパターン設計データを取得し、前記パターン設計データをラスタ形式のパターン描画データに変換するパターンデータ変換部と、
前記設計データに含まれる文字設計データに基づいて、所望のフォント種類および所望のフォントサイズを有するラスタ形式の文字描画データを準備するフォント準備部と、
前記パターン描画データと前記文字描画データとを用いてラスタ形式の描画データを生成する描画データ生成部と、
を備えることを特徴とする描画データ生成装置。
【請求項2】
請求項１に記載の描画データ生成装置であって、
前記フォント準備部は、
前記文字設計データに基づいて準備される予定の前記文字描画データが、予め記憶されている既存文字セットデータ群に含まれている場合、前記既存文字セットデータ群から前記文字描画データを読み出すフォント抽出部と、
前記既存文字セットデータ群に前記文字描画データが含まれていない場合、前記文字設計データに基づいて前記文字描画データを生成するフォント生成部と、
を備えることを特徴とする描画データ生成装置。
前記フォント準備部は、
前記文字設計データに基づいて準備される予定の前記文字描画データが、予め記憶されている既存文字セットデータ群に含まれている場合、前記既存文字セットデータ群から前記文字描画データを読み出すフォント抽出部と、
前記既存文字セットデータ群に前記文字描画データが含まれていない場合、前記文字設計データに基づいて前記文字描画データを生成するフォント生成部と、
を備えることを特徴とする描画データ生成装置。
【請求項3】
請求項１または２に記載の描画データ生成装置であって、
基板の歪みに基づいて前記パターン描画データに対して歪み補正処理を行うパターン補正部をさらに備え、
前記描画データ生成部は、前記パターン補正部により補正された後の前記パターン描画データと前記文字描画データとを合成して前記描画データを生成することを特徴とする描画データ生成装置。
基板の歪みに基づいて前記パターン描画データに対して歪み補正処理を行うパターン補正部をさらに備え、
前記描画データ生成部は、前記パターン補正部により補正された後の前記パターン描画データと前記文字描画データとを合成して前記描画データを生成することを特徴とする描画データ生成装置。
【請求項4】
請求項１ないし３のいずれか１つに記載の描画データ生成装置であって、
前記設計データに基づいて、基板上に描画される描画文字群を囲む文字配置領域が設定され、
前記描画データ生成部は、
前記描画文字群が、描画装置により描画される描画要素によって構成される場合、前記文字配置領域のうち前記描画文字群以外の領域が、前記描画装置による描画が行われない非描画要素によって構成されるように前記描画データを設定し、
前記描画文字群が前記非描画要素によって構成される場合、前記文字配置領域のうち前記描画文字群以外の領域が前記描画要素によって構成されるように前記描画データを設定することを特徴とする描画データ生成装置。
前記設計データに基づいて、基板上に描画される描画文字群を囲む文字配置領域が設定され、
前記描画データ生成部は、
前記描画文字群が、描画装置により描画される描画要素によって構成される場合、前記文字配置領域のうち前記描画文字群以外の領域が、前記描画装置による描画が行われない非描画要素によって構成されるように前記描画データを設定し、
前記描画文字群が前記非描画要素によって構成される場合、前記文字配置領域のうち前記描画文字群以外の領域が前記描画要素によって構成されるように前記描画データを設定することを特徴とする描画データ生成装置。
【請求項5】
請求項４に記載の描画データ生成装置であって、
前記文字配置領域は、前記文字設計データが示す文字群の基板上における占有領域と同じ大きさおよび同じ位置に設定され、
前記フォント準備部により準備される前記文字描画データのフォントサイズは、前記設計データにより指定されるフォントサイズよりも所定量小さいことを特徴とする描画データ生成装置。
前記文字配置領域は、前記文字設計データが示す文字群の基板上における占有領域と同じ大きさおよび同じ位置に設定され、
前記フォント準備部により準備される前記文字描画データのフォントサイズは、前記設計データにより指定されるフォントサイズよりも所定量小さいことを特徴とする描画データ生成装置。
【請求項6】
基板への描画を行う描画システムであって、
請求項１ないし５のいずれか１つに記載の描画データ生成装置と、
前記描画データ生成装置にて生成された描画データに基づいて基板への描画を行う描画装置と、
を備えることを特徴とする描画システム。
請求項１ないし５のいずれか１つに記載の描画データ生成装置と、
前記描画データ生成装置にて生成された描画データに基づいて基板への描画を行う描画装置と、
を備えることを特徴とする描画システム。
【請求項7】
基板への描画を行う描画装置用の描画データを生成する描画データ生成方法であって、
ａ）描画されるパターンおよび文字に関する情報を含むベクトル形式の設計データから前記パターンに関するパターン設計データを取得し、前記パターン設計データをラスタ形式のパターン描画データに変換する工程と、
ｂ）前記設計データに含まれる文字設計データに基づいて、所望のフォント種類および所望のフォントサイズを有するラスタ形式の文字描画データを準備する工程と、
ｃ）前記パターン描画データと前記文字描画データとを用いてラスタ形式の描画データを生成する工程と、
を備えることを特徴とする描画データ生成方法。
ａ）描画されるパターンおよび文字に関する情報を含むベクトル形式の設計データから前記パターンに関するパターン設計データを取得し、前記パターン設計データをラスタ形式のパターン描画データに変換する工程と、
ｂ）前記設計データに含まれる文字設計データに基づいて、所望のフォント種類および所望のフォントサイズを有するラスタ形式の文字描画データを準備する工程と、
ｃ）前記パターン描画データと前記文字描画データとを用いてラスタ形式の描画データを生成する工程と、
を備えることを特徴とする描画データ生成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、基板への描画を行う描画装置用の描画データを生成する技術に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、半導体基板、プリント基板、または、有機ＥＬ表示装置もしくは液晶表示装置用のガラス基板等（以下、「基板」という。）に形成された感光材に光を照射することにより、パターンの描画が行われている。当該基板には、描画に用いられた描画装置の識別番号等の文字群が、パターンと共に描画される場合がある。
【0003】
特許文献１の描画装置では、ベクトル形式で記述されたパターンの設計データがラスタ形式に変換された後、変換後のパターンのデータにビットマップ形式の文字データが合成されて最終描画データが生成される。当該描画装置では、使用される可能性がある候補文字（例えば、アルファベット２６文字、および、０～９までの１０個の数字）について、数種類のサイズのビットマップデータが予め記憶されている。そして、文字が描画される予定の領域を、描画される可能性がある最大文字数で分割して分割領域が求められ、当該分割領域以下のサイズの候補文字のビットマップデータから、描画される文字のデータが抽出されて最終描画データに埋め込まれる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開２０２０－１３０４２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
ところで、基板への描画において、描画装置に予め記憶されているサイズとは異なるサイズの文字を描画することが求められる可能性がある。また、描画装置に予め記憶されている文字とはフォント種類が異なる文字の描画が求められる可能性もある。
【0006】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、所望のフォント種類および所望のフォントサイズを有する文字を基板上に描画することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【0007】
請求項１に記載の発明は、基板への描画を行う描画装置用の描画データを生成する描画データ生成装置であって、描画されるパターンおよび文字に関する情報を含むベクトル形式の設計データから前記パターンに関するパターン設計データを取得し、前記パターン設計データをラスタ形式のパターン描画データに変換するパターンデータ変換部と、前記設計データに含まれる文字設計データに基づいて、所望のフォント種類および所望のフォントサイズを有するラスタ形式の文字描画データを準備するフォント準備部と、前記パターン描画データと前記文字描画データとを用いてラスタ形式の描画データを生成する描画データ生成部とを備える。
【0008】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の描画データ生成装置であって、前記フォント準備部は、前記文字設計データに基づいて準備される予定の前記文字描画データが、予め記憶されている既存文字セットデータ群に含まれている場合、前記既存文字セットデータ群から前記文字描画データを読み出すフォント抽出部と、前記既存文字セットデータ群に前記文字描画データが含まれていない場合、前記文字設計データに基づいて前記文字描画データを生成するフォント生成部とを備える。
【0009】
請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載の描画データ生成装置であって、基板の歪みに基づいて前記パターン描画データに対して歪み補正処理を行うパターン補正部をさらに備え、前記描画データ生成部は、前記パターン補正部により補正された後の前記パターン描画データと前記文字描画データとを合成して前記描画データを生成する。
【0010】
請求項４に記載の発明は、請求項１ないし３のいずれか１つに記載の描画データ生成装置であって、前記設計データに基づいて、基板上に描画される描画文字群を囲む文字配置領域が設定され、前記描画データ生成部は、前記描画文字群が、描画装置により描画される描画要素によって構成される場合、前記文字配置領域のうち前記描画文字群以外の領域が、前記描画装置による描画が行われない非描画要素によって構成されるように前記描画データを設定し、前記描画文字群が前記非描画要素によって構成される場合、前記文字配置領域のうち前記描画文字群以外の領域が前記描画要素によって構成されるように前記描画データを設定する。
【0011】
請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の描画データ生成装置であって、前記文字配置領域は、前記文字設計データが示す文字群の基板上における占有領域と同じ大きさおよび同じ位置に設定され、前記フォント準備部により準備される前記文字描画データのフォントサイズは、前記設計データにより指定されるフォントサイズよりも所定量小さい。
【0012】
請求項６に記載の発明は、基板への描画を行う描画システムであって、請求項１ないし５のいずれか１つに記載の描画データ生成装置と、前記描画データ生成装置にて生成された描画データに基づいて基板への描画を行う描画装置とを備える。
【0013】
請求項７に記載の発明は、基板への描画を行う描画装置用の描画データを生成する描画データ生成方法であって、ａ）描画されるパターンおよび文字に関する情報を含むベクトル形式の設計データから前記パターンに関するパターン設計データを取得し、前記パターン設計データをラスタ形式のパターン描画データに変換する工程と、ｂ）前記設計データに含まれる文字設計データに基づいて、所望のフォント種類および所望のフォントサイズを有するラスタ形式の文字描画データを準備する工程と、ｃ）前記パターン描画データと前記文字描画データとを用いてラスタ形式の描画データを生成する工程とを備える。
【発明の効果】
【0014】
本発明では、所望のフォント種類および所望のフォントサイズを有する文字を基板上に描画することができる。
【図面の簡単な説明】
【0015】
【図1】一の実施の形態に係る描画装置を示す斜視図である。
【図2】描画データ生成装置の構成を示す図である。
【図3】描画データ生成装置の機能を示すブロック図である。
【図4A】候補文字の例を示す図である。
【図4B】候補文字の例を示す図である。
【図4C】候補文字の例を示す図である。
【図4D】候補文字の例を示す図である。
【図5】描画データ生成装置における処理の流れを示すフローチャートである。
【図6A】描画データ生成装置における処理の流れを示す他のフローチャートである。
【図6B】描画データ生成装置における処理の流れを示す他のフローチャートである。
【図7】描画データ生成装置の機能を示す他のブロック図である。
【図8】描画文字群および文字配置領域を示す図である。
【図9A】描画文字群および文字配置領域を示す図である。
【図9B】描画文字群および文字配置領域を示す図である。
【図10A】描画文字群および文字配置領域を示す図である。
【図10B】描画文字群および文字配置領域を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0016】
図１は、本発明の一の実施の形態に係る描画システム７を示す斜視図である。描画システム７は、描画装置１と、描画データ生成装置６とを備える。描画装置１は、空間変調された略ビーム状の光を基板９上の感光材に照射し、当該光の照射領域を基板９上にて走査することによりパターンの描画を行う直接描画装置である。描画データ生成装置６は、描画装置１における描画に使用される描画データを生成する装置である。図１では、互いに直交する３つの方向をＸ方向、Ｙ方向およびＺ方向として矢印にて示している。図１に示す例では、Ｘ方向およびＹ方向は互いに垂直な水平方向であり、Ｚ方向は鉛直方向である。他の図においても同様である。
【0017】
描画データ生成装置６は、例えば通常のコンピュータである。以下の説明では、描画データ生成装置６が１台のコンピュータであるものとして説明するが、これには限定されない。描画データ生成装置６は、例えば、複数のコンピュータが有線または無線にて接続されたコンピュータシステムであってもよい。なお、図１では、描画データ生成装置６を略直方体にて概念的に描いている。
【0018】
描画装置１は、ステージ１２１と、ステージ移動機構１２２と、撮像部１３と、描画部１４と、制御部１５とを備える。ステージ１２１は、撮像部１３および描画部１４の下方（すなわち、（－Ｚ）側）において、水平状態の基板９を下側から保持する略平板状の基板保持部である。基板９は、例えば、平面視において略矩形状の板状部材である。基板９は、例えば、プリント配線基板である。ステージ１２１は、例えば、基板９の下面を吸着して保持するバキュームチャックである。ステージ１２１は、バキュームチャック以外の構造を有していてもよい。ステージ１２１上に載置された基板９の上面９１は、Ｚ方向に対して略垂直であり、Ｘ方向およびＹ方向に略平行である。
【0019】
ステージ移動機構１２２は、ステージ１２１を撮像部１３および描画部１４に対して水平方向（すなわち、基板９の上面９１に略平行な方向）に相対的に移動する移動機構である。ステージ移動機構１２２は、第１移動機構１２３と、第２移動機構１２４とを備える。第２移動機構１２４は、ステージ１２１をガイドレールに沿ってＸ方向に直線移動する。第１移動機構１２３は、ステージ１２１を第２移動機構１２４と共にガイドレールに沿ってＹ方向に直線移動する。第１移動機構１２３および第２移動機構１２４の駆動源は、例えば、リニアサーボモータ、または、ボールネジにモータが取り付けられたものである。第１移動機構１２３および第２移動機構１２４の構造は、様々に変更されてよい。
【0020】
描画装置１では、Ｚ方向に延びる回転軸を中心としてステージ１２１を回転するステージ回転機構が設けられてもよい。また、ステージ１２１をＺ方向に移動するステージ昇降機構が描画装置１に設けられてもよい。ステージ回転機構として、例えば、サーボモータが利用可能である。ステージ昇降機構として、例えば、リニアサーボモータが利用可能である。ステージ回転機構およびステージ昇降機構の構造は、様々に変更されてよい。
【0021】
撮像部１３は、Ｘ方向に配列される複数（図１に示す例では、２つ）の撮像ヘッド１３１を備える。各撮像ヘッド１３１は、ステージ１２１およびステージ移動機構１２２を跨いで設けられるヘッド支持部１３０により、ステージ１２１およびステージ移動機構１２２の上方にて支持される。各撮像ヘッド１３１は、図示省略の撮像センサおよび光学系を備えるカメラである。各撮像ヘッド１３１は、基板９の上面９１上における略矩形状の撮像領域の画像を取得する。なお、撮像部１３の撮像ヘッド１３１の数は、１であってもよく、３以上であってもよい。
【0022】
描画部１４は、Ｘ方向およびＹ方向に配列される複数（図１に示す例では、５つ）の描画ヘッド１４１を備える。各描画ヘッド１４１は、図示省略の光源、光学系および空間光変調素子を備える。各描画ヘッド１４１は、ステージ１２１およびステージ移動機構１２２を跨いで設けられるヘッド支持部１４０により、ステージ１２１およびステージ移動機構１２２の上方にて支持される。なお、描画部１４の描画ヘッド１４１の数は、１であってもよく、複数であってもよい。
【0023】
描画装置１では、描画部１４の複数の描画ヘッド１４１から、変調された（すなわち、空間光変調された）光を基板９の上面９１上に照射しつつ、ステージ移動機構１２２により基板９をＹ方向に移動する。これにより、複数の描画ヘッド１４１からの光の照射領域が基板９上にてＹ方向に走査され、基板９に対するパターンの描画が行われる。以下の説明では、Ｙ方向を「走査方向」とも呼ぶ。ステージ移動機構１２２は、各描画ヘッド１４１からの光の照射領域を基板９上にて走査方向に移動する走査機構である。
【0024】
描画装置１では、基板９に対する描画は、いわゆるシングルパス（ワンパス）方式で行われる。具体的には、ステージ移動機構１２２により、ステージ１２１が複数の描画ヘッド１４１に対してＹ方向に相対移動され、複数の描画ヘッド１４１からの光の照射領域が、基板９の上面９１上にてＹ方向（すなわち、走査方向）に１回のみ走査される。これにより、基板９に対する描画が完了する。なお、描画装置１では、ステージ１２１のＹ方向への移動とＸ方向へのステップ移動とが繰り返されるマルチパス方式により、基板９に対する描画が行われてもよい。なお、描画装置１においてマルチパス方式の描画が行われる場合、Ｙ方向は主走査方向であり、Ｘ方向は副走査方向である。また、ステージ移動機構１２２の第１移動機構１２３は、ステージ１２１を主走査方向に移動させる主走査機構であり、第２移動機構１２４は、ステージ１２１を副走査方向に移動させる副走査機構である。
【0025】
制御部１５は、描画データ生成装置６にて生成された描画データに基づいてステージ移動機構１２２、撮像部１３および描画部１４等を制御し、基板９に対するパターン描画を実行させる。描画システム７では、制御部１５として、例えば、通常のコンピュータが利用される。
【0026】
図２は、描画データ生成装置６の構成を示す図である。描画データ生成装置６は、プロセッサ６０１と、メモリ６０２と、入出力部６０３と、バス６０４とを備える通常のコンピュータである。バス６０４は、プロセッサ６０１、メモリ６０２および入出力部６０３を接続する信号回路である。メモリ６０２は、各種情報を記憶する。メモリ６０２は、例えば、記憶媒体６０８に予め記憶されているプログラム６０９を読み出して記憶する。記憶媒体６０８は、例えば、ＵＳＢメモリやＣＤ－ＲＯＭである。
【0027】
プロセッサ６０１は、メモリ６０２に記憶されたプログラム６０９等に従って、メモリ６０２等を利用しつつ様々な処理（例えば、数値計算や画像処理）を実行する。入出力部６０３は、オペレータからの入力を受け付けるキーボード６０５およびマウス６０６、並びに、プロセッサ６０１からの出力等を表示するディスプレイ６０７を備える。
【0028】
図３は、描画データ生成装置６によって上記プログラム６０９が実行されることにより実現される機能を示すブロック図である。図３では、描画データ生成装置６以外の構成も併せて示す。描画データ生成装置６は、記憶部６１と、パターンデータ変換部６２と、パターン補正部６３と、フォント準備部６４と、描画データ生成部６６とを備える。フォント準備部６４は、フォント抽出部６４１と、フォント生成部６４２とを備える。
【0029】
記憶部６１は、主にメモリ６０２（図２参照）により実現され、描画データの生成に関する各種情報を予め記憶する。記憶部６１には、基板９に描画される予定のパターンおよび文字に関する情報を含む設計データが記憶される。当該設計データは、ＣＡＤデータ等のベクトル形式のデータである。設計データは、例えば、描画データ生成装置６とは異なる設計用端末にて作成され、描画データ生成装置６に送信される。
【0030】
記憶部６１には、また、既存文字セットデータ群が予め記憶されている。既存文字セットデータ群は、例えば、複数の文字セットデータを含む。各文字セットデータは、描画装置１における描画にて使用される可能性がある複数の候補文字（例えば、アルファベット２６文字、および、０～９までの１０個の数字）について、一のフォント種類かつ一のフォントサイズにて表現したラスタ形式（例えば、ビットマップ形式）のデータである。複数の文字セットデータでは、フォント種類および／またはフォントサイズが互いに異なる。フォント種類とは、例えば、「ゴシック」や「Times New Roman」等の文字のフォントの種類を意味する。フォントサイズとは、例えば、「８ｐｔ」や「１０ｐｔ」等の文字のサイズを意味する。
【0031】
各文字セットデータは、例えば、上述の３６個の候補文字のそれぞれについて、向きが９０°ずつ異なる４つのデータを含むことが好ましい。例えば、候補文字「Ａ」に関する当該４つのデータは、図４Ａに示すように向きが０°の文字、図４Ｂに示すように向きが右回りに９０°回転した文字、図４Ｃに示すように向きが１８０°回転した文字、および、図４Ｄに示すように向きが右回りに２７０°回転した文字のデータである。なお、候補文字は、上記例には限定されず、例えば、ひらがな、カタカナまたは漢字等であってもよく、日本以外の公用語に使用される文字等であってもよい。
【0032】
図３に示すパターンデータ変換部６２、パターン補正部６３、フォント準備部６４および描画データ生成部６６は、主にプロセッサ１０１（図２参照）により実現される。パターンデータ変換部６２は、記憶部６１に記憶されているベクトル形式の上記設計データから、パターンに関するデータ（以下、「パターン設計データ」とも呼ぶ。）を取得し、当該パターン設計データをラスタ形式のパターン描画データに変換する。パターンデータ変換部６２におけるパターン設計データからパターン描画データへの変換では、公知のラスタライズ技術が利用可能である。パターン描画データは、例えばランレングスデータである。
【0033】
パターン補正部６３は、描画が行われる予定の基板９の歪みに基づいて、上述のパターン描画データに対して歪み補正処理を行う。当該歪み補正処理は、公知の歪み補正方法を用いて行うことが可能である。基板９の歪みは、当該基板９の上面９１に設けられたアライメントマークを、描画装置１の撮像部１３（図１参照）により撮像し、当該アライメントマークの設計位置からのズレ等に基づいて求めることができる。
【0034】
フォント準備部６４は、上述の設計データに含まれる文字を示すデータ（以下、「文字設計データ」とも呼ぶ。）に基づいて、設計データにて指定されている所望のフォント種類および所望のフォントサイズを有するラスタ形式の文字描画データを準備する。所望のフォント種類および所望のフォントサイズとは、描画システム７を操作するオペレータが文字の描画に使用したいと希望しているフォント種類およびフォントサイズであり、描画データ生成装置６に予め記憶されているフォント種類およびフォントサイズには限定されない。文字描画データは、例えば、固定長ＲＵＮ形式またはビットマップ形式のデータである。なお、文字描画データは、固定長ＲＵＮ形式およびビットマップ形式以外のラスタ形式のデータであってもよい。
【0035】
設計データに含まれる文字設計データは、例えば、社名や描画装置１の機種名のように、各文字が固定された具体的な文字群を示す。また、当該文字設計データは、描画装置１にて描画が行われる複数の基板９に順番に付与される通し番号のように、予め設定されたルールに従って一部の文字または全ての文字が基板９毎に変化する文字群を示していてもよい。あるいは、設計データの作成時点では当該文字設計データに対応する文字群の内容は決定されておらず、当該文字設計データは、描画データ生成装置６においてオペレータにより入力される文字群を代入する、という指示であってもよい。
【0036】
フォント準備部６４では、設計データに含まれる文字設計データに基づいて準備される予定の文字描画データ（以下、「準備予定の文字描画データ」とも呼ぶ。）が、記憶部６１内の既存文字セットデータ群に含まれているか否かが判断される。上記準備予定の文字描画データは、設計データにて指定されているフォント種類と同じフォント種類を有する。また、当該準備予定の文字描画データは、設計データにて指定されているフォントサイズと同じフォントサイズを有する。
【0037】
フォント準備部６４では、準備予定の文字描画データとフォント種類およびフォントサイズが同じ文字セットデータが既存文字セットデータ群に含まれている場合、準備予定の文字描画データが既存文字セットデータ群に含まれていると判断される。この場合、フォント抽出部６４１により、準備予定の文字描画データに対応する文字セットデータが既存文字セットデータ群から抽出される。そして、文字設計データが示す文字群を構成する各文字のデータが、抽出された文字セットデータ中から選択されて配列されることにより、文字描画データが作成される。換言すれば、フォント抽出部６４１は、準備予定の文字描画データが既存文字セットデータ群に含まれている場合、既存文字セットデータ群から当該文字描画データを読み出す。
【0038】
具体的には、例えば、文字設計データが、フォント種類およびフォントサイズが「ゴシック」および「１０ｐｔ」である「ＡＢＣ」という文字群を示す場合、フォント抽出部６４１により、フォント種類およびフォントサイズが「ゴシック」および「１０ｐｔ」である文字セットデータが既存文字セットデータ群から抽出される。そして、抽出された文字セットデータから、文字「Ａ」、文字「Ｂ」および文字「Ｃ」のデータが選択され、「ＡＢＣ」の順に配列されることにより、文字描画データが作成される。文字「Ａ」、文字「Ｂ」および文字「Ｃ」のデータの選択は、描画装置１におけるこれらの文字の描画の向きを考慮して、上述の４つの向きのうち適切な向きのデータが選択される。
【0039】
一方、フォント準備部６４では、準備予定の文字描画データとフォント種類およびフォントサイズが同じ文字セットデータが既存文字セットデータ群に含まれていない場合、準備予定の文字描画データが既存文字セットデータ群に含まれていないと判断される。この場合、フォント生成部６４２により、準備予定の文字描画データとフォント種類およびフォントサイズが同じ新たな文字セットデータが、文字設計データに基づいて生成される。そして、当該新たな文字セットデータ中から、文字設計データが示す文字群を構成する各文字のデータが選択されて配列されることにより、文字描画データが生成される。換言すれば、フォント生成部６４２は、文字設計データに基づいて文字描画データを生成する。上述の新たな文字セットデータは、記憶部６１へと送られ、既存文字セットデータ群に含められる。なお、当該新たな文字セットデータは、既存文字セットデータ群に含まれている他の文字セットデータと同様のデータ構成を有する。
【0040】
描画データ生成部６６は、上述のパターン描画データと文字描画データとを用いて描画データを生成する。具体的には、描画データ生成部６６は、パターン補正部６３によって補正された後のラスタ形式のパターン描画データと、フォント準備部６４によって準備されたラスタ形式の文字描画データとを合成することにより、ラスタ形式の描画データを生成する。このとき、パターン描画データに合成される文字描画データの位置（すなわち、パターン描画データが示すパターンに対する、文字描画データが示す文字群の相対位置）は、パターン補正部６３による上記補正に合わせて調節されてもよい。
【0041】
描画データ生成部６６により生成された上記描画データは、入出力部６０３（図２参照）等を介して描画データ生成装置６から描画装置１へと送られる。図１に示す描画装置１では、制御部１５により、当該描画データ等に基づいてステージ移動機構１２２、撮像部１３および描画部１４等が制御され、基板９に対するパターンの描画が行われる。
【0042】
図５は、描画データ生成装置６における処理の流れを示すフローチャートである。描画データ生成装置６では、まず、記憶部６１（図３参照）に記憶されているベクトル形式の設計データから、パターンデータ変換部６２によりパターン設計データが取得され、ラスタ形式のパターン描画データに変換される（ステップＳ１１）。続いて、パターン補正部６３により、当該パターン描画データに対する歪み補正処理が行われる（ステップＳ１２）。
【0043】
ステップＳ１２が終了すると、フォント準備部６４（図３参照）により、上述の設計データから文字設計データが取得され、当該文字設計データに基づいて、準備予定の文字描画データが既存文字セットデータ群に含まれているか否かが判断される（ステップＳ１３）。そして、準備予定の文字描画データが既存文字セットデータ群に含まれていると判断されると、フォント抽出部６４１により、既存文字セットデータ群から当該文字描画データが読み出される（ステップＳ１４）。これにより、当該文字描画データの準備に要する時間が短縮される。
【0044】
一方、準備予定の文字描画データが既存文字セットデータ群に含まれていないと判断されると、フォント生成部６４２により、文字設計データに基づいて新たな文字セットデータが生成され、文字描画データが生成される（ステップＳ１５）。また、当該新たな文字セットデータは、既存文字セットデータ群に含められる（ステップＳ１６）。これにより、以降の文字描画データの準備に要する時間が短縮され得る。なお、ステップＳ１３～Ｓ１６は、ステップＳ１１～Ｓ１２と並行して行われてもよく、ステップＳ１１～Ｓ１２よりも前に行われてもよい。
【0045】
ステップＳ１１～Ｓ１６が終了すると、描画データ生成部６６（図３参照）により、上述の文字描画データと補正後のパターン描画データとが合成され、ラスタ形式の描画データが生成される（ステップＳ１７）。その後、描画データ生成装置６から描画装置１へと当該描画データが送られる（ステップＳ１８）。描画装置１では、上述のように、当該描画データに基づいてパターンの描画が行われる。
【0046】
なお、描画データ生成装置６では、必ずしもステップＳ１２におけるパターン描画データの歪み補正処理は行われる必要はない。この場合、ステップＳ１７では、ステップＳ１１における変換（すなわち、ラスタライズ）により取得されたパターン描画データと上述の文字描画データとが合成されて描画データが生成される。すなわち、ステップＳ１７では、ステップＳ１１にて取得されたパターン描画データと上述の文字描画データとを用いて描画データが生成される。
【0047】
以上に説明したように、描画データ生成装置６は、基板９への描画を行う描画装置１用の描画データを生成する。描画データ生成装置６は、パターンデータ変換部６２と、フォント準備部６４と、描画データ生成部６６とを備える。パターンデータ変換部６２は、描画されるパターンおよび文字に関する情報を含むベクトル形式の設計データから、当該パターンに関するパターン設計データを取得し、当該パターン設計データをラスタ形式のパターン描画データに変換する。フォント準備部６４は、上述の設計データに含まれる文字設計データに基づいて、所望のフォント種類および所望のフォントサイズを有するラスタ形式の文字描画データを準備する。描画データ生成部６６は、上述のパターン描画データと文字描画データとを用いてラスタ形式の描画データを生成する。これにより、描画装置１において、所望のフォント種類および所望のフォントサイズを有する文字を基板９上に描画することができる。
【0048】
描画システム７は、上記描画データ生成装置６と、描画データ生成装置６にて生成された描画データに基づいて基板９への描画を行う描画装置１と、を備える。当該描画システム７では、上述のように、所望のフォント種類および所望のフォントサイズを有する文字を基板９上に描画することができる。
【0049】
上述のように、フォント準備部６４は、フォント抽出部６４１と、フォント生成部６４２とを備えることが好ましい。フォント抽出部６４１は、文字設計データに基づいて準備される予定の文字描画データが、予め記憶されている既存文字セットデータ群に含まれている場合、当該既存文字セットデータ群から文字描画データを読み出す。フォント生成部６４２は、当該既存文字セットデータ群に文字描画データが含まれていない場合、文字設計データに基づいて文字描画データを生成する。これにより、準備予定の文字描画データが既存文字セットデータ群に含まれている場合、描画データの生成に要する時間を短縮することができる。また、準備予定の文字描画データが既存文字セットデータ群に含まれていない場合であっても、所望のフォント種類および所望のフォントサイズを有する文字を、描画装置１において基板９上に好適に描画することができる。
【0050】
上述のように、描画データ生成装置６は、基板９の歪みに基づいて上述のパターン描画データに対して歪み補正処理を行うパターン補正部６３をさらに備えることが好ましい。そして、描画データ生成部６６は、パターン補正部６３により補正された後のパターン描画データと上述の文字描画データとを合成して描画データを生成することが好ましい。このように、基板９上に描画予定の文字を、歪み補正処理後のパターンと合成することにより、歪み補正処理によって当該文字が変形することを防止することができる。その結果、描画装置１において、当該文字を基板９上に好適に描画することができる。
【0051】
上述の描画データ生成方法は、描画されるパターンおよび文字に関する情報を含むベクトル形式の設計データから、当該パターンに関するパターン設計データを取得し、当該パターン設計データをラスタ形式のパターン描画データに変換する工程（ステップＳ１１）と、当該設計データに含まれる文字設計データに基づいて、所望のフォント種類および所望のフォントサイズを有するラスタ形式の文字描画データを準備する工程（ステップＳ１３～Ｓ１５）と、上記パターン描画データと文字描画データとを用いてラスタ形式の描画データを生成する工程（ステップＳ１７）と、を備える。これにより、上記と同様に、所望のフォント種類および所望のフォントサイズを有する文字を基板９上に描画することができる。
【0052】
描画データ生成装置６では、上述のステップＳ１１～Ｓ１８に加えて、他のデータ処理が行われてもよい。例えば、図６Ａおよび図６Ｂのフローチャートに示す例では、ステップＳ１２とステップＳ１３との間にステップＳ２１が行われ、ステップＳ１３～Ｓ１６とステップＳ１７との間にステップＳ３１～Ｓ３３が行われる。この場合、図７に示すように、描画データ生成装置６は、図３に示す各構成に加えて配置領域設定部６５をさらに備える。
【0053】
図６Ａおよび図６Ｂに示す例では、ステップＳ１１～Ｓ１２が終了すると、配置領域設定部６５により、設計データから文字設計データが取得され、当該文字設計データに基づいて文字配置領域が設定される（ステップＳ２１）。図８に示すように、文字配置領域８２は、文字設計データに基づいて基板９上に文字群８１（すなわち、１つまたは複数の文字であり、以下、「描画文字群８１」とも呼ぶ。）が描画される際に、描画文字群８１を囲む領域である。図８に示す例では、描画文字群８１は「ＡＢＣ」という文字群であり、文字配置領域８２は、描画文字群８１に外接しつつ描画文字群８１全体を内部に含む最小矩形領域である。配置領域設定部６５により設定された文字配置領域８２の大きさおよび位置は、描画データ生成部６６へと送られる。
【0054】
描画データ生成部６６では、上述のように、設計データにて指定されているフォント種類およびフォントサイズと同じフォント種類およびフォントサイズを有する文字描画データが、フォント準備部６４により準備される（ステップＳ１３～Ｓ１６）。
【0055】
ステップＳ１３～Ｓ１６が終了すると、文字描画データが示す文字群が描画要素により構成されるか、非描画要素により構成されるかが確認される（ステップＳ３１）。描画要素とは、描画装置１において基板９上に光が照射されて描画される微小領域（すなわち、露光される画素）を意味する。非描画要素とは、基板９上の描画要素以外の領域を構成する微小領域であり、描画装置１による描画が行われない（すなわち、露光されない）画素を意味する。
【0056】
そして、文字描画データが示す文字群が描画要素により構成される場合、描画データ生成部６６は、図９Ａに示すように、歪み補正処理後のパターン描画データにおいて、文字配置領域８２のうち描画文字群８１以外の領域を非描画要素によって構成されるように描画データを設定する（ステップＳ３２）。図９Ａでは、描画要素を黒色に着色して、または、平行斜線を付して示し、非描画要素には着色せず、平行斜線も付さない（図９Ｂ、図１０Ａおよび図１０Ｂにおいても同様）。これにより、描画文字群８１の周囲の領域が、描画要素により構成されている場合であっても、描画要素により構成される描画文字群８１を容易に読み取り可能とすることができる。なお、実際の基板９への描画では、文字配置領域８２の輪郭は描画されないため、図９Ａでは、文字配置領域８２の輪郭を二点鎖線にて示す（図９Ｂ、図１０Ａおよび図１０Ｂにおいても同様）。
【0057】
また、文字描画データが示す文字群が非描画要素により構成される場合、描画データ生成部６６は、図９Ｂに示すように、歪み補正処理後のパターン描画データにおいて、文字配置領域８２のうち描画文字群８１以外の領域を描画要素によって構成されるように描画データを設定する（ステップＳ３３）。これにより、描画文字群８１の周囲の領域が、非描画要素により構成されている場合であっても、非描画要素により構成される描画文字群８１を容易に読み取り可能とすることができる。
【0058】
描画データ生成装置６では、ステップＳ２１において文字配置領域８２が設定された後、ステップＳ１３～Ｓ１６において文字描画データが準備される際に、文字描画データが示す文字群のフォントサイズは、必ずしも、設計データにて指定されているフォントサイズと同じである必要はない。例えば、ステップＳ２１において、文字配置領域８２は、文字設計データが示す文字群の基板９上における占有領域（すなわち、設計データにて指定されているフォントサイズと同じフォントサイズを有する当該文字群に外接しつつ当該文字群全体を内部に含む最小矩形領域）と同じ大きさおよび同じ位置に設定される。そして、ステップＳ１３～Ｓ１６において、設計データにて指定されているフォントサイズよりも所定量（例えば、１ｐｔ）小さいフォントサイズの文字描画データが、フォント準備部６４により準備されてもよい。
【0059】
これにより、当該文字描画データが示す描画文字群８１ａは、図１０Ａおよび図１０Ｂに示すように、文字配置領域８２内において文字配置領域８２の外縁から内側に離れて描画可能となる。したがって、描画文字群８１ａの読み取りをさらに容易とすることができる。また、文字配置領域８２が、文字設計データの上記占有領域からはみ出すことが防止されるため、文字配置領域８２において描画文字群８１ａの周囲に設定される描画要素または非描画要素が、パターンに好ましくない影響を与えることを防止することができる。その結果、描画装置１において、基板９に対するパターンの描画を好適に行うことができる。
【0060】
以上に説明したように、描画データ生成装置６では、上述の設計データに基づいて、基板９上に描画される描画文字群８１，８１ａを囲む文字配置領域８２が設定されることが好ましい。そして、描画データ生成部６６は、描画文字群８１，８１ａが、描画装置１により描画される描画要素によって構成される場合、文字配置領域８２のうち描画文字群８１，８１ａ以外の領域が、描画装置１による描画が行われない非描画要素によって構成されるように描画データを設定することが好ましい。また、描画データ生成部６６は、描画文字群８１，８１ａが非描画要素によって構成される場合、文字配置領域８２のうち描画文字群８１，８１ａ以外の領域が描画要素によって構成されるように描画データを設定することが好ましい。これにより、上述のように、描画文字群８１，８１ａの読み取りを容易とすることができる。
【0061】
また、文字配置領域８２は、上述の文字設計データが示す文字群の基板９上における占有領域と同じ大きさおよび同じ位置に設定されることが好ましい。そして、フォント準備部６４により準備される文字描画データのフォントサイズは、設計データにより指定されるフォントサイズよりも所定量小さいことが好ましい。これにより、上述のように、描画文字群８１ａの読み取りをさらに容易とすることができる。また、文字配置領域８２がパターンに好ましくない影響を与えることを防止し、基板９に対するパターンの描画を好適に行うことができる。
【0062】
上述の描画データ生成装置６、描画システム７および描画データ生成方法では、様々な変更が可能である。
【0063】
例えば、既存文字セットデータ群に含まれる文字セットデータは、必ずしも、図４Ａ～図４Ｄに示す４つの向きの文字のデータを含む必要はなく、他の個数（例えば、１つまたは２つ）の向きの文字のデータを含むものであってもよい。
【0064】
設計データは、必ずしもフォント種類を指定する情報を含んでいなくてもよい。例えば、所望のフォント種類は別途、入出力部６０３を介した入力により指定されてもよい。
【0065】
描画データ生成装置６では、必ずしも、既存文字セットデータ群が記憶部６１に記憶されている必要はなく、文字描画データが既存文字セットデータ群から読み出される必要もない。例えば、フォント準備部６４では、設計データから文字設計データが取得される毎に、当該文字設計データに基づいて文字描画データが生成されてもよい。この場合、文字設計データに基づく文字セットデータの生成は、行われてもよく、行われなくてもよい。また、フォント抽出部６４１およびフォント生成部６４２は、描画データ生成装置６から省略されてもよい。
【0066】
描画システム７では、制御部１５は、必ずしも描画装置１に設けられる必要はなく、描画データ生成装置６が、描画装置１の各構成を制御する制御部として機能してもよい。
【0067】
上述のように、描画データ生成装置６は、複数のコンピュータが有線または無線にて接続されたコンピュータシステムであってもよい。例えば、フォント準備部６４は、パターンデータ変換部６２および描画データ生成部６６が設けられるコンピュータとは異なるコンピュータ（例えば、設計データの作成を行う設計用端末）に設けられてもよい。
【0068】
基板９は、必ずしもプリント配線基板には限定されない。描画装置１では、例えば、半導体基板、液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置等のフラットパネル表示装置用のガラス基板、フォトマスク用のガラス基板、太陽電池パネル用の基板等に対する描画が行われてもよい。
【0069】
上記実施の形態および各変形例における構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わされてよい。
【符号の説明】
【0070】
１ 描画装置
６ 描画データ生成装置
７ 描画システム
９ 基板
６２ パターンデータ変換部
６３ パターン補正部
６４ フォント準備部
６６ 描画データ生成部
８１，８１ａ 描画文字群
８２ 文字配置領域
６４１ フォント抽出部
６４２ フォント生成部
Ｓ１１～Ｓ１８，Ｓ２１，Ｓ３１～Ｓ３３ ステップ
６ 描画データ生成装置
７ 描画システム
９ 基板
６２ パターンデータ変換部
６３ パターン補正部
６４ フォント準備部
６６ 描画データ生成部
８１，８１ａ 描画文字群
８２ 文字配置領域
６４１ フォント抽出部
６４２ フォント生成部
Ｓ１１～Ｓ１８，Ｓ２１，Ｓ３１～Ｓ３３ ステップ
【図1】
【図2】
【図3】
【図4A】
【図4B】
【図4C】
【図4D】
【図5】
【図6A】
【図6B】
【図7】
【図8】
【図9A】
【図9B】
【図10A】
【図10B】