特開 2023-142290 光検出装置の校正方法、光検出装置の製造方法、光検出装置及びＰＣＲ装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023142290

(43)【公開日】2023-10-05

(54)【発明の名称】光検出装置の校正方法、光検出装置の製造方法、光検出装置及びＰＣＲ装置

(51)【国際特許分類】

   C12M 1/00 20060101AFI20230928BHJP

   C12M 1/34 20060101ALI20230928BHJP

   C12Q 1/686 20180101ALI20230928BHJP

【ＦＩ】

C12M1/00 A

C12M1/34 D

C12Q1/686 Z

【審査請求】未請求

【請求項の数】17

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022049119

(22)【出願日】2022-03-24

(71)【出願人】

【識別番号】000002174

【氏名又は名称】積水化学工業株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100091487

【弁理士】

【氏名又は名称】中村 行孝

(74)【代理人】

【識別番号】100120031

【弁理士】

【氏名又は名称】宮嶋 学

(74)【代理人】

【識別番号】100120617

【弁理士】

【氏名又は名称】浅野 真理

(74)【代理人】

【識別番号】100127465

【弁理士】

【氏名又は名称】堀田 幸裕

(74)【代理人】

【識別番号】100198029

【弁理士】

【氏名又は名称】綿貫 力

(72)【発明者】

【氏名】鈴木 尊士

(72)【発明者】

【氏名】中村 勤

【テーマコード（参考）】

4B029

4B063

【Ｆターム（参考）】

4B029AA23

4B029FA09

4B029FA12

4B063QA01

4B063QQ42

4B063QR08

4B063QR42

4B063QR55

4B063QR62

4B063QS25

4B063QX01

(57)【要約】

【課題】光検出装置の校正を容易かつ精度良く行うことができる。
【解決手段】光検出装置の校正方法は、試料を光学的に検出する光検出装置の校正方法であって、試料とは異なる対象物に光を照射する照射工程と、対象物からの光であって、シャッター部を通過した光を受光する受光工程と、受光工程で受光した光の強度に応じて、シャッター部のシャッター速度を変更する変更工程と、を備える。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

試料を光学的に検出する光検出装置の校正方法であって、
前記試料とは異なる対象物に光を照射する照射工程と、
前記対象物からの光であって、シャッター部を通過した光を受光する受光工程と、
前記受光工程で受光した光の強度に応じて、前記シャッター部のシャッター速度を変更する変更工程と、を備える、光検出装置の校正方法。

【請求項2】

前記対象物は、蛍光フィルムである、請求項１に記載の光検出装置の校正方法。

【請求項3】

前記対象物は、前記試料を保持可能な保持体上に配置される、請求項１又は２に記載の光検出装置の校正方法。

【請求項4】

前記保持体は、透明な材料で構成されている、請求項３に記載の光検出装置の校正方法。

【請求項5】

前記保持体は、樹脂材料で構成されている、請求項４に記載の光検出装置の校正方法。

【請求項6】

前記保持体は、前記試料を保持可能な流路が形成された基板である、請求項３から５のいずれか一項に記載の光検出装置の校正方法。

【請求項7】

前記受光工程において、前記対象物からの反射光を受光する、請求項１から６のいずれか一項に記載の光検出装置の校正方法。

【請求項8】

前記受光工程において、前記対象物の透過光を受光する、請求項１から６のいずれか一項に記載の光検出装置の校正方法。

【請求項9】

前記変更工程において、前記シャッター速度を１秒以下に変更する、請求項１から８のいずれか一項に記載の光検出装置の校正方法。

【請求項10】

前記変更工程において、前記受光工程で受光した光の５００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の範囲内における波長の強度に基づいて、前記シャッター速度を変更する、請求項１から９のいずれか一項に記載の光検出装置の校正方法。

【請求項11】

前記変更工程において、前記シャッター速度と前記受光工程で受光する光の強度との比例関係に基づいて、前記シャッター速度を変更する、請求項１から１０のいずれか一項に記載の光検出装置の校正方法。

【請求項12】

前記試料は、ＤＮＡ及びＲＮＡの少なくともいずれか一方の核酸を含む検体液と、前記検体液に含まれる前記核酸と反応する試薬と、を含む、請求項１から１１のいずれか一項に記載の光検出装置の校正方法。

【請求項13】

試料を光学的に検出する光検出装置の製造方法であって、
前記試料に光を照射する照射部と、前記試料からの光を受光する受光部と、前記照射部と前記受光部との間に配置されたシャッター部と、を有する光検出装置を準備する準備工程と、
前記光検出装置の校正を行う校正工程と、を備え、
前記校正工程は、
前記照射部により、前記試料とは異なる対象物に光を照射する照射工程と、
前記受光部により、前記対象物からの光であって、前記シャッター部を通過した光を受光する受光工程と、
前記受光工程で受光した光の強度に応じて、前記シャッター部のシャッター速度を変更する変更工程と、を有する、光検出装置の製造方法。

【請求項14】

試料を光学的に検出する光検出装置であって、
試料に光を照射する照射部と、
前記試料からの光を受光する受光部と、
前記照射部と前記受光部との間に配置されたシャッター部と、
制御部と、を備え、
前記制御部は、
前記照射部により、前記試料とは異なる対象物に光を照射する照射工程と、
前記受光部により、前記対象物からの光であって、前記シャッター部を通過した光を受光する受光工程と、
前記受光工程で受光した光の強度に応じて、前記シャッター部のシャッター速度を変更する変更工程と、を実行可能に構成されている、光検出装置。

【請求項15】

前記制御部は、前記シャッター速度と前記受光部で受光する光の強度との比例関係を記憶する記憶部を含み、
前記制御部は、前記変更工程において、前記記憶部に記憶された前記比例関係に基づいて、前記シャッター速度を変更する、請求項１４に記載の光検出装置。

【請求項16】

前記試料は、ＤＮＡ及びＲＮＡの少なくともいずれか一方の核酸を含む検体液と、前記検体液に含まれる前記核酸と反応する試薬と、を含む、請求項１４又は１５に記載の光検出装置。

【請求項17】

前記試料の加温及び冷却を行う温度調節装置と、
前記温度調節装置により加温及び冷却が繰り返し行われた前記試料を光学的に検出する、請求項１６に記載の光検出装置と、を備える、ＰＣＲ装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、光検出装置の校正方法、光検出装置の製造方法、光検出装置及びＰＣＲ装置に関する。

【背景技術】

【0002】

例えば、特許文献１に開示されているようなマイクロチップ等に保持された試料を光学的に検出する光検出装置が知られている。光検出装置は、試料に光を照射する照射部と、試料からの光を受光する受光部と、を有している。光検出装置は、装置の個体差あるいは経時変化により計測結果に差が生じないようにするため、しばしば校正（キャリブレーション）が行われる。光検出装置の校正においては、例えば、照射部により試料のサンプル（標準サンプル）に光を照射し、受光部によりそのサンプルからの光を受光し、受光した光の強度に応じて、照射部の光源の光の強弱を調整することが行われていた。しかしながら、光源の調整は装置の寿命に影響する場合があり、また光源の光は微調整が困難な場合もあった。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２００９－１８３１７９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

本開示は、このような点を考慮してなされたものであり、光検出装置の校正を容易かつ精度良く行うことができる光検出装置の校正方法、光検出装置の製造方法、光検出装置及びＰＣＲ装置の提供を目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0005】

本開示の第１の態様は、
試料を光学的に検出する光検出装置の校正方法であって、
前記試料とは異なる対象物に光を照射する照射工程と、
前記対象物からの光であって、シャッター部を通過した光を受光する受光工程と、
前記受光工程で受光した光の強度に応じて、前記シャッター部のシャッター速度を変更する変更工程と、を備える、光検出装置の校正方法である。

【0006】

本開示の第２の態様は、上述した第１の態様による光検出装置の校正方法において、前記対象物は、蛍光フィルムである、光検出装置の校正方法である。

【0007】

本開示の第３の態様は、上述した第１の態様又は上述した第２の態様による光検出装置の校正方法において、前記対象物は、前記試料を保持可能な保持体上に配置される、光検出装置の校正方法である。

【0008】

本開示の第４の態様は、上述した第３の態様による光検出装置の校正方法において、前記保持体は、透明な材料で構成されている、光検出装置の校正方法である。

【0009】

本開示の第５の態様は、上述した第４の態様による光検出装置の校正方法において、前記保持体は、樹脂材料で構成されている、光検出装置の校正方法である。

【0010】

本開示の第６の態様は、上述した第３の態様から上述した第５の態様のいずれかによる光検出装置の校正方法において、前記保持体は、前記試料を保持可能な流路が形成された基板である、光検出装置の校正方法である。

【0011】

本開示の第７の態様は、上述した第１の態様から上述した第６の態様のいずれかによる光検出装置の校正方法において、前記受光工程において、前記対象物からの反射光を受光する、光検出装置の校正方法である。

【0012】

本開示の第８の態様は、上述した第１の態様から上述した第６の態様のいずれかによる光検出装置の校正方法において、前記受光工程において、前記対象物の透過光を受光する、光検出装置の校正方法である。

【0013】

本開示の第９の態様は、上述した第１の態様から上述した第８の態様のいずれかによる光検出装置の校正方法において、前記変更工程において、前記シャッター速度を１秒以下に変更する、光検出装置の校正方法である。

【0014】

本開示の第１０の態様は、上述した第１の態様から上述した第９の態様のいずれかによる光検出装置の校正方法において、前記変更工程において、前記受光工程で受光した光の５００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の範囲内における波長の強度に基づいて、前記シャッター速度を変更する、光検出装置の校正方法である。

【0015】

本開示の第１１の態様は、上述した第１の態様から上述した第１０の態様のいずれかによる光検出装置の校正方法において、前記変更工程において、前記シャッター速度と前記受光工程で受光する光の強度との比例関係に基づいて、前記シャッター速度を変更する、光検出装置の校正方法である。

【0016】

本開示の第１２の態様は、上述した第１の態様から上述した第１１の態様のいずれかによる光検出装置の校正方法において、前記試料は、ＤＮＡ及びＲＮＡの少なくともいずれか一方の核酸を含む検体液と、前記検体液に含まれる前記核酸と反応する試薬と、を含む、光検出装置の校正方法である。

【0017】

本開示の第１３の態様は、
試料を光学的に検出する光検出装置の製造方法であって、
前記試料に光を照射する照射部と、前記試料からの光を受光する受光部と、前記照射部と前記受光部との間に配置されたシャッター部と、を有する光検出装置を準備する準備工程と、
前記光検出装置の校正を行う校正工程と、を備え、
前記校正工程は、
前記照射部により、前記試料とは異なる対象物に光を照射する照射工程と、
前記受光部により、前記対象物からの光であって、前記シャッター部を通過した光を受光する受光工程と、
前記受光工程で受光した光の強度に応じて、前記シャッター部のシャッター速度を変更する変更工程と、を有する、光検出装置の製造方法である。

【0018】

本開示の第１４の態様は、
試料を光学的に検出する光検出装置であって、
試料に光を照射する照射部と、
前記試料からの光を受光する受光部と、
前記照射部と前記受光部との間に配置されたシャッター部と、
制御部と、を備え、
前記制御部は、
前記照射部により、前記試料とは異なる対象物に光を照射する照射工程と、
前記受光部により、前記対象物からの光であって、前記シャッター部を通過した光を受光する受光工程と、
前記受光工程で受光した光の強度に応じて、前記シャッター部のシャッター速度を変更する変更工程と、を実行可能に構成されている、光検出装置である。

【0019】

本開示の第１５の態様は、上述した第１４の態様による光検出装置において、前記制御部は、前記シャッター速度と前記受光部で受光する光の強度との比例関係を記憶する記憶部を含み、
前記制御部は、前記変更工程において、前記記憶部に記憶された前記比例関係に基づいて、前記シャッター速度を変更する、光検出装置である。

【0020】

本開示の第１６の態様は、上述した第１４の態様又は上述した第１５の態様による光検出装置において、前記試料は、ＤＮＡ及びＲＮＡの少なくともいずれか一方の核酸を含む検体液と、前記検体液に含まれる前記核酸と反応する試薬と、を含む、光検出装置である。

【0021】

本開示の第１７の態様は、
前記試料の加温及び冷却を行う温度調節装置と、
前記温度調節装置により加温及び冷却が繰り返し行われた前記試料を光学的に検出する、上述した第１６の態様による光検出装置と、を備える、ＰＣＲ装置である。

【発明の効果】

【0022】

本開示によれば、光検出装置の校正を容易かつ精度良く行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【0023】

【図1】図１は、本開示の一実施の形態によるＰＣＲ装置を示す概略構成図である。

【図2】図２は、図１のマイクロチップの概略構成図である。

【図3】図３は、図１のマイクロチップの温調部における部分拡大断面図である。

【図4】図４は、図１のマイクロチップ及び温度調節装置の温調部における部分拡大断面図である。

【図5】図５は、図１の光検出装置の校正方法を説明するための図である。

【図6】図６は、図１の光検出装置におけるシャッター速度と受光部で受光する光の強度との関係を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0024】

以下、図面を参照して、本開示の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のし易さの便宜上、適宜縮尺及び縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。また、一部の図において示された構成等が、他の図において省略されていることもある。

【0025】

まず、本実施の形態によるＰＣＲ装置１について説明する。ＰＣＲ装置１は、ＤＮＡ及びＲＮＡの少なくともいずれか一方の核酸を含む検体液から核酸を抽出し、その核酸と反応する試薬を混合させて試料を生成し、その試料の加温及び冷却を繰り返し行うことによって、その核酸を増幅させるＰＣＲ（polymerase chain reaction：ポリメラーゼ連鎖反応）を行う装置である。また、ＰＣＲ装置１は、その増幅した核酸をリアルタイムに検出するリアルタイムＰＣＲ装置である。

【0026】

図１に示すように、ＰＣＲ装置１は、マイクロチップ１０と、温度調節装置２０と、光検出装置３０と、を備えている。ＰＣＲ装置１は、マイクロチップ１０により、ＤＮＡ及びＲＮＡの少なくともいずれか一方の核酸を含む検体液と、当該検体液から核酸を抽出する抽出液と、検体液中の不要な成分を除去する洗浄液と、核酸を回収する回収液と、核酸と反応する試薬と、を含む試料を保持する。また、ＰＣＲ装置１は、温度調節装置２０により、マイクロチップ１０に保持された試料の加温及び冷却を繰り返し行い、試料中の核酸を増幅させる。また、ＰＣＲ装置１は、光検出装置３０により、試料中の増幅した核酸を検出する。以下、各構成について説明する。

【0027】

まず、図２及び図３を用いて、マイクロチップ１０について説明する。マイクロチップ１０は、試料を保持可能に構成されている。図２及び図３に示すように、マイクロチップ１０は、板状の基板１１（保持体）を含んでいる。基板１１には、試料を保持可能な流路１２が形成されている。図２に示すように、流路１２は、検体液導入部１２ａと、試薬保持部１２ｃと、秤量・混合部Ａ１２ｄと、核酸抽出部１２ｅと、秤量・混合部Ｂ１２ｆと、温調部１２ｇと、を含んでいる。また、流路１２は、試薬導入部１２ｂを含んでいてもよい。

【0028】

検体液導入部１２ａは、検体液が導入される部分である。検体液は、ＤＮＡ（deoxyribonucleic acid：デオキシリボ核酸）及びＲＮＡ（ribonucleic acid：リボ核酸）の少なくともいずれか一方の核酸を含んでいる。検体液としては、土壌、海水、河川水、細胞懸濁液、細胞培養液、培養上清液、血液、唾液、鼻咽頭拭い液、その他の体液等、核酸を含むもの全般が挙げられる。検体液導入部１２ａは、検体液供給路１２ｈを介して、秤量・混合部Ａ１２ｄと接続されている。検体液導入部１２ａから導入された検体液は、検体液供給路１２ｈを通って、秤量・混合部Ａ１２ｄに供給される。

【0029】

試薬保持部１２ｃは、試薬が保持される部分である。試薬は、検体液から核酸を抽出する抽出液と、検体液中の不要な成分を除去する洗浄液と、核酸を回収する回収液と、核酸と反応するＰＣＲ試薬と、を含む。ＰＣＲ試薬としては、耐熱性ＤＮＡポリメラーゼ、プライマー、デオキシヌクレオシド三リン酸及び蛍光プローブ等の混合液が挙げられる。試薬は試薬導入部１２ｂから供給されてもよいし、予め試薬保持部１２ｃに保持・保管されていてもよい。試薬保持部１２ｃは、試薬供給路１２ｉを介して、秤量・混合部Ａ１２ｄと接続されている。試薬保持部１２ｃに保持された試薬の抽出液、洗浄液及び回収液は、試薬供給路１２ｉを通って、秤量・混合部Ａ１２ｄに供給される。また、試薬保持部１２ｃは、試薬供給路１２ｌを介して、秤量・混合部Ｂ１２ｆと接続されている。試薬保持部１２ｃに保持された試薬のＰＣＲ試薬は、試薬供給路１２ｌを通って、秤量・混合部Ｂ１２ｆに供給される。

【0030】

秤量・混合部Ａ１２ｄは、検体液と抽出液とがそれぞれ秤量され混合される部分である。秤量・混合部Ａ１２ｄでは、検体液導入部１２ａから供給された検体液と、試薬保持部１２ｃから供給された抽出液とが、それぞれ規定量秤量され、混合される。あるいは、検体液を導入する際、検体液と抽出液との混合液が検体液導入部１２ａから導入されてもよい。秤量・混合部Ａ１２ｄは、混合液供給路１２ｊを介して、核酸抽出部１２ｅと接続されている。検体液と抽出液との混合液、並びに洗浄液及び回収液は、混合液供給路１２ｊを通って、核酸抽出部１２ｅに供給される。

【0031】

核酸抽出部１２ｅは、核酸の抽出が行われる部分である。核酸抽出部１２ｅでは、核酸を吸着体に吸着させることで核酸の抽出が行われる。ここで、吸着体とは、核酸を担持するための担持体であり、膜、フィルタ、多孔質体等、特に形状は限定されない。吸着体の材料としては、ケイ素化合物、リン酸塩鉱物類等が挙げられる。核酸の抽出後、抽出液成分及び検体液の不要部（夾雑物）を除去するために、洗浄液により吸着体の洗浄が行われる。洗浄液は塩基性化合物を有し、かつ、そのｐＨは塩基性化合物の酸解離定数ｐＫａよりも小さい。そのような洗浄液を用いることで、核酸と吸着体との結合を維持したまま、不要部（夾雑物）を吸着体から洗い流すことができる。吸着体の洗浄後、回収液により核酸を吸着体から回収する。回収液のｐＨは、塩基性化合物の酸解離定数ｐＫａよりも大きい。そのような回収液を用いることで、吸着体と核酸を分離し、回収液と共に核酸を回収することができる。核酸抽出部１２ｅは、回収液供給路１２ｋを介して、秤量・混合部Ｂ１２ｆと接続されている。回収液は、回収液供給路１２ｋを通って、秤量・混合部Ｂ１２ｆに供給される。

【0032】

秤量・混合部Ｂ１２ｆは、核酸抽出部１２ｅから供給された回収液と、試薬保持部１２ｃから供給されたＰＣＲ試薬とが混合される部分である。秤量・混合部Ｂ１２ｆでは、回収液とＰＣＲ試薬とが混合されることで、上述した試料が生成される。秤量・混合部Ｂ１２ｆは、試料供給路１２ｍを介して、温調部１２ｇと接続されている。秤量・混合部Ｂ１２ｆで生成された試料は、試料供給路１２ｍを通って、温調部１２ｇに供給される。

【0033】

温調部１２ｇは、後述する温度調節装置２０により、試料の加温及び冷却が行われる部分である。また、温調部１２ｇは、後述する光検出装置３０により、試料が光学的に検出される部分である。図３に示す例においては、３つの温調部１２ｇが設けられている。温調部１２ｇでは、秤量・混合部Ｂ１２ｆから供給された試料が保持される。温調部１２ｇは、例えば、１μＬ以上５μＬ以下の試料を保持可能であってもよい。試料は、この温調部１２ｇに保持された状態で、後述する温度調節装置２０により加温及び冷却が行われ、また、後述する光検出装置３０により光学的に検出される。

【0034】

マイクロチップ１０は、送液のために、ポンプ等と接続されていてもよい。あるいは、マイクロチップ１０に光ガス発生テープが設けられ、光ガス発生テープを用いてガスを発生させて、マイクロチップ１０内で送液してもよい。ここで、光ガス発生テープとは光照射により気体を発生することができるテープである。

【0035】

また、マイクロチップ１０は、送液した不要な液を回収するために、回収部と接続されていてもよい。回収部は、マイクロチップ１０内に設けられていてもよい。

【0036】

また、マイクロチップ１０の流路１２内に、不図示の流路切替バルブが設けられていてもよい。この流路切替バルブを操作することにより、流路１２内の送液を制御してもよい。

【0037】

図３に示すように、基板１１は、後述する光検出装置３０の側に設けられた第１基板面１１ａと、第１基板面１１ａとは反対側に設けられた第２基板面１１ｂと、を有している。

【0038】

第２基板面１１ｂには、上述した流路１２が形成されている。流路１２は、第２基板面１１ｂに凹状に形成されている。図３に示す例においては、流路１２の断面形状は、矩形状になっている。しかしながら、このことに限られることはなく、流路１２の断面形状は、半円形状や半楕円形状等であってもよい。流路１２の幅は、１μｍ以上１０ｍｍ以下であってもよい。流路１２の深さも、１μｍ以上１０ｍｍ以下であってもよい。

【0039】

また、第２基板面１１ｂ上には、カバー部材１３が配置されている。カバー部材１３は、上述した流路１２の開口部を覆っている。カバー部材１３は、封止テープ、合成樹脂フィルム等の可撓性フィルム、エラストマー等の弾性部材であってもよい。カバー部材１３は、第２基板面１１ｂに対向する第１カバー面１３ａと、第１カバー面１３ａとは反対側に設けられた第２カバー面１３ｂと、を有している。第２カバー面１３ｂには、後述する温度調節装置２０が配置される。カバー部材１３の厚みは、０．０１ｍｍ以上１０ｍｍ以下であってもよい。

【0040】

基板１１は、透明な材料で構成されている。例えば、基板１１は、樹脂材料で構成されていてもよい。この場合、基板１１は、射出成形により作製されてもよいし、複数枚の樹脂シートを積層することにより作製されてもよい。樹脂材料は、熱可塑性樹脂であってもよい。樹脂材料としては、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリジメチルシロキサン、シクロオレフィンポリマー、環状オレフィンコポリマー、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレンテレフタレート、アモルファスポリオレフィン等が挙げられる。基板１１の厚みは、０．５ｍｍ以上１０ｍｍ以下であってもよい。なお、このことに限られることはなく、基板１１は、ガラス材料で構成されていてもよい。ここで、「透明」とは、可視光透過率が、５０％以上であることを意味し、好ましくは８０％以上である。可視光透過率は、分光光度計（（株）島津製作所製「ＵＶ－３１００ＰＣ」、ＪＩＳ Ｋ０１１５準拠品）を用いて測定波長３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の範囲内で１ｎｍ毎に測定したときの、各波長における全光線透過率の平均値として特定される。

【0041】

マイクロチップ１０は、ＰＣＲ装置１に着脱可能に構成されている。すなわち、マイクロチップ１０は、ＰＣＲ装置１に装着することができるとともに、ＰＣＲ装置１から取り外すこともできる。上述した検体液導入部１２ａからの検体液の導入及び上述した試薬導入部１２ｂからの試薬の導入は、マイクロチップ１０がＰＣＲ装置１から取り外された状態で行われてもよい。そして、試料のＰＣＲを行う際に、マイクロチップ１０がＰＣＲ装置１に装着されてもよい。マイクロチップ１０をＰＣＲ装置１に装着する際、マイクロチップ１０は、温度調節装置２０上に配置される。より具体的には、マイクロチップ１０は、第２カバー面１３ｂが後述する第１伝熱面２２ａに対向するように配置される。

【0042】

続いて、図４を用いて、温度調節装置２０について説明する。温度調節装置２０は、試料の加温及び冷却を行うことができるように構成されている。図４に示すように、温度調節装置２０は、ペルチェ素子２１と、伝熱部材２２と、を含んでいる。

【0043】

ペルチェ素子２１は、ペルチェ効果を実現する板状の半導体熱電素子である。ペルチェ素子２１は、発熱及び吸熱を行うように構成されている。ペルチェ素子２１は、図示しないペルチェ素子駆動回路に接続されている。ペルチェ素子２１は、ペルチェ素子駆動回路により駆動され、ペルチェ素子駆動回路から供給された電流に応じて、発熱あるいは吸熱を行う。図４に示すように、ペルチェ素子２１は、マイクロチップ１０の側に設けられた第１素子面２１ａと、第１素子面２１ａとは反対側に設けられた第２素子面２１ｂと、を有している。

【0044】

伝熱部材２２は、ペルチェ素子２１の第１素子面２１ａ上に配置されている。図４に示すように、伝熱部材２２は、第１伝熱面２２ａと、第１伝熱面２２ａとは反対側に設けられた第２伝熱面２２ｂと、を有している。第１伝熱面２２ａは、カバー部材１３の第２カバー面１３ｂに対向するとともに接触している。第２伝熱面２２ｂは、ペルチェ素子２１の第１素子面２１ａに対向するとともに接触している。伝熱部材２２は、ペルチェ素子２１の熱を、カバー部材１３を介して基板１１に伝える。すなわち、ペルチェ素子２１が発熱した場合、伝熱部材２２は、その熱を基板１１に伝えて、基板１１の加温を行う。また、ペルチェ素子２１が吸熱した場合、伝熱部材２２は、その熱（負の熱量）を基板１１に伝えて、基板１１の冷却を行う。このようにして、基板１１の温調部１２ｇに保持された試料の加温及び冷却が行われる。このような伝熱部材２２を設けることにより、第２基板面１１ｂにおける温度の均一性を向上させることができる。

【0045】

伝熱部材２２は、熱伝導性の高い材料で構成されている。伝熱部材２２の熱伝導率は、５０Ｗ・ｍ^－１・Ｋ^－１以上５００Ｗ・ｍ^－１・Ｋ^－１以下であってもよい。例えば、伝熱部材２２は、金属材料で構成されていてもよい。金属材料としては、鉄、ニッケル、アルミニウム、金、銅、銀等が挙げられる。また例えば、伝熱部材２２は、炭素材料で構成されていてもよい。炭素材料としては、グラファイト等が挙げられる。伝熱部材２２の厚みは、０．０１ｍｍ以上５ｍｍ以下であってもよい。伝熱部材２２の厚みが０．０１ｍｍ以上であることにより、第２基板面１１ｂにおける温度の均一性向上の効果を確保することができる。また、伝熱部材２２の厚みが５ｍｍ以下であることにより、伝熱部材２２の熱抵抗の増大を抑制することができ、試料の熱応答性の低下を抑制することができる。

【0046】

次に、図１を用いて、光検出装置３０について説明する。光検出装置３０は、試料を光学的に検出するように構成されている。例えば、光検出装置３０は、蛍光観察により試料を検出する。図１に示すように、光検出装置３０は、照射部３１と、受光部３２と、シャッター部３３と、制御部Ｃと、を備えている。

【0047】

照射部３１は、マイクロチップ１０に保持された試料に光を照射するように構成されている。照射部３１は、ＬＥＤ光源、ハロゲンランプ等で構成されていてもよい。図１に示す例においては、照射部３１とマイクロチップ１０との間（光路の間）に、集光レンズ３４、励起フィルタ３５、ダイクロイックミラー３６及び対物レンズ３７が配置されている。照射部３１から照射された光は、集光レンズ３４を通って、励起フィルタ３５に到達する。励起フィルタ３５は、照射部３１からの光のうち、試料の蛍光物質に適した特定の波長、例えば蛍光物質が５－カルボキシフルオレセインである場合には４７０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の範囲内の波長の光（励起光）を通過させる。励起フィルタ３５を通過した光は、ダイクロイックミラー３６に到達する。ダイクロイックミラー３６は、特定の波長の光を反射し、その他の波長の光を通過させるように構成されており、励起フィルタ３５を通過した光を反射する。図１に示す例においては、励起フィルタ３５を通過した光は、ダイクロイックミラー３６に対して４５度の入射角で入射し４５度の反射角で反射する。ダイクロイックミラー３６で反射した光は、対物レンズ３７を通って、マイクロチップ１０に到達する。マイクロチップ１０に到達した光は、第１基板面１１ａから基板１１内を透過して、温調部１２ｇに保持された試料に照射される（図４参照）。このようにして試料に照射部３１からの光が照射されると、試料の蛍光物質が光を吸収するとともに蛍光を発する。ここで、試料の蛍光の波長は、例えば５００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の範囲内の波長である。なお、上述した励起光の波長及び蛍光の波長は蛍光物質により異なる。また、蛍光物質は複数でもよく、その際は励起光の波長及び蛍光の波長も複数の波長領域を励起及び蛍光観察可能なように光学系が設計される。

【0048】

受光部３２は、マイクロチップ１０に保持された試料からの光を受光するように構成されている。受光部３２は、フォトダイオード、ＣＣＤセンサ、ＣＭＯＳセンサ等で構成されていてもよい。図１に示す例においては、マイクロチップ１０と受光部３２との間（光路の間）に、上述した対物レンズ３７、上述したダイクロイックミラー３６、吸収フィルタ３８、レンズ３９及びシャッター部３３が配置されている。試料からの反射光（蛍光）は、基板１１内を透過して第１基板面１１ａから射出する（図４参照）。光は、対物レンズ３７を通って、ダイクロイックミラー３６に到達する。光は、更にダイクロイックミラー３６を通過して、吸収フィルタ３８に到達する。吸収フィルタ３８は、試料の蛍光の波長以外の光を除去する。吸収フィルタ３８を通過した光は、レンズ３９及びシャッター部３３を通過して、受光部３２に到達する。このようにして、受光部３２は、試料からの光（反射光）を受光する。

【0049】

シャッター部３３は、照射部３１と受光部３２との間（光路の間）に配置されている。図１に示す例においては、シャッター部３３は、レンズ３９と受光部３２との間に配置されているが、照射部３１と受光部３２との間に配置されていればよく、その配置は任意である。シャッター部３３は、光を通過させる開状態と、光を通過させない閉状態とに移行可能に構成されている。シャッター部３３は、通常時には閉状態であるが、蛍光観察時に閉状態から開状態に移行し、予め設定された露光時間の経過後に開状態から閉状態に移行する。この露光時間をシャッター速度とも称する。シャッター部３３は、このシャッター速度を変更可能に構成されている。シャッター部３３は、シャッター速度を、例えば５μ秒以上１秒以下の範囲内で変更可能である。蛍光観察時のシャッター速度の設定方法については、後述する光検出方法の校正方法において説明する。

【0050】

制御部Ｃは、光検出装置３０を制御するように構成されている。すなわち、制御部Ｃは、照射部３１、受光部３２及びシャッター部３３を制御する。制御部Ｃは、照射部３１により、試料とは異なる対象物４０に光を照射する照射工程と、受光部３２により、対象物４０からの光であって、シャッター部３３を通過した光を受光する受光工程と、受光工程で受光した光の強度に応じて、シャッター部３３のシャッター速度を変更する変更工程と、を実行可能に構成されている。照射工程、受光工程及び変更工程については、後述する光検出方法の校正方法において説明する。また、制御部Ｃは、シャッター速度と受光部３２で受光する光の強度との比例関係を記憶する記憶部Ｓを含んでいてもよい。制御部Ｃは、変更工程において、この比例関係に基づいて、シャッター速度を変更してもよい。

【0051】

次に、このような構成からなる光検出装置３０の校正方法について説明する。光検出装置３０の校正は、任意のタイミングで行われてもよい。例えば、光検出装置３０の校正は、後述するように光検出装置３０の製造時に行われてもよいし、前回の校正から所定期間が経過した後、あるいは光検出装置３０が所定回数使用された後に行われてもよい。光検出装置３０の校正方法は、照射工程と、受光工程と、変更工程と、を備えている。

【0052】

まず、照射工程が行われる。照射工程においては、照射部３１により、試料とは異なる対象物４０に光を照射する。対象物４０は、例えば、蛍光フィルム４１であってもよい。蛍光フィルム４１は、樹脂材料で構成されている。樹脂材料としては、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂等が挙げられる。樹脂材料には、蛍光色素が含有されており、蛍光フィルム４１は、例えば４７０ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の範囲内の波長の光で強く蛍光するようになっている。蛍光フィルム４１の厚みは、例えば、１０μｍ以上２００μｍ以下であってもよい。

【0053】

図５に示すように、蛍光フィルム４１は、マイクロチップ１０の基板１１上に配置されてもよい。図５に示す例においては、蛍光フィルム４１は、第１基板面１１ａ上に配置されている。蛍光フィルム４１は、マイクロチップ１０がＰＣＲ装置１から取り外された状態で第１基板面１１ａ上に配置されてもよい。その後、第１基板面１１ａに蛍光フィルム４１が配置されたマイクロチップ１０がＰＣＲ装置１に装着されてもよい。

【0054】

照射工程においては、まず、照射部３１から光が照射される。照射部３１から照射された光は、集光レンズ３４を通って、励起フィルタ３５に到達する。続いて、励起フィルタ３５に到達した光のうち、特定の波長、例えば４７０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の範囲内の波長の光（励起光）が、励起フィルタ３５を通過して、ダイクロイックミラー３６に到達する。次に、ダイクロイックミラー３６に到達した光は、ダイクロイックミラー３６に対して４５度の入射角で入射し４５度の反射角で反射する。そして、ダイクロイックミラー３６で反射した光は、対物レンズ３７を通って、マイクロチップ１０上の蛍光フィルム４１に照射される（図５参照）。このようにして蛍光フィルム４１に照射部３１からの光が照射されると、蛍光フィルム４１に含有される蛍光色素が光を吸収するとともに蛍光を発する。

【0055】

照射工程の後、受光工程が行われる。受光工程においては、受光部３２により、対象物４０からの光であって、シャッター部３３を通過した光を受光する。受光工程においては、まず、蛍光フィルム４１からの反射光（蛍光）は、対物レンズ３７を通って、ダイクロイックミラー３６に到達する。続いて、光は、ダイクロイックミラー３６を通過して、吸収フィルタ３８に到達する。次に、光は、吸収フィルタ３８において蛍光フィルム４１の蛍光の波長以外の光が除去され、吸収フィルタ３８を通過する。そして、吸収フィルタ３８を通過した光は、レンズ３９及びシャッター部３３を通過して、受光部３２に到達する。なお、ここでのシャッター部３３のシャッター速度は任意であり、５μ秒以上１秒以下の範囲内で適宜設定される。このようにして、受光部３２により、試料からの光（反射光）を受光する。

【0056】

受光工程の後、変更工程が行われる。変更工程においては、受光工程で受光した光の強度（蛍光強度）に応じて、シャッター部３３のシャッター速度を変更する。変更工程において、シャッター部３３のシャッター速度を５μ秒以上１秒以下の範囲内で変更してもよく、５μ秒以上５００μ秒以下の範囲内で変更してもよく、５μ秒以上５０μ秒以下の範囲内で変更してもよい。また、変更工程において、受光工程で受光した光の５００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の範囲内における波長の強度に基づいて、シャッター部３３のシャッター速度を変更してもよい。例えば、受光部３２により受光した光の５００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の範囲内における波長の強度の最大値が所定強度よりも大きい場合、シャッター部３３のシャッター速度を現在のシャッター速度よりも小さくなるように変更してもよい。また例えば、受光部３２により受光した光の５００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の範囲内における波長の強度の最大値が所定強度よりも小さい場合、シャッター部３３のシャッター速度を現在のシャッター速度よりも大きくなるように変更してもよい。

【0057】

図６に、シャッター部３３のシャッター速度と受光部３２で受光する光の強度（蛍光強度）との関係を表すグラフを示す。図６において、縦軸は、受光部３２で受光する光の５００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の範囲内における波長の強度（蛍光強度）の最大値を示し、横軸は、シャッター部３３のシャッター速度を示す。このようなシャッター速度と受光部３２で受光する光の強度との関係は、例えば、シャッター部３３のシャッター速度を変更して、上述した照射工程及び受光工程を繰り返し行うことにより取得されてもよい。なお、図６において、光の強度の値は、マイクロチップ１０の流路１２の温調部１２ｇに対応する位置における任意の領域の光の強度の平均値である。図６に示すように、シャッター速度と受光部３２で受光する光の強度とは比例関係にある。このため、変更工程においては、シャッター速度と受光部３２で受光する光の強度との比例関係に基づいて、シャッター部３３のシャッター速度を変更してもよい。例えば、図６に示すように、受光部３２で受光する光の強度が１００になるように、シャッター部３３のシャッター速度を変更してもよい。

【0058】

上述した照射工程、受光工程及び変更工程は、手動操作により行われてもよいが、上述した制御部Ｃにより自動的に行われてもよい。すなわち、制御部Ｃが、照射部３１を制御することにより上述した照射工程を実行してもよく、受光部３２を制御することにより上述した受光工程を実行してもよく、シャッター部３３を制御することにより上述した変更工程を実行してもよい。この場合、記憶部Ｓは、図６に示すような、シャッター部３３のシャッター速度と受光部３２で受光する光の強度との比例関係を記憶してもよい。記憶部Ｓは、この関係を数式（比例式）として記憶してもよいし、データベースとして記憶してもよい。そして、制御部Ｃは、変更工程において、記憶部Ｓに記憶された当該比例関係に基づいて、シャッター部３３のシャッター速度を変更してもよい。例えば、制御部Ｃは、当該比例関係から、受光部３２で受光する光の強度が１００になるようなシャッター速度を算出して、シャッター部３３のシャッター速度をそのシャッター速度に変更してもよい。

【0059】

このようにして、光検出装置３０の校正が行われる。

【0060】

次に、光検出装置３０の製造方法について説明する。光検出装置３０の製造方法は、準備工程と、校正工程と、を備えている。

【0061】

まず、準備工程が行われる。準備工程においては、上述した光検出装置３０を準備する。すなわち、上述した照射部３１と、上述した受光部３２と、上述したシャッター部３３と、を備える光検出装置３０が準備される。

【0062】

準備工程の後、校正工程が行われる。校正工程においては、光検出装置３０の校正を行う。校正工程は、上述した照射工程と、上述した受光工程と、上述した変更工程と、を有している。照射工程、受光工程及び変更工程についての再度の説明は省略する。

【0063】

このようにして、校正が行われた光検出装置３０を得ることができる。

【0064】

次に、このようにして校正が行われた光検出装置３０を備えるＰＣＲ装置１の使用方法について説明する。ＰＣＲ装置１の使用方法は、保持工程と、温度調節工程と、光検出工程と、を備えている。

【0065】

まず、保持工程が行われる。保持工程においては、マイクロチップ１０により試料を保持する。保持工程においては、まず、マイクロチップ１０がＰＣＲ装置１から取り外された状態で、検体液導入部１２ａから検体液が導入されるとともに、試薬導入部１２ｂから試薬が導入される。その後、マイクロチップ１０がＰＣＲ装置１に装着される。この際、マイクロチップ１０は、第２カバー面１３ｂが第１伝熱面２２ａに対向するように、温度調節装置２０上に配置される。検体液導入部１２ａから導入された検体液は、検体液供給路１２ｈを通って、秤量・混合部Ａ１２ｄに供給される。試薬導入部１２ｂから導入された試薬は、試薬保持部１２ｃに保持される。試薬保持部１２ｃに保持された試薬の抽出液、洗浄液及び回収液は、試薬供給路１２ｉを通って、秤量・混合部Ａ１２ｄに供給される。また、試薬保持部１２ｃに保持された試薬のＰＣＲ試薬は、試薬供給路１２ｌを通って、秤量・混合部Ｂ１２ｆに供給される。秤量・混合部Ａ１２ｄでは、検体液導入部１２ａから供給された検体液と、試薬保持部１２ｃから供給された抽出液とが、それぞれ規定量秤量され、混合される。検体液と抽出液との混合液、並びに洗浄液及び回収液は、混合液供給路１２ｊを通って、核酸抽出部１２ｅに供給される。核酸抽出部１２ｅでは、核酸を吸着体に吸着させることで核酸の抽出が行われる。核酸の抽出後、抽出液成分及び検体液の不要部（夾雑物）を除去するために、洗浄液により吸着体の洗浄が行われる。吸着体の洗浄後、回収液により核酸が吸着体から回収される。回収液は、回収液供給路１２ｋを通って、秤量・混合部Ｂ１２ｆに供給される。秤量・混合部Ｂ１２ｆでは、核酸抽出部１２ｅから供給された回収液と、試薬保持部１２ｃから供給されたＰＣＲ試薬とが混合されて、試料が生成される。秤量・混合部Ｂ１２ｆで生成された試料は、試料供給路１２ｍを通って、温調部１２ｇに供給される。そして、温調部１２ｇにおいて、秤量・混合部Ｂ１２ｆから供給された試料が保持される。このようにして、マイクロチップ１０により試料が保持される。

【0066】

保持工程の後、温度調節工程が行われる。温度調節工程においては、温度調節装置２０により試料の加温及び冷却を行う。温度調節工程においては、まず、ペルチェ素子駆動回路によりペルチェ素子２１が駆動されて、ペルチェ素子２１が発熱する。ペルチェ素子２１の熱は、伝熱部材２２及びカバー部材１３を介して基板１１に伝えられる。こうして、基板１１の温調部１２ｇに保持された試料の加温が行われる。ここで、試料は、例えば９０℃以上１００℃以下の範囲内の温度まで加温される。これにより、例えば試料に含まれるＤＮＡの鎖が分離される（熱変性）。続いて、ペルチェ素子駆動回路によりペルチェ素子２１が駆動されて、ペルチェ素子２１が吸熱する。ペルチェ素子２１の熱（負の熱量）は、伝熱部材２２及びカバー部材１３を介して基板１１に伝えられる。こうして、基板１１の温調部１２ｇに保持された試料の冷却が行われる。ここで、試料は、例えば５５℃以上６５℃以下の範囲内の温度まで冷却される。これにより、例えば試料に含まれるプライマーが、目的とするＤＮＡと結合する（アニーリング）。次に、ペルチェ素子駆動回路によりペルチェ素子２１が駆動されて、ペルチェ素子２１が発熱する。ペルチェ素子２１の熱は、伝熱部材２２及びカバー部材１３を介して基板１１に伝えられる。こうして、基板１１の温調部１２ｇに保持された試料の加温が行われる。ここで、試料は、例えば７０℃以上８０℃以下の範囲内の温度まで加温される。これにより、例えば試料に含まれるＤＮＡポリメラーゼが、プライマーを起点にＤＮＡの相補鎖を生成する（伸長）。なお、ＰＣＲ試薬によっては、アニーリングと伸長が同じ温度で行われる場合もある。このような温度調節装置２０による試料の加温及び冷却が繰り返し行われることにより、例えば目的とするＤＮＡを増幅させるＰＣＲが行われる。

【0067】

温度調節工程の後、あるいは温度調節工程と同時に、光検出工程が行われる。光検出工程においては、温度調節装置２０により加温及び冷却が繰り返し行われた試料を光学的に検出する。光検出工程においては、まず、照射部３１から光が照射される。照射部３１から照射された光は、集光レンズ３４を通って、励起フィルタ３５に到達する。続いて、励起フィルタ３５に到達した光のうち、特定の波長、例えば４７０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の範囲内の波長の光（励起光）が、励起フィルタ３５を通過して、ダイクロイックミラー３６に到達する。次に、ダイクロイックミラー３６に到達した光は、ダイクロイックミラー３６に対して４５度の入射角で入射し４５度の反射角で反射する。そして、ダイクロイックミラー３６で反射した光は、対物レンズ３７を通って、マイクロチップ１０に到達する。マイクロチップ１０に到達した光は、第１基板面１１ａから基板１１内を透過し、温調部１２ｇに保持された試料に照射される。試料に照射部３１からの光が照射されると、試料の蛍光物質が光を吸収するとともに、例えば５００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の範囲内の波長の蛍光を発する。続いて、試料からの反射光（蛍光）は、基板１１内を透過して第１基板面１１ａから射出する。次に、光は、対物レンズ３７を通って、ダイクロイックミラー３６に到達する。続いて、光は、更にダイクロイックミラー３６を通過して、吸収フィルタ３８に到達する。次に、光は、吸収フィルタ３８において試料の蛍光の波長以外の光が除去され、吸収フィルタ３８を通過する。そして、吸収フィルタ３８を通過した光は、レンズ３９及びシャッター部３３を通過して、受光部３２に到達する。ここでのシャッター部３３のシャッター速度は、上述した光検出装置３０の校正方法の変更工程において変更されたシャッター速度である。こうして、受光部３２は、試料からの光（反射光）を受光する。

【0068】

このようにして、ＰＣＲ装置１により、試料に含まれる核酸を増幅させるＰＣＲが行われるとともに、その増幅した核酸が光学的に検出される。

【0069】

このように本実施の形態によれば、光検出装置３０の校正方法は、試料とは異なる対象物４０に光を照射する照射工程と、対象物４０からの光であって、シャッター部３３を通過した光を受光する受光工程と、受光工程で受光した光の強度に応じて、シャッター部３３のシャッター速度を変更する変更工程と、を備えている。このように、光検出装置３０の校正をシャッター速度の変更によって行うことにより、照射部３１の光源の調整を不要にすることができ、光検出装置３０の校正を容易かつ精度良く行うことができる。また、試料とは異なる対象物４０を用いることにより、光検出装置３０の校正時に試料のサンプルを用いることを不要にすることができる。試料は、経時劣化し易く、その準備及び管理が困難な場合がある。このため、光検出装置３０の校正を容易かつ精度良く行うことができる。

【0070】

また、本実施の形態によれば、対象物４０は、蛍光フィルム４１である。蛍光フィルム４１は、その準備及び管理が容易である。また、蛍光フィルム４１は、特定の範囲内の波長の光で強く蛍光することができ、受光部３２によりその蛍光を容易に捉えることができる。このため、光検出装置３０の校正を容易かつ精度良く行うことができる。また、蛍光フィルム４１は、フィルム状であるため、校正を行う際の装置レイアウトの制限を抑えることができる。

【0071】

また、本実施の形態によれば、対象物４０は、試料を保持可能な基板１１上に配置される。このことにより、対象物４０を基板１１上に配置して、対象物４０とともにマイクロチップ１０をＰＣＲ装置１に装着することで、対象物４０を光検出装置３０の対象位置に容易に配置することできる。また、実際の光検出装置３０による試料の検出時に近い環境で光検出装置３０の校正を行うことができる。このため、光検出装置３０の校正を容易かつ精度良く行うことができる。

【0072】

また、本実施の形態によれば、基板１１は、透明な材料で構成されている。このことにより、光検出装置３０による試料の検出時に、照射部３１からの光は、基板１１内を透過して試料に照射されることができる。また、試料からの光は、基板１１内を透過して射出することができる。このため、光検出装置３０による試料の検出を容易かつ精度良く行うことができる。

【0073】

とりわけ、本実施の形態によれば、基板１１は、樹脂材料で構成されている。この場合、試料だけでなく、試料を保持する基板１１も、照射部３１からの光により発光する場合がある。このような場合であっても、シャッター部３３のシャッター速度を小さくなるように変更することにより、基板１１の発光の影響を容易に低減することができる。このため、光検出装置３０の校正を容易かつ精度良く行うことができる。

【0074】

また、本実施の形態によれば、基板１１に、試料を保持可能な流路１２が形成されている。このことにより、基板１１により試料を容易に保持することができる。このため、光検出装置３０による試料の検出を容易かつ精度良く行うことができる。

【0075】

また、本実施の形態によれば、変更工程において、シャッター速度を１秒以下に変更する。このようにシャッター速度を１秒以下に制限することで、光検出装置３０による試料の検出時間（測定時間）の増大を抑制することができる。

【0076】

また、本実施の形態によれば、変更工程において、受光工程で受光した光の５００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の範囲内における波長の強度に基づいて、シャッター速度を変更する。このように蛍光の波長域に限定して評価を行うことで、光検出装置３０の校正をより一層精度良く行うことができる。

【0077】

また、本実施の形態によれば、変更工程において、シャッター速度と受光工程で受光する光の強度との比例関係に基づいて、シャッター速度を変更する。シャッター速度と受光工程で受光する光の強度との間にこのような比例関係が成り立つことにより、受光工程で受光した光の強度に応じたシャッター速度の変更を容易かつ正確に行うことができる。このため、光検出装置３０の校正を容易かつ精度良く行うことができる。

【0078】

また、本実施の形態によれば、試料は、ＤＮＡ及びＲＮＡの少なくともいずれか一方の核酸を含む検体液と、検体液に含まれる核酸と反応する試薬と、を含んでいる。このような試料は、ＰＣＲ装置１により、試料に含まれる核酸を増幅させるＰＣＲを行うことができる。本実施の形態による光検出装置３０は、このようなＰＣＲ装置１に好適に用いることができる。

【0079】

なお、上述した実施の形態においては、受光工程において、対象物４０からの反射光を受光する例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、受光工程において、対象物４０の透過光を受光するようにしてもよい。この場合、光検出装置３０は、例えば発光観察系や吸光度観察系により、試料を検出してもよい。

【0080】

また、上述した実施の形態においては、ＰＣＲ装置に用いられる光検出装置に適用される例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、広く、試料を光学的に検出する光検出装置に適用可能である。

【0081】

以上述べた実施の形態によれば、光検出装置の校正を容易かつ精度良く行うことができる。

【0082】

以上において、具体例を参照しながら一実施の形態を説明してきたが、上述した具体例が一実施の形態を限定することを意図していない。上述した一実施の形態は、その他の様々な具体例で実施されることが可能であり、その要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更、追加を行うことができる。

【符号の説明】

【0083】

１ ＰＣＲ装置
１０ マイクロチップ
１１ 基板
１２ 流路
２０ 温度調節装置
３０ 光検出装置
３１ 照射部
３２ 受光部
３３ シャッター部
４０ 対象物
４１ 蛍光フィルム
Ｃ 制御部
Ｓ 記憶部

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】