特開 2023-141868 ろ過装置、ろ過システム、及び、ろ過膜の洗浄方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023141868

(43)【公開日】2023-10-05

(54)【発明の名称】ろ過装置、ろ過システム、及び、ろ過膜の洗浄方法

(51)【国際特許分類】

   B01D 65/04 20060101AFI20230928BHJP

   B01D 65/02 20060101ALI20230928BHJP

   B01D 65/06 20060101ALI20230928BHJP

   C02F 1/44 20230101ALI20230928BHJP

   B01D 29/11 20060101ALI20230928BHJP

   B01D 29/66 20060101ALI20230928BHJP

   B01D 29/64 20060101ALI20230928BHJP

【ＦＩ】

B01D65/04

B01D65/02

B01D65/06

C02F1/44 A

B01D29/10 510A

B01D29/10 520B

B01D29/10 520C

B01D29/10 530A

B01D29/38 510C

B01D29/38 520E

B01D29/38 550A

B01D29/38 550C

【審査請求】未請求

【請求項の数】8

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022048408

(22)【出願日】2022-03-24

(71)【出願人】

【識別番号】000003078

【氏名又は名称】株式会社東芝

(71)【出願人】

【識別番号】598076591

【氏名又は名称】東芝インフラシステムズ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110003708

【氏名又は名称】弁理士法人鈴榮特許綜合事務所

(72)【発明者】

【氏名】冨永 勘太

【テーマコード（参考）】

4D006

4D116

【Ｆターム（参考）】

4D006GA02

4D006HA41

4D006JA53Z

4D006JA67Z

4D006KC03

4D006KC13

4D006KC16

4D006KC17

4D006KD15

4D006KD24

4D006KE01P

4D006KE02P

4D006KE03P

4D006KE06P

4D006KE12P

4D006KE16P

4D006KE21P

4D006KE22Q

4D006KE23Q

4D006KE28P

4D006KE30P

4D006KE30Q

4D006MA03

4D006MC03

4D006PA01

4D006PB02

4D006PB08

4D116AA01

4D116BB01

4D116BC21

4D116BC44

4D116BC47

4D116DD05

4D116FF18B

4D116GG03

4D116KK04

4D116QA13C

4D116QA13F

4D116QC02A

4D116QC04A

4D116QC04B

4D116QC06

4D116QC20

4D116QC20D

4D116QC22

4D116QC22A

4D116QC22B

4D116QC22D

4D116QC23

4D116QC23A

4D116QC23B

4D116QC29

4D116QC29D

4D116RR01

4D116RR04

4D116RR19

4D116RR21

4D116RR22

4D116VV07

(57)【要約】

【課題】効果的にろ過性能を回復できるろ過装置、ろ過システム、及びろ過膜の洗浄方法を提供すること。
【解決手段】実施形態に係るろ過装置は、ろ過槽と、前記ろ過槽内に設けられ、ろ過処理に用いられる膜と、前記膜の逆流洗浄処理中に、前記ろ過槽内の前記膜の表面を拭き取る拭き取り機器と、を備える。
【選択図】 図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

ろ過槽と、
前記ろ過槽内に設けられ、ろ過処理に用いられる膜と、
前記膜の逆流洗浄処理中に、前記ろ過槽内の前記膜の表面を拭き取る拭き取り機器と、
を備える、ろ過装置。

【請求項2】

前記膜は、外圧式であり、
前記拭き取り機器は、前記膜の表面を直接拭き取る、請求項１に記載のろ過装置。

【請求項3】

前記拭き取り機器が前記膜に接触した状態で、液体が前記膜を通過することが可能な、請求項１又は請求項２に記載のろ過装置。

【請求項4】

請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載のろ過装置と、
原水を前記ろ過槽に供給する原水ポンプと、
前記ろ過槽の原水を吸い込み、前記膜で原水を膜処理するろ過ポンプと、
前記膜処理した処理水を貯留する処理水タンクと、
前記処理水タンクの前記処理水を前記膜に供給する逆洗ポンプと、
前記拭き取り機器を前記膜に対して移動させる駆動源と、
前記原水ポンプ、前記ろ過ポンプ、前記逆洗ポンプ及び前記駆動源を制御するコントローラと、
を備えるろ過システム。

【請求項5】

前記コントローラは、所定の時間、前記原水ポンプ及び前記ろ過ポンプを制御してろ過処理を行うとともに、前記所定の時間経過後、前記逆洗ポンプを制御して、前記ろ過処理とは逆方向に前記処理水を流すとともに、前記駆動源を制御して前記拭き取り機器により前記膜を拭き取る、請求項４に記載のろ過システム。

【請求項6】

前記ろ過槽のTMPを測定するTMP測定装置を備え、
前記コントローラは、前記原水ポンプ及び前記ろ過ポンプを駆動してろ過処理を行うとともに、前記TMP測定装置で測定したTMPが目標TMPの範囲内である場合には、前記ろ過処理を継続し、前記TMP測定装置で測定したTMPが前記目標TMPを超えた場合に、前記逆洗ポンプを制御して、前記ろ過処理とは逆方向に前記処理水を流すとともに、前記駆動源を制御して前記拭き取り機器により前記膜を直接拭き取る、請求項４に記載のろ過システム。

【請求項7】

前記処理水に薬品を添加する薬品ポンプを備え、
前記コントローラは、前記逆洗ポンプ及び前記薬品ポンプを制御して、前記ろ過処理とは逆方向に前記薬品を添加した前記処理水を流す、請求項５又は請求項６に記載のろ過システム。

【請求項8】

請求項４に記載のろ過システムのろ過膜の洗浄方法であって、
前記原水ポンプ及び前記ろ過ポンプを制御してろ過処理を行い、
前記逆洗ポンプを制御して、前記ろ過処理とは逆方向に前記処理水を流すとともに、前記駆動源を制御して前記拭き取り機器により前記膜を拭き取る、ろ過膜の洗浄方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明の実施形態は、液体をろ過するろ過装置、ろ過システム、及び、ろ過膜の洗浄方法に関する。

【背景技術】

【0002】

膜ろ過方式によって浄水処理を行う場合、ろ過の継続に伴い膜表面および細孔内部にファウラント（膜汚染物質）が堆積する。ファウラントの堆積によって、ろ過性能の低下や処理水質の悪化等の問題が起こる。ファウラントによる膜の汚染を膜ファウリングという。膜ファウリングは、上述のような問題を起こすことから、浄水膜ろ過処理においてファウラントを除去し、膜ファウリングを抑制することが重要である。

【0003】

浄水膜ろ過システムでは、ろ過性能の回復を目的として定期的に膜の洗浄が実施される。膜の洗浄は、物理洗浄と薬品洗浄の２種類に分類される。物理洗浄は水流や気泡等によって、汚染された膜に物理的な力を与え、膜表面や細孔内部のファウラントを除去するものである。一方、薬品洗浄は次亜塩素酸ナトリウムやクエン酸等の薬品中に汚染された膜を曝露することによって、ファウラントを除去するものである。一般に、物理洗浄と比較して薬品洗浄の洗浄効果は大きい。しかし、薬品洗浄は、薬品自体のコストが加わるうえ、特に有機膜を用いる場合は膜へのダメージにより膜寿命の低下を招くことから、頻繁な薬品洗浄は控えることが望ましい。

【0004】

定期的な物理洗浄を行い、物理洗浄によるろ過性能の回復ができなくなった際に薬品洗浄を行うのが一般的であり、浄水膜ろ過システムの安定的な運転のためには物理洗浄によるろ過性能の回復が重要である。

【0005】

従来の物理洗浄の例として、逆流洗浄やろ過膜の下からの曝気（エアースクラビング）が挙げられる。逆流洗浄は、ろ過時と逆方向に比較的清澄な水(一般的にはろ過後の処理水だが、純水等の例もある)を流すことによって、膜内部や膜表面に堆積したファウラントの剥離・除去を目的としている。曝気による洗浄は、膜の下側から空気を添加することで、泡の膜への衝突や乱流の発生による膜表面のファウラントの除去を目的としている。また、曝気によるエネルギー消費の削減を目的として、曝気と粒状担体とを組み合わせた膜洗浄の効果が知られている。また、粒状担体の撹拌と膜モジュールの振動とを組み合わせたろ過処理や、逆流洗浄と２種類の曝気による洗浄とを組み合わせた方法が知られている。

【0006】

曝気や粒状担体等による膜表面の洗浄は、気泡や担体のランダムな動きとそれに伴う乱流の発生とにより膜との衝突・摩擦等を起こしファウラントの除去をねらうという特性上、局所的なファウラント除去にとどまる。よって、曝気や粒状担体等による膜表面の洗浄は、洗浄効果が限定的かつ確率的であり、ろ過性能が十分に回復しない可能性がある。また曝気を用いた場合、エネルギー消費が大きくなることによりコスト面で不利である。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0007】

【特許文献1】特開2017-56371号公報

【特許文献2】特開2003-251157号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0008】

本発明は、効果的にろ過性能を回復できるろ過装置、ろ過システム、及びろ過膜の洗浄方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0009】

実施形態に係るろ過装置は、ろ過槽と、前記ろ過槽内に設けられ、ろ過処理に用いられる膜と、前記膜の逆流洗浄処理中に、前記ろ過槽内の前記膜の表面を拭き取る拭き取り機器と、を備える。

【図面の簡単な説明】

【0010】

【図1】第１実施形態に係るろ過システムの構成を模式的に示す説明図。

【図2】第１実施形態に係るろ過システムのろ過装置の要部構成を示す説明図。

【図3】第１実施形態に係るろ過システムに用いられるコントローラの構成を示すブロック図。

【図4】第１実施形態に係るろ過システムの逆流洗浄及び拭き取り洗浄における水の流れと拭き取り機器の動作の一例を示す説明図。

【図5】第１実施形態に係るろ過システムの制御の一例を示す流れ図。

【図6】第２実施形態に係るろ過システムの構成を模式的に示す説明図。

【図7】第２実施形態に係るろ過システムの逆流洗浄及び拭き取り洗浄における水の流れと拭き取り機器の動作の一例を示す説明図。

【図8】他の実施形態に係るろ過システムの構成を模式的に示す説明図。

【発明を実施するための形態】

【0011】

以下、第１実施形態に係るろ過システム１の構成を、図１乃至図４を用いて説明する。図１は、第１実施形態に係るろ過システム１の構成を模式的に示す説明図である。図２は、ろ過システム１のろ過装置１１に用いられるろ過膜としての浄水膜３２及び拭き取り機器３３の構成を示す説明図である。図３は、ろ過システム１に用いられるコントローラ２０の構成を示すブロック図である。図４は、ろ過システム１の逆流洗浄処理及び拭き取り洗浄処理における水の流れと拭き取り機器３３の動作の一例を示す説明図である。

【0012】

図１に示すように、ろ過システム１は、ろ過装置１１と、原水タンク１２と、原水ポンプ１３と、ろ過ポンプ１４と、処理水タンク１５と、逆洗ポンプ１６と、ドレン１７と、配管１８と、開閉弁１９と、コントローラ２０と、を備える。

【0013】

ろ過装置１１は、ろ過槽３１と、ろ過槽３１内に収容される浄水膜３２と、浄水膜３２に対して移動可能な拭き取り機器３３と、拭き取り機器３３を移動させる駆動源３４と、を備える。

【0014】

ろ過槽３１は、原水ポンプ１３、ろ過ポンプ１４、逆洗ポンプ１６及びドレン１７に配管１８を介して接続される。ろ過槽３１には、原水ポンプ１３から供給された原水タンク１２内の被処理水である原水が供給される。ろ過槽３１は、内部に設けられた浄水膜３２の一次側が原水用の室となり、そして、浄水膜３２の二次側が浄水膜３２で処理された処理水用の室となる。ろ過槽３１は、浄水膜３２に接続される配管３１ａを有し、この配管３１ａが処理水用の室を構成し、ろ過ポンプ１４に接続される。

【0015】

浄水膜３２は、原水が通過することで、原水を処理し、清澄な処理水とするろ過膜である。浄水膜３２は、外側から内側に水が流れる外－内式(外圧式)のろ過膜である。具体例として、浄水膜３２は、多数の細孔を有する。浄水膜３２は、膜表面および細孔により、原水に含まれるファウラント（膜汚染物質）の通過を遮断する。浄水膜３２の材質は特に限定されないが、物理的耐性に優れたセラミック等で形成されることが望ましい。また浄水膜３２の形状は、原水の処理が可能であれば、限定されないが、浄水膜３２の表面を拭き取り機器３３で直接拭き取りが容易な形状が望ましく、例えば、平膜構造が望ましい。

【0016】

拭き取り機器３３は、浄水膜３２と相対的に移動する。具体例として、拭き取り機器３３は、駆動源３４により駆動されることで、浄水膜３２に対して移動する。例えば、拭き取り機器３３は、浄水膜３２に向かって一方向に往復移動する。拭き取り機器３３は、浄水膜３２と接触しながら移動することで、浄水膜３２の表面を直接的に拭き取り、浄水膜３２の表面に付着したファウラントを浄水膜３２から分離又は除去する。拭き取り機器３３は、ろ過装置１１の逆流洗浄時において、浄水膜３２の表面を拭き取る。拭き取り機器３３は、ろ過槽３１の容積に対して小さい。拭き取り機器３３は、水中において、材質の成分が溶出しない材料で形成される。

【0017】

例えば、拭き取り機器３３は、フレーム３３ａと、フレーム３３ａに設けられた拭き取り部材３３ｂと、を備える。フレーム３３ａは、拭き取り部材３３ｂを保持する。また、フレーム３３ａは、駆動源３４に接続され、駆動源３４によって浄水膜３２に対して移動する。

【0018】

拭き取り部材３３ｂは、例えば、浄水膜３２を挟み込み、もしくは包み、上下または左右等に動かすことで膜表面の拭き取りを行う。例えば、拭き取り部材３３ｂが浄水膜３２に接触した状態で、浄水膜３２を処理水が通過可能に、前記拭き取り部材３３ｂは、処理水を通過可能に形成される。具体例として、拭き取り部材３３ｂは、浄水膜３２に接触した状態で、浄水膜３２を通過する原水または処理水の流れを阻害しない形状、または、材料により形成される。拭き取り部材３３ｂは、例えば、スポンジ状や海綿体状である。例えば、拭き取り部材３３ｂは、柔軟性のある多孔物質である。なお、拭き取り部材３３ｂは、刷毛状等に形成されてもよい。

【0019】

例えば、拭き取り部材３３ｂは、フレーム３３ａに対して、着脱可能に形成される。換言すると、拭き取り部材３３ｂの拭き取り効果の維持を目的として、洗浄や取り換えが可能に形成される。

【0020】

拭き取り部材３３ｂは、浄水膜３２との接触、摩擦により浄水膜３２へダメージを与える可能性を考慮し、浄水膜３２に過大な力がかからない配置や拭き取りにおける移動制御とするのが望ましい。

【0021】

駆動源３４は、例えば、浄水膜３２のろ過を阻害しない待機位置、及び、浄水膜３２の拭き取りを行う拭き取り位置の間で、浄水膜３２に対して拭き取り機器３３を移動させる。例えば、ろ過時においては、駆動源３４は、浄水膜３２のろ過を阻害しない浄水膜３２の上部等において、拭き取り機器３３を停止させる。駆動源３４は、例えば、モータである。

【0022】

例えば、拭き取り部材３３ｂの待機位置は、ろ過槽３１内としてもよく、また、ろ過槽３１外としてもよい。例えば、ろ過槽３１内を待機位置とすれば、ろ過槽３１等の構成が比較的簡易となり、ろ過槽３１外を待機位置とすれば、待機位置にあるときに、拭き取り部材３３ｂのメンテナンスや交換が容易となる。

【0023】

原水タンク１２は、ろ過槽３１で処理する被処理水である原水を貯留する。原水ポンプ１３は、原水タンク１２の原水をろ過槽３１内の浄水膜３２へ供給する。原水ポンプ１３は、モータ１３ａを有する。

【0024】

ろ過ポンプ１４は、ろ過処理時に駆動される。ろ過ポンプ１４は、ろ過槽３１内の水を吸い込み、これにより、浄水膜３２で原水を膜処理し、処理した処理水を処理水タンク１５に供給する。ろ過ポンプ１４は、逆流洗浄時は停止し、膜処理を停止する。ろ過ポンプ１４は、モータ１４ａを有する。

【0025】

処理水タンク１５は、浄水膜３２により処理され、ろ過ポンプ１４により供給された処理水を貯留する。

【0026】

逆洗ポンプ１６は、逆流洗浄時に駆動される。逆洗ポンプ１６は、処理水タンク１５の水をろ過槽３１の浄水膜３２に供給する。即ち、逆洗ポンプ１６により供給される処理水は、膜処理時とは逆方向に流れる。逆洗ポンプ１６は、モータ１６ａを有する。

【0027】

ドレン１７は、ろ過槽３１内の水を排出する。ろ過処理を継続すると、ろ過槽３１内の原水側に不純物が濃縮され、逆流洗浄を行うと、不純物が浄水膜３２から剥離される。ろ過槽３１内の不純物の濃度が高くなると浄水膜３２の膜汚染が促進されるため、定期的にろ過槽３１内の不純物の濃度の高くなった水をドレン１７より系外へ排出する。

【0028】

配管１８は、各構成を流体が流通可能に接続する。例えば、配管１８は、原水用配管５１と、処理水用配管５２と、逆洗用配管５３と、ドレン用配管５４と、を備える。

【0029】

原水用配管５１は、原水タンク１２及びろ過槽３１を接続する。原水用配管５１には、原水ポンプ１３が設けられる。

【0030】

処理水用配管５２は、ろ過槽３１及び処理水タンク１５を接続する。処理水用配管５２には、ろ過ポンプ１４が設けられる。

【0031】

逆洗用配管５３は、ろ過槽３１及び逆洗ポンプ１６を接続する。具体例として、逆洗用配管５３は、ろ過槽３１及びろ過ポンプ１４の間の処理水用配管５２と、処理水タンク１５とを接続する。逆洗用配管５３には、逆洗ポンプ１６が設けられる。

【0032】

ドレン用配管５４は、ろ過槽３１及びドレン１７を接続する。

【0033】

ここで、原水用配管５１及びドレン用配管５４は、ろ過槽３１内の原水側の室に、換言すると、浄水膜３２の外側（一次側）に接続される。また、配管１８のうち、処理水用配管５２及び逆洗用配管５３は、ろ過槽３１内の処理水側の室に、換言すると、浄水膜３２の内側（二次側）に接続される。

【0034】

開閉弁１９は、各配管５１～５４にそれぞれ設けられる。開閉弁１９は、例えば、コントローラ２０によって開閉される電磁開閉弁である。複数の開閉弁１９は、例えば、原水用配管５１に設けられる原水用開閉弁６１と、処理水用配管５２に設けられるろ過用開閉弁６２と、逆洗用配管５３に設けられる逆洗用開閉弁６３と、ドレン用配管５４に設けられるドレン用開閉弁６４と、である。

【0035】

原水用開閉弁６１は、例えば、原水用配管５１の原水ポンプ１３及びろ過槽３１の間に配置される。ろ過用開閉弁６２は、例えば、処理水用配管５２の、ろ過槽３１及びろ過ポンプ１４の間に設けられる。また、ろ過用開閉弁６２は、原水用配管５１の逆洗用配管５３が設けられる部位よりも二次側（ろ過ポンプ１４側）に設けられる。

【0036】

コントローラ２０は、例えば、ろ過運転として、一定時間（T）の間、原水ポンプ１３及びろ過ポンプ１４に運転指令を出し、浄水膜３２で膜処理を行う。コントローラ２０は、ろ過運転時に、原水用開閉弁６１及びろ過用開閉弁６２を開状態とし、逆洗用開閉弁６３及びドレン用開閉弁６４を閉状態とする。

【0037】

また、ろ過処理を継続すると、ろ過槽３１内の原水側の室に不純物が濃縮され、浄水膜３２の汚染が促進されるため、コントローラ２０は、ろ過運転時に、所定の時間経過後、定期的に、ドレン用開閉弁６４を開状態とする。コントローラ２０は、定期的に、所定の時間の間、ドレン用開閉弁６４を開状態とし、ろ過槽３１の原水側の室内の不純物の濃度の高くなった水をドレン１７より系外へ排出する。

【0038】

コントローラ２０は、ろ過運転を一定時間（T）行った後、逆流洗浄運転として、原水ポンプ１３及びろ過ポンプ１４を停止し、一定時間（t）の間、逆洗ポンプ１６に運転指令を出す。また、コントローラ２０は、逆流洗浄運転時に、拭き取り機器３３に移動指令、例えば、上下指令を出し、拭き取り位置で拭き取り機器３３で浄水膜３２を拭き取る。即ち、コントローラ２０は、逆流洗浄時において、拭き取り機器３３を駆動し、浄水膜３２の表面を拭き取り部材３３ｂが触れるよう移動させて、浄水膜３２の表面の拭き取りを行う。コントローラ２０は、逆流洗浄時に、原水用開閉弁６１及びろ過用開閉弁６２を閉状態とし、逆洗用開閉弁６３及びドレン用開閉弁６４を開状態とする。

【0039】

また、コントローラ２０は、逆流洗浄運転終了後、逆洗ポンプ１６及び駆動源３４に停止指令を出し、逆洗ポンプ１６を停止し、拭き取り機器３３を待機置に移動させて停止する。

【0040】

これらのように、コントローラ２０は、時間によってろ過及び物理洗浄を切り替え、一定時間（T）のろ過、一定時間（t）の物理洗浄、を繰り返し行う。

【0041】

例えば、このようなコントローラ２０は、例えば、通信部７１、入力部７２、インターフェース７３、表示部７４、設定部７５、メモリ７６、プロセッサ７７及び可変速駆動制御部７８を備える。なお、コントローラ２０は、一例として、全ての構成を筐内に実装してもよく、また他の例として、可変速駆動制御部７８を各モータのモータケーシングに設け、その他の構成を筐体内に設ける構成であってもよい。

【0042】

通信部７１は、プロセッサ７７により制御され、無線通信技術を用いて、通信端末などの外部装置と通信可能な任意の通信インターフェースである。例えば、外部装置としては、管理サーバ、プログラマブルコントローラ、情報処理や入力処理を行う処理端末等である。通信部７１は、例えば、通信モジュール又は通信基板等として実装されていてもよい。通信モジュールは、例えばコネクタを介してコントローラ２０の制御基板に着脱自在に設けられてもよい。具体的には、通信部７１は、例えば、Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ（登録商標）（例えば、Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈｅ Ｌｏｗ Ｅｎｅｒｇｙの規格（以下、ＢＬＥ規格ともいう））、Ｗｉ－Ｆｉ（登録商標）、ＮＦＣ（Near Field Communication）等の近距離無線通信技術、及び、ＬＴＥ（Long Term Evolution）（登録商標）等の携帯電話回線を含めた汎用無線通信技術やｓｉｇｆｏｘ（登録商標）等の専用無線通信技術等を含む遠距離無線通信技術等の無線通信技術を用いて、通信端末等の外部装置に接続できる。

【0043】

入力部７２は、例えば、ボタンを含む操作パネル、タッチパネル、キーボード、マウス、等のユーザ入力を受け付ける装置と、圧力センサ、マイクロフォン、カメラなどのセンサとの、少なくともいずれかを有する。入力部７２は、パラメータ設定、各運転モードの設定等の任意のユーザからの指令であるユーザ入力を受け付ける装置である。

【0044】

インターフェース７３は、例えば、駆動源３４及び各開閉弁６１～６４が電気的に接続可能な端子または回路である。例えば、ろ過システム１が圧力センサ、流量センサ、温度センサ、水位検出センサ等を備える場合には、インターフェース７３は、これらセンサに接続される。

【0045】

表示部７４は、外部に情報や警報を発報する報知手段（報知部）である。表示部７４は、例えば、液晶ディスプレイ、または有機ＥＬディスプレイなどの表示デバイスを有する。また、表示部７４は、表示デバイスに代えて、又は、表示デバイスに加えて、スピーカ、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）点灯部等を有していても良い。

【0046】

設定部７５は、制御に関するパラメータを設定可能なスイッチ等である。なお、設定部７５を設けず、入力部７２により制御に関するパラメータを設定する構成としてもよい。

【0047】

メモリ７６は、データの読出及び書込が可能な記憶媒体である。メモリ７６は、プロセッサ７７によって使用されるデータ、原水ポンプ１３、ろ過ポンプ１４、逆洗ポンプ１６、駆動源３４の運転データ、各種制御に用いる各種データやプログラム等を格納する。メモリ７６は、ＥＥＰＲＯＭ（Electrically Erasable Programmable Read-Only Memory）（登録商標）、ＲＯＭ（Read only memory）又はＮＡＮＤ型フラッシュメモリ等の不揮発性メモリを含む。また、メモリ７６は、フラッシュメモリを搭載したＳＳＤ（Solid State Drive）を含む。また、メモリ７６は、不揮発性メモリに加え、電源遮断時に消去してもよいデータが展開されるワークエリアを有するＲＡＭを含み得る。

【0048】

プロセッサ７７は、例えば、処理回路とメモリとを含む。プロセッサ７７は、典型的にはマイコンであるが、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＦＰＧＡ（Field Programmable Gate Array）、ＤＳＰ（Digital Signal Processor）、またはその他の汎用または専用のプロセッサなどであってもよい。プロセッサ７７は、例えば、通信制御、表示制御、ポンプ制御などの任意の処理を行う。プロセッサ７７は、例えば、インターフェース７３等を介して、駆動源３４及び各開閉弁６１～６４に接続される。また、プロセッサ７７は、各可変速駆動制御部７８のインバータユニットに接続される。

【0049】

可変速駆動制御部７８は、例えば、制御するポンプと同数設けられる。可変速駆動制御部７８は、原水ポンプ１３、ろ過ポンプ１４及び逆洗ポンプ１６を可変速駆動する。各可変速駆動制御部７８は、原水ポンプ１３のモータ１３ａ、ろ過ポンプ１４のモータ１４ａ、逆洗ポンプ１６のモータ１６ａを制御する。可変速駆動制御部７８は、例えば、パワー素子基板と、コンデンサ基板と、リアクトルと、ノイズフィルタ基板と、制御操作基板と、を備える。可変速駆動制御部７８は、パワー素子基板、コンデンサ基板、リアクトル及びノイズフィルタ基板の各回路や素子等の実装品によって、インバータユニット（インバータ）を構成する。

【0050】

次に、このように構成されたろ過システム１の制御方法の一例を、図５に示す流れ図を用いて説明する。ここで、ろ過システム１の制御方法の一例として、ろ過処理及び物理洗浄処理（逆流洗浄処理）の切り替えを、各処理における経過時間で切り替える例を説明する。

【0051】

まず、コントローラ２０は、ろ過処理を行う（ステップＳＴ１１）。具体例として、プロセッサ７７は、原水用開閉弁６１及びろ過用開閉弁６２を制御して開とし、逆洗用開閉弁６３及びドレン用開閉弁６４を制御して閉とする。また、プロセッサ７７は、原水ポンプ１３及びろ過ポンプ１４を駆動制御する。原水ポンプ１３によりろ過槽３１に供給された原水は、ろ過ポンプ１４により浄水膜３２から処理水側に引き抜かれる。これにより、原水タンク１２内の被処理水である原水が、ろ過槽３１内の浄水膜３２を通過して膜ろ過処理されて、処理水が得られる。そして、処理水は、処理水タンク１５に供給され、処理水タンク１５に貯留される。浄水膜３２には、細孔が開いており、原水(被処理水)を細孔の空いた浄水膜３２に通すことにより、細孔よりサイズの小さい物質（水分子、イオン、一部の溶存有機物等）だけが浄水膜３２を通り抜け、細孔よりサイズの大きい物質は原水側にとどまる。本実施形態において、浄水膜３２を通り抜けた水を処理水として扱う。

【0052】

また、プロセッサ７７は、ろ過処理開始から一定時間（T）経過したか否かを判定する（ステップＳＴ１２）。具体例として、プロセッサ７７は、ろ過処理を開始したときから計時を開始し、計時した時間が、メモリ７６に記憶された一定時間（T）を超えたか否かを判定する。ろ過処理開始から一定時間（T）が経過していない場合（ステップＳＴ１２のＮＯ）には、プロセッサ７７は、ろ過処理を継続する。

【0053】

ここで、膜ろ過処理の継続により浄水膜３２の表面や浄水膜３２の膜（細孔）内部に懸濁物質や溶存物質等の膜汚染物質（ファウラント）が堆積する。ファウラントの堆積により浄水膜３２のろ過抵抗が増加し、ろ過にかかるエネルギーの増加や処理水質の悪化を招く。一般に、ファウラントの堆積による影響を軽減するため、定期的に浄水膜３２の物理洗浄として、ろ過時と逆方向に比較的清澄な水（一般的にはろ過後の処理水だが、純水等であってもよい)を流す「逆流洗浄」等が行われる。このため、一定時間（T）は、ろ過にかかるエネルギーの増加や処理水質の悪化を招く前の時間であり、浄水膜３２の構成、原水の懸濁物の含有量、原水ポンプ１３及びろ過ポンプ１４による原水（処理水）の流量等の種々の条件に基づいて、あらかじめ設定され、メモリ７６に記憶される。なお、一定時間（T）は、原水の流量等の実際の運転データに基づいてプロセッサ７７が設定する構成としてもよい。

【0054】

ろ過処理開始から一定時間（T）が経過した場合（ステップＳＴ１２のＹＥＳ）には、プロセッサ７７は、ろ過処理を停止し、逆流洗浄処理及び拭き取り洗浄処理を行う（ステップＳＴ１３）。

【0055】

具体例として、プロセッサ７７は、逆流洗浄処理として、ろ過ポンプ１４を停止し、原水用開閉弁６１及びろ過用開閉弁６２を制御して閉とし、逆洗用開閉弁６３及びドレン用開閉弁６４を制御して開とする。また、プロセッサ７７は、逆洗ポンプ１６を駆動制御する。

【0056】

逆洗ポンプ１６により、ろ過槽３１に貯留された処理水が浄水膜３２に供給され、そして、浄水膜３２を通過することで、浄水膜３２に付着したファウラントが浄水膜３２から除去され、ろ過槽３１の原水側に移動する。そして、浄水膜３２から除去されたファウラントを含む水が、ドレン１７から排出される。

【0057】

また、プロセッサ７７は、逆流洗浄処理と併せて、拭き取り洗浄処理として、駆動源３４を駆動制御し、拭き取り部材３３ｂを図２に示す待機位置から図４に示す拭き取り位置に移動するとともに、図４に示すように、拭き取り位置で拭き取り部材３３ｂを移動、例えば、一方向に往復動させる。例えば、プロセッサ７７は、拭き取り機器３３の上下指令を駆動源３４に出力し、拭き取り部材３３ｂを上下移動させて、浄水膜３２の表面を拭き取り部材３３ｂで拭き取る。このとき、逆流洗浄処理により、浄水膜３２の内側から外側に向かって処理水が流れることから、拭き取り部材３３ｂで拭き取られたファウラントが浄水膜３２内に移動することが抑制される。

【0058】

また、プロセッサ７７は、逆流洗浄及び拭き取り洗浄開始から一定時間（t）経過したか否かを判定する（ステップＳＴ１４）。具体例として、プロセッサ７７は、逆流洗浄処理及び拭き取り洗浄処理を開始したときから計時を開始し、計時した時間が、メモリ７６に記憶された一定時間（t）を超えたか否かを判定する。逆流洗浄処理及び拭き取り洗浄処理開始から一定時間（t）が経過していない場合（ステップＳＴ１４のＮＯ）には、プロセッサ７７は、逆流洗浄処理及び拭き取り洗浄処理を継続する。

【0059】

逆流洗浄処理及び拭き取り洗浄処理開始から一定時間（t）が経過した場合（ステップＳＴ１４のＹＥＳ）には、プロセッサ７７は、駆動源３４を制御して、拭き取り機器３３を定位置としての待機位置に移動して停止し（ステップＳＴ１５）、逆洗ポンプ１６を停止する（ステップＳＴ１６）。これらのように、プロセッサ７７は、逆流洗浄処理及び拭き取り洗浄処理を終了し、ステップＳＴ１１に戻り、ろ過処理を行う。

【0060】

このように構成されたろ過システム１は、逆流洗浄処理として、ろ過時と逆方向に比較的清澄な水として、処理水を流すことによって、浄水膜３２の内部や浄水膜３２の表面に堆積したファウラントの剥離・除去を行うことができる。また、ろ過システム１は、逆流洗浄時にスポンジ等の拭き取り部材３３ｂで浄水膜３２を挟み込み、もしくは包み、上下または左右等に動かすことにより、拭き取り部材３３ｂで浄水膜３２の表面の拭き取りを行う拭き取り洗浄処理を行う。これら逆流洗浄処理及び拭き取り洗浄処理によって、浄水膜３２のファウラントの剥離及び除去を効率よく行うことができることから、効果的にろ過性能を回復できる。

【0061】

なお、ファウリングが進行した浄水膜３２の表面を拭き取り部材３３ｂによって押さえつけることによって、ファウラントが浄水膜３２の内部に侵入し、浄水膜３２の内部のファウリングを進行させる恐れがある。しかしながら、本実施形態のろ過システム１においては、逆流洗浄時と併せて拭き取り洗浄処理を行うことで、浄水膜３２の内側から外側への処理水の流れが生じていることから、拭き取り洗浄においてファウラントが浄水膜３２の内部への侵入を抑えることができる。

【0062】

また、拭き取り部材３３ｂは、浄水膜３２を内側から外側へと通過する処理水の流れを阻害しない形状、または、材料により形成される。このため、逆流洗浄処理と同時に拭き取り洗浄処理を行っても、浄水膜３２の細孔内を通る液体の流れが阻害されることを抑制し、逆流洗浄による洗浄効果を阻害しない。また、拭き取り部材３３ｂをフレーム３３ａに対して着脱可能とすることで、ろ過装置１１は、メンテナンスが容易となる。

【0063】

また、ろ過システム１は、逆流洗浄処理及び拭き取り洗浄処理を行うことで、局所的でなく浄水膜３２の膜表面全体の一律なファウラント除去が可能となり、より効果的なろ過性能の回復が期待できる。またろ過システム１は、物理洗浄時にエネルギー消費の大きい曝気を必要としない。

【0064】

以上説明した第１実施形態によれば、浄水膜３２を逆流洗浄処理及び拭き取り洗浄処理を同時に行うことで、効果的にろ過性能を回復できる。

【0065】

なお、実施形態は上述した構成に限定されない。例えば、上述したろ過システム１では、浄水膜３２の洗浄処理として、逆流洗浄処理及び拭き取り洗浄処理を行う構成を説明したが、さらに、薬液による浄水膜３２の薬品逆流洗浄処理を行う構成としてもよい。また、上述したろ過システム１では、時間によってろ過処理及び物理洗浄処理（逆流洗浄処理及び拭き取り洗浄処理）を切り替える例を説明したがこれに限定されず、例えば、TMP（膜間差圧：Trans-membrane pressure）によりろ過処理及び物理洗浄処理を切り替える構成としてもよい。

【0066】

以下、図６及び図７を用いて、第２実施形態に係る薬液逆流洗浄処理を行うとともに、TMPによりろ過処理及び物理洗浄処理を切り替えるろ過システム１の例を説明する。図６は、第２実施形態に係るろ過システム１Ａの構成を模式的に示す説明図であり、図７は、第２実施形態に係るろ過システム１Ａの制御の一例を示す流れ図である。なお、第２の実施形態に係るろ過システム１Ａの構成のうち、上述した第１の実施形態に係るろ過システム１と同様の構成には同様の符号を付し、その詳細な説明は省略する。

【0067】

図６に示すように、ろ過システム１Ａは、ろ過装置１１と、原水タンク１２と、原水ポンプ１３と、ろ過ポンプ１４と、処理水タンク１５と、逆洗ポンプ１６と、ドレン１７と、配管１８と、開閉弁１９と、コントローラ２０と、TMP測定装置２１と、薬品タンク２２と、薬品ポンプ２３と、を備える。

【0068】

配管１８は、薬品タンク２２、薬品ポンプ２３及び逆洗用配管５３を接続する薬品用配管５５をさらに備える。薬品用配管５５は、逆洗ポンプ１６及び逆洗用開閉弁６３の間に接続される。

【0069】

複数の開閉弁１９は、薬品用配管５５に設けられる薬品用開閉弁６５をさらに有する。薬品用開閉弁６５は、薬品ポンプ２３及び逆洗用配管５３の間に配置される。

【0070】

TMP測定装置２１は、ろ過処理時、及び、物理洗浄後のTMP（膜間差圧）を継続的に測定し、測定した膜間差圧値に対応する信号をコントローラ２０に出力する。なお、TMP測定装置２１は、浄水膜３２の一次側及び二次側の圧力を測定することで、膜間差圧値を求める構成であってもよい。

【0071】

薬品タンク２２は、薬品逆流洗浄において処理水に添加する薬品を貯めるタンクである。ここで、薬品は、例えば次亜塩素酸ナトリウムやクエン酸等である。

【0072】

薬品ポンプ２３は、薬品タンク２２内の薬品を所定の添加量だけ、処理水に添加する。例えば、薬品ポンプ２３は、コントローラ２０より、逆洗用配管５３を流れる処理水に対する薬品の濃度が所定の濃度となるように駆動制御される。

【0073】

このようなろ過システム１Ａのコントローラ２０は、例えば、プロセッサ７７により、ろ過処理時において、TMP測定装置２１からの入力信号により現在のTMPとメモリ７６に記憶された目標TMPを比較し、目標TMPが実測値であるTMPよりも大きい間、ろ過ポンプ１４に運転指令を出し、ろ過ポンプ１４を駆動制御する。また、プロセッサ７７は、目標TMPよりも実測値であるTMPが大きくなると、ろ過ポンプ１４に停止指令を出し、そして、逆洗ポンプ１６運転指令を出し、逆流洗浄処理を一定時間（t）の間行う。また、プロセッサ７７は、逆流洗浄処理時に、駆動源３４に移動指令（上下指令）を行い、駆動源３４を駆動制御し、拭き取り機器３３を待機位置から拭き取り位置に移動させるとともに、拭き取り位置において、拭き取り部材３３ｂを移動させて、浄水膜３２の拭き取り洗浄処理を行う。

【0074】

プロセッサ７７は、逆流洗浄処理及び拭き取り洗浄処理を一定時間（t）の間行った後、TMP測定装置２１から入力された信号（TMPの実測値）が一定値以内であれば逆洗ポンプ１６に停止指令を行うとともに、駆動源３４を制御して拭き取り機器３３を待機位置に移動させる。そして、プロセッサ７７は、ろ過ポンプ１４に運転指令を出してろ過処理を行う。

【0075】

プロセッサ７７は、逆流洗浄処理及び拭き取り洗浄処理を一定時間（t）の間行った後、TMP測定装置２１から入力された信号（TMPの実測値）が一定値よりも大きい場合には、逆洗ポンプ１６の駆動を継続するとともに、薬品ポンプ２３に運転指令を出し、一定時間（t’）薬品を処理水に添加した薬品逆流洗浄処理を行う。薬品ポンプ２３に運転指令を出した際は、プロセッサ７７は、一定時間（t’）後に薬品ポンプ２３の停止指令及び逆洗ポンプ１６の停止指令を行い、ろ過ポンプ１４の運転指令を出す。なお、プロセッサ７７は、逆洗ポンプ１６の停止指令を行い、及び／又は、ろ過ポンプ１４の運転指令を出すときに、ドレン用開閉弁６４を制御して開とすることで、ろ過槽３１内や処理水用配管５２内の薬品が混合した水をドレン１７より系外へ排出する。

【0076】

次に、このように構成された、ろ過システム１Ａの制御方法の一例を、図７に示す流れ図を用いて説明する。ここで、ろ過システム１Ａの制御方法の一例として、ろ過処理及び物理洗浄処理（逆流洗浄処理）の切り替えを、TMPに基づいて切り替え、そして、逆流洗浄処理、拭き取り洗浄処理及び薬品添加逆流洗浄処理の停止を経過時間で切り替える例を説明する。

【0077】

まず、コントローラ２０は、ステップＳＴ１１と同様に、ろ過処理を行う（ステップＳＴ２１）。また、プロセッサ７７は、TMP測定装置２１で測定したTMP（実測値）とメモリ７６に記憶された目標TMPから、浄水膜３２の表面や内部に懸濁物等のファウラントが堆積したか否かを判定する（ステップＳＴ２２）。即ち、膜ろ過処理の継続により浄水膜３２の表面や内部に懸濁物等の膜汚染物質（ファウラント）が堆積すると、ファウラントの堆積によりろ過抵抗が増加し、TMPが上昇する。このため、プロセッサ７７は、TMPの変化によって、ろ過処理の継続時間に関係なく、目標とするTMPの値を超えた時点で物理洗浄に切り替える。

【0078】

TMP測定装置２１で測定したTMP（実測値）が目標TMPの範囲内である場合（ステップＳＴ２２のＮＯ）には、プロセッサ７７は、ろ過処理を継続する。TMP測定装置２１で測定したTMP（実測値）が目標TMPを超えた場合（ステップＳＴ２２のＹＥＳ）には、プロセッサ７７は、ステップＳＴ１３と同様に、ろ過処理を停止し、逆流洗浄処理及び拭き取り洗浄処理を行う（ステップＳＴ２３）。

【0079】

また、プロセッサ７７は、ステップＳＴ１４と同様に、逆流洗浄及び拭き取り洗浄開始から一定時間（t）経過したか否かを判定する（ステップＳＴ２４）。逆流洗浄処理及び拭き取り洗浄処理開始から一定時間（t）が経過していない場合（ステップＳＴ２４のＮＯ）には、プロセッサ７７は、逆流洗浄処理及び拭き取り洗浄処理を継続する。

【0080】

逆流洗浄処理及び拭き取り洗浄処理開始から一定時間（t）が経過した場合（ステップＳＴ２４のＹＥＳ）には、プロセッサ７７は、駆動源３４を制御して、拭き取り機器３３を定位置としての待機位置に移動して停止し（ステップＳＴ２５）、逆流洗浄処理及び拭き取り洗浄処理後のTMP測定装置２１で測定したTMP（実測値）がメモリ７６に記憶された目標TMP以上であるか否かを判定する（ステップＳＴ２６）。即ち、プロセッサ７７は、ステップＳＴ２６において、逆流洗浄処理及び拭き取り洗浄処理によって、浄水膜３２の表面や内部に堆積した懸濁物等のファウラントが除去できたか否かを判定する。

【0081】

TMP測定装置２１で測定したTMP（実測値）が目標TMPの範囲内である場合（ステップＳＴ２６のＮＯ）には、十分な洗浄効果があったと判断し、プロセッサ７７は、ステップＳＴ２１に戻り、ろ過処理を行う。TMP測定装置２１で測定したTMP（実測値）が目標TMP以上である場合（ステップＳＴ２６のＹＥＳ）には、物理洗浄では除去しきれないファウラントの堆積が深刻であると判断し、プロセッサ７７は、逆流洗浄よりも強力な薬品による膜洗浄である薬品逆流洗浄を行う（ステップＳＴ２７）。

【0082】

具体例として、プロセッサ７７は、薬品ポンプ２３を駆動するとともに、薬品用開閉弁６５を開き、所定量の薬品を、逆洗用配管５３内を流れる処理水に添加し、薬品が添加された処理水で逆流洗浄を行う。なお、薬品を用いた浄水膜３２の洗浄は、薬品自体のコスト増加だけでなく、特に浄水膜３２に有機膜を用いる場合には、浄水膜３２にダメージを与えるため、頻繁に行うと浄水膜３２の寿命に影響し、膜交換によるランニングコストの増加を招く。そのため本実施形態の例では、ステップＳＴ２６及びステップＳＴ２７のように、薬品を用いた洗浄は、深刻な膜汚染により物理洗浄のみでは十分な洗浄効果が得られないと判断した場合に行う。

【0083】

また、プロセッサ７７は、薬品逆流洗浄開始から一定時間（t’）経過したか否かを判定する（ステップＳＴ２８）。逆流洗浄処理及び拭き取り洗浄処理開始から一定時間（t’）が経過していない場合（ステップＳＴ２８のＮＯ）には、プロセッサ７７は、薬品逆流洗浄処理を継続する。

【0084】

薬品逆流洗浄処理開始から一定時間（t’）が経過した場合（ステップＳＴ２８のＹＥＳ）には、プロセッサ７７は、薬品ポンプ２３に停止指令を行い、薬品ポンプ２３を停止する（ステップＳＴ２９）。また、ドレン１７から薬品が添加された水を排出した後、プロセッサ７７は、逆洗ポンプ１６を停止し、ステップＳＴ２１に戻り、ろ過処理を行う。

【0085】

このように構成されたろ過システム１Ａは、上述したろ過システム１と同様の効果を奏するとともに、逆流洗浄処理及び拭き取り洗浄処理でファウラントを除去しきれないときに、薬液を添加して浄水膜３２を洗浄する薬液逆流洗浄処理を行う。これにより、逆洗処理よりも強力に、浄水膜３２に堆積したファウラントを除去することができる。

【0086】

また、逆流洗浄処理及び拭き取り洗浄処理後に、薬液逆流洗浄処理を行うかをプロセッサ７７が判定することで、浄水膜３２の寿命が低下することを極力抑制できる。

【0087】

また、TMP測定装置２１で測定したTMPによって、逆流洗浄処理、拭き取り洗浄処理及び薬品逆流洗浄処理を行うか否かを判定することで、時間によらず、浄水膜３２の状態に基づいて浄水膜３２のろ過性能を回復することができる。

【0088】

以上説明した第２実施形態によれば、浄水膜３２に逆流洗浄処理及び拭き取り洗浄処理を同時に行うとともに、逆流洗浄処理、拭き取り洗浄処理及び薬品逆流洗浄処理を選択的に行うことで、効果的にろ過性能を回復できる。

【0089】

なお、実施形態は上述した複数の構成に限定されない。例えば、上述した第２の実施形態においては、TMP測定装置２１で測定したTMPによって、逆流洗浄処理、拭き取り洗浄処理及び薬品逆流洗浄処理を行うか否かを判定し、そして、経過時間によって、逆流洗浄処理、拭き取り洗浄処理及び薬品逆流洗浄処理の停止を判定する例を説明した。しかしながら、ろ過システムは、経過時間によらず、TMPによって逆流洗浄処理、拭き取り洗浄処理及び薬品逆流洗浄処理の停止を判定してもよく、また、薬液添加逆洗をTMPによらず、逆流洗浄及び拭き取り洗浄の回数によって実施する構成としてもよい。

【0090】

また、上述したろ過システム１、１Ａは、各種運転データを、管理サーバ、プログラマブルコントローラ、情報処理や入力処理を行う処理端末等の外部装置に送信する例を説明した。ここで、ろ過システム１、１Ａは、逆流洗浄、拭き取り洗浄及び／又は薬液逆流洗浄の回数を運転データとして外部装置に送信してもよい。また、ろ過システム１Ａは、薬液逆流洗浄処理後として、ステップＳＴ２８の後に、TMP測定装置２１で測定したTMP（実測値）及び目標TMPを比較し、TMP測定装置２１で測定したTMP（実測値）が目標TMP以上である場合に、表示部７４において警報を発報するとともに、通信部７１から警報を外部装置に送信する構成としてもよい。このように警報を外部に送信することで、管理システムとして、遠隔地等においても、メンテナンス情報等を取得可能となる。

【0091】

また、ろ過システム１Ａは、ステップＳＴ２６及びステップＳＴ２７の間に、複数回、逆流洗浄及び拭き取り洗浄をリトライして、浄水膜３２のファウラントの除去を行い、浄水膜３２が回復させる制御を行ってもよい。例えば、このような構成とする場合には、ステップＳＴ２６のＹＥＳとして、逆流洗浄処理及び拭き取り洗浄処理後にTMP測定装置２１で測定したTMP（実測値）が目標TMP以上である場合に、プロセッサ７７は、ステップＳＴ２３に戻り、TMP測定装置２１で測定したTMP（実測値）が目標TMPの範囲内となるまで、所定の回数ｎだけ、逆流洗浄処理及び拭き取り洗浄処理を繰り返す。そして、所定の回数ｎだけ逆流洗浄処理及び拭き取り洗浄処理を繰り返しても、TMP（実測値）が目標TMP以上である場合に、プロセッサ７７は、ステップＳＴ２７へと進み、薬品を処理水に添加して、薬品逆流洗浄処理を行う構成とすればよい。

【0092】

また、例えば、図８に示す他の実施形態に係るろ過システム１Ｂのように、ろ過槽３１の二次側に、ドレン１７に接続されるドレン用配管５６及びドレン用開閉弁６６をさらに備える構成としてもよい。例えば、ろ過槽３１の二次側にさらにドレン用配管５６及びドレン用開閉弁６６を設けることで、逆流洗浄や薬品逆流洗浄において、ろ過槽３１の処理水側の室、浄水膜３２の内部及び処理水用配管５２等の浄水膜３２の二次側にファウラントが含まれる処理水や薬品が含まれる処理水が残存することを防止できる。このようなドレン用配管５６は、例えば、処理水用配管５２であって、ろ過槽３１と、ろ過用開閉弁６２及び逆洗用配管５３と、の間に接続される。

【0093】

また、上述したろ過システム１は、浄水に用いる例を説明したがこれに限定されない。即ち、膜を用いて水をろ過する構成であって、且つ、膜を逆流洗浄及び拭き取り洗浄を行うことが可能なろ過システムであれば、ろ過システムの使用方法は限定されない。

【0094】

以上説明したいずれかの実施形態によれば、膜に逆流洗浄処理及び拭き取り洗浄処理を同時に行うことで、効果的にろ過性能を回復できる。

【0095】

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

【符号の説明】

【0096】

１、１Ａ、１Ｂ…ろ過システム、１１…ろ過装置、１２…原水タンク、１３…原水ポンプ、１３ａ…モータ、１４…ろ過ポンプ、１４ａ…モータ、１５…処理水タンク、１６…逆洗ポンプ、１６ａ…モータ、１７…ドレン、１８…配管、１９…開閉弁、２０…コントローラ、２１…TMP測定装置、２２…薬品タンク、２３…薬品ポンプ、３１…ろ過槽、３１ａ…配管、３２…浄水膜、３３…拭き取り機器、３３ａ…フレーム、３３ｂ…拭き取り部材、３４…駆動源、５１…原水用配管、５２…処理水用配管、５３…逆洗用配管、５４…ドレン用配管、５５…薬品用配管、５６…ドレン用配管、６１…原水用開閉弁、６２…ろ過用開閉弁、６３…逆洗用開閉弁、６４…ドレン用開閉弁、６５…薬品用開閉弁、６６…ドレン用開閉弁、７１…通信部、７２…入力部、７３…インターフェース、７４…表示部、７５…設定部、７６…メモリ、７７…プロセッサ、７８…可変速駆動制御部。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】