特開 2023-144467 半導体装置および電力変換装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023144467

(43)【公開日】2023-10-11

(54)【発明の名称】半導体装置および電力変換装置

(51)【国際特許分類】

   H01L 29/78 20060101AFI20231003BHJP

   H01L 29/861 20060101ALI20231003BHJP

   H01L 21/76 20060101ALI20231003BHJP

   H01L 21/8234 20060101ALI20231003BHJP

【ＦＩ】

H01L29/78 657D

H01L29/78 653C

H01L29/91 C

H01L29/78 652R

H01L27/06 102A

【審査請求】未請求

【請求項の数】5

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022051445

(22)【出願日】2022-03-28

(71)【出願人】

【識別番号】000233273

【氏名又は名称】株式会社 日立パワーデバイス

(74)【代理人】

【識別番号】110000350

【氏名又は名称】ポレール弁理士法人

(72)【発明者】

【氏名】白石 正樹

【テーマコード（参考）】

5F048

【Ｆターム（参考）】

5F048AC10

5F048BB19

5F048BC03

5F048BC12

5F048BD07

(57)【要約】

【課題】
ＲＣ－ＩＧＢＴのダイオード部のｐボディ層面積を低減してホール注入を抑制し、リカバリー特性を向上できる半導体装置および電力変換装置を提供する。
【解決手段】
本発明の半導体装置１００は、１つのチップ内にＩＧＢＴ部とダイオード部とを有するＲＣ－ＩＧＢＴにおいて、１チップの裏面側から表面側に向かって、コレクタ電極層／カソード電極層１、バッファ層２、ドリフト層３、ボディ層１０、絶縁層４およびエミッタ電極層５が積層され、ダイオード部は複数のトレンチ６を有し、複数のトレンチ６は、トレンチ６間にボディ層１０を有する領域と、トレンチ６間にボディ層１０を有しない領域１１とを含むことを特徴とする。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

１つのチップ内にＩＧＢＴ部とダイオード部とを有するＲＣ－ＩＧＢＴにおいて、
前記チップの裏面側から表面側に向かって、コレクタ電極層／カソード電極層、バッファ層、ドリフト層、ボディ層、絶縁層およびエミッタ電極層が積層され、
前記ダイオード部は複数のトレンチを有し、
前記複数のトレンチは、前記トレンチ間にボディ層を有する領域と、前記トレンチ間にボディ層を有しない領域とを含むことを特徴とする半導体装置。

【請求項2】

請求項１に記載の半導体装置において、
前記ボディ層を有しない領域の前記トレンチの間隔が、前記ボディ層を有する領域の前記トレンチの間隔よりも小さいことを特徴とする半導体装置。

【請求項3】

請求項１または２に記載の半導体装置において、
前記ダイオード部を平面視したときに、前記カソード電極層に対する前記ボディ層の面積５０％以下であることを特徴とする半導体装置。

【請求項4】

請求項１または２に記載の半導体装置において、
前記ＩＧＢＴ部と前記ダイオード部との境界に、前記ボディ層を有しない前記トレンチを複数配置することを特徴とする半導体装置。

【請求項5】

一対の直流端子と、
交流出力の相数と同数の交流端子と、
前記一対の直流端子間に接続され、スイッチング素子と前記スイッチング素子に逆並列に接続されたダイオードとで構成された並列回路が２個直列に接続された、交流出力の相数と同数のスイッチングレッグと、
前記スイッチング素子を制御するゲート回路と、を有する電力変換装置であって、
前記ダイオードおよび前記スイッチング素子は、請求項１に記載の半導体装置であることを特徴とする電力変換装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、半導体装置および電力変換装置に関する。

【背景技術】

【0002】

同一チップ内にＩＧＢＴ（Ｉｎｓｕｌａｔｅｄ Ｇａｔｅ Ｂｉｐｏｌａｒ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）とダイオードを内蔵した逆導通ＩＧＢＴ（以降、「ＲＣ－ＩＧＢＴ」と称する。）は、（１）ＩＧＢＴとダイオードのターミネーション領域を共通化できることによるチップサイズ低減および（２）ＩＧＢＴ領域またはダイオード領域で発生した損失がチップ全体で放熱されるために熱抵抗が低減、といったメリットがある。一方、ＩＧＢＴとダイオードを同一チップ内に作りこむため、各々のチップの同時最適化が難しく、特にダイオード部のライフタイム制御が困難であり、ダイオードの低注入化やリカバリー損失低減が課題である。

【0003】

ＲＣ－ＩＧＢＴのダイオード部の低注入化を課題とする技術として、例えば、特許文献１がある。特許文献１には、領域Ａ（ＩＧＢＴ領域）に第１の溝６が複数設けられ、これらの溝は、第１の間隔で等間隔に設けられており、領域Ｂ（ダイオード領域）では、第２の溝１０が複数設けられ、これらの溝は、第２の間隔で等間隔に設けられており、上記第２の間隔を、上記第１の間隔よりも小さくするようにした半導体装置の構成が開示されている。特許文献１の構成によれば、領域Ｂ（ダイオード領域）により多くの溝が設けられているため、ダイオードがオンした時にダイオードのアノードとして寄与するＰベース層２の面積が相対的に減少するため、Ｐベース層２へのホールの注入が抑制され、第１主面近傍のキャリア密度が減少し、リカバリー動作時のピーク電流を下げることが可能となり、ダイオードのリカバリー特性を改善することができるとされている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２００８－５３６４８号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

上記特許文献１では、ＲＣ－ＩＧＢＴのダイオード部のＰベース層２（ｐボディ層）の面積を減少することで、ホール注入が抑制するものであるが、上記特許文献１の手法では、トレンチ間隔を小さくすることで、ｐボディ層面積を減少させているため、トレンチの加工の限界で、ｐボディ層面積の低減には限界がある。

【0006】

本発明は、上記事情に鑑み、ＲＣ－ＩＧＢＴのダイオード部のｐボディ層面積を低減してホール注入を抑制し、リカバリー特性を向上できる半導体装置および電力変換装置を提供する。

【課題を解決するための手段】

【0007】

上記課題を解決する本発明の一態様は、１つのチップ内にＩＧＢＴ部とダイオード部とを有するＲＣ－ＩＧＢＴにおいて、チップの裏面側から表面側に向かって、コレクタ電極層／カソード電極層、バッファ層、ドリフト層、ボディ層、絶縁層およびエミッタ電極層が積層され、ダイオード部は複数のトレンチを有し、複数のトレンチは、トレンチ間にボディ層を有する領域と、トレンチ間にボディ層を有しない領域とを含むことを特徴とする半導体装置である。

【0008】

また、上記課題を解決するための本発明の他の態様は、一対の直流端子と、交流出力の相数と同数の交流端子と、一対の直流端子間に接続され、スイッチング素子とスイッチング素子に逆並列に接続されたダイオードとで構成された並列回路が２個直列に接続された、交流出力の相数と同数のスイッチングレッグと、スイッチング素子を制御するゲート回路と、を有する電力変換装置であって、ダイオード、スイッチング素子およびゲート回路は、上記半導体装置であることを特徴とする電力変換装置である。

【0009】

本発明のより具体的な構成は、特許請求の範囲に記載される。

【発明の効果】

【0010】

本発明によれば、ＲＣ－ＩＧＢＴのダイオード部のｐボディ層面積を低減してホール注入を抑制し、リカバリー特性を向上できる半導体装置および電力変換装置を提供できる。

【0011】

なお、上記した以外の課題、構成及び効果については、下記する実施例の説明により、明らかにされる。

【図面の簡単な説明】

【0012】

【図1】本発明の半導体装置の第１の例を模式的に示す断面図

【図2】本発明の半導体装置の第２の例を模式的に示す断面図

【図3】本発明の電力変換装置の概略構成を示す回路図

【発明を実施するための形態】

【0013】

以下、本発明について、図面を参照しながら詳細に説明する。

【0014】

［半導体装置］
図１は本発明の半導体装置の第１の例を模式的に示す断面図である。図１に示すように、本発明の半導体装置（ＲＣ－ＩＧＢＴ）１００は、ＩＧＢＴ部とＤｉｏｄｅ部を有する。裏面側から表面側に向かって、コレクタ電極層／カソード電極層１、拡散層２、バッファ層３、ドリフト層４およびボディ層５、絶縁層１２およびエミッタ／アノード電極層６が積層された構造を有している。なお、図１中の導電型「ｐ」および「ｎ」は、反転しても良い。

【0015】

ＩＧＢＴ部において、表面側の構造は、ゲート電極Ｇおよびエミッタ／アノード電極Ｅ（Ａ）とトレンチ（ゲートトレンチ）６とが電気的に接続されている。トレンチ６は、酸化膜８で覆われている。トレンチ６間はｐボディ層１０が設けられている。なお、トレンチ９は、エミッタとしても良い。

【0016】

Ｄｉｏｄｅ部において、表面側の構造は、一部のトレンチ６間はｐボディ層１０が設けられていない領域（ｐボディ層１０が間引かれた領域）１１を有している。そして、ｐボディ層がない領域１１においては、トレンチ６の間隔がｐボディ層のある領域より狭く設けられている。具体的には、トレンチ６ａ～６ｃ、６ｄ～６ｆおよび６ｇ～６ｉの間隔が、トレンチ６ｃとトレンチ６ｄ間隔およびトレンチ６ｆとトレンチ６ｇの間隔よりも狭くなっている。このようにトレンチ間を狭くすることで、トレンチ６間のｎ^－層を空乏化し、耐圧を確保している。

【0017】

上記構造により、Ｄｉｏｄｅ部におけるｐボディ層の面積を低減することができ、ダイオードの低注入化を実現できる。これによって、半導体装置１００のリカバリー特性を向上できる。

【0018】

図１では、ｐボディ層のある領域とない領域が１：１で示されているが、両者の比は任意に変えてもよく、ｐボディ層の面積を任意に設定することで、ダイオードの順方向電圧とリカバリー損失のトレードオフを調整することができる。例えば、ダイオード部を平面視したときに、カソード電極層１に対するボディ層１０の面積５０％以下とすることで、ダイオードの低注入化を実現できる。

【0019】

図２は本発明の半導体装置の第１の例を模式的に示す断面図である。図２に示す半導体装置２００は、図１に示す半導体装置１００の構成に加えて、ＩＧＢＴ部とＤｉｏｄｅ部との境界にｐボディ層１０のない複数のトレンチ６が設けられている領域１２を有する。ＲＣ－ＩＧＢＴにおいて、ダイオードのリカバリー時に、ＩＧＢＴ部のＤｉｏｄｅ部との境界部分にホールが流れ込み、境界部で半導体装置２００が破壊する恐れがある。図２に示す半導体装置２００では、Ｄｉｏｄｅ部とＩＧＢＴ部の境界にｐボディ層１０のないトレンチ６を複数配置することで、Ｄｉｏｄｅ端部とＩＧＢＴ端部間の距離を広くすることができ、上記のような、ＩＧＢＴ部のＤｉｏｄｅ部との境界部分にホールが流れ込むことを抑制でき、半導体装置２００の破壊を抑制することができる。また、境界部のトレンチ間にはｐボディ層１０を設けないことで、ｐボディ層１０からのホール注入を抑制できる。

【0020】

［電力変換装置］
図８は本発明の電力変換装置の概略構成を示す回路図である。図８は、本実施形態の電力変換装置５００の回路構成の一例と直流電源と三相交流モータ（交流負荷）との接続の関係を示す。

【0021】

本実施形態の電力変換装置５００では、本発明の半導体装置を素子５２１～５２６として使用する。

【0022】

図８に示すように、本実施形態の電力変換装置５００は、一対の直流端子であるＰ端子５３１、Ｎ端子５３２と、交流出力の相数と同数の交流端子であるＵ端子５３３、Ｖ端子５３４、Ｗ端子５３５とを備えている。

【0023】

また、一対の電力スイッチング素子５０１および５０２の直列接続からなり、その直列接続点に接続されるＵ端子５３３を出力とするスイッチングレッグを備える。また、それと同じ構成の電力スイッチング素子５０３および５０４の直列接続からなり、その直列接続点に接続されるＶ端子５３４を出力とするスイッチングレッグを備える。また、それと同じ構成の電力スイッチング素子５０５および５０６の直列接続からなり、その直列接続点に接続されるＷ端子５３５を出力とするスイッチングレッグを備える。

【0024】

電力スイッチング素子５０１～５０６からなる３相分のスイッチングレッグは、Ｐ端子５３１、Ｎ端子５３２の直流端子間に接続されて、図示しない直流電源から直流電力が供給される。電力変換装置５００の３相の交流端子であるＵ端子５３３、Ｖ端子５３４、Ｗ端子５３５は図示しない三相交流モータに三相交流電源として接続されている。

【0025】

電力スイッチング素子５０１～５０６には、それぞれ逆並列にダイオード５２１～５２６が接続されている。例えばＩＧＢＴからなる電力スイッチング素子５０１～５０６のそれぞれのゲートの入力端子には、ゲート回路５１１～５１６が接続されており、電力スイッチング素子５０１～５０６はゲート回路５１１～５１６によりそれぞれ制御される。なお、ゲート回路５１１～５１６は統括制御回路（不図示）によって統括的に制御されている。

【0026】

ゲート回路５１１～５１６によって、電力スイッチング素子５０１～５０６を統括的に適切に制御して、直流電源Ｖｃｃの直流電力は、三相交流電力に変換され、Ｕ端子５３３、Ｖ端子５３４、Ｗ端子５３５から出力される。

【0027】

本発明の半導体装置（ＲＣ－ＩＧＢＴ）を電力変換装置５００に適用することで、電力スイッチング素子５０１～５０６およびダイオード５２１～５２６を１つにまとめることができ、装置の小型化を図ることができる。また、上述した通り、本発明の半導体装置を用いることで、ダイオード部のリカバリー特性を向上した電力変換装置を提供することができる。

【0028】

以上、本発明によれば、ＲＣ－ＩＧＢＴのダイオード部のｐボディ層面積を低減してホール注入を抑制し、リカバリー特性を向上できる半導体装置および電力変換装置を提供できることが示された。
なお、本発明は上記した実施例に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。例えば、上記した実施例は本発明を分かりやすく説明するために、具体的に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を有するものに限定されるものではない。

【符号の説明】

【0029】

１…コレクタ電極層／カソード電極層、２…バッファ層２、３…ドリフト層、４…絶縁層、５…エミッタ電極層、６，６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅ，６ｆ，６ｇ，６ｈ，６ｉ…トレンチ、１０…ｐボディ層、１１，１２…ｐボディ層の無い領域、１００，２００…半導体装置、５００…電力変換装置、５０１～５０６…電力スイッチング素子、５１１～５１６…ゲート回路、５２１～５２６…ダイオード、５３１…Ｐ端子、５３２…Ｎ端子、５３３…Ｕ端子、５３４…Ｖ端子、５３５…Ｗ端子。

【図1】

【図2】

【図3】