特開 2023-162494 スクリーン印刷装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023162494

(43)【公開日】2023-11-09

(54)【発明の名称】スクリーン印刷装置

(51)【国際特許分類】

   B41F 15/08 20060101AFI20231101BHJP

   B41F 15/12 20060101ALI20231101BHJP

   B41F 35/00 20060101ALI20231101BHJP

   H05K 3/34 20060101ALI20231101BHJP

【ＦＩ】

B41F15/08 303E

B41F15/12 A

B41F35/00 C

H05K3/34 505D

【審査請求】未請求

【請求項の数】5

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022072841

(22)【出願日】2022-04-27

(71)【出願人】

【識別番号】314012076

【氏名又は名称】パナソニックＩＰマネジメント株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100106116

【弁理士】

【氏名又は名称】鎌田 健司

(74)【代理人】

【識別番号】100131495

【弁理士】

【氏名又は名称】前田 健児

(72)【発明者】

【氏名】村上 俊行

(72)【発明者】

【氏名】黒田 聖弥

(72)【発明者】

【氏名】峯 拓生

【テーマコード（参考）】

2C035

2C250

5E319

【Ｆターム（参考）】

2C035AA06

2C035FA22

2C035FB25

2C035FD01

2C035FD42

2C250FA06

2C250FA17

2C250FB06

2C250FB11

2C250FB16

5E319BB05

5E319CD29

5E319CD35

5E319GG20

(57)【要約】

【課題】マスクの清掃作業で掻き取ったペーストを次の清掃作業でマスクに付着させてしまう事態を防止することができるスクリーン印刷装置を提供することを目的とする。
【解決手段】スクリーン印刷装置１が、印刷ヘッド１８によるペーストＰｓｔの充填によりマスク１３の裏面に付着したペーストＰｓｔをブレード４２によって掻き取るマスク清掃ユニット２１と、ブレード４２を清掃するブレード清掃ユニット２３を備える。ブレード清掃ユニット２３は、ブレード４２に接触する拭取り材７４と、拭取り材７４を移動させることでブレード４２が掻き取ったペーストＰｓｔを拭き取る拭取り材移動機構６２と、拭取り材７４をブレード４２の延びる方向と直交する方向に対して斜めに交差する軸線を中心に回転させることにより拭取り材７４のブレード４２に接触する部分を変更する接触部分変更機構９０を備える。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

所定の開口が形成されたマスクを用いて基板にペーストを印刷するスクリーン印刷装置であって、
前記基板が接触された前記マスクの開口にペーストを充填して前記基板にペーストを印刷する印刷ヘッドと、
前記印刷ヘッドによるペーストの充填により前記マスクの裏面に付着したペーストをブレードによって掻き取るマスク清掃手段と、
前記ブレードが掻き取ったペーストを拭き取るブレード清掃手段と、を備え、
前記ブレード清掃手段は、
前記ブレードに接触する拭取り材と、
前記拭取り材を前記ブレードに沿った方向に移動させて前記ブレードが掻き取ったペーストを拭き取る拭取り材移動機構と、
前記拭取り材を前記ブレードの延びる方向と直交する方向に対して斜めに交差する軸線を中心に回転させることにより、前記拭取り材の前記ブレードに接触する部分を変更する接触部分変更機構と、
を備えたスクリーン印刷装置。

【請求項2】

前記接触部分変更機構は、前記軸線を中心に回転する回転軸を有して前記拭取り材を保持する拭取り材ホルダを備え、前記拭取り材は前記軸線を中心とする円周面を備えた立体形状を有する、請求項１に記載のスクリーン印刷装置。

【請求項3】

前記接触部分変更機構は、前記拭取り材ホルダに設けられたギアと、前記拭取り材ホルダの移動範囲内の前記ギアと接触し得る位置に配置されたギア接触部材と、を有し、前記拭取り材移動機構が前記拭取り材ホルダを移動させることによって前記ギアが前記ギア接触部材に接触すると、前記拭取り材ホルダが前記軸線を中心に回転する、請求項２に記載のスクリーン印刷装置。

【請求項4】

前記回転軸が伝達するトルクの制限を行うトルクリミッタを備え、前記トルクリミッタにより、前記拭取り材が前記拭取り材移動機構によって前記ブレードに沿って移動するときには前記回転軸の回転が阻止され、前記拭取り材移動機構が前記拭取り材ホルダを移動させて前記ギアを前記ギア接触部材に接触させるときには前記回転軸の回転が許容される、請求項３に記載のスクリーン印刷装置。

【請求項5】

前記拭取り材は多孔質材である、請求項１～４のいずれかに記載のスクリーン印刷装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、所定の開口が形成されたマスクを用いて基板にペーストを印刷するスクリーン印刷装置に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、所定の開口が形成されたマスクを用いて基板にペーストを印刷するスクリーン印刷装置が知られている。このようなスクリーン印刷装置では、スキージによってマスクの開口にペーストを充填した後に基板をマスクから分離させる動作（いわゆる版離れ）を行うが、この版離れがなされた後のマスクの下面には開口内から流れてきたペーストが付着しているので、そのまま次の印刷作業を実行すると、新たな基板の上面にペーストが付着して不良基板製造の原因となり得る。

【0003】

このため下記の特許文献１には、マスクの下面に付着した状態となっているペーストを除去するクリーニング装置を備えたスクリーン印刷装置が開示されている。このクリーニング装置は、マスクの下面をマスクに沿ったクリーニング方向に摺動することによりマスクの下面に付着したペーストを掻き取る複数の掻取り部材と、これら複数の掻取り部材を保持する保持体を備えている。複数の掻取り部材は、クリーニング方向に対して直列に並んで保持体に保持されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２０１６－１９６１０１号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

しかしながら、マスクを清掃した掻取り部材にはマスクから掻き取ったペーストが付着しており、そのまま次のマスクの清掃作業を行うと、掻取り部材に付着していたペーストが反対にマスクに付着してしまうおそれがあった。

【0006】

そこで本発明は、マスクの清掃作業で掻き取ったペーストを次の清掃作業でマスクに付着させてしまう事態を防止することができるスクリーン印刷装置を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明のスクリーン印刷装置は、所定の開口が形成されたマスクを用いて基板にペーストを印刷するスクリーン印刷装置であって、前記基板が接触された前記マスクの開口にペーストを充填して前記基板にペーストを印刷する印刷ヘッドと、前記印刷ヘッドによるペーストの充填により前記マスクの裏面に付着したペーストをブレードによって掻き取るマスク清掃手段と、前記ブレードが掻き取ったペーストを拭き取るブレード清掃手段と、を備え、前記ブレード清掃手段は、前記ブレードに接触する拭取り材と、前記拭取り材を前記ブレードに沿った方向に移動させて前記ブレードが掻き取ったペーストを拭き取る拭取り材移動機構と、前記拭取り材を前記ブレードの延びる方向と直交する方向に対して斜めに交差する軸線を中心に回転させることにより、前記拭取り材の前記ブレードに接触する部分を変更する接触部分変更機構と、を備えた。

【発明の効果】

【0008】

本発明によれば、マスクの清掃作業で掻き取ったペーストを次の清掃作業でマスクに付着させてしまう事態をすることが防止できる。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1】本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置の平面図

【図2】本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置の要部側面図

【図3】本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が備えるマスク保持部とブレード清掃ユニットの平面図

【図4】本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が備えるマスク保持部とブレード清掃ユニットの平面図

【図5】（ａ）（ｂ）本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置の動作説明図

【図6】（ａ）（ｂ）本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置の動作説明図

【図7】本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が備えるマスク清掃ユニットの斜視図

【図8】本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が備えるマスク清掃ユニットの側面図

【図9】本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置の動作説明図

【図10】（ａ）（ｂ）本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が備えるマスク清掃ユニットの動作説明図

【図11】本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が備えるマスク清掃ユニットの断面図

【図12】本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が備えるブレード清掃ユニットの一部とブレード清掃ユニット保持部の一部を示す斜視図

【図13】本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が備えるブレード清掃ユニットの一部とブレード清掃ユニット保持部の一部を示す斜視図

【図14】本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が備えるブレード清掃ユニットの一部をマスク清掃ユニットの一部とともに示す平面図

【図15】本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が備えるブレード清掃ユニットの一部の側面図

【図16】本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が備える接触部分変更機構の一部断面側面図

【図17】（ａ）（ｂ）本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が備える接触部分変更機構の動作説明図

【図18】（ａ）（ｂ）（ｃ）本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が備える接触部分変更機構の動作説明図

【図19】本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が備えるスキージ清掃ユニットの一部をマスク清掃ユニットのブレードの一部とともに示す（ａ）側面図（ｂ）平面図

【図20】（ａ）（ｂ）（ｃ）本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が備える拭取り材の拭取り面に形成されるペーストの跡の一例を示す模式的説明図

【図21】本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置によるスクリーン印刷方法の工程図

【図22】本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が版離れを行った後にマスクの開口付近の状態をカメラによって撮像している状態を示す図

【図23】本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が版離れを行った後にマスクの開口付近の状態をカメラによって撮像して得られた画像の一例を示す図

【図24】本発明の一実施の形態の第１変形例におけるスクリーン印刷装置が備えるブレード清掃ユニットの一部をマスク清掃ユニットの一部とともに示す平面図

【図25】本発明の一実施の形態の第２変形例におけるスクリーン印刷装置が備えるマスク保持部とブレード清掃ユニット保持部の平面図

【発明を実施するための形態】

【0010】

以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図１および図２は本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置１を示している。スクリーン印刷装置１は、基板ＫＢに部品を装着して実装基板を生産する部品実装ライン（図示せず）の一部を構成する装置であり、スクリーン印刷装置１の外部より送られてきた基板ＫＢを搬入して位置決めし、基板ＫＢの上面に設けられた電極ＤＫ（図２）に半田等のペーストＰｓｔを印刷して外部に搬出する一連の動作から成る作業（スクリーン印刷動作）を繰り返し実行する。

【0011】

本実施の形態では説明の便宜上、基板ＫＢの搬送（搬入、搬出）方向をＸ方向（作業者ＯＰから見た左右方向）、Ｘ方向と直交する水平方向をＹ方向（作業者ＯＰから見た前後方向）、上下方向をＺ方向とする。また、Ｙ方向（前後方向）のうち作業者ＯＰから見た奥側方向（図１における紙面上側）を前方、作業者ＯＰから見た手前側方向（図１における紙面下側）を後方とする。

【0012】

図１および図２において、スクリーン印刷装置１は基板搬送部１１、基板保持部１２、マスク１３、マスク保持部１４、カメラ１５、カメラ移動機構１６、基板保持部移動機構１７、印刷ヘッド１８、印刷ヘッド移動機構１９を備えている。またスクリーン印刷装置１は更に、マスク清掃ユニット２１、マスク清掃ユニット移動機構２２、ブレード清掃ユニット２３およびブレード清掃ユニット保持部２４を備えている。

【0013】

図１において、基板搬送部１１は、上流側搬送部１１Ａと下流側搬送部１１Ｂを含む。上流側搬送部１１Ａと下流側搬送部１１Ｂは、基板保持部１２からみてＸ方向の両側に離れた位置に並んで配置されている。上流側搬送部１１Ａと下流側搬送部１１Ｂは、Ｙ方向に並んで配置されてそれぞれがＸ方向に延びた一対のコンベアＭから構成されており、コンベアＭを駆動させて基板ＫＢをＸ方向に搬送する。基板搬送部１１は、ペーストＰｓｔが印刷される前の基板ＫＢ（これからペーストＰｓｔが印刷される基板ＫＢ）を基板保持部１２に搬入する動作と、ペーストＰｓｔを印刷した基板ＫＢを基板保持部１２から搬出する作業を行う。

【0014】

基板保持部１２は、基板搬送部１１によって搬入された基板ＫＢを保持する機能を有する。基板保持部１２は基板ＫＢを水平姿勢かつ電極ＤＫが上方を向く姿勢で保持する（図２）。なお、基板保持部１２は基板ＫＢをＸ方向に移動させる基板移動機構（図示せず）を有しており、この基板移動機構によって上流側搬送部１１Ａから搬入された基板ＫＢを保持位置まで移動し、保持位置から基板ＫＢを下流側搬送部１１Ｂに排出する。

【0015】

図１において、マスク１３は金属製の矩形の板状部材から成る。マスク１３の四辺は矩形の枠体から成るマスク枠１３Ｗによって支持されている。マスク１３の中央部には基板ＫＢの電極ＤＫの配置に応じた配置で設けられた複数の開口１３Ｋが形成されている。

【0016】

図１、図３および図４において、マスク保持部１４は、Ｘ方向に並んで配置されてそれぞれがＹ方向に延びた２つのマスク支持ガイド３１と、２つのマスク支持ガイド３１に設置された４つのマスク固定部３２を備えている。図１に示すように、２つのマスク支持ガイド３１にはマスク枠１３ＷのうちＹ方向に延びた２辺が載置され、これによりマスク１３は水平姿勢に支持される。

【0017】

図１において、４つのマスク固定部３２は２つのマスク支持ガイド３１それぞれに２つずつ、Ｙ方向に並んで配置されている。各マスク固定部３２は例えば、図示しないシリンダによってマスク枠１３Ｗの一部をマスク支持ガイド３１に上方から押し付けてマスク支持ガイド３１に固定する構成となっている。各マスク固定部３２は、マスク１３のサイズに応じてその位置を変えることができるように、マスク支持ガイド３１上でＹ方向に移動させることが可能である。

【0018】

図２において、カメラ１５は、基板保持部１２に保持された基板ＫＢとマスク１３との間の高さに位置して設けられている。カメラ１５は、上方と下方の双方の映像を同時にまたは切り替えて取得することが可能ある。カメラ１５によって撮像されたマスク側マークと基板側マークの画像はスクリーン印刷装置１が備える制御部（図示せず）において処理され、マスク１３と基板ＫＢとの間の相対位置が算出される。

【0019】

図１において、カメラ移動機構１６は、マスク保持部１４の外側をＹ方向に延びたＹガイド１６ａと、Ｘ方向に延びたＸガイド１６ｂを備えている。Ｘガイド１６ｂは一端がＹガイド１６ａに取り付けられており、Ｙガイド１６ａに沿って移動自在である。カメラ１５はＸガイド１６ｂに取り付けられており、Ｘガイド１６ｂに沿ってＸ方向に移動自在である。

【0020】

カメラ移動機構１６は、Ｙガイド１６ａに対するＸガイド１６ｂのＹ方向への移動動作（図２中に示す矢印Ａ）と、Ｘガイド１６ｂに対するカメラ１５のＸ方向への移動動作とにより、マスク１３の下方領域でカメラ１５を水平面内（ＸＹ面内）に移動させる。これによりカメラ１５は水平移動で基板ＫＢとマスク１３との間の空間に進出し、マスク１３に設けられた図示しないマーク(マスク側マーク)と基板ＫＢに設けられた図示しないマーク（基板側マーク）の双方を撮像することが可能である（図５（ａ））。

【0021】

図２において、基板保持部移動機構１７は、基板ＫＢを保持した基板保持部１２をＸ方向、Ｙ方向、Ｚ方向およびＸＹ面内の回転方向（θ方向）に移動させる。基板保持部移動機構１７は、制御部で求められたマスク１３と基板ＫＢとの間の相対位置に基づいて基板保持部１２をＸ、Ｙおよびθ方向に移動させ、マスク１３に対して基板ＫＢを位置合わせした状態で基板保持部１２を上昇させる。これにより基板保持部１２は、基板ＫＢを上昇させ、マスク１３の下面に接触させる（図５（ｂ））。

【0022】

図１および図２において、印刷ヘッド１８は、Ｘ方向に延びたヘッドベース１８ａと２つのスキージ１８ｂを備えている。スキージ１８ｂはＸ方向に延びた板状の部材から成る。２つのスキージ１８ｂはＹ方向に対向し、かつ、下方に向かって間隔が広がるように配置されている（図２）。２つのスキージ１８ｂはヘッドベース１８ａに対して独立して昇降させることができる。

【0023】

図２において、印刷ヘッド移動機構１９は、一方のスキージ１８ｂの下端をマスク１３の上面に当接させた印刷ヘッド１８をＹ方向に移動させる（図５（ｂ）→図６（ａ））。これにより印刷ヘッド１８は、スキージ１８ｂによりマスク１３上のペーストＰｓｔを掻き寄せて、マスク１３の開口１３ＫにペーストＰｓｔを充填し、基板ＫＢの電極ＤＫにペーストＰｓｔを印刷（塗布）する。

【0024】

マスク１３の開口１３ＫにペーストＰｓｔが充填されたら、基板保持部移動機構１７は、基板保持部１２を下降させて基板ＫＢをマスク１３から分離（版離れ）させる（図６（ｂ）中に示す矢印Ｂ）。基板ＫＢがマスク１３から版離れしたら、基板搬送部１１は基板ＫＢを外部に排出する。

【0025】

このように本実施の形態におけるスクリーン印刷装置１は、搬入された基板ＫＢを保持する基板保持部１２と、基板保持部１２を移動させる基板保持部移動機構１７と、基板ＫＢが接触されたマスク１３の開口１３ＫにペーストＰｓｔを充填して基板ＫＢにペーストＰｓｔを印刷する印刷ヘッド１８と、これからペーストが印刷される基板ＫＢを搬入し、印刷ヘッド１８によりペーストＰｓｔが印刷された後、基板保持部移動機構１７によってマスク１３から分離された基板ＫＢを搬出する基板搬送部１１を備えた構成となっている。

【0026】

マスク清掃ユニット２１は版離れがなされた後のマスク１３の下面に付着しているペーストＰｓｔを掻き取るマスク清掃手段として機能を有するものである。マスク清掃ユニット２１は、図７に示すように、ブレード保持体４１と、ブレード保持体４１に保持された複数（ここでは４つ）のブレード４２を備えている。ブレード保持体４１は全体としてＸ方向に延びて上方に開口した枠体４１ａと、枠体４１ａのＸ方向の両端部に設けられたマスク受け部４１ｂを備えている。複数のブレード４２はＸ方向に延びた板状の部材から成り、Ｙ方向に並行に並んだ状態で枠体４１ａ内に保持されている。本実施の形態ではブレード４２は樹脂から製造されており、適度な可撓性を有した部材となっている。

【0027】

２つのマスク受け部４１ｂの上面であるマスク当接面４１Ｔ（図７）は水平面と平行であり、枠体４１ａの上面よりも相対的に高い位置に位置している（図８）。ブレード４２は垂直姿勢（ＸＺ面に平行な姿勢）から上縁（エッジ４２Ｅ）を前方に傾けた傾斜姿勢で枠体４１ａに保持されており（図７および図８）、この状態で各ブレード４２のエッジ４２Ｅは、２つのマスク受け部４１ｂの上面（マスク当接面４１Ｔ）よりも上方に位置した状態となっている（図８）。

【0028】

マスク清掃ユニット移動機構２２は、マスク清掃ユニット２１をマスク１３の下面に沿った水平方向（Ｙ方向）に移動させるマスク清掃手段移動部として機能するものであり、図１に示すように、マスク保持部１４のＸ方向の外側をＹ方向に延びた移動ガイド２２ａと、Ｘ方向に延びた移動ベース２２ｂを備えている。移動ベース２２ｂは移動ガイド２２ａによって支持された状態で、Ｙ方向に移動自在になっている。

【0029】

移動ベース２２ｂの上部にはマスク清掃ユニット２１（詳細にはブレード保持体４１の枠体４１ａ）が取り付けられている。移動ベース２２ｂは枠体４１ａの内部空間と通じる空間を有しており、枠体４１ａの内部空間内の空気は移動ベース２２ｂに繋がる吸引装置２２Ｓ（図２）によって吸引することができる。

【0030】

移動ベース２２ｂ（すなわちマスク清掃ユニット２１）は、マスク保持部１４におけるＹ方向の外側（詳細には後方であり作業者ＯＰ）の位置を待機位置としている。マスク清掃ユニット２１によってマスク１３の下面に付着したペーストＰｓｔを掻き取る清掃作業（マスク清掃作業）を行う場合には、マスク清掃ユニット移動機構２２によって、待機位置に位置したマスク清掃ユニット２１を前方に移動させた後、向きを反転させてマスク清掃ユニット２１を後方に移動させる（図９中に示す矢印Ｃ）。

【0031】

マスク清掃ユニット２１が後方に移動されるとき（図１０（ａ）→図１０（ｂ））、マスク清掃ユニット２１は４つのブレード４２それぞれのエッジ４２Ｅをマスク１３の下面に当接させるとともに、一対のマスク受け部４１ｂそれぞれの上面（マスク当接面４１Ｔ）をマスク１３の下面に当接させる。このためマスク清掃ユニット２１がマスク清掃ユニット移動機構２２によって後方に移動されると、４つのブレード４２はそれぞれマスク１３の下面を摺動し、マスク１３の下面に付着しているペーストＰｓｔをエッジ４２Ｅにおいて掻き取る。各ブレード４２はマスク１３の下面に当接している間、進行方向とは反対の方向（ここでは前方）に弾性的に撓むように変形することによって、マスク１３の下面にエッジ４２Ｅを密着させた状態を維持する（図１０（ａ）→図１０（ｂ））。

【0032】

上記ようにブレード４２がマスク１３の下面に当接している間、一対のマスク受け部４１ｂは、ブレード４２が過剰な力でマスク１３に押し当てられないようにするためのストッパとして機能する。これによりブレード４２の弾性変形は一定範囲内に保たれ、ブレード４２の摩耗の進行が想定の範囲内にコントロールされる。

【0033】

マスク清掃ユニット２１がブレード４２によってマスク１３の下面に付着したペーストＰｓｔを掻き取っている間（図１０（ａ）→図１０（ｂ））、ブレード保持体４１の枠体４１ａ内の空気は吸引装置２２Ｓによって吸引される。これによりマスク１３の開口１３Ｋ内に付着しているペーストＰｓｔが隣接するブレード４２の間から吸い出され（図１０（ａ），（ｂ）中に示す矢印Ｄ）、マスク１３に付着したペーストＰｓｔが取り除かれる。

【0034】

このように本実施の形態のマスク清掃ユニット２１は、ブレード４２の上縁（エッジ４２Ｅ）をマスク１３の下面に当接させた状態でマスク１３の下方をマスク１３と平行な水平方向（Ｙ軸方向）に移動することによって、マスク１３の下面に付着したペーストＰｓｔを掻き取る構成となっている。

【0035】

マスク清掃ユニット２１によるマスク清掃作業が終了したら、マスク清掃ユニット移動機構２２はマスク清掃ユニット２１を待機位置に復帰させる。待機位置に復帰したマスク清掃ユニット２１は各ブレード４２のエッジ４２Ｅと一対のマスク受け部４１ｂをマスク１３から離間させる。

【0036】

図１１は、マスク清掃作業の終了後、ブレード４２のエッジ４２Ｅがマスク１３の下面から離間した状態のマスク清掃ユニット２１を示している。各ブレード４２は、マスク１３から離間した状態では弾性的に変形していない元の形状に復帰する。そして各ブレード４２のエッジ４２Ｅは、２つのマスク受け部４１ｂの上面（マスク当接面４１Ｔ）よりも上方に位置した状態となる。

【0037】

ブレード清掃ユニット２３は、マスク清掃作業においてマスク清掃ユニット２１がブレード４２によりマスク１３の下面から掻き取ったペーストＰｓｔを拭き取って清掃するブレード清掃手段として機能する。このためブレード清掃ユニット２３は、図３および図４に示すように、マスク清掃ユニット２１の待機位置に相当する位置、すなわち、平面視におけるマスク１３の外側（マスク保持部１４におけるマスク１３が設置される領域の後方）の位置に位置する。

【0038】

ブレード清掃ユニット保持部２４は、ブレード清掃ユニット２３をマスク清掃ユニット２１の待機位置に相当する位置（平面視におけるマスク１３の外側の位置）に保持するブレード清掃手段保持部として機能する。このためブレード清掃ユニット保持部２４は、図３および図４に示すように、マスク保持部１４を構成する一対のマスク支持ガイド３１のうちマスク１３の外側領域（詳細にはマスク保持部１４におけるマスク１３が設置される領域の後方領域）に設けられている。

【0039】

図３および図４において、ブレード清掃ユニット保持部２４は仕切り部５１、一対の位置決め部５２、一対の支持部５３、一対の案内部５４および一対のフック部５５を備えている。仕切り部５１はＸ方向に延びた部材であり、一対のマスク支持ガイド３１に両端部が支持されている。

【0040】

図３および図４において、一対の位置決め部５２はそれぞれ仕切り部５１の両端それぞれの後面側に設けられている。図１２にも示すように、一対の位置決め部５２はそれぞれブロック状の部材から成り、後面である被当接面５２Ｍには係合穴５２Ｈが設けられている。

【0041】

図３、図１２および図１３において、一対の支持部５３はそれぞれ、仕切り部５１から後方に延びた形状を有する。各支持部５３の上面には、後方から前方に向かってなだらかに上昇する斜面部を有するガイド面５３Ｍが形成されている。案内部５４は本実施の形態ではマスク支持ガイド３１の一部から成り、内側（一対の案内部５４が対向する側）の面である案内面５４ＭはＹＺ面に平行に形成されている。

【0042】

図３、図４および図１２から分かるように、一対の支持部５３は、マスク保持部１４を構成する一対のマスク支持ガイド３１の一部（仕切り部５１よりも後方の部分）から成っている。すなわち本実施の形態では、ブレード清掃ユニット保持部２４はマスク保持部１４と一体化して設けられた構成となっている。このためブレード清掃ユニット保持部２４をマスク保持部１４に取り付ける構造物を省略でき、製造コストを安価にすることができる。

【0043】

図３、図４および図１４において、ブレード清掃ユニット２３は、拭取り部６１、拭取り材移動機構６２、一対の被保持部６３およびギア操作部６４を備えている。拭取り部６１は、図１４および図１５に示すように、ベース部７１、保持部７２、拭取り材ホルダ７３、拭取り材７４、ギア７５およびトルクリミッタ７６を備えている。

【0044】

図１４および図１５において、ベース部７１は水平方向に延びた板状の部材から成り、保持部７２はブロック状の部材から成る。保持部７２は、ベース部７１の上面に立設された複数の位置決めのためのピン７１Ｐ（図１４）に側方から当接されることでベース部７１に対して位置決めされ、その状態でベース部７１に上方から螺入されたボルト７１Ｂによってベース部７１上に固定されている。

【0045】

図１４および図１５において、拭取り材ホルダ７３は、一端（後端）側が保持部７２によって保持された回転軸７３ａ、回転軸７３ａの他端（前端）側に設けられた円盤状のベース７３ｂおよびベース７３ｂから回転軸７３ａの延びる方向に沿って前方に延びた複数の保持棒７３ｃを有している。回転軸７３ａの軸線７３Ｊは、マスク清掃ユニット２１のブレード４２の延びる方向（Ｘ方向）と直交する方向（Ｙ方向）から角度Θだけ傾いた姿勢で水平面内を延びている（図１４）。拭取り材７４は例えば多孔質材から成り、円周面を備えた立体形状（円柱形状）を有している（図７参照）。

【0046】

拭取り材７４は複数の保持棒７３ｃに挿通されることによって、拭取り材ホルダ７３に着脱自在に保持されている。ギア７５は回転軸７３ａに固定して設けられており、回転軸７３ａと一体となって回転軸７３ａの軸線７３Ｊまわりに回転する。図１６（図１６は図１４中に示す矢視Ｖ１－Ｖ１から見た図）に示すように、ギア７５は外周に多数の歯（外周歯７５Ｔ）を有しており、その外周歯７５Ｔは回転軸７３ａの軸線７３Ｊに対して傾いている。すなわちギア７５は本実施の形態では斜歯歯車であり、その外周歯７５Ｔの向き（幅方向に延びる峰）はＹＺ面とほぼ平行に延びている（図１４）。

【0047】

図１４および図１５において、トルクリミッタ７６は保持部７２内に設けられており、回転軸７３ａが伝達するトルクの制限を行う。詳細には、トルクリミッタ７６は、拭取り材７４またはギア７５から回転軸７３ａに作用するトルクが予め定めた所定の制限値（トルク制限値）以下である場合にはそのトルクが保持部７２に伝達されるようにし（回転軸７３ａの回転は阻止される）、ギア７５から回転軸７３ａに作用するトルクがトルク制限値を上回る場合にはそのトルクが保持部７２に伝達されないようにする（回転軸７３ａの回転は許容される）。

【0048】

拭取り材移動機構６２は全体としてＸ方向に延びた機構部であり、拭取り材７４を（直接的にはベース部７１を）Ｘ方向に移動させる（図７中に示す矢印Ｅ）。これにより拭取り材７４は、マスク清掃ユニット２１が備えるブレード４２の一方側の端部（ここでは右端部）に設定された初期位置（図７中に実線で示す拭取り材７４参照）と、ブレード４２の他方側の端部（ここでは左端部）に設定された最大移動位置（図７中に破線で示す拭取り部６１参照）との間で移動する。

【0049】

図３および図４において、一対の被保持部６３は、拭取り材移動機構６２のＸ方向の両端部から前方に延びて設けられている。すなわち一対の被保持部６３は、マスク清掃ユニット２１が備えるブレード４２に沿った拭取り材７４の移動方向である拭取り材移動方向（Ｘ方向）に離れた位置に配置されている。

【0050】

図３において、一対の被保持部６３それぞれの前端部には、Ｘ方向の内側（一対の被保持部６３が対向する側）に突出して延びた突出部６３Ｔが形成されている。突出部６３Ｔの前面である当接面６３Ｍからは係合ピン６３Ｐが前方に突出して延びている（図１２および図１４も参照）。

【0051】

図３、図４および図１４において、ギア操作部６４は、ブレード清掃ユニット２３が備える一対の被保持部６３のうちの一方側（ここでは右側の被保持部６３）に設けられている。図１６に示すように、ギア操作部６４はスプリング付きの蝶番８１、スペーサ８２およびギア接触部材８３を備えて構成されている。

【0052】

図１４および図１６において、蝶番８１は一方の羽根部（固定側羽根部８１ａ）が被保持部６３の上面に水平姿勢で固定されており、他方の羽根部（可動側羽根部８１ｂ）はＹ方向に延びた軸部８１ｃの軸線まわりに揺動自在になっている。スペーサ８２は蝶番８１の可動側羽根部８１ｂの下面側に取り付けられており、ギア接触部材８３は基端側（図１６における右端側）がスペーサ８２に取り付けられている。このためギア接触部材８３はスペーサ８２および可動側羽根部８１ｂと一体となって、軸部８１ｃの軸線を支点として揺動（起伏）する。

【0053】

スペーサ８２は、ギア接触部材８３が水平姿勢を超えて倒伏することがないように、可動側羽根部８１ｂの（従ってギア接触部材８３の）起伏範囲を制限する。これによりギア接触部材８３は、その先端部８３Ｔに押し上げ力が作用していない状態では、図１６に示すように、スペーサ８２が被保持部６３に当接することで水平姿勢となり、固定側羽根部８１ａと同一平面上に位置する。水平姿勢に位置した状態のギア接触部材８３の先端部８３Ｔに押し上げ力が作用すると、可動側羽根部８１ｂは軸部８１ｃの軸線まわりに起仰（先端部８３Ｔを上げる方向）するが、その押仕上げ力が除去されると、付勢ばねの付勢力によって元の水平姿勢に復帰する。

【0054】

図１４および図１６において、ギア接触部材８３にはＺ方向（ギア接触部材８３の厚さ方向）に貫通した開口部８３Ｋが設けられている。拭取り材７４が初期位置に位置した状態では（図１４）、ギア７５が有する外周歯７５Ｔのうち１つの外周歯７５Ｔが下方から係合する（図１６も参照）。開口部８３Ｋは平面視においてほぼ長方形形状であり、Ｘ方向に対向する２辺のうち左側の辺はＹ方向、すなわち斜歯歯車であるギア７５の外周歯７５Ｔの向きとほぼ一致している。

【0055】

図１４に示すように、拭取り材７４が初期位置に位置してギア７５の外周歯７５Ｔのうちの１つがギア接触部材８３の開口部８３Ｋに下方から入り込んでいる状態では（図１６）、ギア接触部材８３はギア７５から押し上げ力を受けない。このため拭取り材７４が初期位置に位置した状態では、蝶番８１の可動側羽根部８１ｂは固定側羽根部８１ａと同一平面上に位置する。

【0056】

ここで、拭取り材７４が初期位置から最大移動位置に向かって移動すると（図１７（ａ）→図１７（ｂ））、開口部８３Ｋに入り込んでいた外周歯７５Ｔは水平姿勢となっているギア接触部材８３からその移動を妨げる方向（ここでは右向き）の力を受ける。しかしながら、このときギア接触部材８３の開口部８３Ｋ内に入り込んでいた外周歯７５Ｔはギア接触部材８３の先端部８３Ｔを押し上げて（起仰させて）開口部８３Ｋから離脱するので、ギア７５はギア接触部材８３によって回転させられることなく、最大移動位置の側に移動する（図１７（ｂ）中に示す矢印Ｆ）。

【0057】

一方、これとは反対に、最大移動位置から移動してきた拭取り材７４が初期位置に戻る場合には（図１８（ａ）→図１８（ｂ）→図１８（ｃ））、その戻る過程において、ギア７５の外周歯７５Ｔのうちの１つがギア接触部材８３の先端部８３Ｔに側方（ここでは左方）から当接する。このとき外周歯７５Ｔはギア接触部材８３を倒伏方向（先端部８３Ｔを下げる方向）に押圧するが、ギア接触部材８３はスペーサ８２があるために倒伏方向へは変位せず水平姿勢を支持する。このため外周歯７５Ｔにはギア接触部材８３からの大きな反力Ｇ（図１８（ｂ））が作用する。

【0058】

トルクリミッタ７６に設定されるトルク制限値（Ｔ０）は、上記反力Ｇによってギア７５（すなわち回転軸７３ａ）に作用するトルク（Ｔ１）よりも小さい値に設定されている（Ｔ０＜Ｔ１）。このため回転軸７３ａはギア７５とともに軸線７３Ｊまわりに回転する（図１８（ｃ）中に示す矢印Ｒ）。このとき回転する回転軸７３ａの角度はギア７５の外周歯７５Ｔの１つ分の角度であり、拭取り材７４も回転軸７３ａの軸線７３Ｊまわりにギア７５の外周歯７５Ｔの１つ分だけ回転する。

【0059】

このような構成のブレード清掃ユニット２３をブレード清掃ユニット保持部２４に装着するときには、ブレード清掃ユニット２３が備える一対の突出部６３Ｔをブレード清掃ユニット保持部２４が備える一対の支持部５３（ガイド面５３Ｍ）に載せる。そして、その状態でブレード清掃ユニット２３の全体を前方へ移動させる。

【0060】

ブレード清掃ユニット２３を前方へ移動させると、ブレード清掃ユニット２３の一対の係合ピン６３Ｐは、ブレード清掃ユニット保持部２４の一対の係合穴５２Ｈに入り込み、一対の突出部６３Ｔそれぞれの当接面６３Ｍは、一対の位置決め部５２それぞれの被当接面５２Ｍに当接する（図３→図４および図１２→図１３）。これによりブレード清掃ユニット２３は、ブレード清掃ユニット保持部２４に対してＹ方向に位置決めされる。

【0061】

一対の突出部６３Ｔそれぞれの当接面６３Ｍが一対の位置決め部５２それぞれの被当接面５２Ｍに当接するまでの間に、ブレード清掃ユニット２３の一対の被保持部６３（突出部６３Ｔ）はそれぞれ、ブレード清掃ユニット保持部２４の一対の支持部５３（ガイド面５３Ｍ）によって下面が案内され、ブレード清掃ユニット保持部２４に対するＺ方向の位置決めがなされる。また一対の被保持部６３（突出部６３Ｔ）はそれぞれ、ブレード清掃ユニット保持部２４の一対の案内部５４（案内面５４Ｍ）によって側面が案内されて、Ｘ方向の位置決めがなされる。

【0062】

ブレード清掃ユニット２３の一対の突出部６３Ｔは、その当接面６３Ｍがブレード清掃ユニット保持部２４の一対の被当接面５２Ｍに当接するまでの間に、ブレード清掃ユニット保持部２４に設けられた一対のフック部５５それぞれの傾斜面５５Ｍ（図１２）に当接してフック部５５を弾性的に押し下げる。そして、当接面６３Ｍが被当接面５２Ｍに当接するタイミングで突出部６３Ｔの下面が傾斜面５５Ｍを通過し終えると、フック部５５は突出部６３Ｔによる押し下げから解放されて元の姿勢に復帰する。

【0063】

元に姿勢に復帰したフック部５５は突出部６３Ｔの背面６３Ｎ（図３および図１２）に係合する（図１２→図１３）。これによりブレード清掃ユニット２３はブレード清掃ユニット保持部２４に保持（固定）される。ブレード清掃ユニット２３がブレード清掃ユニット保持部２４に保持された状態では、ブレード清掃ユニット２３が備える拭取り部６１の拭取り材７４は、待機位置に位置したマスク清掃ユニット２１の上方に位置した状態となる（図１および図２）。

【0064】

このように本実施の形態におけるスクリーン印刷装置１が備えるブレード清掃ユニット２３は、マスク清掃ユニット２１が備えるブレード４２に接触する拭取り材７４と、拭取り材７４をブレード４２のエッジ４２Ｅに沿った方向（Ｘ方向）に移動させてブレード４２が掻き取ったペーストＰｓｔを拭き取る拭取り材移動機構６２と、ブレード４２に沿った方向（Ｘ方向）に離れた位置に配置され、ブレード清掃ユニット保持部２４に保持される一対の被保持部６３とを備えた構成となっている。そして、このブレード清掃ユニット２３は、ブレード４２に沿った方向（Ｘ方向）と直交する方向（Ｙ方向）に移動されてブレード清掃ユニット保持部に装着（保持）されるようになっており、ブレード清掃ユニット保持部２４は、ブレード清掃ユニット２３が装着される際に一対の被保持部６３（詳細には一対の突出部６３Ｔ）の下面を支持する一対の支持部５３と、支持部５３上を移動する被保持部６３それぞれの側面を案内する一対の案内部５４とを有する構成となっている。

【0065】

ブレード清掃ユニット保持部２４に保持された状態のブレード清掃ユニット２３を取り外す場合には、一対のフック部５５を押し下げながらブレード清掃ユニット２３を後方へ引き抜けばよい。このように本実施の形態におけるスクリーン印刷装置１では、ブレード清掃ユニット２３のブレード清掃ユニット保持部２４への着脱作業を行い易いものとなっている。

【0066】

上述したように、本実施の形態におけるスクリーン印刷装置１は、ブレード４２が掻き取ったペーストＰｓｔを拭き取るブレード清掃ユニット２３を着脱自在な状態で保持するブレード清掃ユニット保持部２４を備えており、ブレード清掃ユニット保持部２４からブレード清掃ユニット２３を容易に取り外すことができるので、ブレード清掃ユニット２３がスクリーン印刷装置１のメンテナンスや点検等の際の支障になることがない。また、一対の被保持部６３を一対の支持部５３で支持するので、ブレード清掃ユニット２３をブレード清掃ユニット保持部２４によって安定的に保持することができる。

【0067】

ブレード清掃ユニット２３によって、マスク清掃作業後におけるマスク清掃ユニット２１の各ブレード４２のエッジ４２Ｅに付着したペーストＰｓｔを拭き取る作業（ブレード清掃作業）を行う場合には、拭取り材移動機構６２によって、初期位置に位置した拭取り部６１を最大移動位置へ向けて移動させる。これにより拭取り材７４は４つのブレード４２それぞれのエッジ４２Ｅに接触した状態でＸ方向、すなわち各ブレード４２の延びる方向に移動してエッジ４２Ｅ上を摺動し、各ブレード４２がマスク１３の下面から掻き取ったペーストＰｓｔを拭き取る。

【0068】

拭取り材７４がブレード４２のエッジ４２Ｅ上を摺動している間、拭取り材７４は、図１９（ａ），（ｂ）に示すように（図１９（ｂ）は図１９（ａ）中に示す矢視Ｖ２－Ｖ２から見た図）、拭取り材７４が有する円周面のうち軸線７３Ｊを円周面に投影した投影線ＴＳを中心とした一定範囲内の面を拭取り面７４ＭとしてペーストＰｓｔを拭き取る。本実施の形態では、マスク清掃ユニット２１は４つのブレード４２を備えているため、拭取り材７４が４つのブレード４２から拭き取ったペーストＰｓｔの跡は、４本の平行な線となる（図１９（ｂ））。これら４つの平行なペーストＰｓｔの線の延びる方向はブレード４２が延びる方向（Ｙ方向）と平行であり、平面視において回転軸７３ａの軸線７３Ｊ（投影線ＴＳ）から角度Θだけ傾いた方向となる。

【0069】

上記のように拭取り材７４がブレード４２のエッジ４２Ｅ上を摺動するためには拭取り材７４が回転軸７３ａとともに回転してはならず、回転軸７３ａが回転するのを阻止する必要がある。このためトルクリミッタ７６に設定されるトルク制限値（Ｔ０）は、ブレード清掃作業時（拭取り材７４の移動時）に拭取り材７４の拭取り面７４Ｍがブレード４２から抗力を受けることによって回転軸７３ａに作用するトルク（Ｔ２）よりも大きい値に設定されている（Ｔ２＜Ｔ０）。

【0070】

このように本実施の形態では、回転軸７３ａが伝達するトルクの制限を行うトルクリミッタ７６を備えており、そのトルクリミッタ７６により、拭取り材７４が拭取り材移動機構６２によってブレード４２に沿って移動するときには回転軸７３ａの回転が阻止され、拭取り材移動機構６２が拭取り材ホルダ７３を移動させてギア７５をギア接触部材８３に接触させるときには回転軸７３ａの回転が許容されるようになっている。そのため、トルクリミッタ７６におけるトルク制限値（Ｔ０）と、最大移動位置の側に位置していた拭取り材７４が初期位置の側に移動する過程でギア７５の外周歯７５Ｔのうちの１つがギア接触部材８３の先端部８３Ｔから受ける反力Ｇ（図１８（ｂ））によって回転軸７３ａに作用するトルク（Ｔ１）と、ブレード清掃作業時に拭取り材７４がブレード４２から受ける抗力により回転軸７３ａが受けるトルク（Ｔ２）とは、Ｔ２＜Ｔ０＜Ｔ１の関係を有するものとなっている。

【0071】

本実施の形態では、上記のように、トルクリミッタ７６におけるトルク制限値（Ｔ０）がブレード清掃作業時に拭取り材７４がブレード４２から受ける抗力により回転軸７３ａが受けるトルク（Ｔ２）よりも大きい値に設定されているので（Ｔ２＜Ｔ０）、拭取り材７４をブレード４２の延びる方向（Ｘ方向）のどちらの方向へ移動させる場合であっても回転軸７３ａは回転しない。このためブレード清掃作業においては、ブレード清掃ユニット２３は初期位置から最大移動位置へ移動する経路(往路)においてだけ、あるいは最大移動位置から初期位置まで移動する経路（復路）においてだけでなく、往路と復路の双方において拭取り材７４によりブレード４２からペーストＰｓｔを拭き取ることができる。

【0072】

このように本実施の形態におけるスクリーン印刷装置１では、マスク清掃ユニット２１のブレード４２に付着したペーストＰｓｔを拭き取るようになっているので、マスク清掃ユニット２１がマスク１３の清掃作業で掻き取ったペーストを次の清掃作業でマスク１３に付着させてしまう事態を防止することができる。

【0073】

本実施の形態では、拭取り部６１を構成するギア７５は、拭取り材移動機構６２によって拭取り材７４を初期位置から最大移動位置まで移動させる往路動作の際には、ギア接触部材８３によって回転させられることはなく（図１７（ａ）→図１７（ｂ））、最大移動位置から初期位置に移動させる復路動作の際には、ギア７５の外周歯７５Ｔがギア接触部材８３に当接した際に、ギア接触部材８３から受ける反力Ｇによって回転させられる（図１８（ａ）→図１８（ｂ）→図１８（ｃ））。このときギア７５は外周歯７５Ｔの１つ分だけ回転するので、拭取り材７４における拭取り面７４Ｍは、外周歯７５Ｔの１つ分に相当する距離Ｌだけ拭取り材７４の円周面上を移動し、拭取り材７４における拭取り面７４Ｍが変更される。

【0074】

このように本実施の形態におけるスクリーン印刷装置１が備えるブレード清掃ユニット２３は、軸線７３Ｊを中心に回転する回転軸７３ａを有して円柱状（円周面を備えた立体形状）の拭取り材７４を保持する拭取り材ホルダ７３と、拭取り材ホルダ７３に設けられたギア７５と、拭取り材ホルダ７３の移動範囲（ここでは初期位置と最大移動位置との間の範囲）内のギア７５と接触し得る位置に配置されたギア接触部材８３を備えた構成となっている。そして、拭取り材移動機構６２が拭取り材ホルダ７３を移動させることによってギア７５がギア接触部材８３に接触すると、拭取り材ホルダ７３が軸線７３Ｊを中心に回転して拭取り面７４Ｍを変更するようになっている。

【0075】

本実施の形態では、軸線７３Ｊを中心に拭取り材ホルダ７３を回転させるという単純な動作で拭取り材７４のブレード４２に接触する部分（拭取り面７４Ｍ）を変更することができ、構成を簡素化することが可能である。また、拭取り材ホルダ７３を回転させるためだけの専用の動力源（例えばモータやシリンダ等）を必要としないので、装置構成を簡単にすることができる。

【0076】

本実施の形態では、拭取り材ホルダ７３、ギア７５およびギア接触部材８３は、拭取り材７４をブレード４２の延びる方向（Ｘ方向）と直交する方向（Ｙ方向）に対して斜めに交差する軸線７３Ｊを中心に回転させることにより、拭取り材７４のブレード４２に接触する部分（拭取り面７４Ｍ）を変更する接触部分変更機構９０となっている。

【0077】

図２０（ａ），（ｂ），（ｃ）は、ギア接触部材８３によりギア７５を外周歯７５Ｔの１つ分ずつ回転させた場合に、拭取り材７４の拭取り面７４Ｍに形成されるペーストＰｓｔの跡の状況を模式的に示したものである。図２０（ｂ）は図２０（ａ）の状態から外周歯７５Ｔの１つ分に相当する距離Ｌだけ拭取り面７４Ｍが移動した状態を示しており、図２０（ｃ）は図２０（ａ）の状態から外周歯７５Ｔの５つ分に相当する距離５Ｌ（Ｌ×５）だけ拭取り面７４Ｍが移動した状態を示している。

【0078】

図２０（ａ），（ｂ），（ｃ）から分かるように、拭取り面７４ＭにおいてペーストＰｓｔの跡の延びる方向は、拭取り材７４が有する円周面のうち回転軸７３ａの軸線７３Ｊを円周面に投影した投影線ＴＳと直交する方向に対して傾いている。このため、或る拭取り面７４Ｍと外周歯７５Ｔの１つ分に相当する距離Ｌだけ移動した拭取り面７４Ｍとがその一部（端部）においてが重なったとしても、或る拭取り面７４ＭにおけるペーストＰｓｔの跡と、距離Ｌだけ移動した拭取り面７４ＭにおけるペーストＰｓｔとは、その端部領域ＴＲにおいて重ならない（図２０（ｂ），（ｃ））。

【0079】

これは、拭取り材７４が軸線７３Ｊを中心とする円周面を備えた立体形状（円柱形状）であって、その軸線７３Ｊを中心に回転することでブレード４２との拭取り面７４Ｍを変えることができる構成であることに加えて、回転軸７３ａの軸線７３Ｊがブレード４２の延びる方向（Ｘ方向）と直交する方向（Ｙ方向）から水平方向に傾いていることによって得られる効果である。

【0080】

次に、スクリーン印刷装置１が行うスクリーン印刷動作の流れ（スクリーン印刷方法）を説明する。スクリーン印刷装置１によるスクリーン印刷方法は、図２１に示すように、基板搬入工程、接触工程、印刷工程、版離れ工程、基板搬出工程をこの順で行い、これと並行して、マスク清掃工程とブレード清掃工程をこの順で実行するようになっている。

【0081】

基板搬入工程は、これからペーストＰｓｔが印刷される基板ＫＢを搬入する基板搬入作業を行う工程であり、基板搬送部１１がスクリーン印刷装置１の外部から供給された基板ＫＢを搬送（搬入）することによって実行される。接触工程は、基板搬入工程で搬入した基板ＫＢをマスク１３に位置合わせしてマスク１３の下面に接触させる接触作業を行う工程であり、基板保持部移動機構１７によって基板ＫＢをマスク１３の下面に接触させることによって実行される。

【0082】

印刷工程は、接触工程で基板ＫＢを接触させたマスク１３の開口１３ＫにペーストＰｓｔを充填して基板ＫＢにペーストＰｓｔを印刷する印刷作業を行う工程であり、基板ＫＢが接触されたマスク１３の開口１３Ｋに印刷ヘッド１８でペーストＰｓｔを充填することによって実行される。版離れ工程は、印刷工程の後、基板ＫＢをマスク１３から分離させる版離れ作業を行う工程であり、ペーストＰｓｔが印刷された基板ＫＢを基板保持部移動機構１７によってマスク１３から分離させることによって実行される。基板搬出工程は、印刷工程が実行された後の基板ＫＢを搬出する基板搬出作業を行う工程であり、基板搬送部１１が基板ＫＢをスクリーン印刷装置１の外部に搬送することによって実行される。

【0083】

マスク清掃工程は、印刷工程でマスク１３の下面に付着したペーストＰｓｔをマスク清掃ユニット２１のブレード４２で掻き取るマスク清掃作業を行う工程であり、マスク清掃ユニット移動機構２２によってマスク清掃ユニット２１マスク１３の下面で移動されることによって実行される。ブレード清掃工程は、マスク清掃工程でマスク１３の下面からペーストＰｓｔを掻き取ったブレード４２をブレード清掃ユニット２３で清掃するブレード清掃作業を行う工程であり、ブレード清掃ユニット２３が拭取り材移動機構６２により拭取り材７４をブレード４２の延びる方向に移動させることによって実行される。

【0084】

本実施の形態におけるスクリーン印刷方法を構成する基板搬入工程、印刷工程、基板搬出工程、マスク清掃工程およびブレード清掃工程のうち、基板搬入工程、印刷工程および基板搬出工程はペーストＰｓｔの印刷対象である基板ＫＢの１枚ごとにこの順で実行される。マスク清掃工程はマスク１３にブレード４２を接触させて行うので印刷工程の実行中には行うことができない（ブレード清掃工程の実行中にも行うことができない）。従って、１枚の基板ＫＢについてペーストＰｓｔの印刷が終了するごとにマスク清掃作業を実行する場合には、図２１に示すように、マスク清掃作業を、版離れ作業（工程）が終了した後、次の接触作業（工程）が開始されるまでの間（基板ＫＢの搬出開始から次の基板ＫＢの搬入が完了するまでの間）に実行するようにする。

【0085】

また、ブレード清掃作業はマスク清掃工程でマスク１３の下面からペーストＰｓｔを掻き取ったマスク清掃ユニット２１のブレード４２を清掃する作業（工程）であるので、マスク清掃作業の実行中には行うことができず、マスク清掃作業が終了した後に開始することになる。ブレード清掃作業はマスク清掃作業が行われている間を除いて実行することが可能であるが、１枚の基板ＫＢについてペーストＰｓｔの印刷が終了するごとにマスク清掃作業（工程）とブレード清掃作業（固定）を実行する場合には、図２１に示すように、マスク清掃作業が終了してから次の版離れ作業（工程）が終了するまでの間にブレード清掃作業（工程）を完了するようにする。

【0086】

このように版離れ作業（工程）が終了した後、次の接触作業（工程）が開始されるまでの間にマスク清掃作業（工程）が実行され、そのマスク清掃作業が終了してから次の版離れ作業（工程）が終了するまでの間にブレード清掃作業（工程)が完了するようにすれば、マスク清掃作業のためにスクリーン印刷装置１の稼働を停止させる必要がないのは勿論のこと、ブレード清掃作業（工程）のためにもスクリーン印刷装置１の稼働を停止させる必要がない。よって本実施の形態におけるスクリーン印刷装置１（スクリーン印刷方法）によれば、スクリーン印刷装置１（ひいては部品実装ライン）の生産性の低下を防止しつつ、マスク１３の清掃作業で掻き取ったペーストＰｓｔが次のマスク１３に付着してしまう事態を防止することができる。

【0087】

前述の説明では、１枚の基板ＫＢについてペーストＰｓｔの印刷が終了するごとにマスク清掃作業を実行する場合を説明したが、マスク清掃作業（工程）は、基板ＫＢが１枚印刷されるごとに行われなければならないわけではなく、基板ＫＢが数枚印刷されるごとに行われるのであってもよい。あるいは図２２に示すように、版離れ終了直後のマスク１３の下面をカメラ１５によって撮像し、これにより得られた画像ＧＺ（図２３）に基づいて、開口１３ＫにおけるペーストＰｓｔの付着状況を調べる。そして、図２３に示すように、マスク１３の開口１３Ｋに滲み部分ＮＪや詰まり部分ＴＭが認められた場合に、それを契機としてマスク清掃作業を行い、その後にブレード清掃作業を行うようにしてもよい。

【0088】

（第１変形例）
本実施の形態における第１変形性を示す。第１変形例では、図２４に示すように、ブレード清掃ユニット２３が備えるギア７５が斜歯歯車ではなく平歯車になっている。また、ギア接触部材８３が備える開口部８３Ｋが平面視において台形上になっており、Ｘ方向に対向する２辺のうち左側の辺は、ギア７５の外周歯７５Ｔの向きとほぼ一致するように斜めを向いている。このような構成であっても、拭取り材移動機構６２が拭取り材ホルダ７３を移動させることによってギア７５がギア接触部材８３に接触すると、拭取り材ホルダ７３が回転軸７３ａの軸線７３Ｊを中心に回転するので、前述の実施の形態と同様の効果を得ることができる。

【0089】

（第２変形例）
次に、本実施の形態における第２変形例を示す。第２変形例では、図２５に示すように、ブレード清掃ユニット保持部２４が、マスク保持部１４とは別部材となっている。すなわち、第２変形例では、仕切り部５１から後方に延びる一対の案内部５４が一対のマスク支持ガイド３１の一部ではなく。一対のマスク支持ガイドとは独立した部材となっている。この第２変形例のようにブレード清掃ユニット保持部２４がマスク保持部１４とは別部材となっている構成は、一対のマスク支持ガイド３１のＹ方向の間隔が基板ＫＢのサイズに合わせて変化させることができるようになっている場合に（図２５中に示す矢印Ｈ参照）、極めて有用である。

【0090】

以上説明したように、本実施の形態におけるスクリーン印刷装置１では、マスク清掃ユニット２１のブレード４２に付着したペーストＰｓｔを拭き取るブレード清掃手段（ブレード清掃ユニット２３）を備えているので、マスク清掃ユニット２１がマスク１３の清掃作業で掻き取ったペーストＰｓｔを次の清掃作業でマスク１３に付着させてしまう事態を防止することができる。

【0091】

また本実施の形態におけるスクリーン印刷装置１では、ブレード４２の延びる方向（Ｘ方向）と直交する方向（Ｙ方向）に対して斜めに交差する軸線７３Ｊを中心に回転させることで拭取り材７４のブレード４２に接触する部分（拭取り面７４Ｍ）を変更することができ、しかも拭取り材７４の広い範囲をブレードの清掃に使用することが可能であるので、拭取り材７４の交換頻度を少なくでき、メンテナンスに要するコストを低減することができる。

【0092】

これまで本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上述したものに限定されず、種々の変形等が可能である。例えば、上述の実施の形態では、拭取り材７４は円周面を備えた立体形状（円柱形状）を有するものであったがこれは一例であり、拭取り材７４の形状は限定されない。

【産業上の利用可能性】

【0093】

マスクの清掃作業で掻き取ったペーストを次の清掃作業でマスクに付着させてしまう事態を防止することができるスクリーン印刷装置を提供する。

【符号の説明】

【0094】

１ スクリーン印刷装置
１３ マスク
１３Ｋ 開口
１７ 基板保持部移動機構
１８ 印刷ヘッド
２１ マスク清掃ユニット（マスク清掃手段）
２３ ブレード清掃ユニット（ブレード清掃手段）
２４ ブレード清掃ユニット保持部
４２ ブレード
６１ 拭取り部
６２ 拭取り材移動機構
６３ 被保持部
６４ ギア操作部
７３ 拭取り材ホルダ
７３ａ 回転軸
７３Ｊ 軸線
７４ 拭取り材
７４Ｍ 拭取り面
７５ ギア
７６ トルクリミッタ
８３ ギア接触部材
９０ 接触部分変更機構
Ｐｓｔ ペースト
ＫＢ 基板

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】

【図18】

【図19】

【図20】

【図21】

【図22】

【図23】

【図24】

【図25】