(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023142214
(43)【公開日】2023-10-05
(54)【発明の名称】光学装置、露光装置および露光方法
(51)【国際特許分類】
G03F 7/20 20060101AFI20230928BHJP
G02B 5/04 20060101ALI20230928BHJP
【ＦＩ】
G03F7/20 505
G03F7/20 521
G02B5/04 Z
【審査請求】未請求
【請求項の数】9
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022048979
(22)【出願日】2022-03-24
(71)【出願人】
【識別番号】000207551
【氏名又は名称】株式会社ＳＣＲＥＥＮホールディングス
(74)【代理人】
【識別番号】100105935
【弁理士】
【氏名又は名称】振角 正一
(74)【代理人】
【識別番号】100136836
【弁理士】
【氏名又は名称】大西 一正
(72)【発明者】
【氏名】西村 辰彦
(72)【発明者】
【氏名】藤澤 泰充
【テーマコード（参考）】
2H042
2H197
【Ｆターム（参考）】
2H042CA00
2H042CA12
2H042CA17
2H197AA22
2H197BA02
2H197BA03
2H197BA06
2H197BA09
2H197CA07
2H197CB16
2H197CB18
2H197CC05
2H197CC16
2H197CD12
2H197CD41
2H197DB05
2H197DB10
2H197DB11
2H197DB23
2H197HA02
2H197HA03
2H197HA04
(57)【要約】
【課題】光の進路をシフトさせる技術において、簡単な構成でありながら、非点隔差の増大を抑えつつシフト量の調整を行うことができる技術を提供する。
【解決手段】本発明は、入力光の進路をシフトさせて、入力光の光路と平行であって同一でない光路に沿った出力光を出力する光学装置であって、入力光の入射角が、出射光の偏角が最小となる角度に設定された第１ウェッジプリズムと、頂角が第１ウェッジプリズムと略同一であり、第１ウェッジプリズムとは逆向きに対向配置された第２ウェッジプリズムと、第１ウェッジプリズムと第２ウェッジプリズムとを支持し、それらの間の距離を変化させてシフト量を調整するシフト量調整機構と、入力光の光路または出力光の光路に配置されて出力光に現れる非点隔差を補正する補正光学素子とを備える。
【選択図】図３
【解決手段】本発明は、入力光の進路をシフトさせて、入力光の光路と平行であって同一でない光路に沿った出力光を出力する光学装置であって、入力光の入射角が、出射光の偏角が最小となる角度に設定された第１ウェッジプリズムと、頂角が第１ウェッジプリズムと略同一であり、第１ウェッジプリズムとは逆向きに対向配置された第２ウェッジプリズムと、第１ウェッジプリズムと第２ウェッジプリズムとを支持し、それらの間の距離を変化させてシフト量を調整するシフト量調整機構と、入力光の光路または出力光の光路に配置されて出力光に現れる非点隔差を補正する補正光学素子とを備える。
【選択図】図３
【特許請求の範囲】
【請求項1】
入力光の進路をシフトさせて、前記入力光の光路と平行であって同一でない光路に沿った出力光を出力する光学装置であって、
前記入力光の入射角が、出射光の偏角が最小となる角度に設定された第１ウェッジプリズムと、
頂角が前記第１ウェッジプリズムと略同一であり、前記第１ウェッジプリズムとは逆向きに対向配置されて、前記第１ウェッジプリズムに対向する面とは反対側の面から前記出力光を出射する第２ウェッジプリズムと、
前記第１ウェッジプリズムと前記第２ウェッジプリズムとを支持し、それらの間の距離を変化させてシフト量を調整するシフト量調整機構と、
前記入力光の光路または前記出力光の光路に配置されて前記出力光に現れる非点隔差を補正する補正光学素子と
を備える、光学装置。
前記入力光の入射角が、出射光の偏角が最小となる角度に設定された第１ウェッジプリズムと、
頂角が前記第１ウェッジプリズムと略同一であり、前記第１ウェッジプリズムとは逆向きに対向配置されて、前記第１ウェッジプリズムに対向する面とは反対側の面から前記出力光を出射する第２ウェッジプリズムと、
前記第１ウェッジプリズムと前記第２ウェッジプリズムとを支持し、それらの間の距離を変化させてシフト量を調整するシフト量調整機構と、
前記入力光の光路または前記出力光の光路に配置されて前記出力光に現れる非点隔差を補正する補正光学素子と
を備える、光学装置。
【請求項2】
前記入力光の入射方向に垂直かつ前記入力光に対する前記出力光のシフト方向と平行な方向を第１方向とし、前記入射方向および前記第１方向に垂直な方向を第２方向とするとき、
前記補正光学素子は、前記第１方向と前記第２方向との間で非点収差を生じさせる光学素子である、請求項１に記載の光学装置。
前記補正光学素子は、前記第１方向と前記第２方向との間で非点収差を生じさせる光学素子である、請求項１に記載の光学装置。
【請求項3】
前記補正光学素子は、前記第１方向と前記第２方向とで焦点距離が異なるレンズである、請求項２に記載の光学装置。
【請求項4】
前記補正光学素子を前記光路に沿った方向に移動させることで前記非点隔差の補正量を調整する補正量調整機構を備える、請求項３に記載の光学装置。
【請求項5】
前記補正光学素子は、前記第１方向を含む断面と前記第２方向を含む断面とで曲率を変化させる曲率可変ミラーである、請求項２に記載の光学装置。
【請求項6】
前記補正光学素子は、主面の法線ベクトルが前記第１方向および前記第２方向のいずれか一方の成分を有するように、前記光路に対して傾けられた平行平面平板である、請求項２に記載の光学装置。
【請求項7】
前記補正光学素子の傾きを変化させることで前記非点隔差の補正量を調整する補正量調整機構を備える、請求項６に記載の光学装置。
【請求項8】
処理対象の基板を支持するステージと、
所定の露光データに基づき光ビームを変調し、変調された前記光ビームを請求項１ないし７のいずれかに記載の光学装置を介して前記基板の表面に入射させる露光部と、
前記ステージと前記露光部とを相対移動させる移動機構と
を備える、露光装置。
所定の露光データに基づき光ビームを変調し、変調された前記光ビームを請求項１ないし７のいずれかに記載の光学装置を介して前記基板の表面に入射させる露光部と、
前記ステージと前記露光部とを相対移動させる移動機構と
を備える、露光装置。
【請求項9】
所定の露光データに基づき変調した光ビームを基板の表面に入射させて前記基板を露光する露光方法であって、
前記光ビームの光路上に請求項４または７に記載の光学装置を配置し、
予め前記補正量調整機構を作動させて、前記出力光に現れる非点隔差が最小となるように前記補正量を最適化しておき、
前記シフト量調整機構を作動させて前記シフト量を変化させる際、前記補正量調整機構による前記補正量を変化させない、露光方法。
前記光ビームの光路上に請求項４または７に記載の光学装置を配置し、
予め前記補正量調整機構を作動させて、前記出力光に現れる非点隔差が最小となるように前記補正量を最適化しておき、
前記シフト量調整機構を作動させて前記シフト量を変化させる際、前記補正量調整機構による前記補正量を変化させない、露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
この発明は、例えばプリント配線基板やガラス基板等の基板にパターンを描画するために基板を露光する技術に適用可能な光学装置に関する。
【背景技術】
【0002】
半導体基板、プリント配線基板、ガラス基板等の各種基板に配線パターン等のパターンを形成する技術として、基板表面に形成された感光層に、描画データに応じて変調された光ビームを入射し、感光層を露光させるものがある。この種の技術においては、基板の歪みや変形等に適合させつつ適正な位置に描画を行うために、基板に対する光ビームの入射位置をシフトさせる手段が光路上に設けられる。
【0003】
例えば特許文献１に記載の技術では、互いに逆向きに対向配置された１対のウェッジプリズムが光路上に配置されている。そして、ウェッジプリズム間の距離を変化させることにより、通過する光ビームが像面に形成する像の位置のシフトが実現されている。この技術では、プリズム間の距離が基準値であるときに非点隔差がほぼゼロとなるように、プリズムに対する光の入射角が設定されている。このときプリズム間の距離の変化に伴い非点隔差が増大するという問題に対しては、ウェッジプリズム対を回動させて光の入射角を変化させるという解決方法が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開２００９－２４４４４６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
上記従来技術では、非点隔差を増大させることなくシフト量を変更するためには、プリズム間の距離の変更に応じてプリズム対を回転させる必要がある。特に、回動運動を実現する必要があるという点において、ウェッジプリズム対を支持し移動させるための機構が複雑になる。また、シフト量変更処理の高速化を図る上でも、支持および調整のための機構は簡潔なものであることが望ましい。例えば、シフト量の変更をプリズム間の距離の変更だけで完結させることができればより望ましい。これらの点において、上記従来技術には改善の余地が残されている。
【0006】
この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、光の進路をシフトさせる技術において、簡単な構成でありながら、非点隔差の増大を抑えつつシフト量の調整を行うことができる技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明の一の態様は、入力光の進路をシフトさせて、前記入力光の光路と平行であって同一でない光路に沿った出力光を出力する光学装置であって、前記入力光の入射角が、出射光の偏角が最小となる角度に設定された第１ウェッジプリズムと、頂角が前記第１ウェッジプリズムと略同一であり、前記第１ウェッジプリズムとは逆向きに対向配置されて、前記第１ウェッジプリズムに対向する面とは反対側の面から前記出力光を出射する第２ウェッジプリズムと、前記第１ウェッジプリズムと前記第２ウェッジプリズムとを支持し、それらの間の距離を変化させてシフト量を調整するシフト量調整機構と、前記入力光の光路または前記出力光の光路に配置されて前記出力光に現れる非点隔差を補正する補正光学素子とを備える、光学装置である。
【0008】
このように構成された発明では、特許文献１に記載の技術と同様に、２つのウェッジプリズムを組み合わせたウェッジプリズム対により光路のシフトを実現し、ウェッジプリズム間の距離を変化させることでシフト量を調整する。ただし、入力光が入射する第１ウェッジプリズムにおいて、その入射角は、特許文献１に記載のように非点隔差が最小となる値ではなく、偏角が最小となる値に設定される。このとき、特許文献１にも記載されているように、ウェッジプリズム間の距離によらず非点隔差の大きさはほぼ一定となる。一方で、そのとき無視できない大きさの非点隔差が残留する。
【0009】
そこで、この発明では、光路上に非点隔差を補正するための補正光学素子が別途設けられる。具体的には、例えば、ウェッジプリズム対により生じる非点収差を相殺するような非点収差を生じさせる光学素子を光路上に配置することにより、非点隔差の補正を行うことができる。
【0010】
こうして補正が実現されていれば、シフト量を変更すべくウェッジプリズム間の距離を変化させても非点隔差が補正された状態は維持される。つまり、シフト量に応じて非点隔差の補正量を変化させる必要はない。これにより、ウェッジプリズム対を支持する機構については、ウェッジプリズム間の距離を変化させる直動運動が実現されていれば足りる。このため、比較的簡単な構成を採用することが可能である。また、シフト量の変化に合わせてウェッジプリズム対を回動させる必要もないので、シフト量を調整するための処理の高速化を図ることが可能である。
【0011】
また、この発明の他の一の態様は、処理対象の基板を支持するステージと、所定の露光データに基づき光ビームを変調し、変調された前記光ビームを上記の光学装置を介して前記基板の表面に入射させる露光部と、前記ステージと前記露光部とを相対移動させる移動機構とを備える、露光装置である。
【0012】
このように構成された発明では、基板表面を変調された光ビームで露光するのに際して、光ビームの光路に上記した光学装置が設けられる。このため、例えば基板の変形やステージ上における位置ずれ等に対応して光ビームの入射位置を調整する必要がある際に、光学装置による光のシフトを利用することができる。本発明の光学装置は、シフト量によらず非点隔差が小さいため、このような用途に特に好適である。
【0013】
また、この発明の他の一の態様は、所定の露光データに基づき変調した光ビームを基板の表面に入射させて前記基板を露光する露光方法である。この発明において、前記光ビームの光路上に、補正量調整機構を有する上記の光学装置を配置し、予め前記補正量調整機構を作動させて、前記出力光に現れる非点隔差が最小となるように前記補正量を最適化しておく。そうすると、前記シフト量調整機構を作動させて前記シフト量を変化させる際、前記補正量調整機構による前記補正量を変化させる必要がない。
【0014】
このように構成された発明においても、本発明の光学装置を光路上に配置することで、基板に対する光ビームの入射位置を調整することが可能である。そして、予め非点隔差が最小（理想的にはゼロ）となるように調整しておけば、その後にシフト量が変更される場合であっても、非点隔差が増大することはない。また、シフト量の変更はウェッジプリズム間の距離の変更だけで実現することが可能であり、高速の調整処理が可能である。
【発明の効果】
【0015】
上記のように、本発明では、２つのウェッジプリズムで光をシフトさせるのに際して、光の入射角を偏角が最小となる条件に設定し、残留する非点隔差については補正光学素子により補正する。このため、非点隔差を増大させることなくシフト量の変更が可能な光学装置を、比較的簡単な構成により実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【0016】
【図1】露光装置の第１の構成例を模式的に示す図である。
【図2】露光装置の第２の構成例を模式的に示す図である。
【図3】像位置調整装置の構成を示す図である。
【図4】シフト量と非点隔差との関係を示す図である。
【図5】非点隔差の補正量を調整するための装置構成を示す図である。
【図6】補正量の調整のための処理を示すフローチャートである。
【図7】露光動作を示すフローチャートである。
【図8】補正光学素子の変形例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0017】
以下、本発明に係る光学装置の具体的態様について、いくつかの実施形態を示して説明する。ここでは、変調光ビームにより基板を露光して描画する露光装置に本発明に係る光学装置を適用した場合の実施形態について説明する。この露光装置は、レジストなどの感光材料の層が形成された基板に所定のパターンのレーザー光を照射することで、感光材料にパターンを描画する。露光対象となる基板としては、例えばプリント配線基板、各種表示装置用のガラス基板、半導体基板などの各種基板を適用可能である。
【0018】
最初に、本発明に係る光学装置を適用可能な露光装置の２つの構成例について説明し、その後で、これらの露光装置に適用される光学装置の詳細について説明する。
【0019】
＜第１の構成例の露光装置＞
図１は本発明に係る光学装置を含む露光装置の第１の構成例を模式的に示す図である。この露光装置２の基本的構成は、特許文献１に「光学装置２」として記載されたものと同じである。そこで、特許文献１を参照することで理解し得る原理や基本構成等については説明を省略し、可能な限り符号を共通化して、ここでは装置構成の概略について簡単に説明する。
図１は本発明に係る光学装置を含む露光装置の第１の構成例を模式的に示す図である。この露光装置２の基本的構成は、特許文献１に「光学装置２」として記載されたものと同じである。そこで、特許文献１を参照することで理解し得る原理や基本構成等については説明を省略し、可能な限り符号を共通化して、ここでは装置構成の概略について簡単に説明する。
【0020】
以下の説明のために、ＸＹＺ直交座標系を図１に示すように定義する。図１は露光装置２の側面視を示す図であり、水平かつ図１紙面に垂直な方向をＸ方向、これと直交する水平かつ図１紙面に沿った方向をＹ方向とする。また、鉛直下向き方向をＺ方向とする。
【0021】
露光装置２は、可動ステージ２０、露光ヘッド２１および制御部２２を備えている。可動ステージ２０は露光対象の基板９を水平姿勢に保持し、該基板９に対し、露光ヘッド２１が変調光ビームを入射させることにより、基板９に微細なパターンが描画される。制御部２２は予め用意された制御プログラムを実行して装置各部を制御することで、所定の動作を実現する。
【0022】
図示を省略しているが、可動ステージ２０にはステージ駆動機構２０１が連結されている。ステージ駆動機構２０１は、可動ステージ２０をＹ方向に移動させる主走査駆動機構と、Ｘ方向に移動させる副走査駆動機構と、Ｚ方向に移動させる昇降機構とを含んでいる。このような機構の駆動源としては、例えばリニアモーターを使用することができる。これにより、露光装置２は、露光ヘッド２１から出射される露光ビームを基板９の任意の位置に入射させて描画を行うことができる。
【0023】
露光ヘッド２１は、光源２３、照明光学系２４、空間光変調デバイス２５および結像光学系２６を備えている。光源２３は、露光ビームとなる光を照射する、例えばランプである。照明光学系２４は、光源２３から出射された光を空間光変調デバイス２５に導く。空間光変調デバイス２５は、照明光学系２４により導かれた光を所定の描画データに基づき変調して変調光ビームを生成する。
【0024】
照明光学系２４は、ミラー２４０、レンズ２４１、光学フィルタ２４２、ロッドインテグレータ２４３、レンズ２４４およびミラー２４５，２４６等の光学素子を備えている。これらの光学素子の作用により、光源２３からの光はビーム状に成形されて所定の入射角で空間光変調デバイス２５に案内される。
【0025】
空間光変調デバイス２５としては、例えばＤＭＤ（デジタルマイクロミラーデバイス）、回折格子型空間光変調素子等を用いることができる。空間光変調デバイス２５は、入射する光ビームを描画データに基づき変調する。これにより、描画すべきパターンの形状に応じて光ビームが変調される。変調光ビームは結像光学系２６を介して基板９の表面に入射する。
【0026】
結像光学系２６は、第１結像レンズ２６０、ミラー２６１、像位置調整位置１および第２結像レンズ２６２等の光学素子を備え、縮小光学系を構成している。これらの光学素子の作用により、描画すべきパターンの形状に応じた光学像が、基板９の表面に結像する。具体的には、変調光ビームは第１結像レンズ２６０によって一次像（中間像）を形成し、一次像は第２結像レンズ２６２により像面である基板９表面で結像して最終像となる。
【0027】
また、結像光学系２６には、第２結像レンズ２６２をＺ方向に移動させるフォーカス駆動機構（図示省略）が結合されている。制御部４２が該フォーカス駆動機構を作動させることにより、点線矢印で示すように第２結像レンズ２６２が基板９に接近および離間方向に移動する。これにより、第２結像レンズ２６２から出射される光ビームが基板９の表面に収束するように、結像光学系２６のフォーカス調整がなされる。
【0028】
像位置調整装置１は、本発明に係る「光学装置」の一実施形態に相当するものであり、入射する光をＸ軸方向に任意の距離だけシフトさせる機能を有している。本発明に係る光学装置が露光装置２に適用されるとき、像面に結像する像の位置をシフトさせる機能を有することとなり、この意味において像位置調整装置として機能する。この実施形態において、像位置調整装置１は一次像と第２結像レンズ２６２との間に配置されている。その構造および動作については後述する。
【0029】
＜第２の構成例の露光装置＞
図２は本発明に係る光学装置を含む露光装置の第２の構成例を模式的に示す図である。図２においても、図１に準じてＸＹＺ直交座標系を定義する。すなわち、図２は露光装置４の側面視を示す図であり、水平かつ図２紙面に垂直な方向をＸ方向、これと直交する水平かつ図２紙面に沿った方向をＹ方向とする。また、鉛直下向き方向をＺ方向とする。
図２は本発明に係る光学装置を含む露光装置の第２の構成例を模式的に示す図である。図２においても、図１に準じてＸＹＺ直交座標系を定義する。すなわち、図２は露光装置４の側面視を示す図であり、水平かつ図２紙面に垂直な方向をＸ方向、これと直交する水平かつ図２紙面に沿った方向をＹ方向とする。また、鉛直下向き方向をＺ方向とする。
【0030】
図２に示すように、露光装置４は、可動ステージ４０、露光ヘッド４１、制御部４２および光源ユニット４３を備えている。可動ステージ４０は露光対象の基板９を水平姿勢に保持し、ステージ駆動機構４０１によりＸ方向、Ｙ方向およびＺ方向に移動される。該基板９に対し、露光ヘッド４１が変調光ビームを入射させることにより、基板９に微細なパターンが描画される。制御部４２は予め用意された制御プログラムを実行して装置各部を制御することで、所定の動作を実現する。
【0031】
光源ユニット４３は、レーザー光源としての例えばレーザーダイオード４３１と、その出射光を平行光に成形するコリメートレンズを含む照明光学系４３２とを備えており、露光ビームとなるレーザー光ビームを露光ヘッド４１に入射させる。
【0032】
露光ヘッド４１には、回折光学素子４１１を有する空間光変調器４１０が設けられている。具体的には、露光ヘッド４１に上下方向（Ｚ方向）に延設された支柱４００の上部に取り付けられた空間光変調器４１０は、回折光学素子４１１の反射面を下方に向けた状態で、可動ステージ４１２を介して支柱４００に支持されている。
【0033】
露光ヘッド４１において、回折光学素子４１１は、その反射面の法線が入射光ビームの光軸に対して傾斜して配置されており、光源ユニット４３から射出された光は、支柱４００の開口を通してミラー４１３に入射し、ミラー４１３によって反射された後に回折光学素子４１１に照射される。そして、回折光学素子４１１の各チャンネルの状態が露光データに応じて制御部４２によって切り換えられて、回折光学素子４１１に入射したレーザー光ビームが変調される。
【0034】
そして、回折光学素子４１１から０次回折光として反射されたレーザー光が結像光学系４１４のレンズへ入射する一方、回折光学素子４１１から１次以上の回折光として反射されたレーザー光は結像光学系４１４のレンズへ入射しない。つまり、基本的には回折光学素子４１１で反射された０次回折光のみが結像光学系４１４へ入射するように構成されている。
【0035】
結像光学系４１４のレンズを通過した光は、フォーカシングレンズ４１５により収束され露光ビームとして所定の倍率にて基板９上へ導かれる。結像光学系４１４は縮小光学系を構成している。このフォーカシングレンズ４１５はフォーカス駆動機構４１６に取り付けられている。そして、制御部４２からの制御指令に応じてフォーカス駆動機構４１６がフォーカシングレンズ４１５を鉛直方向（Ｚ軸方向）に沿って昇降させることで、フォーカシングレンズ４１５から射出された露光ビームの収束位置が基板９の上面に調整される。
【0036】
このようにして、描画すべきパターンの形状に応じて光ビームが変調され、変調光ビームが結像光学系４１４を介して基板９の表面に入射することで、基板９の表面に所定のパターンが描画される。
【0037】
回折光学素子４１１から結像光学系４１４へ向かう光路上には、像位置調整装置１が配置されている。像位置調整装置１の構成および機能は、第１の構成例の露光装置２に設けられたものと同一である。
【0038】
図３は像位置調整装置の構成を示す図である。この像位置調整装置１は、１対をなす２つのウェッジプリズム、すなわち第１ウェッジプリズム１３および第２ウェッジプリズム１４の組み合わせにより光ビームをＸ方向にシフトさせるものである。その基本原理および具体的な設計方法については特許文献１に記載されており、本実施形態においても同様の考え方を採ることができる。したがって、ここではウェッジプリズム対１０による光シフトの原理および構成について、その要部を簡単に説明する。
【0039】
ウェッジプリズム対１０を構成する第１ウェッジプリズム１３と第２ウェッジプリズム１４とは、略同一の構造（例えば、頂角α、屈折率ｎがいずれも同一）を有しており、互いに逆向きに、かつ対向する面が互いに平行となるように、所定のギャップを隔てて配置される。後述するようにギャップは可変であり、シフト量の調整に用いられる。
【0040】
第１ウェッジプリズム１３は、支持部１３０により、適宜の筐体に固定支持されている。一方、第２ウェッジプリズム１４は、直動機構１４１を有する支持部１４０を介して支持されている。直動機構１４０としては、例えば、制御部４２により制御される回転モーターとボールネジ機構とを組み合わせたもの、あるいは、リニアモーター等を用いることができる。
【0041】
直動機構１４１は、制御部４２からの制御指令に応じて第２ウェッジプリズム１４を上下方向（Ｚ方向）に移動させる。これにより、第１ウェッジプリズム１３に対して、第２ウェッジプリズム１４が点線矢印で示すように接近方向および離間方向に所定の可動範囲内で移動する。その結果、両者の相対距離Ｄ１が変化する。
【0042】
ウェッジプリズム対１０には、（＋Ｚ）方向に進行する入力光Ｌｉが入射する。具体的には、２つのウェッジプリズムのうち上側、つまり（－Ｚ）側にある第１ウェッジプリズム１３の上面（第２ウェッジプリズム１４と対向する対向面１３ｂとは反対側の非対向面１３ａ）に、入力光Ｌｉが入射する。このときの第１ウェッジプリズム１３への入射角を符号φｉにより表すこととする。
【0043】
第１ウェッジプリズム１３に入射した光は第１ウェッジプリズム１３の非対向面１３ａおよび対向面１３ｂでそれぞれ屈折し、点線で示される光の直進方向に対し偏角θをもって対向面１３ｂから出射される。光はさらに第２ウェッジプリズム１４の対向面１４ａおよび非対向面１４ｂで屈折し、出力光Ｌｏとして下方へ出射される。
【0044】
この出力光Ｌｏの進行方向は、入力光Ｌｉと同じ（＋Ｚ）方向である。したがって、入力光Ｌｉが屈折せずそのまま直進した場合に出力される光Ｌｏａと平行であり、かつ、その光路は光Ｌｏａの光路に対し距離Ｄ２だけ（－Ｘ）方向にずれている。つまり、このウェッジプリズム対１０は、入力光Ｌｉを（－Ｘ）方向にシフトさせた出力光Ｌｏを出力する機能を有している。これにより、最終的に基板９に投影される像の位置がＸ方向に変化することになる。
【0045】
なお、ウェッジプリズム対１０においては、光は２つのウェッジプリズムそれぞれに対して入射し出射することとなる。そのため、本明細書では混乱を避けるために、ウェッジプリズム対１０に対して外部から一次的に入射する光を「入力光」、最終的にウェッジプリズム対１０から出射される光を「出力光」と称している。
【0046】
図３から明らかなように、第１ウェッジプリズム１３と第２ウェッジプリズム１４との距離Ｄ１が大きいほど、シフト量Ｄ２は大きくなる。つまり、第２ウェッジプリズム１４を移動させて距離Ｄ１を変化させることで、シフト量Ｄ２を変化させることができる。直動機構１４１による第２ウェッジプリズム１４の移動量を制御部４２が制御することで、任意のシフト量を実現することができる。
【0047】
ここで、ウェッジプリズム対１０を通過する光は屈折によりＸ方向に曲げられる一方、Ｙ方向においては進行方向が変わらない。このような異方性に起因して、出力光Ｌｏには非点隔差が現れる。そのため、次に説明するように、最終的に基板９の表面に光ビームを収束する際にＸ方向とＹ方向とで像面に対する合焦位置に差が生じ、描画品質の低下が生じ得る。
【0048】
図４はシフト量と非点隔差との関係を示す図である。より具体的には、図４（ａ）はシフト量を変化させたときの非点隔差の変化を模式的に示すグラフである。特許文献１にも記載されているように、また図４（ａ）に複数の破線でプロットされるように、ウェッジプリズム間の距離Ｄ１を変更してシフト量Ｄ２を変化させたときの非点隔差の振る舞いは、入射角φｉにより異なる。
【0049】
特許文献１に記載の技術では、シフト量の可変範囲における中心を基準値（シフト量ゼロ）として、シフト量が基準値に設定されているときに非点隔差がゼロとなるプロットＰｂが採用されていた。この場合、シフト量が基準値から離れるほど非点隔差は大きくなり、これを回避するためにシフト量に応じて入射角φｉを変化させる方法として、ウェッジプリズム対を回動させることが提案されている。
【0050】
一方、本実施形態では、シフト量を変化させても非点隔差が変わらないプロットＰａが採用される。入射角φｉと偏角θとの関係において偏角θが最小となるように入射角が設定されたとき、このように非点隔差の変動が生じないことが知られている。ただしこのとき、シフト量Ｓの設定に関わりなく、必ずしも小さくない非点隔差Ｄａが残る。本実施形態では、以下の考え方により、シフト量Ｓに関係なく非点隔差をゼロにすることが図られている。
【0051】
図４（ｂ）は、ウェッジプリズム間の距離Ｄ１を変化させたときの結像光学系の合焦位置の変化を模式的に示す図である。ウェッジプリズム間の距離Ｄ１が変化すると実効的な光路長が変化するため、像面に対する結像光学系（第１の構成例における結像光学系２６、第２の構成例における結像光学系４１４）の合焦位置は変動する。また、非点隔差があるとき、Ｘ方向とＹ方向との間で合焦位置は異なっている。
【0052】
ただし、偏角θが最小となるように入射角φｉが設定されているとき、Ｘ方向の合焦位置とＹ方向の合焦位置との距離、すなわち非点隔差は、ウェッジプリズム間の距離Ｄ１によらず一定値Ｄａである。したがって、ウェッジプリズム対１０とは別に、この非点隔差をキャンセルするような光学素子を「補正光学素子」として光路上に配置することで、非点隔差の解消を図ることが考えられる。
【0053】
具体的には、例えばＸ方向における合焦位置がＹ方向よりも遠くなるような非点隔差に対しては、これとは逆に、Ｙ方向における合焦位置がＸ方向よりも遠くなるような非点収差を生じさせる光学素子を光路上に配置すれば、互いの非点隔差を相殺することによる補正が可能となる。このような光学素子により生じる非点隔差が、ウェッジプリズム対１０により生じる非点隔差と符号が逆で絶対値が同じであれば、最終的に像面における非点隔差をゼロとすることができる。
【0054】
このような補正光学素子としては例えば、Ｘ方向とＹ方向とで焦点距離の異なる非対称なレンズを用いることができる。例えば軸方向をＸ方向またはＹ方向として配置されたシリンドリカルレンズは、軸方向と直交する方向にのみパワーを有しており、このような目的に好適である。
【0055】
この実施形態では、図３に示すように、このような非点隔差の補正を目的とする補正光学素子としての補正レンズ１５が、第１ウェッジプリズム１３の上方に設けられている。この例では、補正レンズ１５はＹ方向を軸方向とするシリンドリカルレンズである。このような構成によれば、像面に対する結像光学系の合焦位置を、Ｙ方向については維持しつつＸ方向については結像光学系側に近づけることができる。
【0056】
非点隔差をゼロに追い込むことを可能とするために、補正レンズ１５は上下動可能に支持されている。具体的には、補正レンズ１５は、直動機構１５１を有する支持部１５０により支持されている。直動機構１５１は例えば回転モーターとボールねじ機構との組み合わせ、またはリニアモーターにより実現可能である。直動機構１５１は、制御部４２からの制御指令に応じて作動し、補正レンズ１５を上下方向（Ｚ方向）に移動させる。これにより、非点隔差に対する補正量を調整して、ウェッジプリズム対１０に起因する非点隔差が完全にキャンセルされる条件を実現することができる。
【0057】
本実施形態による非点隔差の補正効果は、次のようにして得られる。まず、装置の設計段階で、第１ウェッジプリズム１３および第２ウェッジプリズム１４の仕様が決定され、それに応じて、当該ウェッジプリズム対１０に対する入力光Ｌｉの入射角φｉが決定される。具体的には、特許文献１に記載の手法により、頂角α、屈折率ｎ、像面において要求される最大実シフト量Ｓ、第２ウェッジプリズム１４の可動範囲幅ｄ、および、像位置調整装置１以降のレンズの倍率Ｍを用いて次式：
の関係を満たすように、第１ウェッジプリズム１３、第２ウェッジプリズム１４および支持部１４０の仕様が決定される。次に、こうして仕様が決定されたウェッジプリズム対１０に対する入力光Ｌｉの入射角φｉが、偏角θが最小となる条件を表す次式：
の関係を満たすように定められる。
【数1】
【数2】
【0058】
このように、本実施形態では、ウェッジプリズム対１０の仕様が決まればそれに対する入力光の入射角φｉも設計段階で決まっている。したがって、装置の組み立て時や初期調整時等に十分な精度で入射角φｉが設定されていれば、その後これを変更する必要は基本的に生じない。
【0059】
一方、非点隔差の補正効果を最大化する（理想的には非点隔差をゼロにする）ためには、補正レンズ１５であるシリンドリカルレンズの曲率半径および光路上における配設位置を適切に設定する必要がある。より簡便には、以下のようにして補正レンズ１５の位置調整を行うことで、非点隔差の補正量を最適化することが可能である。なお、ここでは第１の構成例の露光装置２を用いた調整処理について説明するが、第２の露光装置４についても同様の考え方を適用することが可能である。
【0060】
図５は非点隔差の補正量を調整するための装置構成を示す図である。また、図６はこの調整のための処理を示すフローチャートである。シリンドリカルレンズ１５による非点隔差の補正量を最適化するための処理は、図５に示すように、像面に対応する位置に、基板９に代えてダミー基板５２を配置し、ダミー基板５２に投影される像を観察用カメラ５１により撮像することにより行う。観察用カメラ５１およびダミー基板５２については、この目的のために設けられてもよいが、例えば露光ヘッドにおけるオートフォーカス機構のキャリブレーション等の目的で予め設けられたものであってもよい。
【0061】
可動ステージ２０と選択的に露光ヘッド２１の直下位置に位置決めされるために、観察用カメラ５１およびダミー基板５２には、水平方向に移動することが求められる。また、後述する合焦位置の探索のために、Ｚ方向へ移動することが求められる。例えば、これらの方向への移動機構を備えた可動ステージ２０の側部に、このような機構を取り付けておくことができる。
【0062】
具体的な処理は以下の通りである。最初に、露光ビームの像面に当たる位置に、可動ステージ２０に代えてダミー基板５２および観察用カメラ５１が配置される（ステップＳ１０１）。また、補正レンズ１５は適宜の基準位置に仮設定される（ステップＳ１０２）。このときの第２ウェッジプリズム１４の位置は任意であるが、例えば基準位置としておくことができる。
【0063】
この状態で、露光ヘッド２１により、像面にあるダミー基板５２の表面に対して所定の基準パターンを投影する（ステップＳ１０３）。この基準パターンは、Ｘ方向およびＹ方向の合焦位置を個別に測定するためのものであり、例えばＸ方向のラインとＹ方向のラインとを組み合わせたものを用いることができる。基準パターンの投影は、空間光変調デバイス２５により露光ビームを変調することによってなされてもよく、また調整用のマスクが光路上に配置されることによってなされてもよい。
【0064】
こうしてダミー基板５２の表面に投影される基準パターンを用いて非点隔差が求められる。具体的には、観察用カメラ５１が基準パターンを撮像し、画像データは制御部２２に与えられる。制御部２２は、観察用カメラ５１およびダミー基板５２を一体的にＺ方向に移動させながら、Ｘ方向の基準パターンが像面に最も鮮明に投影される、つまり像面に合焦するときの位置と、Ｙ方向の基準パターンが像面に合焦するときの位置とを取得し（ステップＳ１０４）、それらの差を算出して非点隔差とする（ステップＳ１０５）。
【0065】
求められた非点隔差が予め定められた許容値以下であれば（ステップＳ１０６においてＹＥＳ）、非点隔差の補正が有効に機能しているため、調整処理を終了することができる。一方、非点隔差が予め定められた許容値を超えている場合には（ステップＳ１０６においてＮＯ）、その大きさおよび符号に基づいて補正レンズ１５の移動量を算出し、移動量に応じて補正レンズ１５をＺ方向に移動させる（ステップＳ１０７）。補正レンズ１５の移動量としては、例えば、像面において算出された非点隔差の値を、像位置調整装置１と像面との間にある光学系の倍率の２乗で除した値を用いることができる。
【0066】
その上で、ステップＳ１０４～Ｓ１０６の非点隔差の評価を再度実行する。これを繰り返すことで、非点隔差を最小（理想的にはゼロ）とするための補正レンズ１５の位置を最適位置に追い込んでゆくことができる。
【0067】
このようにして最適化された非点隔差の補正は、第２ウェッジプリズム１４の位置が変更された場合でも有効に機能する。言い換えれば、これを可能とするために、ウェッジプリズム対１０に対する入力光Ｌｉの入射角φｉが偏角θを最小とする値に選ばれている。したがって、その後の露光動作においてシフト量を変更するために第２ウェッジプリズム１４の位置が変更されても、補正レンズ１５の位置を変更する必要はない。
【0068】
この調整処理は、装置の起動時、定期メンテナンス時、装置の稼働時間または基板の処理枚数が所定値に達した時などのタイミングで実行されれば十分である。また例えば装置が温度変化の少ない安定した環境に置かれるような場合には、極端には設置時に調整を行うだけでもよい。いずれにしても、実行頻度はそれほど高くならず、特に次に説明する露光動作の実行中に行う必要はない。
【0069】
図７は露光動作を示すフローチャートである。上記した調整処理がなされた状態で、露光処理の対象となる基板９が装置に搬入され、可動ステージ２０に載置される（ステップＳ２０１）。次に、可動ステージ２０上の基板９と露光ヘッド２１との位置関係を把握し、必要に応じて位置調整を行う、アライメント調整が実行される（ステップＳ２０２）。アライメント調整としては公知の技術を適用可能であるから説明を省略する。
【0070】
そして、可動ステージ２０が所定の露光位置に移動位置決めされ（ステップＳ２０３）、アライメント調整で把握された基板９の位置ずれに対応するために必要な像のシフト量を算出する（ステップＳ２０４）。像面において必要なシフト量に応じて、第２ウェッジプリズム１４において必要な移動量が求められる（ステップＳ２０５）。具体的には、像面で必要なシフト量と結像光学系の倍率とから、第２ウェッジプリズム１４の移動量が求められる。その結果に基づき、第２ウェッジプリズム１４が新たな位置へ移動位置決めされる（ステップＳ２０６）。このとき、第２ウェッジプリズム１４に伴う非点隔差の変動は生じない。したがって、補正レンズ１５を移動させる必要はない。
【0071】
図４（ｂ）に示す関係から、ウェッジプリズム対１０における距離Ｄ１の変更は結像光学系２６の合焦位置の変動をもたらす。そこで、新たな第２ウェッジプリズム１４の位置に応じて、結像レンズ、具体的には第２結像レンズ２６２のＺ方向位置が、フォーカス駆動機構により変更される（ステップＳ２０７）。
【0072】
この状態で、露光ヘッド２１から描画データに応じて変調された露光ビームが照射されることで基板９の表面が露光され（ステップＳ２０８）、所定にパターンが描画される。当該基板９に対する描画が終了するまで（ステップＳ２０９）、ステップＳ２０３～Ｓ２０８の処理が継続して実行される。これにより、１枚の基板９に対する露光動作が終了する。
【0073】
以上のように、露光装置２，４に設けられるこの実施形態の像位置調整装置１では、ウェッジプリズム対１０によって像位置のＸ方向へのシフトが実現される。ウェッジプリズム対１０により生じる非点隔差については、Ｘ方向とＹ方向とでパワーが異なる補正レンズ１５を設けることによってこれを補正している。ウェッジプリズム対１０への光の入射角φｉは偏角θが最小となるように設定されているため、ウェッジプリズム間の距離が変更されても非点隔差は変動しない。したがって、補正レンズ１５による非点隔差の補正効果はウェッジプリズム間の距離によらず有効であり、ウェッジプリズムの直動運動のみでシフト量の変更を行うことができ、非点隔差の増加も生じない。
【0074】
＜変形例＞
図８は補正光学素子の変形例を示す図である。図８（ａ）は、シリンドリカルレンズに代わる補正光学素子として、平行平面平板１６（一対の平行平面平板１６ａ，１６ｂ）が用いられた変形例を示す。平行平面平板を光路に対し傾けて配置することで非点収差が生じることが知られており、このことを利用して、ウェッジプリズム対１０に起因する非点隔差を補正することが可能である。この場合、Ｘ方向、Ｙ方向のいずれの合焦位置が遠いかによって、平行平面平板１６ａをＸ軸回りに傾けるか、Ｙ軸回りに傾けるかが決まる。一方、平行平面平板１６ｂは、平行平面平板１６ａと同軸の逆回りに傾けられる。これにより、平行平面平板１６ａ，１６ｂは、平行状態から互いに逆方向に同量だけ傾けられた、いわゆるハの字姿勢となり、平行平面平板１６ａによって生じた入力光Ｌｉの平行シフトを平行平面平板１６ｂが打ち消す。ここで、Ｘ軸回りに傾けるとは、平行平面平板１６ａの主面の法線ベクトルがＹ方向の成分を有しＸ方向の成分を有さないように傾けることを意味し、Ｙ軸回りに傾けるとはその逆を指す。また、その傾きの大きさを変更するための駆動機構１６１を設けることで、非点隔差に対する補正量を調整することが可能となる。
図８は補正光学素子の変形例を示す図である。図８（ａ）は、シリンドリカルレンズに代わる補正光学素子として、平行平面平板１６（一対の平行平面平板１６ａ，１６ｂ）が用いられた変形例を示す。平行平面平板を光路に対し傾けて配置することで非点収差が生じることが知られており、このことを利用して、ウェッジプリズム対１０に起因する非点隔差を補正することが可能である。この場合、Ｘ方向、Ｙ方向のいずれの合焦位置が遠いかによって、平行平面平板１６ａをＸ軸回りに傾けるか、Ｙ軸回りに傾けるかが決まる。一方、平行平面平板１６ｂは、平行平面平板１６ａと同軸の逆回りに傾けられる。これにより、平行平面平板１６ａ，１６ｂは、平行状態から互いに逆方向に同量だけ傾けられた、いわゆるハの字姿勢となり、平行平面平板１６ａによって生じた入力光Ｌｉの平行シフトを平行平面平板１６ｂが打ち消す。ここで、Ｘ軸回りに傾けるとは、平行平面平板１６ａの主面の法線ベクトルがＹ方向の成分を有しＸ方向の成分を有さないように傾けることを意味し、Ｙ軸回りに傾けるとはその逆を指す。また、その傾きの大きさを変更するための駆動機構１６１を設けることで、非点隔差に対する補正量を調整することが可能となる。
【0075】
また、図８（ｂ）は、シリンドリカルレンズに代わる補正光学素子として、曲率可変ミラー１７が用いられた変形例を示す。また、入力光の光路を折り返すために、折り返しミラー１７１が適宜設けられてもよい。このような態様であっても、位置を移動させずに曲率（パワー）を変化させることができる曲率可変ミラー１７を用いることで、ウェッジプリズム対１０に起因する非点隔差の補正を行うことが可能である。
【0076】
この意味においては、図１の露光装置２におけるミラー２４６を上記のような曲率可変ミラーとすることで、補正光学素子として機能させることも可能である。この場合、像位置調整装置１内には補正光学素子を設けなくてもよいこととなる。言い換えれば、像位置調整装置１を構成する補正光学素子が、照明光学系２４の内部に設けられることになる。
【0077】
図９は図１の露光装置の変形例を示す図である。この変形例の露光装置２ａは、図１の露光装置２におけるミラー２４６を平面ミラー２４７に置き換え、さらに、平面ミラー２４７と空間光変調デバイス２５との間の光路に補正光学素子としての補正レンズ１５ａが設けられている。このように、補正光学素子はウェッジプリズム対１０の直前に設けられる必要はなく光路上の適宜の位置に配置することが可能である。
【0078】
この場合、補正レンズ１５ａは空間光変調デバイス２５に対するフォーカスレンズとしての機能も有することとなるので、図６の調整処理におけるステップＳ１０２の「基準位置」は、補正レンズ１５ａからの出射光が空間光変調デバイス２５に合焦する位置となる。
【0079】
以上説明したように、上記実施形態においては、像位置調整装置１が本発明の「光学装置」として機能しており、補正レンズ１５、平行平面平板１６、曲率可変ミラー１７等が本発明の「補正光学素子」として機能している。また、支持部１３０，１４０が一体として、本発明の「シフト量調整機構」として機能している。一方、支持部１５０、駆動機構１６１は、本発明の「補正量調整機構」として機能している。
【0080】
また、上記実施形態の露光装置２，４においては可動ステージ２０，４０が本発明の「ステージ」として機能し、ステージ駆動機構２０１，４０１が本発明の「移動機構」として機能している。また、露光ヘッド２１，４１が、本発明の「露光部」として機能している。
【0081】
また、上記実施形態においては、光のシフト方向であるＸ方向が本発明の「第１方向」に相当し、これと垂直なＹ方向が本発明の「第２方向」に相当している。ここで、上記説明においては、最終的な露光ビームの出射方向を鉛直方向であるＺ方向とし、像のシフト方向をＸ方向としているため、動作説明においてはＸＹＺ座標系での議論を行っている。しかしながら、本質的には、鉛直方向と関係付ける必然性はなく、あくまで入力光（または出力光）の進行方向を基準として議論を行うべきである。その場合、入力光の入射方向に垂直な方向のうち、出力光のシフト方向と平行な方向とこれに垂直な方向を、それぞれ本発明の「第１方向」、「第２方向」と考えることができる。
【0082】
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、上記実施形態では、補正光学素子としての補正レンズ１５等が、光の進行方向においてウェッジプリズム対１０よりも手前側、つまり入力光Ｌｉの光路上に配置されている。しかしながら、ウェッジプリズム対１０よりも後方、つまり出力光Ｌｏの光路上に補正光学素子が配置されてもよい。ただ本実施形態のように、像のシフトが行われる前の光路上に補正光学素子を配置することで、光の入射範囲が限定されるため、光学素子の設計は容易になる。
【0083】
また、上記実施形態では、補正光学素子としての補正レンズ１５は単体のシリンドリカルレンズであるが、例えばＸ方向を軸方向とするシリンドリカルレンズと、これとは焦点距離が異なりＹ方向を軸方向とするシリンドリカルレンズとを組み合わせて、補正光学素子を構成してもよい。また、補正光学素子が、照明光学系または結像光学系に設けられたレンズ等のうちいずれかの機能を兼備したものであってもよい。また例えば、補正光学素子として、凹レンズ、凸面ミラー等を用いてもよい。
【0084】
また、上記実施形態の調整処理では、補正光学素子による非点隔差の補正は、非点隔差が所定の許容値以下となることが目標とされている。しかしながら、補正後の非点隔差がゼロとなることが目指されてもよく、当然に、非点隔差がゼロで変動がない状態が最も理想的である。
【0085】
また、上記実施形態ではウェッジプリズム対１０に対する入力光Ｌｉの入射角φｉは固定されている。しかしながら、これを可変としてもよい。ただし、本発明では動作中に入射角を変化させる必要性は生じないから、入射角を変更するための駆動機構は必要ではなく、例えば手作業によって調整するような機構でもよい。
【0086】
また、上記実施形態は、本発明に係る光学装置を、基板を露光してパターン描画を行う露光装置に適用したものである。しかしながら、本発明の光学装置の適用対象はこれに限定されない。例えばプロジェクターのような投影装置にも、本発明を適用可能である。
【0087】
以上、具体的な実施形態を例示して説明してきたように、本発明に係る光学装置においては、入力光の入射方向に垂直かつ入力光に対する出力光のシフト方向と平行な方向を第１方向とし、入射方向および第１方向に垂直な方向を第２方向とするとき、補正光学素子は、第１方向と第２方向との間で非点収差を生じさせる光学素子であってもよい。このように直交する２つの方向で特性が非対称な、つまり異方性を有する光学素子を用いることで、ウェッジプリズムに起因して第１方向と第２方向との間で生じる非点隔差をキャンセルするような補正が可能となる。
【0088】
ここで、補正光学素子としては、例えば第１方向と第２方向とで焦点距離が異なるレンズを用いることができる。あるいは、補正光学素子として、第１方向を含む断面と第２方向を含む断面とで曲率を変化させることができる曲率可変ミラーを用いてもよい。これらのいずれによっても、適切な光学特性を有する光学素子を選択し使用することで、非点隔差の補正が可能である。
【0089】
また、補正光学素子としてのレンズを光路に沿った方向に移動させることで非点隔差の補正量を調整する補正量調整機構がさらに設けられてもよい。このようにして補正量を調整可能とすることで、補正光学素子の光学特定に求められる条件は緩和される。
【0090】
また例えば、補正光学素子としては、主面の法線ベクトルが第１方向および第２方向のいずれか一方の成分を有するように、光路に対して傾けられた平行平面平板であってもよい。このような構成によっても、その厚さ、屈折率、傾きの大きさ等を適切に設定することで、非点隔差の補正が可能である。この場合にも、補正光学素子の傾きを変化させることで非点隔差の補正量を調整する補正量調整機構がさらに設けられてもよい。
【産業上の利用可能性】
【0091】
この発明は、光ビームやそれにより形成される像の位置を所定方向に所定量だけシフトさせる用途に利用可能であり、例えばプリント配線基板やガラス基板等の各種基板にパターンを形成するために基板を露光する技術分野に好適である。
【符号の説明】
【0092】
１ 像位置調整装置（光学装置）
２，４ 露光装置
９ 基板
１０ ウェッジプリズム対
１３ 第１ウェッジプリズム
１４ 第２ウェッジプリズム
１５ 補正レンズ（補正光学素子）
１６（１６ａ，１６ｂ） 平行平面平板（補正光学素子）
１７ 曲率可変ミラー（補正光学素子）
２０，４０ 可動ステージ（ステージ）
２１，４１ 露光ヘッド（露光部）
１３０，１４０ 支持部（シフト量調整機構）
１５０ 支持部（補正量調整機構）
１６１ 駆動機構（補正量調整機構）
２０１，４０１ ステージ駆動機構（移動機構）
Ｌｉ 入力光
Ｌｏ 出力光
Ｘ 第１方向
Ｙ 第２方向
２，４ 露光装置
９ 基板
１０ ウェッジプリズム対
１３ 第１ウェッジプリズム
１４ 第２ウェッジプリズム
１５ 補正レンズ（補正光学素子）
１６（１６ａ，１６ｂ） 平行平面平板（補正光学素子）
１７ 曲率可変ミラー（補正光学素子）
２０，４０ 可動ステージ（ステージ）
２１，４１ 露光ヘッド（露光部）
１３０，１４０ 支持部（シフト量調整機構）
１５０ 支持部（補正量調整機構）
１６１ 駆動機構（補正量調整機構）
２０１，４０１ ステージ駆動機構（移動機構）
Ｌｉ 入力光
Ｌｏ 出力光
Ｘ 第１方向
Ｙ 第２方向
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】