特開 2023-151083 モニタリング分析装置およびモニタリング分析方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023151083

(43)【公開日】2023-10-16

(54)【発明の名称】モニタリング分析装置およびモニタリング分析方法

(51)【国際特許分類】

   G01N 35/00 20060101AFI20231005BHJP

   G01N 35/10 20060101ALI20231005BHJP

   G01N 1/00 20060101ALI20231005BHJP

【ＦＩ】

G01N35/00 E

G01N35/10 A

G01N1/00 101N

【審査請求】未請求

【請求項の数】13

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022060514

(22)【出願日】2022-03-31

(71)【出願人】

【識別番号】000001993

【氏名又は名称】株式会社島津製作所

(74)【代理人】

【識別番号】100108523

【弁理士】

【氏名又は名称】中川 雅博

(74)【代理人】

【識別番号】100125704

【弁理士】

【氏名又は名称】坂根 剛

(74)【代理人】

【識別番号】100187931

【弁理士】

【氏名又は名称】澤村 英幸

(72)【発明者】

【氏名】長井 悠佑

(72)【発明者】

【氏名】岩田 庸助

【テーマコード（参考）】

2G052

2G058

【Ｆターム（参考）】

2G052FC07

2G052FC11

2G058EA02

(57)【要約】

【課題】 連続的に生成される反応生成物に対する分析の頻度を向上させる。
【解決手段】 モニタリング分析装置１００は、反応装置２１０により生成された反応生成物を順次取得する取得部と、取得部により取得された反応生成物を順次分析する分析部３０と、分析部３０による反応生成物の分析前の前処理を実行する前処理部と、分析部３０による第１の分析が行われている間に第１の分析の次に行われるべき第２の分析のための前処理が実行されるように前処理部を制御する制御部４０とを備える。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

反応装置により生成された反応生成物を順次取得する取得部と、
前記取得部により取得された前記反応生成物を順次分析する分析部と、
前記分析部による前記反応生成物の分析前の前処理を実行する前処理部と、
前記分析部による第１の分析が行われている間に前記第１の分析の次に行われるべき第２の分析のための前記前処理が実行されるように前記前処理部を制御する制御部とを備える、モニタリング分析装置。

【請求項2】

前記取得部は、
内部流路を有するとともに前記内部流路にそれぞれ連通する第１および第２のポートを有するサンプル取得容器と、
前記反応装置により生成された反応生成物を前記サンプル取得容器の前記第１のポートに導く第１の流路と、
前記サンプル取得容器の前記第２のポートから前記サンプル取得容器の外へ反応生成物を導く第２の流路とを含む、請求項１記載のモニタリング分析装置。

【請求項3】

前記前処理は、前記取得部を洗浄する洗浄処理を含み、
前記前処理部は、前記洗浄処理を行う洗浄部を含む、請求項２記載のモニタリング分析装置。

【請求項4】

前記洗浄部は、前記第１の流路、前記第２の流路および前記サンプル取得容器の前記内部流路を洗浄するように構成され、
前記洗浄部は、前記第１の流路、前記サンプル取得容器の前記内部流路および前記第２の流路に洗浄液を流すように構成される、請求項３記載のモニタリング分析装置。

【請求項5】

前記洗浄部は、
前記第１の流路に介挿される第１の切替バルブと、
前記第２の流路に介挿される第２の切替バルブとをさらに含み、
前記第１の切替バルブは、前記反応装置から前記第１のポートへの反応生成物の流入を可能にする第１の状態と、前記反応装置から前記第１のポートへの反応生成物の流入を阻止しかつ前記第１の流路を通しての前記第１のポートへの洗浄液の流入を可能にする第２の状態とに選択的に切り替え可能に構成され、
前記第２の切替バルブは、前記第２のポートから前記反応装置への反応生成物の流出を可能にする第３の状態と、前記第２のポートから前記反応装置への反応生成物の流出を阻止しかつ前記第２のポートから前記第２の流路を通しての洗浄液の排出を可能にする第４の状態とに選択的に切り替え可能に構成され、
前記制御部は、前記反応装置からの反応生成物の取得時に、前記第１の切替バルブを前記第２の状態に切り替えかつ前記第２の切替バルブを前記第４の状態に切り替え、前記洗浄処理時に、前記第１の切替バルブを前記第２の状態に切り替えかつ前記第２の切替バルブを前記第４の状態に切り替える、請求項４記載のモニタリング分析装置。

【請求項6】

前記反応装置と前記取得部との間に前記反応生成物の不純物を取り除くフィルタリング処理部を含む、請求項１～５のいずれか一項に記載のモニタリング分析装置。

【請求項7】

前記前処理は、分析精度の向上のために前記取得部により取得された前記反応生成物に対して前記分析部による分析前に行われるべき反応生成物処理を含み、
前記前処理部は、前記反応生成物処理を行う反応生成物処理部を含む、請求項１～６のいずれか一項に記載のモニタリング分析装置。

【請求項8】

前記反応生成物処理は、前記反応生成物に対して物理的な振動を与えることにより前記反応生成物の再溶解を促す再溶解処理を含む、請求項７記載のモニタリング分析装置。

【請求項9】

前記反応生成物処理は、前記反応生成物の反応の進行を抑制するためのクエンチング処理を含む、請求項７または８記載のモニタリング分析装置。

【請求項10】

前記反応生成物処理は、前記反応生成物を希釈する希釈処理をさらに含む、請求項７～９のいずれか一項に記載のモニタリング分析装置。

【請求項11】

前記反応生成物処理は、前記反応生成物を気体および液体に分離する気液分離処理を含む、請求項７～１０のいずれか一項に記載のモニタリング分析装置。

【請求項12】

前記反応生成物処理は、前記分析部において検量線を作成可能にするために前記反応生成物に対して標準試料を添加する添加処理を含む、請求項７～１１のいずれか一項に記載のモニタリング分析装置。

【請求項13】

反応装置により生成された反応生成物を順次取得するステップと、
前記取得された前記反応生成物を順次分析するステップと、
前記分析されるべき前記反応生成物の分析前の前処理を実行するステップとを含み、
前記前処理を実行するステップは、前記分析するステップにおいて第１の分析が行われている間に前記第１の分析の次に行われるべき第２の分析のための前記前処理を実行することを含む、モニタリング分析方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、モニタリング分析装置およびモニタリング分析方法に関する。

【背景技術】

【0002】

近年、石油業界および化学業界では、プロセス分析システム（Process Analytical Technology：PAT）が導入されている。プロセス分析システムにおいては、連続的に生産される反応生成物に対して分析および管理が行われる。プロセス分析システムによれば、製造途中の反応生成物に対して継続的な検査およびモニタリングが可能である。一方、製薬業界では、プロセス分析システムの導入が検討されている。特許文献１には、プロセス合成等の製造工程のモニタリングを行う場合に用いられるフローバイアルが記載される。特許文献１によれば、フローバイアルを用いることにより、分析対象の試料（反応生成物）をオンラインで分析装置に導入することが可能になる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特許第６７５３５３６号明細書

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

上記のプロセス分析システムにおいて、反応生成物に対して分析を行う場合、一の分析を開始する前に種々の前処理を行う必要がある。この場合、前処理のために多大な時間が費やされる。そのため、連続的に生成される反応生成物に対する分析の頻度が低下する。反応生成物の変化を細かくモニターするためには、一定時間内に行われる分析の頻度を向上させることが望まれる。

【0005】

本発明の目的は、連続的に生成される反応生成物に対する分析の頻度を向上させることが可能なモニタリング分析装置およびモニタリング分析方法を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明の一局面に従うモニタリング分析装置は、反応装置により生成された反応生成物を順次取得する取得部と、前記取得部により取得された前記反応生成物を順次分析する分析部と、前記分析部による前記反応生成物の分析前の前処理を実行する前処理部と、前記分析部による第１の分析が行われている間に前記第１の分析の次に行われるべき第２の分析のための前記前処理が実行されるように前記前処理部を制御する制御部とを備える。

【0007】

本発明の他の局面に従うモニタリング分析方法は、反応装置により生成された反応生成物を順次取得するステップと、前記取得された前記反応生成物を順次分析するステップと、前記分析されるべき前記反応生成物の分析前の前処理を実行するステップとを含み、前記前処理を実行するステップは、前記分析するステップにおいて第１の分析が行われている間に前記第１の分析の次に行われるべき第２の分析のための前記前処理を実行することを含む。

【発明の効果】

【0008】

本発明によれば、連続的に生成される反応生成物に対する分析頻度を向上させることが可能になる。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1】一実施の形態に係るモニタリング分析装置の構成を説明するための図である。

【図2】制御部の制御動作を時系列で図示したタイミングチャートである。

【図3】制御部の制御動作を示すフローチャートである。

【図4】制御部の制御動作を示すフローチャートである。

【図5】制御部の制御動作を示すフローチャートである。

【発明を実施するための形態】

【0010】

以下、本発明の一実施の形態に係るモニタリング分析装置およびモニタリング分析方法について図面を参照しながら詳細に説明する。

【0011】

（１）モニタリング分析装置の構成
図１は、一実施の形態に係るモニタリング分析装置の構成を説明するための図である。反応系２００は、複数の反応装置２１０を含む。複数の反応装置２１０においては、互いに異なる反応生成物が順次生成される。ここで、反応生成物は、最終生成物に限らず、中間生成物をも含む。また、反応生成物は、複数の材料の化合物、および複数の材料の混合物等を含む。例えば、反応生成物は、複数の薬剤の混合物である。

【0012】

モニタリング分析装置１００は、複数の反応装置２１０により生成される反応生成物を監視するために用いられる。モニタリング分析装置１００は、取得部１０、前処理部２０、分析部３０および制御部４０を含む。取得部１０は、例えばオートサンプラである。取得部１０は、吸引吐出系１１、複数のサンプル取得容器（以下、フローバイアルと呼ぶ。）１２、試料収容器１３および注入ポート１４を含む。吸引吐出系１１は、吸引吐出部１１ａ、サンプリングニードル１１ｂおよび駆動部１１ｃを含む。吸引吐出部１１ａは、吸引機構および吐出機構を含み、サンプリングニードル１１ｂ内への液体の吸引およびサンプリングニードル１１ｂ外への液体の吐出を可能に構成される。駆動部１１ｃは、サンプリングニードル１１ｂを複数のフローバイアル１２、試料収容器１３、注入ポート１４および後述する前処理部２０の間で移動させるように構成される。前処理部２０は、反応生成物処理部２０ａ、洗浄液供給部２０ｂ、廃液槽２０ｃ、第１の切替バルブＶ１および第２の切替バルブＶ２を含む。

【0013】

複数のフローバイアル１２は、複数の反応装置２１０に対応して設けられる。図１の例では、単一の反応装置２１０および単一のフローバイアル１２が示される。フローバイアル１２には、内部流路ＩＣ、第１のポート（液入口）ＲＩおよび第２のポート（液出口）ＲＯが設けられる。第１のポートＲＩおよび第２のポートＲＯには、第１の流路ＦＰ１の一端および第２の流路ＦＰ２の一端がそれぞれ接続される。第１の流路ＦＰ１の他端および第２の流路ＦＰ２の他端には、反応装置２１０が接続される。

【0014】

本実施の形態において、第１および第２の流路ＦＰ１，ＦＰ２には、前処理部２０の第１および第２の切替バルブＶ１，Ｖ２がそれぞれ介挿される。第１の切替バルブＶ１は、２つの液入口および１つの液出口を有する。第２の切替バルブＶ２は、１つの液入口および２つの液出口を有する。

【0015】

第１の流路ＦＰ１は、流路部分ｆｐ１１，ｆｐ１２を含む。流路部分ｆｐ１１は、フローバイアル１２の第１のポートＲＩと第１の切替バルブＶ１のとの間に接続される。流路部分ｆｐ１１は、反応装置２１０と第１の切替バルブＶ１の１つの液入口との間に接続される。流路部分ｆｐ１２は、第１の切替バルブＶ１の液出口とフローバイアル１２の第１のポートＲＩとの間に接続される。第２の流路ＦＰ２は、流路部分ｆｐ２１，ｆｐ２２を含む。流路部分ｆｐ２１は、フローバイアル１２の第２のポートＲＯと第２の切替バルブＶ２の液入口とのの間に接続される。流路部分ｆｐ２２は、第２の切替バルブＶ２の１つの液出口と反応装置２１０との間に接続される。

【0016】

本実施の形態においては、流路部分ｆｐ１２において、フローバイアル１２の第１のポートＲＩと第１の切替バルブＶ１のとの間にフィルタリング処理部１５が介挿される。フィルタリング処理部１５は、反応生成物中の夾雑物等を取り除くフィルタリング処理を行う。

【0017】

洗浄液供給部２０ｂと第１の切替バルブＶ１の他の液入口との間に、第３の流路ＦＰ３が接続される。洗浄液としては、フローバイアル１２の内部流路ＩＣならびに第１および第２の流路ＦＰ１，ＦＰ２を洗浄可能な純水等の液体が用いられる。第２の切替バルブＶ２の他の液出口と廃液槽２０ｃとの間に第４の流路ＦＰ４が接続される。

【0018】

第１の切替バルブＶ１は、第１の状態および第２の状態に切り替え可能に構成される。第１の状態では、流路部分ｆｐ１１と流路部分ｆｐ１２とが接続される。第２の状態では、第３の流路ＦＰ３と流路部分ｆｐ１２とが接続される。また、第２の切替バルブＶ２は、第３の状態および第４の状態に切り替え可能に構成される。第３の状態では、流路部分ｆｐ２１と流路部分ｆｐ２２とが接続される。第２の状態では、流路部分ｆｐ２１と第４の流路ＦＰ４とが接続される。

【0019】

第１の切替バルブＶ１が第１の状態でかつ第２の切替バルブＶ２が第３の状態である場合、反応装置２１０により順次生成された反応生成物が第１の流路ＦＰ１、フローバイアル１２の第１のポートＲＩ、内部流路ＩＣ、第２のポートＲＯおよび第２の流路ＦＰ２をこの順に通過した後に反応装置２１０に導かれる。それにより、反応装置２１０で順次生成された反応生成物が反応装置２１０内に継続的に供給される。

【0020】

一方、第１の切替バルブＶ１が第２の状態でかつ第２の切替バルブＶ２が第４の状態である場合、洗浄液供給部２０ｂにより供給された洗浄液が第３の流路ＦＰ３、第１の流路ＦＰ１の流路部分ｆｐ１２、フローバイアル１２の第１のポートＲＩ、内部流路ＩＣ、第２のポートＲＯおよび第２の流路ＦＰ２の流路部分ｆｐ２１および第４の流路ＦＰ４をこの順に通過した後に廃液槽２０ｃに導かれる。それにより、第１の流路ＦＰ１、フローバイアル１２および第２の流路ＦＰ２が洗浄される。以下、この処理を洗浄処理と呼ぶ。

【0021】

本実施の形態では、第１および第２の切替バルブＶ１，Ｖ２が洗浄部を構成する。前処理部２０の洗浄部は、分析部３０による分析前に行われるべき前処理として第１の流路ＦＰ１、第２の流路ＦＰ２およびフローバイアル１２を洗浄する。

【0022】

本実施の形態では、前処理部２０の反応生成物処理部２０ａは、再溶解装置、希釈装置、クエンチング装置および添加装置等の反応生成物に対する前処理を実行する装置を含む。反応装置２１０から取得した反応生成物は溶媒から析出していたり、濃度が高すぎたりする等、そのままの状態では分析できない場合があるため、反応生成物ごとの前処理が必要になる。

【0023】

再溶解装置は、超音波等の物理的な振動を反応生成物に与えることにより、反応生成物を再溶解させる再溶解処理を行う。希釈装置は、反応生成物を希釈する希釈処理を行う。クエンチング装置は、反応生成物の反応の進行を抑制するクエンチング処理を行う。その他、気液分離装置は、反応生成物を気体および液体に分離する気液分離処理を行う。添加装置は、分析部３０において検量線を作成するための内部標準試料を添加する添加処理を行う。以下、再溶解処理、希釈処理、クエンチング処理、気液分離処理および添加処理を反応生成物処理と総称する。また、上述した洗浄処理および反応生成物処理を含む動作を前処理動作と呼ぶ。

【0024】

反応生成物処理部２０ａは、分析精度の向上のために反応生成物に対して一または複数の反応生成物処理を行う。反応生成物処理部２０ａにより反応生成物処理が行われた反応生成物を試料と呼ぶ。本実施の形態においては、反応生成物処理部２０ａにおいて、上記の反応生成物処理のすべてが行われる。

【0025】

なお、反応生成物処理部２０ａの反応生成物処理においては、反応装置２１０により生成される反応生成物の種類に応じて適宜選択されてもよい。また、反応装置２１０により生成される反応生成物に対して反応生成物処理を行う必要がない場合、前処理部２０による反応生成物処理が行われなくてもよい。

【0026】

試料収容器１３は、反応生成物処理部２０ａにより得られた試料を一時的に収容するために用いられる。注入ポート１４には、サンプリングニードル１１ｂにより分析部３０に供給するための試料が注入される。注入ポート１４に注入された試料は、分析部３０に供給される。

【0027】

分析部３０は、注入ポート１４から供給された試料を分析する。分析部３０は、例えば、液体クロマトグラフまたは超臨界流体クロマトグラフ等のクロマトグラフおよび質量分析装置を含む。本実施の形態において、分析部３０は、液体クロマトグラフである。

【0028】

制御部４０は、ＣＰＵ（中央演算処理装置）、ＲＡＭ（ランダムアクセスメモリ）、ＲＯＭ（リードオンリメモリ）、入出力Ｉ／Ｆ（インターフェイス）および記憶装置より構成される。ＲＯＭまたは記憶装置に制御プログラムが記憶される。ＣＰＵは、ＲＯＭまたは記憶装置に記憶された制御プログラムをＲＡＭ上で実行することにより吸引吐出系１１、前処理部２０および分析部３０を制御する。制御部４０には、図示しない表示部および操作部等が接続される。使用者が操作部を通して、反応装置２１０の反応生成物の分析を指令することにより、制御部４０の制御が開始される。本実施の形態においては、反応装置２１０の反応生成物に対してバッチ分析が行われる。本実施の形態においては、使用者により分析条件および分析回数等を含むバッチファイルが制御部４０に登録される。本実施の形態のバッチ分析においては、分析が予め定められた条件でｋ回連続的に行われる。ｋは、２以上の整数である。

【0029】

（２）制御部４０の制御動作
図２は、制御部４０の制御動作を時系列で図示したタイミングチャートである。図３～図５は、制御部４０の制御動作を示すフローチャートである。図２においては、時点ｔ０の時点で試料収容器１３（図１参照）に前処理後の試料が収容されているものとする。

【0030】

まず、制御部４０は、使用者により、反応装置２１０からの反応生成物の分析が指令されたか否かを判定する（図３のステップＳ１）。分析が指令されていない場合、分析が指令されるまで待機する。分析が指令された場合、制御部４０は、変数ｎに１を設定する（ステップＳ２）。この状態で、図２の時点ｔ０において、分析部３０は、ｎ回目の分析を開始する（ステップＳ３）。以下、時点ｔ０から後述する時点ｔ５までの期間を分析期間Ｔ１と呼ぶ。

【0031】

駆動部１１ｃは、サンプリングニードル１１ｂを試料収容器１３の上方の位置に移動させる。時点ｔ０において、吸引吐出部１１ａは、サンプリングニードル１１ｂにより試料収容器１３に収容される試料を吸引する（ステップＳ４）。次に、駆動部１１ｃは、サンプリングニードル１１ｂを注入ポート１４の上方の位置に移動させる。時点ｔ１において、吸引吐出部１１ａは、サンプリングニードル１１ｂにより試料を注入ポート１４に注入することにより、分析部３０に試料を供給する（ステップＳ５）。

【0032】

また、時点ｔ１において、制御部４０は、第１の切替バルブＶ１を第１の状態から第２の状態に切り替え、かつ第２の切替バルブＶ２を第３の状態から第４の状態に切り替えることにより、前処理部２０の洗浄部にフローバイアル１２ならびに第１および第２の流路ＦＰ１，ＦＰ２の洗浄を開始させる（ステップＳ６）。

【0033】

制御部４０は、時点ｔ１から予め定められた期間（以下、洗浄期間Ｔ２と呼ぶ。）が経過したか否かを判定する（ステップＳ７）。時点ｔ１から洗浄期間Ｔ２が経過していない場合、フローバイアル１２ならびに第１および第２の流路ＦＰ１，ＦＰ２の洗浄が継続される。時点ｔ１から洗浄期間Ｔ２が経過した場合、制御部４０は、第１の切替バルブＶ１を第２の状態から第１の状態に切り替え、かつ第２の切替バルブＶ２を第４の状態から第３の状態に切り替えることにより、時点ｔ２において、フローバイアル１２ならびに第１および第２の流路ＦＰ１，ＦＰ２の洗浄を終了させる（ステップＳ８）。

【0034】

このとき、フローバイアル１２内に反応装置２１０から反応生成物が供給される。次に、駆動部１１ｃは、サンプリングニードル１１ｂをフローバイアル１２の上方の位置に移動させる。吸引吐出部１１ａは、フローバイアル１２内の反応生成物をサンプリングニードル１１ｂにより吸引する（ステップＳ９）。

【0035】

その後、駆動部１１ｃは、サンプリングニードル１１ｂを前処理部２０の反応生成物処理部２０ａに移動させる。吸引吐出部１１ａは、サンプリングニードル１１ｂから反応生成物処理部２０ａに反応生成物を供給する（ステップＳ１０）。

【0036】

時点ｔ２以降の時点ｔ３において、反応生成物処理部２０ａは、上述した反応生成物処理を開始する（ステップＳ１１）。反応生成物処理は、時点ｔ３から時点ｔ４の間で行われる。以下、反応生成物処理が行われる期間を反応生成物処理期間Ｔ３と呼ぶ。また、時点ｔ１～ｔ４の期間を前処理期間Ｔ４と呼ぶ。図２に示すように、前処理期間Ｔ４は、洗浄期間Ｔ２および反応生成物処理期間Ｔ３を含む。

【0037】

図５には、本実施の形態における前処理部２０の反応生成物処理部２０ａの反応生成物処理が示される。なお、図２のタイミングチャートおよび図５のフローチャートにおいては、反応生成物処理部２０ａの再溶解装置、希釈装置、クエンチング装置、気液分離装置および添加装置の間でのサンプリングニードル１１ｂの移動およびサンプリングニードル１１ｂによる反応生成物の吸引および吐出の動作が省略される。

【0038】

本実施の形態において、前処理部２０の反応生成物処理部２０ａにおいては、まず、クエンチング装置が反応生成物に対してクエンチング処理を行う（ステップＳ２１）。次に、再溶解装置が反応生成物に対して再溶解処理を開始する（ステップＳ２２）。希釈装置が反応生成物に対して希釈処理を行う（ステップＳ２３）。また、気液分離装置が反応生成物に対して気液分離処理を行う（ステップＳ２４）。次いで、添加装置が反応生成物に対して添加処理を行う（ステップＳ２５）。図２の時点ｔ４おいて、反応生成物処理が終了する。

【0039】

次に、吸引吐出部１１ａは、前処理部２０の反応生成物処理部２０ａからサンプリングニードル１１ｂにより反応生成物を試料として吸引する（図４のステップＳ１２）。その後、駆動部１１ｃは、サンプリングニードル１１ｂを試料収容器１３の上方位置に移動させる。吸引吐出部１１ａは、サンプリングニードル１１ｂにより吸引された試料を試料収容器１３に供給する（ステップＳ１３）。

【0040】

制御部４０は、分析部３０によるｎ回目の分析が終了したか否かを判定する（ステップＳ１４）。分析部３０によるｎ回目の分析が終了していない場合、制御部４０は、分析部３０によるｎ回目の分析が終了するまで待機する。分析部３０によるｎ回目の分析が終了（図２の時点ｔ５）した場合、制御部４０は、変数ｎの値に１を加算する（ステップＳ１５）。ここで、制御部４０は、変数ｎの値が分析回数ｋより大きいか否かを判定する（ステップＳ１６）。変数ｎの値が分析回数ｋ以下である場合、ステップＳ３に戻る。それにより、時点ｔ５以降の時点ｔ６において、ｎ＋１回目の分析が開始される。

【0041】

ステップＳ１６において変数ｎの値が分析回数ｋより大きい場合、制御部４０の動作が終了する。これにより、ｋ回の分析を行うバッチ分析が終了する。

【0042】

（３）実施の形態の効果
上記実施の形態のモニタリング分析装置１００によれば、一の分析における分析期間Ｔ１内で、次の分析のための前処理が実行される。この場合、一の分析についての分析動作に並行して次の分析のための前処理が実行される。それにより、分析部における一の分析の終了から次の分析の開始までの時間を短縮することが可能になる。その結果、連続的に生成される反応生成物に対する分析の頻度を向上させることが可能になる。

【0043】

また、前処理は、洗浄処理を含む。それにより、一の分析により分析されるべき反応生成物と次の分析により分析されるべき反応生成物とのコンタミネーションが防止される。

【0044】

また、本実施の形態では、第１および第２の切替バルブＶ１，Ｖ２の切り替えにより、フローバイアル１２への反応生成物の供給と洗浄処理とを簡単な構成および制御で切り替えることが可能になる。

【0045】

さらに、前処理は、反応生成物処理を含む。それにより、精度の高い分析結果を得ることが可能になるとともに、連続的に生成される反応生成物に対する分析の頻度を向上することが可能になる。

【0046】

また、モニタリング分析装置１００は、フィルタリング処理部１５を含むことにより、反応生成物の不純物が取り除くことができる。それにより、連続的に生成される反応生成物に対する分析の頻度を向上させつつ、より精度の高い分析結果を得ることが可能になる。

【0047】

また、反応生成物処理は、再溶解処理を含むことにより、反応生成物を溶解状態に保つことができるので、連続的に生成される反応生成物に対する分析の頻度を向上させつつ、より精度の高い分析結果を得ることが可能になる。

【0048】

また、反応生成物処理は、クエンチング処理を含むことにより、反応生成物の状態を安定させることができるので、連続的に生成される反応生成物に対する分析の頻度を向上させることが可能になる。

【0049】

さらに、反応生成物処理は、希釈処理を含むことにより、反応生成物の濃度を分析部による分析に適合させることができるので、連続的に生成される反応生成物に対する分析の頻度を向上させつつ、より精度の高い分析結果を得ることが可能になる。

【0050】

また、反応生成物処理は、気液分離処理を含むことにより、反応生成物中に混入する気体を除去することができるので、連続的に生成される反応生成物に対する分析の頻度を向上させつつ、より精度の高い分析結果を得ることが可能になる。

【0051】

また、反応生成物処理は、添加処理を含むことにより、反応生成物に標準試料を添加することができるので、連続的に生成される反応生成物に対する分析の頻度を向上させつつ、より精度の高い分析結果を得ることが可能になる。

【0052】

（４）他の実施の形態
上記実施の形態において、反応生成物処理部２０ａの反応生成物処理においては、クエンチング処理、再溶解処理、希釈処理、気液分離処理および添加処理がこの順に行われるが、本発明はこれに限定されない。反応生成物処理においては、反応生成物の種類に応じて適宜処理順序が変更されてもよい。

【0053】

（５）態様
上述した複数の例示的な実施の形態は、以下の態様の具体例であることが当業者により理解される。

【0054】

（第１項）一態様に係るモニタリング分析装置は、反応装置により生成された反応生成物を順次取得する取得部と、前記取得部により取得された前記反応生成物を順次分析する分析部と、前記分析部による前記反応生成物の分析前の前処理を実行する前処理部と、前記分析部による第１の分析が行われている間に前記第１の分析の次に行われるべき第２の分析のための前記前処理が実行されるように前記前処理部を制御する制御部とを備える。

【0055】

第１項に記載のモニタリング分析装置によれば、反応生成物の第１の分析に並行して第２の分析の前処理が実行される。それにより、分析部における一の分析の終了から次の分析の開始までの時間を短縮することが可能になる。その結果、連続的に生成される反応生成物に対する分析の頻度を向上させることが可能になる。

【0056】

（第２項）第１項に記載のモニタリング分析装置において、前記取得部は、内部流路を有するとともに前記内部流路にそれぞれ連通する第１および第２のポートを有するサンプル取得容器と、前記反応装置により生成された反応生成物を前記サンプル取得容器の前記第１のポートに導く第１の流路と、前記サンプル取得容器の前記第２のポートから前記サンプル収容器の外へ反応生成物を導く第２の流路とを含んでもよい。

【0057】

第２項に記載のモニタリング分析装置によれば、簡単な構成で反応生成物を取得することが可能になるとともに、順次取得される反応生成物のコンタミネーションを防止することが可能になる。

【0058】

（第３項）第２項に記載のモニタリング分析装置において、前記前処理は、前記取得部を洗浄する洗浄処理を含み、前記前処理部は、前記洗浄処理を行う洗浄部を含んでもよい。

【0059】

第３項に記載のモニタリング分析装置によれば、反応生成物の第１の分析に並行して取得部が洗浄される。それにより、第１の分析により分析されるべき反応生成物と第２の分析により分析されるべき反応生成物とのコンタミネーションを防止しつつ、連続的に生成される反応生成物に対する分析の頻度を向上させることが可能になる。

【0060】

（第４項）第３項に記載のモニタリング分析装置において、前記洗浄部は、前記第１の流路、前記第２の流路および前記サンプル取得容器の内部流路を洗浄するように構成され、前記洗浄部は、前記第１の流路、前記サンプル取得容器の内部流路および前記第２の流路に洗浄液を流すように構成されてもよい。

【0061】

第４項に記載のモニタリング分析装置によれば、簡単な動作で第１の流路、サンプル取得容器の内部流路および第２の流路を洗浄することが可能になるとともに、連続的に生成される反応生成物に対する分析の頻度を向上することが可能になる。

【0062】

（第５項）第４項に記載のモニタリング分析装置において、前記洗浄部は、前記第１の流路に介挿される第１の切替バルブと、前記第２の流路に介挿される第２の切替バルブとをさらに含み、前記第１の切替バルブは、前記反応装置から前記第１のポートへの反応生成物の流入を可能にする第１の状態と、前記反応装置から前記第１のポートへの反応生成物の流入を阻止しかつ前記第１の流路を通しての前記第１のポートへの洗浄液の流入を可能にする第２の状態とに選択的に切り替え可能に構成され、前記第２の切替バルブは、前記第２のポートから前記反応装置への反応生成物の流出を可能にする第３の状態と、前記第２のポートから前記反応装置への反応生成物の流出を阻止しかつ前記第２のポートから前記第２の流路を通しての洗浄液の排出を可能にする第４の状態とに選択的に切り替え可能に構成され、前記制御部は、前記反応装置からの反応生成物の取得時に、前記第１の切替バルブを前記第２の状態に切り替えかつ前記第２の切替バルブを前記第４の状態に切り替え、前記洗浄処理時に、前記第１の切替バルブを前記第２の状態に切り替えかつ前記第２の切替バルブを前記第４の状態に切り替えてもよい。

【0063】

第５項に記載のモニタリング分析装置によれば、第１の切替バルブが第１の状態でかつ第２の切替バルブが第３の状態である場合、反応装置から第１の流路を通してサンプル取得容器の内部流路に反応生成物が流入し、サンプル取得容器の内部流路の反応生成物が第２の流路を通して反応装置に流出する。また、第１の切替バルブが第２の状態でかつ第２の切替バルブが第４の状態である場合、第１の流路、サンプル取得容器の内部流路および第２の流路を通して洗浄液が流れる。この場合、第１および第２の切替バルブの切り替えにより、取得部による反応生成物の取得と取得部の洗浄とを簡単な構成および制御で切り替えることが可能になる。

【0064】

（第６項）第１項～第５項に記載のモニタリング分析装置において、前記反応装置と前記取得部との間に前記反応生成物の不純物を取り除くフィルタリング処理部を含んでもよい。

【0065】

第６項に記載のモニタリング分析装置によれば、前の分析と並行して次に分析されるべき反応生成物の不純物が取り除かれるので、連続的に生成される反応生成物に対する分析の頻度を向上させつつ、より精度の高い分析結果を得ることが可能になる。

【0066】

（第７項）第１項～第６項のいずれか一項に記載のモニタリング分析装置において、前記前処理は、分析精度の向上のために前記取得部により取得された前記反応生成物に対して前記分析部による分析前に行われるべき反応生成物処理を含み、前記前処理部は、前記反応生成物処理を行う反応生成物処理部を含んでもよい。

【0067】

第７項に記載のモニタリング分析装置によれば、反応生成物の第１の分析に並行して第２の分析の前に反応生成物に対して行われるべき反応生成物処理が行われる。それにより、精度の高い分析結果を得ることが可能になるとともに、連続的に生成される反応生成物に対する分析の頻度を向上することが可能になる。

【0068】

（第８項）第７項に記載のモニタリング分析装置において、前記反応生成物処理は、前記反応生成物に対して物理的な振動を与えることにより前記反応生成物の再溶解を促す再溶解処理を含んでもよい。

【0069】

第８項に記載のモニタリング分析装置によれば、前の分析と並行して次に分析されるべき反応生成物を溶解状態に保つことができるので、連続的に生成される反応生成物に対する分析の頻度を向上させつつ、より精度の高い分析結果を得ることが可能になる。

【0070】

（第９項）第７項または第８項に記載のモニタリング分析装置において、前記反応生成物処理は、前記反応生成物の反応の進行を抑制するためのクエンチング処理を含んでもよい。

【0071】

第９項に記載のモニタリング分析装置によれば、前の分析と並行して次に分析されるべき反応生成物の状態を安定させることができるので、連続的に生成される反応生成物に対する分析の頻度を向上させつつ、より精度の高い分析結果を得ることが可能になる。

【0072】

（第１０項）第７項～第９項のいずれか一項に記載のモニタリング分析装置において、前記反応生成物処理は、前記反応生成物を希釈する希釈処理をさらに含んでもよい。

【0073】

第１０項に記載のモニタリング分析装置によれば、前の分析と並行して次に分析されるべき反応生成物の濃度を分析部による分析に適合させることができるので、連続的に生成される反応生成物に対する分析の頻度を向上させつつ、反応生成物に対してより精度の高い分析結果を得ることが可能になる。

【0074】

（第１１項）第７項～第１０項のいずれか一項に記載のモニタリング分析装置において、前記反応生成物処理は、前記反応生成物を気体および液体に分離する気液分離処理を含んでもよい。

【0075】

第１１項に記載のモニタリング分析装置によれば、前の分析と並行して次に分析されるべき反応生成物中に混入する気体を除去することができるので、連続的に生成される反応生成物に対する分析の頻度を向上させつつ、精度の高い分析結果を得ることが可能になる。

【0076】

（第１２項）第７項～第１１項のいずれか一項に記載のモニタリング分析装置において、前記反応生成物処理は、前記分析部において検量線を作成可能にするために前記反応生成物に対して標準試料を添加する添加処理を含んでもよい。

【0077】

第１２項に記載のモニタリング分析装置によれば、前の分析と並行して次に分析されるべき反応生成物に標準試料を添加することができるので、連続的に生成される反応生成物に対する分析の頻度を向上させつつ、精度の高い分析結果を得ることが可能になる。

【0078】

（第１３項）他の態様に係るモニタリング分析方法は、反応装置により生成された反応生成物を順次取得するステップと、前記取得された前記反応生成物を順次分析するステップと、前記分析されるべき前記反応生成物の分析前の前処理を実行するステップとを含み、前記前処理を実行するステップは、前記分析するステップにおいて第１の分析が行われている間に前記第１の分析の次に行われるべき第２の分析のための前記前処理を実行することを含む。

【0079】

第１３項に記載のモニタリング分析方法によれば、反応生成物の第１の分析に並行して第２の分析の前処理が実行される。それにより、一の分析の終了から次の分析の開始までの時間を短縮することが可能になる。その結果、連続的に生成される反応生成物に対する分析の頻度を向上させることが可能になる。

【符号の説明】

【0080】

１０…取得部，１１…吸引吐出系，１１ａ…吸引吐出部，１１ｂ…サンプリングニードル，１１ｃ…駆動部，１２…フローバイアル，１３…試料収容器，１４…注入ポート，１５…フィルタリング処理部，２０…前処理部，２０ａ…反応生成物処理部，２０ｂ…洗浄液供給部，２０ｃ…廃液槽，３０…分析部，４０…制御部，１００…モニタリング分析装置，２００…反応系，２１０…反応装置，ＦＰ１…第１の流路，ＦＰ２…第２の流路，ＦＰ３…第３の流路，ＦＰ４…第４の流路，ＩＣ…内部流路，ＲＩ…第１のポート，ＲＯ…第２のポート，Ｖ１…第１の切替バルブ，Ｖ２…第２の切替バルブ，ｆｐ１１，ｆｐ１２，ｆｐ２１，ｆｐ２２…流路部分

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】