特開2023-160543反射型マスクブランクの製造方法、反射型マスクブランク、および集束イオンビーム加工装置

発明の名称　反射型マスクブランクの製造方法、反射型マスクブランク、および集束イオンビーム加工装置

出願人　株式会社ブイ・テクノロジー　（識別番号 500171707）

　　　　特許公開件数ランキング 3969 位（4件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 2439 位（6件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2023-160543

公報発行日　2023年11月2

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2023-160543

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