(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023142963
(43)【公開日】2023-10-06
(54)【発明の名称】処理装置
(51)【国際特許分類】
B01D 53/14 20060101AFI20230928BHJP
B01D 53/04 20060101ALI20230928BHJP
B01D 53/38 20060101ALI20230928BHJP
【ＦＩ】
B01D53/14 100
B01D53/04 ZAB
B01D53/04 230
B01D53/38 110
【審査請求】未請求
【請求項の数】5
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022050117
(22)【出願日】2022-03-25
(71)【出願人】
【識別番号】391002498
【氏名又は名称】フタバ産業株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110000578
【氏名又は名称】名古屋国際弁理士法人
(72)【発明者】
【氏名】市岡 亮一
(72)【発明者】
【氏名】奥出 竜基
【テーマコード（参考）】
4D002
4D012
4D020
【Ｆターム（参考）】
4D002BA03
4D002BA04
4D002CA08
4D002DA31
4D002DA41
4D002DA45
4D012BA02
4D012BA03
4D012CA03
4D012CB02
4D012CB16
4D012CD01
4D012CG01
4D020AA03
4D020BA16
4D020BB01
4D020BC01
4D020CA03
4D020CA05
4D020CC01
4D020CC07
4D020CC08
(57)【要約】
【課題】ガス中に含まれる所定の物質を吸収及び脱離する新たな構成の処理装置を提案する。
【解決手段】第１導入管は、第１吸収室及び第２吸収室に択一的に、物質を含む第１ガスを導入するように構成される。第２導入管は、第１吸収室及び第２吸収室に択一的に、第１吸収体及び第２吸収体に吸収された物質を脱離する第２ガスを導入するように構成される。第１導入管及び第２導入管は、いずれも移動可能は、第１吸収室及び第２吸収室との接続態様が異なる第１状態と、第２状態と、に遷移可能である。第１状態は、第１導入管が第１吸収室に接続し、かつ、第２導入管が第２吸収室に接続する。第２状態は、第１導入管が第２吸収室に接続し、かつ、第２導入管が第１吸収室に接続する。
【選択図】図３
【解決手段】第１導入管は、第１吸収室及び第２吸収室に択一的に、物質を含む第１ガスを導入するように構成される。第２導入管は、第１吸収室及び第２吸収室に択一的に、第１吸収体及び第２吸収体に吸収された物質を脱離する第２ガスを導入するように構成される。第１導入管及び第２導入管は、いずれも移動可能は、第１吸収室及び第２吸収室との接続態様が異なる第１状態と、第２状態と、に遷移可能である。第１状態は、第１導入管が第１吸収室に接続し、かつ、第２導入管が第２吸収室に接続する。第２状態は、第１導入管が第２吸収室に接続し、かつ、第２導入管が第１吸収室に接続する。
【選択図】図３
【特許請求の範囲】
【請求項1】
ガス中に含まれる所定の物質を吸収及び脱離する処理装置であって、
前記物質を吸収するように構成された第１吸収体及び第２吸収体と、
前記第１吸収体が収容される第１吸収室と、
前記第２吸収体が収容される第２吸収室と、
前記第１吸収室及び前記第２吸収室に択一的に、前記物質を含む第１ガスを導入するように構成された第１導入管と、
前記第１吸収室及び前記第２吸収室に択一的に、前記第１吸収体及び前記第２吸収体に吸収された前記物質を脱離する第２ガスを導入するように構成された第２導入管と、
を備え、
前記第１導入管及び前記第２導入管は、いずれも移動可能であって、前記第１吸収室及び前記第２吸収室との接続態様が異なる第１状態と、第２状態と、に遷移可能であり、
前記第１状態においては、前記第１導入管が前記第１吸収室に接続し、かつ、前記第２導入管が前記第２吸収室に接続し、
前記第２状態においては、前記第１導入管が前記第２吸収室に接続し、かつ、前記第２導入管が前記第１吸収室に接続する、処理装置。
前記物質を吸収するように構成された第１吸収体及び第２吸収体と、
前記第１吸収体が収容される第１吸収室と、
前記第２吸収体が収容される第２吸収室と、
前記第１吸収室及び前記第２吸収室に択一的に、前記物質を含む第１ガスを導入するように構成された第１導入管と、
前記第１吸収室及び前記第２吸収室に択一的に、前記第１吸収体及び前記第２吸収体に吸収された前記物質を脱離する第２ガスを導入するように構成された第２導入管と、
を備え、
前記第１導入管及び前記第２導入管は、いずれも移動可能であって、前記第１吸収室及び前記第２吸収室との接続態様が異なる第１状態と、第２状態と、に遷移可能であり、
前記第１状態においては、前記第１導入管が前記第１吸収室に接続し、かつ、前記第２導入管が前記第２吸収室に接続し、
前記第２状態においては、前記第１導入管が前記第２吸収室に接続し、かつ、前記第２導入管が前記第１吸収室に接続する、処理装置。
【請求項2】
請求項１に記載の処理装置であって、
前記第１状態及び前記第２状態のいずれの状態においても、前記第１導入管に接続する第１室と、
前記第１状態及び前記第２状態のいずれの状態においても、前記第２導入管に接続する第２室と、
を更に備え、
前記第１導入管は、前記第１吸収室及び前記第２吸収室に接続する側とは反対側の端部が前記第１室に接続し、
前記第２導入管は、前記第１吸収室及び前記第２吸収室に接続する側とは反対側の端部が前記第２室に接続し、
前記第１室と前記第２室とは、互いに連通しないように別々に設けられる処理装置。
前記第１状態及び前記第２状態のいずれの状態においても、前記第１導入管に接続する第１室と、
前記第１状態及び前記第２状態のいずれの状態においても、前記第２導入管に接続する第２室と、
を更に備え、
前記第１導入管は、前記第１吸収室及び前記第２吸収室に接続する側とは反対側の端部が前記第１室に接続し、
前記第２導入管は、前記第１吸収室及び前記第２吸収室に接続する側とは反対側の端部が前記第２室に接続し、
前記第１室と前記第２室とは、互いに連通しないように別々に設けられる処理装置。
【請求項3】
請求項１又は請求項２に記載の処理装置であって、
前記第１導入管から前記第１吸収室に至る流路において設けられ、前記第１吸収体に近づくにつれて流路断面が広くなり、前記第１吸収体が配置される空間に繋がる拡散室が形成されている、処理装置。
前記第１導入管から前記第１吸収室に至る流路において設けられ、前記第１吸収体に近づくにつれて流路断面が広くなり、前記第１吸収体が配置される空間に繋がる拡散室が形成されている、処理装置。
【請求項4】
請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載の処理装置であって、
前記第１導入管及び前記第２導入管は、共に回転することにより移動し、
前記第１導入管及び前記第２導入管が合わさることにより、１つの円筒状の回転体を構成する、処理装置。
前記第１導入管及び前記第２導入管は、共に回転することにより移動し、
前記第１導入管及び前記第２導入管が合わさることにより、１つの円筒状の回転体を構成する、処理装置。
【請求項5】
請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載の処理装置であって、
前記第１吸収室及び前記第２吸収室から択一的に、前記第１ガスから前記物質が前記第１吸収体及び前記第２吸収体に吸収された後の清浄ガスを排出するように構成された第１排出管と、
前記第１吸収室及び前記第２吸収室から択一的に、前記第１吸収体及び前記第２吸収体から脱離した前記物質を含む前記第２ガスである濃縮ガスを排出するように構成された第２排出管と、
を更に備え、
前記第１状態においては、前記第１排出管が前記第１吸収室に接続し、かつ、前記第２排出管が前記第２吸収室に接続し、
前記第２状態においては、前記第１排出管が前記第２吸収室に接続し、かつ、前記第２排出管が前記第１吸収室に接続する、処理装置。
前記第１吸収室及び前記第２吸収室から択一的に、前記第１ガスから前記物質が前記第１吸収体及び前記第２吸収体に吸収された後の清浄ガスを排出するように構成された第１排出管と、
前記第１吸収室及び前記第２吸収室から択一的に、前記第１吸収体及び前記第２吸収体から脱離した前記物質を含む前記第２ガスである濃縮ガスを排出するように構成された第２排出管と、
を更に備え、
前記第１状態においては、前記第１排出管が前記第１吸収室に接続し、かつ、前記第２排出管が前記第２吸収室に接続し、
前記第２状態においては、前記第１排出管が前記第２吸収室に接続し、かつ、前記第２排出管が前記第１吸収室に接続する、処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、ガス中に含まれる所定の物質を吸収及び脱離する処理装置に関する。
【背景技術】
【0002】
特許文献１には、有機溶剤含有ガスを処理することが可能な有機溶剤含有ガス処理装置が開示されている。当該装置は、吸着体ユニットの一方の側に濃縮ガス排出用回転チャンバ及び有機溶剤含有ガス導入用チャンバを備え、他方の側に脱着ガス導入用回転チャンバ及び清浄ガス排出用チャンバを備えている。有機溶剤含有ガス導入用チャンバは濃縮ガス排出用回転チャンバを内包するように設けられ、清浄ガス排出用チャンバは脱着ガス導入用回転チャンバを内包するように設けられる。また、濃縮ガス排出用回転チャンバと、脱着ガス導入用回転チャンバとは対向した状態で同期的に等速回転し、脱着ガス及び濃縮ガスの流路を形成する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２０１２－２０２２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、有機溶剤含有ガス導入用チャンバが濃縮ガス排出用回転チャンバを内包するように設けられ、清浄ガス排出用チャンバが脱着ガス導入用回転チャンバを内包するように設けられることから、メンテナンスが難しく、また、内部でガスが混ざり合い、吸収と脱離の性能が低下する可能性がある。
【0005】
本開示の一局面は、ガス中に含まれる所定の物質を吸収及び脱離する新たな構成の処理装置を提案する。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本開示の一態様は、ガス中に含まれる所定の物質を吸収及び脱離する処理装置であって、第１吸収体及び第２吸収体と、第１吸収室と、第２吸収室と、第１導入管と、第２導入管と、を備える。第１吸収体及び第２吸収体は、物質を吸収するように構成される。第１吸収室は、第１吸収体が収容される。第２吸収室は、第２吸収体が収容される。第１導入管は、第１吸収室及び第２吸収室に択一的に、物質を含む第１ガスを導入するように構成される。第２導入管は、第１吸収室及び第２吸収室に択一的に、第１吸収体及び第２吸収体に吸収された物質を脱離する第２ガスを導入するように構成される。第１導入管及び第２導入管は、いずれも移動可能であって、第１吸収室及び第２吸収室との接続態様が異なる第１状態と、第２状態と、に遷移可能である。第１状態においては、第１導入管が第１吸収室に接続し、かつ、第２導入管が第２吸収室に接続する。第２状態においては、第１導入管が第２吸収室に接続し、かつ、第２導入管が第１吸収室に接続する。このような構成によれば、第１ガス中に含まれる所定の物質を吸収及び脱離する新たな構成の処理装置を提供することができる。
【0007】
本開示の一態様は、第１室と、第２室と、を更に備えてもよい。第１室は、第１状態及び第２状態のいずれの状態においても、第１導入管に接続する。第２室は、第１状態及び第２状態のいずれの状態においても、第２導入管に接続する。第１導入管は、第１吸収室及び第２吸収室に接続する側とは反対側の端部が第１室に接続してもよい。第２導入管は、第１吸収室及び第２吸収室に接続する側とは反対側の端部が第２室に接続してもよい。第１室と第２室とは、互いに連通しないように別々に設けられてもよい。このような構成によれば、第１ガスと第２ガスとが別の流路を通るため、第１ガスと第２ガスとが混ざることを抑制することができる。
【0008】
本開示の一態様では、第１導入管から第１吸収室に至る流路において設けられ、第１吸収体に近づくにつれて流路断面が広くなり、第１吸収体が配置される空間に繋がる拡散室が形成されていてもよい。このような構成によれば、第１吸収室に偏りなく第１ガスを導入することができる。
【0009】
本開示の一態様では、第１導入管及び第２導入管は、共に回転することにより移動してもよい。第１導入管及び第２導入管が合わさることにより、１つの円筒状の回転体を構成してもよい。このような構成によれば、効率よく第１導入管及び第２導入管を移動させることができる。
【0010】
本開示の一態様は、第１排出管と、第２排出管と、を更に備えてもよい。第１排出管は、第１吸収室及び第２吸収室から択一的に、第１ガスから物質が第１吸収体及び第２吸収体に吸収された後の清浄ガスを排出するように構成される。第２排出管は、第１吸収室及び第２吸収室から択一的に、第１吸収体及び第２吸収体から脱離した物質を含む第２ガスである濃縮ガスを排出するように構成される。第１状態においては、第１排出管が第１吸収室に接続し、かつ、第２排出管が第２吸収室に接続してもよい。第２状態においては、第１排出管が第２吸収室に接続し、かつ、第２排出管が第１吸収室に接続してもよい。このような構成によれば、第１ガス中に含まれる所定の物質を吸収及び脱離する新たな構成の処理装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0011】
【図1】ガスの流れを説明する概略図である。
【図2】処理システムの構成を示す概略図である。
【図6】凹み部付近の拡大図である。
【図7】第１室、第２室、第１導入管及び第２導入管の分解斜視図である。
【図8】蓋部の拡大図である。
【図9】第１シール部の断面の拡大図である。
【図10】第２シール部の断面の拡大図である。
【図12】変形例の上流側の構成である。
【図13】変形例の上流側の構成である。
【発明を実施するための形態】
【0012】
以下、本開示の例示的な実施形態について図面を参照しながら説明する。
［１．実施形態］
［１－１．概要］
図１～図３Ａ，３Ｂに示される本実施形態の処理システム１は、本開示の処理装置、すなわちガス中に含まれる所定の物質を吸収及び脱離し、当該物質を回収及び貯留するための装置を含むシステムの一例である。処理システム１は、例えば、二酸化炭素回収システムであって、例えば発電機などの内燃機関から発生する燃焼排ガスＧ中の二酸化炭素を回収及び貯留するためのシステムに使用できる。
［１．実施形態］
［１－１．概要］
図１～図３Ａ，３Ｂに示される本実施形態の処理システム１は、本開示の処理装置、すなわちガス中に含まれる所定の物質を吸収及び脱離し、当該物質を回収及び貯留するための装置を含むシステムの一例である。処理システム１は、例えば、二酸化炭素回収システムであって、例えば発電機などの内燃機関から発生する燃焼排ガスＧ中の二酸化炭素を回収及び貯留するためのシステムに使用できる。
【0013】
まず、処理システム１におけるガスの流れについて説明する。処理システム１は、第１状態と、第２状態と、に遷移する。まず、図１にて、第１状態について説明する。第１状態では、燃焼排ガスＧが、第１室１９を経由して後述する第１導入管１５を通過し、第１吸収室１３に送られる。第１吸収室１３では第１吸収体１１により二酸化炭素が吸収される。その後、二酸化炭素が吸収された後の清浄ガスは、後述する第２導入管１６及び第３室２１を介して当該システムの外部に排出される。また同時に、キャリアガスＣが、第２室２０を経由して後述する第１排出管１７を通過し、第２吸収室１４に送られる。第２吸収室１４では、既に二酸化炭素を吸収している第２吸収体１２から二酸化炭素が脱離される。その後、二酸化炭素が脱離された後の濃縮ガスは、後述する第２排出管１８及び第４室２２を経由して、図示しない貯留槽に貯留される。
【0014】
このように、第１状態では、燃焼排ガスＧに含まれる二酸化炭素が第１吸収体１１に吸収され、同時に、第２吸収体１２に吸収されていた二酸化炭素がキャリアガスＣにより脱離して濃縮ガスとなる。
【0015】
次に、第２状態について説明する。第２状態では、第１状態とは異なり、第１室１９を経由した燃焼排ガスＧが第２吸収室１４に送られ、また同時に、第２室２０を経由したキャリアガスＣが第１吸収室１３に送られる。それにより、第２吸収室１４では燃焼排ガスＧから二酸化炭素が吸収され、第１吸収室１３では第１吸収室１３では第１吸収体１１から二酸化炭素が脱離される。すなわち、燃焼排ガスＧとキャリアガスＣとが送られる吸収室が入れ替わり、各吸収体における二酸化炭素の吸収と脱離が入れ替わる。
このように、第１状態と第２状態とを切り替えることで、二酸化炭素を吸収して清浄ガスを排出し、脱離した二酸化炭素の連続的な貯留が実現できる。
このように、第１状態と第２状態とを切り替えることで、二酸化炭素を吸収して清浄ガスを排出し、脱離した二酸化炭素の連続的な貯留が実現できる。
【0016】
［１－２．構成］
図２及び図３Ａ、３Ｂを用いて、上記ガス流れを実現する具体的な構造を説明する。図２に示されるように、処理システム１は、第１室１９と、第１導入管１５と、第１拡散室２３と、第２室２０と、第２導入管１６と、第２拡散室２４と、第３室２１と、第１排出管１７と、第１接続室１２３と、第４室２２と、第２排出管１８と、第２接続室１２４と、を備える。ここで、燃焼排ガスＧとキャリアガスＣとが第１吸収室１３及び第２吸収室１４に備えられる第１吸収体１１及び第２吸収体１２に至るまでを上流側、第１吸収体１１及び第２吸収体１２以降を下流側として、まず上流側の具体的構成を説明する。
図２及び図３Ａ、３Ｂを用いて、上記ガス流れを実現する具体的な構造を説明する。図２に示されるように、処理システム１は、第１室１９と、第１導入管１５と、第１拡散室２３と、第２室２０と、第２導入管１６と、第２拡散室２４と、第３室２１と、第１排出管１７と、第１接続室１２３と、第４室２２と、第２排出管１８と、第２接続室１２４と、を備える。ここで、燃焼排ガスＧとキャリアガスＣとが第１吸収室１３及び第２吸収室１４に備えられる第１吸収体１１及び第２吸収体１２に至るまでを上流側、第１吸収体１１及び第２吸収体１２以降を下流側として、まず上流側の具体的構成を説明する。
【0017】
本実施形態では、第１状態と第２状態とが切り替わるときに、第１導入管１５、第２導入管１６、第１拡散室２３及び第２拡散室２４が移動する。よって、まず第１状態における各管の配置を図３Ａを用いて説明する。
【0018】
第１室１９は、当該システム１において燃焼排ガスＧが最初に導入される、直方体の室である。
第１導入管１５は、ガスの流れ方向と直交する平面における断面が半円筒形のパイプである。第１導入管１５は、第１室１９と第１拡散室２３とを繋ぐ管である。この第１導入管１５により、第１室１９に入った燃焼排ガスＧを第１吸収室１３に向かって流す。
第１導入管１５は、ガスの流れ方向と直交する平面における断面が半円筒形のパイプである。第１導入管１５は、第１室１９と第１拡散室２３とを繋ぐ管である。この第１導入管１５により、第１室１９に入った燃焼排ガスＧを第１吸収室１３に向かって流す。
【0019】
なお、図４に示されるように、第１吸収室１３と第２吸収室１４は、筒状の部材を中央で仕切って構成されている。
第１拡散室２３は、第１導入管１５から第１吸収室１３に至る流路において設けられる。第１拡散室２３は、第１吸収体１１に近づくにつれて流路断面が広くなる流路であり、第１吸収体１１が配置される空間に繋がる形状に形成されている。具体的には、第１拡散室２３は、第１吸収体１１に向かってテーパ状に広がっている。
第１拡散室２３は、第１導入管１５から第１吸収室１３に至る流路において設けられる。第１拡散室２３は、第１吸収体１１に近づくにつれて流路断面が広くなる流路であり、第１吸収体１１が配置される空間に繋がる形状に形成されている。具体的には、第１拡散室２３は、第１吸収体１１に向かってテーパ状に広がっている。
【0020】
第２室２０は、キャリアガスＣが通る、直方体の室である。
第２導入管１６は、ガスの流れ方向と直交する平面における断面が半円筒形のパイプである。第２導入管１６は、第２室２０と第２拡散室２４とを繋ぐ管である。この第２導入管１６により、第２室２０に入ったキャリアガスＣを第２吸収室１４に向かって流す。
第２導入管１６は、ガスの流れ方向と直交する平面における断面が半円筒形のパイプである。第２導入管１６は、第２室２０と第２拡散室２４とを繋ぐ管である。この第２導入管１６により、第２室２０に入ったキャリアガスＣを第２吸収室１４に向かって流す。
【0021】
第２拡散室２４は、第２導入管１６から第２吸収室１４に至る流路において設けられる。第２拡散室２４は、第２吸収体１２に近づくにつれて流路断面が広くなる流路であり、第２吸収体１２が配置される空間に繋がる形状に形成されている。具体的には、第２拡散室２４は、第２吸収体１２に向かってテーパ状に広がっている。第１拡散室２３及び第２拡散室２４によって、第１吸収室１３及び第２吸収室１４の側が底となる円錐形状が形成される。
【0022】
次に、第２状態における各管の配置を図３Ｂを用いて説明する。図３Ａとの対比から明らかなように、第１導入管１５と第２導入管１６との配置が入れ替わっており、第１導入管１５及び第２導入管１６に接続される第１拡散室２３と第２拡散室２４との配置も入れ替わっている。
【0023】
第１導入管１５は、第１室１９に入った燃焼排ガスＧを、第１拡散室２３を介して第２吸収室１４に向かって流す。第２導入管１６は、第２室２０に入ったキャリアガスＣを、第２拡散室２４を介して第１吸収室１３に向かって流す。
【0024】
上記のように、第１導入管１５は、第１吸収室１３及び第２吸収室１４に択一的に、二酸化炭素を導入するように構成されている。第２導入管１６は、第１吸収室１３及び第２吸収室１４に択一的に、キャリアガスＣを導入するように構成されている。
【0025】
図５に示されるように、第１導入管１５及び第２導入管１６は、第１室１９から、第１拡散室２３及び第２拡散室２４までの間において、第１導入管１５の平面状の部分である第１平面部１５１と、第２導入管１６の平面状の部分である第２平面部１６１とが合わさることにより、１つの円筒状の回転体を構成する。言い換えると、第１導入管１５及び第２導入管１６は、円筒状体の内部を、円筒状体の長さ方向に広がる板によって中央で仕切ったような形状である。なお、第２導入管１６が第１導入管１５より長いため、第２導入管１６のみが配置される部分では半円筒形となる。また第１導入管１５と第２導入管１６の間には、回転軸２５が配置されている。第１導入管１５及び第２導入管１６は、共に回転軸２５を軸にして回転することにより、互いの位置を入れ替えるように移動可能である。
【0026】
図６示されるように、第１導入管１５及び第２導入管１６は、第１平面部１５１及び第２平面部１６１の幅方向中央に、回転軸２５を挿通するための凹み部３１ａを備える。凹み部３１ａは、第１導入管１５及び第２導入管１６の長さ方向に沿って、それぞれの長さ方向全域において窪んだ部分である。また、凹み部３１ａは、後述する隆起部３２を挿通するための溝部３３ａを備える。溝部３３ａは、第１導入管１５及び第２導入管１６の長さ方向に沿って、それぞれの長さ方向全域において、凹み部３１ａよりもさらに窪んだ部分である。
【0027】
図７は、第１室１９及び第２室２０と、第１導入管１５及び第２導入管１６と、を抜き出して示した図である。図７に示されるように、第２導入管１６は、第１導入管１５と隣接しない箇所であって、第１室１９に設けられた第１貫通孔１９ａと対応する位置に配置される蓋部３４ａ、及び、第２室２０に設けられた貫通孔２０ａと対応する位置に設けられる蓋部３４ｂを備える。蓋部３４ａ、３４ｂは、半円形の板状の部材である。
【0028】
第１室１９及び第２室２０に対して第１導入管１５及び第２導入管１６を組み付けた状態では、蓋部３４ａは第１貫通孔１９ａの内部に配置され、蓋部３４ｂは貫通孔２０ａの内部に配置される。また、第１導入管１５の第１拡散室２３とは反対側の開口１５ａは、第１室１９に形成される第２貫通孔１９ｂに配置され、それにより、第１導入管１５と第１室１９が連通する。また、第２導入管１６の第２拡散室２４とは反対側の開口１６ａは、貫通孔２０ａに配置され、それにより、第２導入管１６と第２室２０が連通する。
【0029】
図８に示されるように、蓋部３４ａは、直径部分の中心に、回転軸２５を挿通するための凹み部３１ｂを備える。凹み部３１ｂは、半円形の窪みである。また、凹み部３１ｂは、隆起部３２を挿通するための溝部３３ｂを備える。溝部３３ｂは、凹み部３１ｂよりもさらに窪んだ、半円形の窪みである。蓋部３４ｂも、蓋部３４ａと同様の形状である。
【0030】
回転軸２５は、第１導入管１５、第２導入管１６、第１拡散室２３及び第２拡散室２４を回転させるための軸である。回転軸２５は、モータ２９ａによって駆動される。回転軸２５は、第１室１９及び第２室２０を貫通している。回転軸２５は、隆起部３２を備える。隆起部３２は、回転軸２５の長さ方向に沿って一端から他端まで隆起する突条部分である。隆起部３２は、第１導入管１５及び第２導入管１６の溝部３３ａに嵌り、回転軸２５が回転する際に溝部３３ａに引っかかり回転方向に押すことにより、第１導入管１５及び第２導入管１６を回転させる。また、隆起部３２は、蓋部３４ａ，３４ｂの溝部３３ｂに嵌り、回転軸２５が回転する際に溝部３３ｂに引っかかり回転方向に押すことにより、蓋部３４ａ，３４ｂを回転させる。
【0031】
なお、ガスが第１吸収体１１及び第２吸収体１２を通過した後の下流側の構成も、上流側とほぼ同様の構成である。
第３室２１は、清浄ガスが通る、直方体の室である。
第３室２１は、清浄ガスが通る、直方体の室である。
【0032】
第１排出管１７は、第１導入管１５と同様の構成であり、ガスの流れ方向と直交する平面における断面が半円筒形のパイプである。第１排出管１７は、第３室２１と第１接続室１２３とを繋ぐ管である。これにより、第１排出管１７は、第１吸収室１３又は第２吸収室１４を通った清浄ガスを第３室２１に向かって流す。
【0033】
第１接続室１２３は、第１吸収室１３又は第２吸収室１４から第１排出管１７に至る流路において設けられる。例えば、第１状態においては、第１接続室１２３は、第１吸収体１１に近づくにつれて流路断面が広くなり、第１吸収体１１が配置される空間に繋がる形状に形成されている。具体的には、第１接続室１２３は、第１吸収体１１に向かってテーパ状に広がっている。
【0034】
第４室２２は、濃縮ガスが通る、直方体の室である。
第２排出管１８は、第２導入管１６と同様の構成であり、ガスの流れ方向と直交する平面における断面が半円筒形のパイプである。第２排出管１８は、第４室２２と第２接続室１２４とを繋ぐ管である。これにより、第２排出管１８は、第１吸収室１３又は第２吸収室１４を通った濃縮ガスを第４室２２に向かって流す。
第２排出管１８は、第２導入管１６と同様の構成であり、ガスの流れ方向と直交する平面における断面が半円筒形のパイプである。第２排出管１８は、第４室２２と第２接続室１２４とを繋ぐ管である。これにより、第２排出管１８は、第１吸収室１３又は第２吸収室１４を通った濃縮ガスを第４室２２に向かって流す。
【0035】
第２接続室１２４は、第１吸収室１３又は第２吸収室１４から第２排出管１８に至る流路において設けられる。例えば、第１状態においては、第２接続室１２４は、第１吸収体１１に近づくにつれて流路断面が広くなり、第１吸収体１１が配置される空間に繋がる形状に形成されている。具体的には、第２接続室１２４は、第１吸収体１１に向かってテーパ状に広がっている。
【0036】
第１排出管１７は、第１吸収室１３及び第２吸収室１４から択一的に、清浄ガスを排出する。第２排出管１８は、第１吸収室１３及び第２吸収室１４から択一的に、濃縮ガスを排出する。
【0037】
［１－３．第１吸収室及び第２吸収室］
図４に示されるように、第１吸収室１３は、第１吸収体１１を収容する。第１吸収室１３は、ガスの流れ方向における断面が半円筒形の室である。第２吸収室１４は、第２吸収体１２を収容する。第２吸収室１４は、ガスの流れ方向における断面が半円筒形の室である。上述したように、第１吸収室１３及び第２吸収室１４にて１つの筒体を構成する。つまり、筒体を長さ方向に半分に分断するように仕切り部材２８が設けられ、筒体の内部に、２つの半円形の室が形成されている。第１吸収体１１及び第２吸収体１２は、ガス中に含まれる所定の物質を吸収するように構成されている。一例として、第１吸収体１１及び第２吸収体１２は、燃焼排ガスＧ中に含まれる二酸化炭素を吸収するように構成されている。具体的には、第１吸収体１１及び第２吸収体１２は、活性炭やゼオライト等の二酸化炭素を吸着する材料を粒状に成形した材料である。図４に示されるように、第１吸収体１１及び第２吸収体１２は、半円形の形状に構成されている。
図４に示されるように、第１吸収室１３は、第１吸収体１１を収容する。第１吸収室１３は、ガスの流れ方向における断面が半円筒形の室である。第２吸収室１４は、第２吸収体１２を収容する。第２吸収室１４は、ガスの流れ方向における断面が半円筒形の室である。上述したように、第１吸収室１３及び第２吸収室１４にて１つの筒体を構成する。つまり、筒体を長さ方向に半分に分断するように仕切り部材２８が設けられ、筒体の内部に、２つの半円形の室が形成されている。第１吸収体１１及び第２吸収体１２は、ガス中に含まれる所定の物質を吸収するように構成されている。一例として、第１吸収体１１及び第２吸収体１２は、燃焼排ガスＧ中に含まれる二酸化炭素を吸収するように構成されている。具体的には、第１吸収体１１及び第２吸収体１２は、活性炭やゼオライト等の二酸化炭素を吸着する材料を粒状に成形した材料である。図４に示されるように、第１吸収体１１及び第２吸収体１２は、半円形の形状に構成されている。
【0038】
［１－４．第１シール部及び第２シール部］
第２貫通孔１９ｂと第１導入管１５及び第２導入管１６との境目５１、第１貫通孔１９ａと第２導入管１６及び蓋部３４ａとの境目５２、並びに、貫通孔２０ａと第２導入管１６及び蓋部３４ｂとの境目５３には、いずれも、第１シール部４１ａが設けられている。これらを代表して、境目５１に位置する第１シール部４１ａの構成を図９に示す。図９に示されるように、第１シール部４１ａは、パッキン４２ａと、パッキン固定部４３ａと、パッキン抑え部４４ａと、ネジ孔４５ａと、ネジ固定部４６ａと、を備える。
第２貫通孔１９ｂと第１導入管１５及び第２導入管１６との境目５１、第１貫通孔１９ａと第２導入管１６及び蓋部３４ａとの境目５２、並びに、貫通孔２０ａと第２導入管１６及び蓋部３４ｂとの境目５３には、いずれも、第１シール部４１ａが設けられている。これらを代表して、境目５１に位置する第１シール部４１ａの構成を図９に示す。図９に示されるように、第１シール部４１ａは、パッキン４２ａと、パッキン固定部４３ａと、パッキン抑え部４４ａと、ネジ孔４５ａと、ネジ固定部４６ａと、を備える。
【0039】
パッキン４２ａは、第１室１９の第２貫通孔１９ｂと、第１導入管１５及び第２導入管１６と、の間の隙間を埋めるように配置される部材である。パッキン４２ａは、環状の弾性部材であって、第１導入管１５及び第２導入管１６により構成される円筒状体を囲うように配置される。なお、第１貫通孔１９ａにおいては、第２導入管１６の外周と、蓋部３４ａの円弧側の側面と、を囲うように配置される。また、貫通孔２０ａにおいては、第２導入管１６の外周と、蓋部３４ｂの円弧側の側面と、を囲うように配置される。
【0040】
パッキン４２ａは、パッキン固定部４３ａと、パッキン抑え部４４ａとに挟まれて固定される。パッキン固定部４３ａ及びネジ固定部４６ａは、第１室１９の壁面に接着して固定されている。パッキン抑え部４４ａは、パッキン抑え部４４ａと、ネジ固定部４６ａとに形成されるネジ孔４５ａにネジ４７ａが挿通されることにより固定される。
【0041】
第１拡散室２３と第１吸収室１３又は第２吸収室１４との境目６１、及び、第２拡散室２４と第１吸収室１３又は第２吸収室１４との境目６２には、第２シール部４１ｂが設けられている。境目６１に位置する第２シール部４１ｂの構成を図１０に示す。図１０に示されるように、第２シール部４１ｂは、パッキン４２ｂと、パッキン固定部４３ｂと、パッキン抑え部４４ｂと、ネジ孔４５ｂと、ネジ固定部４６ｂと、を備える。
【0042】
パッキン４２ｂは、第１拡散室２３と第１吸収室１３との間、及び、第２拡散室２４と第２吸収室１４との間の隙間を埋めるように配置される部材である。パッキン４２ｂは、環状の弾性部材である。パッキン４２ｂは、パッキン固定部４３ｂと、パッキン抑え部４４ｂとに挟まれて固定される。パッキン固定部４３ｂ及びネジ固定部４６ｂは、第１吸収室１３及び第２吸収室１４の壁面に接着して固定されている。パッキン抑え部４４ｂは、ネジ孔４５ｂにネジ４７ｂが挿通されることにより固定される。
【0043】
なお、第１吸収体１１及び第２吸収体１２よりも下流側においても、上述した第１シール部４１ａ同様のシール部が、第３室２１に形成される第２貫通孔１９ｂと第１排出管１７及び第２排出管１８との境目５１、第３室２１に形成される第１貫通孔１９ａと第２排出管１８及び蓋部３４ａとの境目５２、並びに、第４室２２に形成される貫通孔２０ａと第２排出管１８及び蓋部３４ｂとの境目５３に備えられている。また、第２シール部４１ｂ同様のシール部が、第１接続室１２３と第１吸収室１３又は第２吸収室１４との境目６１、及び、第２接続室１２４と第１吸収室１３又は第２吸収室１４との境目６２に備えられている。
【0044】
［１－３．効果］
以上詳述した実施形態によれば、以下の効果が得られる。
（１ａ）第１導入管１５は、第１吸収室１３及び第２吸収室１４に択一的に、二酸化炭素を含む燃焼排ガスＧを導入し、第１吸収体１１又は第２吸収体１２に二酸化炭素を吸収させるように構成されている。第２導入管１６は、第１吸収室１３及び第２吸収室１４に択一的に、キャリアガスＣを導入し、第１吸収体１１又は第２吸収体１２から二酸化炭素を脱離するように構成されている。そして、第１状態と第２状態とでは、第１導入管１５と第２導入管１６のガスの送り先が異なる。このような構成によれば、ガス中に含まれる所定の物質を吸収及び脱離する新たな構成の処理装置を提供することができる。
以上詳述した実施形態によれば、以下の効果が得られる。
（１ａ）第１導入管１５は、第１吸収室１３及び第２吸収室１４に択一的に、二酸化炭素を含む燃焼排ガスＧを導入し、第１吸収体１１又は第２吸収体１２に二酸化炭素を吸収させるように構成されている。第２導入管１６は、第１吸収室１３及び第２吸収室１４に択一的に、キャリアガスＣを導入し、第１吸収体１１又は第２吸収体１２から二酸化炭素を脱離するように構成されている。そして、第１状態と第２状態とでは、第１導入管１５と第２導入管１６のガスの送り先が異なる。このような構成によれば、ガス中に含まれる所定の物質を吸収及び脱離する新たな構成の処理装置を提供することができる。
【0045】
（１ｂ）第１拡散室２３と第２拡散室２４とは互いに連通しないように別々に設けられる。このような構成によれば、燃焼排ガスＧとキャリアガスＣとが別の流路を通るため、燃焼排ガスＧとキャリアガスＣとが混ざることを抑制することができる。
【0046】
（１ｃ）第１拡散室２３は、第１吸収体１１に近づくにつれて流路断面が広くなる流路であり、第１吸収体１１が配置される空間に繋がる形状に形成されている。このような構成によれば、第１吸収室１３に偏りなく燃焼排ガスＧを導入することができる。
【0047】
（１ｄ）第１導入管１５及び第２導入管１６は、共に回転軸２５を軸にして回転することにより、互いの位置を入れ替えるように移動可能である。このような構成によれば、効率よく第１導入管１５及び第２導入管１６を移動させることができる。
【0048】
（１ｅ）第１導入管１５と第２導入管１６は、組み合わせることで円筒状になる。そのため、第１室１９の第２貫通孔１９ｂとの接続部分において、第１導入管１５及び第２導入管１６が回転しても隙間が生じにくくなり、ガス漏れの発生を抑制できる。
【0049】
また第１貫通孔１９ａの内部に配置される蓋部３４ａ及び第２導入管１６は、第１貫通孔１９ａの内周面とほぼ一致するような円形状となっているため、蓋部３４ａ及び第２導入管１６が回転しても隙間が生じにくくなる。また、貫通孔２０ａの内部に配置される蓋部３４ｂ及び第２導入管１６についても同様である。
【0050】
［１－４．対応関係］
本実施形態では、燃焼排ガスＧが第１ガスに相当し、キャリアガスＣが第２ガスに相当する。
本実施形態では、燃焼排ガスＧが第１ガスに相当し、キャリアガスＣが第２ガスに相当する。
【0051】
［２．他の実施形態］
以上、本開示の実施形態について説明したが、本開示は、上記実施形態に限定されることなく、種々の形態を採り得ることは言うまでもない。
以上、本開示の実施形態について説明したが、本開示は、上記実施形態に限定されることなく、種々の形態を採り得ることは言うまでもない。
【0052】
（２ａ）上記実施形態では、第１吸収体１１及び第２吸収体１２が、活性炭やゼオライト等の二酸化炭素を吸着する材料を粒状に成形した材料である構成を例示した。しかし、第１吸収体１１及び第２吸収体１２の種類はこれに限定されるものではない。例えば、図１１Ａに示されるように、第１吸収体１１及び第２吸収体１２は、アミン等の二酸化炭素と結合する化合物の液体の二酸化炭素吸収材を担持した粒状の固体であってもよい。また例えば、図１１Ｂに示されるように、第１吸収体１１及び第２吸収体１２は、多数の貫通孔が形成された形状、例えばハニカム形状であってもよい。ハニカム形状は、第１吸収室１３及び第２吸収室１４の長さ方向に延伸する複数の仕切り板が格子状に配置された立体形状であってもよいし、ブロックに孔が空けられた形状であってもよい。
【0053】
（２ｂ）上記実施形態では、燃焼排ガスＧが第１室１９を通り、キャリアガスＣが第２室２０を通る構成を例示した。しかし、燃焼排ガスＧ及びキャリアガスＣの流路はこれに限定されるものではない。例えば、図１２に示されるように、キャリアガスＣが第１室１９、第１導入管１５及び第１拡散室２３を通り、第１吸収室１３に導入されてもよい。また、燃焼排ガスＧが第２室２０、第２導入管１６及び第２拡散室２４を通り、第２吸収室１４に導入されてもよい。なお、このように構成された場合には、下流側の流路において、清浄ガスは、第２接続室１２４、第２排出管１８及び第４室２２に導入され、濃縮ガスは、第１接続室１２３、第１排出管１７及び第３室２１に導入されることとなる。
【0054】
（２ｃ）第１室１９に燃焼排ガスＧを導入する導入口は、第１室１９のいずれの側面に開口していてもよい。また、第２室２０にキャリアガスＣを導入する導入口は、第２室２０のいずれの側面に開口していてもよい。例えば、図３Ａ，３Ｂに示されるように、第１室１９の導入口が上方に開口し、第２室２０の導入口が下方に開口してもよいし、図１３に示されるように、第１室１９の導入口が下方に開口し、第２室２０の導入口が上方に開口してもよい。
【0055】
（２ｄ）上記実施形態では、処理システム１が、二酸化炭素回収システムであって、燃焼排ガスＧ中の二酸化炭素を回収及び貯留するためのシステムに使用する構成を例示した。しかし、処理システム１は他の用途に使用されてもよい。例えば、有機溶剤含有ガスから有機溶剤を回収及び貯留するためのシステムに使用されてもよい。
【0056】
（２ｅ）上記実施形態では、回転軸２５により、第１導入管１５、第２導入管１６、第１拡散室２３及び第２拡散室２４が回転する構成を例示した。しかし、第１拡散室２３及び第２拡散室２４は、第１導入管１５及び第２導入管１６と共に移動せず、第１導入管１５及び第２導入管１６のみが移動する構成であってもよい。つまり、第１拡散室２３は第１吸収室１３に固定されていてもよいし、第２拡散室２４は第２吸収室１４に固定されていてもよい。
【0057】
（２ｆ）上記実施形態における１つの構成要素が有する機能を複数の構成要素として分散させたり、複数の構成要素が有する機能を１つの構成要素に統合したりしてもよい。また、上記実施形態の構成の一部を省略してもよい。また、上記実施形態の構成の少なくとも一部を、他の上記実施形態の構成に対して付加、置換等してもよい。
【符号の説明】
【0058】
１…処理システム、１１…第１吸収体、１２…第２吸収体、１３…第１吸収室、１４…第２吸収室、１５…第１導入管、１５ａ，１６ａ…開口、１６…第２導入管、１７…第１排出管、１８…第２排出管、１９…第１室、１９ａ…第１貫通孔、１９ｂ…第２貫通孔、２０…第２室、２０ａ…貫通孔、２１…第３室、２２…第４室、２３…第１拡散室、２４…第２拡散室、２５…回転軸、２８…仕切り部材、２９ａ…モータ、３１ａ，３１ｂ…凹み部、３２…隆起部、３３ａ，…溝部、３４ａ，３４ｂ…蓋部、４１ａ…第１シール部、４１ｂ…第２シール部、４２ａ，４２ｂ…パッキン、４３ａ，４３ｂ…パッキン固定部、４４ａ，４４ｂ…パッキン抑え部、４５ａ，４５ｂ…ネジ孔、４６ａ，４６ｂ…ネジ固定部、４７ａ，４７ｂ…ネジ、５１，５２，５３，６１，６２…境目、１２３…第１接続室、１２４…第２接続室、１５１…第１平面部、１６１…第２平面部、Ｃ…キャリアガス、Ｇ…燃焼排ガス。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】