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特開2023-144404水分解による水素及び過酸化水素の製造方法
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  • 特開-水分解による水素及び過酸化水素の製造方法 図1
  • 特開-水分解による水素及び過酸化水素の製造方法 図2
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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023144404
(43)【公開日】2023-10-11
(54)【発明の名称】水分解による水素及び過酸化水素の製造方法
(51)【国際特許分類】
   C01B 3/04 20060101AFI20231003BHJP
   B01J 35/02 20060101ALI20231003BHJP
   B01J 31/36 20060101ALI20231003BHJP
   C01B 32/156 20170101ALI20231003BHJP
   C01B 32/158 20170101ALI20231003BHJP
   C01B 15/027 20060101ALI20231003BHJP
【FI】
C01B3/04 A
B01J35/02 J
B01J35/02 H
B01J31/36 M
C01B32/156
C01B32/158
C01B15/027
【審査請求】未請求
【請求項の数】7
【出願形態】OL
(21)【出願番号】P 2022051356
(22)【出願日】2022-03-28
(71)【出願人】
【識別番号】305060567
【氏名又は名称】国立大学法人富山大学
(74)【代理人】
【識別番号】110002860
【氏名又は名称】弁理士法人秀和特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】高口 豊
【テーマコード(参考)】
4G146
4G169
【Fターム(参考)】
4G146AA07
4G146AA11
4G146AB04
4G146AD35
4G146BA04
4G146CB22
4G169AA03
4G169BA04A
4G169BA08A
4G169BA08B
4G169BA21A
4G169BA26A
4G169BA26B
4G169BA27A
4G169BA27B
4G169BA48A
4G169BB04A
4G169BB06A
4G169BB06B
4G169BB08A
4G169BB08B
4G169BB10B
4G169BB11A
4G169BB15A
4G169BC25A
4G169BC25B
4G169BC54A
4G169BC54B
4G169BC60A
4G169BC67A
4G169BC67B
4G169BC70A
4G169BC70B
4G169BD04A
4G169BD06A
4G169BD12A
4G169BD12B
4G169BE15A
4G169BE15B
4G169BE16A
4G169BE16B
4G169BE38A
4G169BE38B
4G169BE44A
4G169BE46A
4G169BE46B
4G169CB81
4G169CC33
4G169DA08
4G169EA01X
4G169EA01Y
4G169EA03X
4G169EA03Y
4G169EA04X
4G169EA04Y
4G169EA06
4G169EB19
4G169EC28
4G169FC04
4G169HA02
4G169HA14
4G169HA20
4G169HB01
4G169HB06
4G169HB10
4G169HC24
4G169HC27
4G169HC28
4G169HD03
4G169HE09
4G169HE20
(57)【要約】
【課題】本発明は、水素及び酸素の分離による諸問題を解決し得る、光触媒を用いた水の分解により水素及び過酸化水素の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】水に光触媒材料を分散させた溶液に光照射し、二段階光励起系を用いて、水を分解して、水素及び過酸化水素を発生させる工程を含む、水素及び過酸化水素の製造方法。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
水に光触媒材料を分散させた溶液に光照射し、二段階光励起系を用いて、水を分解して、水素及び過酸化水素を発生させる工程を含む、水素及び過酸化水素の製造方法。
【請求項2】
前記光触媒材料は、光触媒、水酸化光触媒、及び水素生成助触媒を含む、請求項1に記載の水素及び過酸化水素の製造方法。
【請求項3】
さらに、酸化還元対を含む、請求項2に記載の水素及び過酸化水素の製造方法。
【請求項4】
前記光触媒が、単層カーボンナノチューブ、複層カーボンナノチューブ、色素内包カーボンナノチューブ、及び、これらとフラロデンドロンとの複合材料からなる群から選択される一以上である、請求項2に記載の水素及び過酸化水素の製造方法。
【請求項5】
前記水酸化光触媒が、BiVO、WO、TiO、及び、Cからなる群から選択される一以上である、請求項2に記載の水素及び過酸化水素の製造方法。
【請求項6】
前記水素生成助触媒が、Ru(Cl)、及び、[Ru(NH)]3+からなる群から選択される一以上である、請求項2に記載の水素及び過酸化水素の製造方法。
【請求項7】
前記酸化還元対が、[Co(bpy)]3+/2+、及び、[Co(phen)]3+/2+からなる群から選択される一以上である、請求項3に記載の水素及び過酸化水素の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、水分解による水素及び過酸化水素の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
太陽光と光触媒を利用した水分解水素製造技術(HO→H+1/2O)は、二酸化炭素を排出せず、比較的安価に水素を製造する手法として注目されてきた。特に、光触媒粒子を水中に分散させ、光照射によって、水素と酸素を得る手法は、最も安価に水素を製造することが可能であるため、太陽光水素製造法の実用化に必要とされる水素製造コスト目標値(30円/Nm)を達成可能な技術として期待されている。
【0003】
このような太陽光水素製造技術に用いられる材料として、本発明者は、表面に白金を担持した粉末状の酸化チタンに、カーボンナノチューブを吸着させてなる光触媒材料の提案を行った(特許文献1参照)。また、カーボンナノチューブ光触媒の製造方法に関する発明を行った(特許文献2参照)。さらに、カーボンナノチューブ光触媒とBiVOとを組み合わせて水分解を行い、水素と酸素を発生させる技術を提案した(非特許文献1)。
【0004】
しかし、生成する水素と酸素の混合ガスは爆発の危険がある上、ガス分離に必要とされる多大なエネルギーコストが実用化の妨げになっていた。これを解決するために、水素発生光触媒と酸素発生触媒とを別々の反応容器で反応させる方法などが提案されている。しかし、この場合、装置が煩雑となることやプロトン伝導膜などの物質移動が律速となるといった問題点があり、安価に大量の水素を生成するには不向きであった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開2021-137729号公報
【特許文献2】特開2015-171965号公報
【特許文献3】特開2004-323357号公報
【非特許文献】
【0006】
【非特許文献1】Yutaka Takaguchi et al.,“Carbon-Nanotube-based photocatalysts for Water Splitting in Cooperation with BiVO4 and [Co(bpy)3]3+/2+” Chem. Lett. 2019, 48, p. 410-413.
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
上述の通り、従来の光触媒を用いた水分解水素製造技術においては、水素と酸素の分離に多大なエネルギーコストを必要とするという問題があった。本発明は、このような水素及び酸素の分離による諸問題を解決し得る、光触媒を用いた水の分解方法、水素及び過酸化水素の製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明者は、上記の課題を解決すべく検討を重ねたところ、所定の光触媒材料を水に分散させた溶液系に光照射することにより、酸素ガスを発生させることなく、水素と過酸化水素を生成させる(2HO→H+H)ことができることを見出し、本発明を完成させるに至った。すなわち、本発明は、以下の態様を含むものである。
【0009】
[1]水に光触媒材料を分散させた溶液に光照射し、二段階光励起系を用いて、水を分解
して水素及び過酸化水素を発生させる工程を含む、水素及び過酸化水素の製造方法。
[2]前記光触媒材料は、光触媒、水酸化光触媒、及び水素生成助触媒を含む、[1]に記載の水素及び過酸化水素の製造方法。
[3]さらに、酸化還元対を含む、[2]に記載の水素及び過酸化水素の製造方法。
[4]前記光触媒が、単層カーボンナノチューブ、複層カーボンナノチューブ、色素内包カーボンナノチューブ、及び、これらとフラロデンドロンとの複合材料、からなる群から選択される一以上である、[2]に記載の水素及び過酸化水素の製造方法。
[5]前記水酸化光触媒が、BiVO、WO、TiO、及び、C、からなる群から選択される一以上である、[2]に記載の水素及び過酸化水素の製造方法。
[6]前記水素生成助触媒が、Ru(Cl)、及び、[Ru(NH)]3+、からなる群から選択される一以上である、[2]に記載の水素及び過酸化水素の製造方法。
[7]前記酸化還元対が、[Co(bpy)]3+/2+、及び、[Co(phen)]3+/2+、からなる群から選択される一以上であることを特徴とする[3]に記載の水素及び過酸化水素の製造方法。
【発明の効果】
【0010】
本発明によれば、光触媒を用いた光照射による水の分解において、酸素を発生させることなく、水素及び過酸化水素を生成させることが可能となる。これにより、多大なエネルギーコストを必要とする水素と酸素の分離が不要となり、また、過酸化水素は液体であり、水素が気体であるため、得られた水素の分離生成が容易になるという優れた効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【0011】
図1】本実施形態に係る反応プロセスを説明するための説明簡略図である。
図2】実施例1における水素生成量の経時変化を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0012】
以下、本発明の実施形態を詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の実施形態の一例(代表例)であり、本発明はこれらの内容に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。
【0013】
従来、太陽光と光触媒を利用した水分解水素製造技術は、HO→H+1/2Oの反応プロセスによって、二酸化炭素を排出せず、比較的安価に水素を製造する手法が注目されてきた。しかしながら、この手法により生成した水素と酸素の混合ガスは、爆発の危険がある上、それぞれのガスを分離するのに必要なエネルギーコストが実用化の妨げになっていた。かかる事情に鑑みて、本発明者は鋭意研究した結果、光触媒を利用した水分解水素製造技術において、酸素ガスを発生させることなく、化学量論比で水素と過酸化水素を生成させる(2HO→H+H)ことができることを見出した。
【0014】
上記知見に基づき、本発明の一実施形態は、水に光触媒材料を分散させた溶液に光照射し、二段階光励起系を用いて、水を分解して、水素及び過酸化水素を発生させることを特徴とする、水素及び過酸化水素の製造方法である。本実施形態によれば、酸素ガスを発生させずに、水素と過酸化水素を製造することができる。これにより、水素と酸素の混合ガスによる危険性がなく、また、水素は気体であり、過酸化水素は液体であることから、水素の分離精製が容易になる。さらに、過酸化水素は、幅広い用途に利用されており、販売することができるので、実質的に製造コストを低くすることができる。
【0015】
本実施形態に係る光エネルギーを利用した水の分解反応を図1に示しながら、説明する。なお、本明細書において、後述する「水酸化光触媒」と「光触媒」という用語は、それぞれ異なる意味を有し、「水酸化光触媒」は、「光触媒」の概念に含まれない。
水酸化光触媒はバンドギャップをもつ半導体であり、バンドギャップ以上のエネルギーをもつ光が照射(光励起)されると、図1に示すように価電子帯と伝導帯にそれぞれ正孔と電子が生成する。この生成した正孔が水を酸化して一時的に酸素が発生する。水酸化光触媒の光励起によって生成した電子は、酸化還元対を経由して、光触媒へと伝達される。光触媒において、この電子及び酸素(水酸化光触媒により生成される酸素、空気中の酸素)により過酸化水素が発生する。
【0016】
光触媒もバンドギャップをもつ半導体であり、バンドギャップ以上のエネルギーをもつ光が照射されると、価電子帯と伝導帯にそれぞれ電子と正孔が生成する。この正孔は、酸化還元対により伝達される電子との反応により消費される。一方、光触媒の光励起により生成した電子は、水素生成助触媒にて水から水素を発生させる反応により消費される。このような水酸化光触媒と光触媒をあわせた反応プロセスを、本開示において「二段階光励起系」と称する。本実施形態は、この二段階光励起光系を用いて、水から水素と過酸化水素とに分解することが特徴である。
【0017】
本実施形態に係る光触媒材料は、少なくとも光触媒、水酸化光触媒及び水素生成助触媒を含むものである。また、必要に応じて、酸化還元対を含むものである。光触媒は、単層カーボンナノチューブ、複層カーボンナノチューブ、色素内包カーボンナノチューブ(カーボンナノチューブの内部空間に有機色素を封じ込めたもの)、又は、これらとフラロデンドロンとの複合材料を用いることができる。例えば、特許文献2に開示されるコアシェル型カーボンナノチューブを用いることができる。また、特許文献3に記載される方法で合成したフラロデンドロンを用いることができる。光触媒は、溶液に対して100~2000μg/Lとすることができる。
【0018】
本実施形態に係る水酸化光触媒は、少なくとも水を酸化して酸素を生成するという機能を有していればよく、例えば、BiVO、WO、TiO、及びC、からなる群から選択される一以上を用いることができる。水酸化光触媒は、溶液に対して100~1000mg/Lとすることができる。
【0019】
本実施形態に係る水素生成助触媒は、少なくとも光触媒の伝導帯の電子を利用して水から水素を生成するという機能を有していればよく、例えば、Ru(Cl)、及び、[R
u(NH)]3+、からなる群から選択される一以上を用いることができる。水素
生成助触媒は、溶液に対して100~1000μmol/Lとすることができる。
【0020】
本実施形態に係る酸化還元対は、少なくとも水酸化光触媒の伝導帯の電子により還元され、かつ、光触媒の価電子帯の正孔により酸化されるという機能を有していればよく、例えば、[Co(bpy)]3+/2+、及び、[Co(phen)]3+/2+、からなる群から選択される一以上を用いることができる。酸化還元対は、溶液に対して200~1000μmol/Lとすることができる。
【0021】
光触媒材料を分散させる溶液として、通常、蒸留水などの純水を用いることが好ましいが、本発明の効果を失わせることのない範囲で、他の成分や不純物などを含んでもよい。溶液のPHを3.0~8.5に調整することが好ましい。
【0022】
光照射においては、光触媒及び水酸化光触媒のバンドギャップ以上のエネルギーをもつ光を照射する必要があり、例えば、可視光線、紫外線等を用いることができる。少なくとも420~550nmの波長を有する光を用いることが好ましい。光源としては、太陽光、キセノンラン、UVランプ、UV-LED、エキシマランプ等を用いることができる。
また、光源は、1種類で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、光の強度は50W/m以上であることが好ましく、2000W/m以下であることが好
ましい。光の強度は、水素や過酸化水素の生成反応の進行に応じて、適宜、調整することができる。
【実施例0023】
以下、実施例を用いて、本発明をより詳細に説明するが、本発明の範囲が実施例の記載により限定されないことはいうまでもない。
【0024】
(実施例1)
カーボンナノチューブ含有溶液(0.75mL)に、RuCl(6.3mg、30μmol)を加えた後、30分攪拌して、カーボンナノチューブにRu(III)錯体助触媒を担持させた。次いで、この溶液を光触媒活性評価用のセルに、蒸留水(149.25mL)の一部で共洗いしながら、移し入れた。
上記で得られた溶液にBiVO(30mg、92.7μmol)及び[Co(bpy)]SO (46.8mg、65.6μmol)を加えた後、先に用いた蒸留水の一部を洗い入れ、最終的にセルに入れた溶液の体積を50mLとした。このとき、溶液のpHを測定したところ、3.64であった。
【0025】
上記で得られたセルを光触媒活性評価装置に配置し、脱気を5回行なった後、セルに附属の圧力計(Nagano Keiki ink.,GC31 and KR85)で圧力を測定しながら、Arガスを導入して、所望の減圧状態である8.9kPaに調整した。
次に、セル中の溶液を撹拌しながら、キセノンランプ(500W、Ushio model UXL-500Wを用いて、白色光(波長:422nm~,UVカットオフフィルター,ASAHI SPECTRA CO,M.C.)で光照射して、水素と酸素の生成
量を30分ごとに、ガスクロマトグラフィー(Shimadzu,TCD、Ar carrier gas)を用いて測定した。
【0026】
図2に、水素生成量の経時変化を示す。光照射を開始すると、すぐに継続的な水素生成が確認され、5時間後の水素生成量は57.8μmolであった。また、その間の水素生成速度は14.3μmol/時間であった。一方、酸素の生成は確認されなかった。反応後の溶液を高速液体クロマトグラフィー(EicompakSGR,HITEC-500/510)を用いて分析したところ、Hの生成量は61.0μmolであった。
以上の結果から、2HO→H+Hの水の分解反応により、化学量論比に従ったH(過酸化水素)とH(水素)が生成していることが確認された。
【0027】
(参考例1)
BiVO(6.0mg)、および、単層カーボンナノチューブ(商標登録:HiPco)/フラロデンドロン複合材料の水分散液(150μL、HiPco含有量0.015mg)を純水15mLに分散させた。
【0028】
反応速度を室温に保ち、マグネティックスターラー用いて攪拌させながら、キセノンランプ(500W、Ushio model UXL-500Wを用いて、白色光(波長:422nm~,UVカットオフフィルター,ASAHI SPECTRA CO,M.C.)で3時間、光照射したところ、0.074μmolの過酸化水素が生成した。
溶液の分析には、高速液体クロマトグラフィー(EicompakSGR,HITEC-500/510)を用い、移動相には、NaSO水溶液(EDTA-2Na、50mg/Lを含有する)を用い、流速350μL/分、検出電圧500mVを行った。実施例1との違いは、水素生成助触媒の有無であるが、水素生成助触媒が無い場合は、水素は発生せず、過酸化水素のみが発生することが分かった。
【産業上の利用可能性】
【0029】
本発明は、太陽光水素製造装置への利用が可能である。現行技術の化石燃料を用いる水素製造法では、二酸化炭素を排出するため、SDGs(持続可能な開発目標)の観点から問題が多かった。また、代替技術として開発されてきた人工光合成・光触媒技術(水分解による水素と酸素の生成技術)と異なり、1)水素と酸素の混合ガスを発生しないため、爆発・引火の危険性が少ない、2)水素と酸素の分離が不要で、水素の製造コストを下げることができる、3)過酸化水素は酸素よりも売価が高く、実質的に水素の製造コストを下げることに繋がる、という利点があることから産業的な利用性が高い。さらに、助触媒の開発により、二酸化炭素還元反応によるCO固定化や、様々な化成品合成、あるいは、マイクロプラスチック分解水素製造などの用途にも適用できる。
図1
図2