特開2023-149313着色組成物、それを用いた膜、カラーフィルタ、画像表示装置、及び固体撮像素子
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023149313
(43)【公開日】2023-10-13
(54)【発明の名称】着色組成物、それを用いた膜、カラーフィルタ、画像表示装置、及び固体撮像素子
(51)【国際特許分類】
C09B 67/46 20060101AFI20231005BHJP
G02B 5/22 20060101ALI20231005BHJP
G02B 5/20 20060101ALI20231005BHJP
G09F 9/30 20060101ALI20231005BHJP
C09B 67/20 20060101ALI20231005BHJP
C09B 47/04 20060101ALI20231005BHJP
C09B 47/10 20060101ALI20231005BHJP
C09D 11/03 20140101ALI20231005BHJP
C09D 11/037 20140101ALI20231005BHJP
H01L 27/146 20060101ALI20231005BHJP
C09B 1/22 20060101ALN20231005BHJP
C09B 57/00 20060101ALN20231005BHJP
C09B 57/04 20060101ALN20231005BHJP
C09B 45/22 20060101ALN20231005BHJP
C09B 19/02 20060101ALN20231005BHJP
【ＦＩ】
C09B67/46 B
G02B5/22
G02B5/20 101
G09F9/30 349A
C09B67/20 L
C09B47/04
C09B47/10
C09D11/03
C09D11/037
H01L27/146 D
C09B1/22
C09B57/00 Z
C09B57/04
C09B45/22
C09B19/02
【審査請求】未請求
【請求項の数】11
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022057821
(22)【出願日】2022-03-31
(71)【出願人】
【識別番号】000222118
【氏名又は名称】東洋インキＳＣホールディングス株式会社
(72)【発明者】
【氏名】常川 美沙緒
(72)【発明者】
【氏名】吉田 寛之
【テーマコード（参考）】
2H148
4J039
4M118
5C094
【Ｆターム（参考）】
2H148BG01
2H148BG11
2H148CA04
2H148CA12
2H148CA14
2H148CA17
2H148CA19
2H148CA23
4J039AD08
4J039AD09
4J039AD10
4J039AE04
4J039AE06
4J039AE08
4J039BC56
4J039BC60
4J039BE01
4J039BE04
4J039BE05
4J039CA03
4J039EA35
4J039EA37
4J039EA38
4J039EA44
4J039FA02
4J039FA04
4J039GA02
4J039GA03
4J039GA09
4J039GA24
4J039GA34
4M118AB01
4M118BA10
4M118BA14
4M118CA02
4M118GC07
4M118GC11
4M118GC17
4M118GD01
5C094ED02
5C094FB01
(57)【要約】 （修正有）
【課題】本発明は、保存安定性に優れ、高い耐光性、耐熱性、及び耐湿性を有する膜を形成できる着色組成物の提供を目的とする。
【解決手段】上記課題は、波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ未満の範囲に吸収極大を有する顔料（Ａ）、近赤外線吸収化合物（Ｂ）、及び分散樹脂（Ｃ）を含む着色組成物であって、前記近赤外線吸収化合物（Ｂ）が、下記一般式で表される化合物（Ｂ１）を含む着色組成物によって解決できる。
【選択図】なし
【解決手段】上記課題は、波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ未満の範囲に吸収極大を有する顔料（Ａ）、近赤外線吸収化合物（Ｂ）、及び分散樹脂（Ｃ）を含む着色組成物であって、前記近赤外線吸収化合物（Ｂ）が、下記一般式で表される化合物（Ｂ１）を含む着色組成物によって解決できる。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ未満の範囲に吸収極大を有する顔料（Ａ）、近赤外線吸収化合物（Ｂ）、及び分散樹脂（Ｃ）を含む着色組成物であって、
前記近赤外線吸収化合物（Ｂ）が、一般式（１）で表される化合物（Ｂ１）を含む着色組成物。
一般式（１）
（一般式（１）中、Ｘ１～Ｘ８、Ｙｌ～Ｙ８は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、スルホン基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよい複素環基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルチオ基、置換基を有してもよいアリールチオ基、置換基を有してもよいフタルイミドメチル基、または、置換基を有してもよいスルファモイル基を表す。また、Ｘ１～Ｘ８は、それぞれ独立して互いに結合して置換基を有してもよい芳香環を形成しても良い。ただし、Ｘ１とＸ２、Ｘ３とＸ４、Ｘ５とＸ６、Ｘ７とＸ８のいずれか１つ以上は互いに結合して置換基を有してもよい芳香環を形成する。Ｚは、Ａｌ原子に対する配位部位を１個以上有する配位子を表す。）
前記近赤外線吸収化合物（Ｂ）が、一般式（１）で表される化合物（Ｂ１）を含む着色組成物。
一般式（１）
【化1】
（一般式（１）中、Ｘ１～Ｘ８、Ｙｌ～Ｙ８は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、スルホン基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよい複素環基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルチオ基、置換基を有してもよいアリールチオ基、置換基を有してもよいフタルイミドメチル基、または、置換基を有してもよいスルファモイル基を表す。また、Ｘ１～Ｘ８は、それぞれ独立して互いに結合して置換基を有してもよい芳香環を形成しても良い。ただし、Ｘ１とＸ２、Ｘ３とＸ４、Ｘ５とＸ６、Ｘ７とＸ８のいずれか１つ以上は互いに結合して置換基を有してもよい芳香環を形成する。Ｚは、Ａｌ原子に対する配位部位を１個以上有する配位子を表す。）
【請求項2】
前記一般式（１）で表される化合物中のＺが、リン原子を含む配位子である請求項１に記載の着色組成物。
【請求項3】
前記リン原子を含む配位子が、疎水基を有する配位子である請求項２に記載の着色組成物。
【請求項4】
前記近赤外線吸収化合物（Ｂ）が、一般式（１）で表される化合物（Ｂ１）を２種以上含む請求項１～３のいずれか１項に記載の着色組成物。
【請求項5】
前記分散樹脂（Ｃ）が、酸性基を有する分散樹脂（Ｃ１）を含む請求項１～４のいずれか１項に記載の着色組成物。
【請求項6】
更に、顔料誘導体（Ｄ）を含む請求項１～５のいずれか１項に記載の着色組成物。
【請求項7】
更に、バインダ樹脂（Ｅ）を含む請求項１～６のいずれか１項に記載の着色組成物。
【請求項8】
請求項１～７のいずれか１項に記載の着色組成物を含む膜。
【請求項9】
請求項８に記載の膜を有するカラーフィルタ。
【請求項10】
請求項８に記載の膜を有する画像表示装置。
【請求項11】
請求項８に記載の膜を有する固体撮像素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、近赤外線吸収化合物を含有する着色組成物に関する。
【背景技術】
【0002】
ビデオカメラ、デジタルカメラ、及びスマートフォン等には、カラー画像の固体撮像素子であるＣＣＤ（電荷結合素子）やＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）が用いられている。これら固体撮像素子の受光部には、赤外線に感度を有するシリコンフォトダイオードを使用しているため、視感度補正を行うことが必要であり、カラーフィルタと赤外線カットフィルタを併用した２層構造となる。
【0003】
近年、固体撮像素子の薄膜化の観点から、赤外線カットフィルタの薄膜化や赤外線カットフィルタを取り除くことが検討されている。
【0004】
例えば、特許文献１には、赤色着色剤、近赤外線吸収剤、及び重合性化合物を含有するカラーフィルタ用赤色着色組成物が開示されている。また、特許文献２には、緑色着色剤、近赤外線吸収剤、及び重合性化合物を含有するカラーフィルタ用緑色着色組成物が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特開２０１５－１６３９５５号公報
【特許文献2】特開２０１５－１６３９５６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
カラーフィルタは、様々な環境下で用いられるため、高い堅牢性（高い耐光性、耐熱性、及び耐湿性）が求められる。また、カラーフィルタは、厚みの違いや欠陥があると、品質が著しく低下する。そのため。カラーフィルタの製造に用いられる着色組成物は、着色組成物の製造直後と、保管してカラーフィルタの製造に使用する時とで粘度や分散性等に変化が少ないことが求められる。
【0007】
本発明は、保存安定性に優れ、高い耐光性、耐熱性、及び耐湿性を有する膜を形成できる着色組成物の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明は、波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ未満の範囲に吸収極大を有する顔料（Ａ）、近赤外線吸収化合物（Ｂ）、及び分散樹脂（Ｃ）を含む着色組成物であって、前記近赤外線吸収化合物（Ｂ）が、一般式（１）で表される化合物（Ｂ１）を含む着色組成物に関する。
一般式（１）
一般式（１）
【化1】
【0009】
一般式（１）中、Ｘ１～Ｘ８、Ｙｌ～Ｙ８は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、スルホン基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよい複素環基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルチオ基、置換基を有してもよいアリールチオ基、置換基を有してもよいフタルイミドメチル基、または、置換基を有してもよいスルファモイル基を表す。また、Ｘ１～Ｘ８は、それぞれ独立して互いに結合して置換基を有してもよい芳香環を形成しても良い。ただし、Ｘ１とＸ２、Ｘ３とＸ４、Ｘ５とＸ６、Ｘ７とＸ８のいずれか１つ以上は互いに結合して置換基を有してもよい芳香環を形成する。Ｚは、Ａｌ原子に対する配位部位を１個以上有する配位子を表す。
【発明の効果】
【0010】
上記の本発明によれば、保存安定性に優れ、高い耐光性、耐熱性、及び耐湿性を有する膜を形成できる着色組成物を提供できる。また、本発明は、膜、カラーフィルタ、画像表示装置、及び固体撮像素子を提供できる。
【発明を実施するための形態】
【0011】
以下に、本発明の着色組成物を実施するための形態について詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施形態に制限されるものではなく、課題を解決可能な範囲内で変形して実施できる。
【0012】
本明細書において、「（メタ）アクリロイル」、「（メタ）アクリル」、「（メタ）アクリル酸」、「（メタ）アクリレート」、又は「（メタ）アクリルアミド」とは、特に説明がない限り、それぞれ、「アクリロイル及び／又はメタアクリロイル」、「アクリル及び／又はメタアクリル」、「アクリル酸及び／又はメタアクリル酸」、「アクリレート及び／又はメタクリレート」、又は「アクリルアミド及び／又はメタアクリルアミド」を意味する。また、「Ｃ．Ｉ．」は、カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．；Ｔｈｅ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｄｙｅｒｓ ａｎｄ Ｃｏｌｏｕｒｉｓｔｓ 発行）を意味する。重合性不飽和基は、エチレン性不飽和二重結合である。
本発明における化合物の分子量に関しては、分子量が特定できる低分子化合物は、計算により算出した値（式量）、若しくはＥＳＩ－ＭＳ（エレクトロスプレーイオン化質量分析法）により測定した分子量であり、分子量の分布を持つ化合物は、テトラヒドロフランを溶剤とした場合のゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量である。
単量体は、重合により樹脂を形成する化合物である。単量体は、未反応状態であり、単量体単位は、単量体が重合後に樹脂を形成している状態である。
本発明における化合物の分子量に関しては、分子量が特定できる低分子化合物は、計算により算出した値（式量）、若しくはＥＳＩ－ＭＳ（エレクトロスプレーイオン化質量分析法）により測定した分子量であり、分子量の分布を持つ化合物は、テトラヒドロフランを溶剤とした場合のゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量である。
単量体は、重合により樹脂を形成する化合物である。単量体は、未反応状態であり、単量体単位は、単量体が重合後に樹脂を形成している状態である。
【0013】
＜着色組成物＞
本発明の着色組成物は、波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ未満の範囲に吸収極大を有する顔料（Ａ）、近赤外線吸収化合物（Ｂ）、及び分散樹脂（Ｃ）を含む着色組成物であって、前記近赤外線吸収化合物（Ｂ）が、一般式（１）で表される化合物（Ｂ１）を含むことを特徴とする。
一般式（１）
本発明の着色組成物は、波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ未満の範囲に吸収極大を有する顔料（Ａ）、近赤外線吸収化合物（Ｂ）、及び分散樹脂（Ｃ）を含む着色組成物であって、前記近赤外線吸収化合物（Ｂ）が、一般式（１）で表される化合物（Ｂ１）を含むことを特徴とする。
一般式（１）
【化2】
【0014】
一般式（１）中、Ｘ１～Ｘ８、Ｙｌ～Ｙ８は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、スルホン基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよい複素環基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルチオ基、置換基を有してもよいアリールチオ基、置換基を有してもよいフタルイミドメチル基、または、置換基を有してもよいスルファモイル基を表す。また、Ｘ１～Ｘ８は、それぞれ独立して互いに結合して置換基を有してもよい芳香環を形成しても良い。ただし、Ｘ１とＸ２、Ｘ３とＸ４、Ｘ５とＸ６、Ｘ７とＸ８のいずれか１つ以上は互いに結合して置換基を有してもよい芳香環を形成する。Ｚは、Ａｌ原子に対する配位部位を１個以上有する配位子を表す。
【0015】
一般式（１）で表される化合物（Ｂ１）は、耐熱性、耐光性、及び耐湿性に優れるため、耐性に優れた膜が得られる。
【0016】
上記構成の組成物で、本発明の課題を解決できるメカニズムは明らかではないが、以下のように推測している。一般式（１）で表される化合物（Ｂ１）は、Ｘ１とＸ２、Ｘ３とＸ４、Ｘ５とＸ６、Ｘ７とＸ８のいずれか１つ以上が互いに結合して置換基を有してもよい芳香環を有するため、分子間相互作用が増し、耐熱性、耐光性、及び耐湿性が向上すると推測する。さらに、Ａｌ原子に対する配位部位を１個以上有する配位子によって、分子同士がスタッキングする力を適度に緩和することで、保存安定性が向上すると推測する。
【0017】
以下、一実施形態の着色組成物に含まれるか、又は含まれ得る成分を詳細に説明する。
【0018】
［波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ未満の範囲に吸収極大を有する顔料（Ａ）］
本発明の着色組成物は、波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ未満の範囲に吸収極大を有する顔料（Ａ）を含む。
可視光領域である波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ未満の範囲に吸収極大を有する顔料（Ａ）を含むことで、例えば、カラーフィルタ用途に使用する場合、所望の色彩が得られる。
本発明の着色組成物は、波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ未満の範囲に吸収極大を有する顔料（Ａ）を含む。
可視光領域である波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ未満の範囲に吸収極大を有する顔料（Ａ）を含むことで、例えば、カラーフィルタ用途に使用する場合、所望の色彩が得られる。
【0019】
波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ未満に吸収極大を有する顔料（Ａ）（以下、単に顔料（Ａ）ともいう）は、例えば、以下の顔料が挙げられる。
赤色顔料は、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１，２，３，４，５，６，７，８，９，１２，１４，１５，１６，１７，２１，２２，２３，３１，３２，３７，３８，４１，４７，４８，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４９，４９：１，４９：２，５０：１，５２：１，５２：２，５３，５３：１，５３：２，５３：３，５７，５７：１，５７：２，５８：４，６０，６３，６３：１，６３：２，６４，６４：１，６８，６９，８１，８１：１，８１：２，８１：３，８１：４，８３，８８，９０：１，１０１，１０１：１，１０４，１０８，１０８：１，１０９，１１２，１１３，１１４，１２２，１２３，１４４，１４６，１４７，１４９，１５１，１６６，１６８，１６９，１７０，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７８，１７９，１８１，１８４，１８５，１８７，１８８，１９０，１９３，１９４，２００，２０２，２０６，２０７，２０８，２０９，２１０，２１４，２１６，２２０，２２１，２２４，２３０，２３１，２３２，２３３，２３５，２３６，２３７，２３８，２３９，２４２，２４３，２４５，２４７，２４９，２５０，２５１，２５３，２５４，２５５，２５６，２５７，２５８，２５９，２６０，２６２，２６３，２６４，２６５，２６６，２６７，２６８，２６９，２７０，２７１，２７２，２７３，２７４，２７５，２７６，２７７，２７８，２７９，２８０，２８１，２８２，２８３，２８４，２８５，２８６，２８７，２９１，２９５，２９６、特開２０１４－１３４７１２号公報に記載された顔料、特許第６３６８８４４号公報に記載された顔料等が挙げられる。これらの中でも、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド４８：１，１２２，１７７，２２４，２４２，２６９，２５４，２９１，２９５，２９６、特開２０１４－１３４７１２号公報に記載された顔料、特許第６３６８８４４号公報に記載された顔料が好ましく、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７，２５４，２９１，２９５，２９６、特開２０１４－１３４７１２号公報に記載された顔料、特許第６３６８８４４号公報に記載された顔料がさらに好ましい。
赤色顔料は、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１，２，３，４，５，６，７，８，９，１２，１４，１５，１６，１７，２１，２２，２３，３１，３２，３７，３８，４１，４７，４８，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４９，４９：１，４９：２，５０：１，５２：１，５２：２，５３，５３：１，５３：２，５３：３，５７，５７：１，５７：２，５８：４，６０，６３，６３：１，６３：２，６４，６４：１，６８，６９，８１，８１：１，８１：２，８１：３，８１：４，８３，８８，９０：１，１０１，１０１：１，１０４，１０８，１０８：１，１０９，１１２，１１３，１１４，１２２，１２３，１４４，１４６，１４７，１４９，１５１，１６６，１６８，１６９，１７０，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７８，１７９，１８１，１８４，１８５，１８７，１８８，１９０，１９３，１９４，２００，２０２，２０６，２０７，２０８，２０９，２１０，２１４，２１６，２２０，２２１，２２４，２３０，２３１，２３２，２３３，２３５，２３６，２３７，２３８，２３９，２４２，２４３，２４５，２４７，２４９，２５０，２５１，２５３，２５４，２５５，２５６，２５７，２５８，２５９，２６０，２６２，２６３，２６４，２６５，２６６，２６７，２６８，２６９，２７０，２７１，２７２，２７３，２７４，２７５，２７６，２７７，２７８，２７９，２８０，２８１，２８２，２８３，２８４，２８５，２８６，２８７，２９１，２９５，２９６、特開２０１４－１３４７１２号公報に記載された顔料、特許第６３６８８４４号公報に記載された顔料等が挙げられる。これらの中でも、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド４８：１，１２２，１７７，２２４，２４２，２６９，２５４，２９１，２９５，２９６、特開２０１４－１３４７１２号公報に記載された顔料、特許第６３６８８４４号公報に記載された顔料が好ましく、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７，２５４，２９１，２９５，２９６、特開２０１４－１３４７１２号公報に記載された顔料、特許第６３６８８４４号公報に記載された顔料がさらに好ましい。
【0020】
橙色顔料は、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３６，３８，４３，６４，７１，７３等が挙げられる。
【0021】
黄色顔料は、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１，２，３，４，５，６，１０，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，２４，３１，３２，３４，３５，３５：１，３６，３６：１，３７，３７：１，４０，４２，４３，５３，５５，６０，６１，６２，６３，６５，７３，７４，７７，８１，８３，９３，９４，９５，９７，９８，１００，１０１，１０４，１０６，１０８，１０９，１１０，１１３，１１４，１１５，１１６，１１７，１１８，１１９，１２０，１２３，１２６，１２７，１２８，１２９，１３８，１３９，１４７，１５０，１５１，１５２、１５３，１５４，１５５，１５６，１６１，１６２，１６４，１６６，１６７，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７９，１８０，１８１，１８２，１８５，１８７，１８８，１９２，１９３，１９４，１９６，１９８，１９９，２１３，２１４，２３１，２３３、特開２０１２－２２６１１０号公報、特開２０１７－１７１９１２号公報、特開２０１７－１７１９１３号公報、特開２０１７－１７１９１４号公報、特開２０１７－１７１９１５号公報等に記載された顔料等が挙げられる。これらの中でも、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８，１３９，１５０，１８５，２３１，２３３、特開２０１２－２２６１１０号公報に記載された顔料が好ましい。
【0022】
緑色顔料は、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン１，２，４，７，８，１０，１３，１４，１５，１７，１８，１９，２６，３６，３７，４５，４８，５０，５１，５４，５５，５８，５９，６２，６３等が挙げられる。これらの中でも、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６、５８、５９、６２、６３が好ましい。
【0023】
青色顔料は、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１，１：２，９，１４，１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６，１６，１７，１９，２５，２７，２８，２９，３３，３５，３６，５６，５６：１，６０，６１，６１：１，６２，６３，６６，６７，６８，７１，７２，７３，７４，７５，７６，７８，７９等が挙げられる。これらの中でも、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６が好ましい。
【0024】
紫色顔料は、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１，１：１，２，２：２，３，３：１，３：３，５，５：１，１４，１５，１６，１９，２３，２５，２７，２９，３１，３２，３７，３９，４２，４４，４７，４９，５０等が挙げられる。これらの中でも、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９，２３が好ましい。
【0025】
これらの中でも、耐熱性、耐光性の観点から、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３，１５：６、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７，２５４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９，１５０、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３からなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましく、色再現性の観点から、２種以上含むことがより好ましい。
【0026】
顔料（Ａ）は、微細化して用いることが好ましい。微細化方法は、特に限定されるものではなく、例えば、湿式磨砕、乾式磨砕、溶解析出法いずれも使用できる。これらの中でも、湿式磨砕の１種であるニーダー法によるソルトミリング処理が好ましい。微細化顔料のＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）により求められる平均一次粒子径は、５～９０ｎｍが好ましい。なお、分散性、コントラスト比の観点から、平均一次粒子径は１０～７０ｎｍがより好ましい。
【0027】
顔料（Ａ）は、単独または２種類以上を併用して使用できる。
【0028】
顔料（Ａ）の含有量は、着色組成物の不揮発分１００質量％中、１～７０質量％以下が好ましく、５～６０質量％がより好ましい。
【0029】
［近赤外線吸収化合物（Ｂ）］
（一般式（１）で表される化合物（Ｂ１））
本発明の着色組成物は、近赤外線吸収化合物（Ｂ）として、一般式（１）で表される化合物（Ｂ１）を含む。なお、近赤外線吸収化合物（Ｂ）は、波長７００ｎｍ以上２，０００ｎｍ未満の範囲に吸収極大を有する化合物である。
（一般式（１）で表される化合物（Ｂ１））
本発明の着色組成物は、近赤外線吸収化合物（Ｂ）として、一般式（１）で表される化合物（Ｂ１）を含む。なお、近赤外線吸収化合物（Ｂ）は、波長７００ｎｍ以上２，０００ｎｍ未満の範囲に吸収極大を有する化合物である。
【0030】
一般式（１）
【化3】
【0031】
一般式（１）中、Ｘ１～Ｘ８、Ｙｌ～Ｙ８は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、スルホン基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよい複素環基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルチオ基、置換基を有してもよいアリールチオ基、置換基を有してもよいフタルイミドメチル基、または、置換基を有してもよいスルファモイル基を表す。また、Ｘ１～Ｘ８は、それぞれ独立して互いに結合して置換基を有してもよい芳香環を形成しても良い。ただし、Ｘ１とＸ２、Ｘ３とＸ４、Ｘ５とＸ６、Ｘ７とＸ８のいずれか１つ以上は互いに結合して置換基を有してもよい芳香環を形成する。Ｚは、Ａｌ原子に対する配位部位を１個以上有する配位子を表す。
【0032】
ハロゲン原子は、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【0033】
置換基を有してもよいアルキル基の「アルキル基」は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ネオペンチル基、ｎ－へキシル基、ｎ－オクチル基、ステアリル基、２－エチルへキシル基等の直鎖又は分岐アルキル基が挙げられる。「置換基を有するアルキル基」は、例えば、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、２，２－ジブロモエチル基、２，２，３，３－テトラフルオロプロピル基、２－エトキシエチル基、２－ブトキシエチル基、２－ニトロプロピル基、ベンジル基、４－メチルベンジル基、４－ｔｅｒｔ－プチルベンジル基、４－メトキシベンジル基、４－ニトロベンジル基、２，４－ジクロロベンジル基等が挙げられる。
【0034】
置換基を有してもよいアリール基の「アリール基」は、例えば、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基等が挙げられる。
「置換基を有するアリール基」は、例えば、ｐ－メチルフェニル基、ｐ－ブロモフェニル基、ｐ－ニトロフェニル基、ｐ－メトキシフェニル基、２，４－ジクロロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、２－アミノフェニル基、２－メチル－４－クロロフェニル基、４－ヒドロキシ－１－ナフチル基、６－メチル－２－ナフチル基、４，５，８－トリクロロ－２－ナフチル基、アントラキノニル基、２－アミノアントラキノニル基等が挙げられる。
「置換基を有するアリール基」は、例えば、ｐ－メチルフェニル基、ｐ－ブロモフェニル基、ｐ－ニトロフェニル基、ｐ－メトキシフェニル基、２，４－ジクロロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、２－アミノフェニル基、２－メチル－４－クロロフェニル基、４－ヒドロキシ－１－ナフチル基、６－メチル－２－ナフチル基、４，５，８－トリクロロ－２－ナフチル基、アントラキノニル基、２－アミノアントラキノニル基等が挙げられる。
【0035】
置換基を有してもよいシクロアルキル基の「シクロアルキル基」は、例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基、アダマンチル基等が挙げられる。
「置換基を有するシクロアルキル基」は、例えば、２，５－ジメチルシクロペンチル基、４－ｔｅｒｔ－ブチルシクロヘキシル基等が挙げられる。
「置換基を有するシクロアルキル基」は、例えば、２，５－ジメチルシクロペンチル基、４－ｔｅｒｔ－ブチルシクロヘキシル基等が挙げられる。
【0036】
置換基を有してもよい複素環基の「複素環基」としては、ピリジル基、ピラジル基、ピペリジノ基、ピラニル基、モルホリノ基、アクリジニル基等が挙げられる。「置換基を有する複素環基」としては、３－メチルピリジル基、Ｎ－メチルピペリジル基、Ｎ－メチルピロリル基等が挙げられる。
【0037】
置換基を有してもよいアルコキシル基の「アルコキシル基」は、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基、ネオペンチルオキシ基、２，３－ジメチル－３－ペンチルオキシ、ｎ－へキシルオキシ基、ｎ－オクチルオキシ基、ステアリルオキシ基、２－エチルへキシルオキシ基等の直鎖又は分岐アルコキシル基が挙げられる。
「置換基を有するアルコキシル基」は、例えば、トリクロロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、２，２，３，３－テトラフルオロプロポキシ基、２，２－ジトリフルオロメチルプロポキシ基、２－エトキシエトキシ基、２－ブトキシエトキシ基、２－ニトロプロポキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。
「置換基を有するアルコキシル基」は、例えば、トリクロロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、２，２，３，３－テトラフルオロプロポキシ基、２，２－ジトリフルオロメチルプロポキシ基、２－エトキシエトキシ基、２－ブトキシエトキシ基、２－ニトロプロポキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。
【0038】
置換基を有してもよいアリールオキシ基の「アリールオキシ基」は、例えば、フェノキシ基、ナフトキシ基、アンスリルオキシ基等が挙げられ、
「置換基を有するアリールオキシ基」は、例えば、ｐ－メチルフェノキシ基、ｐ－ニトロフェノキシ基、ｐ－メトキシフェノキシ基、２，４－ジクロロフェノキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基、２－メチル－４－クロロフェノキシ基等が挙げられる。
「置換基を有するアリールオキシ基」は、例えば、ｐ－メチルフェノキシ基、ｐ－ニトロフェノキシ基、ｐ－メトキシフェノキシ基、２，４－ジクロロフェノキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基、２－メチル－４－クロロフェノキシ基等が挙げられる。
【0039】
置換基を有してもよいアルキルチオ基の「アルキルチオ基」は、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、デシルチオ基、ドデシルチオ基、オクタデシルチオ基等が挙げられる。
「置換基を有するアルキルチオ基」は、例えば、メトキシエチルチオ基、アミノエチルチオ基、ベンジルアミノエチルチオ基、メチルカルボニルアミノエチルチオ基、フェニルカルボニルアミノエチルチオ基等が挙げられる。
「置換基を有するアルキルチオ基」は、例えば、メトキシエチルチオ基、アミノエチルチオ基、ベンジルアミノエチルチオ基、メチルカルボニルアミノエチルチオ基、フェニルカルボニルアミノエチルチオ基等が挙げられる。
【0040】
置換基を有してもよいアリールチオ基の「アリールチオ基」は、例えば、フェニルチオ基、１－ナフチルチオ基、２－ナフチルチオ基、９－アンスリルチオ基等が挙げられる。
「置換基を有するアリールチオ基」は、例えば、クロロフェニルチオ基、トリフルオロメチルフェニルチオ基、シアノフェニルチオ基、ニトロフェニルチオ基、２－アミノフェニルチオ基、２－ヒドロキシフェニルチオ基等が挙げられる。
「置換基を有するアリールチオ基」は、例えば、クロロフェニルチオ基、トリフルオロメチルフェニルチオ基、シアノフェニルチオ基、ニトロフェニルチオ基、２－アミノフェニルチオ基、２－ヒドロキシフェニルチオ基等が挙げられる。
【0041】
置換基を有してもよい芳香環の置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、ニトリル基、カルボキシル基、スルホン基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよいアルコキシル基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルチオ基、置換基を有してもよいアリールチオ基が挙げられる。
【0042】
Ｚが表す配位子は、Ａｌ原子に対してアニオン配位する配位部位、およびＡｌ原子に対して非共有電子対で配位する配位部位から選ばれる１種以上を有する配位子が挙げられる。アニオンで配位する配位部位は、解離していてもよく、非解離でも良い。配位子は、Ａｌ原子に対する配位部位を１個有する配位子であってもよく、Ａｌ原子に対する配位部位を２個以上有する配位子であってもよい。
【0043】
Ｚは、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換基を有してよいアルコキシ基、置換基を有してよいアリールオキシ基、置換基を有してよいアルキルチオ基、置換基を有してよいアリールチオ基等が挙げられる。これらの中でも、分散性が高まり保存安定性が向上する面でリン原子を有する配位子であることが好ましい。
また、Ｚは、耐熱性、耐湿性の観点から、疎水基を有する配位子であることが好ましく、リン原子および疎水基を有する配位子であることがより好ましい。
前記疎水基は、水に親和性の低い基を表す。水に対する親和性が低い基としては、置換基を有してよいアルキル基、置換基を有してよいアリール基、置換基を有してよいアルコキシ基、置換基を有してよいアリールオキシ基等が挙げられる。アルキル基およびアルコキシ基の炭素原子数は、１～３０が好ましい。アリール基およびアリールオキシ基の炭素原子数は、６～３０が好ましい。置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、ニトリル基等が挙げられる。
また、Ｚは、耐熱性、耐湿性の観点から、疎水基を有する配位子であることが好ましく、リン原子および疎水基を有する配位子であることがより好ましい。
前記疎水基は、水に親和性の低い基を表す。水に対する親和性が低い基としては、置換基を有してよいアルキル基、置換基を有してよいアリール基、置換基を有してよいアルコキシ基、置換基を有してよいアリールオキシ基等が挙げられる。アルキル基およびアルコキシ基の炭素原子数は、１～３０が好ましい。アリール基およびアリールオキシ基の炭素原子数は、６～３０が好ましい。置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、ニトリル基等が挙げられる。
【0044】
リン原子を有する配位子は、例えば、下記一般式（２）で表される配位子が挙げられる。
【0045】
一般式（２）
【化4】
【0046】
一般式（２）中、Ｒ２９およびＲ３０は、それぞれ独立して置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシル基または置換基を有してもよいアリールオキシ基を表す。＊は、Ａｌとの結合手である。
【0047】
置換基を有してもよいアルキル基の「アルキル基」、置換基を有してもよいアリール基の「アリール基」、置換基を有してもよいアルコキシル基の「アルコキシル基」、置換基を有してもよいアリールオキシ基の「アリールオキシ基」は、上記一般式（１）の説明で例示したものと同じものがあげられる。
【0048】
一般式（２）は、耐熱性、耐湿性の観点から、Ｒ２９とＲ３０のうちの少なくとも１つが、置換基を有してもよいアリール基又は置換基を有してもよいアリールオキシ基であることが好ましく、Ｒ２９とＲ３０がいずれもアリール基、またはアリールオキシ基であることがより好ましく、Ｒ２９とＲ３０がいずれもフェニル基またはフェノキシ基であることが特に好ましい。
【0049】
以下、一般式（１）で表される化合物（Ｂ１）の具体例を示す。なお、本発明はこれらに限定されない。
【0050】
【化5】
【化6】
【化7】
【化8】
【0051】
一般式（１）で表される化合物（Ｂ１）は、耐熱性、耐光性、及び耐熱性の観点から、Ｘ１とＸ２、Ｘ３とＸ４、Ｘ５とＸ６、Ｘ７とＸ８のいずれか２つ以上が互いに結合して置換基を有してもよい芳香環を形成する化合物を含むことが好ましく、３つ以上が互いに結合して置換基を有してもよい芳香環を形成する化合物を含むことがより好ましい。
【0052】
一般式（１）で表される化合物（Ｂ１）は、２種以上を併用することが好ましい。これにより分子同士のスタッキングする力を適度に緩和することで保存安定性が向上する。
そして、Ｘ１とＸ２、Ｘ３とＸ４、Ｘ５とＸ６、Ｘ７とＸ８のいずれか３つ以上が互いに結合して置換基を有してもよい芳香環を形成する化合物を、一般式（１）で表される化合物（Ｂ１）１００質量％中、３０質量％以上含有することがより好ましい。
そして、Ｘ１とＸ２、Ｘ３とＸ４、Ｘ５とＸ６、Ｘ７とＸ８のいずれか３つ以上が互いに結合して置換基を有してもよい芳香環を形成する化合物を、一般式（１）で表される化合物（Ｂ１）１００質量％中、３０質量％以上含有することがより好ましい。
【0053】
一般式（１）で表される化合物（Ｂ１）の含有量は、耐光性、耐熱性、及び耐湿性の観点から、近赤外線吸収化合物（Ｂ）１００質量％中、３０質量％以上であることが好ましく、３０～１００質量％であることがより好ましく、４０～１００質量％であることがより好ましい。
【0054】
（一般式（１）で表される化合物（Ｂ１）以外の化合物（Ｂ２））
本発明の着色組成物は、近赤外線吸収化合物（Ｂ）として、一般式（１）で表される化合物（Ｂ１）以外の化合物（Ｂ２）（以下、単に化合物（Ｂ２）ともいう）を含有することができる。
本発明の着色組成物は、近赤外線吸収化合物（Ｂ）として、一般式（１）で表される化合物（Ｂ１）以外の化合物（Ｂ２）（以下、単に化合物（Ｂ２）ともいう）を含有することができる。
【0055】
化合物（Ｂ２）は、波長７００ｎｍ以上２，０００ｎｍ未満の範囲に吸収極大を有する化合物であれば、特に制限がなく、公知の化合物を用いることができる。
【0056】
化合物（Ｂ２）は、例えば、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、インジゴ化合物、インモニウム化合物、アントラキノン化合物、ピロロピロール化合物、スクアリリウム化合物、クロコニウム化合物、リレン化合物、オキソノール化合物、ピロメテン化合物、アゾメチン化合物等が挙げられる。これらの中でも、耐光性、耐熱性の観点から、スクアリリウム化合物、ナフタロシアニン化合物、シアニン化合物、ピロロピロール化合物、インジゴ化合物、フタロシアニン化合物、およびクロコニウム化合物が好ましく、スクアリリウム化合物、ナフタロシアニン化合物、ピロロピロール化合物、インジゴ化合物、フタロシアニン化合物、クロコニウム化合物がより好ましい。
【0057】
シアニン化合物は、国際公開第２００６／００６５７３号、特開２００９－１０８２６７号公報、国際公開第２０１０／０７３８５７号、特開２０１３－２４１５９８号公報、特開２０１６－１１３５０１号公報、特開２０１６－１１３５０４号公報、特開２０１７－０３１３９４号公報等；フタロシアニン化合物は、特開平４－２３８６８号公報、特開平０６－１９２５８４号公報、特開２０００－６３６９１号公報、国際公開第２０１４／２０８５１４号等；ナフタロシアニン化合物は、特開平１１－１５２４１４号公報、特開２０００－８６９１９号公報、特開２００９－２９９５５号公報、特開２０１６－０５３６１７号公報、国際公開第２０１７／００２９２０号、国際公開第２０１８／１８６４９０号等；インジゴ化合物は、特開２０１３－２３０４１２号公報等；インモニウム化合物は、特開２００５－３３６１５０号公報、特開２００７－１９７４９２号公報、特開２００８－８８４２６号公報等；アントラキノン化合物は、特開昭６２－９０３号公報、特開平１－１７２４５８号公報等；ピロロピロール化合物は、特開２００９－２６３６１４号公報、特開２０１０－９０３１３号公報、特開２０１１－０６８７３１号公報；スクアリリウム化合物は、特開２０１１－１３２３６１号公報、特開２０１６－１４２８９１号公報、国際公開第２０１７／１３５３５９号、国際公開第２０１８／２２５８３７号、特開２０１９－００１９８７号公報、国際公開第２０２０／０５４７１８号、特開２０２０－１７２６１４号公報、国際公開第２０２１／０２９１９５号等；クロコニウム化合物は、国際公開第２０１７－１４６１８７号、国際公開第２０１９／０２１７６７号等；ピロメテン化合物は、特開２０１８－１２３０９３号公報、特開２０１９－０７７６７３号公報、特開２０２０－１８９９３３号公報、国際公開第２０２０／１６２３４５号等に記載の化合物が挙げられる。
【0058】
〔スクアリリウム化合物〕
スクアリリウム化合物は、特に制限がなく、公知の化合物を用いることができる。以下、スクアリリウム化合物の具体例を示す。なお、本発明はこれらに限定されない。
スクアリリウム化合物は、特に制限がなく、公知の化合物を用いることができる。以下、スクアリリウム化合物の具体例を示す。なお、本発明はこれらに限定されない。
【0059】
【化9】
【化10】
【0060】
〔ナフタロシアニン化合物〕
ナフタロシアニン化合物は、特に制限がなく、公知の化合物を用いることができる。ただし、一般式（１）で表される化合物（Ｂ１）を除く。以下、ナフタロシアニン化合物の具体例を示す。なお、本発明はこれらに限定されない。
ナフタロシアニン化合物は、特に制限がなく、公知の化合物を用いることができる。ただし、一般式（１）で表される化合物（Ｂ１）を除く。以下、ナフタロシアニン化合物の具体例を示す。なお、本発明はこれらに限定されない。
【0061】
【化11】
【0062】
〔シアニン化合物〕
シアニン化合物は、特に制限がなく、公知の化合物を用いることができる。以下、シアニン化合物の具体例を示す。なお、本発明はこれらに限定されない。
シアニン化合物は、特に制限がなく、公知の化合物を用いることができる。以下、シアニン化合物の具体例を示す。なお、本発明はこれらに限定されない。
【0063】
【化12】
【0064】
〔ピロロピロール化合物〕
ピロロピロール化合物は、特に制限がなく、公知の化合物を用いることができる。以下、ピロロピロール化合物の具体例を示す。構造式中、Ｐｈはフェニル基を表す。なお、本発明はこれらに限定されない。
ピロロピロール化合物は、特に制限がなく、公知の化合物を用いることができる。以下、ピロロピロール化合物の具体例を示す。構造式中、Ｐｈはフェニル基を表す。なお、本発明はこれらに限定されない。
【0065】
【化13】
【0066】
〔インジゴ化合物〕
インジゴ化合物は、特に制限がなく、公知の化合物を用いることができる。以下、インジゴ化合物の具体例を示す。なお、本発明はこれらに限定されない。
インジゴ化合物は、特に制限がなく、公知の化合物を用いることができる。以下、インジゴ化合物の具体例を示す。なお、本発明はこれらに限定されない。
【0067】
【化14】
【0068】
【化15】
【0069】
【化16】
【0070】
【化17】
【0071】
〔フタロシアニン化合物〕
フタロシアニン化合物は、特に制限がなく、公知の化合物を用いることができる。ただし、一般式（１）で表される化合物（Ｂ１）を除く。以下、フタロシアニン化合物の具体例を示す。なお、本発明はこれらに限定されない。
フタロシアニン化合物は、特に制限がなく、公知の化合物を用いることができる。ただし、一般式（１）で表される化合物（Ｂ１）を除く。以下、フタロシアニン化合物の具体例を示す。なお、本発明はこれらに限定されない。
【0072】
【化18】
【0073】
〔クロコニウム化合物〕
クロコニウム化合物は、特に制限がなく、公知の化合物を用いることができる。以下、クロコニウム化合物の具体例を示す。なお、本発明はこれらに限定されない。
クロコニウム化合物は、特に制限がなく、公知の化合物を用いることができる。以下、クロコニウム化合物の具体例を示す。なお、本発明はこれらに限定されない。
【0074】
【化19】
【0075】
化合物（Ｂ２）は、単独または２種類以上を併用して使用できる。
【0076】
近赤外線吸収化合物（Ｂ）の含有量は、顔料（Ａ）１００質量部に対して、１～３００質量部が好ましく、１０～２００質量部がより好ましい。
【0077】
［分散樹脂（Ｃ）］
本発明の着色組成物は、分散樹脂（Ｃ）を含む。
本発明の着色組成物は、分散樹脂（Ｃ）を含む。
【0078】
分散樹脂（Ｃ）は、顔料（Ａ）や近赤外線吸収化合物（Ｂ）などの粒子を着色組成物中に分散させるための目的で用いる。
【0079】
分散樹脂（Ｃ）は、顔料（Ａ）や近赤外線吸収化合物（Ｂ）に親和性が高い吸着基を有している樹脂が好ましい。吸着基は、酸性基及び塩基性のうち少なくとも１種を有していることが好ましい。
【0080】
酸性基は、例えば、カルボキシル基、リン酸基及びスルホン酸基等が挙げられる。
【0081】
塩基性基は、例えば、１級アミノ基、２級アミノ基、３級アミノ基、４級アンモニウム塩基及び含窒素複素環など窒素原子を含有する基等が挙げられる。
【0082】
分散樹脂（Ｃ）の樹脂種は、例えば、ウレタン樹脂、ポリアクリレート等のポリカルボン酸エステル、不飽和ポリアミド、ポリカルボン酸、ポリカルボン酸（部分）アミン塩、ポリカルボン酸アンモニウム塩、ポリカルボン酸アルキルアミン塩、ポリシロキサン、長鎖ポリアミノアマイドリン酸塩、水酸基含有ポリカルボン酸エステルや、これらの変性物、ポリ（低級アルキレンイミン）と遊離のカルボキシル基を有するポリエステルとの反応により形成されたアミドやその塩等、（メタ）アクリル酸－スチレン共重合体、（メタ）アクリル酸－（メタ）アクリル酸エステル共重合体、スチレン－マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等の水溶性樹脂や水溶性高分子化合物、ポリエステル系、変性ポリアクリレート系、エチレンオキサイド／プロピレンオキサイド付加化合物、リン酸エステル系等が挙げられる。
【0083】
分散樹脂（Ｃ）の構造は、例えば、ランダム構造、ブロック構造、グラフト構造、くし型構造、及び星型構造等が挙げられる。
【0084】
（酸性基を有する分散樹脂（Ｃ１））
本発明の着色組成物は、保存安定性の観点から、分散樹脂（Ｃ）として酸性基を有する分散樹脂（Ｃ１）を含有することが好ましい。
本発明の着色組成物は、保存安定性の観点から、分散樹脂（Ｃ）として酸性基を有する分散樹脂（Ｃ１）を含有することが好ましい。
【0085】
酸性基を有する分散樹脂（Ｃ１）は、カルボキシル基を有する分散樹脂を含むことが好ましい。例えば、下記（Ｃ１－１）、又は（Ｃ１－２）で示される分散樹脂が挙げられる。
【0086】
〔酸性基を有する分散樹脂（Ｃ１－１）〕
酸性基を有する分散樹脂（Ｃ１－１）は、テトラカルボン酸二無水物、およびトリカルボン酸無水物の群から選ばれる一種以上の酸無水物中の酸無水物基と水酸基含有化合物中の水酸基とを反応させてなる、カルボキシル基を有するポリエステル部分、並びに、単量体をラジカル重合してなるビニル重合体部分、を含む樹脂である。
まず、前記ポリエステル部分を説明する。ポリエステル部分は、酸無水物基と水酸基との反応に由来するエステル基が複数存在する部位である。
酸性基を有する分散樹脂（Ｃ１－１）は、テトラカルボン酸二無水物、およびトリカルボン酸無水物の群から選ばれる一種以上の酸無水物中の酸無水物基と水酸基含有化合物中の水酸基とを反応させてなる、カルボキシル基を有するポリエステル部分、並びに、単量体をラジカル重合してなるビニル重合体部分、を含む樹脂である。
まず、前記ポリエステル部分を説明する。ポリエステル部分は、酸無水物基と水酸基との反応に由来するエステル基が複数存在する部位である。
【0087】
前記テトラカルボン酸二無水物は、例えば、１，２，３，４－ブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３－ジメチル－１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４－シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、２，３，５－トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、３，５，６－トリカルボキシノルボルナン－２－酢酸二無水物、２，３，４，５－テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、５－（２，５－ジオキソテトラヒドロフラル）－３－メチル－３－シクロヘキセン－１，２－ジカルボン酸二無水物、ビシクロ［２．２．２］－オクト－７－エン－２，３，５，６－テトラカルボン酸二無水物等の脂肪族テトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、エチレングリコールジ無水トリメリット酸エステル、プロピレングリコールジ無水トリメリット酸エステル、ブチレングリコールジ無水トリメリット酸エステル、３，３’，４，４’－ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’－ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８－ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７－ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’－ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’－ジメチルジフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’－テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４－フランテトラカルボン酸二無水物、４，４’－ビス（３，４－ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルフィド二無水物、４，４’－ビス（３，４－ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルホン二無水物、４，４’－ビス（３，４－ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルプロパン二無水物、３，３’，４，４’－パーフルオロイソプロピリデンジフタル酸二無水物、３，３’，４，４’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス（フタル酸）フェニルホスフィンオキサイド二無水物、ｐ－フェニレン－ビス（トリフェニルフタル酸）二無水物、ｍ－フェニレン－ビス（トリフェニルフタル酸）二無水物、ビス（トリフェニルフタル酸）－４，４’－ジフェニルエーテル二無水物、ビス（トリフェニルフタル酸）－４，４’－ジフェニルメタン二無水物、９，９－ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）フルオレン二無水物、９，９－ビス［４－（３，４－ジカルボキシフェノキシ）フェニル］フルオレン二無水物、３，４－ジカルボキシ－１，２，３，４－テトラヒドロ－１－ナフタレンコハク酸二無水物、又は３，４－ジカルボキシ－１，２，３，４－テトラヒドロ－６－メチル－１－ナフタレンコハク酸二無水物等の芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。これらの中でも顔料に対する吸着性の観点から、芳香族テトラカルボン酸二無水物が好ましい。
【0088】
テトラカルボン酸二無水物は、水酸基含有化合物との反応により、テトラカルボン酸二無水物一単位に二個のカルボキシル基を有する分散樹脂を形成するため、顔料吸着性が向上する面で好ましい。
【0089】
前記トリカルボン酸無水物は、脂肪族トリカルボン酸無水物、または芳香族トリカルボン酸無水物等が挙げられる。
【0090】
前記脂肪族トリカルボン酸無水物は、例えば、３－カルボキシメチルグルタル酸無水物、１，２，４－ブタントリカルボン酸－１，２－無水物、ｃｉｓ－プロペン－１，２，３－トリカルボン酸－１，２－無水物、１，３，４－シクロペンタントリカルボン酸無水物等が挙げられる。
【0091】
前記芳香族トリカルボン酸無水物は、例えば、ベンゼントリカルボン酸無水物（１，２，３－ベンゼントリカルボン酸無水物、トリメリット酸無水物［１，２，４－ベンゼントリカルボン酸無水物］等）、ナフタレントリカルボン酸無水物（１，２，４－ナフタレントリカルボン酸無水物、１，４，５－ナフタレントリカルボン酸無水物、２，３，６－ナフタレントリカルボン酸無水物、１，２，８－ナフタレントリカルボン酸無水物等）、３，４，４’－ベンゾフェノントリカルボン酸無水物、３，４，４’－ビフェニルエーテルトリカルボン酸無水物、３，４，４’－ビフェニルトリカルボン酸無水物、２，３，２’－ビフェニルトリカルボン酸無水物、３，４，４’－ビフェニルメタントリカルボン酸無水物、又は３，４，４’－ビフェニルスルホントリカルボン酸無水物等が挙げられる。これらの中でも顔料に対する吸着性の観点から、芳香族トリカルボン酸無水物である。
【0092】
前記テトラカルボン酸二無水物、およびトリカルボン酸無水物から選ばれる一種以上の酸無水物中の酸無水物基と、水酸基含有化合物中の水酸基のモル比率は、酸無水物基／水酸基＝０．５～１．５が好ましい。適度な比率で反応させると分散性が良好な分散樹脂を得易い。
【0093】
前記水酸基含有化合物は、モノオール、ポリオールがあり、ポリオールが好ましい。ポリオール中の水酸基は、ビニル重合体部分との結合起点として機能する。
ビニル重合体部分との結合起点となるポリオールとして、分子内に２つの水酸基と１つのチオール基を有する化合物が挙げられる。分子内に２つの水酸基と１つのチオール基を有する化合物は、例えば、１－メルカプト－１，１－メタンジオール、１－メルカプト－１，１－エタンジオール、３－メルカプト－１，２－プロパンジオール（チオグリセリンあるいは１－チオグリセロール）、２－メルカプト－１，２－プロパンジオール、２－メルカプト－２－メチル－１，３－プロパンジオール、２－メルカプト－２－エチル－１，３－プロパンジオール、１－メルカプト－２，２－プロパンジオール、２－メルカプトエチル－２－メチル－１，３－プロパンジオール、又は２－メルカプトエチル－２－エチル－１，３－プロパンジオール等が挙げられる。
ビニル重合体部分との結合起点となるポリオールとして、分子内に２つの水酸基と１つのチオール基を有する化合物が挙げられる。分子内に２つの水酸基と１つのチオール基を有する化合物は、例えば、１－メルカプト－１，１－メタンジオール、１－メルカプト－１，１－エタンジオール、３－メルカプト－１，２－プロパンジオール（チオグリセリンあるいは１－チオグリセロール）、２－メルカプト－１，２－プロパンジオール、２－メルカプト－２－メチル－１，３－プロパンジオール、２－メルカプト－２－エチル－１，３－プロパンジオール、１－メルカプト－２，２－プロパンジオール、２－メルカプトエチル－２－メチル－１，３－プロパンジオール、又は２－メルカプトエチル－２－エチル－１，３－プロパンジオール等が挙げられる。
【0094】
酸性基を有する分散樹脂（Ｃ１－１）としては、下記（Ｃ１－１－１）、又は（Ｃ１－１－２）も挙げられる。
【0095】
≪酸性基を有する分散樹脂（Ｃ１－１－１）≫
酸性基を有する分散樹脂（Ｃ１－１－１）のビニル重合体部位は、（i）水酸基、オキセタン基、ｔｅｒｔ－ブチル基、およびブロックイソシアネート基からなる群より選ばれる少なくとも１種の熱架橋性基を有する単量体と、（ｉｉ）カルボキシル基含有単量体と、必要に応じて、（ｉｉｉ）その他の単量体とをラジカル重合して得られる。
酸性基を有する分散樹脂（Ｃ１－１－１）のビニル重合体部位は、（i）水酸基、オキセタン基、ｔｅｒｔ－ブチル基、およびブロックイソシアネート基からなる群より選ばれる少なくとも１種の熱架橋性基を有する単量体と、（ｉｉ）カルボキシル基含有単量体と、必要に応じて、（ｉｉｉ）その他の単量体とをラジカル重合して得られる。
【0096】
（i－１）〔水酸基含有単量体〕
熱架橋性基として水酸基含有単量体は、水酸基含有（メタ）アクリレート系単量体、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２（又は３）－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２（又は３又は４）－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート及びシクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレートなどのヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、及びエチル－α－ヒドロキシメチルアクリレートなどのアルキル－α－ヒドロキシアルキルアクリレート、
あるいは水酸基含有（メタ）アクリルアミド系単量体、例えば、Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ－（２－ヒドロキシプロピル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ－（２－ヒドロキシブチル）（メタ）アクリルアミドなどのＮ－（ヒドロキシアルキル）（メタ）アクリルアミド、
あるいは、水酸基含有ビニルエーテル系単量体、例えば、２－ヒドロキシエチルビニルエーテル、２－（又は３－）ヒドロキシプロピルビニルエーテル、２－（又は３－又は４－）ヒドロキシブチルビニルエーテルなどのヒドロキシアルキルビニルエーテル、
あるいは水酸基含有アリルエーテル系単量体、例えば、２－ヒドロキシエチルアリルエーテル、２－（又は３－）ヒドロキシプロピルアリルエーテル、２－（又は３－又は４－）ヒドロキシブチルアリルエーテルなどのヒドロキシアルキルアリルエーテルが挙げられる。
熱架橋性基として水酸基含有単量体は、水酸基含有（メタ）アクリレート系単量体、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２（又は３）－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２（又は３又は４）－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート及びシクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレートなどのヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、及びエチル－α－ヒドロキシメチルアクリレートなどのアルキル－α－ヒドロキシアルキルアクリレート、
あるいは水酸基含有（メタ）アクリルアミド系単量体、例えば、Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ－（２－ヒドロキシプロピル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ－（２－ヒドロキシブチル）（メタ）アクリルアミドなどのＮ－（ヒドロキシアルキル）（メタ）アクリルアミド、
あるいは、水酸基含有ビニルエーテル系単量体、例えば、２－ヒドロキシエチルビニルエーテル、２－（又は３－）ヒドロキシプロピルビニルエーテル、２－（又は３－又は４－）ヒドロキシブチルビニルエーテルなどのヒドロキシアルキルビニルエーテル、
あるいは水酸基含有アリルエーテル系単量体、例えば、２－ヒドロキシエチルアリルエーテル、２－（又は３－）ヒドロキシプロピルアリルエーテル、２－（又は３－又は４－）ヒドロキシブチルアリルエーテルなどのヒドロキシアルキルアリルエーテルが挙げられる。
【0097】
また、上記のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アルキル－α－ヒドロキシアルキルアクリレート、Ｎ－（ヒドロキシアルキル）（メタ）アクリルアミド、ヒドロキシアルキルビニルエーテルあるいはヒドロキシアルキルアリルエーテルにアルキレンオキサイド及び／又はラクトンを付加して得られる単量体も好ましい。付加されるアルキレンオキサイドは、例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、１，２－、１，４－、２，３－又は１，３－ブチレンオキサイド及びこれらの２種以上の併用系が用いられる。２種以上のアルキレンオキサイドを併用するときの結合形式はランダム及び／又はブロックのいずれでもよい。付加されるラクトンは、例えば、δ－バレロラクトン、ε－カプロラクトン、炭素原子数１～６のアルキル基で置換されたε－カプロラクトン及びこれらの２種以上の併用系が用いられる。アルキレンオキサイドとラクトンを両方とも付加したものでも構わない。
【0098】
（i－２）〔オキセタン基含有単量体〕
オキセタン基含有単量体は、（ビニルオキシアルキル）アルキルオキセタン、（メタ）アクリロイルオキシアルキルオキセタン、〔（メタ）アクリロイルオキシアルキル〕アルキルオキセタン等が挙げられる。中でも好ましくは、メタクリル酸（３－エチルオキセタン－３－イル）メチル等が挙げられる。市販品は、例えば、ＥＴＥＲＮＡＣＯＬＬ ＯＸＭＡ（メタクリル酸（３－エチルオキセタン－３－イル）メチル）（宇部興産社製）が挙げられる。
オキセタン基含有単量体は、（ビニルオキシアルキル）アルキルオキセタン、（メタ）アクリロイルオキシアルキルオキセタン、〔（メタ）アクリロイルオキシアルキル〕アルキルオキセタン等が挙げられる。中でも好ましくは、メタクリル酸（３－エチルオキセタン－３－イル）メチル等が挙げられる。市販品は、例えば、ＥＴＥＲＮＡＣＯＬＬ ＯＸＭＡ（メタクリル酸（３－エチルオキセタン－３－イル）メチル）（宇部興産社製）が挙げられる。
【0099】
（i－３）〔ｔ－ブチル基含有単量体〕
熱架橋性官能基としてｔ－ブチル基含有単量体は、例えば、ｔ－ブチルメタクリレート、ｔ－ブチルアクリレート等が挙げられる。
熱架橋性官能基としてｔ－ブチル基含有単量体は、例えば、ｔ－ブチルメタクリレート、ｔ－ブチルアクリレート等が挙げられる。
【0100】
（i－４）〔ブロックイソシアネート基含有単量体〕
熱架橋性基としてブロックイソシアネート基含有単量体は、メタクリル酸２－（０－［１‘－メチルプロピリデンアミノ］カルボキシアミノ）エチル、２－［（３，５－ジメチルピラゾリル）カルボニルアミノ］エチルメタクリレート等が挙げられる。市販品は、例えば、カレンズＭＯＩ－ＢＭ（メタクリル酸２－（０－［１‘－メチルプロピリデンアミノ］カルボキシアミノ）エチル）（昭和電工社製）、カレンズＭＯＩ－ＢＰ（２－［（３，５－ジメチルピラゾリル）カルボニルアミノ］エチルメタクリレート）（昭和電工社製）等が挙げられる。
熱架橋性基としてブロックイソシアネート基含有単量体は、メタクリル酸２－（０－［１‘－メチルプロピリデンアミノ］カルボキシアミノ）エチル、２－［（３，５－ジメチルピラゾリル）カルボニルアミノ］エチルメタクリレート等が挙げられる。市販品は、例えば、カレンズＭＯＩ－ＢＭ（メタクリル酸２－（０－［１‘－メチルプロピリデンアミノ］カルボキシアミノ）エチル）（昭和電工社製）、カレンズＭＯＩ－ＢＰ（２－［（３，５－ジメチルピラゾリル）カルボニルアミノ］エチルメタクリレート）（昭和電工社製）等が挙げられる。
【0101】
オキセタン基含有単量体、ｔ－ブチル基含有単量体、およびブロックイソシアネート基含有単量体の含有量は、全単量体中に５～９０質量％が好ましく、２０～６０質量％がよい好ましい。５質量％以上であれば、架橋の効果により耐性に優れた膜を得ることが可能となり、９０質量％以下であれば、着色組成物の安定性も良好であるために好ましい。
【0102】
（ｉｉ）〔カルボキシル基含有単量体〕
カルボキシル基含有単量体は、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、α－クロルアクリル酸、けい皮酸等が挙げられる。これらの中でも、共重合性が良く、入手が容易な（メタ）アクリル酸が好ましい。
カルボキシル基含有単量体は、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、α－クロルアクリル酸、けい皮酸等が挙げられる。これらの中でも、共重合性が良く、入手が容易な（メタ）アクリル酸が好ましい。
【0103】
（ｉｉｉ）〔その他の単量体〕
酸性基を有する分散樹脂（Ｂ１－１－１）のビニル重合体部分には、熱架橋性含有単量体、カルボキシル基含有単量体以外のその他単量体を使用できる。
その他単量体は、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリメチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート類；
フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート等の芳香族（メタ）アクリレート類；
テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート等の複素環式（メタ）アクリレート類；
メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のアルコキシポリアルキレングリコール（メタ）アクリレート類；
（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－イソプロピル（メタ）アクリルアミド、ダイアセトン（メタ）アクリルアミド、アクリロイルモルホリン等のＮ置換型（メタ）アクリルアミド類；
Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート等のアミノ基含有（メタ）アクリレート類；
及び、（メタ）アクリロニトリル等のニトリル類が挙げられる。
酸性基を有する分散樹脂（Ｂ１－１－１）のビニル重合体部分には、熱架橋性含有単量体、カルボキシル基含有単量体以外のその他単量体を使用できる。
その他単量体は、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリメチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート類；
フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート等の芳香族（メタ）アクリレート類；
テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート等の複素環式（メタ）アクリレート類；
メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のアルコキシポリアルキレングリコール（メタ）アクリレート類；
（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－イソプロピル（メタ）アクリルアミド、ダイアセトン（メタ）アクリルアミド、アクリロイルモルホリン等のＮ置換型（メタ）アクリルアミド類；
Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート等のアミノ基含有（メタ）アクリレート類；
及び、（メタ）アクリロニトリル等のニトリル類が挙げられる。
【0104】
また、スチレン、α－メチルスチレン等のスチレン類、エチルビニルエーテル、ｎ－プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ－ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等の脂肪酸ビニル類が挙げられる。
【0105】
≪酸性基を有する分散樹脂（Ｃ１－１－２）≫
酸性基を有する分散樹脂（Ｃ１－１－２）は、ビニル重合体部分に、重合性不飽和基を有する。
酸性基を有する分散樹脂（Ｃ１－１－２）は、ビニル重合体部分に、重合性不飽和基を有する。
【0106】
酸性基を有する分散樹脂（Ｃ１－１－２）の製造方法は、例えば、重合性不飽和基である（メタ）アクリロイル基と官能基とを有する化合物と、前記官能基と反応する官能基含有単量体を含む単量体の重合体とを反応させて合成できる。例えば、グリシジルメタクリレートと、水酸基またはカルボキシル基を有する重合体との反応物、メタクリロイルオキシエチルイソシアネートと、水酸基またはカルボキシル基を有する重合体との反応物等が挙げられる。
水酸基またはカルボキシル基を有する重合体は、グリシジル基を有する重合体を、酸無水物化合物と開環反応させて得る、または酸無水物基を有する重合体を開環反応させて得ることもできる。例えば、特開２０１１－１５７４１６号公報記載の分散樹脂が挙げられる。
水酸基またはカルボキシル基を有する重合体は、グリシジル基を有する重合体を、酸無水物化合物と開環反応させて得る、または酸無水物基を有する重合体を開環反応させて得ることもできる。例えば、特開２０１１－１５７４１６号公報記載の分散樹脂が挙げられる。
【0107】
〔酸性基を有する分散樹脂（Ｃ１－２）〕
酸性基を有する分散樹脂（Ｃ１－２）は、下記一般式（３）で表される分散樹脂であり、具体的には、特開２００７－１４０４８７号公報に記載された分散樹脂である。
酸性基を有する分散樹脂（Ｃ１－２）は、下記一般式（３）で表される分散樹脂であり、具体的には、特開２００７－１４０４８７号公報に記載された分散樹脂である。
【0108】
一般式（３）
（ＨＯＯＣ－）ｍ－Ｒ２－（－ＣＯＯ－［－Ｒ４－ＣＯＯ－］ｎ－Ｒ５）ｔ
（一般式（３）中、Ｒ２は４価のテトラカルボン酸化合物残基、Ｒ５はモノアルコール残基、Ｒ４はラクトン残基、ｍは２、または３、ｎは１～５０の整数、ｔは（４－ｍ）を表す。）
（ＨＯＯＣ－）ｍ－Ｒ２－（－ＣＯＯ－［－Ｒ４－ＣＯＯ－］ｎ－Ｒ５）ｔ
（一般式（３）中、Ｒ２は４価のテトラカルボン酸化合物残基、Ｒ５はモノアルコール残基、Ｒ４はラクトン残基、ｍは２、または３、ｎは１～５０の整数、ｔは（４－ｍ）を表す。）
【0109】
酸性基を有する分散樹脂（Ｃ１）の酸価は、保存安定性の観点から、２０～２５０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、３０～２００ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましい。
【0110】
酸性基を有する分散樹脂（Ｃ１）は、単独または２種類以上を併用して使用できる。
【0111】
酸性基を有する分散樹脂（Ｃ１）の含有量は、保存安定性の観点から、顔料（Ａ）１００質量部に対して、３～２００質量部が好ましく、５～１００質量部がより好ましい。
【0112】
（塩基性を有する分散樹脂（Ｃ２））
本発明の組成物は、保存安定性の観点から、更に分散樹脂（Ｃ）として塩基性基を有する分散樹脂（Ｃ２）を含有することが好ましい。
本発明の組成物は、保存安定性の観点から、更に分散樹脂（Ｃ）として塩基性基を有する分散樹脂（Ｃ２）を含有することが好ましい。
【0113】
塩基性基を有する分散樹脂（Ｃ２）は、塩基性基として、下記一般式（４）～（６）で表される単量体単位からなる群より選ばれる少なくとも１つの単量体単位を有することが好ましい。
【0114】
一般式（４）
【化20】
【0115】
一般式（４）中、Ｒ1～Ｒ3は、それぞれ独立して水素原子、または置換基を有していてもよい鎖状若しくは環状の炭化水素基を表し、Ｒ1～Ｒ3のうち２つ以上が互いに結合して環状構造を形成してもよい。Ｒ4は、水素原子、またはメチル基を示し、Ｘは２価の連結基を表し、Ｙ－は対アニオンを表す。
【0116】
一般式（５）
【化21】
【0117】
一般式（５）中、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立して水素原子、または置換基を有していてもよい鎖状若しくは環状の炭化水素基を表し、Ｒ５およびＲ６が互いに結合して環状構造を形成してもよい。Ｒ４は水素原子、またはメチル基を表し、Ｘは２価の連結基を表す。
【0118】
一般式（６）
【化22】
【0119】
一般式（６）中、Ｒ７は水素原子、炭素原子数１～１８のアルキル基、炭素原子数６～２０のアリール基、炭素原子数７～１２のアラルキル基、アシル基、オキシラジカル基、またはＯＲ１２を表し、Ｒ１２は、水素原子、炭素原子数１～１８のアルキル基、炭素原子数６～２０のアリール基、炭素原子数７～１２のアラルキル基、またはアシル基を表し、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１は、それぞれ独立してメチル基、エチル基、またはフェニル基を示す。Ｒ４は、水素原子、またはメチル基を表し、Ｘは２価の連結基を表す。
【0120】
一般式（４）におけるＲ１～Ｒ３は、例えば、置換基を有していてもよい炭素原子数１～４のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数７～１６のアラルキル基がより好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ベンジル基が特に好ましい。
【0121】
一般式（５）におけるＲ5、Ｒ6は、例えば、置換基を有していてもよい炭素原子数１～４のアルキル基がより好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が特に好ましい。
【0122】
一般式（６）のＲ７において、炭素原子数１～１８のアルキル基は、例えば、直鎖状、分岐状、環状のアルキル基が挙げられ、具体的には、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ－オクチル基、ヘキサデシル基等が挙げられる。
炭素原子数６～２０のアリール基は、例えば、フェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基等が挙げられる。
炭素原子数７～１２のアラルキル基は、例えば、炭素原子数６～１０のアリール基に炭素原子数１～８のアルキル基が結合した基が挙げられ、具体的には、ベンジル基、フェネチル基、α－メチルベンジル基、２－フェニルプロパン－２－イル基等が挙げられる。
また、アシル基は、例えば、炭素原子数２～８のアルカノイル基およびアロイル基が挙げられ、具体的にはアセチル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
この中でも、水素原子、炭素原子数１～５のアルキル基、オキシラジカル基が好ましく、水素原子、メチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。
炭素原子数６～２０のアリール基は、例えば、フェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基等が挙げられる。
炭素原子数７～１２のアラルキル基は、例えば、炭素原子数６～１０のアリール基に炭素原子数１～８のアルキル基が結合した基が挙げられ、具体的には、ベンジル基、フェネチル基、α－メチルベンジル基、２－フェニルプロパン－２－イル基等が挙げられる。
また、アシル基は、例えば、炭素原子数２～８のアルカノイル基およびアロイル基が挙げられ、具体的にはアセチル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
この中でも、水素原子、炭素原子数１～５のアルキル基、オキシラジカル基が好ましく、水素原子、メチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。
【0123】
一般式（４）～（６）において、２価の連結基Ｘは、例えば、メチレン基、炭素原子数２～１０のアルキレン基、アリーレン基、－ＣＯＮＨ－Ｒ１３－、－ＣＯＯ－Ｒ１４－（但し、Ｒ１３およびＲ１４は、単結合、メチレン基、炭素原子数２～１０のアルキレン基、又は炭素原子数２～１０のエーテル基（アルキルオキシアルキル基）である）等が挙げられ、好ましくは－ＣＯＯ－Ｒ1 4－である。また、一般式（１６）において、対アニオンのＹ－は、例えば、Ｃｌ－、Ｂｒ－、Ｉ－、ＣｌＯ4
－、ＢＦ4、ＣＨ3ＣＯＯ－、ＰＦ6
－等が挙げられる。
【0124】
一般式（４）で表される単量体単位を形成する単量体は、例えば、（メタ）アクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド、（メタ）アクリロイルオキシエチルトリエチルアンモニウムクロライド、（メタ）アクリロイルオキシエチルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、（メタ）アクリロイルオキシエチルメチルモルホリノアンモニウムクロライド等のアルキル（メタ）アクリレート系第４級アンモニウム塩、（メタ）アクリロイルアミノプロピルトリメチルアンモニウムクロライド、（メタ）アクリロイルアミノエチルトリエチルアンモニウムクロライド、（メタ）アクリロイルアミノエチルジメチルベンジルアンモニウムクロライド等のアルキル（メタ）アクリロイルアミド系第４級アンモニウム塩、ジメチルジアリルアンモニウムメチルサルフェート、トリメチルビニルフェニルアンモニウムクロライド等が挙げられる。
【0125】
一般式（５）で表される単量体単位を形成する単量体は、例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリレート等の３級アミノ基を有する（メタ）アクリレート類；Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、およびＮ，Ｎ－ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド等の３級アミノ基を有する（メタ）アクリルアミド類等が挙げられる。
【0126】
一般式（６）で表される単量体単位を形成する単量体は、例えば、以下の化合物が挙げられる。以下の構造式中、Ｒ4は水素またはメチル基を表す。
【0127】
【化23】
【0128】
上記化合物の中でも、２，２，６，６－テトラメチルピペリジルメタクリレート、１，２，２，６，６－ペンタメチルピペリジルメタクリレートが好ましく、１，２，２，６，６－ペンタメチルピペリジルメタクリレートがより好ましい。
【0129】
一般式（４）～（６）で表される単量体単位は、単独または２種類以上を含有してよい。
【0130】
一般式（４）～（６）で表される単量体単位の含有量は、塩基性基を有する分散樹脂（Ｃ２）の全構成単位中、５～９０モル％であることが好ましく、１０～８０モル％であることがより好ましい。
【0131】
塩基性基を有する分散樹脂（Ｃ２）は、塩基性基を有する単量体単位以外の単量体単位（その他単量体単位ともいう）を有することができる。その他単量体単位を形成する単量体は、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）、ターシャリブチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、イソミリスチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、及びイソステアリル（メタ）アクリレート等の直鎖又は分岐アルキル（メタ）アクリレート類；
シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ターシャリブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、及びイソボルニル（メタ）アクリレート等の環状アルキル（メタ）アクリレート類；
テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、及び３－メチル－３－オキセタニル（メタ）アクリレート等の複素環を有する（メタ）アクリレート類；
ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレートの芳香族環を有する（メタ）アクリレート類；２－メトキシエチル（メタ）アクリレート、２－エトキシエチル（メタ）アクリレート、２－メトキシプロピル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノ－２－エチルヘキシルエーテル（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノラウリルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノステアリルエーテル（メタ）アクリレート、及びオクトキシポリエチレングリコール－ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート等の、（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテル（メタ）アクリレート類；
フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート 、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、パラクミルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、パラクミルフェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、パラクミルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、及びノニルフェノキシポリ（エチレングリコール-プロピレングリコール）（メタ）アクリレート等の芳香族環を有する（ポリ）アルキレングリコール（メタ）アクリレート類；
３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、及び３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のアルキルオキシシリル基を有する（メタ）アクリレート類；
トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルエチル（メタ）アクリレート、及びテトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート等のフルオロアルキル（メタ）アクリレート類；（メタ）アクリロキシ変性ポリジメチルシロキサン（シリコーンマクロマー）類；
（メタ）アクリルアミド、ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－イソプロピル（メタ）アクリルアミド、ダイアセトン（メタ）アクリルアミド、及びアクリロイルモルホリン等のＮ置換型（メタ）アクリルアミド類；並びに、（メタ）アクリロニトリル等のニトリル類等が挙げられる。
また、スチレン、及びα－メチルスチレン等のスチレン類；エチルビニルエーテル、ｎ－プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ－ブチルビニルエーテル、及びイソブチルビニルエーテル等のビニルエーテル類；並びに、酢酸ビニル、及びプロピオン酸ビニル等の脂肪酸ビニル類；
（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸ダイマー、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸等の不飽和カルボン酸類が挙げられる。これらの単量体は、単独または２種以上併用して使用できる。
シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ターシャリブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、及びイソボルニル（メタ）アクリレート等の環状アルキル（メタ）アクリレート類；
テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、及び３－メチル－３－オキセタニル（メタ）アクリレート等の複素環を有する（メタ）アクリレート類；
ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレートの芳香族環を有する（メタ）アクリレート類；２－メトキシエチル（メタ）アクリレート、２－エトキシエチル（メタ）アクリレート、２－メトキシプロピル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノ－２－エチルヘキシルエーテル（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノラウリルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノステアリルエーテル（メタ）アクリレート、及びオクトキシポリエチレングリコール－ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート等の、（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテル（メタ）アクリレート類；
フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート 、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、パラクミルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、パラクミルフェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、パラクミルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、及びノニルフェノキシポリ（エチレングリコール-プロピレングリコール）（メタ）アクリレート等の芳香族環を有する（ポリ）アルキレングリコール（メタ）アクリレート類；
３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、及び３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のアルキルオキシシリル基を有する（メタ）アクリレート類；
トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルエチル（メタ）アクリレート、及びテトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート等のフルオロアルキル（メタ）アクリレート類；（メタ）アクリロキシ変性ポリジメチルシロキサン（シリコーンマクロマー）類；
（メタ）アクリルアミド、ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－イソプロピル（メタ）アクリルアミド、ダイアセトン（メタ）アクリルアミド、及びアクリロイルモルホリン等のＮ置換型（メタ）アクリルアミド類；並びに、（メタ）アクリロニトリル等のニトリル類等が挙げられる。
また、スチレン、及びα－メチルスチレン等のスチレン類；エチルビニルエーテル、ｎ－プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ－ブチルビニルエーテル、及びイソブチルビニルエーテル等のビニルエーテル類；並びに、酢酸ビニル、及びプロピオン酸ビニル等の脂肪酸ビニル類；
（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸ダイマー、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸等の不飽和カルボン酸類が挙げられる。これらの単量体は、単独または２種以上併用して使用できる。
【0132】
更に、塩基性基を有する分散樹脂（Ｃ２）は、塩基性基の一部に下記一般式（７）または一般式（８）で表される化合物が結合して塩を形成した樹脂も好適に用いることができる。
【0133】
一般式（７）
【化24】
【0134】
一般式（７）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して水素原子、水酸基、炭素原子数１～２０の直鎖、分岐鎖または環状のアルキル基、ビニル基、置換基を有してもよいフェニル基またはベンジル基、または－Ｏ－Ｒ４を表し、Ｒ４は、炭素原子数１～２０の直鎖、分岐鎖または環状のアルキル基、ビニル基、置換基を有してもよいフェニル基またはベンジル基、または炭素原子数１～４のアルキレン基を介した（メタ）アクリロイル基を表す。但し、Ｒ１およびＲ２の少なくとも一つは炭素原子を含む基である。
【0135】
一般式（８）
【化25】
【0136】
一般式（８）中、Ｒ３は、炭素原子数１～２０の直鎖、分岐鎖または環状のアルキル基、ビニル基、置換基を有してもよいフェニル基またはベンジル基、または－Ｏ－Ｒ４を表し、Ｒ４は、炭素原子数１～２０の直鎖、分岐鎖または環状のアルキル基、ビニル基、置換基を有してもよいフェニル基またはベンジル基、または炭素原子数１～４のアルキレン基を介した（メタ）アクリロイル基を表す。
【0137】
一般式（７）で表される化合物は、例えば、モノブチルリン酸、ジブチルリン酸、メチルリン酸、ジベンジルリン酸、ジフェニルリン酸、フェニルホスフィン酸、フェニルホスホン酸、ジメタクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート等が挙げられる。
【0138】
一般式（８）で表される化合物は、例えば、ベンゼンスルホン酸、ビニルスルホン酸、メタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、モノメチル硫酸、モノエチル硫酸、モノｎ－プロピル硫酸等が挙げられる。なお、ｐ－トルエンスルホン酸一水和物のような水和物を用いても良い。
【0139】
塩基性基を有する分散樹脂（Ｃ２）の構造は、保存安定性の観点から、ブロック構造が好ましい。
【0140】
塩基性基を有する分散樹脂（Ｃ２）のアミン価は、保存安定性の観点から、２０～２５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、３０～２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましい。
【0141】
塩基性基を有する分散樹脂（Ｃ２）は、単独または２種類以上を併用して使用できる。
【0142】
塩基性基を有する分散樹脂（Ｃ２）の含有量は、保存安定性の観点から、近赤外線吸収化合物（Ｂ）１００質量部に対して、３～２００質量部が好ましく、５～１５０質量部がより好ましい。
【0143】
［顔料誘導体（Ｄ）］
本発明の着色組成物は、保存安定性の観点から、顔料誘導体（Ｄ）を含有することが好ましい。
本発明の着色組成物は、保存安定性の観点から、顔料誘導体（Ｄ）を含有することが好ましい。
【0144】
顔料誘導体（Ｄ）は、顔料の一部を、酸性基、塩基性基、フタルイミドアルキル基で置換した構造を有する化合物が挙げられる。
【0145】
顔料は、ジケトピロロピロール系顔料、アントラキノン系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、ペリノン系顔料、ペリレン系顔料、チアジンインジゴ系顔料、トリアジン系顔料、ベンズイミダゾロン系顔料、ベンゾイソインドール等のインドール系顔料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、ナフトール系顔料、キナクリドン系顔料、スレン系顔料、金属錯体系顔料、アゾ、ジスアゾ、ポリアゾ等のアゾ系顔料等が挙げられる。
【0146】
酸性基は、スルホ基、カルボキシ基、リン酸基及びそれらの塩が挙げられる。塩を構成する原子又は原子団は、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオン、イミダゾリウムイオン、ピリジニウムイオン、ホスフォニウムイオン等が挙げられる。
【0147】
塩基性基は、アミノ基、ピリジル基及びそれらの塩、アンモニウム基の塩が挙げられる。アミノ基は、－ＮＨ２、ジアルキルアミノ基、アルキルアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、環状アミノ基等が挙げられる。ジアルキルアミノ基、アルキルアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、環状アミノ基は、更に置換基を有してもよい。置換基は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、複素環基等が挙げられる。塩を構成する原子又は原子団は、水酸化物イオン、ハロゲンイオン、カルボン酸イオン、スルホン酸イオン、フェノキシドイオン等が挙げられる。
【0148】
具体的には、ジケトピロロピロール系顔料誘導体としては、特開２００１－２２０５２０号公報、国際公開第２００９／０８１９３０号、国際公開第２０１１／０５２６１７号、国際公開第２０１２／１０２３９９号、特開２０１７－１５６３９７号公報、フタロシアニン系色素誘導体としては、特開２００７－２２６１６１号公報、国際公開第２０１６／１６３３５１号、特開２０１７－１６５８２０号公報、特許第５７５３２６６号公報、アントラキノン系色素誘導体としては、特開昭６３－２６４６７４号公報、特開平０９－２７２８１２号公報、特開平１０－２４５５０１号公報、特開平１０－２６５６９７号公報、特開２００７－０７９０９４号公報、国際公開第２００９／０２５３２５号、キナクリドン系顔料誘導体としては、特開昭４８－５４１２８号公報、特開平０３－９９６１号公報、特開２０００－２７３３８３号公報、ジオキサジン系顔料誘導体としては、特開２０１１－１６２６６２号公報、チアジンインジゴ系顔料誘導体としては、特開２００７－３１４７８５号公報、トリアジン系顔料誘導体としては、特開昭６１－２４６２６１号公報、特開平１１－１９９７９６号公報、特開２００３－１６５９２２号公報、特開２００３－１６８２０８号公報、特開２００４－２１７８４２号公報、特開２００７－３１４６８１号公報、ベンゾイソインドール系顔料誘導体としては、特開２００９－５７４７８号公報、キノフタロン系顔料誘導体としては、特開２００３－１６７１１２号公報、特開２００６－２９１１９４号公報、特開２００８－３１２８１号公報、特開２０１２－２２６１１０号公報、ナフトール系顔料誘導体としては、特開２０１２－２０８３２９号公報、特開２０１４－５４３９号公報、アゾ系顔料誘導体としては、特開２００１－１７２５２０号公報、特開２０１２－１７２０９２号公報等に記載の化合物が挙げられる。これらの中でも、保存安定性の観点から、顔料（Ａ）と同じ顔料構造を有する化合物を用いることが好ましい。
【0149】
以下、顔料誘導体（Ｄ）の具体例を示す。なお、本発明はこれらに限定されない。
【0150】
【化26】
【0151】
【化27】
【0152】
顔料誘導体（Ｄ）は、単独または２種類以上を併用して使用できる。
【0153】
顔料誘導体（Ｄ）は、保存安定性の観点から、塩基性基、フタルイミドアルキル基で置換した構造を有する化合物のいずれか１種を含むことが好ましい。
【0154】
顔料誘導体（Ｄ）の含有量は、顔料（Ａ）１００質量部に対して、１～２０質量部が好ましく、２～１０質量部がより好ましい。
【0155】
［バインダ樹脂（Ｅ）］
本発明の着色組成物は、膜の耐性の観点から、バインダ樹脂（Ｅ）を含有することが好ましい。
本発明の着色組成物は、膜の耐性の観点から、バインダ樹脂（Ｅ）を含有することが好ましい。
【0156】
バインダ樹脂（Ｅ）は、特に制限がなく、公知の樹脂を用いることができる。例えば、（メタ）アクリル樹脂、スチレン樹脂、スチレン／（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、環状オレフィン樹脂等が挙げられる。これらは、単独または２種類以上を併用して使用できる。
【0157】
バインダ樹脂（Ｅ）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、３，０００～２００，０００が好ましく、４，０００～１５０，０００がより好ましい。
【0158】
バインダ樹脂（Ｅ）は、単独または２種類以上を併用して使用できる。
【0159】
バインダ樹脂（Ｅ）の含有量は、着色組成物の不揮発分１００質量％中、１～９５質量％が好ましく、５～８０質量％がより好ましい。
【0160】
（バインダ樹脂（Ｅ１））
バインダ樹脂（Ｅ）は、膜の耐性の観点から、脂環式炭化水素含有単量体単位、芳香環含有単量体単位、及び複素環含有単量体単位からなる群から選ばれる少なくとも１種を有するバインダ樹脂（Ｅ１）（以下、単にバインダ樹脂（Ｅ１）ともいう）を含むことが好ましい。より好ましくは、脂環式炭化水素含有単量体単位、及び芳香環含有単量体単位を含む。
バインダ樹脂（Ｅ１）は、例えば、脂環式炭化水素含有単量体、芳香環含有単量体、及び複素環含有単量体の少なくとも１種と、これらと共重合可能なその他単量体との共重合で得ることができる。
バインダ樹脂（Ｅ）は、膜の耐性の観点から、脂環式炭化水素含有単量体単位、芳香環含有単量体単位、及び複素環含有単量体単位からなる群から選ばれる少なくとも１種を有するバインダ樹脂（Ｅ１）（以下、単にバインダ樹脂（Ｅ１）ともいう）を含むことが好ましい。より好ましくは、脂環式炭化水素含有単量体単位、及び芳香環含有単量体単位を含む。
バインダ樹脂（Ｅ１）は、例えば、脂環式炭化水素含有単量体、芳香環含有単量体、及び複素環含有単量体の少なくとも１種と、これらと共重合可能なその他単量体との共重合で得ることができる。
【0161】
脂環式炭化水素含有単量体は、例えば、イソボロニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、２－メチル－２－アダマンチル（メタ）アクリレート、２－エチル－２－アダマンチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの中でも、膜の耐性の観点から、ホモポリマーのガラス転移温度が８０℃以上の脂環式炭化水素含有単量体が好ましく、イソボロニルメタクリレート、アダマンチルメタクリレート、ジシクロペンタニルメタクリレートがより好ましい。
【0162】
脂環式炭化水素含有単量体単位の含有量は、バインダ樹脂（Ｅ１）の全構成単位中、１～５０モル％が好ましく、５～４０モル％がより好ましい。
【0163】
芳香環含有単量体は、例えば、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、パラクミルフェノールのエチレンオキサイド（ＥＯ）又はプロピレンオキサイド（ＰＯ）変性（メタ）アクリレート、Ｎ－フェニルマレイミド、スチレン、α－メチルスチレン、ビニルナフタレン等が挙げられる。これらの中でも、膜の耐性の観点から、ホモポリマーのガラス転移温度が８０℃以上の芳香環含有単量体が好ましく、スチレン、α－メチルスチレンがより好ましい。
【0164】
芳香環含有単量体単位の含有量は、バインダ樹脂（Ｅ１）の全構成単位中、１～５０モル％が好ましく、５～４０モル％がより好ましい。
【0165】
複素環含有単量体は、例えば、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、（２－メチル－２－エチル－１，３－ジオキソラン－４－イル）メチル（メタ）アクリレート、４－アクリロイルモルホリン、Ｎ－ビニル－２－ピロリドン、グリシジル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの中でも、膜の耐性の観点から、グリシジル（メタ）アクリレートが好ましい。
【0166】
複素環含有単量体単位の含有量は、バインダ樹脂（Ｅ１）の全構成単位中、１～５０モル％が好ましく、５～４０モル％がより好ましい。
【0167】
バインダ樹脂（Ｅ１）は、脂環式炭化水素含有単量体単位、芳香環含有単量体単位、及び複素環含有単量体単位以外の単量体単位（以下、その他単量体単位ともいう）を有することができる。
その他単量体は、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート類；
２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－若しくは３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－若しくは３－若しくは４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート等の水酸基含有（メタ）アクリレート類；
エチルビニルエーテル、ｎ－プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ－ブチルビニルエーテル、又はイソブチルビニルエーテル等のビニルエーテル類；
アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸等の不飽和カルボン酸類等が挙げられる。これらの単量体は、単独または２種以上併用して使用できる。
その他単量体は、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート類；
２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－若しくは３－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－若しくは３－若しくは４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート等の水酸基含有（メタ）アクリレート類；
エチルビニルエーテル、ｎ－プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ－ブチルビニルエーテル、又はイソブチルビニルエーテル等のビニルエーテル類；
アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸等の不飽和カルボン酸類等が挙げられる。これらの単量体は、単独または２種以上併用して使用できる。
【0168】
更に、バインダ樹脂（Ｅ１）は、膜の耐性の観点から、重合性不飽和基単量体単位を有することも好ましい。重合性不飽和基単量体単位を導入する方法は、樹脂中のエポキシ基に（メタ）アクリル酸等の不飽和カルボン酸を反応させる方法や、樹脂中の水酸基にイソシアネート基と重合性不飽和基を有する化合物を反応させる方法等がある。
【0169】
［硬化性化合物（Ｆ）］
本発明の着色組成物は、硬化性化合物（Ｆ）を含有できる。
本発明の着色組成物は、硬化性化合物（Ｆ）を含有できる。
【0170】
硬化性化合物（Ｆ）は、ラジカル、酸、熱により硬化可能な化合物であれば、特に制限なく、公知の化合物を用いることができる。例えば、重合性不飽和基を有する化合物、エポキシ基を有する化合物、オキセタニル基を有する化合物、メチロール基を有する化合物、アルコキシシリル基を有する化合物等が挙げられる。
【0171】
（重合性不飽和基を有する化合物）
重合性不飽和基を有する化合物は、モノマー、オリゴマーのいずれの形態であってもよい。重合性不飽和基は、例えば、ビニル基、スチリル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基等が挙げられる。なお、重合性不飽和基は、２個以上が好ましい。
重合性不飽和基を有する化合物は、モノマー、オリゴマーのいずれの形態であってもよい。重合性不飽和基は、例えば、ビニル基、スチリル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基等が挙げられる。なお、重合性不飽和基は、２個以上が好ましい。
【0172】
重合性不飽和基を有する化合物は、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、２－アクリロイロキシエチル－コハク酸、２－アクリロイロキシエチル－フタル酸、２－アクリロイルオキシエチルアシッドフォスフェート、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオ－ルジ（メタ）アクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＰＯ変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、スチレン、酢酸ビニル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ビニルホルムアミド、アクリロニトリル等が挙げられる。
【0173】
重合性不飽和基を有する化合物の市販品は、例えば、日本化薬社製のＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡ－２０、ＤＰＣＡ－３０、ＤＰＣＡ－６０、Ｒ－１２８Ｈ、Ｒ５２６、ＰＥＧ４００ＤＡ、ＭＡＮＤ、ＮＰＧＤＡ、Ｒ－１６７、ＨＸ－２２０、Ｒ－５５１、Ｒ７１２、Ｒ－６０４、Ｒ－６８４、ＧＰＯ－３０３、ＴＭＰＴＡ、ＤＰＨＡ、ＤＰＥＡ－１２、ＤＰＨＡ－２Ｃ、Ｄ－３１０、Ｄ－３３０、大阪有機化学工業社製のビスコート＃２５００Ｐ、＃３１０ＨＰ、＃３３５ＨＰ、＃７００、＃２９５、＃３３０、＃３６０、＃ＧＰＴ、＃４００、＃４０５、ビスコート＃１０００ＬＴ、東亞合成社製のアロニックスＭ－５３００、Ｍ－５４００、Ｍ－５７００、Ｍ－５１０、Ｍ－５２０、Ｍ－５２１、Ｍ－３０３、Ｍ－３０５、Ｍ－３０６、Ｍ－３０９、Ｍ－３１０、Ｍ－３２１、Ｍ－３２５、Ｍ－３５０、Ｍ－３６０、Ｍ－３１３、Ｍ－３１５、Ｍ－４００、Ｍ－４０２、Ｍ－４０３、Ｍ－４０４、Ｍ－４０５、Ｍ－４０６、Ｍ－４５０、Ｍ－４５２、Ｍ－４０８、Ｍ－２１１Ｂ、Ｍ－９２０、Ｍ－９３０、Ｍ－９３３、Ｍ－９４０、Ｍ－１０１Ａ、ＭＴ－３０４１、ＭＴ－３０４２、ＯＴ－１５２３、ＯＴ－１５２４、ダイセル・オルネクス社製のβ－ＣＥＡ、共栄社化学社製のＡＨ－６００、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＵＡ－５１０Ｈ、ＵＦ－８００１Ｇ、ＤＡＵＡ－１６７、新中村化学社製のＮＫエステル７０１Ａ、ＡＢＥ－３００、Ａ－ＤＯＧ、Ａ－ＤＣＰ、Ａ－ＢＰＥ－４、Ａ－ＴＭＰＴ－９ＥＯ、ＡＴ－２０Ｅ、Ａ－ＧＬＹ－３Ｅ、Ａ－９２００ＹＮ、Ａ－９３００、ＡＴＭ－３５Ｅ、ＡＤ－ＴＭＰ、ＵＡ－４２００、ＵＡ－１２２Ｐ、ＵＡ－７１００、ＵＡ－１１００Ｈ、Ｕ－６ＬＰＡ、ＵＡ－３３Ｈ、Ｕ－１０ＨＡ、Ｕ－１５ＨＡ、ダイセル・オルネクス社製のＥＢＥＣＲＹＬ４０、１３０、１４０、１４５、１２９０、８９６、ＯＴＡ４８０、ＫＲＭ８４５２、大阪ガスケミカル社製のＯＧＳＯＬ ＥＡ－０２００、ＥＡ－０３００、ＧＡ－５０６０Ｐ、ＧＡ－２８００、Ｍｉｗｏｎ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，Ｌｔｄ社製のＭｉｒａｍｅｒ ＨＲ６０６０、ＨＲ６１００、ＨＲ６２００、ＳＰ－１１０６、ＳＰ－１１０８、ＳＡＲＴＯＭＥＲ社製のＣＮ２３０１、ＣＮ２３０２、ＣＮ２３０３、Ｅｔｅｒｎａｌ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ社製のＥｔｅｒｃｕｒｅ６３６１－１００、Ｅｔｅｒｃｕｒｅ６３６２－１００、Ｅｔｅｒｃｕｒｅ６３６３等が挙げられる。
【0174】
（エポキシ基を有する化合物）
エポキシ基を有する化合物は、低分子化合物や、樹脂のような高分子量化合物でもよく、例えば、ビスフェノール類（ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、ビフェノール、ビスフェノールＡＤ等）、フェノール類（フェノール、アルキル置換フェノール、芳香族置換フェノール、ナフトール、アルキル置換ナフトール、ジヒドロキシベンゼン、アルキル置換ジヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシナフタレン等）と各種アルデヒド（ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アルキルアルデヒド、ベンズアルデヒド、アルキル置換ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、ナフトアルデヒド、グルタルアルデヒド、フタルアルデヒド、クロトンアルデヒド、シンナムアルデヒド等）との重縮合物、フェノール類と各種ジエン化合物（ジシクロペンタジエン、テルペン類、ビニルシクロヘキセン、ノールボルナジエン、ビニルノールボルネン、テトラヒドロインデン、ジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル、ジイソプロペニルビフェニル、ブタジエン、イソプレン等）との重合物、フェノール類とケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトフェノン、ベンゾフェノン等）との重縮合物、フェノール類と芳香族ジメタノール類（ベンゼンジメタノール、α，α，α’，α’－ベンゼンジメタノール、ビフェニルジメタノール、α，α，α’，α’－ビフェニルジメタノール等）との重縮合物、フェノール類と芳香族ジクロロメチル類（α，α’－ジクロロキシレン、ビスクロロメチルビフェニル等）との重縮合物、ビスフェノール類と各種アルデヒドの重縮合物、アルコール類等をグリシジル化したグリシジルエーテル系エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂等が挙げられる。
エポキシ基を有する化合物は、低分子化合物や、樹脂のような高分子量化合物でもよく、例えば、ビスフェノール類（ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、ビフェノール、ビスフェノールＡＤ等）、フェノール類（フェノール、アルキル置換フェノール、芳香族置換フェノール、ナフトール、アルキル置換ナフトール、ジヒドロキシベンゼン、アルキル置換ジヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシナフタレン等）と各種アルデヒド（ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アルキルアルデヒド、ベンズアルデヒド、アルキル置換ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、ナフトアルデヒド、グルタルアルデヒド、フタルアルデヒド、クロトンアルデヒド、シンナムアルデヒド等）との重縮合物、フェノール類と各種ジエン化合物（ジシクロペンタジエン、テルペン類、ビニルシクロヘキセン、ノールボルナジエン、ビニルノールボルネン、テトラヒドロインデン、ジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル、ジイソプロペニルビフェニル、ブタジエン、イソプレン等）との重合物、フェノール類とケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトフェノン、ベンゾフェノン等）との重縮合物、フェノール類と芳香族ジメタノール類（ベンゼンジメタノール、α，α，α’，α’－ベンゼンジメタノール、ビフェニルジメタノール、α，α，α’，α’－ビフェニルジメタノール等）との重縮合物、フェノール類と芳香族ジクロロメチル類（α，α’－ジクロロキシレン、ビスクロロメチルビフェニル等）との重縮合物、ビスフェノール類と各種アルデヒドの重縮合物、アルコール類等をグリシジル化したグリシジルエーテル系エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂等が挙げられる。
【0175】
エポキシ基を有する化合物は、分子内に２～５０個のエポキシ基を有する化合物が好ましく、１０～３０個のエポキシ基を有する化合物がより好ましい。また、エポキシ基を有する化合物のエポキシ当量は、５０～４００ｇ／ｅｑが好ましく、１００～２００ｇ／ｅｑがより好ましい。なお、エポキシ当量とは、１当量のエポキシ基を含むエポキシ基を有する化合物の質量で定義される。
【0176】
エポキシ基を有する化合物の市販品は、例えば、油化シェルエポキシ社製のエピコート８０７、８１５、８２５、８２７、８２８、１９０Ｐ、１９１Ｐ、三井化学社製のＴＥＣＨＭＯＲＥ ＶＧ３１０１Ｌ、日本化薬社製のＥＰＰＮ－２０１、５０１Ｈ、５０２Ｈ、ＥＯＣＮ－１０２Ｓ、１０３Ｓ、１０４Ｓ、１０２０、ジャパンエポキシレジン社製のエピコート１００４、１２５６、ＪＥＲ１０３２Ｈ６０、１５７Ｓ６５、１５７Ｓ７０、１５２、１５４、ダイセル化学工業社製のセロキサイド２０２１、ＥＨＰＥ－３１５０、エポリードＧＴ４０１、ナガセケムテックス社製のデナコールＥＸ－２１１、２１２、２５２、３１３、３１４、３２１、４１１、４２１、５１２、５２１、６１１、６１２、６１４、６１４Ｂ、６２２、７１１、７２１、日産化学工業社製のＴＥＰＩＣ－Ｌ、Ｈ、Ｓ、ＤＩＣ社製のＥＰＩＣＬＯＮ８３０、８４０、８５０、８６０、１０５０、３０５０、４０５０、Ｎ－６６０、Ｎ－６７０、Ｎ－７４０、Ｎ－７７０、Ｎ８６５、ＨＰ－７２００、ＨＰ－４７００、ＨＰ－４７７０、ＨＰ－５０００、ＨＰ－６０００、ＨＰ－９５００等が挙げられる。
【0177】
（オキセタニル基を有する化合物）
オキセタニル基を有する化合物は、オキセタニル基を分子内に１個有する化合物であってもよいが、２個以上有する化合物が好ましい。また、オキセタニル基を有する化合物のオキセタン当量は、１５０～６００ｇ／ｅｑが好ましく、１８０～５００ｇ／ｅｑがより好ましい。なお、オキセタン当量とは、１当量のオキセタニル基を含むオキセタニル基を有する化合物の質量で定義される。
オキセタニル基を有する化合物は、オキセタニル基を分子内に１個有する化合物であってもよいが、２個以上有する化合物が好ましい。また、オキセタニル基を有する化合物のオキセタン当量は、１５０～６００ｇ／ｅｑが好ましく、１８０～５００ｇ／ｅｑがより好ましい。なお、オキセタン当量とは、１当量のオキセタニル基を含むオキセタニル基を有する化合物の質量で定義される。
【0178】
オキセタニル基を有する化合物は、例えば、（３－エチルオキセタン－３－イル）メチル（メタ）アクリレート、３－エチル－３－ヒドロキシメチルオキセタン、３－エチル－３－（２－エチルヘキシロキシメチル）オキセタン、３－エチル－３－（フェノキシメチル）オキセタン、３－エチル－３－（２－メタクリロキシメチル）オキセタン、３－エチル－３－｛［３－（トリエトキシシリル）プロポキシ］メチル｝オキセタン、４，４’－ビス［（３－エチル－３－オキセタニル）メトキシメチル］ビフェニル）、１，４－ビス［（３－エチル－３－オキセタニル）メトキシメチル］ベンゼン、１，４－ビス｛［（３－エチル－３－オキセタニル）メトキシ］メチル｝ベンゼン、ジ［１－エチル（３－オキセタニル）］メチルエーテル、ジ［１－エチル（３－オキセタニル）］メチルエーテル３－エチル－３－ヒドロキシメチルオキセタン、３－エチル－３－（２－エチルヘキシロキシメチル）オキセタン、３－エチル－３－（２－フェノキシメチル）オキセタン、３，７－ビス（３－オキセタニル）－５－オキサ－ノナン、１，２－ビス［（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）メチル］エタン、１，３－ビス［（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）メチル］プロパン、エチレングリコ－スビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロペンテニルビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、トリエチレングリコールビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、テトラエチレングリコールビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、１，４－ビス（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）ブタン、１，６－ビス（３－エチル－３－オキセタニルメトキシ）ヘキサン、ポリエチレングリコールビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ＥＯ変性ビスフェノールＡビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ＰＯ変性ビスフェノールＡビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ＥＯ変性水添ビスフェノールＡビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ＰＯ変性水添ビスフェノールＡビス（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル、ＥＯ変性ビスフェノールＦ（３－エチル－３－オキセタニルメチル）エーテル等が挙げられる。
【0179】
オキセタニル基を有する化合物の市販品は、例えば、大阪有機化学工業社製のＯＸＥ－１０、３０、東亞合成社製のアロンオキセタンＯＸＴ－１０１、２１２、１２１、２２１、宇部興産社製のＥＴＥＲＮＡＣＯＬＬ ＥＨＯ、ＨＢＯＸ、ＯＸＭＡ、ＯＸＢＰ、ＯＸＩＰＡ等が挙げられる。
【0180】
（メチロール基を有する化合物）
メチロール基を有する化合物は、例えば、メチロール基が、窒素原子または芳香環を形成する炭素原子に結合している化合物が挙げられる。
メチロール基を有する化合物は、例えば、メチロール基が、窒素原子または芳香環を形成する炭素原子に結合している化合物が挙げられる。
【0181】
メチロール基を有する化合物は、例えば、アルコキシメチル化メラミン、メチロール化メラミン、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン、メチロール化ベンゾグアナミン、アルコキシメチル化グリコールウリル、メチロール化グリコールウリル、アルコキシメチル化尿素等が挙げられる。
【0182】
メチロール基を有する化合物の市販品は、例えば、三和ケミカル社製のニカラックＭＷ－３０ＨＭ、ＭＷ－３９０、ＭＷ－１００ＬＭ、ＭＸ－７５０ＬＭ、ＭＷ－３０Ｍ、ＭＷ－３０、ＭＷ－２２、ＭＳ－２１、ＭＳ－１１、ＭＷ－２４Ｘ、ＭＳ－００１、ＭＸ－００２、ＭＸ－７３０、ＭＸ－７５０、ＭＸ－７０８、ＭＸ－７０６、ＭＸ－０４２、ＭＸ－４５、ＭＸ－５００、ＭＸ－５２０、ＭＸ－４３、ＭＸ－４１７、ＭＸ－４１０、日本サイテックインダストリーズ社製のサイメル２３２、２３５、２３６、２３８、２８５、３００、３０１、３０３、３５０、３７０等が挙げられる。
【0183】
（アルコキシシリル基を有する化合物）
アルコキシシリル基を有する化合物は、アルコキシシリル基がジアルコキシシリル基、トリアルコキシシリル基であることが好ましい。また、アルコキシシリル基におけるアルコキシ基の炭素原子数が１～５である化合物が好ましく、１～３である化合物がより好ましい。
アルコキシシリル基を有する化合物は、アルコキシシリル基がジアルコキシシリル基、トリアルコキシシリル基であることが好ましい。また、アルコキシシリル基におけるアルコキシ基の炭素原子数が１～５である化合物が好ましく、１～３である化合物がより好ましい。
【0184】
アルコキシシリル基を有する化合物は、例えば、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ｎ－プロピルトリメトキシシラン、ｎ－プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、１，６－ビス（トリメトキシシリル）ヘキサン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、ｐ－スチリルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－トリエトキシシリル－Ｎ－（１，３－ジメチル－ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（ビニルベンジル）－２－アミノエチル－３－アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩、トリス－（トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート、３－ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３－メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド、３－イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【0185】
アルコキシシリル基を有する化合物の市販品は、例えば、信越シリコーン社製のＫＢＭ－１３、ＫＢＭ－２２、ＫＢＭ－１０３、ＫＢＥ－１３、ＫＢＥ－２２、ＫＢＥ－１０３、ＫＢＭ－３０３３、ＫＢＥ－３０３３、ＫＢＭ－３０６３、ＫＢＭ－３０６６、ＫＢＭ－３０８６、ＫＢＥ－３０６３、ＫＢＥ－３０８３、ＫＢＭ－３１０３、ＫＢＭ－３０６６、ＫＢＭ－７１０３、ＳＺ－３１、ＫＰＮ－３５０４、ＫＢＭ－１００３、ＫＢＥ－１００３、ＫＢＭ－３０３、ＫＢＭ－４０２、ＫＢＭ－４０３、ＫＢＥ－４０２、ＫＢＥ－４０３、ＫＢＭ－１４０３、ＫＢＭ－５０２、ＫＢＭ－５０３、ＫＢＥ－５０２、ＫＢＥ－５０３、ＫＢＭ－５１０３、ＫＢＭ－６０２、ＫＢＭ－６０３、ＫＢＭ－９０３、ＫＢＥ－９０３、ＫＢＥ－９１０３、ＫＢＭ－５７３、ＫＢＭ－５７５、ＫＢＭ－９６５９、ＫＢＥ－５８５、ＫＢＭ－８０２、ＫＢＭ－８０３、ＫＢＥ－８４６、ＫＢＥ－９００７、Ｘ－１２－１０４８、Ｘ－１２－１０５０、Ｘ－１２－９８１５、Ｘ－１２－９８４５、Ｘ－１２－１１５４、Ｘ－１２－９７２Ｆ、Ｘ－１２－１１５９Ｌ、Ｘ－４０－１０５３、Ｘ－４１－１０５９Ａ、Ｘ－４１－１０５６、Ｘ－４１－１８０５、Ｘ－４１－１８１８、Ｘ－４１－１８１０、Ｘ－４０－２６５１、Ｘ－４０－２６５５Ａ、ＫＲ－５１３，ＫＣ－８９Ｓ，ＫＲ－５００、Ｘ－４０－９２２５、Ｘ－４０－９２４６、Ｘ－４０－９２５０、ＫＲ－４０１Ｎ、Ｘ－４０－９２２７、Ｘ－４０－９２４７、ＫＲ－５１０、ＫＲ－９２１８、ＫＲ－２１３、Ｘ－４０－２３０８、Ｘ－４０－９２３８等が挙げられる。
【0186】
硬化性化合物（Ｆ）は、単独または２種類以上を併用して使用できる。
【0187】
硬化性化合物（Ｆ）の含有量は、着色組成物の不揮発分１００質量％中、０．１～６０質量％が好ましい。
【0188】
［重合開始剤（Ｇ）］
本発明の着色組成物は、重合開始剤（Ｇ）を含有できる。特に、本発明の着色組成物が、重合性不飽和基を有する化合物を含む場合、膜の耐性の観点から、重合開始剤（Ｇ）を含むことが好ましい。
本発明の着色組成物は、重合開始剤（Ｇ）を含有できる。特に、本発明の着色組成物が、重合性不飽和基を有する化合物を含む場合、膜の耐性の観点から、重合開始剤（Ｇ）を含むことが好ましい。
【0189】
重合開始剤（Ｇ）は、特に制限がなく、公知の化合物を用いることができる。例えば、光又は熱の作用によってラジカルを発生させて、ラジカル重合反応を開始または促進させる化合物が挙げられる。
光によってラジカルを発生させる重合開始剤（以下、単に光重合開始剤ともいう）は、紫外線から可視領域の光線に対してラジカルを発生させる化合物が好ましい。
熱によってラジカルを発生させる重合開始剤（以下、単に熱重合開始剤ともいう）は、熱及び光の作用によってラジカルを発生させる化合物であってもよい。
光によってラジカルを発生させる重合開始剤（以下、単に光重合開始剤ともいう）は、紫外線から可視領域の光線に対してラジカルを発生させる化合物が好ましい。
熱によってラジカルを発生させる重合開始剤（以下、単に熱重合開始剤ともいう）は、熱及び光の作用によってラジカルを発生させる化合物であってもよい。
【0190】
光重合開始剤は、例えば、４－フェノキシジクロロアセトフェノン、４－ｔ－ブチル－ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、１－（４－イソプロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２－（ジメチルアミノ）－１－［４－（４－モルホリノ）フェニル］－２－（フェニルメチル）－１－ブタノン、又は２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－１－ブタノン等のアセトフェノン系化合物；
２，４，６－トリクロロ－ｓ－トリアジン、２－フェニル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（ｐ－メトキシフェニル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（ｐ－トリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－ピペロニル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－スチリル－ｓ－トリアジン、２－（ナフト－１－イル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－メトキシ－ナフト－１－イル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２，４－トリクロロメチル－（ピペロニル）－６－トリアジン、又は２，４－トリクロロメチル－（４’－メトキシスチリル）－６－トリアジン等のトリアジン系化合物；
１，２－オクタンジオン，１－〔４－（フェニルチオ）フェニル－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）〕、又はエタノーン，１－〔９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール３－イル〕－，１－（Ｏ－アセチルオキシム）等のオキシム系化合物；
ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、又はジフェニル－２，４，６－トリメチルベンゾイルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィン系化合物；
９，１０－フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアントラキノン等のキノン系化合物；ボレート系化合物；カルバゾール系化合物等が挙げられる。
２，４，６－トリクロロ－ｓ－トリアジン、２－フェニル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（ｐ－メトキシフェニル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（ｐ－トリル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－ピペロニル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－スチリル－ｓ－トリアジン、２－（ナフト－１－イル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－メトキシ－ナフト－１－イル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２，４－トリクロロメチル－（ピペロニル）－６－トリアジン、又は２，４－トリクロロメチル－（４’－メトキシスチリル）－６－トリアジン等のトリアジン系化合物；
１，２－オクタンジオン，１－〔４－（フェニルチオ）フェニル－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）〕、又はエタノーン，１－〔９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール３－イル〕－，１－（Ｏ－アセチルオキシム）等のオキシム系化合物；
ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、又はジフェニル－２，４，６－トリメチルベンゾイルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィン系化合物；
９，１０－フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアントラキノン等のキノン系化合物；ボレート系化合物；カルバゾール系化合物等が挙げられる。
【0191】
市販品では、アセトフェノン系化合物として、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製のＯｍｎｉｒａｄ９０７、３６９Ｅ、３７９ＥＧ、１２７、１８４、１１７３、２９５９、アシルホスフィン系化合物として、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製のＯｍｎｉｒａｄ８１９、ＴＰＯ、オキシム系化合物として、ＢＡＳＦジャパン社製のＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ－０１、０２、０３、０４、ＡＤＥＫＡ社製のＮ－１９１９、ＮＣＩ－７３０、８３１Ｅ、９３０、常州強力新材料社製のＴＲＯＮＬＹ ＴＲ－ＰＢＧ－３０１、３０４、３０５、３０９、３１４、３４５、３５８、３８０、３６５、６１０、３０５４、３０５７、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製のＯｍｎｉｒａｄ１３１２、１３１４、１３１６、サムヤンコーポレーション社製のＳＰＩ－０２、０３、０４、０５、０６、０７、ダイトーケミックス社製のＤＦＩ－０２０、３０６、ＥＯＸ－０１等が挙げられる。
また、特開２００７－２１０９９１号公報、特開２００９－１７９６１９号公報、特開２０１０－０３７２２３号公報、特開２０１０－２１５５７５号公報、特開２０１１－０２０９９８号公報、国際公開２０１５／０３６９１０号、特表２０１９－５０７１０８号公報、特表２０１９－５２８３３１号公報、国際公開２０２１／１７５８５５号等に記載の化合物も挙げられる。
また、特開２００７－２１０９９１号公報、特開２００９－１７９６１９号公報、特開２０１０－０３７２２３号公報、特開２０１０－２１５５７５号公報、特開２０１１－０２０９９８号公報、国際公開２０１５／０３６９１０号、特表２０１９－５０７１０８号公報、特表２０１９－５２８３３１号公報、国際公開２０２１／１７５８５５号等に記載の化合物も挙げられる。
【0192】
光重合開始剤は、耐熱性、耐湿性の観点から、下記一般式（９）で表される化合物、下記一般式（１０）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物が好ましい。
【0193】
【化28】
【0194】
一般式（９）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して水素原子、または炭素原子数１～８のアルキル基を表す。Ｒ３は、水素原子、又は１価の置換基を表す。
一般式（１０）中、Ｘ１およびＸ２は、それぞれ独立してカルボニル結合（－ＣＯ－）又は単結合を表す。Ｒ４は、炭素原子数１～２０のアルキル基を表し、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立して水素原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数２～３０の複素環、炭素原子数６～３０のアリール基、または炭素原子数７～３０のアリールアルキル基を表す。Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立して炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数２～３０の複素環基、炭素原子数６～３０のアリール基、または炭素原子数７～３０のアリールアルキル基を表す。
一般式（１０）中、Ｘ１およびＸ２は、それぞれ独立してカルボニル結合（－ＣＯ－）又は単結合を表す。Ｒ４は、炭素原子数１～２０のアルキル基を表し、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立して水素原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数２～３０の複素環、炭素原子数６～３０のアリール基、または炭素原子数７～３０のアリールアルキル基を表す。Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立して炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数２～３０の複素環基、炭素原子数６～３０のアリール基、または炭素原子数７～３０のアリールアルキル基を表す。
【0195】
一般式（９）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して水素原子、または炭素原子数１～８のアルキル基を表す。
炭素原子数１～８のアルキル基としては、直鎖状でも、分岐状でも、環状でも、それらが結合したものであってもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２－エチルヘキシル基、シクロペンチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルメチル基等が挙げられる。なかでも、炭素原子数３～８の直鎖のアルキル基が好ましく、炭素原子数４～６の直鎖のアルキル基がより好ましい。
炭素原子数１～８のアルキル基としては、直鎖状でも、分岐状でも、環状でも、それらが結合したものであってもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２－エチルヘキシル基、シクロペンチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルメチル基等が挙げられる。なかでも、炭素原子数３～８の直鎖のアルキル基が好ましく、炭素原子数４～６の直鎖のアルキル基がより好ましい。
【0196】
一般式（９）中、Ｒ３は、水素原子、または任意の１価の置換基を表す。
１価の置換基としては、メチル基、エチル基等の炭素原子数１～２０のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基等の炭素原子数１～２０のアルコキシ基；Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ等のハロゲン原子；炭素原子数１～２０のアシル基；炭素原子数１～２０のアルキルエステル基；炭素原子数１～２０のアルコキシカルボニル基；炭素原子数１～２０のハロゲン化アルキル基、炭素原子数４～２０の芳香族環基；アミノ基；炭素原子数１～２０のアミノアルキル基；水酸基；ニトロ基；シアノ基；置換基を有してよいベンゾイル基；置換基を有してよいテノイル基等が挙げられる。ベンゾイル基、またはテノイル基が有してよい置換基としては、炭素原子数１～１０のアルキル基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、炭素原子数１～１０のアルコキシカルボニル基等が挙げられる。なかでも、ラジカル生成効率の観点から、水素原子、ニトロ基が好ましく、水素原子がより好ましい。
１価の置換基としては、メチル基、エチル基等の炭素原子数１～２０のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基等の炭素原子数１～２０のアルコキシ基；Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ等のハロゲン原子；炭素原子数１～２０のアシル基；炭素原子数１～２０のアルキルエステル基；炭素原子数１～２０のアルコキシカルボニル基；炭素原子数１～２０のハロゲン化アルキル基、炭素原子数４～２０の芳香族環基；アミノ基；炭素原子数１～２０のアミノアルキル基；水酸基；ニトロ基；シアノ基；置換基を有してよいベンゾイル基；置換基を有してよいテノイル基等が挙げられる。ベンゾイル基、またはテノイル基が有してよい置換基としては、炭素原子数１～１０のアルキル基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、炭素原子数１～１０のアルコキシカルボニル基等が挙げられる。なかでも、ラジカル生成効率の観点から、水素原子、ニトロ基が好ましく、水素原子がより好ましい。
【0197】
一般式（９）で表される化合物の製造方法は、例えば、特表２０１９－５０７１０８号公報、特表２０１９－５２８３３１号公報等に記載の方法が挙げられる。
【0198】
以下、一般式（９）で表される化合物の具体例を示す。なお、本発明はこれらに限定されない。
【0199】
【化29】
【0200】
一般式（１０）中、Ｘ１およびＸ２は、それぞれ独立してカルボニル結合（－ＣＯ－）または単結合を表す。なかでも、有機溶剤への溶解性の観点から、Ｘ１およびＸ２の少なくとも１つはカルボニル結合（－ＣＯ－）が好ましく、２つともカルボニル結合（－ＣＯ－）がより好ましい。
【0201】
一般式（１０）中、Ｒ４は、炭素原子数１～２０のアルキル基を表す。
炭素原子数１～２０のアルキル基は、直鎖状、分岐状、環状、またはこれらの組合せのアルキル基のいずれであってもよく、また、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基等で置換されたアルキル基であってもよい。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基、アミル基、イソアミル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、イソオクチル基、２－エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、シクロペンチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルメチル基等が挙げられる。これらの中でも、エチル基、プロピル基、イソプロピル基が好ましい。
炭素原子数１～２０のアルキル基は、直鎖状、分岐状、環状、またはこれらの組合せのアルキル基のいずれであってもよく、また、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基等で置換されたアルキル基であってもよい。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基、アミル基、イソアミル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、イソオクチル基、２－エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、シクロペンチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルメチル基等が挙げられる。これらの中でも、エチル基、プロピル基、イソプロピル基が好ましい。
【0202】
一般式（１０）中、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立して水素原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数２～３０の複素環、炭素原子数６～３０のアリール基、または炭素原子数７～３０のアリールアルキル基を表す。
炭素原子数１～２０のアルキル基は、直鎖状、分岐状、環状、又はこれらの組合せのアルキル基のいずれであってもよく、また、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基等で置換されたアルキル基であってもよい。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基、アミル基、イソアミル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、イソオクチル基、２－エチルヘキシル基、ノニル基、イソノニル基、デシル基、イソデシル基、ウンデシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、シクロペンチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルメチル基等が挙げられる。これらの中でも、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、シクロペンチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルメチル基が好ましい。
炭素原子数２～３０の複素環基は、例えば、ピリジル基、ピリミジル基、フリル基、テトラヒドロフリル基、ジオキソラニル基、イミダゾリジル基、オキサゾリジル基、ピペリジル基、モルホリニル基等が挙げられる。
炭素原子数６～３０のアリール基は、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、エチルフェニル基、ナフチル基、アンスリル基等が挙げられ、また、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基等で置換されたアリール基であってもよい。
炭素原子数７～３０のアリールアルキル基は、例えば、ベンジル基、α―メチルベンジル、α，α―ジメチルベンジル基、フェニルエチル基等が挙げられ、また、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基等で置換されたアリールアルキル基であってもよい。
炭素原子数１～２０のアルキル基は、直鎖状、分岐状、環状、又はこれらの組合せのアルキル基のいずれであってもよく、また、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基等で置換されたアルキル基であってもよい。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基、アミル基、イソアミル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、イソオクチル基、２－エチルヘキシル基、ノニル基、イソノニル基、デシル基、イソデシル基、ウンデシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、シクロペンチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルメチル基等が挙げられる。これらの中でも、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、シクロペンチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルメチル基が好ましい。
炭素原子数２～３０の複素環基は、例えば、ピリジル基、ピリミジル基、フリル基、テトラヒドロフリル基、ジオキソラニル基、イミダゾリジル基、オキサゾリジル基、ピペリジル基、モルホリニル基等が挙げられる。
炭素原子数６～３０のアリール基は、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、エチルフェニル基、ナフチル基、アンスリル基等が挙げられ、また、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基等で置換されたアリール基であってもよい。
炭素原子数７～３０のアリールアルキル基は、例えば、ベンジル基、α―メチルベンジル、α，α―ジメチルベンジル基、フェニルエチル基等が挙げられ、また、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基等で置換されたアリールアルキル基であってもよい。
【0203】
これらの中でも、Ｒ５およびＲ６は、炭素原子数１～２０の直鎖状のアルキル基と炭素原子数１～２０の環状のアルキル基がより好ましい。
【0204】
一般式（１０）中、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立して炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数２～３０の複素環基、炭素原子数６～３０のアリール基、又は炭素原子数７～３０のアリールアルキル基を表す。
炭素原子数１～２０のアルキル基は、直鎖状、分岐状、環状、またはこれらの組合せのアルキル基のいずれであってもよく、また、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基等で置換されたアルキル基であってもよい。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基、アミル基、イソアミル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロペンチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。これらの中でも、反応性の観点から、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基が好ましい。
炭素原子数２～３０の複素環基は、例えば、ピリジル基、ピリミジル基、フリル基、テトラヒドロフリル基、ジオキソラニル基、イミダゾリジル基、オキサゾリジル基、ピペリジル基、モルホリニル基等が挙げられる。
炭素原子数６～３０のアリール基は、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、エチルフェニル基、ナフチル基、アンスリル基等が挙げられ、また、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基等で置換されたアリール基であってもよい。これらの中でも、反応性の観点から、フェニル基が好ましい。
炭素原子数７～３０のアリールアルキル基は、例えば、ベンジル基、α―メチルベンジル、α，α―ジメチルベンジル基、フェニルエチル基等が挙げられ、また、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基等で置換されたアリールアルキル基であってもよい。
炭素原子数１～２０のアルキル基は、直鎖状、分岐状、環状、またはこれらの組合せのアルキル基のいずれであってもよく、また、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基等で置換されたアルキル基であってもよい。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基、アミル基、イソアミル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロペンチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。これらの中でも、反応性の観点から、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基が好ましい。
炭素原子数２～３０の複素環基は、例えば、ピリジル基、ピリミジル基、フリル基、テトラヒドロフリル基、ジオキソラニル基、イミダゾリジル基、オキサゾリジル基、ピペリジル基、モルホリニル基等が挙げられる。
炭素原子数６～３０のアリール基は、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、エチルフェニル基、ナフチル基、アンスリル基等が挙げられ、また、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基等で置換されたアリール基であってもよい。これらの中でも、反応性の観点から、フェニル基が好ましい。
炭素原子数７～３０のアリールアルキル基は、例えば、ベンジル基、α―メチルベンジル、α，α―ジメチルベンジル基、フェニルエチル基等が挙げられ、また、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基等で置換されたアリールアルキル基であってもよい。
【0205】
これらの中でも、Ｒ７およびＲ８は、反応性の観点から、メチル基、エチル基、またはフェニル基が好ましく、メチル基、またはエチル基がより好ましい。
【0206】
一般式（１０）で表される化合物の製造方法は、特に限定されるものではなく、公知の方法を用いることができる。例えば、特表２０１７－５２３４６５号公報に記載の方法を用いることができる。
【0207】
一般式（１０）で表される化合物の具体例を示す。なお、本発明はこれらに限定されない。
【0208】
【化30】
【0209】
熱重合開始剤は、例えば、ベンゾピナコール、１，２－ジメトキシ－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１，２－ジメトキシ－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１，２－ジフェノキシ－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１，２－ジメトキシ－１，１，２，２－テトラ（４－メチルフェニル）エタン、１，２－ジフェノキシ－１，１，２，２－テトラ（４－メトキシフェニル）エタン、１，２－ビス（トリメチルシロキシ）－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１，２－ビス（トリエチルシロキシ）－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１，２－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシロキシ）－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１－ヒドロキシ－２－トリメチルシロキシ－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１－ヒドロキシ－２－トリエチルシロキシ－１，１，２，２－テトラフェニルエタン、１－ヒドロキシ－２－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシロキシ－１，１，２，２－テトラフェニルエタン等のピナコール系化合物；
２，２’－アゾビス（４－メトキシ２，４－ジメチルバレロニトリル）、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）、ジメチル－２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）、２，２’－アゾビス（２－メチルブチロニトリル）、１，１’－アゾビス（シクロヘキサン－１－カルボニトリル）、２，２’－アゾビス［Ｎ－（２－プロペニル）２－メチルプロピオンアミド］、１－［（１－シアノ－１－メチルエチル）アゾ］ホルムアミド、２，２’－アゾビス（Ｎ－ブチル－２－メチルプロピオンアミド）、２，２’－アゾビス（Ｎ－シクロヘキシル－２－メチルプロピオンアミド）等のアゾ系化合物；
メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、３，３，５－トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、１，１－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシ）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン、１，１－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、２，２－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシ）ブタン、過酸化コハク酸、過酸化ベンゾイル等の有機過酸化物等が挙げられる。これらの中でも、ピナコール系化合物が好ましい。
２，２’－アゾビス（４－メトキシ２，４－ジメチルバレロニトリル）、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）、ジメチル－２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）、２，２’－アゾビス（２－メチルブチロニトリル）、１，１’－アゾビス（シクロヘキサン－１－カルボニトリル）、２，２’－アゾビス［Ｎ－（２－プロペニル）２－メチルプロピオンアミド］、１－［（１－シアノ－１－メチルエチル）アゾ］ホルムアミド、２，２’－アゾビス（Ｎ－ブチル－２－メチルプロピオンアミド）、２，２’－アゾビス（Ｎ－シクロヘキシル－２－メチルプロピオンアミド）等のアゾ系化合物；
メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、３，３，５－トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、１，１－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシ）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン、１，１－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、２，２－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシ）ブタン、過酸化コハク酸、過酸化ベンゾイル等の有機過酸化物等が挙げられる。これらの中でも、ピナコール系化合物が好ましい。
【0210】
重合開始剤（Ｇ）は、単独または２種類以上を併用して使用できる。
【0211】
重合開始剤（Ｇ）の含有量は、着色組成物の不揮発分１００質量％中、０．５～２０質量％が好ましい。
【0212】
［レベリング剤（Ｈ）］
本発明の着色組成物は、レベリング剤（Ｈ）を含有できる。これにより、塗工時の基板に対する濡れ性、及び乾燥性がより向上する。
本発明の着色組成物は、レベリング剤（Ｈ）を含有できる。これにより、塗工時の基板に対する濡れ性、及び乾燥性がより向上する。
【0213】
レベリング剤（Ｈ）は、例えば、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、両性界面活性剤等が挙げられる。
【0214】
シリコーン系界面活性剤は、例えば、シロキサン結合からなる直鎖状ポリマーや、側鎖や末端に有機基を導入した変性シロキサンポリマーが挙げられる。
【0215】
シリコーン系界面活性剤の市販品は、例えば、ビックケミー社製のＢＹＫ－３００，３０６，３１０，３１３，３１５Ｎ，３２０，３２２，３２３，３３０，３３１，３３３，３４２，３４５，３４６，３４７，３４８，３４９，３７０，３７７，３７８，３４５５，ＵＶ３５１０，３５７０、東レ・ダウコ－ニング社製のＦＺ－７００２，２１１０，２１２２，２１２３，２１９１，５６０９、信越化学工業社製のＸ－２２－４９５２、Ｘ－２２－４２７２、Ｘ－２２－６２６６、ＫＦ－３５１Ａ、ＫＦ－３５４Ｌ、ＫＦ－３５５Ａ、ＫＦ－９４５、ＫＦ－６４０、ＫＦ－６４２、ＫＦ－６４３、Ｘ－２２－４５１５、ＫＦ－６００４、ＫＰ－３４１等が挙げられる。
【0216】
フッ素系界面活性剤は、例えば、フルオロカーボン鎖を有する化合物が挙げられる。
【0217】
フッ素系界面活性剤の市販品は、例えば、ＡＧＣセイミケミカル社製のサーフロンＳ－２４２，２４３，４２０，６１１，６５１，３８６、ＤＩＣ社製のメガファックＦ－２５３，４７７，５５１，５５２，５５５，５５８，５６０，５７０，５７５，５７６、Ｒ－４０－ＬＭ、Ｒ－４１、ＲＳ－７２－Ｋ、ＤＳ－２１、住友スリーエム社製のＦＣ－４４３０，４４３２、三菱マテリアル電子化成社製のＥＦ－ＰＰ３１Ｎ０９、ＥＦ－ＰＰ３３Ｇ１、ＥＦ－ＰＰ３２Ｃ１、ネオス社製フタージェントの６０２Ａ等が挙げられる。
【0218】
ノニオン性界面活性剤は、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンミリステルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルドデシルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシフェニレンジスチレン化フェニルエーテル、ポリオキシエチレントリベンジルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシアルキレンアルケニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテ－ト、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジステアレート、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノオレート、ソルビタントリオレート、ソルビタンセスキオレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテ－ト、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート、ポリオキシエチレンソルビタントリイソステアレート、テトラオレイン酸ポリオキシエチレンソルビット、グリセロ－ルモノステアレート、グリセロ－ルモノオレート、ポリエチレングリコールモノラウレート、ポリエチレングリコールモノステアレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ポリエチレングリコールモノオレート、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルキルアルカノールアミド、アルキルイミダゾリン等が挙げられる。
【0219】
ノニオン性界面活性剤の市販品は、例えば、花王社製のエマルゲン１０３，１０４Ｐ，１０６，１０８，１０９Ｐ，１２０，１２３Ｐ，１３０Ｋ，１４７，１５０，２１０Ｐ，２２０，３０６Ｐ，３２０Ｐ，３５０，４０４，４０８，４０９ＰＶ，４２０，４３０，７０５，７０７，７０９，１１０８，１１１８Ｓ－７０，１１３５Ｓ－７０，１１５０Ｓ－６０，２０２０Ｇ－ＨＡ，２０２５Ｇ，ＬＳ－１０６，ＬＳ－１１０，ＬＳ－１１４，ＭＳ－１１０，Ａ－６０，Ａ－９０，Ｂ－６６，ＰＰ－２９０、ラテムルＰＤ－４２０，ＰＤ－４３０，ＰＤ－４３０Ｓ，ＰＤ－４５０、レオドールＳＰ－Ｌ１０，ＳＰ－Ｐ１０，ＳＰ－Ｓ１０Ｖ，ＳＰ－Ｓ２０，ＳＰ－Ｓ３０Ｖ，ＳＰ－Ｏ１０Ｖ，ＳＰ－Ｏ３０Ｖ、スーパーＳＰ－Ｌ１０，ＡＳ－１０Ｖ，ＡＯ－１０Ｖ，ＡＯ－１５Ｖ，ＴＷ－Ｌ１２０，ＴＷ－Ｌ１０６，ＴＷ－Ｐ１２０，ＴＷ－Ｓ１２０Ｖ，ＴＷ－Ｓ３２０Ｖ，ＴＷ－Ｏ１２０Ｖ，ＴＷ－Ｏ１０６Ｖ，ＴＷ－ＩＳ３９９Ｃ、スーパーＴＷ－Ｌ１２０，４３０Ｖ，４４０Ｖ，４６０Ｖ，ＭＳ－５０，ＭＳ－６０，ＭＯ－６０，ＭＳ－１６５Ｖ、エマノーン１１１２，３１９９Ｖ，３２９９Ｖ，３２９９ＲＶ，４１１０，ＣＨ－２５，ＣＨ－４０，ＣＨ－６０（Ｋ），アミ－ト１０２，１０５，１０５Ａ，３０２，３２０、アミノーンＰＫ－０２Ｓ、Ｌ－０２、ホモゲノールＬ－９５、ＡＤＥＫＡ社製のアデカプルロニック（登録商標）Ｌ－２３，３１，４４，６１，６２，６４，７１，７２，１０１，１２１、ＴＲ－７０１，７０２，７０４，９１３Ｒ、共栄社化学社製の（メタ）アクリル酸系（共）重合体ポリフロ－Ｎｏ．７５，Ｎｏ．９０，Ｎｏ．９５等が挙げられる。
【0220】
カチオン性界面活性剤は、例えば、アルキルアミン塩やラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、セチルトリメチルアンモニウムクロライドなどのアルキル４級アンモニウム塩やそれらのエチレンオキサイド付加物が挙げられる。
【0221】
カチオン性界面活性剤の市販品は、例えば、花王社製のアセタミン２４、コータミン２４Ｐ、６０Ｗ、８６Ｐコンク等が挙げられる。
【0222】
アニオン性界面活性剤は、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、スチレン－アクリル酸共重合体のアルカリ塩、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸モノエタノールアミン、ラウリル硫酸トリエタノールアミン、ラウリル硫酸アンモニウム、ステアリン酸モノエタノールアミン、ステアリン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、スチレン－アクリル酸共重合体のモノエタノールアミン、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル等が挙げられる。
【0223】
アニオン性界面活性剤の市販品は、例えば、ネオス社製のフタージェント１００，１５０、ＡＤＥＫＡ社製のアデカホープＹＥＳ－２５、アデカコールＴＳ－２３０Ｅ，ＰＳ－４４０Ｅ，ＥＣ－８６００等が挙げられる。
【0224】
両性界面活性剤は、例えば、ラウリン酸アミドプロピルベタイン、ラウリルベタイン、コカミドプロピルベタイン、ステアリルベタイン、アルキルジメチルアミノ酢酸ベタイン等のアルキルベタイン、ラウリルジメチルアミンオキサイド等のアルキルアミンオキサイド等が挙げられる。
【0225】
両性界面活性剤の市販品としては、花王社製のアンヒトール２０ＡＢ，２０ＢＳ，２４Ｂ，５５ＡＢ，８６Ｂ，２０Ｙ－Ｂ，２０Ｎ等が挙げられる。
【0226】
レベリング剤（Ｈ）は、単独または２種類以上を併用して使用できる。
【0227】
レベリング剤（Ｈ）の含有量は、着色組成物の不揮発分１００質量％中、０．００１～２．０質量％が好ましく、０．００５～１．０質量％がより好ましい。適量含有すると着色組成物の塗工性と密着性のバランスがより向上する。
【0228】
［有機溶剤（Ｉ）］
本発明の着色組成物は、有機溶剤（Ｉ）を含有できる。
本発明の着色組成物は、有機溶剤（Ｉ）を含有できる。
【0229】
有機溶剤（Ｉ）は、特に制限はなく、公知の化合物を使用できる。例えば、１，２，３－トリクロロプロパン、１－メトキシ－２－プロパノール、乳酸エチル、１，３－ブタンジオ－ル、１，３－ブチレングリコール、１，３－ブチレングリコールジアセテート、１，４－ジオキサン、２－ヘプタノーン、２－メチル－１，３－プロパンジオ－ル、３，５，５－トリメチル－２－シクロヘキセン－１－オン、３，３，５－トリメチルシクロヘキサノン、３－エトキシプロピオン酸エチル、３－メチル－１，３－ブタンジオ－ル、３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノール、３－メトキシ－３－メチルブチルアセテート、３－メトキシブタノール、３－メトキシブチルアセテート、４－ヘプタノーン、ｍ－キシレン、ｍ－ジエチルベンゼン、ｍ－ジクロロベンゼン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ｎ－ブチルアルコール、ｎ－ブチルベンゼン、ｎ－プロピルアセテート、Ｎ－メチルピロリドン、ｏ－キシレン、トルエン、ｏ－クロロトルエン、ベンゼン、ｏ－ジエチルベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン、ｐ－クロロトルエン、ｐ－ジエチルベンゼン、ｓｅｃ－ブチルベンゼン、ｔｅｒｔ－ブチルベンゼン、γ－ブチロラクトン、イソブチルアルコール、イソホロン、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノターシャリーブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジイソブチルケトン、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、シクロヘキサノール、シクロヘキサノールアセテート、シクロヘキサノン、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ダイアセトンアルコール、トリアセチン、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールフェニルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、ベンジルアルコール、メチルイソブチルケトン、メチルシクロヘキサノール、酢酸ｎ－アミル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、酢酸プロピル、二塩基酸エステル等が挙げられる。
【0230】
有機溶剤（Ｉ）は、単独または２種類以上を併用して使用できる。
【0231】
有機溶剤（Ｉ）の含有量は、着色組成物の不揮発分が５～５０質量％となる量であることが好ましい。
【0232】
［その他成分］
本発明の着色組成物は、上記以外のその他成分を含有できる。その他成分は、例えば、染料、増感剤、硬化剤、硬化促進剤、酸発生剤、硬化触媒、連鎖移動剤、重合禁止剤、酸化防止剤、及び紫外線吸収剤等が挙げられる。その他成分の含有量は、本発明の効果を損なわない範囲において、適宜設定することができる。
本発明の着色組成物は、上記以外のその他成分を含有できる。その他成分は、例えば、染料、増感剤、硬化剤、硬化促進剤、酸発生剤、硬化触媒、連鎖移動剤、重合禁止剤、酸化防止剤、及び紫外線吸収剤等が挙げられる。その他成分の含有量は、本発明の効果を損なわない範囲において、適宜設定することができる。
【0233】
［水の含有量］
本発明の着色組成物は、保存安定性の観点から、着色組成物に含まれる水の含有量が２．０質量％以下であることが好ましい。
本発明の着色組成物は、保存安定性の観点から、着色組成物に含まれる水の含有量が２．０質量％以下であることが好ましい。
【0234】
着色組成物に含まれる水の含有量は、１．５質量％以下がより好ましく、１．０質量％以下が特に好ましい。また、水の含有量の下限は、少ないほど好ましく、特に制限はない。
【0235】
水の含有量を制御する方法は、特に制限がなく、公知の方法を用いることができる。例えば、上述した各成分について十分に乾燥等を行い、成分に含まれる水分量を減らしたもの使用する。また、乾燥した空気や不活性ガス、それらの混合ガスを吹き込みながら、着色組成物を製造する方法や、製造後、モレキュラーシーブを投入し脱水する方法等が挙げられる。
【0236】
水の含有量は、カールフィッシャー法などの公知の方法により測定することができる。
【0237】
［着色組成物の製造方法］
本発明の着色組成物は、上述の各成分を混合して調整できる。調整に際しては、各成分を一括配合してもよいし、各成分を有機溶剤に溶解や分散した後に逐次配合してもよい。例えば、顔料（Ａ）、近赤外線吸収化合物（Ｂ）、分散樹脂（Ｃ）、顔料誘導体（Ｄ）、及び有機溶剤（Ｉ）等を加え、分散処理を行う。その後、必要に応じて、バインダ樹脂（Ｅ）、硬化性化合物（Ｆ）、重合開始剤（Ｇ）、及び有機溶剤（Ｉ）等を配合・混合することで製造できる。なお、各成分を配合するタイミングは、任意である。また、分散処理を複数回行うこともできる。
本発明の着色組成物は、上述の各成分を混合して調整できる。調整に際しては、各成分を一括配合してもよいし、各成分を有機溶剤に溶解や分散した後に逐次配合してもよい。例えば、顔料（Ａ）、近赤外線吸収化合物（Ｂ）、分散樹脂（Ｃ）、顔料誘導体（Ｄ）、及び有機溶剤（Ｉ）等を加え、分散処理を行う。その後、必要に応じて、バインダ樹脂（Ｅ）、硬化性化合物（Ｆ）、重合開始剤（Ｇ）、及び有機溶剤（Ｉ）等を配合・混合することで製造できる。なお、各成分を配合するタイミングは、任意である。また、分散処理を複数回行うこともできる。
【0238】
分散処理を行う分散機は、例えば、２本ロールミル、３本ロールミル、ボールミル、横型サンドミル、縦型サンドミル、アニュラー型ビーズミル、又はアトライター等が挙げられる。
【0239】
着色組成物中の粒子の平均分散粒子径（二次粒子径）は、３０～２００ｎｍが好ましく、４０～２００ｎｍがより好ましい。適度な粒子径を有すると安定性が高い着色組成物が得やすい。
【0240】
平均分散粒子径（二次粒子径）の測定方法は、例えば、動的光散乱法（ＦＦＴパワ－スペクトール法）を採用した日機装社のマイクロトラックＵＰＡ－ＥＸ１５０を用い、粒子透過性を吸収モード、粒子形状を非球形とし、Ｄ５０粒子径を平均径とする。測定用の希釈溶剤は分散に使用した有機溶剤をそれぞれ用い、超音波で処理したサンプルについてサンプル調整直後に測定するとバラツキが少ない結果が得られやすく好ましい。
【0241】
着色組成物は、遠心分離、焼結フィルタやメンブレンフィルタによる濾過等の手段にて、５μｍ以上の粗大粒子、好ましくは１μｍ以上の粗大粒子、さらに好ましくは０．５μｍ以上の粗大粒子、および混入した塵の除去を行うことが好ましい。本発明の着色組成物は、実質的に０．５μｍ以上の粒子を含まないことが好ましく、０．３μｍ以下の粒子を含まないことがより好ましい。
【0242】
＜膜＞
本発明の膜は、上述した着色組成物を用いて形成されたものである。膜は、基材上に積層した状態で用いてもよく、膜を基材から剥離してもよい。また、膜は、平坦膜であってもパターンを形成した膜でもよい。
本発明の膜は、上述した着色組成物を用いて形成されたものである。膜は、基材上に積層した状態で用いてもよく、膜を基材から剥離してもよい。また、膜は、平坦膜であってもパターンを形成した膜でもよい。
【0243】
［膜の製造方法］
膜の製造方法は、特に限定されず、公知の方法を用いることができる。例えば、本発明の着色組成物を基材（基板ともいう）上に塗工する工程を経て製造できる。
膜の製造方法は、特に限定されず、公知の方法を用いることができる。例えば、本発明の着色組成物を基材（基板ともいう）上に塗工する工程を経て製造できる。
【0244】
基板は、例えば、ガラス基板、樹脂基板、シリコン基板等が挙げられる。樹脂基板としては、ポリカーボネート基板、ポリエステル基板、芳香族ポリアミド基板、ポリアミドイミド基板、ポリイミド基板等が挙げられる。これらの基板上には有機発光層が形成されてもよい。シリコン基板は、例えば、表面にＣＣＤ、ＣＭＯＳ等の撮像素子が形成されていてもよい。また、基板上には、必要に応じて、上部との層との密着改良、物質の拡散防止、基板表面の平坦化のために下塗り層を設けてもよい。
【0245】
塗工方法は、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法、スリットコート法、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法、流延塗布法、インクジェット法、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、オフセット印刷等が挙げられる。
【0246】
膜の厚さは、目的に応じて適宜調節できる。膜の厚さは、０．０５～２０．０μｍが好ましく、０．３～１０．０μｍがより好ましい。
【0247】
塗工で形成した層は、乾燥を行う。乾燥温度は、例えば、８０～２４０℃が好ましい。また、乾燥時間は、２分間～２時間程度が好ましい。
【0248】
また、膜の製造は、パターンを形成する工程を含んでもよい。パターンを形成する方法は、フォトリソグラフィー法やドライエッチング法が挙げられる。なお、平坦膜として使用する場合は、パターンを形成する工程を行わなくてもよい。
【0249】
以下、パターンを形成する場合の製造方法について詳細に説明する。
【0250】
（フォトリソグラフィー法でパターンを形成する場合）
フォトリソグラフィー法でパターンを形成する場合、基板上に本発明の着色組成物を塗工して形成した層を、必要に応じて乾燥（プレベーク）した後、マスクを介してパターン状に露光し（露光工程）、未露光部分をアルカリ現像により除去（現像工程）後、必要に応じてパターンを加熱処理（ポストベーク工程）する。
フォトリソグラフィー法でパターンを形成する場合、基板上に本発明の着色組成物を塗工して形成した層を、必要に応じて乾燥（プレベーク）した後、マスクを介してパターン状に露光し（露光工程）、未露光部分をアルカリ現像により除去（現像工程）後、必要に応じてパターンを加熱処理（ポストベーク工程）する。
【0251】
〔露光工程〕
露光工程は、塗工で形成した層を、例えば、ステッパー等の露光装置を用い、マスクを介して特定のパターンを露光する。これにより、露光部分を硬化することができる。露光に用いる活性エネルギー線は、例えば、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）等の紫外線が挙げられる。また、波長３００ｎｍ以下の光を用いることもできる。波長３００ｎｍ以下の光としては、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦ（波長１９３ｎｍ）などが挙げられる。
また、露光に際しては、光を連続的に照射して露光してもよく、短時間（例えば、ミリ秒レベル以下）のサイクルで光の照射と休止を繰り返して露光（パルス露光）してもよい。
露光工程は、塗工で形成した層を、例えば、ステッパー等の露光装置を用い、マスクを介して特定のパターンを露光する。これにより、露光部分を硬化することができる。露光に用いる活性エネルギー線は、例えば、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）等の紫外線が挙げられる。また、波長３００ｎｍ以下の光を用いることもできる。波長３００ｎｍ以下の光としては、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦ（波長１９３ｎｍ）などが挙げられる。
また、露光に際しては、光を連続的に照射して露光してもよく、短時間（例えば、ミリ秒レベル以下）のサイクルで光の照射と休止を繰り返して露光（パルス露光）してもよい。
【0252】
〔現像工程〕
次に、アルカリ現像処理を行うことで、未露光部分の層がアルカリ水溶液に溶出し、硬化部分のみが残りパターン状の膜が得られる。
アルカリ現像液は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８－ジアザビシクロ－〔５．４．０〕－７－ウンデセン等のアルカリ性化合物が挙げられる。
アルカリ現像液の濃度は、０．００１～１０質量％が好ましく、０．０１～１質量％がより好ましい。アルカリ現像液のｐＨは、１１～１３が好ましく、１１．５～１２．５がより好ましい。適度なｐＨで使用するとパターンの荒れや剥離を抑制し、現像後の残膜率が向上する。
現像方法は、例えば、ディップ法、スプレー法、パドル法等が挙げられる。現像温度は１５～４０℃が好ましい。なお、アルカリ現像後は、純水で洗浄することが好ましい。
次に、アルカリ現像処理を行うことで、未露光部分の層がアルカリ水溶液に溶出し、硬化部分のみが残りパターン状の膜が得られる。
アルカリ現像液は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８－ジアザビシクロ－〔５．４．０〕－７－ウンデセン等のアルカリ性化合物が挙げられる。
アルカリ現像液の濃度は、０．００１～１０質量％が好ましく、０．０１～１質量％がより好ましい。アルカリ現像液のｐＨは、１１～１３が好ましく、１１．５～１２．５がより好ましい。適度なｐＨで使用するとパターンの荒れや剥離を抑制し、現像後の残膜率が向上する。
現像方法は、例えば、ディップ法、スプレー法、パドル法等が挙げられる。現像温度は１５～４０℃が好ましい。なお、アルカリ現像後は、純水で洗浄することが好ましい。
【0253】
〔ポストベーク工程〕
現像後、必要に応じて加熱処理（ポストベーク）を行うこともできる。ポストベークにより、膜の耐性が向上する。
ポストベーク温度は、８０～３００℃が好ましい。また、時間は、２分間～１時間程度が好ましい。基材に耐熱性の低い素材を用いた場合や、光源として有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた場合などは、ポストベーク温度は、１５０℃以下が好ましく、１３０℃以下がより好ましい。
現像後、必要に応じて加熱処理（ポストベーク）を行うこともできる。ポストベークにより、膜の耐性が向上する。
ポストベーク温度は、８０～３００℃が好ましい。また、時間は、２分間～１時間程度が好ましい。基材に耐熱性の低い素材を用いた場合や、光源として有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた場合などは、ポストベーク温度は、１５０℃以下が好ましく、１３０℃以下がより好ましい。
【0254】
（ドライエッチング法でパターンを形成する場合）
ドライエッチング法でパターンを形成する場合、例えば、基板上に本発明の着色組成物を塗工して形成した層を加熱し硬化させる。次いで、硬化膜上にパターニングされたフォトレジスト層を形成後、パターニングされたフォトレジスト層をマスクとして硬化膜に対しエッチングガスを用いてドライエッチングを行う。ドライエッチング法でのパターン形成については、特開２０１３－０６４９９３号公報の記載された方法を参酌できる。
ドライエッチング法でパターンを形成する場合、例えば、基板上に本発明の着色組成物を塗工して形成した層を加熱し硬化させる。次いで、硬化膜上にパターニングされたフォトレジスト層を形成後、パターニングされたフォトレジスト層をマスクとして硬化膜に対しエッチングガスを用いてドライエッチングを行う。ドライエッチング法でのパターン形成については、特開２０１３－０６４９９３号公報の記載された方法を参酌できる。
【0255】
＜カラーフィルタ＞
本発明の膜は、カラーフィルタに用いることができる。本発明のカラーフィルタは、ＣＣＤやＣＭＯＳ等の固体撮像素子や画像表示装置等に用いることができる。カラーフィルタは、顔料（Ａ）を適宜選択することで、赤色カラーフィルタ、緑色カラーフィルタ、青色カラーフィルタ、マゼンタ色カラーフィルタ、シアン色カラーフィルタ、イエローカラーフィルタ、グレー色カラーフィルタ、ブラック色カラーフィルタ等を得ることができる。カラーフィルタの製造は、上述の膜と同様の方法で製造できる。
本発明の膜は、カラーフィルタに用いることができる。本発明のカラーフィルタは、ＣＣＤやＣＭＯＳ等の固体撮像素子や画像表示装置等に用いることができる。カラーフィルタは、顔料（Ａ）を適宜選択することで、赤色カラーフィルタ、緑色カラーフィルタ、青色カラーフィルタ、マゼンタ色カラーフィルタ、シアン色カラーフィルタ、イエローカラーフィルタ、グレー色カラーフィルタ、ブラック色カラーフィルタ等を得ることができる。カラーフィルタの製造は、上述の膜と同様の方法で製造できる。
【0256】
＜画像表示装置＞
本発明の膜は、画像表示装置に用いることができる。画像表示装置は、例えば、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等が挙げられる。画像表示装置に用いる形態は、特に制限されないが、カラーフィルタ、ブラックマトリックス、遮光フィルタや赤外線透過フィルタとして用いることができる。
画像表示装置に用いる形態は、画像表示装置として機能すればよく、特に制限されない。例えば、「次世代液晶ディスプレイ技術（内田龍男著、（株）工業調査会、１９９４年発行）に記載されている構成等が挙げられる。
画像表示装置の定義や各画像表示装置の詳細については、例えば、「電子ディスプレイデバイス（佐々木昭夫著、（株）工業調査会、１９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹順章著、産業図書（株）、平成元年発行）」等に記載されている。
本発明の膜は、画像表示装置に用いることができる。画像表示装置は、例えば、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等が挙げられる。画像表示装置に用いる形態は、特に制限されないが、カラーフィルタ、ブラックマトリックス、遮光フィルタや赤外線透過フィルタとして用いることができる。
画像表示装置に用いる形態は、画像表示装置として機能すればよく、特に制限されない。例えば、「次世代液晶ディスプレイ技術（内田龍男著、（株）工業調査会、１９９４年発行）に記載されている構成等が挙げられる。
画像表示装置の定義や各画像表示装置の詳細については、例えば、「電子ディスプレイデバイス（佐々木昭夫著、（株）工業調査会、１９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹順章著、産業図書（株）、平成元年発行）」等に記載されている。
【0257】
＜固体撮像素子＞
本発明の膜は、固体撮像素子に用いることができる。固体撮像素子に用いる形態は、特に制限されないが、例えば、基材上に、固体撮像素子（ＣＣＤイメージセンサ、ＣＭＯＳイメージセンサ等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオードおよび転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口した遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面およびフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、フィルタを有する構成である。さらに、デバイス保護膜上であってフィルタの下（基材に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ）を有する構成や、フィルタ上に集光手段を有する構成等であってもよい。また、フィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各着色画素を形成する硬化膜が埋め込まれた構造を有していてもよい。この場合の隔壁は、各着色画素に対して低屈折率であることが好ましい。
本発明の固体撮像素子を備えた撮像装置は、例えば、デジタルカメラ、撮像機能を有する電子機器（スマートフォン、タブレット端末等）、車載カメラ、監視カメラ、光センサ等様々な用途に使用できる。
本発明の膜は、固体撮像素子に用いることができる。固体撮像素子に用いる形態は、特に制限されないが、例えば、基材上に、固体撮像素子（ＣＣＤイメージセンサ、ＣＭＯＳイメージセンサ等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオードおよび転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口した遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面およびフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、フィルタを有する構成である。さらに、デバイス保護膜上であってフィルタの下（基材に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ）を有する構成や、フィルタ上に集光手段を有する構成等であってもよい。また、フィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各着色画素を形成する硬化膜が埋め込まれた構造を有していてもよい。この場合の隔壁は、各着色画素に対して低屈折率であることが好ましい。
本発明の固体撮像素子を備えた撮像装置は、例えば、デジタルカメラ、撮像機能を有する電子機器（スマートフォン、タブレット端末等）、車載カメラ、監視カメラ、光センサ等様々な用途に使用できる。
【実施例0258】
以下、実施例で本発明をより具体的に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されない。なお、「部」は「質量部」、「％」は「質量％」である。また、本発明で不揮発分もしくは不揮発分濃度は、２３０℃で３０分間オーブン静置後の質量残分をいう。
【0259】
実施例に先立ち、各測定方法について説明する。
【0260】
（樹脂の平均分子量）
樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）は、ＲＩ検出器を装備したゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定した。装置としてＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ（東ソー社製）を用い、分離カラムを２本直列に繋ぎ、両方の充填剤には「ＴＳＫ－ＧＥＬ ＳＵＰＥＲ ＨＺＭ－Ｎ」を２連でつなげて使用し、オーブン温度４０℃、溶離液としてテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶液を用い、流速０．３５ｍｌ／ｍｉｎで測定した。サンプルは１質量％の上記溶離液からなる溶剤に溶解し、２０マイクロリットル注入した。分子量は、ポリスチレン換算値である。
樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）は、ＲＩ検出器を装備したゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定した。装置としてＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ（東ソー社製）を用い、分離カラムを２本直列に繋ぎ、両方の充填剤には「ＴＳＫ－ＧＥＬ ＳＵＰＥＲ ＨＺＭ－Ｎ」を２連でつなげて使用し、オーブン温度４０℃、溶離液としてテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶液を用い、流速０．３５ｍｌ／ｍｉｎで測定した。サンプルは１質量％の上記溶離液からなる溶剤に溶解し、２０マイクロリットル注入した。分子量は、ポリスチレン換算値である。
【0261】
（樹脂の酸価）
樹脂溶液０．５～１ｇに、アセトン８０ｍｌ及び水１０ｍｌを加えて攪拌して均一に溶解させ、０．１ｍｏｌ／ＬのＫＯＨ水溶液を滴定液として、自動滴定装置（「ＣＯＭ－５５５」平沼産業社製）を用いて滴定し、酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）を測定した。そして、樹脂溶液の酸価と樹脂溶液の不揮発分濃度から、樹脂の不揮発分あたりの酸価を算出した。
樹脂溶液０．５～１ｇに、アセトン８０ｍｌ及び水１０ｍｌを加えて攪拌して均一に溶解させ、０．１ｍｏｌ／ＬのＫＯＨ水溶液を滴定液として、自動滴定装置（「ＣＯＭ－５５５」平沼産業社製）を用いて滴定し、酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）を測定した。そして、樹脂溶液の酸価と樹脂溶液の不揮発分濃度から、樹脂の不揮発分あたりの酸価を算出した。
【0262】
（樹脂のアミン価）
樹脂のアミン価は、ＡＳＴＭ Ｄ ２０７４の方法に準拠し、測定した全アミン価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）を不揮発分換算した値である。
樹脂のアミン価は、ＡＳＴＭ Ｄ ２０７４の方法に準拠し、測定した全アミン価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）を不揮発分換算した値である。
【0263】
＜近赤外線吸収化合物（Ｂ）の製造＞
（一般式（１）で表される化合物（Ｂ１－１））
反応容器中で、フタロニトリル２６部、２，３―ジシアノナフタレン１４３部、ｎ－アミルアルコール８９０部、ＤＢＵ（１，８－Ｄｉａｚａｂｉｃｙｃｌｏ［５．４．０］ｕｎｄｅｃ－７－ｅｎｅ）１３７部と三塩化アルミニウム３４部を混合攪拌し、昇温後１３６℃で５時間還流した。攪拌したまま３０℃まで冷却した反応溶液を、メタノール５，０００部、イオン交換水１０，０００部からなる混合溶媒中へ攪拌しながら注入し、青色のスラリーを得た。このスラリーを濾過し、メタノール２，０００部、イオン交換水４，０００部からなる混合溶媒で洗浄、乾燥して、化合物ａを得た。
次いで、反応容器中で、濃硫酸１，５００部に１４０部の化合物ａを氷浴下にて加え、１時間攪拌を行った。続けて、この硫酸溶液を３℃の冷水１，０００部に注入し、生成した析出物をろ過、水洗、２．５％水酸化ナトリウム水溶液洗浄、水洗の順で処理を行い、乾燥して、化合物ｂを得た。
Ｎ－メチルピロリドン２００部に５部のジフェニルリン酸を添加し、十分に攪拌混合を行った後、５０℃に加熱した。この溶液に、１０部の化合物ｂを少しずつ添加した後、９０℃で１２０分攪拌した。反応の終点確認は、例えば、濾紙に反応液を滴下して、にじみがなくなったところを終点とした。続けて、この反応溶液をイオン交換水２，０００部に注入し、生成した析出物をろ過、水洗の順で処理を行い、乾燥して、下記化学式（１１）で表される化合物の混合物（混合比率は、ｎ１：ｎ２：ｎ３：ｎ４＝７：１９：５９：１５）を得た。
得られた化学式（１１）で表される化合物５０部、塩化ナトリウム５００部、ジエチレングリコール６０部をステンレス製ガロンニーダー（井上製作所社製）中に仕込み、６０℃で１２時間混練した。次に、混練した混合物を温水に投入し、約８０℃に加熱しながら１時間攪拌してスラリー状として、濾過および水洗をして、塩化ナトリウムおよびジエチレングリコールを除いた後、８０℃で一昼夜乾燥させ粉砕することで微細化した。
（一般式（１）で表される化合物（Ｂ１－１））
反応容器中で、フタロニトリル２６部、２，３―ジシアノナフタレン１４３部、ｎ－アミルアルコール８９０部、ＤＢＵ（１，８－Ｄｉａｚａｂｉｃｙｃｌｏ［５．４．０］ｕｎｄｅｃ－７－ｅｎｅ）１３７部と三塩化アルミニウム３４部を混合攪拌し、昇温後１３６℃で５時間還流した。攪拌したまま３０℃まで冷却した反応溶液を、メタノール５，０００部、イオン交換水１０，０００部からなる混合溶媒中へ攪拌しながら注入し、青色のスラリーを得た。このスラリーを濾過し、メタノール２，０００部、イオン交換水４，０００部からなる混合溶媒で洗浄、乾燥して、化合物ａを得た。
次いで、反応容器中で、濃硫酸１，５００部に１４０部の化合物ａを氷浴下にて加え、１時間攪拌を行った。続けて、この硫酸溶液を３℃の冷水１，０００部に注入し、生成した析出物をろ過、水洗、２．５％水酸化ナトリウム水溶液洗浄、水洗の順で処理を行い、乾燥して、化合物ｂを得た。
Ｎ－メチルピロリドン２００部に５部のジフェニルリン酸を添加し、十分に攪拌混合を行った後、５０℃に加熱した。この溶液に、１０部の化合物ｂを少しずつ添加した後、９０℃で１２０分攪拌した。反応の終点確認は、例えば、濾紙に反応液を滴下して、にじみがなくなったところを終点とした。続けて、この反応溶液をイオン交換水２，０００部に注入し、生成した析出物をろ過、水洗の順で処理を行い、乾燥して、下記化学式（１１）で表される化合物の混合物（混合比率は、ｎ１：ｎ２：ｎ３：ｎ４＝７：１９：５９：１５）を得た。
得られた化学式（１１）で表される化合物５０部、塩化ナトリウム５００部、ジエチレングリコール６０部をステンレス製ガロンニーダー（井上製作所社製）中に仕込み、６０℃で１２時間混練した。次に、混練した混合物を温水に投入し、約８０℃に加熱しながら１時間攪拌してスラリー状として、濾過および水洗をして、塩化ナトリウムおよびジエチレングリコールを除いた後、８０℃で一昼夜乾燥させ粉砕することで微細化した。
【0264】
化学式（１１）
【化31】
【0265】
（一般式（１）で表される化合物（Ｂ１－２））
反応容器中で、２，３―ジシアノナフタレン１７８部、ｎ－アミルアルコール８９０部、ＤＢＵ（１，８－Ｄｉａｚａｂｉｃｙｃｌｏ［５．４．０］ｕｎｄｅｃ－７－ｅｎｅ）１３７部と塩化アルミニウム無水物４０部を混合攪拌し、昇温後１３６℃で５時間還流した。攪拌したまま３０℃まで冷却した反応溶液を、メタノール５，０００部、水１０，０００部からなる混合溶媒中へ攪拌しながら注入し、青色のスラリーを得た。このスラリーを濾過し、メタノール２，０００部、水４，０００部からなる混合溶媒で洗浄し、乾燥して化合物ｃを得た。
次いで、反応容器中で、濃硫酸１００部に化合物ｃ１０部を氷浴下にて加え、１時間攪拌を行った。続けて、この硫酸溶液を３℃の冷水１，０００部に注入し、生成した析出物をろ過、水洗、２．５％水酸化ナトリウム水溶液洗浄、水洗の順で処理を行い、乾燥して化合物ｄを得た。
Ｎ－メチルピロリドン２００部に５部のジフェニルリン酸を添加し、十分に攪拌混合を行った後、５０℃に加熱した。この溶液に、１０部の化合物ｄを少しずつ添加した後、９０℃で１２０分攪拌した。反応の終点確認は、例えば、濾紙に反応液を滴下して、にじみがなくなったところを終点とした。続けて、この反応溶液をイオン交換水２，０００部に注入し、生成した析出物をろ過、水洗の順で処理を行い、乾燥して、下記化学式（１２）で表される化合物を得た。
得られた化学式（１２）で表される化合物５０部、塩化ナトリウム５００部、ジエチレングリコール６０部をステンレス製ガロンニーダー（井上製作所社製）中に仕込み、６０℃で１２時間混練した。次に、混練した混合物を温水に投入し、約８０℃に加熱しながら１時間攪拌してスラリー状として、濾過および水洗をして、塩化ナトリウムおよびジエチレングリコールを除いた後、８０℃で一昼夜乾燥させ粉砕することで微細化した。
反応容器中で、２，３―ジシアノナフタレン１７８部、ｎ－アミルアルコール８９０部、ＤＢＵ（１，８－Ｄｉａｚａｂｉｃｙｃｌｏ［５．４．０］ｕｎｄｅｃ－７－ｅｎｅ）１３７部と塩化アルミニウム無水物４０部を混合攪拌し、昇温後１３６℃で５時間還流した。攪拌したまま３０℃まで冷却した反応溶液を、メタノール５，０００部、水１０，０００部からなる混合溶媒中へ攪拌しながら注入し、青色のスラリーを得た。このスラリーを濾過し、メタノール２，０００部、水４，０００部からなる混合溶媒で洗浄し、乾燥して化合物ｃを得た。
次いで、反応容器中で、濃硫酸１００部に化合物ｃ１０部を氷浴下にて加え、１時間攪拌を行った。続けて、この硫酸溶液を３℃の冷水１，０００部に注入し、生成した析出物をろ過、水洗、２．５％水酸化ナトリウム水溶液洗浄、水洗の順で処理を行い、乾燥して化合物ｄを得た。
Ｎ－メチルピロリドン２００部に５部のジフェニルリン酸を添加し、十分に攪拌混合を行った後、５０℃に加熱した。この溶液に、１０部の化合物ｄを少しずつ添加した後、９０℃で１２０分攪拌した。反応の終点確認は、例えば、濾紙に反応液を滴下して、にじみがなくなったところを終点とした。続けて、この反応溶液をイオン交換水２，０００部に注入し、生成した析出物をろ過、水洗の順で処理を行い、乾燥して、下記化学式（１２）で表される化合物を得た。
得られた化学式（１２）で表される化合物５０部、塩化ナトリウム５００部、ジエチレングリコール６０部をステンレス製ガロンニーダー（井上製作所社製）中に仕込み、６０℃で１２時間混練した。次に、混練した混合物を温水に投入し、約８０℃に加熱しながら１時間攪拌してスラリー状として、濾過および水洗をして、塩化ナトリウムおよびジエチレングリコールを除いた後、８０℃で一昼夜乾燥させ粉砕することで微細化した。
【0266】
化学式（１２）
【化32】
【0267】
（一般式（１）で表される化合物（Ｂ１－３））
反応容器中で、フタロニトリル２６部、２，３―ジシアノナフタレン１４３部、ｎ－アミルアルコール８９０部、ＤＢＵ（１，８－Ｄｉａｚａｂｉｃｙｃｌｏ［５．４．０］ｕｎｄｅｃ－７－ｅｎｅ）１３７部と三塩化アルミニウム３４部を混合攪拌し、昇温後１３６℃で５時間還流した。攪拌したまま３０℃まで冷却した反応溶液を、メタノール５，０００部、イオン交換水１０，０００部からなる混合溶媒中へ攪拌しながら注入し、青色のスラリーを得た。このスラリーを濾過し、メタノール２，０００部、イオン交換水４，０００部からなる混合溶媒で洗浄、乾燥して、化合物ｅを得た。
次いで、反応容器中で、濃硫酸１，５００部に１４０部の化合物ｅを氷浴下にて加え、１時間攪拌を行った。続けて、この硫酸溶液を３℃の冷水１，０００部に注入し、生成した析出物をろ過、水洗、２．５％水酸化ナトリウム水溶液洗浄、水洗の順で処理を行い、乾燥して、下記化学式（１３）で表される化合物の混合物（混合比率は、ｎ１：ｎ２：ｎ３：ｎ４＝７：１９：５９：１５）を得た。
得られた化学式（１３）で表される化合物５０部、塩化ナトリウム５００部、ジエチレングリコール６０部をステンレス製ガロンニーダー（井上製作所社製）中に仕込み、６０℃で１２時間混練した。次に、混練した混合物を温水に投入し、約８０℃に加熱しながら１時間攪拌してスラリー状として、濾過および水洗をして、塩化ナトリウムおよびジエチレングリコールを除いた後、８０℃で一昼夜乾燥させ粉砕することで微細化した。
反応容器中で、フタロニトリル２６部、２，３―ジシアノナフタレン１４３部、ｎ－アミルアルコール８９０部、ＤＢＵ（１，８－Ｄｉａｚａｂｉｃｙｃｌｏ［５．４．０］ｕｎｄｅｃ－７－ｅｎｅ）１３７部と三塩化アルミニウム３４部を混合攪拌し、昇温後１３６℃で５時間還流した。攪拌したまま３０℃まで冷却した反応溶液を、メタノール５，０００部、イオン交換水１０，０００部からなる混合溶媒中へ攪拌しながら注入し、青色のスラリーを得た。このスラリーを濾過し、メタノール２，０００部、イオン交換水４，０００部からなる混合溶媒で洗浄、乾燥して、化合物ｅを得た。
次いで、反応容器中で、濃硫酸１，５００部に１４０部の化合物ｅを氷浴下にて加え、１時間攪拌を行った。続けて、この硫酸溶液を３℃の冷水１，０００部に注入し、生成した析出物をろ過、水洗、２．５％水酸化ナトリウム水溶液洗浄、水洗の順で処理を行い、乾燥して、下記化学式（１３）で表される化合物の混合物（混合比率は、ｎ１：ｎ２：ｎ３：ｎ４＝７：１９：５９：１５）を得た。
得られた化学式（１３）で表される化合物５０部、塩化ナトリウム５００部、ジエチレングリコール６０部をステンレス製ガロンニーダー（井上製作所社製）中に仕込み、６０℃で１２時間混練した。次に、混練した混合物を温水に投入し、約８０℃に加熱しながら１時間攪拌してスラリー状として、濾過および水洗をして、塩化ナトリウムおよびジエチレングリコールを除いた後、８０℃で一昼夜乾燥させ粉砕することで微細化した。
【0268】
化学式（１３）
【化33】
【0269】
（化合物（Ｂ２－１））
トルエン４００部に、１，８－ジアミノナフタレン４０．０部、３，５－ジメチルシクロヘキサノン３２．２部、ｐ－トルエンスルホン酸一水和物０．０８７部を混合し、窒素ガスの雰囲気中で加熱攪拌し、３時間還流させた。反応中に生成した水は共沸蒸留により反応系中から除去した。反応終了後、トルエンを蒸留して得られた暗茶色固体をアセトンで抽出し、アセトンとエタノールの混合溶媒から再結晶することにより精製した。得られた茶色固体を、トルエン２４０部とｎ－ブタノール１６０部の混合溶媒に溶解させ、３，４－ジヒドロキシ－３－シクロブテン－１，２－ジオン１３．８部を加えて、窒素ガスの雰囲気中で加熱撹拌し、８時間還流反応させた。反応中に生成した水は共沸蒸留により反応系中から除去した。
反応終了後、溶媒を蒸留し、得られた反応混合物を攪拌しながら、ヘキサン２００部を加えた。得られた黒茶色沈殿物を濾別した後、順次ヘキサン、エタノール、及びアセトンで洗浄を行い、減圧下で乾燥させ、下記化学式（１４）で表される化合物を得た。
得られた化学式（１４）で表される化合物５０部、塩化ナトリウム５００部、ジエチレングリコール６０部をステンレス製ガロンニーダー（井上製作所社製）中に仕込み、６０℃で１２時間混練した。次に、混練した混合物を温水に投入し、約８０℃に加熱しながら１時間攪拌してスラリー状として、濾過及び水洗をして、塩化ナトリウム及びジエチレングリコールを除いた後、８０℃で一昼夜乾燥させ粉砕することで微細化した。
トルエン４００部に、１，８－ジアミノナフタレン４０．０部、３，５－ジメチルシクロヘキサノン３２．２部、ｐ－トルエンスルホン酸一水和物０．０８７部を混合し、窒素ガスの雰囲気中で加熱攪拌し、３時間還流させた。反応中に生成した水は共沸蒸留により反応系中から除去した。反応終了後、トルエンを蒸留して得られた暗茶色固体をアセトンで抽出し、アセトンとエタノールの混合溶媒から再結晶することにより精製した。得られた茶色固体を、トルエン２４０部とｎ－ブタノール１６０部の混合溶媒に溶解させ、３，４－ジヒドロキシ－３－シクロブテン－１，２－ジオン１３．８部を加えて、窒素ガスの雰囲気中で加熱撹拌し、８時間還流反応させた。反応中に生成した水は共沸蒸留により反応系中から除去した。
反応終了後、溶媒を蒸留し、得られた反応混合物を攪拌しながら、ヘキサン２００部を加えた。得られた黒茶色沈殿物を濾別した後、順次ヘキサン、エタノール、及びアセトンで洗浄を行い、減圧下で乾燥させ、下記化学式（１４）で表される化合物を得た。
得られた化学式（１４）で表される化合物５０部、塩化ナトリウム５００部、ジエチレングリコール６０部をステンレス製ガロンニーダー（井上製作所社製）中に仕込み、６０℃で１２時間混練した。次に、混練した混合物を温水に投入し、約８０℃に加熱しながら１時間攪拌してスラリー状として、濾過及び水洗をして、塩化ナトリウム及びジエチレングリコールを除いた後、８０℃で一昼夜乾燥させ粉砕することで微細化した。
【0270】
化学式（１４）
【化34】
【0271】
（化合物（Ｂ２－２））
特開２０１５－１６３９５５号公報の記載に従い、下記化学式（１５）で表される化合物を得た。Ｐｈはフェニル基を表す。
特開２０１５－１６３９５５号公報の記載に従い、下記化学式（１５）で表される化合物を得た。Ｐｈはフェニル基を表す。
【0272】
化学式（１５）
【化35】
【0273】
（化合物（Ｂ２－３））
特開２０１５－１６３９５５号公報の記載に従い、下記化学式（１６）で表される化合物を得た。
特開２０１５－１６３９５５号公報の記載に従い、下記化学式（１６）で表される化合物を得た。
【0274】
化学式（１６）
【化36】
【0275】
＜分散樹脂（Ｃ）の製造＞
（酸性基を有する分散樹脂（Ｃ１－１）溶液）
ガス導入管、温度、コンデンサー、攪拌機を備えた反応容器に、メタクリル酸１０部、メチルメタクリレート１００部、ｉ－ブチルメタクリレート７０部、ベンジルメタクリレート２０部、ＰＧＭＡｃ５０部を仕込み、窒素ガスで置換した。反応容器内を５０℃に加熱撹拌し、３－メルカプト－１，２－プロパンジオール１２部を添加した。９０℃に昇温し、２，２’－アゾビスイソブチロニトリル０．１部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（以下、ＰＧＭＡｃ）９０部に加えた溶液を添加しながら７時間反応した。不揮発分測定により９５％が反応したことを確認した。ピロメリット酸無水物１９部、ＰＧＭＡｃ５０部、シクロヘキサノン５０部、触媒として１，８－ジアザビシクロ－［５．４．０］－７－ウンデセン０．４部を追加し、１００℃で７時間反応させた。酸価の測定で９８％以上の酸無水物がハーフエステル化していることを確認し反応を終了し、不揮発分測定で不揮発分３０％となるようＰＧＭＡｃを加えて希釈し、酸価７０ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量８，５００の酸性基を有する分散樹脂（Ｃ１－１）溶液を得た。
（酸性基を有する分散樹脂（Ｃ１－１）溶液）
ガス導入管、温度、コンデンサー、攪拌機を備えた反応容器に、メタクリル酸１０部、メチルメタクリレート１００部、ｉ－ブチルメタクリレート７０部、ベンジルメタクリレート２０部、ＰＧＭＡｃ５０部を仕込み、窒素ガスで置換した。反応容器内を５０℃に加熱撹拌し、３－メルカプト－１，２－プロパンジオール１２部を添加した。９０℃に昇温し、２，２’－アゾビスイソブチロニトリル０．１部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（以下、ＰＧＭＡｃ）９０部に加えた溶液を添加しながら７時間反応した。不揮発分測定により９５％が反応したことを確認した。ピロメリット酸無水物１９部、ＰＧＭＡｃ５０部、シクロヘキサノン５０部、触媒として１，８－ジアザビシクロ－［５．４．０］－７－ウンデセン０．４部を追加し、１００℃で７時間反応させた。酸価の測定で９８％以上の酸無水物がハーフエステル化していることを確認し反応を終了し、不揮発分測定で不揮発分３０％となるようＰＧＭＡｃを加えて希釈し、酸価７０ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量８，５００の酸性基を有する分散樹脂（Ｃ１－１）溶液を得た。
【0276】
（酸性基を有する分散樹脂（Ｃ１－１－２）溶液）
ガス導入管、温度計、コンデンサー、攪拌機を備えた反応容器に、１－チオグリセロール１０８部、ピロメリット酸無水物１７４部、ＰＧＭＡｃ６５０部、触媒としてモノブチルスズオキシド０．２部を仕込み、窒素ガスで置換した後、１２０℃で５時間反応させた（第一工程）。酸価の測定で９５％以上の酸無水物がハーフエステル化していることを確認した。次に、第一工程で得られた化合物を不揮発分換算で１６０部、２－ヒドロキシプロピルメタクリレート２００部、エチルアクリレート２００部、ｔ－ブチルアクリレート１５０部、２－メトキシエチルアクリレート２００部、メチルアクリレート２００部、メタクリル酸５０部、ＰＧＭＡｃ６６３部を仕込み、反応容器内を８０℃に加熱して、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）１．２部を添加し、１２時間反応した（第二工程）。不揮発分測定により９５％が反応したことを確認した。最後に、第二工程で得られた化合物の５０％ＰＧＭＡｃ溶液を５００部、２－メタクリロイルオキシエチルイソシアネート（ＭＯＩ）２７．０部、ヒドロキノン０．１部を仕込み、ＩＲにてイソシアネート基に基づく２２７０ｃｍ－１のピークの消失を確認するまで反応を行った（第三工程）。ピーク消失の確認後、反応溶液を冷却して、ＰＧＭＡｃで不揮発分調整することにより不揮発分３０％の酸性基を有する分散樹脂（Ｃ１－１－２）溶液を得た。得られた酸性基を有する分散樹脂（Ｃ１－１－２）の酸価は６８ｍｇＫＯＨ／ｇ、不飽和二重結合当量は１，５９３、重量平均分子量は１３，０００であった。
ガス導入管、温度計、コンデンサー、攪拌機を備えた反応容器に、１－チオグリセロール１０８部、ピロメリット酸無水物１７４部、ＰＧＭＡｃ６５０部、触媒としてモノブチルスズオキシド０．２部を仕込み、窒素ガスで置換した後、１２０℃で５時間反応させた（第一工程）。酸価の測定で９５％以上の酸無水物がハーフエステル化していることを確認した。次に、第一工程で得られた化合物を不揮発分換算で１６０部、２－ヒドロキシプロピルメタクリレート２００部、エチルアクリレート２００部、ｔ－ブチルアクリレート１５０部、２－メトキシエチルアクリレート２００部、メチルアクリレート２００部、メタクリル酸５０部、ＰＧＭＡｃ６６３部を仕込み、反応容器内を８０℃に加熱して、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）１．２部を添加し、１２時間反応した（第二工程）。不揮発分測定により９５％が反応したことを確認した。最後に、第二工程で得られた化合物の５０％ＰＧＭＡｃ溶液を５００部、２－メタクリロイルオキシエチルイソシアネート（ＭＯＩ）２７．０部、ヒドロキノン０．１部を仕込み、ＩＲにてイソシアネート基に基づく２２７０ｃｍ－１のピークの消失を確認するまで反応を行った（第三工程）。ピーク消失の確認後、反応溶液を冷却して、ＰＧＭＡｃで不揮発分調整することにより不揮発分３０％の酸性基を有する分散樹脂（Ｃ１－１－２）溶液を得た。得られた酸性基を有する分散樹脂（Ｃ１－１－２）の酸価は６８ｍｇＫＯＨ／ｇ、不飽和二重結合当量は１，５９３、重量平均分子量は１３，０００であった。
【0277】
（塩基性基を有する分散樹脂（Ｃ２－１）溶液）
ガス導入管、コンデンサー、攪拌翼、及び温度計を備え付けた反応装置に、メチルメタクリレート４０部、ｎーブチルメタクリレート１０部、触媒としてテトラメチルエチレンジアミン１３．２部を仕込み、窒素を流しながら５０℃で１時間撹拌し、系内を窒素置換した。次に、開始剤としてブロモイソ酪酸エチル９．３部、触媒として塩化第一銅５．６部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（以下、ＰＧＭＡｃ）１００部を仕込み、窒素気流下で、１１０℃まで昇温して第一ブロック（Ｂブロック）の重合を開始した。４時間重合後、重合溶液をサンプリングして不揮発分測定を行い、不揮発分から換算して重合転化率が９８％以上であることを確認した。次に、この反応装置に、ＰＧＭＡｃ５０部、第二ブロック（Ａブロック）モノマーとしてジメチルアミノエチルメタクリレート４０部、メタクリロイルオキシエチルベンジルジメチルアンモニウムクロライド１０部を投入し、１１０℃・窒素雰囲気下を保持したまま撹拌し、反応を継続した。投入から２時間後、重合溶液をサンプリングして不揮発分測定を行い、不揮発分から換算して第二ブロック（Ａブロック）の重合転化率が９８％以上であることを確認し、反応溶液を室温まで冷却して重合を停止した。室温まで冷却した後、約２ｇをサンプリングして１８０℃、２０分間加熱乾燥して不揮発分を測定し、不揮発分が３０質量％になるようにＰＧＭＡｃを添加して塩基性基を有する分散樹脂（Ｃ２－１）溶液を調製した。アミン価が１６９．８ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
ガス導入管、コンデンサー、攪拌翼、及び温度計を備え付けた反応装置に、メチルメタクリレート４０部、ｎーブチルメタクリレート１０部、触媒としてテトラメチルエチレンジアミン１３．２部を仕込み、窒素を流しながら５０℃で１時間撹拌し、系内を窒素置換した。次に、開始剤としてブロモイソ酪酸エチル９．３部、触媒として塩化第一銅５．６部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（以下、ＰＧＭＡｃ）１００部を仕込み、窒素気流下で、１１０℃まで昇温して第一ブロック（Ｂブロック）の重合を開始した。４時間重合後、重合溶液をサンプリングして不揮発分測定を行い、不揮発分から換算して重合転化率が９８％以上であることを確認した。次に、この反応装置に、ＰＧＭＡｃ５０部、第二ブロック（Ａブロック）モノマーとしてジメチルアミノエチルメタクリレート４０部、メタクリロイルオキシエチルベンジルジメチルアンモニウムクロライド１０部を投入し、１１０℃・窒素雰囲気下を保持したまま撹拌し、反応を継続した。投入から２時間後、重合溶液をサンプリングして不揮発分測定を行い、不揮発分から換算して第二ブロック（Ａブロック）の重合転化率が９８％以上であることを確認し、反応溶液を室温まで冷却して重合を停止した。室温まで冷却した後、約２ｇをサンプリングして１８０℃、２０分間加熱乾燥して不揮発分を測定し、不揮発分が３０質量％になるようにＰＧＭＡｃを添加して塩基性基を有する分散樹脂（Ｃ２－１）溶液を調製した。アミン価が１６９．８ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【0278】
（塩基性を有する分散樹脂（Ｃ２－２）溶液）
ガス導入管、コンデンサー、攪拌翼、及び温度計を備え付けた反応装置に、メチルメタクリレート３０部、ｎーブチルメタクリレート３０部、ヒドロキシエチルメタクリレート２０部、テトラメチルエチレンジアミン１３．２部を仕込み、窒素を流しながら５０℃で１時間撹拌し、系内を窒素置換した。次に、ブロモイソ酪酸エチル９．３部、塩化第一銅５．６部、ＰＧＭＡｃ１３３部を仕込み、窒素気流下で、１１０℃まで昇温して第一ブロック（Ｂブロック）の重合を開始した。４時間重合後、重合溶液をサンプリングして不揮発分測定を行い、不揮発分から換算して重合転化率が９８％以上であることを確認した。
次に、この反応装置に、ＰＧＭＡｃ６１部、第二ブロック（Ａブロック）モノマーとして１，２，２，６，６－ペンタメチルピペリジルメタクリレート２０部（日立化成工業社製、ファンクリルＦＡ－７１１ＭＭ）を投入し、１１０℃・窒素雰囲気下を保持したまま撹拌し、反応を継続した。１，２，２，６，６－ペンタメチルピペリジルメタクリレート投入から２時間後、重合溶液をサンプリングして不揮発分測定を行い、不揮発分から換算して第二ブロック（Ａブロック）の重合転化率が９８％以上であることを確認し、反応溶液を室温まで冷却して重合を停止した。不揮発分が３０質量％になるようにＰＧＭＡｃを添加して塩基性を有する分散樹脂（Ｃ２－２）溶液を調製した。アミン価が５７ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
ガス導入管、コンデンサー、攪拌翼、及び温度計を備え付けた反応装置に、メチルメタクリレート３０部、ｎーブチルメタクリレート３０部、ヒドロキシエチルメタクリレート２０部、テトラメチルエチレンジアミン１３．２部を仕込み、窒素を流しながら５０℃で１時間撹拌し、系内を窒素置換した。次に、ブロモイソ酪酸エチル９．３部、塩化第一銅５．６部、ＰＧＭＡｃ１３３部を仕込み、窒素気流下で、１１０℃まで昇温して第一ブロック（Ｂブロック）の重合を開始した。４時間重合後、重合溶液をサンプリングして不揮発分測定を行い、不揮発分から換算して重合転化率が９８％以上であることを確認した。
次に、この反応装置に、ＰＧＭＡｃ６１部、第二ブロック（Ａブロック）モノマーとして１，２，２，６，６－ペンタメチルピペリジルメタクリレート２０部（日立化成工業社製、ファンクリルＦＡ－７１１ＭＭ）を投入し、１１０℃・窒素雰囲気下を保持したまま撹拌し、反応を継続した。１，２，２，６，６－ペンタメチルピペリジルメタクリレート投入から２時間後、重合溶液をサンプリングして不揮発分測定を行い、不揮発分から換算して第二ブロック（Ａブロック）の重合転化率が９８％以上であることを確認し、反応溶液を室温まで冷却して重合を停止した。不揮発分が３０質量％になるようにＰＧＭＡｃを添加して塩基性を有する分散樹脂（Ｃ２－２）溶液を調製した。アミン価が５７ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【0279】
＜バインダ樹脂（Ｅ）の製造＞
（バインダ樹脂（Ｅ１－１）溶液）
セパラブル４口フラスコに温度計、冷却管、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付けた反応容器にＰＧＭＡｃ１００部を入れ、容器に窒素ガスを注入しながら１２０℃に加熱して、同温度で滴下管よりグリシジルメタクリレート８５．２９部、ジシクロペンタニルメタクリレート６６．０１部、及びスチレン１０．４２部の混合物と、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル０．５部のＰＧＭＡｃに溶解させたものを２．５時間かけて滴下し重合反応を行った。
次にフラスコ内を空気置換し、アクリル酸４３．２４部にトリスジメチルアミノメチルフェノール０．３部、及びハイドロキノン０．３部を投入し、１２０℃で５時間反応させた。これにより、グリシジルメタクリレートのエポキシ基とアクリル酸のカルボキシル基を反応させた。
さらにテトラヒドロ無水フタル酸５２．６４部、トリエチルアミン０．５部を加え１２０℃で４時間反応させた。これにより、グリシジルメタクリレートとアクリル酸で生成した水酸基とテトラヒドロ無水フタル酸をエステル化反応させた。その後、不揮発分が２０質量％になるようにＰＧＭＡｃを添加して、バインダ樹脂（Ｅ１－１）溶液を調製した。重量平均分子量（Ｍｗ）は３０，０００であり、酸価が７７ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
（バインダ樹脂（Ｅ１－１）溶液）
セパラブル４口フラスコに温度計、冷却管、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付けた反応容器にＰＧＭＡｃ１００部を入れ、容器に窒素ガスを注入しながら１２０℃に加熱して、同温度で滴下管よりグリシジルメタクリレート８５．２９部、ジシクロペンタニルメタクリレート６６．０１部、及びスチレン１０．４２部の混合物と、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル０．５部のＰＧＭＡｃに溶解させたものを２．５時間かけて滴下し重合反応を行った。
次にフラスコ内を空気置換し、アクリル酸４３．２４部にトリスジメチルアミノメチルフェノール０．３部、及びハイドロキノン０．３部を投入し、１２０℃で５時間反応させた。これにより、グリシジルメタクリレートのエポキシ基とアクリル酸のカルボキシル基を反応させた。
さらにテトラヒドロ無水フタル酸５２．６４部、トリエチルアミン０．５部を加え１２０℃で４時間反応させた。これにより、グリシジルメタクリレートとアクリル酸で生成した水酸基とテトラヒドロ無水フタル酸をエステル化反応させた。その後、不揮発分が２０質量％になるようにＰＧＭＡｃを添加して、バインダ樹脂（Ｅ１－１）溶液を調製した。重量平均分子量（Ｍｗ）は３０，０００であり、酸価が７７ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【0280】
（バインダ樹脂（Ｅ１－２）溶液）
セパラブル４口フラスコに温度計、冷却管、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付けた反応容器にＰＧＭＡｃ１６０部を入れ、容器に窒素ガスを注入しながら１２０℃に加熱して、同温度で滴下管よりベンジルメタクリレート７０．３部、メタクリル酸１５．５部、ジシクロペンタニルメタクリレート１４．２部と、重合開始剤であるアゾビスイソブチロニトリル３．６部、ＰＧＭＡｃとの混合物を２．５時間かけて滴下した。
滴下終了後、１２０℃で更に２時間撹拌を行った。その後、不揮発分が２０質量％になるようにＰＧＭＡｃを添加して、バインダ樹脂（Ｅ１－２）溶液を調製した。重量平均分子量８，０００、酸価８５ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
セパラブル４口フラスコに温度計、冷却管、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付けた反応容器にＰＧＭＡｃ１６０部を入れ、容器に窒素ガスを注入しながら１２０℃に加熱して、同温度で滴下管よりベンジルメタクリレート７０．３部、メタクリル酸１５．５部、ジシクロペンタニルメタクリレート１４．２部と、重合開始剤であるアゾビスイソブチロニトリル３．６部、ＰＧＭＡｃとの混合物を２．５時間かけて滴下した。
滴下終了後、１２０℃で更に２時間撹拌を行った。その後、不揮発分が２０質量％になるようにＰＧＭＡｃを添加して、バインダ樹脂（Ｅ１－２）溶液を調製した。重量平均分子量８，０００、酸価８５ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【0281】
（バインダ樹脂（Ｅ１－３）溶液）
ＰＧＭＡｃ３３．２６部を窒素気流下、８５℃に加熱した。この液を攪拌しながら、グリシジルメタクリレート２２．３６部、１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート１２．３８部、シクロヘキサノン１３．２６部、２，２’－アゾビスイソ酪酸ジメチル１．４５部の混合溶液を２時間かけて滴下した。滴下終了後、８５℃で更に２時間、９０℃で更に２時間攪拌した。その後、不揮発分が２０質量％になるようにＰＧＭＡｃを添加してバインダ樹脂（Ｅ１－３）溶液を調製した。重量平均分子量（Ｍｗ）は、１３，３００であった。
ＰＧＭＡｃ３３．２６部を窒素気流下、８５℃に加熱した。この液を攪拌しながら、グリシジルメタクリレート２２．３６部、１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート１２．３８部、シクロヘキサノン１３．２６部、２，２’－アゾビスイソ酪酸ジメチル１．４５部の混合溶液を２時間かけて滴下した。滴下終了後、８５℃で更に２時間、９０℃で更に２時間攪拌した。その後、不揮発分が２０質量％になるようにＰＧＭＡｃを添加してバインダ樹脂（Ｅ１－３）溶液を調製した。重量平均分子量（Ｍｗ）は、１３，３００であった。
【0282】
（バインダ樹脂（Ｅ１－４）溶液）
８－メチル－８－メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカ－３－エン１００部、１－ヘキセン１８部およびトルエン３００部を、窒素置換した反応容器に仕込み、この溶液を８０℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒として、トリエチルアルミニウムのトルエン溶液０．２部と、メタノール変性の六塩化タングステンのトルエン溶液０．９部とを添加し、この溶液を８０℃で３時間加熱攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。
得られた開環重合体溶液１，０００部をオートクレーブに仕込み、この開環重合体溶液に、ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）［Ｐ（Ｃ６Ｈ５）３］３を０．１２部添加し、水素ガス圧１００ｋｇ／ｃｍ２、反応温度１６５℃の条件下で、３時間加熱撹拌して水素添加反応を行った。得られた反応溶液を冷却した後、水素ガスを放圧した。この反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収し、これを乾燥した。その後、不揮発分が２０質量％になるように塩化メチレンを添加してバインダ樹脂（Ｅ１－４）溶液を調製した。重量平均分子量（Ｍｗ）は８７，０００であった。
８－メチル－８－メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカ－３－エン１００部、１－ヘキセン１８部およびトルエン３００部を、窒素置換した反応容器に仕込み、この溶液を８０℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒として、トリエチルアルミニウムのトルエン溶液０．２部と、メタノール変性の六塩化タングステンのトルエン溶液０．９部とを添加し、この溶液を８０℃で３時間加熱攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。
得られた開環重合体溶液１，０００部をオートクレーブに仕込み、この開環重合体溶液に、ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）［Ｐ（Ｃ６Ｈ５）３］３を０．１２部添加し、水素ガス圧１００ｋｇ／ｃｍ２、反応温度１６５℃の条件下で、３時間加熱撹拌して水素添加反応を行った。得られた反応溶液を冷却した後、水素ガスを放圧した。この反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収し、これを乾燥した。その後、不揮発分が２０質量％になるように塩化メチレンを添加してバインダ樹脂（Ｅ１－４）溶液を調製した。重量平均分子量（Ｍｗ）は８７，０００であった。
【0283】
＜分散体の製造＞
（分散体１）
下記の原料を均一になるように攪拌混合した後、直径０．５ｍｍのジルコニアビ－ズを用いて、アイガーミル（アイガージャパン社製「ミニモデルＭ－２５０ ＭＫＩＩ」）で３時間分散した後、孔径１．０μｍのフィルタで濾過し、分散体１を作製した。
波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ未満の範囲に吸収極大を有する顔料（Ａ－１）
：１５．０部
酸性基を有する分散樹脂（Ｃ１－１）溶液 ：２０．０部
顔料誘導体（Ｄ－１） ：０．２部
顔料誘導体（Ｄ－２） ：０．５５部
有機溶剤（Ｉ－１） ：６４．２５部
（分散体１）
下記の原料を均一になるように攪拌混合した後、直径０．５ｍｍのジルコニアビ－ズを用いて、アイガーミル（アイガージャパン社製「ミニモデルＭ－２５０ ＭＫＩＩ」）で３時間分散した後、孔径１．０μｍのフィルタで濾過し、分散体１を作製した。
波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ未満の範囲に吸収極大を有する顔料（Ａ－１）
：１５．０部
酸性基を有する分散樹脂（Ｃ１－１）溶液 ：２０．０部
顔料誘導体（Ｄ－１） ：０．２部
顔料誘導体（Ｄ－２） ：０．５５部
有機溶剤（Ｉ－１） ：６４．２５部
【0284】
（分散体２～２０）
表１－１、表１－２に記載した成分、量を変えた以外は、分散体１と同様にして分散体２～２０を作製した。
表１－１、表１－２に記載した成分、量を変えた以外は、分散体１と同様にして分散体２～２０を作製した。
【0285】
【表1-1】
【0286】
【表1-2】
【0287】
表１中に記載したそれぞれの成分は、以下の通りである。
【0288】
［波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ未満の範囲に吸収極大を有する顔料（Ａ）］
（Ａ－１）：Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３
（Ａ－２）：Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６
（Ａ－３）：Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン５８
（Ａ－４）：Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン６２
（Ａ－５）：Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン６３
（Ａ－６）：Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４
（Ａ－７）：Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７
（Ａ－８）：Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９
（Ａ－９）：Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０
（Ａ－１０）：Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３
（Ａ－１）～（Ａ－１０）は、いずれもソルトミリング処理を行い、微細化した。
（Ａ－１）：Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３
（Ａ－２）：Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６
（Ａ－３）：Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン５８
（Ａ－４）：Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン６２
（Ａ－５）：Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン６３
（Ａ－６）：Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４
（Ａ－７）：Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７
（Ａ－８）：Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９
（Ａ－９）：Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０
（Ａ－１０）：Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３
（Ａ－１）～（Ａ－１０）は、いずれもソルトミリング処理を行い、微細化した。
【0289】
［顔料誘導体（Ｄ）］
【化37】
【0290】
［有機溶剤（Ｉ）］
（Ｉ－１）：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
（Ｉ－１）：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
【0291】
＜着色組成物の製造＞
［実施例１］
（着色組成物１）
以下の成分を混合、撹拌し、孔径１．０μｍのフィルタで濾過して着色組成物１を得た。
分散体１ ：２６．０部
分散体１５ ：１５．０部
バインダ樹脂（Ｅ１－１）溶液 ：１２．０部
バインダ樹脂（Ｅ１－２）溶液 ：１２．０部
硬化性化合物（Ｆ－１） ：４．０部
硬化性化合物（Ｆ－４） ：１．０部
重合開始剤（Ｇ－１） ：０．３部
重合開始剤（Ｇ－２） ：０．４部
レベリング剤（Ｈ） ：１．０部
有機溶剤（Ｉ－１） ：２８．３部
［実施例１］
（着色組成物１）
以下の成分を混合、撹拌し、孔径１．０μｍのフィルタで濾過して着色組成物１を得た。
分散体１ ：２６．０部
分散体１５ ：１５．０部
バインダ樹脂（Ｅ１－１）溶液 ：１２．０部
バインダ樹脂（Ｅ１－２）溶液 ：１２．０部
硬化性化合物（Ｆ－１） ：４．０部
硬化性化合物（Ｆ－４） ：１．０部
重合開始剤（Ｇ－１） ：０．３部
重合開始剤（Ｇ－２） ：０．４部
レベリング剤（Ｈ） ：１．０部
有機溶剤（Ｉ－１） ：２８．３部
【0292】
［実施例２～２３、及び比較例１、２］
（着色組成物２～２５）
表２－１～表２－３に記載した成分、量になるように、実施例１と同様にして着色組成物２～２５を作成した。
（着色組成物２～２５）
表２－１～表２－３に記載した成分、量になるように、実施例１と同様にして着色組成物２～２５を作成した。
【0293】
【表2-1】
【0294】
【表2-2】
【0295】
【表2-3】
【0296】
表２中に記載したそれぞれの成分は、以下の通りである。
【0297】
［硬化性化合物（Ｆ）］
（Ｆ－１）：アロニックスＭ－３０５（東亞合成社製、ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物）
（Ｆ－２）：ＥＨＰＥ－３１５０（ダイセル社製、エポキシ基数が約１５個の化合物）
（Ｆ－３）：アロニックスＭ－５１０（東亞合成社製、カルボキシル基含有多官能アクリレート）
（Ｆ－４）：アロニックスＭ－４０２（東亜合成社製、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物）
（Ｆ－５）：Ｘ－１２－１０４８（信越シリコーン社製、アルコキシシリル基を有する化合物）
（Ｆ－１）：アロニックスＭ－３０５（東亞合成社製、ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物）
（Ｆ－２）：ＥＨＰＥ－３１５０（ダイセル社製、エポキシ基数が約１５個の化合物）
（Ｆ－３）：アロニックスＭ－５１０（東亞合成社製、カルボキシル基含有多官能アクリレート）
（Ｆ－４）：アロニックスＭ－４０２（東亜合成社製、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物）
（Ｆ－５）：Ｘ－１２－１０４８（信越シリコーン社製、アルコキシシリル基を有する化合物）
【0298】
［重合開始剤（Ｇ）］
【化38】
【0299】
（Ｇ－３）：アデカアークルズＮＣＩ－８３１Ｅ（ＡＤＥＫＡ社製）
（Ｇ－４）：Ｏｍｎｉｒａｄ３６９（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製）
（Ｇ－５）：ベンゾピナコール（東京化成工業社製）
（Ｇ－４）：Ｏｍｎｉｒａｄ３６９（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ社製）
（Ｇ－５）：ベンゾピナコール（東京化成工業社製）
【0300】
［レベリング剤（Ｈ）］
（Ｈ－１）：ＢＹＫ－３３０（ビックケミー社製）
（Ｈ－２）：メガファックＦ－５５４（ＤＩＣ社製）
以上、（Ｈ－１）および（Ｈ－２）をそれぞれ１部混合し、ＰＧＭＡｃ９８部に溶解させた混合溶液をレベリング剤（Ｈ）とした。
（Ｈ－１）：ＢＹＫ－３３０（ビックケミー社製）
（Ｈ－２）：メガファックＦ－５５４（ＤＩＣ社製）
以上、（Ｈ－１）および（Ｈ－２）をそれぞれ１部混合し、ＰＧＭＡｃ９８部に溶解させた混合溶液をレベリング剤（Ｈ）とした。
【0301】
［有機溶剤（Ｉ）］
（Ｉ－１）：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
（Ｉ－２）：塩化メチレン
（Ｉ－１）：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
（Ｉ－２）：塩化メチレン
【0302】
＜着色組成物の評価＞
得られた着色組成物１～２５（実施例１～２３、及び比較例１、２）について、下記の評価を行った。評価結果を表３に示す。
得られた着色組成物１～２５（実施例１～２３、及び比較例１、２）について、下記の評価を行った。評価結果を表３に示す。
【0303】
［保存安定性評価１］
得られた着色組成物を、密閉した容器に入れ４０℃で１２時間、－１０℃で１２時間の温度昇降サイクルを１０サイクル繰り返した。保管前後の粘度の変化率を下記式で算出し評価した。粘度は、Ｅ型粘度計（東機産業社製「ＥＬＤ型粘度計」）を用いて、２５℃において回転数５０ｒｐｍという条件で測定した。評価基準は、以下の通りであり、２以上が実用可能である。
［経時粘度変化率］＝｜（［初期粘度］－［経時粘度］）／［初期粘度］｜×１００
３：変化率５％未満のもの
２：変化率５％以上１０％未満のもの
１：変化率１０％以上のもの
得られた着色組成物を、密閉した容器に入れ４０℃で１２時間、－１０℃で１２時間の温度昇降サイクルを１０サイクル繰り返した。保管前後の粘度の変化率を下記式で算出し評価した。粘度は、Ｅ型粘度計（東機産業社製「ＥＬＤ型粘度計」）を用いて、２５℃において回転数５０ｒｐｍという条件で測定した。評価基準は、以下の通りであり、２以上が実用可能である。
［経時粘度変化率］＝｜（［初期粘度］－［経時粘度］）／［初期粘度］｜×１００
３：変化率５％未満のもの
２：変化率５％以上１０％未満のもの
１：変化率１０％以上のもの
【0304】
［保存安定性評価２］
得られた着色組成物を、ガラス基板に、スピンコーターを用いて乾燥膜厚が１．０μｍとなるように塗工し、７０℃１分間ホットプレートでプレベークした。得られた基板を、異物検査装置（ＫＬＡ－Ｔｅｎｃｏｒ社製）を用いて、保存前の欠陥密度を測定した。
次に、着色組成物を密閉した容器に入れ４０℃で１２時間、－１０℃で１２時間の温度昇降サイクルを１０サイクル繰り返した。保管後、室温に戻した着色組成物を保管前と同じ条件で基板を作成し、保管後の欠陥密度を測定した。評価基準は、以下の通りであり、２以上が実用可能である。なお、欠陥とは、サイズが１μｍ以上となる検出点をいう。
３：保管後の欠陥密度が、保管前の１０５％未満
２：保管後の欠陥密度が、保管前の１０５％以上１１０％未満
１：保管後の欠陥密度が、保管前の１１０％以上
得られた着色組成物を、ガラス基板に、スピンコーターを用いて乾燥膜厚が１．０μｍとなるように塗工し、７０℃１分間ホットプレートでプレベークした。得られた基板を、異物検査装置（ＫＬＡ－Ｔｅｎｃｏｒ社製）を用いて、保存前の欠陥密度を測定した。
次に、着色組成物を密閉した容器に入れ４０℃で１２時間、－１０℃で１２時間の温度昇降サイクルを１０サイクル繰り返した。保管後、室温に戻した着色組成物を保管前と同じ条件で基板を作成し、保管後の欠陥密度を測定した。評価基準は、以下の通りであり、２以上が実用可能である。なお、欠陥とは、サイズが１μｍ以上となる検出点をいう。
３：保管後の欠陥密度が、保管前の１０５％未満
２：保管後の欠陥密度が、保管前の１０５％以上１１０％未満
１：保管後の欠陥密度が、保管前の１１０％以上
【0305】
［耐光性評価］
得られた着色組成物を、ガラス基板に、スピンコーターを用いて乾燥膜厚が１．０μｍとなるように塗工し、７０℃１分間ホットプレートでプレベークした。次いで、超高圧水銀ランプを用い、照度３０ｍＷ／ｃｍ２、５０ｍＪ／ｃｍ２で露光し、クリーンオーブンで２３０℃１０分間ポストベークし評価用基板を得た。なお、実施例２０は、露光を行わずプレベーク後、ポストベークし評価用基板を得た。
得られた評価用基板を、キセノンランプ（１０万ルクス）で５０時間光を照射し耐光性試験を行った。その後、波長４００～１，０００ｎｍの光の透過率を分光光度計Ｕ－４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて測定し、耐光性試験前後の透過率の変化量の最大値を求め、以下の基準で評価した。２以上を実用可能とする。
透過率の変化量（％）＝｜耐光性試験前の透過率－耐光性試験後の透過率｜
３：透過率の変化量の最大値が３％以下
２：透過率の変化量の最大値が３％を超え、または５％以下
１：透過率の変化量の最大値が５％を超える
得られた着色組成物を、ガラス基板に、スピンコーターを用いて乾燥膜厚が１．０μｍとなるように塗工し、７０℃１分間ホットプレートでプレベークした。次いで、超高圧水銀ランプを用い、照度３０ｍＷ／ｃｍ２、５０ｍＪ／ｃｍ２で露光し、クリーンオーブンで２３０℃１０分間ポストベークし評価用基板を得た。なお、実施例２０は、露光を行わずプレベーク後、ポストベークし評価用基板を得た。
得られた評価用基板を、キセノンランプ（１０万ルクス）で５０時間光を照射し耐光性試験を行った。その後、波長４００～１，０００ｎｍの光の透過率を分光光度計Ｕ－４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて測定し、耐光性試験前後の透過率の変化量の最大値を求め、以下の基準で評価した。２以上を実用可能とする。
透過率の変化量（％）＝｜耐光性試験前の透過率－耐光性試験後の透過率｜
３：透過率の変化量の最大値が３％以下
２：透過率の変化量の最大値が３％を超え、または５％以下
１：透過率の変化量の最大値が５％を超える
【0306】
［耐熱性評価］
耐光性評価と同様に作成した評価用基板を、ホットプレートで２６０℃３００秒加熱し耐熱性試験を行った。その後、波長４００～１，０００ｎｍの光の透過率を分光光度計Ｕ－４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて測定し、耐熱性試験前後の透過率の変化量の最大値を求め、以下の基準で評価した。２以上を実用可能とする。
透過率の変化量（％）＝｜耐熱性試験前の透過率－耐熱性試験後の透過率｜
３：透過率の変化量の最大値が３％以下
２：透過率の変化量の最大値が３％を超え、または５％以下
１：透過率の変化量の最大値が５％を超える
耐光性評価と同様に作成した評価用基板を、ホットプレートで２６０℃３００秒加熱し耐熱性試験を行った。その後、波長４００～１，０００ｎｍの光の透過率を分光光度計Ｕ－４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて測定し、耐熱性試験前後の透過率の変化量の最大値を求め、以下の基準で評価した。２以上を実用可能とする。
透過率の変化量（％）＝｜耐熱性試験前の透過率－耐熱性試験後の透過率｜
３：透過率の変化量の最大値が３％以下
２：透過率の変化量の最大値が３％を超え、または５％以下
１：透過率の変化量の最大値が５％を超える
【0307】
［耐湿性評価］
耐光性評価と同様に作成した評価用基板を、８０℃、相対湿度８５％の雰囲気下で５００時間静置し耐湿性試験を行った。その後、異物検査装置（ＫＬＡ－Ｔｅｎｃｏｒ社製）を用いて、欠陥密度を測定した。なお、欠陥とは、サイズが１μｍ以上となる検出点をいう。２以上を実用可能とする。
３：１０／ｃｍ２以下
２：１０／ｃｍ２を超え、または５０／ｃｍ２以下
１：５０／ｃｍ２超える
耐光性評価と同様に作成した評価用基板を、８０℃、相対湿度８５％の雰囲気下で５００時間静置し耐湿性試験を行った。その後、異物検査装置（ＫＬＡ－Ｔｅｎｃｏｒ社製）を用いて、欠陥密度を測定した。なお、欠陥とは、サイズが１μｍ以上となる検出点をいう。２以上を実用可能とする。
３：１０／ｃｍ２以下
２：１０／ｃｍ２を超え、または５０／ｃｍ２以下
１：５０／ｃｍ２超える
【0308】
【表3】