ホーム > 特許ランキング > ダイキン工業株式会社
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023154427
(43)【公開日】2023-10-19
(54)【発明の名称】組成物および架橋物
(51)【国際特許分類】
C08L 27/12 20060101AFI20231012BHJP
C08J 3/24 20060101ALI20231012BHJP
【ＦＩ】
C08L27/12
C08J3/24 Z CEW
C08J3/24 A
【審査請求】未請求
【請求項の数】10
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023118118
(22)【出願日】2023-07-20
(62)【分割の表示】P 2022063403の分割
【原出願日】2022-04-06
(71)【出願人】
【識別番号】000002853
【氏名又は名称】ダイキン工業株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110000486
【氏名又は名称】弁理士法人とこしえ特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】野原 明日香
(72)【発明者】
【氏名】小西 智久
(72)【発明者】
【氏名】太田 大助
【テーマコード（参考）】
4F070
4J002
【Ｆターム（参考）】
4F070AA24
4F070GA05
4F070GA10
4F070GB02
4J002BD15W
4J002BD15X
4J002BD16W
4J002BE04W
4J002DF016
4J002DF026
4J002DF036
4J002DG046
4J002DH046
4J002DJ006
4J002EK006
4J002EN006
4J002EN076
4J002EN106
4J002EP026
4J002ET016
4J002EU186
4J002EV236
4J002EZ016
4J002FD146
4J002GH00
4J002GJ02
4J002GM01
(57)【要約】
【課題】高温で圧縮されても割れにくく、優れた耐プラズマ性および優れた圧縮永久歪特性を有する架橋物を得ることができる組成物を提供すること。
【解決手段】パーフルオロエラストマーおよびポリテトラフルオロエチレンを含有する組成物であって、前記ポリテトラフルオロエチレンの溶融粘度が、１．０×１０３～７．０×１０６ポアズであり、前記ポリテトラフルオロエチレンの融点が、３２２℃以上であり、前記パーフルオロエラストマーと前記ポリテトラフルオロエチレンとを共凝析することにより得られる組成物を提供する。
【選択図】 なし
【解決手段】パーフルオロエラストマーおよびポリテトラフルオロエチレンを含有する組成物であって、前記ポリテトラフルオロエチレンの溶融粘度が、１．０×１０３～７．０×１０６ポアズであり、前記ポリテトラフルオロエチレンの融点が、３２２℃以上であり、前記パーフルオロエラストマーと前記ポリテトラフルオロエチレンとを共凝析することにより得られる組成物を提供する。
【選択図】 なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
パーフルオロエラストマーおよびポリテトラフルオロエチレンを含有する組成物であって、
前記ポリテトラフルオロエチレンの溶融粘度が、１．０×１０３～７．０×１０６ポアズであり、
前記ポリテトラフルオロエチレンの融点が、３２２℃以上であり、
前記パーフルオロエラストマーと前記ポリテトラフルオロエチレンとを共凝析することにより得られる組成物。
前記ポリテトラフルオロエチレンの溶融粘度が、１．０×１０３～７．０×１０６ポアズであり、
前記ポリテトラフルオロエチレンの融点が、３２２℃以上であり、
前記パーフルオロエラストマーと前記ポリテトラフルオロエチレンとを共凝析することにより得られる組成物。
【請求項2】
前記パーフルオロエラストマーが、シアノ基を有する請求項１に記載の組成物。
【請求項3】
前記ポリテトラフルオロエチレンが、任意で変性モノマー単位を含有し、前記変性モノマー単位の含有量が、全モノマー単位に対して、０～０．１０モル％である請求項１または２に記載の組成物。
【請求項4】
前記ポリテトラフルオロエチレンが、変性モノマー単位を含有し、前記変性モノマー単位の含有量が、全モノマー単位に対して、０．０２～０．１０モル％である請求項１または２に記載の組成物。
【請求項5】
前記変性モノマー単位が、ヘキサフルオロプロピレン単位およびパーフルオロビニルエーテル単位からなる群より選択される少なくとも１種である請求項４に記載の組成物。
【請求項6】
前記ポリテトラフルオロエチレンの平均一次粒径が、２００ｎｍ以上である請求項１または２に記載の組成物。
【請求項7】
前記ポリテトラフルオロエチレンの含有量が、前記パーフルオロエラストマー１００質量部に対して、１～１００質量部である請求項１または２に記載の組成物。
【請求項8】
前記パーフルオロエラストマーおよび前記ポリテトラフルオロエチレンを含有する水性分散液を調製し、酸を用いて、得られた水性分散液中の前記パーフルオロエラストマーおよび前記ポリテトラフルオロエチレンを共凝析させることにより得られる請求項１または２に記載の組成物。
【請求項9】
さらに、無機窒化物、有機スズ化合物、アンモニアを発生させる化合物および架橋剤からなる群より選択される少なくとも１種を含有する請求項１または２に記載の組成物。
【請求項10】
請求項１または２に記載の組成物を架橋することにより得られる架橋物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、組成物および架橋物に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、パーフルオロエラストマーの物性を改良するために、パーフルオロエラストマーにフッ素樹脂を添加する技術が知られている。
【0003】
たとえば、特許文献１には、５００ｎｍ未満の平均粒径を有するフルオロプラスチック粒子と、非晶質フルオロポリマーと、を含む、組成物が記載されている。
【0004】
特許文献２には、フッ素系弾性体の懸濁液と、フッ素系樹脂の懸濁液とを、前記フッ素系弾性体と前記フッ素系樹脂との質量混合比が９５：５～５：９５の範囲となるように混合してなる混合液に無機酸溶液を加えて共凝析して得られる封止材用フッ素系組成物が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】特表２０１８－５３１３１６号公報
【特許文献2】特開２００３－２６８１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本開示では、高温で圧縮されても割れにくく、優れた耐プラズマ性および優れた圧縮永久歪特性を有する架橋物を得ることができる組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本開示の第の観点によれば、パーフルオロエラストマーおよびポリテトラフルオロエチレンを含有する組成物であって、前記ポリテトラフルオロエチレンの溶融粘度が、１．０×１０３～７．０×１０６ポアズであり、前記ポリテトラフルオロエチレンの融点が、３２２℃以上であり、前記パーフルオロエラストマーと前記ポリテトラフルオロエチレンとを共凝析することにより得られる組成物が提供される。
【発明の効果】
【0008】
本開示によれば、高温で圧縮されても割れにくく、優れた耐プラズマ性および優れた圧縮永久歪特性を有する架橋物を得ることができる組成物を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【0009】
以下、本開示の具体的な実施形態について詳細に説明するが、本開示は、以下の実施形態に限定されるものではない。
【0010】
本開示の組成物は、パーフルオロエラストマーおよびポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）を含有する。
【0011】
パーフルオロエラストマーにフルオロプラスチックやフッ素系樹脂を添加する従来の技術は、パーフルオロエラストマーに無機粒子などのフィラーを添加する技術に比べて、パーティクルが発生しにくいなどの利点がある。しかしながら、優れた耐プラズマ性を有する架橋物であって、高温で圧縮された状態が継続した場合でも割れにくく、圧縮から開放された後においては、形状が復元しやすい架橋物を得ることができるパーフルオロエラストマー組成物が求められる。
【0012】
本発明者らは、フッ素樹脂としてＰＴＦＥを選択し、さらには、ＰＴＦＥの溶融粘度および融点を適切に選択するとともに、組成物を調製する方法として、パーフルオロエラストマーとＰＴＦＥとを共凝析させる方法を選択することによって、そのような組成物を架橋することにより得られる架橋物が、高温で圧縮されても割れにくく、優れた耐プラズマ性および優れた圧縮永久歪特性を有することを見出し、本開示の組成物を完成するに至った。
【0013】
（ＰＴＦＥ）
本開示の組成物が含有するＰＴＦＥの溶融粘度は、１．０×１０３～７．０×１０６ポアズである。溶融粘度は、好ましくは１．０×１０４ポアズ以上であり、より好ましくは１．０×１０５ポアズ以上であり、好ましくは５．０×１０６ポアズ以下であり、より好ましくは３．０×１０６ポアズ以下であり、さらに好ましくは１．０×１０６ポアズ以下である。
本開示の組成物が含有するＰＴＦＥの溶融粘度は、１．０×１０３～７．０×１０６ポアズである。溶融粘度は、好ましくは１．０×１０４ポアズ以上であり、より好ましくは１．０×１０５ポアズ以上であり、好ましくは５．０×１０６ポアズ以下であり、より好ましくは３．０×１０６ポアズ以下であり、さらに好ましくは１．０×１０６ポアズ以下である。
【0014】
溶融粘度が上記範囲内のＰＴＦＥを用いることにより、組成物を架橋した場合に、優れた耐プラズマ性および優れた圧縮永久歪特性を有する架橋物を得ることができる。ＰＴＦＥの溶融粘度が高すぎると、架橋物の圧縮永久歪特性が十分に向上せず、たとえば、架橋物を３００℃程度の高温で長時間圧縮した場合に、圧縮により架橋物が圧壊する問題が生じたり、架橋物の形状が復元しにくい問題が生じたりする。溶融粘度が低すぎるＰＴＦＥは、高温揮発成分を発生させるおそれがあるため、高温（たとえば３００℃程度）で使用される架橋物には好適に用いることができない場合がある。
【0015】
上記の範囲内の溶融粘度を有するＰＴＦＥは、分子量が低く、たとえば、数平均分子量が６０万以下のＰＴＦＥである。数平均分子量が６０万を超える「高分子量ＰＴＦＥ」は、ＰＴＦＥ特有のフィブリル化特性が発現する（たとえば、特開平１０－１４７６１７号公報参照）。高分子量ＰＴＦＥは、溶融粘度が高く、非溶融加工性である。本開示の組成物が含有するＰＴＦＥは、ペースト押出成形が可能な程度のフィブリル化特性を示さないことが好ましい。ＰＴＦＥの溶融粘度および数平均分子量は、ＰＴＦＥを製造する際のＴＦＥの重合条件を調製したり、ＰＴＦＥに電子線を照射したりすることにより、調整することができる。
【0016】
溶融粘度は、ＡＳＴＭ Ｄ １２３８に準拠し、フローテスター（島津製作所社製）および２φ－８Ｌのダイを用い、予め３８０℃で５分間加熱しておいた２ｇの試料を０．７ＭＰａの荷重にて上記温度に保って測定する値である。上記数平均分子量は、上記測定方法により測定した溶融粘度から、それぞれ算出することができる。
【0017】
本開示の組成物が含有するＰＴＦＥの融点は、３２２℃以上である。融点は、好ましくは３２３℃以上であり、より好ましくは３２４℃以上であり、さらに好ましくは３２５℃以上であり、好ましくは３３３℃以下であり、より好ましくは３３２℃以下であり、さらに好ましくは３３０℃以下である。
【0018】
ＰＴＦＥの融点が低すぎると、架橋物の圧縮永久歪特性が十分に向上せず、たとえば、架橋物を３００℃程度の高温で長時間圧縮した場合に、ＰＴＦＥが溶融してしまうため架橋物の形状が復元しにくい問題が生じる。
【0019】
ＰＴＦＥの融点は、日立ハイテクサイエンス社製の示差走査熱量計Ｘ－ＤＳＣ７０００（ＤＳＣ）を用い、事前に標準サンプルとして、インジウム、鉛を用いて温度校正した上で、３００℃以上の温度に加熱した履歴がないＰＴＦＥ約３ｍｇをアルミ製パンに入れ、４０ｍｌ／分の窒素気流下で、２３０～３５０℃の温度領域を１０℃／分で昇温させて示差走査熱量測定を行い、上記領域における融解曲線の最小点に対応する温度を融点として測定できる。
【0020】
ＰＴＦＥの比表面積は、好ましくは０．５～２０ｍ２／ｇである。比表面積は、表面分析計（商品名：ＢＥＬＳＯＲＰ－ｍｉｎｉＩＩ、マイクロトラック・ベル社製）を用い、キャリアガスとして窒素３０％、ヘリウム７０％の混合ガスを用い、冷却に液体窒素を用いて、ＢＥＴ法により測定する。
【0021】
ＰＴＦＥの平均一次粒径は、好ましくは１０ｎｍ～１０００μｍであり、より好ましくは１００ｎｍ以上であり、さらに好ましくは２００ｎｍ以上であり、より好ましくは１００μｍ以下であり、さらに好ましくは１０μｍ以下であり、特に好ましくは１μｍ以下であり、特に好ましくは５００ｎｍ以下である。
【0022】
平均一次粒径は、固形分０．１５質量％に調整されたＰＴＦＥ水性分散液が注入された所定のセルに５５０ｎｍの光を入射したときの透過率と、透過型電子顕微鏡写真により定方向径を測定して算出した数平均一次粒径との相関関係を求めた後に、得られた試料について測定した透過率を上記の相関関係にあてはめることにより求めた（検量線法）。
【0023】
ＰＴＦＥは、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）の単独重合体であってもよいし、ＴＦＥ単位とＴＦＥと共重合可能な変性モノマー単位とを含む変性ＰＴＦＥであってもよい。ＰＴＦＥとしては、架橋物の圧縮永久歪特性が一層向上することから、ＴＦＥ単位とＴＦＥと共重合可能な変性モノマー単位とを含むＰＴＦＥが好ましい。
【0024】
ＰＴＦＥの変性モノマー単位の含有量は、全モノマー単位に対して、０～０．１０モル％であり、より好ましくは０．０２モル％以上であり、さらに好ましくは０．０５モル％以上であり、より好ましくは０．０９モル％以下である。
【0025】
本開示において、変性モノマー単位とは、ＰＴＦＥの分子構造の一部分であって変性モノマーに由来する部分を意味し、全モノマー単位とは、ＰＴＦＥの分子構造における全てのモノマーに由来する部分を意味する。変性モノマー単位の含有量は、赤外分光分析またはＮＭＲ（核磁気共鳴）を行うことにより測定する値である。
【0026】
変性ＰＴＦＥにおける変性モノマーとしては、ＴＦＥとの共重合が可能なものであれば特に限定されず、たとえば、ヘキサフルオロプロピレン〔ＨＦＰ〕などのパーフルオロオレフィン；クロロトリフルオロエチレン〔ＣＴＦＥ〕などのクロロフルオロオレフィン；トリフルオロエチレン、フッ化ビニリデン〔ＶＤＦ〕などの水素含有フルオロオレフィン；パーフルオロビニルエーテル；パーフルオロアルキルエチレン：エチレンなどが挙げられる。また、用いる変性モノマーは１種であってもよいし、複数種であってもよい。
【0027】
上記パーフルオロビニルエーテルとしては特に限定されず、たとえば、一般式（Ｉ）：
ＣＦ２＝ＣＦ－ＯＲｆ （Ｉ）
（式中、Ｒｆは、パーフルオロ有機基を表す。）で表されるパーフルオロ不飽和化合物などが挙げられる。本明細書において、上記「パーフルオロ有機基」とは、炭素原子に結合する水素原子が全てフッ素原子に置換されてなる有機基を意味する。上記パーフルオロ有機基は、エーテル酸素を有していてもよい。
ＣＦ２＝ＣＦ－ＯＲｆ （Ｉ）
（式中、Ｒｆは、パーフルオロ有機基を表す。）で表されるパーフルオロ不飽和化合物などが挙げられる。本明細書において、上記「パーフルオロ有機基」とは、炭素原子に結合する水素原子が全てフッ素原子に置換されてなる有機基を意味する。上記パーフルオロ有機基は、エーテル酸素を有していてもよい。
【0028】
上記パーフルオロビニルエーテルとしては、たとえば、一般式（Ｉ）において、Ｒｆが炭素数１～１０のパーフルオロアルキル基を表すものであるパーフルオロ（アルキルビニルエーテル）〔ＰＡＶＥ〕が挙げられる。上記パーフルオロアルキル基の炭素数は、好ましくは１～５である。
【0029】
上記ＰＡＶＥにおけるパーフルオロアルキル基としては、たとえば、パーフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基などが挙げられるが、パーフルオロアルキル基がパーフルオロメチル基であるパープルオロメチルビニルエーテル〔ＰＭＶＥ〕、または、パーフルオロアルキル基がパーフルオロプロピル基であるパープルオロプロピルビニルエーテル〔ＰＰＶＥ〕が好ましい。
【0030】
上記パーフルオロビニルエーテルとしては、更に、一般式（Ｉ）において、Ｒｆが炭素数４～９のパーフルオロ（アルコキシアルキル）基であるもの、Ｒｆが下記式：
【0031】
【化1】
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２－（Ｏ－ＣＦ（ＣＦ３）－ＣＦ２）ｎ－
（式中、ｎは、１～４の整数を表す。）で表される基であるものなどが挙げられる。
【0032】
パーフルオロアルキルエチレンとしては特に限定されず、たとえば、パーフルオロブチルエチレン（ＰＦＢＥ）、パーフルオロヘキシルエチレン、パーフルオロオクチルエチレンなどが挙げられる。
【0033】
変性ＰＴＦＥにおける変性モノマーとしては、ＨＦＰ、ＣＴＦＥ、ＶＤＦ、パーフルオロビニルエーテル、ＰＦＢＥおよびエチレンからなる群より選択される少なくとも１種の単量体が好ましく、ＨＦＰおよびパーフルオロビニルエーテルからなる群より選択される少なくとも１種がより好ましく、ＨＦＰ、ＰＭＶＥおよびＰＰＶＥからなる群より選択される少なくとも１種がより好ましい。
【0034】
組成物中のＰＴＦＥの含有量は、一層優れた耐プラズマ性および一層優れた圧縮永久歪特性を有する架橋物を得ることができることから、パーフルオロエラストマー１００質量部に対して、好ましくは１～１００質量部であり、より好ましくは５質量部以上であり、さらに好ましくは１０質量部以上であり、特に好ましくは１５質量部以上であり、より好ましくは７０質量部以下であり、さらに好ましくは６０質量部以下である。組成物中のＰＴＦＥの含有量は、さらに一層優れた圧縮永久歪特性を有する架橋物を得ることができることから、尚さらに好ましくは５５質量部以下であり、特に好ましくは５０質量部以下である。
【0035】
（パーフルオロエラストマー）
本開示の組成物は、パーフルオロエラストマーを含有する。本開示の組成物は、フッ素ゴムとしてパーフルオロエラストマーを含有することから、組成物を架橋した場合に、優れた耐プラズマ性および優れた圧縮永久歪特性を有する架橋物を得ることができる。
本開示の組成物は、パーフルオロエラストマーを含有する。本開示の組成物は、フッ素ゴムとしてパーフルオロエラストマーを含有することから、組成物を架橋した場合に、優れた耐プラズマ性および優れた圧縮永久歪特性を有する架橋物を得ることができる。
【0036】
本開示において、パーフルオロエラストマーとは、全モノマー単位に対するパーフルオロモノマー単位の含有量が９０モル％以上、好ましくは９１モル％以上のフルオロポリマーであって、２０℃以下のガラス転移温度を有し、４．５Ｊ／ｇ以下の融解ピーク（ΔＨ）の大きさを有するフルオロポリマーであり、さらに、フルオロポリマーに含まれるフッ素原子の濃度が７１質量％以上、好ましくは７１．５質量％以上であるポリマーである。本開示において、フルオロポリマーに含まれるフッ素原子の濃度は、フルオロポリマーを構成する各モノマーの種類と含有量より、フルオロポリマーに含まれるフッ素原子の濃度（質量％）を計算により求めるものである。
【0037】
本開示において、パーフルオロモノマーとは、分子中に炭素原子－水素原子結合を含まないモノマーである。上記パーフルオロモノマーは、炭素原子およびフッ素原子の他、炭素原子に結合しているフッ素原子のいくつかが塩素原子で置換されたモノマーであってもよく、炭素原子の他、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、燐原子、硼素原子または珪素原子を有するものであってもよい。上記パーフルオロモノマーとしては、全ての水素原子がフッ素原子に置換されたモノマーであることが好ましい。上記パーフルオロモノマーには、架橋部位を与えるモノマーは含まれない。
【0038】
架橋部位を与えるモノマーとは、硬化剤により架橋を形成するための架橋部位をフルオロポリマーに与える架橋性基を有するモノマー（キュアサイトモノマー）である。
【0039】
本開示において、パーフルオロエラストマーを構成する各モノマーの含有量は、ＮＭＲ、ＦＴ－ＩＲ、元素分析、蛍光Ｘ線分析、その他公知の方法をモノマーの種類によって適宜組み合わせることで算出できる。
【0040】
パーフルオロエラストマーを構成するパーフルオロモノマー単位を与えるパーフルオロモノマーとしては、
テトラフルオロエチレン〔ＴＦＥ〕、
ヘキサフルオロプロピレン〔ＨＦＰ〕、
一般式（１３）：ＣＦ２＝ＣＦ－ＯＲｆ１３
（式中、Ｒｆ１３は、炭素数１～８のパーフルオロアルキル基を表す。）で表されるフルオロモノマー、
一般式（１４）：ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＯＲｆ１４
（式中、Ｒｆ１４は炭素数１～６の直鎖状または分岐鎖状パーフルオロアルキル基、炭素数５～６の環式パーフルオロアルキル基、１～３個の酸素原子を含む炭素数２～６の直鎖状または分岐鎖状パーフルオロオキシアルキル基である）で表されるフルオロモノマー、および、
一般式（１５）：ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２ＣＦ（Ｙ１５）Ｏ）ｍ（ＣＦ２）ｎＦ
（式中、Ｙ１５はフッ素原子またはトリフルオロメチル基を表す。ｍは１～４の整数である。ｎは１～４の整数である。）で表されるフルオロモノマー
からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。
テトラフルオロエチレン〔ＴＦＥ〕、
ヘキサフルオロプロピレン〔ＨＦＰ〕、
一般式（１３）：ＣＦ２＝ＣＦ－ＯＲｆ１３
（式中、Ｒｆ１３は、炭素数１～８のパーフルオロアルキル基を表す。）で表されるフルオロモノマー、
一般式（１４）：ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＯＲｆ１４
（式中、Ｒｆ１４は炭素数１～６の直鎖状または分岐鎖状パーフルオロアルキル基、炭素数５～６の環式パーフルオロアルキル基、１～３個の酸素原子を含む炭素数２～６の直鎖状または分岐鎖状パーフルオロオキシアルキル基である）で表されるフルオロモノマー、および、
一般式（１５）：ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２ＣＦ（Ｙ１５）Ｏ）ｍ（ＣＦ２）ｎＦ
（式中、Ｙ１５はフッ素原子またはトリフルオロメチル基を表す。ｍは１～４の整数である。ｎは１～４の整数である。）で表されるフルオロモノマー
からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。
【0041】
パーフルオロエラストマーとしては、ＴＦＥ単位を含むパーフルオロエラストマー、たとえばＴＦＥ／一般式（１３）、（１４）または（１５）で表されるフルオロモノマー共重合体、および、ＴＦＥ／一般式（１３）、（１４）または（１５）で表されるフルオロモノマー／架橋部位を与えるモノマー共重合体からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。
【0042】
その組成は、ＴＦＥ／パーフルオロ（メチルビニルエーテル）（ＰＭＶＥ）共重合体の場合、好ましくは、４５～９０／１０～５５（モル％）であり、より好ましくは５５～８０／２０～４５であり、さらに好ましくは５５～７０／３０～４５、最も好ましくは５６～６９．５／３０．５～４４である。
【0043】
ＴＦＥ／ＰＭＶＥ／架橋部位を与えるモノマー共重合体の場合、好ましくは４５～８９．９／１０～５４．９／０．０１～４（モル％）であり、より好ましくは５５～７７．９／２０～４９．９／０．１～３．５であり、さらに好ましくは５５～６９．８／３０～４４．８／０．２～３、最も好ましくは５５．３～６９．５／３０．３～４４．５／０．２～２．８である。
【0044】
ＴＦＥ／炭素数が４～１２の一般式（１３）、（１４）または（１５）で表されるフルオロモノマー共重合体の場合、好ましくは５０～９０／１０～５０（モル％）であり、より好ましくは６０～８８／１２～４０であり、さらに好ましくは６５～８５／１５～３５、最も好ましくは６６～８４／１６～３４である。
【0045】
ＴＦＥ／炭素数が４～１２の一般式（１３）、（１４）または（１５）で表されるフルオロモノマー／架橋部位を与えるモノマー共重合体の場合、好ましくは５０～８９．９／１０～４９．９／０．０１～４（モル％）であり、より好ましくは６０～８７．９／１２～３９．９／０．１～３．５であり、さらに好ましくは６５～８４．８／１５～３４．８／０．２～３、最も好ましくは６６～８４．３／１５．５～３３．８／０．２～２．８である。
これらの組成の範囲を外れると、ゴム弾性体としての性質が失われ、樹脂に近い性質となる傾向がある。
これらの組成の範囲を外れると、ゴム弾性体としての性質が失われ、樹脂に近い性質となる傾向がある。
【0046】
パーフルオロエラストマーとしては、ＴＦＥ／一般式（１５）で表されるフルオロモノマー／架橋部位を与えるモノマー共重合体、ＴＦＥ／一般式（１５）で表されるフルオロモノマー共重合体、ＴＦＥ／一般式（１３）で表されるフルオロモノマー共重合体、および、ＴＦＥ／一般式（１３）で表されるフルオロモノマー／架橋部位を与えるモノマー共重合体からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
【0047】
上記パーフルオロエラストマーとしては、国際公開第９７／２４３８１号、特公昭６１－５７３２４号公報、特公平４－８１６０８号公報、特公平５－１３９６１号公報等に記載されているパーフルオロエラストマーも挙げることができる。
【0048】
架橋部位を与えるモノマーとは、架橋剤により架橋を形成するための架橋部位をパーフルオロエラストマーに与える架橋性基を有するモノマー（キュアサイトモノマー）である。
【0049】
架橋部位を与えるモノマーとしては、
一般式（１６）：ＣＸ４ ２＝ＣＸ５Ｒｆ ２Ｘ６
（式中、Ｘ４、Ｘ５は、それぞれ独立に、Ｈ、Ｆまたは炭素数１～５のアルキル基であり、Ｒｆ ２は１個以上のエーテル結合性酸素原子を有していてもよく、芳香環を有していてもよい、水素原子の一部または全部がフッ素原子で置換されていてもよい直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基またはオキシアルキレン基であり、Ｘ６はヨウ素原子、臭素原子、ニトリル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、水酸基、ビニル基、アジド基、スルホニルアジド基、カルボニルアジド基またはアルキン基である）で表されるモノマーが挙げられる。アルキン基は、エチニル基であってよい。
一般式（１６）：ＣＸ４ ２＝ＣＸ５Ｒｆ ２Ｘ６
（式中、Ｘ４、Ｘ５は、それぞれ独立に、Ｈ、Ｆまたは炭素数１～５のアルキル基であり、Ｒｆ ２は１個以上のエーテル結合性酸素原子を有していてもよく、芳香環を有していてもよい、水素原子の一部または全部がフッ素原子で置換されていてもよい直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基またはオキシアルキレン基であり、Ｘ６はヨウ素原子、臭素原子、ニトリル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、水酸基、ビニル基、アジド基、スルホニルアジド基、カルボニルアジド基またはアルキン基である）で表されるモノマーが挙げられる。アルキン基は、エチニル基であってよい。
【0050】
架橋部位を与えるモノマーとしては、なかでも、
一般式（１７）：ＣＸ１６ ２＝ＣＸ１６－Ｒｆ１６ＣＨＲ１６Ｘ１７
（式中、Ｘ１６は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子またはＣＨ３、Ｒｆ１６は、フルオロアルキレン基、パーフルオロアルキレン基、フルオロ（ポリ）オキシアルキレン基またはパーフルオロ（ポリ）オキシアルキレン基、Ｒ１６は、水素原子またはＣＨ３、Ｘ１７は、ヨウ素原子または臭素原子である）で表されるフルオロモノマー、
一般式（１８）：ＣＸ１６ ２＝ＣＸ１６－Ｒｆ１７Ｘ１７
（式中、Ｘ１６は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子またはＣＨ３、Ｒｆ１７は、フルオロアルキレン基、パーフルオロアルキレン基、フルオロ（ポリ）オキシアルキレン基またはパーフルオロ（ポリ）オキシアルキレン基、Ｘ１７は、ヨウ素原子または臭素原子である）で表されるフルオロモノマー、
一般式（１９）：ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｍ（ＣＦ２）ｎ－Ｘ１８
（式中、ｍは０～５の整数、ｎは１～３の整数、Ｘ１８は、シアノ基、アジド基、スルホニルアジド基、カルボニルアジド基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキン基、ヨウ素原子、臭素原子、または、－ＣＨ２Ｉである）で表されるフルオロモノマー、
一般式（２０）：ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２Ｏ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｍ（ＣＦ（ＣＦ３））ｎ－Ｘ１９
（式中、ｍは０～５の整数、ｎは１～３の整数、Ｘ１９は、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ヨウ素原子、臭素原子、または－ＣＨ２ＯＨである）で表されるフルオロモノマー、および、
一般式（２１）：ＣＲ２０ ２＝ＣＲ２０－Ｚ－ＣＲ２０＝ＣＲ２０ ２
（式中、Ｒ２０は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～５のアルキル基である。Ｚは、直鎖または分岐状で酸素原子を有していてもよい、炭素数１～１８のアルキレン基、炭素数３～１８のシクロアルキレン基、少なくとも部分的にフッ素化している炭素数１～１０のアルキレン基もしくはオキシアルキレン基、または、
－（Ｑ）ｐ－ＣＦ２Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ（ＣＦ２Ｏ）ｎ－ＣＦ２－（Ｑ）ｐ－
（式中、Ｑはアルキレン基またはオキシアルキレン基である。ｐは０または１である。ｍ／ｎが０．２～５である。）で表され、分子量が５００～１００００である（パー）フルオロポリオキシアルキレン基である。）で表されるモノマーからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
一般式（１７）：ＣＸ１６ ２＝ＣＸ１６－Ｒｆ１６ＣＨＲ１６Ｘ１７
（式中、Ｘ１６は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子またはＣＨ３、Ｒｆ１６は、フルオロアルキレン基、パーフルオロアルキレン基、フルオロ（ポリ）オキシアルキレン基またはパーフルオロ（ポリ）オキシアルキレン基、Ｒ１６は、水素原子またはＣＨ３、Ｘ１７は、ヨウ素原子または臭素原子である）で表されるフルオロモノマー、
一般式（１８）：ＣＸ１６ ２＝ＣＸ１６－Ｒｆ１７Ｘ１７
（式中、Ｘ１６は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子またはＣＨ３、Ｒｆ１７は、フルオロアルキレン基、パーフルオロアルキレン基、フルオロ（ポリ）オキシアルキレン基またはパーフルオロ（ポリ）オキシアルキレン基、Ｘ１７は、ヨウ素原子または臭素原子である）で表されるフルオロモノマー、
一般式（１９）：ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｍ（ＣＦ２）ｎ－Ｘ１８
（式中、ｍは０～５の整数、ｎは１～３の整数、Ｘ１８は、シアノ基、アジド基、スルホニルアジド基、カルボニルアジド基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキン基、ヨウ素原子、臭素原子、または、－ＣＨ２Ｉである）で表されるフルオロモノマー、
一般式（２０）：ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２Ｏ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｍ（ＣＦ（ＣＦ３））ｎ－Ｘ１９
（式中、ｍは０～５の整数、ｎは１～３の整数、Ｘ１９は、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ヨウ素原子、臭素原子、または－ＣＨ２ＯＨである）で表されるフルオロモノマー、および、
一般式（２１）：ＣＲ２０ ２＝ＣＲ２０－Ｚ－ＣＲ２０＝ＣＲ２０ ２
（式中、Ｒ２０は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～５のアルキル基である。Ｚは、直鎖または分岐状で酸素原子を有していてもよい、炭素数１～１８のアルキレン基、炭素数３～１８のシクロアルキレン基、少なくとも部分的にフッ素化している炭素数１～１０のアルキレン基もしくはオキシアルキレン基、または、
－（Ｑ）ｐ－ＣＦ２Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ（ＣＦ２Ｏ）ｎ－ＣＦ２－（Ｑ）ｐ－
（式中、Ｑはアルキレン基またはオキシアルキレン基である。ｐは０または１である。ｍ／ｎが０．２～５である。）で表され、分子量が５００～１００００である（パー）フルオロポリオキシアルキレン基である。）で表されるモノマーからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
【0051】
Ｘ１６は、フッ素原子であることが好ましい。Ｒｆ１６およびＲｆ１７は炭素数が１～５のパーフルオロアルキレン基であることが好ましい。Ｒ１６は、水素原子であることが好ましい。Ｘ１８は、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヨウ素原子、臭素原子、または、－ＣＨ２Ｉであることが好ましい。Ｘ１９は、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヨウ素原子、臭素原子、または－ＣＨ２ＯＨであることが好ましい。
【0052】
架橋部位を与えるモノマーとしては、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＮ、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＯＯＨ、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｉ、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｉ、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＮ、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＯＨ、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＨ２ＯＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣＦ２ＣＦ２Ｉ、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）２ＣＨ＝ＣＨ２、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）６ＣＨ＝ＣＨ２、ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）３ＣＮおよび、ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）５ＣＮからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましく、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＮ、ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）５ＣＮおよびＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｉからなる群より選択される少なくとも１種であることがより好ましい。
【0053】
パーフルオロエラストマーは、高温における圧縮永久歪み特性に優れる点から、ガラス転移温度が－３０℃以上であることが好ましく、－２０℃以上であることがより好ましく、－１０℃以上であることがさらに好ましい。また、耐寒性が良好である点から、１０℃以下であることが好ましく、５℃以下であることがより好ましく、０℃以下であることがさらに好ましい。
【0054】
上記ガラス転移温度は、示差走査熱量計（日立ハイテクサイエンス社製、Ｘ－ＤＳＣ７０００）を用い、試料３ｍｇを１０℃／ｍｉｎで昇温することによりＤＳＣ曲線を得て、ＤＳＣ曲線の二次転移前後のベースラインの延長線と、ＤＳＣ曲線の変曲点における接線との２つの交点の中点を示す温度として求めることができる。
【0055】
パーフルオロエラストマーは、耐熱性が良好な点で、１７０℃におけるムーニー粘度ＭＬ（１＋２０）が３０以上であることが好ましく、４０以上であることがより好ましく、５０以上であることがさらに好ましい。また、加工性が良好な点で、１００以下であることが好ましく、９０以下であることがより好ましく、８０以下であることがさらに好ましい。
【0056】
上記ムーニー粘度は、ＡＬＰＨＡ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＩＥＳ社製 ムーニー粘度計ＭＶ２０００Ｅ型を用いて、１７０℃において、ＪＩＳ Ｋ６３００に従い測定することができる。
【0057】
パーフルオロエラストマーは、常法により製造することができるが、得られる重合体の分子量分布が狭く、分子量の制御が容易である点、末端にヨウ素原子または臭素原子を導入することができる点から、連鎖移動剤としてヨウ素化合物または臭素化合物を使用することもできる。ヨウ素化合物または臭素化合物を使用して行う重合方法としては、たとえば、実質的に無酸素状態で、ヨウ素化合物または臭素化合物の存在下に、加圧しながら水媒体中で乳化重合を行う方法が挙げられる（ヨウ素移動重合法）。使用するヨウ素化合物または臭素化合物の代表例としては、たとえば、一般式：
Ｒ２１ＩｘＢｒｙ
（式中、ｘおよびｙはそれぞれ０～２の整数であり、かつ１≦ｘ＋ｙ≦２を満たすものであり、Ｒ２１は炭素数１～１６の飽和もしくは不飽和のフルオロ炭化水素基またはクロロフルオロ炭化水素基、または炭素数１～３の炭化水素基であり、酸素原子を含んでいてもよい）で表される化合物が挙げられる。ヨウ素化合物または臭素化合物を使用することによって、ヨウ素原子または臭素原子が重合体に導入され、架橋点として機能する。
Ｒ２１ＩｘＢｒｙ
（式中、ｘおよびｙはそれぞれ０～２の整数であり、かつ１≦ｘ＋ｙ≦２を満たすものであり、Ｒ２１は炭素数１～１６の飽和もしくは不飽和のフルオロ炭化水素基またはクロロフルオロ炭化水素基、または炭素数１～３の炭化水素基であり、酸素原子を含んでいてもよい）で表される化合物が挙げられる。ヨウ素化合物または臭素化合物を使用することによって、ヨウ素原子または臭素原子が重合体に導入され、架橋点として機能する。
【0058】
ヨウ素化合物および臭素化合物としては、たとえば１，３－ジヨードパーフルオロプロパン、２－ヨードパーフルオロプロパン、１，３－ジヨード－２－クロロパーフルオロプロパン、１，４－ジヨードパーフルオロブタン、１，５－ジヨード－２，４－ジクロロパーフルオロペンタン、１，６－ジヨードパーフルオロヘキサン、１，８－ジヨードパーフルオロオクタン、１，１２－ジヨードパーフルオロドデカン、１，１６－ジヨードパーフルオロヘキサデカン、ジヨードメタン、１，２－ジヨードエタン、１，３－ジヨード－ｎ－プロパン、ＣＦ２Ｂｒ２、ＢｒＣＦ２ＣＦ２Ｂｒ、ＣＦ３ＣＦＢｒＣＦ２Ｂｒ、ＣＦＣｌＢｒ２、ＢｒＣＦ２ＣＦＣｌＢｒ、ＣＦＢｒＣｌＣＦＣｌＢｒ、ＢｒＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｂｒ、ＢｒＣＦ２ＣＦＢｒＯＣＦ３、１－ブロモ－２－ヨードパーフルオロエタン、１－ブロモ－３－ヨードパーフルオロプロパン、１－ブロモ－４－ヨードパーフルオロブタン、２－ブロモ－３－ヨードパーフルオロブタン、３－ブロモ－４－ヨードパーフルオロブテン－１、２－ブロモ－４－ヨードパーフルオロブテン－１、ベンゼンのモノヨードモノブロモ置換体、ジヨードモノブロモ置換体、ならびに（２－ヨードエチル）および（２－ブロモエチル）置換体等が挙げられ、これらの化合物は、単独で使用してもよく、相互に組み合わせて使用することもできる。
【0059】
これらのなかでも、重合反応性、架橋反応性、入手容易性等の点から、１，４－ジヨードパーフルオロブタン、１，６－ジヨードパーフルオロヘキサン、２－ヨードパーフルオロプロパンを用いるのが好ましい。
【0060】
パーフルオロエラストマーは、シアノ基（－ＣＮ基）を有することが好ましい。シアノ基（－ＣＮ基）を有するパーフルオロエラストマーは、シアノ基が環化三量化によりトリアジン環を形成して架橋したり、テトラミン化合物を架橋剤としてイミダゾール環を形成して架橋することができるものであり、架橋物にすぐれた圧縮永久歪み特性および耐熱性を付与できる。
【0061】
上記シアノ基を有するパーフルオロエラストマーは、主鎖末端および／または側鎖にシアノ基（－ＣＮ基）を有することが好ましい。
【0062】
主鎖末端および／または側鎖にシアノ基（－ＣＮ基）を有するパーフルオロエラストマーとしては、上述した、ＴＦＥ／一般式（１３）、（１４）または（１５）で表されるフルオロモノマー／架橋部位を与えるモノマー共重合体のうち、架橋部位を与えるモノマーが、シアノ基（－ＣＮ基）を有するモノマーである共重合体が挙げられる。この場合、シアノ基（－ＣＮ基）を有するモノマー単位の含有量は、良好な架橋特性および耐熱性の観点から、ＴＦＥ単位と一般式（１３）、（１４）および（１５）で表されるフルオロモノマー単位との合計量に対して、０．１～５モル％であってよく、０．３～３モル％であってよい。さらに好適な組成は、上述したとおりである。
【0063】
また、シアノ基（－ＣＮ基）を有するモノマーとしては、たとえば、
式：ＣＹ１ ２＝ＣＹ１（ＣＦ２）ｎ－ＣＮ
（式中、Ｙ１は、それぞれ独立に、水素原子またはフッ素原子、ｎは１～８の整数である）
式：ＣＦ２＝ＣＦＣＦ２Ｒｆ８－ＣＮ
（式中、Ｒｆ８は－（ＯＣＦ２）ｎ－または－（ＯＣＦ（ＣＦ３））ｎ－であり、ｎは０～５の整数である）
式：ＣＦ２＝ＣＦＣＦ２（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｍ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２）ｎＯＣＨ２ＣＦ２－ＣＮ
（式中、ｍは０～５の整数、ｎは０～５の整数である）
式：ＣＦ２＝ＣＦＣＦ２（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｎＯＣＦ（ＣＦ３）－ＣＮ
（式中、ｍは０～５の整数、ｎは０～５の整数である）
式：ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｍＯ（ＣＦ２）ｎ－ＣＮ
（式中、ｍは０～５の整数、ｎは１～８の整数である）
式：ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｍ－ＣＮ
（式中、ｍは１～５の整数）
式：ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２（ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２）ｎＣＦ（－ＣＮ）ＣＦ３
（式中、ｎは１～４の整数）
式：ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）ｎＯＣＦ（ＣＦ３）－ＣＮ
（式中、ｎは２～５の整数）
式：ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）ｎ－（Ｃ６Ｈ４）－ＣＮ
（式中、ｎは１～６の整数）
式：ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｎＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）－ＣＮ
（式中、ｎは１～２の整数）
式：ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２Ｏ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｎＣＦ（ＣＦ３）－ＣＮ
（式中、ｎは０～５の整数）、
式：ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｍ（ＣＦ２）ｎ－ＣＮ
（式中、ｍは０～５の整数、ｎは１～３の整数である）
式：ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ（ＣＦ３）－ＣＮ
式：ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２－ＣＮ
式：ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｍＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）－ＣＮ
（式中、ｍは０以上の整数である）
式：ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２）ｎ－ＣＮ
（式中、ｎは１以上の整数）
式：ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２－ＣＮ
式：ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）３ＣＮ
式：ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）５ＣＮ
で表されるモノマーなどがあげられ、これらをそれぞれ単独で、または任意に組み合わせて用いることができる。
式：ＣＹ１ ２＝ＣＹ１（ＣＦ２）ｎ－ＣＮ
（式中、Ｙ１は、それぞれ独立に、水素原子またはフッ素原子、ｎは１～８の整数である）
式：ＣＦ２＝ＣＦＣＦ２Ｒｆ８－ＣＮ
（式中、Ｒｆ８は－（ＯＣＦ２）ｎ－または－（ＯＣＦ（ＣＦ３））ｎ－であり、ｎは０～５の整数である）
式：ＣＦ２＝ＣＦＣＦ２（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｍ（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２）ｎＯＣＨ２ＣＦ２－ＣＮ
（式中、ｍは０～５の整数、ｎは０～５の整数である）
式：ＣＦ２＝ＣＦＣＦ２（ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍ（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｎＯＣＦ（ＣＦ３）－ＣＮ
（式中、ｍは０～５の整数、ｎは０～５の整数である）
式：ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｍＯ（ＣＦ２）ｎ－ＣＮ
（式中、ｍは０～５の整数、ｎは１～８の整数である）
式：ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｍ－ＣＮ
（式中、ｍは１～５の整数）
式：ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２（ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２）ｎＣＦ（－ＣＮ）ＣＦ３
（式中、ｎは１～４の整数）
式：ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）ｎＯＣＦ（ＣＦ３）－ＣＮ
（式中、ｎは２～５の整数）
式：ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）ｎ－（Ｃ６Ｈ４）－ＣＮ
（式中、ｎは１～６の整数）
式：ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｎＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）－ＣＮ
（式中、ｎは１～２の整数）
式：ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２Ｏ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｎＣＦ（ＣＦ３）－ＣＮ
（式中、ｎは０～５の整数）、
式：ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｍ（ＣＦ２）ｎ－ＣＮ
（式中、ｍは０～５の整数、ｎは１～３の整数である）
式：ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ（ＣＦ３）－ＣＮ
式：ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ２－ＣＮ
式：ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｍＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）－ＣＮ
（式中、ｍは０以上の整数である）
式：ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２）ｎ－ＣＮ
（式中、ｎは１以上の整数）
式：ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２－ＣＮ
式：ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）３ＣＮ
式：ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）５ＣＮ
で表されるモノマーなどがあげられ、これらをそれぞれ単独で、または任意に組み合わせて用いることができる。
【0064】
上記の中でも、
式：ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｍＯ（ＣＦ２）ｎ－ＣＮ
（式中、ｍは０～５の整数、ｎは１～８の整数である）で表されるモノマーが好ましく、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＮがより好ましい。
式：ＣＦ２＝ＣＦ（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｍＯ（ＣＦ２）ｎ－ＣＮ
（式中、ｍは０～５の整数、ｎは１～８の整数である）で表されるモノマーが好ましく、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＮがより好ましい。
【0065】
これらのパーフルオロエラストマーは、常法により製造することができる。
【0066】
かかるパーフルオロエラストマーの具体例としては、国際公開第９７／２４３８１号、特公昭６１－５７３２４号公報、特公平４－８１６０８号公報、特公平５－１３９６１号公報などに記載されているフッ素ゴムなどがあげられる。
【0067】
（共凝析）
本開示の組成物は、パーフルオロエラストマーとＰＴＦＥとを共凝析することにより得られる。共凝析法を用いて組成物を調製することにより、組成物を架橋した場合に、優れた耐プラズマ性および優れた圧縮永久歪特性を有する架橋物を得ることができる。共凝析法以外の方法、たとえば、ドライブレンドにより組成物を調製し、得られた組成物を架橋した場合には、架橋物の耐プラズマ性および圧縮永久歪特性が十分に向上せず、たとえば、架橋物にＮＦ３プラズマを照射した場合に削れる問題が生じたり、架橋物を３００℃程度の高温で長時間圧縮した場合に、圧縮により架橋物が圧壊する問題が生じたり、圧縮から開放しても架橋物の形状が復元しにくい問題が生じたりする。
本開示の組成物は、パーフルオロエラストマーとＰＴＦＥとを共凝析することにより得られる。共凝析法を用いて組成物を調製することにより、組成物を架橋した場合に、優れた耐プラズマ性および優れた圧縮永久歪特性を有する架橋物を得ることができる。共凝析法以外の方法、たとえば、ドライブレンドにより組成物を調製し、得られた組成物を架橋した場合には、架橋物の耐プラズマ性および圧縮永久歪特性が十分に向上せず、たとえば、架橋物にＮＦ３プラズマを照射した場合に削れる問題が生じたり、架橋物を３００℃程度の高温で長時間圧縮した場合に、圧縮により架橋物が圧壊する問題が生じたり、圧縮から開放しても架橋物の形状が復元しにくい問題が生じたりする。
【0068】
共凝析をする際のパーフルオロエラストマーとＰＴＦＥの組み合わせは、それぞれの凝析性が近似しているか否か、重合体としての親和性があるか否かなどを考慮し、目的とする機能に合わせて選定される。
【0069】
パーフルオロエラストマーとＰＴＦＥとを共凝析する方法としては、パーフルオロエラストマーおよびＰＴＦＥを含有する水性分散液を調製し、得られた水性分散液中のパーフルオロエラストマーおよびＰＴＦＥを共凝析させる方法などが挙げられる。
【0070】
水性分散液を調製する方法としては、パーフルオロエラストマーを含有する水性分散液とＰＴＦＥを含有する水性分散液とを混合する方法、パーフルオロエラストマーの粉末と、ＰＴＦＥを含有する水性分散液とを混合する方法、ＰＴＦＥの粉末と、パーフルオロエラストマーを含有する水性分散液とを混合する方法、などが挙げられる。
【0071】
パーフルオロエラストマーを含有する水性分散液とＰＴＦＥを含有する水性分散液とを混合する際の各水性分散液の温度は、好ましくは１０℃以上であり、より好ましくは１５℃以上であり、さらに好ましくは２０℃以上であり、好ましくは６０℃以下であり、さらに好ましくは５０℃以下である。
【0072】
このようにして得られる水性分散液中のパーフルオロエラストマーおよびＰＴＦＥを共凝析させる方法としては、水性分散液と凝析剤とを混合する方法や凍結する方法が挙げられる。凝析剤としては、酸などの公知の凝析剤が使用でき、たとえば、アルミニウム塩、カルシウム塩、又はマグネシウム塩、有機系凝析剤として酢酸アンモニウム、炭酸アンモニウムなど、無機酸凝析剤として塩酸、硝酸、フッ酸、硫酸、トリフルオロ酢酸などがあげられる。中でも凝析剤として無機酸凝析剤を用いることにより、金属含有量が少なくクリーンであり、凝析時にパーフルオロエラストマーが有するシアノ基などの架橋部位を損壊させることがなく、組成物を架橋した場合に高い架橋密度を有する架橋物が得られ、得られた架橋物は優れた耐プラズマ性および優れた圧縮永久歪特性を示すことになる。
【0073】
水性分散液と凝析剤とを混合する際の温度は、好ましくは１０℃以上であり、より好ましくは１５℃以上であり、さらに好ましくは２０℃以上であり、好ましくは６０℃以下であり、さらに好ましくは５０℃以下である。水性分散液と凝析剤とを混合する際の温度は、混合することにより得られる混合物の温度であってよい。水性分散液と凝析剤を含有する水溶液とを混合する場合は、水性分散液および水溶液の温度を調整することにより、水性分散液と凝析剤とを混合する際の温度を調整できる。
【0074】
共凝析することにより得られた組成物を水で洗浄し、組成物内に存在する少量の緩衝液や塩等の不純物を除去した後、洗浄した組成物を熱風炉や真空乾燥機などで乾燥させてもよい。乾燥温度は、好ましくは４０℃以上であり、より好ましくは５０℃以上であり、さらに好ましくは６０℃以上であり、好ましくは２００℃以下であり、より好ましくは１５０℃以下であり、さらに好ましくは１００℃以下である。
【0075】
共凝析後に得られる組成物の形態は、特に限定されないが、ガム（ｇｕｍ）、クラム（ｃｒｕｍｂ）、粉末、ペレットなどであってよく、ガムまたはクラムであることが好ましい。ガム（ｇｕｍ）は、組成物からなる粒状の小さな塊であり、クラム（ｃｒｕｍｂ）とは、組成物中のパーフルオロエラストマーが、室温でガムとして小粒状の形を保つことができず互いに融着した結果、不定形な塊状の形態となったものである。
【0076】
＜その他の成分＞
本開示の組成物は、パーフルオロエラストマーおよびＰＴＦＥ以外のその他の成分を含有することができる。その他の成分を含有する組成物は、パーフルオロエラストマーとＰＴＦＥとを共凝析させる際に、その他の成分を添加することにより調製してもよいし、パーフルオロエラストマーとＰＴＦＥとを共凝析させた後、共凝析組成物とその他の成分とを混合することにより調製してもよい。混合は、通常のポリマー用加工機械、たとえば、オープンロール、バンバリーミキサー、ニーダー、密閉式混合機などを用いて行うことができる。
本開示の組成物は、パーフルオロエラストマーおよびＰＴＦＥ以外のその他の成分を含有することができる。その他の成分を含有する組成物は、パーフルオロエラストマーとＰＴＦＥとを共凝析させる際に、その他の成分を添加することにより調製してもよいし、パーフルオロエラストマーとＰＴＦＥとを共凝析させた後、共凝析組成物とその他の成分とを混合することにより調製してもよい。混合は、通常のポリマー用加工機械、たとえば、オープンロール、バンバリーミキサー、ニーダー、密閉式混合機などを用いて行うことができる。
【0077】
その他の成分としては、たとえば、フィラーが挙げられる。
【0078】
フィラーとしては、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミドなどのイミド構造を有するイミド系フィラー、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリオキシベンゾエートなどのエンジニアリングプラスチック製の有機フィラー、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化イットリウムなどの金属酸化物フィラー、炭化ケイ素、炭化アルミニウムなどの金属炭化物、窒化ケイ素、窒化アルミニウムなどの金属窒化物フィラー、カーボンブラック、フッ化アルミニウム、フッ化カーボンなどの無機フィラーがあげられる。
【0079】
これらの中でも、各種プラズマの遮蔽効果の点から、カーボンブラック、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化イットリウム、炭化ケイ素、窒化ケイ素、ポリイミド、フッ化カーボンが好ましい。
【0080】
また、上記無機フィラー、有機フィラーを単独で、または２種以上を組み合わせて配合してもよい。
【0081】
とくに高純度かつ非汚染性が要求されない分野では、必要に応じて組成物に配合される通常の添加物、たとえば、加工助剤、可塑剤、着色剤などを配合することができ、前記のものとは異なる常用の架橋剤や架橋助剤を１種またはそれ以上配合してもよい。
【0082】
上記組成物は、有機塩基性化合物を含有してもよい。有機塩基性化合物としては、式：ＣＨ３（ＣＨ２）１７－ＮＨ２のオクダデシルアミン；
式：Ｈ２Ｎ－Ｃ（Ｏ）－（ＣＨ２）１１－ＣＨ＝ＣＨ－（ＣＨ２）７ＣＨ３のエルカアミド；
式：Ｈ２Ｎ－Ｃ（Ｏ）－（ＣＨ２）７－ＣＨ＝ＣＨ－（ＣＨ２）７ＣＨ３のオレアミド；
式：Ｈ２Ｎ－（ＣＨ２）６－ＮＨ２のヘキサメチレンジアミン
式：
の１，８－ジアザビシクロウンデカ－７－エン（ＤＢＵ）等を挙げることができる。
式：Ｈ２Ｎ－Ｃ（Ｏ）－（ＣＨ２）１１－ＣＨ＝ＣＨ－（ＣＨ２）７ＣＨ３のエルカアミド；
式：Ｈ２Ｎ－Ｃ（Ｏ）－（ＣＨ２）７－ＣＨ＝ＣＨ－（ＣＨ２）７ＣＨ３のオレアミド；
式：Ｈ２Ｎ－（ＣＨ２）６－ＮＨ２のヘキサメチレンジアミン
式：
【化2】
【0083】
（架橋剤など）
本開示の組成物は、さらに、無機窒化物、有機スズ化合物、アンモニアを発生させる化合物および架橋剤からなる群より選択される少なくとも１種を含有してもよい。本開示の組成物が架橋剤などのこれらの成分を含有することにより、本開示の組成物から、架橋物を容易に得ることができる。
本開示の組成物は、さらに、無機窒化物、有機スズ化合物、アンモニアを発生させる化合物および架橋剤からなる群より選択される少なくとも１種を含有してもよい。本開示の組成物が架橋剤などのこれらの成分を含有することにより、本開示の組成物から、架橋物を容易に得ることができる。
【0084】
無機窒化物としては、特に限定されるものではないが、窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）、窒化リチウム、窒化チタン、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、窒化バナジウム、窒化ジルコニウムなどがあげられる。これらの中でも、ナノサイズの微粒子が供給可能であることから、窒化ケイ素であることが好ましい。
【0085】
有機スズ化合物としては、テトラフェニルスズ、トリフェニルスズなどがあげられる。
【0086】
アンモニアを発生させる化合物としては、４０～３３０℃でアンモニアを発生させる化合物が好ましい。
【0087】
アンモニア発生化合物としては、尿素またはその誘導体、アンモニウム塩が好ましく、尿素またはアンモニウム塩がより好ましく、尿素がさらに好ましい。アンモニウム塩としては有機アンモニウム塩でも無機アンモニウム塩でもよい。また、アンモニア発生化合物としては、微量の水と反応して、アンモニアを発生させるものであってもよい。
【0088】
尿素の誘導体としては、ビウレア、チオウレア、尿素塩酸塩、ビウレットなどがあげられる。
【0089】
有機アンモニウム塩としては、安息香酸アンモニウム、アジピン酸アンモニウム、フタル酸アンモニウムなどの非フッ素系のカルボン酸またはスルホン酸のアンモニウム塩が挙げられる。
【0090】
無機アンモニウム塩としては、特開平９－１１１０８１号公報に記載された化合物、たとえば硫酸アンモニウム、炭酸アンモニウム、硝酸アンモニウム、リン酸アンモニウムなどが挙げられる。
【0091】
また、アンモニア発生化合物としては、アセトアルデヒドアンモニア、ヘキサメチレンテトラミン、ホルムアミジン、ホルムアミジン塩酸塩、ホルムアミジン酢酸塩、ｔ－ブチルカルバメート、ベンジルカルバメート、フタルアミドなども挙げられる。
【0092】
上記架橋剤としては、パーオキサイド架橋、ポリオール架橋、ポリアミン架橋、トリアジン架橋、オキサゾール架橋、イミダゾール架橋、および、チアゾール架橋において用いる架橋剤が挙げられる。パーフルオロエラストマーがシアノ基（－ＣＮ基）を有する場合、架橋剤としては、オキサゾール架橋剤、イミダゾール架橋剤およびチアゾール架橋剤からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
【0093】
パーオキサイド架橋において用いる架橋剤は、熱や酸化還元系の存在下で容易にパーオキシラジカルを発生し得る有機過酸化物であればよく、具体的には、たとえば１，１－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）－３，５，５－トリメチルシクロヘキサン、２，５－ジメチルヘキサン－２，５－ジヒドロパーオキサイド、ジ－ｔ－ブチルパーオキサイド（パーブチルＤ）、ｔ－ブチルクミルパーオキサイド（パーブチルＣ）、ジクミルパーオキサイド（パークミルＤ、パークミルＤ－４０、パークミルＤ－４０ＭＢ（Ｔ））、α，α－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）－ｐ－ジイソプロピルベンゼン、２，５－ジメチル－２，５－ジ（ｔ－ブチルパーオキシ）ヘキサン（パーヘキサ２５Ｂ、パーヘキサ２５Ｂ－４０）、２，５－ジメチル－２，５－ジ（ｔ－ブチルパーオキシ）－ヘキシン－３（パーヘキシン２５Ｂ、パーヘキシン２５Ｂ－４０）、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ－ブチルパーオキシベンゼン、２，５－ジメチル－２，５－ジ（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン（パーヘキサ２５Ｚ）、ｔ－ブチルパーオキシマレイン酸（ｔ－ブチルＭＡ）、ｔ－ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート（パーブチルＩ－７５）、メチルエチルケトンパーオキサイド（パーメックＤ（ＤＲ）、パーメックＨ（ＨＲ、ＨＹ）、パーメックＮ（ＮＲ、ＮＹ）、パーメックＳ（ＳＲ）、パーメックＦ（ＦＲ）、パーメックＧ（ＧＲ、ＧＹ））、シクロヘキサノンパーオキサイド（パーヘキサＨ）、アセチルアセトンパーオキサイド（パーキュアーＡＨ、ＡＬ）、１，１－ジ（ｔ－ヘキシルパーオキシ）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン（パーヘキサＴＭＨ）、１，１－ジ（ｔ－ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン（パーヘキサＨＣ）、１，１－ジ（ｔ－ブチルパーオキシ）－２－メチルシクロヘキサン（パーヘキサＭＣ）、１，１－ジ（ｔ－ブチルパーオキシ）シクロヘキサン（パーヘキサＣ－８０（Ｓ）、パーヘキサＣ－７５（ＥＢ）、パーヘキサＣ（Ｃ）、パーヘキサＣ－４０、パーヘキサＣ－４０ＭＢ（Ｓ））、２，２－ジ（ｔ－ブチルパーオキシ）ブタン（パーヘキサ２２）、４，４－ジ－（ｔ－ブチルパーオキシ）ペンタン酸ブチル（パーヘキサＶ、パーヘキサＶ－４０（Ｆ））、２，２－ジ（４，４－ジ－（ｔ－ブチルパーオキシ）シクロヘキシル）プロパン（パーテトラＡ）、ｐ－メンタンヒドロパーオキサイド（パーメンタＨ）、ジイソプロピルベンゼンヒドロパーオキサイド（パークミルＰ）、１，１，３，３－テトラメチルブチルヒドロパーオキサイド（パーオクタＨ）、クメンヒドロパーオキサイド（パークミルＨ－８０）、ｔ－ブチルヒドロパーオキサイド（パーブチルＨ－６９）、ジ（２－ｔ－ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン（パーブチルＰ、パーブチルＰ－４０、ペロキシモンＦ－４０、パーブチルＰ－４０ＭＢ（Ｋ））、ジ－ｔ－ヘキシルパーオキサイド（パーヘキシルＤ）、ジイソブチリルパーオキサイド（パーロイルＩＢ）、ジ（３，５，５－トリメチルヘキサノイル）パーオキサイド（パーロイル３５５（Ｓ））、ジラウロイルパーオキサイド（パーロイルＬ）、ジコハク酸パーオキサイド（パーロイルＳＡ）、ジ－（３－メチルベンゾイル）パーオキサイド、ベンゾイル（３－メチルベンゾイル）パーオキサイド、及び、ジベンゾイルパーオキサイドの混合物（ナイパーＢＭＴ－Ｋ４０、ナイパーＢＭＴ－Ｍ）、ジベンゾイルパーオキサイド（ナイパーＢＷ、ナイパーＢＯ、ナイパーＦＦ、ナイパーＢＳ、ナイパーＥ、ナイパーＮＳ）、ジ（４－メチルベンゾイル）パーオキサイド（ナイパーＰＭＢ）、ジ－ｎ－プロピルパーオキシジカーボネート（パーロイルＮＰＰ－５０Ｍ）、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート（パーロイルＩＰＰ－５０、パーロイルＩＰＰ－２７）、ジ（４－ｔ－ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート（パーロイルＴＣＰ）、ジ（２－エチルヘキシル）パーオキシジカーボネート（パーロイルＯＰＰ）、ジ－ｓｅｃ－ブチルパーオキシジカーボネート（パーロイルＳＢＰ）、クミルパーオキシネオデカノエート（パークミルＮＤ、パークミルＮＤ－５０Ｅ）、１，１，３，３－テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート（パーオクタＮＤ、パーオクタＮＤ－５０Ｅ）、ｔ－ヘキシルパーオキシネオデカノエート（パーヘキシルＮＤ、パーヘキシルＮＤ－５０Ｅ）、ｔ－ブチルパーオキシネオデカノエート（パーブチルＮＤ、パーブチルＮＤ－５０Ｅ）、ｔ－ブチルパーオキシネオヘプタノエート（パーブチルＮＨＰ）、ｔ－ヘキシルパーオキシピバレート（パーヘキシルＰＶ、パーヘキシルＰＶ－５０Ｅ）、ｔ－ブチルパーオキシピバレート（パーブチルＰＶ、パーブチルＰＶ－４０Ｅ）、１，１，３，３－テトラメチルブチルパーオキシ－２－エチルヘキサノエート（パーオクタＯ）、２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン（パーヘキサ２５Ｏ）、ｔ－ヘキシルパーオキシ－２－エチルヘキサノエート（パーヘキシルＯ、パーキュアーＨＯ（Ｎ））、ｔ－ブチルパーオキシ－２－エチルヘキサノエート（パーブチルＯ、パーキュアーＯ）、ｔ－ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート（パーヘキシルＩ）、ｔ－ブチルパーオキシ－３，５，５－トリメチルヘキサノエート（パーブチル３５５）、ｔ－ブチルパーオキシラウレート（パーブチルＬ）、ｔ－ブチルパーオキシ－２－エチルヘキシルモノカーボネート（パーブチルＥ）、ｔ－ヘキシルパーオキシベンゾエート（パーヘキシルＺ）、ｔ－ブチルパーオキシアセテート（パーブチルＡ）、ｔ－ブチルパーオキシ－３－メチルベンゾエート及びｔ－ブチルパーオキシベンゾエートの混合物（パーブチルＺＴ）、ｔ－ブチルパーオキシベンゾエート（パーブチルＺ）、ｔ－ブチルパーオキシアリルモノカーボネート（ペロマーＡＣ）、３，３’，４，４’－テトラ（ｔ－ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン（ＢＴＴＢ－２５）、２，３－ジメチル－２，３－ジフェニルブタン（ノフマーＢＣ－９０）などをあげることができる。なかでも、好ましいものは、ジアルキルタイプのものである。さらに、２，５－ジメチル－２，５－ジ（ｔ－ブチルパーオキシ）ヘキサンが特に好ましい。一般に活性－Ｏ－Ｏ－の量、分解温度などを考慮して有機過酸化物の種類並びに使用量が選ばれる。
【0094】
また、この場合に用いることのできる架橋助剤としては、パーオキシラジカルとポリマーラジカルに対して反応活性を有する化合物であればよく、たとえば－ＣＨ＝ＣＨ２、－ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、－ＣＦ＝ＣＦ２、－Ｃ（ＣＦ３）＝ＣＦ２、－Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＦ２、－ＣＦ＝ＣＦ（ＣＦ３）、－ＣＦ＝ＣＦ（ＣＨ３）、－Ｃ（Ｃ６Ｈ５）＝ＣＦ２、－ＣＦ＝ＣＦ（Ｃ６Ｈ５）、－ＣＨ＝ＣＦ２、－ＣＦ＝ＣＨＦ、－Ｃ（ＣＦ３）＝ＣＨＦ、－ＣＦ＝ＣＨ（ＣＦ３）、－ＣＨ＝ＣＦ（ＣＦ３）などの官能基を有する多官能性化合物があげられる（各式中の「Ｃ６Ｈ５」はフェニル基を表す）。具体的には、たとえばトリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート（ＴＡＩＣ）、トリアクリルホルマール、トリアリルトリメリテート、Ｎ，Ｎ’－ｎ－フェニレンビスマレイミド、ジプロパギルテレフタレート、ジアリルフタレート、テトラアリルテレフタレートアミド、トリアリルホスフェート、ビスマレイミド、フッ素化トリアリルイソシアヌレート（１，３，５－トリス（２，３，３－トリフルオロ－２－プロペニル）－１，３，５－トリアジン２，４，６－トリオン）、トリス（ジアリルアミン）－Ｓ－トリアジン、亜リン酸トリアリル、Ｎ，Ｎ－ジアリルアクリルアミド、１，６－ジビニルドデカフルオロヘキサンなどがあげられる。
【0095】
また、パーオキサイド架橋剤とともに用いる架橋助剤としては、一般式（３１）：
（式中、６つのＲ３１は、それぞれ独立に、Ｈ、ハロゲン原子、または、エーテル結合が挿入されていてもよい、任意選択的にハロゲン化された１～５の炭素原子を有する基であり、Ｚ３１は、ヘテロ原子を任意選択的に含有する、線状若しくは分岐状の炭素数１～１８の任意選択的にハロゲン化されたアルキレン基、シクロアルキレン基、または、（パー）フルオロポリオキシアルキレン基）で表される化合物を挙げることもできる。
【化3】
【0096】
一般式（３１）で表される化合物としては、一般式（３２）：
（式中、ｊは、２～１０の整数、好ましくは４～８の整数であり、４つのＲ３２は、それぞれ独立に、Ｈ、Ｆまたは炭素数１～５のアルキル基若しくは（パー）フルオロアルキル基である）で表される化合物、一般式（３３）：
（式中、Ｙ３１は、それぞれ独立して、Ｆ、ＣｌまたはＨであり、Ｙ３２は、それぞれ独立して、Ｆ、Ｃｌ、ＨまたはＯＲ３３（ここで、Ｒ３３は、部分的に、実質的にまたは完全にフッ化若しくは塩素化されていてもよい、分岐若しくは直鎖のアルキル基である）であり、Ｚ３３は、エーテル結合が挿入されていてもよい、任意選択的にフッ素化された、２～１０個の炭素原子を有する二価の基であり、好ましくはＺ３３は、ｍが３～５の整数である、－（ＣＦ２）ｍ－基であり、一般式（３３）で表される化合物は、好ましくはＦ２Ｃ＝ＣＦ－Ｏ－（ＣＦ２）５－Ｏ－ＣＦ＝ＣＦ２である）で表される化合物、一般式（３４）：
（式中、Ｙ３１、Ｙ３２およびＺ３３は、上記のとおりであり、Ｒ３４は、それぞれ独立に、Ｈ、Ｆまたは炭素数１～５のアルキル基若しくは（パー）フルオロアルキル基である）で表される化合物などを挙げることができる。
【化4】
【化5】
【化6】
【0097】
架橋剤、または、パーオキサイド架橋剤とともに用いる架橋助剤としては、一般式（３５）：
【化7】
【0098】
（式中、Ｒ３５～Ｒ３７は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、アルキル基、フッ素化アルキル基、または、置換もしくは非置換のアリール基であり、Ｒ３５～Ｒ３７の少なくとも１つは、フッ素原子またはフッ素原子を含む基である。ｍは１～５の整数である。ｍが２以上である場合、ｍ個のＲ３５～Ｒ３７は、それぞれ、同じであっても、異なっていてもよい。ベンゼン環の水素原子は、置換されていてもよい。）で表される構造を、少なくとも１つ有する化合物を挙げることもできる。ｍが１の場合は、該構造を２以上有することが好ましい。
【0099】
一般式（３６）で表される構造を有する化合物としては、一般式（３６）：
【化8】
【0100】
（式中、Ｒ３５～Ｒ３７は、上記のとおり。ｐは０～２の整数であり、ｎは２～６の整数である。）で表される化合物、一般式（３７）：
【化9】
【0101】
（式中、Ｒ３５～Ｒ３７は、上記のとおり。Ｒ３８は、単結合手、－ＳＯ２－、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、ヘテロ原子含有基、置換もしくは非置換のアルキレン基、置換もしくは非置換のシクロアルキレン基または置換もしくは非置換のアリーレン基である。ｍは１～５の整数である。これらの基は一部又は全部がフッ素化されていてもよい。）で表される化合物などを挙げることができる。
【0102】
ヘテロ原子含有基としては、ヘテロ原子を含有する２価の基であれば、特に限定されない。ヘテロ原子としては、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ホウ素原子、リン原子が例示できる。
【0103】
ポリオール架橋に用いる架橋剤としては、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡＦなどの多価アルコール化合物があげられる。
【0104】
ポリアミン架橋に用いる架橋剤としては、ヘキサメチレンジアミンカルバメート、Ｎ，Ｎ’－ジシンナミリデン－１，６－ヘキサンジアミン、４，４’－ビス（アミノシクロヘキシル）メタンカルバメートなどの多価アミン化合物があげられる。
【0105】
オキサゾール架橋、イミダゾール架橋、チアゾール架橋に使用する架橋剤としては、たとえば一般式（４１）：
【0106】
【化10】
【0107】
（式中、Ｒ４１は－ＳＯ２－、－Ｏ－、－ＣＯ－、炭素数１～６のアルキレン基、炭素数１～１０のパーフルオロアルキレン基または単結合手、または、
【0108】
【化11】
【0109】
で示される基であり、Ｒ４２およびＲ４３は一方が－ＮＨ２であり他方が－ＮＨＲ４４、－ＮＨ２、－ＯＨまたは－ＳＨであり、Ｒ４４は水素原子、フッ素原子または一価の有機基であり、好ましくはＲ４２が－ＮＨ２でありＲ４３が－ＮＨＲ４４である。炭素数１～６のアルキレン基の好ましい具体例としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基などをあげることができ、炭素数１～１０のパーフルオロアルキレン基としては、
【0110】
【化12】
【0111】
などがあげられる。なお、これらの化合物は、特公平２－５９１７７号公報、特開平８－１２０１４６号公報などで、ビスジアミノフェニル化合物の例示として知られているものである）で表されるビスジアミノフェニル系架橋剤、ビスアミノフェノール系架橋剤、ビスアミノチオフェノール系架橋剤、一般式（４２）：
【0112】
【化13】
【化14】
【0113】
で表されるビスアミドラゾン系架橋剤、一般式（４３）：
【0114】
【化15】
【0115】
（式中、Ｒｆ４１は炭素数１～１０のパーフルオロアルキレン基である）で表されるアミドラゾン系架橋剤、または一般式（４４）：
【0116】
【化16】
【0117】
（式中、ｎは１～１０の整数である）で表されるビスアミドオキシム系架橋剤、一般式（４５）：ＨＮ＝ＣＲ４５Ｒ４６
（式中、Ｒ４５は、Ｈ、ＮＨ２、およびＮＨＲ４７からなる群から選択され、Ｒ４６は、Ｐｈ、ＳＯ２Ｈ、ＮＲ４８Ｒ４９、２－ピリジン、およびＣＨ２ＣＯＮＨ２からなる群から選択され、Ｒ４７は、Ｐｈ、ＮＨ２、およびＣＮからなる群から選択され、Ｒ４８は、Ｈ、ＮＨＰｈ、ＣＨ２ＣＯＮＨ２、炭素数１～８の直鎖アルキル基、および炭素数１～８の分枝アルキル基からなる群から選択され、かつ、Ｒ４９は、Ｐｈ、ＣＯＯＣ（ＣＨ３）３、ＮＨ２、ＣＨ２ＣＯＯＨ、ＣＳＮＨ２、ＣＮＨＮＨ３ ＋Ｃｌ－、ｐ－フェニルＣＮ、
および、ＣＯＰｈからなる群から選択される）で表される化合物などがあげられる。これらのビスアミノフェノール系架橋剤、ビスアミノチオフェノール系架橋剤またはビスジアミノフェニル系架橋剤などは従来シアノ基を架橋点とする架橋系に使用していたものであるが、カルボキシル基およびアルコキシカルボニル基とも反応し、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環を形成し、架橋物を与える。
（式中、Ｒ４５は、Ｈ、ＮＨ２、およびＮＨＲ４７からなる群から選択され、Ｒ４６は、Ｐｈ、ＳＯ２Ｈ、ＮＲ４８Ｒ４９、２－ピリジン、およびＣＨ２ＣＯＮＨ２からなる群から選択され、Ｒ４７は、Ｐｈ、ＮＨ２、およびＣＮからなる群から選択され、Ｒ４８は、Ｈ、ＮＨＰｈ、ＣＨ２ＣＯＮＨ２、炭素数１～８の直鎖アルキル基、および炭素数１～８の分枝アルキル基からなる群から選択され、かつ、Ｒ４９は、Ｐｈ、ＣＯＯＣ（ＣＨ３）３、ＮＨ２、ＣＨ２ＣＯＯＨ、ＣＳＮＨ２、ＣＮＨＮＨ３ ＋Ｃｌ－、ｐ－フェニルＣＮ、
【化17】
【0118】
また、架橋剤としては、一般式（４６）：Ｘ４１－（ＣＨ２）ｎ－Ｒ５０－（ＣＨ２）ｍ－Ｘ４１（式中、Ｘ４１は、それぞれ独立に、アルキン基、ニトリル基またはＹ４１
ＰＮ３（Ｙ４１は、ＳＯ、ＳＯ２、Ｃ６Ｈ４またはＣＯであり、ｐは０または１である）であり、ｎ、ｍは独立して１～４の整数であり、Ｒ５０は、
ｉ）炭素数３～１０のフルオロアルキレン基、
ｉｉ）炭素数３～１０のフルオロアルコキシレン基、
ｉｉｉ）置換アリーレン基、
ｉｖ）フッ化ビニリデンおよびパーフルオロ（メチルビニルエーテル）の共重合単位を含むオリゴマー、
ｖ）フッ化ビニリデンおよびヘキサフルオロプロピレンの共重合単位を含むオリゴマー、
ｖｉ）テトラフルオロエチレンおよびパーフルオロ（メチルビニルエーテル）の共重合単位を含むオリゴマー、および、
ｖｉｉ）テトラフルオロエチレンおよび炭化水素オレフィンの共重合単位を含むオリゴマーからなる群から選択される）で表される架橋剤を挙げることもできる。この架橋剤は、ニトリル基、アジド基、スルホニルアジド基、カルボニルアジド基またはアルキン基を有するパーフルオロエラストマーとともに用いることが好ましい。たとえば、パーフルオロエラストマーのニトリル基と、架橋剤のアジド基とが反応して、テトラゾール環を形成し、架橋物を与える。
ｉ）炭素数３～１０のフルオロアルキレン基、
ｉｉ）炭素数３～１０のフルオロアルコキシレン基、
ｉｉｉ）置換アリーレン基、
ｉｖ）フッ化ビニリデンおよびパーフルオロ（メチルビニルエーテル）の共重合単位を含むオリゴマー、
ｖ）フッ化ビニリデンおよびヘキサフルオロプロピレンの共重合単位を含むオリゴマー、
ｖｉ）テトラフルオロエチレンおよびパーフルオロ（メチルビニルエーテル）の共重合単位を含むオリゴマー、および、
ｖｉｉ）テトラフルオロエチレンおよび炭化水素オレフィンの共重合単位を含むオリゴマーからなる群から選択される）で表される架橋剤を挙げることもできる。この架橋剤は、ニトリル基、アジド基、スルホニルアジド基、カルボニルアジド基またはアルキン基を有するパーフルオロエラストマーとともに用いることが好ましい。たとえば、パーフルオロエラストマーのニトリル基と、架橋剤のアジド基とが反応して、テトラゾール環を形成し、架橋物を与える。
【0119】
とくに好ましい架橋剤としては、複数個の３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル基、もしくは３－アミノ－４－メルカプトフェニル基を有する化合物、または一般式（４７）：
【0120】
【化18】
【0121】
（式中、Ｒ４１、Ｒ４２およびＲ４３は上記のとおり）で表される化合物があげられ、具体的には、たとえば２，２－ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン（一般名：ビス（アミノフェノール）ＡＦ）、２，２－ビス（３－アミノ－４－メルカプトフェニル）ヘキサフルオロプロパン、テトラアミノベンゼン、ビス－３，４－ジアミノフェニルメタン、ビス－３，４－ジアミノフェニルエーテル、２，２－ビス（３，４－ジアミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２－ビス［３－アミノ－４－（Ｎ－フェニルアミノ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２－ビス［３－アミノ－４－（Ｎ－メチルアミノ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２－ビス［３－アミノ－４－（Ｎ－エチルアミノ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２－ビス［３－アミノ－４－（Ｎ－プロピルアミノ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２－ビス［３－アミノ－４－（Ｎ－パーフルオロフェニルアミノ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２－ビス［３－アミノ－４－（Ｎ－ベンジルアミノ）フェニル］ヘキサフルオロプロパンなどである。
【0122】
これらの中でも、架橋剤としては耐熱性、耐スチーム性、耐アミン性、良好な架橋性の点から、２，２－ビス［３－アミノ－４－（Ｎ－フェニルアミノ）フェニル］ヘキサフルオロプロパンが好ましい。
【0123】
無機窒化物、有機スズ化合物、アンモニアを発生させる化合物および架橋剤からなる群より選択される少なくとも１種の含有量は、パーフルオロエラストマー１００質量部に対して、好ましくは０．０５質量部以上であり、より好ましくは０．１質量部以上であり、さらに好ましくは０．２質量部以上であり、特に好ましくは０．３質量部以上であり、好ましくは１０質量部以下であり、より好ましくは５．０質量部以下であり、さらに好ましくは２．０質量部以下であり、特に好ましくは１．０質量部以下である。
【0124】
（架橋物）
上記組成物は、架橋成形して架橋物を得るための成形材料として好適に使用できる。本開示の組成物を架橋することにより、架橋物を得ることができる。本開示の架橋物は、ＮＦ３プラズマに対する耐久性に優れており、しかも、３００℃を超えるような高温で使用した場合でも圧縮永久歪が小さい。
上記組成物は、架橋成形して架橋物を得るための成形材料として好適に使用できる。本開示の組成物を架橋することにより、架橋物を得ることができる。本開示の架橋物は、ＮＦ３プラズマに対する耐久性に優れており、しかも、３００℃を超えるような高温で使用した場合でも圧縮永久歪が小さい。
【0125】
本開示の架橋物は、圧縮率２５％で、３００℃で７０時間放置することにより測定する圧縮永久歪（３００℃）が、好ましくは６０％以下であり、より好ましくは５５％以下である。圧縮永久歪（３００℃）は、架橋物を２５％の圧縮率で圧縮した状態で、３００℃で７０時間放置してから、圧縮を開放し、２３℃で３０分間放置した後、圧縮前後の架橋物の厚みを測定することにより算出できる。
【0126】
本開示の架橋物は、高温で圧縮されても圧壊しにくい。本開示によれば、圧縮率２５％で、３００℃で７０時間放置した場合でも、割れない架橋物が提供される。また、本開示によれば、圧縮永久歪（３００℃）を測定する上記の試験においても割れることが無く、圧縮永久歪（３００℃）を測定することができる架橋物（すなわち、圧縮永久歪（３００℃）の値を有する架橋物）が提供される。
【0127】
本開示の架橋物は、圧縮率２５％で、２００℃で７０時間放置し、さらに７０℃で２４時間放置することにより測定する圧縮永久歪（２００℃から７０℃に温度変更）が、好ましくは７０％以下であり、より好ましくは６５％以下である。圧縮永久歪（２００℃から７０℃に温度変更）は、架橋物を２５％の圧縮率で圧縮した状態で、２００℃で７０時間放置し、さらに、７０℃で２４時間放置してから、圧縮を開放し、２３℃で３０分間放置した後、圧縮前後の架橋物の厚みを測定することにより算出できる。
【0128】
組成物から架橋物を得る方法としては、上記組成物を成形材料として成形することにより予備成形体を得た後、予備成形体を架橋させる方法が挙げられる。上記組成物から予備成形体を得る方法は通常の方法でよく、金型にて加熱圧縮する方法、加熱された金型に圧入する方法、押出機で押出す方法など公知の方法で行なうことができる。ホースや電線などの押出製品の場合は押出後にスチームなどによる加熱架橋を行なうことで、架橋物を得ることができる。
【0129】
上記架橋は一次架橋と呼ばれており、一次架橋、二次架橋の順で、行うことができる。一次架橋は、１５０～２５０℃で５～１２０分間行うことが好ましく、１７０～２００℃で５～６０分間行うことがより好ましい。架橋手段としては、公知の架橋手段を用いればよく、例えば、プレス架橋などをあげることができる。
【0130】
二次架橋は、２５０～３２０℃で２～４８時間行うことが好ましく、２８０～３１０℃で５～２４時間行うことがより好ましい。また、二次架橋は、１８０～３２０℃で２～２４時間行ってもよく、１９０～３１０℃で５～２０時間行ってもよい。この温度範囲で温度変化を持たせてもよい。架橋手段としては、公知の架橋手段を用いれば良く、例えば、オーブン架橋などをあげることができる。架橋は、たとえば、空気雰囲気下または窒素雰囲気下で行うことができる。
【0131】
本開示の架橋物は、特に耐熱性が要求される半導体製造装置、特に高密度プラズマ照射が行なわれる半導体製造装置のシール材として好適に使用できる。上記シール材としては、Ｏ－リング、角－リング、ガスケット、パッキン、オイルシール、ベアリングシール、リップシール等が挙げられる。
そのほか、半導体製造装置に使用される各種のポリマー製品、例えばダイヤフラム、チューブ、ホース、各種ゴムロール、ベルト等としても使用できる。また、コーティング用材料、ライニング用材料としても使用できる。
そのほか、半導体製造装置に使用される各種のポリマー製品、例えばダイヤフラム、チューブ、ホース、各種ゴムロール、ベルト等としても使用できる。また、コーティング用材料、ライニング用材料としても使用できる。
【0132】
なお、本開示でいう半導体製造装置は、特に半導体を製造するための装置に限られるものではなく、広く、液晶パネルやプラズマパネルを製造するための装置等、高度なクリーン度が要求される半導体分野において用いられる製造装置全般を含むものであり、例えば次のようなものを挙げることができる。
【0133】
（１）エッチング装置
ドライエッチング装置
プラズマエッチング装置
反応性イオンエッチング装置
反応性イオンビームエッチング装置
スパッタエッチング装置
イオンビームエッチング装置
ウェットエッチング装置
アッシング装置
（２）洗浄装置乾式エッチング洗浄装置
ＵＶ／Ｏ３洗浄装置
イオンビーム洗浄装置
レーザービーム洗浄装置
プラズマ洗浄装置
ガスエッチング洗浄装置
抽出洗浄装置
ソックスレー抽出洗浄装置
高温高圧抽出洗浄装置
マイクロウェーブ抽出洗浄装置
超臨界抽出洗浄装置
（３）露光装置
ステッパー
コータ・デベロッパー
（４）研磨装置
ＣＭＰ装置
（５）成膜装置
ＣＶＤ装置
スパッタリング装置
（６）拡散・イオン注入装置
酸化拡散装置
イオン注入装置
ドライエッチング装置
プラズマエッチング装置
反応性イオンエッチング装置
反応性イオンビームエッチング装置
スパッタエッチング装置
イオンビームエッチング装置
ウェットエッチング装置
アッシング装置
（２）洗浄装置乾式エッチング洗浄装置
ＵＶ／Ｏ３洗浄装置
イオンビーム洗浄装置
レーザービーム洗浄装置
プラズマ洗浄装置
ガスエッチング洗浄装置
抽出洗浄装置
ソックスレー抽出洗浄装置
高温高圧抽出洗浄装置
マイクロウェーブ抽出洗浄装置
超臨界抽出洗浄装置
（３）露光装置
ステッパー
コータ・デベロッパー
（４）研磨装置
ＣＭＰ装置
（５）成膜装置
ＣＶＤ装置
スパッタリング装置
（６）拡散・イオン注入装置
酸化拡散装置
イオン注入装置
【0134】
本開示の架橋物は、例えば、ＣＶＤ装置、プラズマエッチング装置、反応性イオンエッチング装置、アッシング装置またはエキシマレーザー露光機のシール材として優れた性能を発揮する。
【0135】
以上、実施形態を説明したが、特許請求の範囲の趣旨および範囲から逸脱することなく、形態や詳細の多様な変更が可能なことが理解されるであろう。
【0136】
＜１＞ 本開示の第１の観点によれば、
パーフルオロエラストマーおよびポリテトラフルオロエチレンを含有する組成物であって、前記ポリテトラフルオロエチレンの溶融粘度が、１．０×１０３～７．０×１０６ポアズであり、前記ポリテトラフルオロエチレンの融点が、３２２℃以上であり、前記パーフルオロエラストマーと前記ポリテトラフルオロエチレンとを共凝析することにより得られる組成物が提供される。
＜２＞ 本開示の第２の観点によれば、
前記パーフルオロエラストマーが、シアノ基を有する第１の観点による組成物が提供される。
＜３＞ 本開示の第３の観点によれば、
前記ポリテトラフルオロエチレンが、任意で変性モノマー単位を含有し、前記変性モノマー単位の含有量が、全モノマー単位に対して、０～０．１０モル％である第１または第２の観点による組成物が提供される。
＜４＞ 本開示の第４の観点によれば、
前記ポリテトラフルオロエチレンが、変性モノマー単位を含有し、前記変性モノマー単位の含有量が、全モノマー単位に対して、０．０２～０．１０モル％である第１または第２の観点による組成物が提供される。
＜５＞ 本開示の第５の観点によれば、
前記変性モノマー単位が、ヘキサフルオロプロピレン単位およびパーフルオロビニルエーテル単位からなる群より選択される少なくとも１種である第４の観点による組成物が提供される。
＜６＞ 本開示の第６の観点によれば、
前記ポリテトラフルオロエチレンの平均一次粒径が、２００ｎｍ以上である第１～第５のいずれかの観点による組成物が提供される。
＜７＞ 本開示の第７の観点によれば、
前記ポリテトラフルオロエチレンの含有量が、前記パーフルオロエラストマー１００質量部に対して、１～１００質量部である第１～第６のいずれかの観点による組成物が提供される。
＜８＞ 本開示の第８の観点によれば、
前記パーフルオロエラストマーおよび前記ポリテトラフルオロエチレンを含有する水性分散液を調製し、酸を用いて、得られた水性分散液中の前記パーフルオロエラストマーおよび前記ポリテトラフルオロエチレンを共凝析させることにより得られる第１～第７のいずれかの観点による組成物が提供される。
＜９＞ 本開示の第９の観点によれば、
さらに、無機窒化物、有機スズ化合物、アンモニアを発生させる化合物および架橋剤からなる群より選択される少なくとも１種を含有する第１～第８のいずれかの観点による組成物が提供される。
＜１０＞ 本開示の第１０の観点によれば、
第１～第９のいずれかの観点による組成物を架橋することにより得られる架橋物が提供される。
パーフルオロエラストマーおよびポリテトラフルオロエチレンを含有する組成物であって、前記ポリテトラフルオロエチレンの溶融粘度が、１．０×１０３～７．０×１０６ポアズであり、前記ポリテトラフルオロエチレンの融点が、３２２℃以上であり、前記パーフルオロエラストマーと前記ポリテトラフルオロエチレンとを共凝析することにより得られる組成物が提供される。
＜２＞ 本開示の第２の観点によれば、
前記パーフルオロエラストマーが、シアノ基を有する第１の観点による組成物が提供される。
＜３＞ 本開示の第３の観点によれば、
前記ポリテトラフルオロエチレンが、任意で変性モノマー単位を含有し、前記変性モノマー単位の含有量が、全モノマー単位に対して、０～０．１０モル％である第１または第２の観点による組成物が提供される。
＜４＞ 本開示の第４の観点によれば、
前記ポリテトラフルオロエチレンが、変性モノマー単位を含有し、前記変性モノマー単位の含有量が、全モノマー単位に対して、０．０２～０．１０モル％である第１または第２の観点による組成物が提供される。
＜５＞ 本開示の第５の観点によれば、
前記変性モノマー単位が、ヘキサフルオロプロピレン単位およびパーフルオロビニルエーテル単位からなる群より選択される少なくとも１種である第４の観点による組成物が提供される。
＜６＞ 本開示の第６の観点によれば、
前記ポリテトラフルオロエチレンの平均一次粒径が、２００ｎｍ以上である第１～第５のいずれかの観点による組成物が提供される。
＜７＞ 本開示の第７の観点によれば、
前記ポリテトラフルオロエチレンの含有量が、前記パーフルオロエラストマー１００質量部に対して、１～１００質量部である第１～第６のいずれかの観点による組成物が提供される。
＜８＞ 本開示の第８の観点によれば、
前記パーフルオロエラストマーおよび前記ポリテトラフルオロエチレンを含有する水性分散液を調製し、酸を用いて、得られた水性分散液中の前記パーフルオロエラストマーおよび前記ポリテトラフルオロエチレンを共凝析させることにより得られる第１～第７のいずれかの観点による組成物が提供される。
＜９＞ 本開示の第９の観点によれば、
さらに、無機窒化物、有機スズ化合物、アンモニアを発生させる化合物および架橋剤からなる群より選択される少なくとも１種を含有する第１～第８のいずれかの観点による組成物が提供される。
＜１０＞ 本開示の第１０の観点によれば、
第１～第９のいずれかの観点による組成物を架橋することにより得られる架橋物が提供される。
【実施例0137】
つぎに本開示の実施形態について実施例をあげて説明するが、本開示はかかる実施例のみに限定されるものではない。
【0138】
実施例の各数値は以下の方法により測定した。
【0139】
（ＰＴＦＥの組成）
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により求めた。
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により求めた。
【0140】
（ＰＴＦＥの平均一次粒径）
平均一次粒径は、固形分０．１５質量％に調整されたＰＴＦＥ水性分散液が注入された所定のセルに５５０ｎｍの光を入射したときの透過率と、透過型電子顕微鏡写真により定方向径を測定して算出した数平均一次粒径との相関関係を求めた後に、得られた試料について測定した透過率を上記の相関関係にあてはめることにより求めた（検量線法）。
平均一次粒径は、固形分０．１５質量％に調整されたＰＴＦＥ水性分散液が注入された所定のセルに５５０ｎｍの光を入射したときの透過率と、透過型電子顕微鏡写真により定方向径を測定して算出した数平均一次粒径との相関関係を求めた後に、得られた試料について測定した透過率を上記の相関関係にあてはめることにより求めた（検量線法）。
【0141】
（ＰＴＦＥの融点）
ＰＴＦＥの融点は、日立ハイテクサイエンス社製の示差走査熱量計測定機Ｘ－ＤＳＣ７０００（ＤＳＣ）を用い、事前に標準サンプルとして、インジウム、鉛を用いて温度校正した上で、３００℃以上の温度に加熱した履歴がないＰＴＦＥ約３ｍｇをアルミ製パンに入れ、４０ｍｌ／分の窒素気流下で、２３０～３５０℃の温度領域を１０℃／分で昇温させて示差走査熱量測定を行い、上記領域における融解曲線の最小点に対応する温度を融点として測定した。
ＰＴＦＥの融点は、日立ハイテクサイエンス社製の示差走査熱量計測定機Ｘ－ＤＳＣ７０００（ＤＳＣ）を用い、事前に標準サンプルとして、インジウム、鉛を用いて温度校正した上で、３００℃以上の温度に加熱した履歴がないＰＴＦＥ約３ｍｇをアルミ製パンに入れ、４０ｍｌ／分の窒素気流下で、２３０～３５０℃の温度領域を１０℃／分で昇温させて示差走査熱量測定を行い、上記領域における融解曲線の最小点に対応する温度を融点として測定した。
【0142】
（ＰＴＦＥの溶融粘度）
溶融粘度は、ＡＳＴＭ Ｄ １２３８に準拠し、フローテスター（島津製作所社製）および２φ－８Ｌのダイを用い、予め３８０℃で５分間加熱しておいた２ｇの試料を０．７ＭＰａの荷重にて上記温度に保って測定した。表中の「不溶」とは、ＰＴＦＥが溶融せず、溶融粘度が測定できなかったことを意味する。
溶融粘度は、ＡＳＴＭ Ｄ １２３８に準拠し、フローテスター（島津製作所社製）および２φ－８Ｌのダイを用い、予め３８０℃で５分間加熱しておいた２ｇの試料を０．７ＭＰａの荷重にて上記温度に保って測定した。表中の「不溶」とは、ＰＴＦＥが溶融せず、溶融粘度が測定できなかったことを意味する。
【0143】
（パーフルオロエラストマーの組成）
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により求めた。
１９Ｆ－ＮＭＲ分析により求めた。
【0144】
（パーフルオロエラストマーのムーニー粘度）
ＡＬＰＨＡ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＩＥＳ社製 ムーニー粘度計ＭＶ２０００Ｅ型を用いて、１７０℃において、ＪＩＳ Ｋ６３００に従い測定した。
ＡＬＰＨＡ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＩＥＳ社製 ムーニー粘度計ＭＶ２０００Ｅ型を用いて、１７０℃において、ＪＩＳ Ｋ６３００に従い測定した。
【0145】
（圧縮永久歪み（３００℃））
圧縮永久歪みは、ＡＳＴＭ Ｄ３９５またはＪＩＳ Ｋ６２６２に記載の方法に準じて測定した。実施例および比較例で作製したＯリングを、圧縮装置を用いて、常温で、圧縮率２５％まで圧縮（厚さ（線径）３．５ｍｍのＯリングを、厚さ２．６２５ｍｍまで圧縮）した。
次に、圧縮されたＯリングが固定された圧縮装置を、電気炉内に静置し、３００℃で７０時間放置した後、電気炉から圧縮装置を取り出した。圧縮装置からＯリングを取り外し、取り外したＯリングを恒温室に２３℃で３０分放置し、Ｏリングの厚さ（ｔ２）を測定した。次式により、圧縮永久歪みを求めた。なお、圧縮永久歪みが０％に近いほど架橋物が圧縮永久歪特性に優れていることを意味する。
圧縮永久歪み（％）＝（ｔ０－ｔ２）／（ｔ０－ｔ１）×１００
ｔ０：Ｏリングの元の厚さ（ｍｍ）
ｔ１：スペーサの厚さ（ｍｍ）
ｔ２：圧縮試験後のＯリングの厚さ（ｍｍ）
上記の試験においては、ｔ０＝３．５ｍｍ、ｔ１＝２．６２５ｍｍである。
圧縮永久歪みは、ＡＳＴＭ Ｄ３９５またはＪＩＳ Ｋ６２６２に記載の方法に準じて測定した。実施例および比較例で作製したＯリングを、圧縮装置を用いて、常温で、圧縮率２５％まで圧縮（厚さ（線径）３．５ｍｍのＯリングを、厚さ２．６２５ｍｍまで圧縮）した。
次に、圧縮されたＯリングが固定された圧縮装置を、電気炉内に静置し、３００℃で７０時間放置した後、電気炉から圧縮装置を取り出した。圧縮装置からＯリングを取り外し、取り外したＯリングを恒温室に２３℃で３０分放置し、Ｏリングの厚さ（ｔ２）を測定した。次式により、圧縮永久歪みを求めた。なお、圧縮永久歪みが０％に近いほど架橋物が圧縮永久歪特性に優れていることを意味する。
圧縮永久歪み（％）＝（ｔ０－ｔ２）／（ｔ０－ｔ１）×１００
ｔ０：Ｏリングの元の厚さ（ｍｍ）
ｔ１：スペーサの厚さ（ｍｍ）
ｔ２：圧縮試験後のＯリングの厚さ（ｍｍ）
上記の試験においては、ｔ０＝３．５ｍｍ、ｔ１＝２．６２５ｍｍである。
【0146】
（割れ率（３００℃））
上記の「圧縮永久歪み（３００℃）」の試験後の１２個のＯリングについて、割れの発生状態を目視にて確認した。割れ率は次の計算式で算出した。なお、割れ率が０％に近いほど架橋物を圧縮しても割れにくいことを意味する。
割れ率（％）＝（割れの発生個数）／（試験数）×１００
上記の試験においては、試験数＝１２個である。
上記の「圧縮永久歪み（３００℃）」の試験後の１２個のＯリングについて、割れの発生状態を目視にて確認した。割れ率は次の計算式で算出した。なお、割れ率が０％に近いほど架橋物を圧縮しても割れにくいことを意味する。
割れ率（％）＝（割れの発生個数）／（試験数）×１００
上記の試験においては、試験数＝１２個である。
【0147】
（圧縮永久歪み（２００℃から７０℃に温度変更））
圧縮永久歪みは、ＡＳＴＭ Ｄ３９５またはＪＩＳ Ｋ６２６２に記載の方法に準じて測定した。実施例および比較例で作製したＯリングを、圧縮装置を用いて、常温で、圧縮率２５％まで圧縮（厚さ（線径）３．５ｍｍのＯリングを、厚さ２．６２５ｍｍまで圧縮）した。
次に、圧縮されたＯリングが固定された圧縮装置を、電気炉内に静置し、２００℃で７０時間放置した後、電気炉から圧縮装置を取り出した。その後、圧縮されたＯリングが固定された圧縮装置を、別の電気炉に静置し、７０℃で２４時間放置した。圧縮装置からＯリングを取り外し、取り外したＯリングを恒温室に２３℃で３０分放置し、Ｏリングの厚さ（ｔ２）を測定した。次式により、圧縮永久歪みを求めた。
圧縮永久歪み（％）＝（ｔ０－ｔ２）／（ｔ０－ｔ１）×１００
ｔ０：Ｏリングの元の厚さ（ｍｍ）
ｔ１：スペーサの厚さ（ｍｍ）
ｔ２：圧縮試験後のＯリングの厚さ（ｍｍ）
上記の試験においては、ｔ０＝３．５ｍｍ、ｔ１＝２．６２５ｍｍである。
圧縮永久歪みは、ＡＳＴＭ Ｄ３９５またはＪＩＳ Ｋ６２６２に記載の方法に準じて測定した。実施例および比較例で作製したＯリングを、圧縮装置を用いて、常温で、圧縮率２５％まで圧縮（厚さ（線径）３．５ｍｍのＯリングを、厚さ２．６２５ｍｍまで圧縮）した。
次に、圧縮されたＯリングが固定された圧縮装置を、電気炉内に静置し、２００℃で７０時間放置した後、電気炉から圧縮装置を取り出した。その後、圧縮されたＯリングが固定された圧縮装置を、別の電気炉に静置し、７０℃で２４時間放置した。圧縮装置からＯリングを取り外し、取り外したＯリングを恒温室に２３℃で３０分放置し、Ｏリングの厚さ（ｔ２）を測定した。次式により、圧縮永久歪みを求めた。
圧縮永久歪み（％）＝（ｔ０－ｔ２）／（ｔ０－ｔ１）×１００
ｔ０：Ｏリングの元の厚さ（ｍｍ）
ｔ１：スペーサの厚さ（ｍｍ）
ｔ２：圧縮試験後のＯリングの厚さ（ｍｍ）
上記の試験においては、ｔ０＝３．５ｍｍ、ｔ１＝２．６２５ｍｍである。
【0148】
（割れ率（２００℃から７０℃に温度変更））
上記の「圧縮永久歪み（２００℃から７０℃に温度変更）」の試験後の１２個のＯリングについて、割れの発生状態を目視にて確認した。割れ率は次の計算式で算出した。なお、割れ率が０％に近いほど架橋物を圧縮しても割れにくいことを意味する。
割れ率（％）＝（割れの発生個数）／（試験数）×１００
上記の試験においては、試験数＝１２個である。
上記の「圧縮永久歪み（２００℃から７０℃に温度変更）」の試験後の１２個のＯリングについて、割れの発生状態を目視にて確認した。割れ率は次の計算式で算出した。なお、割れ率が０％に近いほど架橋物を圧縮しても割れにくいことを意味する。
割れ率（％）＝（割れの発生個数）／（試験数）×１００
上記の試験においては、試験数＝１２個である。
【0149】
（耐プラズマ性（プラズマ処理前後の架橋物の重量減少率））
実施例および比較例で作製したＯリング（Ｐ２４サイズ）を、プロセスチャンバー内に静置した。ラジカル発生装置を用いて発生させたプラズマを、プロセスチャンバー内に送り込み、以下のプラズマ照射条件で、Ｏリングを曝露した。プラズマ照射前後のＯリングの質量からＮＦ３リモートプラズマ重量減少率を算出した。
（プラズマ照射条件）
フッ素ラジカル発生装置：Ａｓｔｒｏｎ Ａｔｏｍｉｃ Ｆｌｕｏｒｉｎｅ Ｇｅｎｅｒａｔｏｒ Ｍｏｄｅｌ ＡＸ７６５７－２（ＭＫＳ社製）
ガス流量：Ａｒ／ＮＦ３＝１（Ｌ／ｍｉｎ）／１（Ｌ／ｍｉｎ）
圧力：３Ｔｏｒｒ
照射温度：２５０℃
照射時間：１２時間（２時間毎にチャンバー内のＯリング位置を移動）
実施例および比較例で作製したＯリング（Ｐ２４サイズ）を、プロセスチャンバー内に静置した。ラジカル発生装置を用いて発生させたプラズマを、プロセスチャンバー内に送り込み、以下のプラズマ照射条件で、Ｏリングを曝露した。プラズマ照射前後のＯリングの質量からＮＦ３リモートプラズマ重量減少率を算出した。
（プラズマ照射条件）
フッ素ラジカル発生装置：Ａｓｔｒｏｎ Ａｔｏｍｉｃ Ｆｌｕｏｒｉｎｅ Ｇｅｎｅｒａｔｏｒ Ｍｏｄｅｌ ＡＸ７６５７－２（ＭＫＳ社製）
ガス流量：Ａｒ／ＮＦ３＝１（Ｌ／ｍｉｎ）／１（Ｌ／ｍｉｎ）
圧力：３Ｔｏｒｒ
照射温度：２５０℃
照射時間：１２時間（２時間毎にチャンバー内のＯリング位置を移動）
【0150】
実施例および比較例では以下の材料を用いた。
パーフルオロエラストマー：
ＴＦＥ／ＰＭＶＥ／ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＮ＝５９．３／３９．９／０．８（モル％）
ムーニー粘度ＭＬ（１＋２０）（１７０℃）＝６６
パーフルオロエラストマー：
ＴＦＥ／ＰＭＶＥ／ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＮ＝５９．３／３９．９／０．８（モル％）
ムーニー粘度ＭＬ（１＋２０）（１７０℃）＝６６
【0151】
架橋剤：
２，２－ビス［３－アミノ－４－（Ｎ－フェニルアミノ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン
２，２－ビス［３－アミノ－４－（Ｎ－フェニルアミノ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン
【0152】
ＰＴＦＥ：
表１に記載の物性を有するＰＴＦＥ
表１に記載の物性を有するＰＴＦＥ
【0153】
実施例１
パーフルオロエラストマー粒子のエマルション（固形分濃度２４重量％）８８０ｇと表１記載の物性を有するＰＴＦＥ粒子のエマルション（固形分濃度１５重量％）２８２ｇを２３℃で混合し、２３℃にて１０％硝酸５００ｇ中に１０分かけて滴下して共凝析を行った。得られた共凝析物を水洗し、真空乾燥機をもちいて７０℃で乾燥し含フッ素エラストマーにＰＴＦＥが微分散したエラストマー組成物を得た。
パーフルオロエラストマー粒子のエマルション（固形分濃度２４重量％）８８０ｇと表１記載の物性を有するＰＴＦＥ粒子のエマルション（固形分濃度１５重量％）２８２ｇを２３℃で混合し、２３℃にて１０％硝酸５００ｇ中に１０分かけて滴下して共凝析を行った。得られた共凝析物を水洗し、真空乾燥機をもちいて７０℃で乾燥し含フッ素エラストマーにＰＴＦＥが微分散したエラストマー組成物を得た。
【0154】
このエラストマー組成物を示差熱分析（ＤＴＡ）で測定したところ３２７．７℃にＰＴＦＥに基づくと考えられる吸収が認められた。
【0155】
得られたエラストマー組成物１２０質量部に架橋剤（２，２－ビス［３－アミノ－４－（Ｎ－フェニルアミノ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン）０．９質量部を混合し、オープンロールにより混練して架橋性エラストマー組成物を得た。
【0156】
さらに架橋性エラストマー組成物を１８０℃で３０分間プレス架橋した後２９０℃で１８時間オーブン架橋を行い、Ｐ２４サイズのＯリングを作製した。得られたＯリングを用いて、上記の方法により、圧縮永久歪み（３００℃）、圧縮永久歪み（２００℃から７０℃に温度変更）、ＮＦ３リモートプラズマ減少率を測定した。結果を表１に示す。
【0157】
実施例２～３
実施例１と同様にしてエラストマー組成物及び架橋性エラストマー組成物、Ｏリングを得た。エラストマー組成物のＤＴＡ測定の結果、実施例２では３２７．５℃、実施例３では３２９．５℃にそれぞれのＰＴＦＥに基づくと考えられる吸収が認められた。
実施例１と同様にしてエラストマー組成物及び架橋性エラストマー組成物、Ｏリングを得た。エラストマー組成物のＤＴＡ測定の結果、実施例２では３２７．５℃、実施例３では３２９．５℃にそれぞれのＰＴＦＥに基づくと考えられる吸収が認められた。
【0158】
比較例１
実施例１で用いた２３℃のパーフルオロエラストマー粒子のエマルションを、１０％硝酸の中に２３℃で滴下し凝析させた。析出物を洗浄後、乾燥しパーフルオロエラストマー粒子を得た。一方、実施例１で用いたＰＴＦＥ粒子のエマルションに硝酸を添加して凝析させた。析出物を洗浄、乾燥して白色のＰＴＦＥ粉末を得た。
実施例１で用いた２３℃のパーフルオロエラストマー粒子のエマルションを、１０％硝酸の中に２３℃で滴下し凝析させた。析出物を洗浄後、乾燥しパーフルオロエラストマー粒子を得た。一方、実施例１で用いたＰＴＦＥ粒子のエマルションに硝酸を添加して凝析させた。析出物を洗浄、乾燥して白色のＰＴＦＥ粉末を得た。
【0159】
パーフルオロエラストマー粒子１００質量部にＰＴＦＥ粉末を２０質量部、架橋剤（２，２－ビス［３－アミノ－４－（Ｎ－フェニルアミノ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン）０．９質量部をオープンロールにて混練し、架橋性エラストマー組成物を得た。
【0160】
実施例１～３と同様にしてＯリングを作製した。上記の方法により、圧縮永久歪み（３００℃）、圧縮永久歪み（２００℃から７０℃に温度変更）、ＮＦ３リモートプラズマ重量減少率を測定した。結果を表１に示す。
【0161】
比較例２
表１記載のＰＴＦＥに変更したほかは実施例１～３と同様にしてＯリングを作製し、得られたＯリングを用いて同様に評価した。結果を表１に示す。
表１記載のＰＴＦＥに変更したほかは実施例１～３と同様にしてＯリングを作製し、得られたＯリングを用いて同様に評価した。結果を表１に示す。
【0162】
【表1】
【0163】
実施例４～７
表２に記載の組成になるように各材料の量を変更した以外は、実施例１と同様にしてエラストマー組成物及び架橋性エラストマー組成物、Ｏリングを得た。実施例１の結果とともに、結果を表２に示す。
表２に記載の組成になるように各材料の量を変更した以外は、実施例１と同様にしてエラストマー組成物及び架橋性エラストマー組成物、Ｏリングを得た。実施例１の結果とともに、結果を表２に示す。
【0164】
比較例３
比較例１で作製したパーフルオロエラストマー粒子１００質量部に架橋剤（２，２－ビス［３－アミノ－４－（Ｎ－フェニルアミノ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン）０．９質量部をオープンロールにて混練し、架橋性エラストマー組成物を得た。実施例１と同様にして架橋性エラストマー組成物からＯリングを作製し、得られたＯリングを用いて同様に評価した。結果を表２に示す。
比較例１で作製したパーフルオロエラストマー粒子１００質量部に架橋剤（２，２－ビス［３－アミノ－４－（Ｎ－フェニルアミノ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン）０．９質量部をオープンロールにて混練し、架橋性エラストマー組成物を得た。実施例１と同様にして架橋性エラストマー組成物からＯリングを作製し、得られたＯリングを用いて同様に評価した。結果を表２に示す。
【0165】
【表2】