特開 2023-148939 スリットダイ

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023148939

(43)【公開日】2023-10-13

(54)【発明の名称】スリットダイ

(51)【国際特許分類】

   B05C 5/02 20060101AFI20231005BHJP

【ＦＩ】

B05C5/02

【審査請求】未請求

【請求項の数】4

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022057234

(22)【出願日】2022-03-30

(71)【出願人】

【識別番号】000219314

【氏名又は名称】東レエンジニアリング株式会社

(72)【発明者】

【氏名】前田 和紀

(72)【発明者】

【氏名】渡邉 敦

【テーマコード（参考）】

4F041

【Ｆターム（参考）】

4F041AA12

4F041AB01

4F041BA05

4F041BA10

4F041BA13

4F041CA03

4F041CA13

4F041CA16

(57)【要約】

【課題】幅方向にストライプ状に形成した塗膜の幅方向における形状を従来よりも均一にすることができるスリットダイを提供することを目的としている。
【解決手段】塗布液を基材に塗布するスリットダイであって、基材の幅方向に長く形成され、塗布液を溜める空間であるマニホールドと、前記幅方向に配列されるよう前記マニホールドに複数設けられ、前記マニホールドに塗布液を供給する供給口と、前記マニホールドに繋がった前記幅方向に長いスリットと、前記マニホールドから前記スリットを経由して塗布液を吐出する吐出口と、前記幅方向において前記スリットを複数の空間に仕切り、小スリットを形成するシムと、前記幅方向において前記マニホールドを複数の空間に仕切り、小マニホールドを形成する仕切部と、を備えており、前記仕切部は、各々の小マニホールドに少なくとも１つの前記供給口が位置する、かつ１つの前記小スリットに対して１つの前記小マニホールドが繋がるように前記マニホールドを仕切る位置に配置される構成とする。
【選択図】図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

塗布液を基材に塗布するスリットダイであって、
基材の幅方向に長く形成され、塗布液を溜める空間であるマニホールドと、
前記幅方向に配列されるよう前記マニホールドに複数設けられ、前記マニホールドに塗布液を供給する供給口と、
前記マニホールドに繋がった前記幅方向に長いスリットと、
前記マニホールドから前記スリットを経由して塗布液を吐出する吐出口と、
前記幅方向において前記スリットを複数の空間に仕切り、小スリットを形成するシムと、
前記幅方向において前記マニホールドを複数の空間に仕切り、小マニホールドを形成する仕切部と、を備えており、
前記仕切部は、各々の小マニホールドに少なくとも１つの前記供給口が位置する、かつ１つの前記小スリットに対して１つの前記小マニホールドが繋がるように前記マニホールドを仕切る位置に配置されることを特徴とするスリットダイ。

【請求項2】

前記仕切部は、隣接する各々の前記小マニホールド間を前記幅方向において繋ぐ連通部を形成するように形成されており、
前記連通部は、前記供給口から各々の前記小マニホールドに供給された塗布液が、前記小マニホールドから前記小スリットを経由して前記吐出口に向かうまでの圧力損失よりも前記小マニホールドから前記連通部を経由して隣接する前記小マニホールドに向かうまでの圧力損失の方が大きくなるよう形成されることを特徴とする請求項１に記載のスリットダイ。

【請求項3】

前記小マニホールドの少なくとも１つに、前記マニホールドに存在するエアを排気する排気手段を設けることを特徴とする請求項２に記載のスリットダイ。

【請求項4】

前記マニホールドは、前記仕切部を取り付ける仕切部取り付け部を複数備えており、
前記仕切部は、各々の前記仕切部取り付け部に対して着脱可能に形成されていることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載のスリットダイ。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、基材に塗布液を塗布するスリットダイに関するものである。

【背景技術】

【0002】

従来より、電池用極板は、アルミ箔や銅箔などの基材の表面に活物質、バインダー、導電助剤を溶媒により混合させたスラリー（以下、塗布液と呼ぶ）を塗布・乾燥させることで製造されている。

【0003】

この製造過程における塗布装置は、基材をロールツーロール方式で連続搬送させながら、スリットダイにより塗布液を吐出させることによって、基材に塗布液を塗布して塗膜を形成している（たとえば、特許文献１）。そして、塗布形態として基材の幅方向にわたって幅広で塗布液を塗布する１条塗布や、基材の幅方向にストライプ状に塗布液を塗布する多条塗布（以下、ストライプ塗布と呼ぶ）などがある。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２０２２－０４１５０１号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

しかし、従来のスリットダイでは、幅方向にストライプ状に形成した塗膜の幅方向における形状が均一にならない場合がある。

【0006】

従来のスリットダイは、図４（ａ）および図４（ｂ）に示すように基材９６０（図５を参照）の幅方向（以下、幅方向と呼ぶ）に長く形成され、塗布液を溜める空間であるマニホールド９１０と、幅方向に配列されるようマニホールド９１０に複数設けられ、マニホールド９１０に塗布液を供給する供給口９５０と、マニホールド９１０に繋がった幅方向に長いスリット９２０と、マニホールド９１０からスリット９２０を経由して塗布液を吐出する吐出口９３０と、を有している。このスリットダイ９００によりストライプ塗布を行うために一般的には、図４（ａ）および図４（ｂ）に示すように幅方向においてスリット９２０を複数の空間に仕切るシム９４０をスリット９２０に設けて、シム９４０により幅方向においてスリット９２０を仕切ることによって、基材９６０に幅方向にストライプ状の塗布液を塗布している。

【0007】

このようなスリットダイ９００では、複数の供給口９５０のそれぞれからマニホールド９１０に供給された塗布液が、シム９４０により仕切られたスリット９２０の各々の空間に流入し、吐出口９３０から吐出される。ここで、図４（ｂ）に示すように複数の供給口９５０のうちシム９４０の近傍に位置する供給口９５０から供給された塗布液は、シム９４０がある部分を避けるようにして幅方向に向かって流れる。この塗布液と、別の供給口９５０から供給されてスリット９２０の隣接する各々の空間に向かって流れる塗布液がマニホールド９１０内で衝突する。これにより、各々の供給口９５０から供給されてマニホールド９１０を介してスリット９２０に向かって流れる塗布液の流れる方向が変化し、シム９４０により仕切られたスリット９２０の各々の空間に流入する塗布液の量にばらつきが生じる。

【0008】

その結果、シム９４０により仕切られたスリット９２０の各々の空間に流入した塗布液が、吐出口９３０から吐出されて基材９６０に塗膜９７０を形成すると、図５に示すように塗膜９７０の幅方向における形状にばらつきが生じてしまう。

【0009】

本発明は、上記問題を鑑みてされたものであり、幅方向にストライプ状に形成した塗膜の幅方向における形状を従来よりも均一にすることができるスリットダイを提供することを目的としている。

【課題を解決するための手段】

【0010】

上記課題を解決するための本発明のスリットダイは、塗布液を基材に塗布するスリットダイであって、基材の幅方向に長く形成され、塗布液を溜める空間であるマニホールドと、前記幅方向に配列されるよう前記マニホールドに複数設けられ、前記マニホールドに塗布液を供給する供給口と、前記マニホールドに繋がった前記幅方向に長いスリットと、前記マニホールドから前記スリットを経由して塗布液を吐出する吐出口と、前記幅方向において前記スリットを複数の空間に仕切り、小スリットを形成するシムと、前記幅方向において前記マニホールドを複数の空間に仕切り、小マニホールドを形成する仕切部と、を備えており、前記仕切部は、各々の小マニホールドに少なくとも１つの前記供給口が位置する、かつ１つの前記小スリットに対して１つの前記小マニホールドが繋がるように前記マニホールドを仕切る位置に配置されることを特徴としている。

【0011】

上記スリットダイによれば、仕切部を有し、この仕切部が、１つの小スリットに対して１つの小マニホールドが繋がるように基材の幅方向においてマニホールドを仕切ることによって、塗布液が隣接する小マニホールド間を移動することを防ぐため、マニホールド内で塗布液が衝突することを抑制することができる。そのため、塗布液が基材の幅方向において均一になるよう各々の小マニホールドから各々の小スリットに流入し、吐出口から吐出される。これにより、各々の小スリットを介して吐出口から吐出される塗布液の基材の幅方向におけるばらつきを抑制することができる。したがって、幅方向にストライプ状に形成した塗膜の幅方向における形状を従来よりも均一にすることができる。

【0012】

また、前記仕切部は、隣接する各々の前記小マニホールド間を前記幅方向において繋ぐ連通部を形成するように形成されており、前記連通部は、前記供給口から各々の前記小マニホールドに供給された塗布液が、前記小マニホールドから前記小スリットを経由して前記吐出口に向かうまでの圧力損失よりも前記小マニホールドから前記連通部を経由して隣接する前記小マニホールドに向かうまでの圧力損失の方が大きくなるよう形成される構成としてもよい。

【0013】

また、前記小マニホールドの少なくとも１つに、前記マニホールドに存在するエアを排気する排気手段を設ける構成としてもよい。

【0014】

これら構成によれば、塗布液が隣接するマニホールド間を移動することを抑制しつつ、仕切部により形成された連通部を介して各々の小マニホールドからエアを排気させることができる。

【0015】

また、前記マニホールドは、前記仕切部を取り付ける仕切部取り付け部を複数備えており、前記仕切部は、各々の前記仕切部取り付け部に対して着脱可能に形成されている構成としてもよい。

【0016】

この構成によれば、基材に形成する塗膜の幅の調節など、塗布条件に応じた塗布液の塗布が可能となるよう、仕切部の位置を適宜変更することができる。

【発明の効果】

【0017】

本発明のスリットダイによれば、幅方向にストライプ状に形成した塗膜の幅方向における形状を均一にすることができる。

【図面の簡単な説明】

【0018】

【図1】本発明の一実施形態におけるスリットダイを備える塗布装置を概略的に示す図である。

【図2】本発明の一実施形態におけるスリットダイを説明するための図である。

【図3】本発明の一実施形態におけるスリットダイにより形成された塗膜を示す図である。

【図4】従来のスリットダイを説明するための図である。

【図5】従来のスリットダイにより形成された塗膜を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0019】

本発明の一実施形態における塗布装置について図面を参照しながら説明する。なお、以下の説明では、直交座標系の３軸をＸ、Ｙ、Ｚとし、水平方向をＸ軸方向、Ｙ軸方向と表現し、ＸＹ平面と垂直な方向（つまり、鉛直方向）をＺ軸方向と表現する。

【0020】

図１は、本実施形態におけるスリットダイ２を備える塗布装置１００を概略的に示す図である。図２は、本実施形態におけるスリットダイ２を説明するための図であり、図２（ａ）は図１のａ矢視の断面図、図２（ｂ）は図１のｂ矢視の断面図である。図３は、本実施形態におけるスリットダイ２により形成された塗膜Ｍを示す図である。

【0021】

本実施形態における塗布装置１００は、図１に示すように基材Ｗを搬送する搬送手段１と、基材Ｗに塗布液を塗布するスリットダイ２と、スリットダイ２に塗布液を供給する供給手段３と、を備えている。

【0022】

本実施形態における塗布装置１００は、搬送手段１により搬送される基材Ｗの所定面にスリットダイ２により塗布液を塗布し、塗膜Ｍ（図３を参照）を形成する。

【0023】

本実施形態における基材Ｗは、リチウムイオン電池などの電池の電池用極板となる金属箔であり、正極を構成する場合はアルミニウム箔などが用いられ、負極を構成する場合は銅箔などが用いられる。この基材Ｗは、一方向に長い帯状のシートであり、搬送手段１により搬送される。

【0024】

本実施形態における塗布液は、たとえば、活物質、バインダー、導電助剤、および溶媒を含むスラリーのことであり、リチウムイオン電池などの電池の電池用極板の材料（所謂、電極材料）として用いられる。この塗布液を基材Ｗに塗布することで、基材Ｗ上に塗膜Ｍが形成される。

【0025】

本実施形態における搬送手段１は、基材Ｗを搬送するためのものであり、複数のロールが回転することにより基材Ｗを搬送するロールツーロール方式を採用している。この搬送手段１による基材Ｗの搬送速度は、図示しない制御部により制御される。この制御部はたとえば、汎用のコンピューターである。なお、本実施形態では、塗布液を塗布する場所に基材Ｗを案内する塗布ロール１１のみを図１に示している。

【0026】

また、塗布ロール１１は、スリットダイ２と対向し、スリットダイ２による塗布液の塗布時に後述する吐出口２３と所定の間隔を空けるよう配置される。そのため、スリットダイ２と一定の間隔を保ちながら基材Ｗを搬送することができる。

【0027】

本実施形態におけるスリットダイ２は、搬送される基材Ｗに塗布液を塗布して塗膜Ｍを形成するためのものである。スリットダイ２は、基材Ｗの幅方向（図１におけるＹ軸方向）に沿って長く形成されている。ここで、前述した塗布ロール１１が、塗布部２に対して、塗布ロール１１の回転軸方向と、塗布部２の幅方向とが平行になるよう所定の間隔を空けて配置される。なお、以下の説明では、基材Ｗの幅方向を幅方向と呼ぶ。

【0028】

また、本実施形態におけるスリットダイ２は、図１に示すように先細り形状である第１のリップ２４ａを有する第１の分割体２４と、先細り形状である第２のリップ２５ａを有する第２の分割体２５とを、これらの間にシム板２６を挟んで組み合わせた構成からなる。

【0029】

そして、スリットダイ２の内部には、幅方向に長く塗布液を溜める空間からなるマニホールド２１と、このマニホールド２１と繋がった幅方向に広いスリット２２が形成され、第１のリップ２４ａと第２のリップ２５ａとの間には、スリット２２の開放端である吐出口２３が形成されている。すなわち、第１のマニホールド２１と吐出口２３とは、スリット２２を経由して繋がっている。

【0030】

本実施形態におけるマニホールド２１は、図１および図２（ａ）に示すように幅方向に延びる略円筒形状に形成されている。このマニホールド２１に後述する供給手段３により塗布液が供給される。

【0031】

また、マニホールド２１と繋がったスリット２２の寸法は、シム板２６の内寸Ｌ（図２（ｂ）を参照）によって決定される。そして、スリットダイ２はスリット２２の寸法と略同一の幅方向寸法の塗布液を基材Ｗ上に塗布する。なお、シム板２６の厚みを変更することにより、マニホールド２１内部の圧力を調節することができ、この調節によって様々な厚みを有する塗膜Ｍを基材Ｗ上に形成することができる

【0032】

また、吐出口２３は、塗布ロール１１と基材Ｗを挟んで対向している。すなわち、吐出口２３は基材Ｗの表面側で基材Ｗと対向している。これらの構成により、スリットダイ２は、吐出口２３と基材Ｗとの間隔を一定に保った状態で、マニホールド２１に溜められた塗布液をスリット２２を経由して吐出口２３から基材Ｗに吐出する。

【0033】

本実施形態における供給手段３は、スリットダイ２に塗布液を供給するためのものである。供給手段３は、図１および図２（ａ）に示すように塗布液を貯留するタンク３１と、タンク３１とスリットダイ２を接続する供給路３２と、スリットダイ２の外部から供給路３２をマニホールド２１へ繋ぐ供給口３３と、塗布液を送液する図示しないポンプと、を有している。

【0034】

本実施形態における供給口３３は、図２（ａ）および図２（ｂ）に示すように幅方向に配列するようマニホールド２１の底部に複数形成されている。これら各々の供給口３３に供給路３２が接続されている。すなわち、供給手段３は、複数箇所からマニホールド２１に塗布液を供給する。なお、各々の供給口３３に接続される供給路３２は、各々の供給口３３に対して１つずつ設けてもよいし、１つの供給路３２がタンク３１から各々の供給口３３に向かうまでの間に分岐したものであってもよい。

【0035】

また、ポンプは、タンク３１から供給路３２を介して供給口３３に送液する塗布液の流量を調節可能になっている。このポンプは、本実施形態では、タンク３１から各々の供給口３３へ送液する塗布液の流量を調節できるように、各々の供給口３３に接続された供給路３２のそれぞれに設けられている。これにより、マニホールド２１に供給する塗布液の流量を幅方向にわたって調節することができる。

【0036】

また、本実施形態におけるスリットダイ２は、幅方向にストライプ状の塗膜Ｍを形成する。ここでいう、幅方向にストライプ状の塗膜Ｍを形成するとは、図３に示すように塗膜Ｍが形成された複数の塗布領域Ｔと、複数の塗布領域Ｔの間に塗膜Ｍが形成されていない不塗布領域Ｎを基材Ｗが有するよう、基材Ｗの幅方向（図３におけるＹ軸方向）に塗膜Ｍを形成することである。

【0037】

これを実現するために本実施形態におけるスリットダイ２は、図２（ａ）および図２（ｂ）に示すように幅方向においてスリット２２を複数の空間に仕切るシム４を備えている。

【0038】

本実施形態におけるシム４は、図２（ｂ）に示すようにマニホールド２１とスリット２２の境目であるスリット２２の始端から解放端まで延びるブロックであり、図２（ａ）に示すように前述したシム板２６と高さ方向において同一の厚みを有している。本実施形態では、シム４を２つ用いる例について説明する。これら２つのシム４が幅方向に配列するよう第１の分割体２４と第２の分割体２５とで挟み込むことで、幅方向においてスリット２２を複数の空間に仕切った状態で固定される。

【0039】

これにより、図２（ａ）および図２（ｂ）に示すように幅方向においてスリット２２の空間が小スリット４１ａ、小スリット４１ｂ、および小スリット４１ｃに仕切られる。

【0040】

このような状態で、供給手段３によりマニホールド２１に塗布液を供給すると、小スリット４１ａ、小スリット４１ｂ、および小スリット４１ｃのそれぞれに塗布液が流入し、各々の開放端である吐出口２３から塗布液が塗布される。すなわち、シム４がない部分から塗布液が塗布され、シム４がある部分からは塗布液が塗布されない。そのため、基材Ｗ上に幅方向にストライプ状の塗膜Ｍを形成することができる。

【0041】

なお、幅方向におけるシム４の寸法を変更することで、塗膜Ｍの幅を調節することができる。すなわち、基材Ｗの幅方向における塗布領域Ｔと不塗布領域Ｎの幅を調節することができる。また、シム４を固定する位置を変更する、すなわち、シム４を第１の分割体２４と第２の分割体２５とで挟み込む位置を変更することによって、塗膜Ｍの幅を調節することができる。すなわち、基材Ｗの幅方向における塗布領域Ｔと不塗布領域Ｎの幅を調節することができる。

【0042】

これら構成により、スリットダイ２は、幅方向にストライプ状の塗膜Ｍを基材Ｗ上に形成することができる。

【0043】

また、本実施形態におけるスリットダイ２は、図２（ａ）および図２（ｂ）に示すように幅方向においてマニホールド２１を複数の空間に仕切る仕切部５を備えている。

【0044】

本実施形態における仕切部５は、マニホールド２１の形状に合わせて形成されたブロックである。なお、本実施形態におけるマニホールド２１は、前述したように幅方向に延びる略円筒形状に形成されている。この略円筒状のマニホールド２１を幅方向において複数の空間に仕切るために仕切部５は、略円柱状に形成され、図２（ａ）および図２（ｂ）に示すようにこの円柱の外周面とマニホールド２１の内周面とが対向するよう配置される。なお、仕切部５の幅方向の寸法は、前述したシム４の幅方向の寸法よりも小さい寸法、または同一の寸法になるよう形成されている。

【0045】

仕切部５を配置する数と配置する位置は、シム４の配置する数と配置する位置に連動している。本実施形態では、仕切部５をマニホールド２１に２つ配置する。これら２つの仕切部５を図２（ａ）および図２（ｂ）に示すようにマニホールド２１の幅方向に配列するよう配置することによって、幅方向においてマニホールド２１の空間が小マニホールド５１ａ、小マニホールド５１ｂ、および小マニホールド５１ｃに仕切られる。

【0046】

なお、本実施形態では、図２（ａ）および図２（ｂ）に示すように１つの小スリット４１に対して１つの小マニホールド５１が繋がるよう、仕切部５を配置してマニホールド２１を仕切っている。すなわち、仕切部５は、マニホールド２１から吐出口２３に塗布液が向かって流れる方向（図２（ａ）におけるＸ軸方向）で、シム４と対向するよう配置される。なお、吐出口２３の方向から見て、シム４により仕切部５が隠れるように仕切部５を配置することが好ましい。これにより、本実施形態では、小スリット４１ａと小マニホールド５１ａ、小スリット４１ｂと小マニホールド５１ｂ、小スリット４１ｃと小マニホールド５１ｃが繋がる。また、仕切部５は、各々の小マニホールド５１に少なくとも１つの供給口３３が位置するよう配置する。

【0047】

また、本実施形態における仕切部５は、図２（ａ）および図２（ｂ）に示すように隣接する小マニホールド５１間を幅方向において繋ぐ連通部５２を形成するように形成されている。本実施形態における連通部５２は、隙間であり、以下の説明では隙間部５２と呼ぶ。具体的には、仕切部５が、前述したマニホールド２１の内周面と仕切部５の外周面の一部が所定の間隔を空けて対向するような形状に形成される。これにより、マニホールド２１の内周面と仕切部５の外周面の一部に隙間部５２が形成され、隣接する小マニホールド５１間、すなわち、小マニホールド５１ａ、小マニホールド５１ｂ、および小マニホールド５１ｃが隙間部５２を介して繋がる。ここで、供給手段３が有するポンプによって、タンク３１から各々の供給口３３に供給する塗布液の流量を各々の小マニホールド５１で均等になるよう調節する。すなわち、各々の小マニホールド５１における塗布液の量が均一になる。

【0048】

ここで、隙間部５２は、供給口３３から各々の小マニホールド５１に供給された塗布液が、小マニホールド５１から小スリット４１を経由して吐出口２３に向かうまでの圧力損失よりも、小マニホールド５１から隙間部５２を経由して隣接する小マニホールド５１に向かうまでの圧力損失の方が大きくなるよう形成される。

【0049】

具体的には、少なくとも隙間部５２を形成するマニホールド２１の内周面と仕切部５の外周面の隙間の断面積が小スリット４１の断面積よりも小さく形成される。これにより、隙間部５２に塗布液が流入しにくくなり、隣接する小マニホールド５１間で塗布液が移動することを抑制できる。

【0050】

なお、隙間部５２の寸法、すなわちマニホールド２１の内周面と仕切部５の外周面との間隔は、小さくなるほどよく、好ましくは隣接する小マニホールド５１間の塗布液の移動を最小限に抑制、かつエアの移動を可能にする程度の寸法であるとよい。より好ましくは、前述した隙間部５２の寸法が０．５～１．０ｍｍ程度の寸法であるとよい。なお、ここでいうエアは、空気のことであり、タンク３１からマニホールド２１に塗布液が到達するまでに、図示しない供給路３２の継手やポンプの図示しない摺動部材から供給路３２に侵入してマニホールド２１に混入する。

【0051】

このように隙間部５２が形成されることで、仕切部５は隣接する小マニホールド５１間を完全に仕切っていないが、上記の構成により隣接する小マニホールド５１間の塗布液の移動を抑制することができる。そのため、本実施形態では、隙間部５２が形成された状態であっても仕切部５により幅方向においてマニホールド２１を複数の小マニホールド５１に仕切っているものとする。

【0052】

また、本実施形態におけるスリットダイ２は、図１および図２（ａ）に示すようにマニホールド２１に存在するエアを排気する排気手段６を備えている。この排気手段６は、図２（ａ）に示すようにマニホールド２１の上面に少なくとも１つ設けられ、マニホールド２１に存在するエアを外部に排気する排気孔６１を有している。なお、排気孔６１は、仕切部５により仕切られた複数の小マニホールド５１のいずれか１つと連通するよう設けられている。

【0053】

この排気孔６１が、マニホールド２１の上面に設けられることによって、浮力によりマニホールド２１の上面に移動したエアを外部に排気する。

【0054】

ここで、前述した隙間部５２により隣接する各々の小マニホールド５１間が繋がっているため、各々の小マニホールド５１に存在するエアが隣接する小マニホールド５１間を移動して排気孔６１から排気される。また、本実施形態では、隙間部５２をマニホールド２１の上面の近傍に形成するよう仕切部５を形成している。これにより、浮力により各々の小マニホールド５１の上面に移動するエアを隙間部５２を介して排気孔６１から排気しやすくなる。

【0055】

また、本実施形態におけるスリットダイ２は、図２（ｂ）に示すように仕切部５を取り付けるための仕切部取り付け部５３を備えている。本実施形態における仕切部取り付け部５３は、幅方向においてマニホールド２１の底面に配列するように設けられた溝である。

【0056】

ここで、仕切部５の外周面には、図２（ａ）および図２（ｂ）に示すように仕切部取り付け部５３に篏合する突起部５４が形成されている。この突起部５４を仕切部取り付け部５３に篏合することで、仕切部５を仕切り部取り付け部５３に取り付けることができる。すなわち、仕切り部３５は着脱可能になっている。

【0057】

そして、第１の分割体２４と第２の分割体２５とで、シム板２６およびシム４を挟み込むときに、シム４の配置に合わせて、複数の仕切部取り付け部５３のいずれかに突起部５４を篏合させて仕切部５を取り付ける。これにより、仕切部５をシム４の配置に合わせてマニホールド２１に取り付けることができる。

【0058】

このように上記実施形態におけるスリットダイ２によれば、幅方向にストライプ状に形成した塗膜Ｍの幅方向における形状を従来よりも均一にすることができる。

【0059】

具体的に説明する。従来のように幅方向においてマニホールド２１を仕切ることなく基材Ｗ上に幅方向にストライプ状の塗膜を形成する場合、図４（ａ）および図４（ｂ）に示すように複数の供給口９５０のそれぞれからマニホールド９１０に供給された塗布液が、シム９４０により分割されたスリット９２０の各々の空間に流入し、吐出口９３０から吐出される。ここで、図４（ｂ）に示すように複数の供給口９５０のうちシム９４０の近傍に位置する供給口９５０から供給された塗布液は、シム９４０がある部分を避けるように幅方向に向かって流れる。

【0060】

この幅方向に向かって流れる塗布液と、別の供給口９５０から供給されて分割されたスリットの各々の空間に向って流れる塗布液がマニホールド９１０内で衝突する。そのため、各々の供給口９５０から供給された塗布液の流れる方向がマニホールド９１０からスリット９２０に流入するまでの間に変化する。これにより、シム９４０により分割されたスリット９２０の各々の空間に流入する塗布液の量にばらつきが生じる。

【0061】

その結果、シム９４０により分割されたスリット９２０の各々の空間に流入した塗布液が、吐出口９３０から吐出されて基材９６０上に塗膜９７０を形成すると、図５に示すように塗膜９７０の幅方向における形状にばらつきが生じてしまう。

【0062】

これに対して本実施形態におけるスリットダイ２は、仕切部５を有し、この仕切部５が、シム４によりスリット２２が幅方向に仕切られた１つの小スリット４１に対して１つの小マニホールド５１が繋がるように幅方向においてマニホールド２１を仕切っている。そのため、各々の供給口３３から供給された塗布液が隣接する小マニホールド５１間を移動することを抑制することができるため、従来のようにシム４の近傍に位置する供給口３３から供給された塗布液がシム４を避けて、別の供給口３３から供給されて各々の小スリット２２に向かって流れる塗布液と衝突することを防ぐことができる。

【0063】

これにより、従来のスリットダイ９００と比較して、各々の供給口３５から供給された塗布液の流れる方向がマニホールド２１から各々の小スリット４１に流入するまでの間に変化することを抑制することができる。そして、塗布液が基材Ｗの幅方向において均一になるよう各々の小マニホールド５１から各々の小スリット４１に流入するため、各々の小スリット４１を介して吐出口２３から吐出される塗布液の幅方向におけるばらつきを抑制することができる。したがって、図３に示すように幅方向にストライプ状に形成した塗膜の幅方向における形状を従来よりも均一にすることができる。

【0064】

また、本実施形態における仕切部５は、隣接する各々の小マニホールド５１間を幅方向において繋ぐ隙間部５２を形成するように形成されている。そして、この隙間部５２は、供給口３３から各々の小マニホールド５１に供給された塗布液が、小マニホールド５１から小スリット４１を経由して吐出口２３に向かうまでの圧力損失よりも小マニホールド５１から隙間部５２を経由して隣接する小マニホールド５１に向かうまでの圧力損失の方が大きくなるよう形成されている。

【0065】

これにより、排気手段６によりマニホールド２１に存在するエアを外部に排気しやすくなる。具体的には、各々の小マニホールド５１に存在するエアを隙間部５２を介して隣接する小マニホールド５１間を移動させることができる。そのため、複数の小マニホールド５１のいずれか１つに排気手段６が有する排気孔６１を１つ設けると各々の小マニホールド５１に存在するエアをまとめて外部に排気することができる。

【0066】

また、本実施形態では、隙間部５２がマニホールド２１の上面の近傍に位置するように形成するよう仕切部５を形成し、排気孔６１をマニホールド２１の上面に設けている。そのため、浮力により各々の小マニホールド５１の上面に移動するエアを隙間部５２を介して移動させやすくなるため、各々の小マニホールド５１に存在するエアを排気孔６１から外部に排気しやすくなる。

【0067】

また、本実施形態におけるスリットダイ２は、マニホールドの幅方向に配列するように仕切部取り付け部５３を複数備え、この仕切部取り付け部５３に篏合する突起部５４を仕切部５に形成している。そのため、仕切部５をマニホールド２１から着脱することが可能となり、仕切部５を取り付ける位置をシム４の位置に合わせて変更することができる。これにより、基材Ｗに形成する塗膜Ｍの幅の調節など、塗布条件に応じた塗布液の塗布が可能となるよう、仕切部５の位置を適宜変更することが可能となる。

【0068】

そして、隙間部５２を形成するように仕切部５が形成されているため、隙間部５２がない場合よりも容易に仕切部５をマニホールド２１から着脱することができる。

【0069】

また、上記実施形態では、各々の供給口３３に接続された各々の供給路３２にポンプを設けているため、仕切部５により仕切られた各々の小マニホールド５１に配置された供給口３３の数に差があったとしても、各々の小マニホールド５１に供給する塗布液の流量が適量になるよう調節することができる。

【0070】

以上、本発明の実施形態について図面を参照しながら詳述したが、各実施形態における構成およびそれらの組み合わせ等は一例であり、本発明の趣旨から逸脱しない範囲内で、構成の追加、省略、置換、およびその他の変更が可能である。たとえば、上記実施形態では、２つのシム４によりスリット２２を仕切る例について説明したが、これに限られない。なお、仕切部５はシム４と同数となるようにマニホールド２１に配置する。

【0071】

また、上記実施形態では、隙間部５２を形成するよう仕切部５が形成されていたが、隙間部５２を形成しないように仕切部５を形成してもよい。すなわち、仕切部５の外周面とマニホールド２１の内周面とが密着していてもよい。この場合、排気孔６１を仕切部５により仕切られた各々の小マニホールド５１に１つずつ設けるとよい。

【0072】

また、上記実施形態では、マニホールド２１の内周面と仕切部５の外周面との間隔である隙間部５２の寸法が、０．５～１．０ｍｍ程度の寸法であることについて記載したが、これに限定されず、少なくとも小マニホールド５１間でエアの移動を可能にする程度の寸法であるとよい。すなわち、隙間部５２の寸法は、エアが抜けられる寸法であればよい。

【0073】

また、上記実施形態では、連通部５２が隙間部５２である例について説明したが、これに限られない。たとえば、仕切部５の一部に幅方向に貫通するよう形成した貫通孔であってもよい。この場合、貫通孔の断面積は、スリット２２の断面積よりも小さくなるよう形成する。すなわち、貫通孔は、供給口３３から各々の小マニホールド５１に供給された塗布液が、小マニホールド５１から小スリット４１を経由して吐出口２３に向かうまでの圧力損失よりも、小マニホールド５１から貫通孔を経由して隣接する小マニホールド５１に向かうまでの圧力損失の方が大きくなるよう形成される。また、この貫通孔は、マニホールド２１の上面の近傍に形成されるとよい。

【符号の説明】

【0074】

１００ 塗布装置
１ 搬送手段
１１ 塗布ロール
２ スリットダイ
２１ マニホールド
２２ スリット
２３ 吐出口
２４ 第１の分割体
２４ａ 第１のリップ部
２５ 第２の分割体
２５ａ 第２のリップ部
２６ シム体
３ 供給手段
３１ タンク
３２ 供給路
３３ 供給口
４ シム
４１ 小スリット
４１ａ 小スリット
４１ｂ 小スリット
４１ｃ 小スリット
５ 仕切部
５１ 小マニホールド
５１ａ 小マニホールド
５１ｂ 小マニホールド
５１ｃ 小マニホールド
５２ 連通部（隙間部）
５３ 仕切部取り付け部
５４ 突起部
６ 排気手段
６１ 排気孔
Ｗ 基材
Ｍ 塗膜
Ｔ 塗布領域
Ｎ 不塗布領域

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】