特開 2023-145188 乾燥装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023145188

(43)【公開日】2023-10-11

(54)【発明の名称】乾燥装置

(51)【国際特許分類】

   F26B 13/10 20060101AFI20231003BHJP

【ＦＩ】

F26B13/10 A

【審査請求】未請求

【請求項の数】6

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022052526

(22)【出願日】2022-03-28

(71)【出願人】

【識別番号】000219314

【氏名又は名称】東レエンジニアリング株式会社

(72)【発明者】

【氏名】中塩屋 徹

(72)【発明者】

【氏名】野村 和夫

(72)【発明者】

【氏名】渡邉 敦

【テーマコード（参考）】

3L113

【Ｆターム（参考）】

3L113AA03

3L113AB02

3L113AC01

3L113AC31

3L113AC52

3L113AC54

3L113AC67

3L113BA26

3L113CB01

3L113CB25

3L113DA30

(57)【要約】

【課題】基材に付与される張力が通常の搬送時よりも小さくなったとしても基材の破断を防止することができる乾燥装置を提供することを目的としている。
【解決手段】基材をロールツーロールにより所定の張力を付与して搬送する搬送経路上に設けられ、基材を搬送しながら基材に塗布された塗膜を乾燥させる乾燥装置であって、基材の下方および上方から気体を吹き付け、基材を浮揚させるとともに基材に塗布された塗膜を乾燥させる乾燥ノズルと、前記乾燥ノズルにより基材が浮揚する状態となる領域である浮揚領域内で、少なくとも基材の幅方向における一対のエッジ近傍を把持し、当該エッジの搬送経路を規定するエッジニップ部と、前記浮揚領域内において基材の下方または上方に設けられ、前記乾燥ノズルによって浮揚させられた状態で付与される張力が前記所定の張力よりも小さくなった基材の所定面と接触するサポート部材と、を備える構成とする。
【選択図】図３

【特許請求の範囲】

【請求項1】

基材をロールツーロールにより所定の張力を付与して搬送する搬送経路上に設けられ、基材を搬送しながら基材に塗布された塗膜を乾燥させる乾燥装置であって、
基材の下方および上方から気体を吹き付け、基材を浮揚させるとともに基材に塗布された塗膜を乾燥させる乾燥ノズルと、
前記乾燥ノズルにより基材が浮揚する状態となる領域である浮揚領域内で、少なくとも基材の幅方向における一対のエッジ近傍を把持し、当該エッジの搬送経路を規定するエッジニップ部と、
前記浮揚領域内において基材の下方または上方に設けられ、前記乾燥ノズルによって浮揚させられた状態で付与される張力が前記所定の張力よりも小さくなった基材の所定面と接触するサポート部材と、を備えることを特徴する乾燥装置。

【請求項2】

前記サポート部材を移動させるサポート部材移動手段と、を備え、
前記サポート部材移動手段は、下方または上方から基材と接近および離れるよう前記サポート部材を移動させることを特徴とする請求項１に記載の乾燥措置。

【請求項3】

前記サポート部材移動手段は、基材の搬送停止時には基材に押し当てるよう前記サポート部材を移動させ、基材の搬送時には基材に接触しないよう前記サポート部材を移動させることを特徴とする請求項２に記載の乾燥装置。

【請求項4】

前記エッジニップ部は、基材のエッジ近傍を挟持する複数のニップロールを有しており、
前記サポート部材が、基材の前記搬送経路において各々の前記ニップロールよりも上流または下流における前記ニップロールの近傍に位置するよう配置され、
前記サポート部材は、基材の幅方向に向かって延び、基材のエッジから中央に向かうに従って徐々に直径が増大するクラウン形状に形成されたローラーであることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の乾燥装置。

【請求項5】

前記乾燥ノズルは、基材の下方から気体を吹き付ける下側ノズルと、基材の上方から気体を吹き付ける上側ノズルと、を有し、
前記サポート部材は、前記下側ノズルまたは前記上側ノズルと基材を挟んで対向するよう配置されることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載の乾燥装置。

【請求項6】

前記エッジニップ部は、基材の搬送時には基材のエッジ近傍を把持し、基材の搬送停止時には基材のエッジ近傍を把持しないことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれかに記載の乾燥装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、シート状の基材を搬送しながら、基材に形成された塗膜を乾燥する乾燥装置に関するものである。

【背景技術】

【0002】

従来、リチウムイオン電池の電池用極板の製造工程の中には、ロールツーロール方式の搬送装置により搬送されるシート状の基材に対して、活物質、バインダー、導電助剤、および溶媒を含む電極材料のスラリーを塗布して塗膜を形成し、形成した塗膜を乾燥装置により乾燥する工程がある。

【0003】

一般的なロールツーロール方式の搬送装置は、基材を巻き出す巻出ロールと、基材を巻き取る巻取ロールと、巻出ロールから巻き出された基材が巻取ロールに巻き取られるまでに経由する搬送ロールと、を有している（たとえば、下記特許文献１）。そして、搬送装置は、巻出ロール、巻取ロール、および搬送ロールは、基材に所定の張力を付与しながら搬送している。

【0004】

従来の乾燥装置は、搬送装置による基材の搬送経路上に設けられ、基材が通過する筐体部と、筐体部内に設けられたノズルと、を有している（たとえば、下記特許文献２）。そして、乾燥装置は、ノズルの吹き出し口から基材へ気体を吹き付け、ノズルから吹き付ける気体によって筐体部内の温度を高めて基材上の塗膜を乾燥させると同時に、気体の風圧によって基材を浮揚させている。

【0005】

また、乾燥装置では、装置を一度停止してしまうと、筐体部内の温度を基材に形成された塗膜を乾燥させるために必要な温度に復旧させるまでに時間がかかる。そのため、搬送装置の基材を巻き取る巻取ロールを他の巻取ロールに切り替えるなどの比較的短い時間のメンテナンスを行う場合は、塗膜を乾燥させないときであっても、筐体部内の温度を保つために装置を停止させないことが一般的である。すなわち、ノズルから気体を基材に吹き付けて基材を浮揚させ続けている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【特許文献1】特開２０１２－０９７９１７号公報

【特許文献2】特開２０１４－１７３８０３号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

しかし、上記のような乾燥装置では、基材が破断してしまう場合があった。具体的には、乾燥装置の周辺装置において比較的短い時間のメンテナンスを行う場合は、塗膜を乾燥させないときであっても、筐体部内の温度を保つために、乾燥装置はノズルから気体を基材に吹き付けて基材を浮揚させ続けている。そして、巻取ロールの切り替えなどのメンテナンスを行うときは、少なくとも基材に付与される張力が通常の搬送時よりも小さくなる。その結果、ノズルにより吹き付ける気体によって基材が大きく振動し、基材がノズルなどの筐体部内の部材に接触してしまい、破断してしまう場合があった。

【0008】

これに対して、基材の幅方向における一対のエッジをローラー等により挟持することで、基材の振動を抑制することが考えられる。しかし、ローラー等により基材のエッジを挟持された部分に対して、基材の振動による負荷がかかり、この負荷が蓄積して基材のエッジが破断する可能性があたった。

【0009】

本発明は、上記問題を鑑みてされたものであり、基材に付与される張力が通常の搬送時よりも小さくなったとしても基材の破断を防止することができる乾燥装置を提供することを目的としている。

【課題を解決するための手段】

【0010】

上記課題を解決するための本発明の乾燥装置は、基材をロールツーロールにより所定の張力を付与して搬送する搬送経路上に設けられ、基材を搬送しながら基材に塗布された塗膜を乾燥させる乾燥装置であって、基材の下方および上方から気体を吹き付け、基材を浮揚させるとともに基材に塗布された塗膜を乾燥させる乾燥ノズルと、前記乾燥ノズルにより基材が浮揚する状態となる領域である浮揚領域内で、少なくとも基材の幅方向における一対のエッジ近傍を把持し、当該エッジの搬送経路を規定するエッジニップ部と、前記浮揚領域内において基材の下方または上方に設けられ、前記乾燥ノズルによって浮揚させられた状態で付与される張力が前記所定の張力よりも小さくなった基材の所定面と接触するサポート部材と、を備えることを特徴としている。

【0011】

上記乾燥装置によれば、サポート部材を有し、そのサポート部材に対して、付与される張力が小さくなり乾燥ノズルから吹き付けられる気体により振動する基材の所定面が接触することによって、基材の振動を抑制することができる。これにより、基材が乾燥ノズルなどの乾燥装置内の部材に接触して破断することを防ぐことができる。また、基材の振動を抑制することができるため、エッジニップ部に把持される基材のエッジにかかる負荷を抑制することができ、負荷が蓄積して基材のエッジが破断することを防ぐことができる。したがって、基材に付与される張力が通常の搬送時よりも小さくなったとしても基材が破断することを防ぐことができる。

【0012】

また、前記サポート部材を移動させるサポート部材移動手段と、を備え、前記サポート部材移動手段は、下方または上方から基材と接近および離れるよう前記サポート部材を移動させる構成としてもよい。

【0013】

この構成によれば、下方または上方から基材にサポート部材を押し当てることができるため、基材の振動をより抑制することができる。

【0014】

また、前記サポート部材移動手段は、基材の搬送停止時には基材に押し当てるよう前記サポート部材を移動させ、基材の搬送時には基材に接触しないよう前記サポート部材を移動させる構成としてもよい。

【0015】

この構成によれば、基材の搬送停止時にサポート部材が基材に押し当てられるため、基材の振動を抑制することができ、基材の同一部分に負荷が蓄積することを抑制することができる。また、基材の搬送時にサポート部材が基材に接触しないため、サポート部材が基材の搬送を阻害しない。

【0016】

また、前記エッジニップ部は、基材のエッジ近傍を挟持する複数のニップロールを有しており、前記サポート部材が、基材の前記搬送経路において各々の前記ニップロールよりも上流または下流における前記ニップロールの近傍に位置するよう配置され、前記サポート部材は、基材の幅方向に向かって延び、基材のエッジから中央に向かうに従って徐々に直径が増大するクラウン形状に形成されたローラーである構成としてもよい。

【0017】

この構成によれば、基材の搬送経路における各々のニップロールよりも上流または下流におけるニップロールの近傍で基材を幅方向に延ばすことができるため、エッジニップ部が把持する基材のエッジの位置ずれを防止することができる。

【0018】

また、前記乾燥ノズルは、基材の下方から気体を吹き付ける下側ノズルと、基材の上方から気体を吹き付ける上側ノズルと、を有し、前記サポート部材は、前記下側ノズルまたは前記上側ノズルと基材を挟んで対向するよう配置される構成としてもよい。

【0019】

この構成によれば、乾燥ノズルによって吹き付けられる気体により基材が最も影響を受ける部分とサポート部材が接触するため、基材の振動をより抑制することができる。

【0020】

また、前記エッジニップ部は、基材の搬送時には基材のエッジ近傍を把持し、基材の搬送停止時には基材のエッジ近傍を把持しない構成としてもよい。

【0021】

この構成によれば、基材の搬送時にエッジニップ部が基材のエッジを把持するため、基材が位置ずれすることを防ぐことができる。また、基材の搬送停止時にエッジニップ部が基材のエッジを把持しないため、基材が振動することにより生じる基材のエッジにかかる負荷を抑制することができる。

【発明の効果】

【0022】

本発明の乾燥装置によれば、基材に付与される張力が通常の搬送時よりも小さくなったとしても基材が破断することを防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【0023】

【図1】本発明の一実施形態における乾燥装置を備えた塗布装置を概略的に示す図である。

【図2】本発明の一実施形態における乾燥装置を説明するための図である。

【図3】本発明の一実施形態における乾燥装置を説明するための図である。

【発明を実施するための形態】

【0024】

本発明の一実施形態における乾燥装置について図面を参照しながら説明する。なお、以下の説明では、直交座標系の３軸をＸ、Ｙ、Ｚとし、水平方向をＸ軸方向、Ｙ軸方向と表現し、ＸＹ平面と垂直な方向（つまり、鉛直方向）をＺ軸方向と表現する。

【0025】

図１は、本実施形態における乾燥装置２を備えた塗布装置１を概略的に示す図である。図２および図３は、本実施形態における乾燥装置２を説明するための図であり、図２（ａ）は基材Ｗの表面側から見た図を示し、図２（ｂ）および図３は筐体２１の側面断面図である。

【0026】

本発明の乾燥装置２を備えた塗布装置１は、図１に示すようにシート状の基材Ｗを搬送する搬送機構１１と、基材Ｗの所定面に塗布液を塗布して塗膜Ｍ（図２（ａ）を参照）形成する第１の塗布機構１２と、基材Ｗの所定面の裏面に塗布液を塗布して塗膜Ｍを形成する第２の塗布機構１３と、を有している。また、乾燥装置２は、搬送機構１１による基材Ｗの搬送経路上に配置されている。

【0027】

なお、本実施形態における基材Ｗの所定面とは基材Ｗの表面のことであり、基材Ｗの所定面の裏面とは基材Ｗの裏面のことである。ここでいう、基材Ｗの表面とは後述する第１の塗布機構１２により塗膜Ｍが形成される面であり、基材Ｗの裏面とは後述する第２の塗布機構１３により塗膜Ｍが形成される面のことである。以下、基材Ｗの所定面を基材Ｗの表面、基材Ｗの所定面の裏面を基材Ｗの裏面と呼ぶ。

【0028】

本実施形態における塗布装置１は、搬送機構１１により搬送される基材Ｗの両面に第１の塗布機構１２と第２の塗布機構１３により塗膜Ｍを形成し、これら塗膜Ｍを乾燥装置２により乾燥させる。

【0029】

本実施形態における基材Ｗは、リチウムイオン電池の電池用極板となる金属箔であり、正極を構成する場合はアルミニウム箔などが用いられ、負極を構成する場合は銅箔などが用いられる。この基材Ｗは、一方向に長い帯状のシートであり、搬送機構１１により塗布装置１を構成する各部を経由するよう搬送される。

【0030】

本実施形態における塗布液は、たとえば、活物質、バインダー、導電助剤、および溶媒を含むスラリーのことであり、リチウムイオン電池の電池用極板の材料（所謂、電極材料）として用いられる。この塗布液を基材Ｗに塗布することで、塗膜Ｍが形成される。

【0031】

本実施形態における搬送機構１１は、基材Ｗを搬送するためのものである。搬送機構１１は、図１に示すように基材Ｗを巻き出す巻出ロール１１ａと、基材Ｗを巻き取る巻取ロール１１ｂと、巻出ロール１１ａから巻き出された基材Ｗが巻取ロール１１ｂに巻き取られるまでに経由する搬送ロール１１ｃと、後述する第１の塗布機構１２により塗布液を塗布する位置に基材Ｗを案内する塗布ロール１１ｄと、を有している。この搬送機構１１が有する各々のロールは、円柱状に形成され、この円柱の中心軸を回転軸として回転する。

【0032】

巻出ロール１１ａは、図示しない制御部により回転を駆動制御され、所定の速度で基材Ｗを巻き出す。制御部は、たとえば、汎用のコンピュータ装置によって構成されている。また、巻取ロール１１ｂは、巻出ロール１１ａと同様に制御部により回転を駆動制御され、基材Ｗに所定の張力を付与しながら基材Ｗを巻き取る。なお、ここでいう張力は、基材Ｗの搬送方向（図１におけるＸ軸方向）の張力のことである。

【0033】

搬送ロール１１ｃは、図１に示すように複数設けられ、基材Ｗが塗工装置１を構成する各部を経由するよう配置されている。この複数の搬送ロール１１ｃのうち一部、またはすべての搬送ロール１１ｃは、巻出ロール１１ａおよび巻取ロール１１ｂと同様に制御部により回転を駆動制御され、基材Ｗに所定の張力を付与しながら基材Ｗを搬送する。

【0034】

塗布ロール１１ｄは、図１に示すように後述する第１の塗布機構１２と対向するよう配置されている。そのため、第１の塗布機構１２と一定間隔を保ちながら基材Ｗを搬送することができる。

【0035】

これら構成により、搬送機構１１は、所定の張力を基材Ｗに付与しながら基材Ｗを所定の速度で搬送することができる。

【0036】

本実施形態における第１の塗布機構１２は、搬送される基材Ｗの表面に塗布液を塗布してストライプ状に塗膜Ｍを形成するためのものである。ストライプ状に塗膜Ｍを形成するとは、図２（ａ）に示すように基材Ｗが、塗膜Ｍが形成された複数の塗布部と、複数の塗布部の間に塗膜Ｍが形成されていない非塗布部を有するよう基材Ｗの幅方向に塗膜Ｍを形成することである。なお、本実施形態では第１の塗布機構１２が、電極材料のスラリーを塗布するスリットダイであるものを例に説明するが、第１の塗布機構１２はスリットダイに限らず、たとえば、インクジェット塗布用やグラビア塗布用の塗布方式に対応するものであってもよい（後述する第２の塗布機構１３も同様）。

【0037】

第１の塗布機構１２は、基材Ｗの幅方向（図１におけるＹ軸方向）に沿って長く形成されている。ここで、前述した塗布ロール１１ｄが、第１の塗布機構１２に対して、塗布ロール１１ｄの回転軸方向と第１の塗布機構１２の幅方向とが平行になるよう所定の間隔を空けて配置されている。

【0038】

また、第１の塗布機構１２は、図１に示すように供給路１８に接続され、幅方向に長く塗布液を溜める空間であるマニホールド１４と、このマニホールド１４と繋がった幅方向に広いスリット１５と、幅方向においてスリット１５と同一の長さで開口し、塗布液を吐出する吐出口１６により構成される。これにより、マニホールド１４に溜められた塗布液がスリット１５を経由して、吐出口１６から基材Ｗに吐出される。また、吐出口１６は、塗布ロール１１ｄと基材Ｗを挟んで対向している。すなわち、吐出口１６は基材Ｗの表面側で基材Ｗと対向している。これにより、吐出口１６と基材Ｗとの間隔を一定に保った状態で、基材Ｗに塗布液を塗布することができる。

【0039】

そして、第１の塗布機構１２には、基材Ｗに形成する塗膜Ｍをストライプ状にするための図示しないシム板がさらに設けられている。シム板は、たとえば、略櫛型状を有しており、スリット１５を幅方向に分割するよう配置されている。このシム板によりスリット１５を幅方向に分割した状態で塗布液を塗布すると、シム板がない部分から塗布液が塗布され、シム板がある部分から塗布液が塗布されないようになる。すなわち、塗膜Ｍをストライプ状に形成することができる。なお、このシム板の形状を変更することで、塗膜Ｍの幅を調節することができるようになっている。

【0040】

供給路１８は、マニホールド１４と塗布液が貯留されているタンク１７を接続している。そして、図示しないポンプによりタンク１７から供給路１８を介してマニホールド１４に塗布液を供給する。

【0041】

これらの構成を有する第１の塗布機構１２によって、基材Ｗの表面にストライプ状に塗膜Ｍを形成することができる。

【0042】

本実施形態における第２の塗布機構１３は、搬送される基材Ｗの裏面に塗布液を塗布してストライプ状に塗膜Ｍを形成するためのものである。第２の塗布機構１３は、図１に示すように前述した第１の塗布機構１２と同様な構成をしており、第２の塗布機構１３の吐出口１６は、基材Ｗの裏面側で基材Ｗと対向して配置されている。

【0043】

そして、第２の塗布機構１３は、供給路１８と図示しないポンプによりタンク１７から塗布液が供給され、この供給された塗布液を基材Ｗの裏面に塗布液を塗布する。これにより、基材Ｗの裏面にストライプ状の塗膜Ｍを形成することができる。なお、第２の塗布機構１３に塗布液を供給するための供給路１８とタンク１７は、本実施形態では第１の塗布機構１２に塗布液を供給するための供給路１８とタンク１７は別個に設けられたものである。また、第２の塗布機構１３により基材Ｗの裏面に形成する塗膜Ｍの幅は、第１の塗布機構１２により基材Ｗの表面に形成する塗膜Ｍの幅と同一であるとよい。

【0044】

これら第１の塗布機構１２および第２の塗布機構１３により基材Ｗの両面にストライプ状に塗膜Ｍを形成することができる。

【0045】

本実施形態における乾燥装置２は、第１の塗布機構１２および第２の塗布機構１３により基材Ｗの両面に形成された塗膜Ｍを乾燥させるためのものである。乾燥装置２は、図１、図２（ａ）、および図２（ｂ）に示すように搬送機構１１による基材Ｗの搬送経路上において第１の塗布機構１２および第２の塗布機構１３よりも下流側に設けられ、筐体部２１と、乾燥ノズル２２と、エッジニップ部２３と、サポート部材２６と、図示しないサポート部材移動手段と、を有している。

【0046】

筐体部２１は、基材Ｗの搬送方向に長く形成された箱体であり、この箱体の内部に基材Ｗが通過する空間と、この空間に基材Ｗが出入りするための入口および出口を有している。そして、塗膜Ｍが形成された基材Ｗが搬送機構１１により筐体部２１内を通過するよう搬送される。

【0047】

なお、筐体部２１内には、前述した搬送ロール１１ｃが配置されていない。特に本実施形態のように基材Ｗの両面に塗膜Ｍが形成される場合、塗膜Ｍが乾燥するまで基材Ｗに触れることができない。そのため、筐体部２１内では、基材Ｗの少なくとも幅方向の両端部以外は浮いた状態で搬送される。これに対して、本実施形態では、筐体部２１よりも上流側に配置された搬送ロール１１ｃと下流側に配置された搬送ロール１１ｃにより基材Ｗに所定の張力を付与、または／および後述する乾燥ノズル２２により基材Ｗの裏面側から熱風を吹き付けることで基材Ｗに揚力を付与した状態で、搬送機構１１により基材Ｗが搬送されて筐体部２１内を通過するようになっている。

【0048】

乾燥ノズル２２は、基材Ｗに熱風を吹き付けることにより塗膜Ｍを加熱するためのものである。この乾燥ノズル２２は、基材Ｗの幅方向に長く形成されており、基材Ｗの表面または裏面と対向する部分に熱風を吹き出す図示しない開口を有している。

【0049】

そして、乾燥ノズル２２は、筐体部２１内で基材Ｗの下方に配置されて基材Ｗの裏面に熱風を吹き付ける下側ノズル２２ａと、筐体２１内で基材Ｗの上方に配置されて基材Ｗの表面に熱風を吹き付ける上側ノズル２２ｂとがあり、これら下側ノズル２２ａと上側ノズル２２ｂは、基材Ｗの搬送方向に交互に配置されている。そのため、基材Ｗに揚力が付与されて基材Ｗが浮揚した状態で、基材Ｗは略直線方向に搬送される。このように略直線的に基材Ｗを搬送させることにより、基材Ｗを浮揚させた状態であっても所定の方向に正確に搬送することができる。

【0050】

エッジニップ部２３は、乾燥ノズル２２により基材Ｗが浮揚する状態となる領域である浮揚領域内で、基材Ｗの幅方向における一対のエッジの近傍を把持し、基材Ｗのエッジの搬送経路を規定するための誘導部の一種である。このエッジニップ部２３は、図２（ａ）および図２（ｂ）に示すように複数のニップロール２４により構成される。なお、以下の説明では、基材Ｗのエッジを基材Ｗの幅方向端部と呼ぶ。

【0051】

ニップロール２４は、図２（ａ）および図２（ｂ）に示すように回転軸２５を有し、これを軸として回転するローラー状の形状に形成されている。このニップロール２４の外周面が基材Ｗの両端部と接触することで、ニップロール２４は搬送機構１１により搬送される基材Ｗとの摩擦力により回転する。

【0052】

このニップロール２４は、図２（ａ）および図２（ｂ）に示すように基材Ｗの表面側および裏面側におけるそれぞれの基材Ｗの幅方向両端部と対向し、かつ、基材Ｗを表面側と裏面側から挟み込める位置に配置されている。これを一組のニップロール２４とする。そして、一組のニップロール２４は、基材Ｗの搬送方向における下側ノズル２２ａと上側ノズル２２ｂとの間に配置されるよう筐体部２１内に複数組配置される。これらニップロール２４が基材Ｗの幅方向両端部を挟持した状態で、搬送機構１１により基材Ｗを搬送しながら乾燥ノズル２２により塗膜Ｍを乾燥させる。これにより、塗膜Ｍを乾燥させる際に基材Ｗが位置ずれすることを防ぐことができる。

【0053】

サポート部材２６は、筐体部２１内で浮揚する基材Ｗの振動を抑制するための部材であり、本実施形態では図２（ｂ）に示すように基材Ｗの浮揚領域内において下側ノズル２２ａと基材Ｗを挟んで対向する位置と、上側ノズル２２ｂと基材Ｗを挟んで対向する位置に設けられている。

【0054】

また、サポート部材２６は、図２（ａ）に示すように基材Ｗの幅方向に向かって延び、基材Ｗの幅方向両端部から中央に向かうに従って徐々に直径が増大するクラウン形状に形成されている。このサポート部材２６は、後述するサポート部材移動手段により基材Ｗに押し当てられるときに基材Ｗの幅方向全体と接触可能な大きさに形成されている。また、本実施形態におけるサポート部材２６は、図２（ａ）および図２（ｂ）に示すように基材Ｗの幅方向と平行な回転軸２７を有している。そして、サポート部材２６は、基材Ｗとの間の摩擦力により基材Ｗの搬送にともなって回転軸２７を軸に回転する。このサポート部材２６は、後述するサポート部材移動手段により移動させられ、基材Ｗの上方と下方のそれぞれから基材Ｗに押し当てられる。

【0055】

サポート部材移動手段は、各々のサポート部材２６を少なくとも上方と下方（図３におけるＺ軸方向）に移動させ、各々のサポート部材２６を基材Ｗと接近および離れさせるためのものである。このサポート部材移動手段は、たとえばモーターを駆動源としており、前述した制御部により駆動制御される。そして、サポート部材移動手段は、サポート部材２６を移動させることによって、図３に示すように基材Ｗの上方と下方のそれぞれから基材Ｗの表面と裏面のそれぞれにサポート部材２６を押し当てる。

【0056】

ここで、サポート部材移動手段は、搬送機構１１により基材Ｗに付与される張力が所定の張力よりも小さくなったときに、図３に示すように各々のサポート部材２６を移動させて基材Ｗに押し当てる。ここでいう、搬送機構１１により基材Ｗに付与される張力が所定の張力よりも小さくなったときとは、たとえば、搬送機構１１による基材Ｗの搬送を停止するときなど、少なくとも基材Ｗに付与される張力が通常の搬送時よりも小さくなるときのことである。なお、このとき乾燥ノズル２２は、熱風を基材Ｗに吹き付けて基材Ｗを浮揚させ続けている。

【0057】

そして、サポート部材移動手段は、搬送機構１１により基材Ｗに再び所定の張力をかけて基材Ｗを搬送するときに、図２（ｂ）に示すようにサポート部材２６が基材Ｗに接触しないようにサポート部材２６を移動させて基材Ｗから離す。すなわち、搬送機構１１による基材Ｗの通常搬送時には、サポート部材２６は基材Ｗと接触しないようになっている。

【0058】

このように上記実施形態における乾燥装置２によれば、基材Ｗに付与される張力が通常の搬送時よりも小さくなったとしても基材Ｗが破断することを防止することができる。

【0059】

具体的に説明する。塗布装置１では、搬送機構１１により基材Ｗに付与する張力が通常の搬送時よりも小さくなる場合がある。たとえば、巻取ロール１１ｂを図１に示す新しい巻取ロール１１ｅに切り替えるなど、基材Ｗの搬送を停止してメンテナンスを行うときに基材Ｗに付与される張力が通常の搬送時よりも小さくなる。そして、このようなメンテナンスを行うときであっても、乾燥装置２は、筐体部２１内の温度を保つためにノズル２２から熱風を基材Ｗに吹き付け続けている。すなわち、基材Ｗは筐体部２１内で浮揚している。

【0060】

ここで、基材Ｗに付与される張力が通常の搬送時よりも小さくなっているため、乾燥ノズル２２により吹き付けられる熱風によって、熱風の吹き付け方向（図２（ｂ）におけるＺ軸方向）に基材Ｗが大きく振動してしまう。その結果、基材Ｗがノズル２２などの筐体部２１内の部材に接触してしまい、破断してしまう場合があった。

【0061】

また、基材Ｗの振動によって基材Ｗのエッジニップ部２３により把持されている部分に負荷がかかり、この負荷が蓄積して基材Ｗの端部が破断する可能性があった。特に、基材Ｗの振動によって、基材Ｗの端部近傍がニップロール２４のエッジと接触することで負荷がかかりやくすなっており、この部分で破断しやすくなっている。

【0062】

これに対して、本実施形態における乾燥装置２は、サポート部材２６とサポート部材移動手段とを有し、基材Ｗに付与される張力が通常の搬送時よりも小さくなるときに、サポート部材移動手段によりサポート部材２６を基材Ｗに押し当てている。

【0063】

これにより、浮揚する基材Ｗをサポート部材２６により支持することができるため、基材Ｗの振動を抑制することができる。そのため、基材Ｗが乾燥ノズル２２などの筐体部２１内の部材に接触して破断することを防ぐことができる。また、基材Ｗの振動を抑制することができるため、基材Ｗのエッジニップ部２３に把持された部分に負荷が蓄積することを抑制することができ、基材Ｗが破断することを防ぐことができる。したがって、基材Ｗに付与される張力が通常の搬送時よりも小さくなったとしても基材Ｗが破断することを防ぐことができる。

【0064】

また、本実施形態では、サポート部材移動手段は、搬送機構１１による基材Ｗの搬送を停止するときにサポート部材２６を移動させて基材Ｗに押し当て、搬送機構１１により基材Ｗを搬送するときにサポート部材２６が基材Ｗに接触しないようにサポート部材２６を移動させて基材Ｗから離している。そのため、基材Ｗの搬送停止時には、基材Ｗの振動を抑制することができ、基材Ｗの同一部分に負荷が蓄積することを抑制することができる。また、基材Ｗの搬送時にサポート部材２６が基材Ｗに接触しないため、搬送機構１１はサポート部材２６に阻害されることなく基材Ｗの搬送を行うことができる。

【0065】

また、本実施形態では、サポート部材２６が、下側ノズル２２ａと基材Ｗを挟んで対向する位置と、上側ノズル２２ｂと基材Ｗを挟んで対向する位置に配置されているため、乾燥ノズル２２によって吹き付けられる熱風により基材Ｗが最も影響を受ける部分にサポート部材２６を押し当てることができる。そのため、基材Ｗの振動をより抑制することができる。

【0066】

また、本実施形態では、サポート部材２６が、基材Ｗの幅方向に向かって延び、基材の幅方向両端部から中央に向かうに従って徐々に直径が増大するクラウン形状に形成されているため、このサポート部材２６が基材Ｗに押し当てられたときに基材Ｗがサポート部材２６の形状に倣って延ばされる。これにより、基材Ｗを幅方向に延ばすことができ、基材Ｗを幅方向に張った状態にすることができる。そして、サポート部材２６は、それぞれの一組のニップロール２４よりも上流または下流に位置するよう配置されているため、幅方向に張った状態の基材Ｗがエッジニップ部２３に搬送されることになる。そのため、エッジニップ部２３の基材Ｗを把持する位置がずれることを防止することができる。

【0067】

また、サポート部材２６が回転軸２７を有して回転可能になっているため、基材Ｗの搬送が完全に停止していない状態であっても、サポート部材移動手段によりサポート部材２６を基材Ｗに押し当てることができる。すなわち、基材Ｗの搬送停止時以外で、基材Ｗの張力が通常の搬送時よりも小さくなった場合であっても、サポート部材２６を基材Ｗに押し当てて、基材Ｗの振動を抑制することができる。

【0068】

なお、本実施形態における乾燥装置２は、各々のニップロール２４を少なくとも上方と下方（図３におけるＺ軸方向）に移動させる図示しないニップロール移動手段をさらに備えている。このニップロール移動手段は、各々のニップロール２４を移動させることによって、ニップロール２４による基材Ｗの挟持と挟持の解除を切り替える。なお、ニップロール移動手段は、たとえば、モーターを駆動源としており、前述した制御部により駆動制御される。

【0069】

ここで、ニップロール移動手段は、搬送機構１１により基材Ｗに付与される張力が所定の張力よりも小さくなったときに各々のニップロール２４を移動させて基材Ｗの挟持を解除する。なお、ニップロール移動手段は、基材Ｗにサポート部材２６が接触してから各々のニップロール２４による基材Ｗの挟持を解除する。

【0070】

そして、ニップロール移動手段は、搬送機構１１により基材Ｗに再び所定の張力をかけて基材Ｗを搬送するときに、各々のニップロール２４を移動させて基材Ｗを挟持させる。なお、サポート部材移動手段は、ニップロール移動手段によって基材Ｗを各々のニップロール２４により挟持してからサポート部材２６を基材Ｗから離す。

【0071】

これにより、基材Ｗの搬送時にエッジニップ部２３が基材Ｗの幅方向両端部を把持するため、基材Ｗが位置ずれすることを防ぐことができる。また、基材Ｗの搬送停止時にエッジニップ部２３が基材Ｗの幅方向両端部を把持しないため、基材Ｗの幅方向両端部にかかる負荷を抑制することができる。

【0072】

また、エッジニップ部２３が基材Ｗの幅方向両端部を把持していないときに、サポート部材２６により基材Ｗに皺がなく、幅方向に張った状態にすることができるため、エッジニップ部２３が再び基材Ｗの幅方向両端部を把持するときに基材Ｗが位置ずれすることを防ぐことができる。

【0073】

以上、本発明の実施形態について図面を参照しながら詳述したが、各実施形態における構成およびそれらの組み合わせ等は一例であり、本発明の趣旨から逸脱しない範囲内で、構成の追加、省略、置換、およびその他の変更が可能である。たとえば、上記実施形態では、乾燥装置２がサポート部材移動手段を備え、サポート部材２６を移動させて基材Ｗに押し当てる例について説明したが、サポート部材移動手段を備えていない構成としてもよい。

【0074】

具体的には、基材Ｗの張力が通常の搬送時よりも小さくなったことによって、振動した状態の基材Ｗの所定面と接触可能な位置にサポート部材２６を配置すればよい。これにより、基材Ｗの張力が通常の搬送時よりも小さくなったときに、サポート部材２６が基材Ｗと接触するため、基材Ｗの振動を抑制することができる。なお、サポート部材２６と基材Ｗとの接触面積が大きくなるほど、サポート部材２６による基材Ｗの振動を抑制する効果を大きく得ることができるため、最適な接触面積となるようサポート部材２６の位置を検討することが好ましい。

【0075】

また、上記実施形態では、サポート部材２６がサポート部材移動手段により基材Ｗに押し当てられるときに基材Ｗの幅方向全体と接触可能な大きさを有するクラウン形状に形成されている例について説明したが、これに限られない。たとえば、サポート部材２６は、少なくとも基材Ｗに押し当てられたときに基材Ｗの幅方向中央部の近傍と接触するような形状であればよい。また、サポート部材２６は、ニップロール２４よりも基材Ｗの幅方向に長く、基材Ｗと接触するときの接触面積が大きいものであればよい。

【0076】

また、サポート部材２６の形状は、前述したクラウン形状でなくてもよいし、回転軸２７を有していなくてもよい。

【0077】

また、上記実施形態では、サポート部材２６が、各々の乾燥ノズル２２と基材Ｗを挟んで対向するように配置する例について説明したが、下側ノズル２２ａ若しくは上側ノズル２２ｂのいずれか一方と基材Ｗを挟んで対向するように配置してもよい。

【0078】

また、サポート部材２６が上側ノズル２２ｂと下側ノズル２２ａのそれぞれと基材Ｗを挟んで対向するように配置しなくてもよい。この場合、サポート部材２６は、少なくとも浮揚領域内において各々の組のニップロール２４の上流または下流に位置するように配置されるとよい。

【符号の説明】

【0079】

１ 塗布装置
１１ 搬送機構
１１ａ 巻出ロール
１１ｂ 巻取ロール
１１ｃ 搬送ロール
１１ｄ 塗布ロール
１１ｅ 巻取ロール
１２ 第１の塗布機構
１３ 第２の塗布機構
１４ マニホールド
１５ スリット
１６ 吐出口
１７ タンク
１８ 供給路
２ 乾燥装置
２１ 筐体部
２２ 乾燥ノズル
２２ａ 下側ノズル
２２ｂ 上側ノズル
２３ エッジニップ部
２４ ニップロール
２５ 回転軸
２６ サポート部材
２７ 回転軸
Ｗ 基材
Ｍ 塗膜

【図1】

【図2】

【図3】