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特開2023-162929エキスパンド装置、半導体チップの製造方法および半導体チップ
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023162929
(43)【公開日】2023-11-09
(54)【発明の名称】エキスパンド装置、半導体チップの製造方法および半導体チップ
(51)【国際特許分類】
H01L 21/301 20060101AFI20231101BHJP
H01L 21/677 20060101ALI20231101BHJP
B23K 26/53 20140101ALI20231101BHJP
【ＦＩ】
H01L21/78 X
H01L21/78 P
H01L21/78 V
H01L21/78 B
H01L21/68 A
B23K26/53
【審査請求】未請求
【請求項の数】13
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022073645
(22)【出願日】2022-04-27
(71)【出願人】
【識別番号】000010076
【氏名又は名称】ヤマハ発動機株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100104433
【弁理士】
【氏名又は名称】宮園 博一
(72)【発明者】
【氏名】鈴木 芳邦
【テーマコード（参考）】
4E168
5F063
5F131
【Ｆターム（参考）】
4E168AE02
4E168CA06
4E168CB03
4E168CB07
4E168HA01
5F063AA26
5F063CB07
5F063CB19
5F063CB28
5F063CB29
5F063DD31
5F063DD32
5F063DD68
5F063DD71
5F063DD73
5F063DD75
5F063DD76
5F063DD83
5F063DD93
5F063DE33
5F063DG21
5F063EE21
5F063FF01
5F063FF05
5F063FF42
5F063FF43
5F063FF52
5F131AA02
5F131BA52
5F131BA53
5F131BB03
5F131CA31
5F131CA38
5F131DA13
5F131DA32
5F131DA33
5F131DA42
5F131DB22
5F131DD82
5F131EA22
5F131EB01
5F131EC33
5F131EC73
5F131EC75
5F131GA03
(57)【要約】
【課題】スキージ部および紫外線照射部の両方を設けた場合でも、装置の大型化を抑制することが可能なエキスパンド装置、半導体チップの製造方法および半導体チップを提供する。
【解決手段】このエキスパンド装置１は、エキスパンド部２０８によりエキスパンドされたシート部材Ｗ２のうちウエハＷ１の位置に対応するシート部材Ｗ２に紫外線を照射する紫外線照射部２１２と、エキスパンド部２０８によりシート部材Ｗ２をエキスパンドさせてウエハＷ１を複数の半導体チップＣｈに分割させた後、ウエハＷ１を局所的に押圧するスキージ部２１３と、紫外線照射部２１２およびスキージ部２１３の両方を移動させることが可能な共通の移動機構２１３ｃ、２１３ｄとを備える。
【選択図】図１５
【解決手段】このエキスパンド装置１は、エキスパンド部２０８によりエキスパンドされたシート部材Ｗ２のうちウエハＷ１の位置に対応するシート部材Ｗ２に紫外線を照射する紫外線照射部２１２と、エキスパンド部２０８によりシート部材Ｗ２をエキスパンドさせてウエハＷ１を複数の半導体チップＣｈに分割させた後、ウエハＷ１を局所的に押圧するスキージ部２１３と、紫外線照射部２１２およびスキージ部２１３の両方を移動させることが可能な共通の移動機構２１３ｃ、２１３ｄとを備える。
【選択図】図１５
【特許請求の範囲】
【請求項1】
ウエハが貼り付けられた伸縮性を有するシート部材をエキスパンドすることにより前記ウエハを複数の半導体チップに分割するエキスパンド部と、
前記エキスパンド部によりエキスパンドされた前記シート部材のうち前記ウエハの位置に対応する前記シート部材に紫外線を照射する紫外線照射部と、
前記エキスパンド部により前記シート部材をエキスパンドさせて前記ウエハを前記複数の半導体チップに分割させた後、前記ウエハを局所的に押圧するスキージ部と、
前記紫外線照射部および前記スキージ部の両方を移動させることが可能な共通の移動機構とを備える、エキスパンド装置。
前記エキスパンド部によりエキスパンドされた前記シート部材のうち前記ウエハの位置に対応する前記シート部材に紫外線を照射する紫外線照射部と、
前記エキスパンド部により前記シート部材をエキスパンドさせて前記ウエハを前記複数の半導体チップに分割させた後、前記ウエハを局所的に押圧するスキージ部と、
前記紫外線照射部および前記スキージ部の両方を移動させることが可能な共通の移動機構とを備える、エキスパンド装置。
【請求項2】
前記移動機構は、
前記紫外線照射部および前記スキージ部の両方を水平方向のうちの一方向に移動させる第１直線移動機構と、
上下方向に沿って延びる回動軸線回りに、少なくとも前記スキージ部を回動させる回動機構とを含む、請求項１に記載のエキスパンド装置。
前記紫外線照射部および前記スキージ部の両方を水平方向のうちの一方向に移動させる第１直線移動機構と、
上下方向に沿って延びる回動軸線回りに、少なくとも前記スキージ部を回動させる回動機構とを含む、請求項１に記載のエキスパンド装置。
【請求項3】
前記第１直線移動機構は、前記回動機構に取り付けられ、
前記回動機構は、前記紫外線照射部および前記スキージ部の両方を前記一方向に移動させることが可能な位置から前記一方向に直交する他方向に移動させることが可能な位置まで前記第１直線移動機構を回動させるように構成されている、請求項２に記載のエキスパンド装置。
前記回動機構は、前記紫外線照射部および前記スキージ部の両方を前記一方向に移動させることが可能な位置から前記一方向に直交する他方向に移動させることが可能な位置まで前記第１直線移動機構を回動させるように構成されている、請求項２に記載のエキスパンド装置。
【請求項4】
前記エキスパンド部は、前記シート部材をエキスパンドさせるエキスパンドリングを含み、
前記紫外線照射部、前記スキージ部および前記移動機構は、平面視において、前記エキスパンドリングの径方向の内側に配置されている、請求項１に記載のエキスパンド装置。
前記紫外線照射部、前記スキージ部および前記移動機構は、平面視において、前記エキスパンドリングの径方向の内側に配置されている、請求項１に記載のエキスパンド装置。
【請求項5】
前記紫外線照射部による紫外線照射と、前記スキージ部による前記ウエハの局所的な押圧とを、共通の前記移動機構により前記紫外線照射部および前記スキージ部を共に移動させながら並行して実施する制御を行うように構成された制御部をさらに備える、請求項１に記載のエキスパンド装置。
【請求項6】
前記制御部は、前記移動機構により水平方向のうちの一方向へ前記スキージ部を移動させて前記ウエハの局所的な押圧を行う場合、および、水平方向のうちの前記一方向に直交する他方向へ前記スキージ部を移動させて前記ウエハの局所的な押圧を行う場合の少なくともいずれかの押圧を行う場合に前記紫外線照射部による紫外線の照射を並行して実施する制御を行うように構成されている、請求項５に記載のエキスパンド装置。
【請求項7】
前記紫外線照射部は、前記スキージ部とは別個に共通の前記移動機構に取り付けられている、請求項１に記載のエキスパンド装置。
【請求項8】
前記紫外線照射部は、前記スキージ部内に一体的に設けられた状態で、共通の前記移動機構に取り付けられている、請求項１に記載のエキスパンド装置。
【請求項9】
水平方向における前記一方向に直交する他方向に移動させる第２直線移動機構をさらに備え、
前記第１直線移動機構は、前記第２直線移動機構に取り付けられるとともに、前記回動機構は、前記第１直線移動機構に取り付けられ、
前記紫外線照射部は、前記第１直線移動機構または前記回動機構に取り付けられ、
前記スキージ部は、前記回動機構に取り付けられている、請求項２に記載のエキスパンド装置。
前記第１直線移動機構は、前記第２直線移動機構に取り付けられるとともに、前記回動機構は、前記第１直線移動機構に取り付けられ、
前記紫外線照射部は、前記第１直線移動機構または前記回動機構に取り付けられ、
前記スキージ部は、前記回動機構に取り付けられている、請求項２に記載のエキスパンド装置。
【請求項10】
前記エキスパンド部は、前記シート部材をエキスパンドさせるエキスパンドリングを含み、
前記紫外線照射部、前記スキージ部および前記移動機構は、前記エキスパンドリング外に配置されている、請求項１に記載のエキスパンド装置。
前記紫外線照射部、前記スキージ部および前記移動機構は、前記エキスパンドリング外に配置されている、請求項１に記載のエキスパンド装置。
【請求項11】
前記紫外線照射部は、エキスパンド状態の前記シート部材に下方から照射するように構成され、
前記紫外線照射部は、紫外線を発光する紫外線発光部を含み、
前記紫外線発光部は、前記エキスパンド部により前記シート部材がエキスパンドされた前記エキスパンド状態において、前記ウエハを囲んだ状態で前記シート部材に貼り付けられたリング状部材の上面よりも、前記スキージ部の局所的な押圧が行われる前記シート部材の押圧面から下方に離間した位置に配置されている、請求項７に記載のエキスパンド装置。
前記紫外線照射部は、紫外線を発光する紫外線発光部を含み、
前記紫外線発光部は、前記エキスパンド部により前記シート部材がエキスパンドされた前記エキスパンド状態において、前記ウエハを囲んだ状態で前記シート部材に貼り付けられたリング状部材の上面よりも、前記スキージ部の局所的な押圧が行われる前記シート部材の押圧面から下方に離間した位置に配置されている、請求項７に記載のエキスパンド装置。
【請求項12】
レーザ光を照射するレーザ照射部から複数の半導体チップが設けられたウエハにレーザ光を照射することにより前記ウエハ内に改質層を形成する工程と、
前記ウエハが貼り付けられた伸縮性を有するシート部材をエキスパンドするエキスパンド部により前記ウエハを前記複数の半導体チップに分割する工程と、
共通の移動機構により紫外線照射部およびスキージ部を移動させることにより、前記シート部材のうち前記ウエハの位置に対応する前記シート部材に紫外線を照射するとともに、前記ウエハを局所的に押圧する工程とを備える、半導体チップの製造方法。
前記ウエハが貼り付けられた伸縮性を有するシート部材をエキスパンドするエキスパンド部により前記ウエハを前記複数の半導体チップに分割する工程と、
共通の移動機構により紫外線照射部およびスキージ部を移動させることにより、前記シート部材のうち前記ウエハの位置に対応する前記シート部材に紫外線を照射するとともに、前記ウエハを局所的に押圧する工程とを備える、半導体チップの製造方法。
【請求項13】
ウエハが貼り付けられた伸縮性を有するシート部材をエキスパンドすることにより前記ウエハを複数の半導体チップに分割するエキスパンド部と、前記エキスパンド部によりエキスパンドされた前記シート部材のうち前記ウエハの位置に対応する前記シート部材に紫外線を照射する紫外線照射部と、前記エキスパンド部により前記シート部材をエキスパンドさせて前記ウエハを前記複数の半導体チップに分割させた後、前記ウエハを局所的に押圧するスキージ部と、前記紫外線照射部および前記スキージ部の両方を移動させることが可能な共通の移動機構とを備えるエキスパンド装置によって製造される、半導体チップ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
この発明は、エキスパンド装置、半導体チップの製造方法および半導体チップに関し、特に、ウエハを複数の半導体チップに分割するエキスパンド部を備えるエキスパンド装置、半導体チップの製造方法および半導体チップに関する。
【背景技術】
【0002】
従来、ウエハを複数の半導体チップに分割するエキスパンド部を備えるエキスパンド装置が知られている（たとえば、特許文献１参照）。
【0003】
上記特許文献１には、被加工物（ウエハ）を複数のチップに分割する拡張手段（エキスパンド部）を備える分割装置が開示されている。この分割装置は、保持テーブルと、ＵＶ照射手段と、移動手段とを備えている。保持テーブルは、拡張手段によりエキスパンドされて分割した複数のチップが貼り付けられたエキスパンドシートを保持するように構成されている。ＵＶ照射手段は、エキスパンドシートの接着力を弱めるため、保持テーブルに保持されたエキスパンドシートに紫外線を照射するように構成されている。移動手段は、エキスパンドシートに紫外線を照射させるため、保持テーブルに複数のチップが貼り付けられたエキスパンドシートを紫外線照射部に移動させるように構成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特許第６２９８６３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
ここで、上記特許文献１には明記されていないが、上記特許文献１の分割装置では、拡張手段によりエキスパンドシートをエキスパンドすることによって、複数のチップを分割するだけでなく、拡張手段によるエキスパンド後、エキスパンドした際に分割されなかったウエハを分割するために、スキージ部を設けることが考えられる。ここで、スキージ部は、拡張手段によるエキスパンド後にシート部材を局所的に押圧することによって、分割されなかったウエハを分割するように構成されている。
【0006】
しかしながら、上記したように分割装置にスキージ部を設ける場合、スキージ部はシート部材を局所的に押圧するように構成されているので、スキージ部によりシート部材のうちのウエハに対応する部分の全体を押圧するために、スキージ部を移動させる移動機構が必要になる。このため、このような場合では、ＵＶ照射手段およびＵＶ照射手段に複数のチップが貼り付けられたエキスパンドシートを移動させる移動手段とは別個に、スキージ部およびスキージ部の移動機構が必要になるので、スキージ部およびＵＶ照射手段の両方を分割装置に設けた場合、エキスパンド部を備える分割装置（エキスパンド装置）が大型化するという問題があると考えられる。
【0007】
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、この発明の１つの目的は、スキージ部および紫外線照射部の両方を設けた場合でも、装置の大型化を抑制することが可能なエキスパンド装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0008】
上記目的を達成するために、この発明の第１の局面におけるエキスパンド装置は、ウエハが貼り付けられた伸縮性を有するシート部材をエキスパンドすることによりウエハを複数の半導体チップに分割するエキスパンド部と、エキスパンド部によりエキスパンドされたシート部材のうちウエハの位置に対応するシート部材に紫外線を照射する紫外線照射部と、エキスパンド部によりシート部材をエキスパンドさせてウエハを複数の半導体チップに分割させた後、ウエハを局所的に押圧するスキージ部と、紫外線照射部およびスキージ部の両方を移動させることが可能な共通の移動機構とを備える。
【0009】
この発明の第１の局面によるエキスパンド装置では、上記のように、エキスパンド部によりシート部材をエキスパンドさせてウエハを複数の半導体チップに分割させた後、ウエハを局所的に押圧するスキージ部と、紫外線照射部およびスキージ部の両方を移動させることが可能な共通の移動機構を設ける。これにより、共通の移動機構によりスキージ部によるウエハの局所的な押圧と紫外線照射部による紫外線の照射とを行うことができるので、スキージ部および紫外線照射部の両方を設けた場合でも、装置の大型化を抑制することができる。また、スキージ部はウエハを複数の半導体チップに分割するために、シート部材のうちウエハの位置に対応するシート部材を押圧する。紫外線照射部は、シート部材のうちウエハの位置に対応するシート部材の接着剤を硬化させるために、シート部材のうちウエハの位置に対応するシート部材に紫外線を照射する。したがって、スキージ部により押圧するシート部材の部分と、紫外線照射部により紫外線を照射するシート部材の部分とは共通しているので、スキージ部の移動に合わせて紫外線照射部を移動させて紫外線を照射することにより、シート部材のうちウエハの位置に対応するシート部材に対して、スキージ部によるウエハの分割および紫外線照射部から照射される紫外線による接着剤の硬化の両方を行うことができる。その結果、２つの部材を別々に移動させる場合と比較して、エキスパンド装置の部品点数の増加および装置の大型化を抑制することができる。
【0010】
上記第１の局面によるエキスパンド装置において、好ましくは、移動機構は、紫外線照射部およびスキージ部の両方を水平方向のうちの一方向に移動させる第１直線移動機構と、上下方向に沿って延びる回動軸線回りに、少なくともスキージ部を回動させる回動機構とを含む。このように構成すれば、紫外線照射部による紫外線の照射およびスキージ部によるウエハの押圧の両方の移動を実現するために必要な移動機構の数が第１直線移動機構および回動機構と比較的少ないので、エキスパンド装置の部品点数の増加および大型化を抑制することができる。
【0011】
この場合、好ましくは、第１直線移動機構は、回動機構に取り付けられ、回動機構は、紫外線照射部およびスキージ部の両方を一方向に移動させることが可能な位置から一方向に直交する他方向に移動させることが可能な位置まで第１直線移動機構を回動させるように構成されている。このように構成すれば、回動機構による回動により、一方向および他方向の各々において、スキージ部によるウエハの押圧および紫外線照射部による紫外線の照射を行うことができるので、スキージ部による複数の半導体チップの分割および紫外線照射部によるシート部材の接着剤の硬化を十分に行うことができる。
【0012】
上記第１の局面によるエキスパンド装置において、好ましくは、エキスパンド部は、シート部材をエキスパンドさせるエキスパンドリングを含み、紫外線照射部、スキージ部および移動機構は、平面視において、エキスパンドリングの径方向の内側に配置されている。このように構成すれば、他の用途に利用しにくいエキスパンドリング内の空間を有効に利用して紫外線照射部、スキージ部および移動機構をエキスパンドリング内に収容することができるので、エキスパンド装置の大型化をより抑制することができる。
【0013】
上記第１の局面によるエキスパンド装置において、好ましくは、紫外線照射部による紫外線照射と、スキージ部によるウエハの局所的な押圧とを、共通の移動機構により紫外線照射部およびスキージ部を共に移動させながら並行して実施する制御を行うように構成された制御部をさらに備える。このように構成すれば、紫外線照射部による紫外線照射と、スキージ部によるウエハの局所的な押圧とを効率的に行うことができるので、エキスパンド装置において実施される作業の作業効率を向上させることができる。
【0014】
この場合、好ましくは、制御部は、移動機構により水平方向のうちの一方向へスキージ部を移動させてウエハの局所的な押圧を行う場合、および、水平方向のうちの一方向に直交する他方向へスキージ部を移動させてウエハの局所的な押圧を行う場合の少なくともいずれかの押圧を行う場合に紫外線照射部による紫外線の照射を並行して実施する制御を行うように構成されている。このように構成すれば、水平方向のうちの一方向へスキージ部を移動させてウエハの局所的な押圧を行う場合にのみ紫外線照射部により紫外線を照射するか、または、水平方向のうちの他方向へスキージ部を移動させてウエハの局所的な押圧を行う場合にのみ紫外線照射部により紫外線を照射することにより、紫外線照射部による紫外線照射を１回実施することができる。また、水平方向のうちの一方向へスキージ部を移動させてウエハの局所的な押圧を行う場合、および、水平方向のうちの他方向へスキージ部を移動させてウエハの局所的な押圧を行う場合の両方で紫外線照射部により紫外線を照射することにより、紫外線照射部による紫外線照射を２回実施することができる。これらにより、紫外線照射部による紫外線照射を実施する回数を１回または２回から選択することができるので、シート部材の接着剤の種類などに合わせて紫外線照射部による紫外線照射を適切な回数実施することができる。
【0015】
上記第１の局面によるエキスパンド装置において、好ましくは、紫外線照射部は、スキージ部とは別個に共通の移動機構に取り付けられている。このように構成すれば、スキージ部内に紫外線照射部を設けるための構成がスキージ部に必要ないので、スキージ部の構造の複雑化を抑制することができる。
【0016】
上記第１の局面によるエキスパンド装置において、好ましくは、紫外線照射部は、スキージ部内に一体的に設けられた状態で、共通の移動機構に取り付けられている。このように構成すれば、スキージ部を配置するスペースだけで紫外線照射部およびスキージ部を配置することができるので、共通の移動機構に必要な紫外線照射部およびスキージ部の配置スペースの増大を抑制することができる。その結果、共通の移動機構の大型化を抑制することができるので、エキスパンド装置の大型化をより抑制することができる。
【0017】
上記第１直線移動機構および回動機構を備えるエキスパンド装置において、好ましくは、水平方向における一方向に直交する他方向に移動させる第２直線移動機構をさらに備え、第１直線移動機構は、第２直線移動機構に取り付けられるとともに、回動機構は、第１直線移動機構に取り付けられ、紫外線照射部は、第１直線移動機構または回動機構に取り付けられ、スキージ部は、回動機構に取り付けられている。このように構成すれば、回動機構上に第１直線移動機構および第２直線移動機構を取り付けないので、回動機構を回動させるために必要なモータの駆動力の増大を抑制することができる。その結果、比較的小型のモータにより回動機構を回動させることができるので、エキスパンド装置の大型化をより抑制することができる。
【0018】
上記第１の局面によるエキスパンド装置において、好ましくは、エキスパンド部は、シート部材をエキスパンドさせるエキスパンドリングを含み、紫外線照射部、スキージ部および移動機構は、エキスパンドリング外に配置されている。このように構成すれば、紫外線照射部、スキージ部および移動機構を配置するためのスペースの制限が緩和されるので、紫外線照射部、スキージ部および移動機構の配置の自由度を向上させることができる。
【0019】
上記紫外線照射部が前記スキージ部とは別個に共通の前記移動機構に取り付けられたエキスパンド装置において、好ましくは、紫外線照射部は、エキスパンド状態のシート部材に下方から照射するように構成され、紫外線照射部は、紫外線を発光する紫外線発光部を含み、紫外線発光部は、エキスパンド部によりシート部材がエキスパンドされたエキスパンド状態において、ウエハを囲んだ状態でシート部材に貼り付けられたリング状部材の上面よりも、スキージ部の局所的な押圧が行われるシート部材の押圧面から下方に離間した位置に配置されている。このように構成すれば、紫外線をシート部材からある程度離した場所から照射することができるので、紫外線がシート部材の特定の箇所に当たらないようにすることができる。その結果、紫外線をシート部材に満遍なく当てることができる。
【0020】
この発明の第２の局面における半導体チップの製造方法は、レーザ光を照射するレーザ照射部から複数の半導体チップが設けられたウエハにレーザ光を照射することによりウエハ内に改質層を形成する工程と、ウエハが貼り付けられた伸縮性を有するシート部材をエキスパンドするエキスパンド部によりウエハを複数の半導体チップに分割する工程と、共通の移動機構により紫外線照射部およびスキージ部を移動させることにより、シート部材のうちウエハの位置に対応するシート部材に紫外線を照射するとともに、ウエハを局所的に押圧する工程とを備える。
【0021】
この発明の第２の局面による半導体チップの製造方法では、上記のように、共通の移動機構により紫外線照射部およびスキージ部を移動させることにより、シート部材のうちウエハの位置に対応するシート部材に紫外線を照射するとともに、ウエハを局所的に押圧する工程を設ける。これにより、共通の移動機構によりスキージ部によるウエハの局所的な押圧と紫外線照射部による紫外線の照射とを行うことができるので、スキージ部および紫外線照射部の両方を設けた場合でも、装置の大型化を抑制することが可能な半導体チップの製造方法を得ることができる。
【0022】
この発明の第３の局面における半導体チップは、ウエハが貼り付けられた伸縮性を有するシート部材をエキスパンドすることによりウエハを複数の半導体チップに分割するエキスパンド部と、エキスパンド部によりエキスパンドされたシート部材のうちウエハの位置に対応するシート部材に紫外線を照射する紫外線照射部と、エキスパンド部によりシート部材をエキスパンドさせてウエハを複数の半導体チップに分割させた後、ウエハを局所的に押圧するスキージ部と、紫外線照射部およびスキージ部の両方を移動させることが可能な共通の移動機構とを備えるエキスパンド装置によって製造される。
【0023】
この発明の第３の局面による半導体チップでは、上記のように、紫外線照射部およびスキージ部の両方を移動させることが可能な共通の移動機構を備えるエキスパンド装置によって製造される。これにより、共通の移動機構によりスキージ部によるウエハの局所的な押圧と紫外線照射部による紫外線の照射とを行うことができるので、スキージ部および紫外線照射部の両方を設けた場合でも、装置の大型化を抑制することが可能な半導体チップを得ることができる。
【発明の効果】
【0024】
本発明によれば、上記のように、スキージ部および紫外線照射部の両方を設けた場合でも、装置の大型化を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【0025】
【図1】第１実施形態によるダイシング装置およびエキスパンド装置が設けられた半導体ウエハの加工装置を示した平面図である。
【図2】第１実施形態による半導体ウエハの加工装置において加工されるウエハリング構造を示した平面図である。
【図4】第１実施形態によるエキスパンド装置に隣接して配置されたダイシング装置の平面図である。
【図5】第１実施形態によるエキスパンド装置に隣接して配置されたダイシング装置をＹ２方向側から見た側面図である。
【図6】第１実施形態によるエキスパンド装置の平面図である。
【図7】第１実施形態によるエキスパンド装置のＹ２方向側から見た側面図である。
【図8】第１実施形態によるエキスパンド装置のＸ１方向側から見た側面図である。
【図9】第１実施形態による半導体ウエハの加工装置の制御的な構成を示したブロック図である。
【図10】第１実施形態による半導体ウエハの加工装置の半導体チップ製造処理の前半部分のフローチャートである。
【図11】第１実施形態による半導体ウエハの加工装置の半導体チップ製造処理の後半部分のフローチャートである。
【図12】第１実施形態によるエキスパンド装置においてスキージ部によるウエハの押圧の前の状態を示した側面図である。
【図13】第１実施形態によるエキスパンド装置において紫外線照射部により紫外線を照射している状態を示した側面図である。
【図14】第１実施形態によるエキスパンド装置においてスキージ部の押圧部とウエハリング構造とを示した模式図である。
【図15】第１実施形態によるエキスパンド装置においてスキージ部によるウエハの押圧を行っている状態を示した側面図である。
【図16】第１実施形態によるエキスパンド装置においてスキージ部が一方向に向いている状態を示した平面図である。
【図17】第１実施形態によるエキスパンド装置においてスキージ部が他方向に向いている状態を示した平面図である。
【図18】第１実施形態によるエキスパンド装置においてスキージ部が一方向に移動している際のウエハの押圧を行っている状態を示した側面図である。
【図19】第１実施形態によるエキスパンド装置においてスキージ部が一方向に移動している際のウエハの押圧を行っている状態を示した平面図である。
【図20】第１実施形態によるエキスパンド装置においてスキージ部が他方向に移動している際のウエハの押圧を行っている状態を示した側面図である。
【図21】第１実施形態によるエキスパンド装置においてスキージ部が他方向に移動している際のウエハの押圧を行っている状態を示した平面図である。
【図22】第１実施形態による半導体ウエハの加工装置のスキージブレーキング処理の前半部分のフローチャートである。
【図23】第１実施形態による半導体ウエハの加工装置のスキージブレーキング処理の後半部分のフローチャートである。
【図24】第２実施形態によるエキスパンド装置においてスキージ部が一方向に向いている状態を示した側面図である。
【図25】第２実施形態によるエキスパンド装置においてスキージ部が他方向に向いている状態を示した側面図である。
【図26】第２実施形態によるエキスパンド装置においてスキージ部が他方向に移動している際のウエハの押圧を行っている状態を示した平面図である。
【図27】第２実施形態によるエキスパンド装置においてスキージ部が一方向に移動している際のウエハの押圧を行っている状態を示した側面図である。
【図28】第２実施形態によるエキスパンド装置においてスキージ部が一方向に移動している際のウエハの押圧を行っている状態を示した平面図である。
【図29】第３実施形態によるダイシング装置およびエキスパンド装置が設けられた半導体ウエハの加工装置を示した平面図である。
【図30】第３実施形態によるダイシング装置およびエキスパンド装置が設けられた半導体ウエハの加工装置をＹ２方向側から見た側面図である。
【図31】第３実施形態によるダイシング装置およびエキスパンド装置が設けられた半導体ウエハの加工装置をＸ１方向側から見た側面図である。
【図32】第３実施形態によるエキスパンド装置においてスキージ部、紫外線照射部および共通の移動機構を示した平面図である。
【図33】第４実施形態によるエキスパンド装置においてスキージ部、紫外線照射部および共通の移動機構を示した平面図である。
【図34】第４実施形態によるエキスパンド装置においてスキージ部、紫外線照射部および共通の移動機構を示した側面図である。
【図35】第４実施形態によるエキスパンド装置においてスキージ部が回動した後のスキージ部、紫外線照射部および共通の移動機構を示した平面図である。
【発明を実施するための形態】
【0026】
以下、本発明を具体化した実施形態を図面に基づいて説明する。
【0027】
【0028】
（半導体ウエハの加工装置）
図１に示すように、半導体ウエハの加工装置１００は、ウエハリング構造体Ｗに設けられたウエハＷ１の加工を行う装置である。半導体ウエハの加工装置１００は、ウエハＷ１に改質層を形成するとともに、ウエハＷ１を改質層に沿って分割して複数の半導体チップＣｈ（図８参照）を形成するように構成されている。
図１に示すように、半導体ウエハの加工装置１００は、ウエハリング構造体Ｗに設けられたウエハＷ１の加工を行う装置である。半導体ウエハの加工装置１００は、ウエハＷ１に改質層を形成するとともに、ウエハＷ１を改質層に沿って分割して複数の半導体チップＣｈ（図８参照）を形成するように構成されている。
【0029】
【0030】
ウエハＷ１は、半導体集積回路の材料となる半導体物質の結晶でできた円形の薄い板である。ウエハＷ１の内部には、半導体ウエハの加工装置１００における加工により、分割ラインに沿って内部を改質させた改質層が形成される。すなわち、ウエハＷ１は、分割ラインに沿って分割可能に加工される。シート部材Ｗ２は、伸縮性を有する粘着テープである。シート部材Ｗ２の上面Ｗ２１には、粘着層が設けられている。シート部材Ｗ２には、粘着層にウエハＷ１が貼り付けられている。リング状部材Ｗ３は、平面視においてリング状の金属製のフレームである。リング状部材Ｗ３は、ウエハＷ１を囲んだ状態でシート部材Ｗ２の粘着層に貼り付けられている。
【0031】
また、半導体ウエハの加工装置１００は、ダイシング装置１と、エキスパンド装置２とを備えている。以下では、上下方向をＺ方向とし、上方向をＺ１方向とするとともに、下方向をＺ２方向とする。Ｚ方向に直交する水平方向のうちダイシング装置１とエキスパンド装置２とが並ぶ方向をＸ方向とし、Ｘ方向のうちエキスパンド装置２側をＸ１方向とし、Ｘ方向のうちダイシング装置１側をＸ２方向とする。水平方向のうちＸ方向に直交する方向をＹ方向とし、Ｙ方向のうち一方側をＹ１方向とし、Ｙ方向のうち他方側をＹ２方向とする。
【0032】
（ダイシング装置）
図１、図４および図５に示すように、ダイシング装置１は、ウエハＷ１に対して透過性を有する波長のレーザを分割ライン（ストリート）に沿って照射することにより、改質層を形成するように構成されている。改質層とは、レーザによりウエハＷ１の内部に形成された亀裂およびボイドなどを示す。このように、ウエハＷ１に改質層を形成する手法をダイシング加工という。
図１、図４および図５に示すように、ダイシング装置１は、ウエハＷ１に対して透過性を有する波長のレーザを分割ライン（ストリート）に沿って照射することにより、改質層を形成するように構成されている。改質層とは、レーザによりウエハＷ１の内部に形成された亀裂およびボイドなどを示す。このように、ウエハＷ１に改質層を形成する手法をダイシング加工という。
【0033】
具体的には、ダイシング装置１は、ベース１１と、チャックテーブル部１２と、レーザ部１３と、撮像部１４とを含んでいる。
【0034】
ベース１１は、チャックテーブル部１２が設置される基台である。ベース１１は、平面視において、矩形形状を有している。
【0035】
〈チャックテーブル部〉
チャックテーブル部１２は、吸着部１２ａと、クランプ部１２ｂと、回動機構１２ｃと、テーブル移動機構１２ｄとを有している。吸着部１２ａは、ウエハリング構造体ＷをＺ１方向側の上面に吸着するように構成されている。吸着部１２ａは、ウエハリング構造体Ｗのリング状部材Ｗ３のＺ２方向側の下面を吸着するために吸引孔および吸引管路などが設けられたテーブルである。吸着部１２ａは、回動機構１２ｃを介してテーブル移動機構１２ｄに支持されている。クランプ部１２ｂは、吸着部１２ａの上端部に設けられている。クランプ部１２ｂは、吸着部１２ａにより吸着されたウエハリング構造体Ｗを押さえるように構成されている。クランプ部１２ｂは、吸着部１２ａにより吸着されたウエハリング構造体Ｗのリング状部材Ｗ３をＺ１方向側から押さえている。このように、ウエハリング構造体Ｗは、吸着部１２ａおよびクランプ部１２ｂにより把持されている。
チャックテーブル部１２は、吸着部１２ａと、クランプ部１２ｂと、回動機構１２ｃと、テーブル移動機構１２ｄとを有している。吸着部１２ａは、ウエハリング構造体ＷをＺ１方向側の上面に吸着するように構成されている。吸着部１２ａは、ウエハリング構造体Ｗのリング状部材Ｗ３のＺ２方向側の下面を吸着するために吸引孔および吸引管路などが設けられたテーブルである。吸着部１２ａは、回動機構１２ｃを介してテーブル移動機構１２ｄに支持されている。クランプ部１２ｂは、吸着部１２ａの上端部に設けられている。クランプ部１２ｂは、吸着部１２ａにより吸着されたウエハリング構造体Ｗを押さえるように構成されている。クランプ部１２ｂは、吸着部１２ａにより吸着されたウエハリング構造体Ｗのリング状部材Ｗ３をＺ１方向側から押さえている。このように、ウエハリング構造体Ｗは、吸着部１２ａおよびクランプ部１２ｂにより把持されている。
【0036】
回動機構１２ｃは、Ｚ方向に平行に延びた回動中心軸線Ｃ回りの周方向に吸着部１２ａを回動させるように構成されている。回動機構１２ｃは、テーブル移動機構１２ｄの上端部に取り付けられている。テーブル移動機構１２ｄは、ウエハリング構造体ＷをＸ方向およびＹ方向に移動させるように構成されている。テーブル移動機構１２ｄは、Ｘ方向移動機構１２１と、Ｙ方向移動機構１２２とを有している。Ｘ方向移動機構１２１は、Ｘ１方向またはＸ２方向に回動機構１２ｃを移動させるように構成されている。Ｘ方向移動機構１２１は、たとえば、リニアコンベアモジュール、または、ボールねじおよびエンコーダ付きモータを有する駆動部を有している。Ｙ方向移動機構１２２は、Ｙ１方向またはＹ２方向に回動機構１２ｃを移動させるように構成されている。Ｙ方向移動機構１２２は、たとえば、リニアコンベアモジュール、または、ボールねじおよびエンコーダ付きモータを有する駆動部を有している。
【0037】
〈レーザ部〉
レーザ部１３は、チャックテーブル部１２に把持されたウエハリング構造体ＷのウエハＷ１にレーザ光を照射するように構成されている。レーザ部１３は、チャックテーブル部１２のＺ１方向側に配置されている。レーザ部１３は、レーザ照射部１３ａと、取付部材１３ｂと、Ｚ方向移動機構１３ｃとを有している。レーザ照射部１３ａは、パルスレーザ光を照射するように構成されている。取付部材１３ｂは、レーザ部１３および撮像部１４が取り付けられるフレームである。Ｚ方向移動機構１３ｃは、Ｚ１方向またはＺ２方向にレーザ部１３を移動させるように構成されている。Ｚ方向移動機構１３ｃは、たとえば、リニアコンベアモジュール、または、ボールねじおよびエンコーダ付きモータを有する駆動部を有している。なお、レーザ照射部１３ａは、多光子吸収による改質層を形成できる限り、パルスレーザ光以外の、連続波レーザ光をレーザ光として発振するレーザ照射部であってもよい。
レーザ部１３は、チャックテーブル部１２に把持されたウエハリング構造体ＷのウエハＷ１にレーザ光を照射するように構成されている。レーザ部１３は、チャックテーブル部１２のＺ１方向側に配置されている。レーザ部１３は、レーザ照射部１３ａと、取付部材１３ｂと、Ｚ方向移動機構１３ｃとを有している。レーザ照射部１３ａは、パルスレーザ光を照射するように構成されている。取付部材１３ｂは、レーザ部１３および撮像部１４が取り付けられるフレームである。Ｚ方向移動機構１３ｃは、Ｚ１方向またはＺ２方向にレーザ部１３を移動させるように構成されている。Ｚ方向移動機構１３ｃは、たとえば、リニアコンベアモジュール、または、ボールねじおよびエンコーダ付きモータを有する駆動部を有している。なお、レーザ照射部１３ａは、多光子吸収による改質層を形成できる限り、パルスレーザ光以外の、連続波レーザ光をレーザ光として発振するレーザ照射部であってもよい。
【0038】
〈撮像部〉
撮像部１４は、チャックテーブル部１２に把持されたウエハリング構造体ＷのウエハＷ１を撮像するように構成されている。撮像部１４は、チャックテーブル部１２のＺ１方向側に配置されている。撮像部１４は、高分解能カメラ１４ａと、広画角カメラ１４ｂと、Ｚ方向移動機構１４ｃと、Ｚ方向移動機構１４ｄとを有している。
撮像部１４は、チャックテーブル部１２に把持されたウエハリング構造体ＷのウエハＷ１を撮像するように構成されている。撮像部１４は、チャックテーブル部１２のＺ１方向側に配置されている。撮像部１４は、高分解能カメラ１４ａと、広画角カメラ１４ｂと、Ｚ方向移動機構１４ｃと、Ｚ方向移動機構１４ｄとを有している。
【0039】
高分解能カメラ１４ａおよび広画角カメラ１４ｂは、近赤外線撮像用カメラである。高分解能カメラ１４ａは、広画角カメラ１４ｂよりも視野角が狭い。高分解能カメラ１４ａは、広画角カメラ１４ｂよりも分解能が高い。広画角カメラ１４ｂは、高分解能カメラ１４ａよりも視野角が広い。広画角カメラ１４ｂは、高分解能カメラ１４ａよりも分解能が低い。高分解能カメラ１４ａは、レーザ照射部１３ａのＸ１方向側に配置されている。広画角カメラ１４ｂは、レーザ照射部１３ａのＸ２方向側に配置されている。このように、高分解能カメラ１４ａ、レーザ照射部１３ａおよび広画角カメラ１４ｂは、Ｘ１方向側からＸ２方向側に向かってこの順序で隣接して配置されている。
【0040】
Ｚ方向移動機構１４ｃは、Ｚ１方向またはＺ２方向に高分解能カメラ１４ａを移動させるように構成されている。Ｚ方向移動機構１４ｃは、たとえば、リニアコンベアモジュール、または、ボールねじおよびエンコーダ付きモータを有する駆動部を有している。Ｚ方向移動機構１４ｄは、Ｚ１方向またはＺ２方向に広画角カメラ１４ｂを移動させるように構成されている。Ｚ方向移動機構１４ｄは、たとえば、リニアコンベアモジュール、または、ボールねじおよびエンコーダ付きモータを有する駆動部を有している。
【0041】
（エキスパンド装置）
図１、図６および図７に示すように、エキスパンド装置２は、ウエハＷ１を分割して複数の半導体チップＣｈ（図８参照）を形成するように構成されている。また、エキスパンド装置２は、複数の半導体チップＣｈ同士の間に十分な隙間を形成するように構成されている。ここで、ウエハＷ１には、ダイシング装置１において、ウエハＷ１に対して透過性を有する波長のレーザが分割ライン（ストリート）に沿って照射されることにより、改質層が形成されている。エキスパンド装置２では、ダイシング装置１において予め形成された改質層に沿ってウエハＷ１を分割することにより、複数の半導体チップＣｈが形成されている。
図１、図６および図７に示すように、エキスパンド装置２は、ウエハＷ１を分割して複数の半導体チップＣｈ（図８参照）を形成するように構成されている。また、エキスパンド装置２は、複数の半導体チップＣｈ同士の間に十分な隙間を形成するように構成されている。ここで、ウエハＷ１には、ダイシング装置１において、ウエハＷ１に対して透過性を有する波長のレーザが分割ライン（ストリート）に沿って照射されることにより、改質層が形成されている。エキスパンド装置２では、ダイシング装置１において予め形成された改質層に沿ってウエハＷ１を分割することにより、複数の半導体チップＣｈが形成されている。
【0042】
したがって、エキスパンド装置２では、シート部材Ｗ２をエキスパンドさせることにより、改質層に沿ってウエハＷ１が分割されることになる。また、エキスパンド装置２において、シート部材Ｗ２をエキスパンドさせることにより、分割されて形成された複数の半導体チップＣｈ同士の隙間が広がることになる。
【0043】
エキスパンド装置２は、ベース２０１と、カセット部２０２と、リフトアップハンド部２０３と、吸着ハンド部２０４と、ベース２０５と、冷気供給部２０６と、冷却ユニット２０７と、エキスパンド部２０８と、ベース２０９と、拡張維持部材２１０と、ヒートシュリンク部２１１と、紫外線照射部２１２と、スキージ部２１３と、クランプ部２１４と、を含んでいる。
【0044】
〈ベース〉
ベース２０１は、カセット部２０２およびリフトアップハンド部２０３が設置される基台である。ベース２０１は、平面視において、矩形形状を有している。
ベース２０１は、カセット部２０２およびリフトアップハンド部２０３が設置される基台である。ベース２０１は、平面視において、矩形形状を有している。
【0045】
〈カセット部〉
カセット部２０２は、複数のウエハリング構造体Ｗを収容可能に構成されている。カセット部２０２は、ウエハカセット２０２ａと、Ｚ方向移動機構２０２ｂと、一対の載置部２０２ｃとを含んでいる。
カセット部２０２は、複数のウエハリング構造体Ｗを収容可能に構成されている。カセット部２０２は、ウエハカセット２０２ａと、Ｚ方向移動機構２０２ｂと、一対の載置部２０２ｃとを含んでいる。
【0046】
ウエハカセット２０２ａは、Ｚ方向に複数（３個）配置されている。ウエハカセット２０２ａは、複数（５個）のウエハリング構造体Ｗを収容可能な収容空間を有している。ウエハカセット２０２ａには、ウエハリング構造体Ｗが手作業によって供給および載置される。なお、ウエハカセット２０２ａは、１～４個のウエハリング構造体Ｗを収容するか、または、６個以上のウエハリング構造体Ｗを収容してもよい。また、ウエハカセット２０２ａは、Ｚ方向に１、２、または、４個以上配置されてもよい。
【0047】
Ｚ方向移動機構２０２ｂは、Ｚ１方向またはＺ２方向にウエハカセット２０２ａを移動させるように構成されている。Ｚ方向移動機構２０２ｂは、たとえば、リニアコンベアモジュール、または、ボールねじおよびエンコーダ付きモータを有する駆動部を有している。また、Ｚ方向移動機構２０２ｂは、ウエハカセット２０２ａを下側から支持する載置台２０２ｄを有している。載置台２０２ｄは、複数のウエハカセット２０２ａの位置に合わせて複数（３個）配置されている。
【0048】
一対の載置部２０２ｃは、ウエハカセット２０２ａの内側に複数（５個）配置されている。一対の載置部２０２ｃには、ウエハリング構造体Ｗのリング状部材Ｗ３がＺ１方向側から載置される。一対の載置部２０２ｃの一方は、ウエハカセット２０２ａのＸ１方向側の内側面からＸ２方向側に突出している。一対の載置部２０２ｃの他方は、ウエハカセット２０２ａのＸ２方向側の内側面からＸ１方向側に突出している。
【0049】
〈リフトアップハンド部〉
リフトアップハンド部２０３は、カセット部２０２からウエハリング構造体Ｗを取出可能に構成されている。また、リフトアップハンド部２０３は、カセット部２０２にウエハリング構造体Ｗを収容可能に構成されている。
リフトアップハンド部２０３は、カセット部２０２からウエハリング構造体Ｗを取出可能に構成されている。また、リフトアップハンド部２０３は、カセット部２０２にウエハリング構造体Ｗを収容可能に構成されている。
【0050】
具体的には、リフトアップハンド部２０３は、Ｙ方向移動機構２０３ａと、リフトアップハンド２０３ｂとを含んでいる。Ｙ方向移動機構２０３ａは、たとえば、リニアコンベアモジュール、または、ボールねじおよびエンコーダ付きモータを有する駆動部を有している。リフトアップハンド２０３ｂは、ウエハリング構造体Ｗのリング状部材Ｗ３をＺ２方向側から支持するように構成されている。
【0051】
〈吸着ハンド部〉
吸着ハンド部２０４は、ウエハリング構造体Ｗのリング状部材Ｗ３をＺ１方向側から吸着するように構成されている。
吸着ハンド部２０４は、ウエハリング構造体Ｗのリング状部材Ｗ３をＺ１方向側から吸着するように構成されている。
【0052】
具体的には、吸着ハンド部２０４は、Ｘ方向移動機構２０４ａと、Ｚ方向移動機構２０４ｂと、吸着ハンド２０４ｃとを含んでいる。Ｘ方向移動機構２０４ａは、吸着ハンド２０４ｃをＸ方向に移動させるように構成されている。Ｚ方向移動機構２０４ｂは、吸着ハンド２０４ｃをＺ方向に移動させるように構成されている。Ｘ方向移動機構２０４ａおよびＺ方向移動機構２０４ｂは、たとえば、リニアコンベアモジュール、または、ボールねじおよびエンコーダ付きモータを有する駆動部を有している。吸着ハンド２０４ｃは、ウエハリング構造体Ｗのリング状部材Ｗ３をＺ１方向側から吸着して支持するように構成されている。ここで、吸着ハンド２０４ｃでは、負圧を発生させることにより、ウエハリング構造体Ｗのリング状部材Ｗ３が支持される。
【0053】
〈ベース〉
図７および図８に示すように、ベース２０５は、エキスパンド部２０８、冷却ユニット２０７、紫外線照射部２１２およびスキージ部２１３が設置される基台である。ベース２０５は、平面視において、矩形形状を有している。なお、図８では、冷却ユニット２０７のＺ１方向の位置に配置されたクランプ部２１４が点線で示されている。
図７および図８に示すように、ベース２０５は、エキスパンド部２０８、冷却ユニット２０７、紫外線照射部２１２およびスキージ部２１３が設置される基台である。ベース２０５は、平面視において、矩形形状を有している。なお、図８では、冷却ユニット２０７のＺ１方向の位置に配置されたクランプ部２１４が点線で示されている。
【0054】
〈冷気供給部〉
冷気供給部２０６は、エキスパンド部２０８によりシート部材Ｗ２をエキスパンドさせる際、シート部材Ｗ２にＺ１方向側から冷気を供給するように構成されている。
冷気供給部２０６は、エキスパンド部２０８によりシート部材Ｗ２をエキスパンドさせる際、シート部材Ｗ２にＺ１方向側から冷気を供給するように構成されている。
【0055】
具体的には、冷気供給部２０６は、供給部本体２０６ａと、冷気供給口２０６ｂと、移動機構２０６ｃとを有している。冷気供給口２０６ｂは、冷気供給装置から供給される冷気を流出させるように構成されている。冷気供給口２０６ｂは、供給部本体２０６ａのＺ２方向側の端部に設けられている。冷気供給口２０６ｂは、供給部本体２０６ａのＺ２方向側の端部における中央部に配置されている。移動機構２０６ｃは、たとえば、リニアコンベアモジュール、または、ボールねじおよびエンコーダ付きモータを有している。
【0056】
冷気供給装置は、冷気を生成するための装置である。冷気供給装置は、たとえば、ヒートポンプなどにより冷却された空気を供給する。このような冷気供給装置は、ベース２０５に設置される。冷気供給部２０６と、冷気供給装置とは、ホース（図示せず）により接続されている。
【0057】
〈冷却ユニット〉
冷却ユニット２０７は、シート部材Ｗ２をＺ２方向側から冷却するように構成されている。
冷却ユニット２０７は、シート部材Ｗ２をＺ２方向側から冷却するように構成されている。
【0058】
具体的には、冷却ユニット２０７は、冷却体２７１およびペルチェ素子２７２を有する冷却部材２０７ａと、Ｚ方向移動機構２０７ｂとを含んでいる。冷却体２７１は、熱容量が大きく、かつ、熱伝導率が高い部材により構成されている。冷却体２７１は、アルミニウムなどの金属により形成されている。ペルチェ素子２７２は、冷却体２７１を冷却するように構成されている。なお、冷却体２７１は、アルミニウムに限定されず、他の熱容量が大きく、かつ、熱伝導率が高い部材であってもよい。Ｚ方向移動機構２０７ｂは、シリンダである。
【0059】
冷却ユニット２０７は、Ｚ方向移動機構２０７ｂにより、Ｚ１方向またはＺ２方向に移動可能に構成されている。これにより、冷却ユニット２０７は、シート部材Ｗ２に接触する位置、および、シート部材Ｗ２から離間した位置に移動することが可能である。
【0060】
〈エキスパンド部〉
エキスパンド部２０８は、ウエハリング構造体Ｗのシート部材Ｗ２をエキスパンドすることにより、分割ラインに沿ってウエハＷ１を分割するように構成されている。
エキスパンド部２０８は、ウエハリング構造体Ｗのシート部材Ｗ２をエキスパンドすることにより、分割ラインに沿ってウエハＷ１を分割するように構成されている。
【0061】
具体的には、エキスパンド部２０８は、エキスパンドリング２８１を有している。エキスパンドリング２８１は、シート部材Ｗ２をＺ２方向側から支持することにより、シート部材Ｗ２をエキスパンド（拡張）させるように構成されている。エキスパンドリング２８１は、平面視においてリング形状を有している。なお、エキスパンドリング２８１の構造については、後に詳細に説明する。
【0062】
〈ベース〉
ベース２０９は、冷気供給部２０６、拡張維持部材２１０およびヒートシュリンク部２１１が設置される基材である。
ベース２０９は、冷気供給部２０６、拡張維持部材２１０およびヒートシュリンク部２１１が設置される基材である。
【0063】
〈拡張維持部材〉
図７および図８に示すように、拡張維持部材２１０は、加熱リング２１１ａによる加熱によってウエハＷ１付近のシート部材Ｗ２が収縮しないように、シート部材Ｗ２をＺ１方向側から押さえるように構成されている。
図７および図８に示すように、拡張維持部材２１０は、加熱リング２１１ａによる加熱によってウエハＷ１付近のシート部材Ｗ２が収縮しないように、シート部材Ｗ２をＺ１方向側から押さえるように構成されている。
【0064】
具体的には、拡張維持部材２１０は、押圧リング部２１０ａと、蓋部２１０ｂと、吸気部２１０ｃとを有している。押圧リング部２１０ａは、平面視においてリング形状を有している。蓋部２１０ｂは、押圧リング部２１０ａの開口を覆うように押圧リング部２１０ａに設けられている。吸気部２１０ｃは、平面視において、リング形状を有する吸気リングである。吸気部２１０ｃのＺ２方向側の下面には、複数の吸気口が形成されている。また、押圧リング部２１０ａは、Ｚ方向移動機構２１０ｄによりＺ方向に移動するように構成されている。すなわち、Ｚ方向移動機構２１０ｄは、シート部材Ｗ２を押さえる位置、および、シート部材Ｗ２から離れた位置に押圧リング部２１０ａを移動させるように構成されている。Ｚ方向移動機構２１０ｄは、たとえば、リニアコンベアモジュール、または、ボールねじおよびエンコーダ付きモータを有する駆動部を有している。
【0065】
〈ヒートシュリンク部〉
ヒートシュリンク部２１１は、エキスパンド部２０８によりエキスパンドされたシート部材Ｗ２を、複数の半導体チップＣｈ同士の間の隙間を保持した状態で、加熱により収縮させるように構成されている。
ヒートシュリンク部２１１は、エキスパンド部２０８によりエキスパンドされたシート部材Ｗ２を、複数の半導体チップＣｈ同士の間の隙間を保持した状態で、加熱により収縮させるように構成されている。
【0066】
ヒートシュリンク部２１１は、加熱リング２１１ａと、Ｚ方向移動機構２１１ｂとを有している。加熱リング２１１ａは、平面視において、リング形状を有している。また、加熱リング２１１ａは、シート部材Ｗ２を加熱するシーズヒータを有している。Ｚ方向移動機構２１１ｂは、加熱リング２１１ａをＺ方向に移動させるように構成されている。Ｚ方向移動機構２１１ｂは、たとえば、リニアコンベアモジュール、または、ボールねじおよびエンコーダ付きモータを有する駆動部を有している。
【0067】
〈紫外線照射部〉
紫外線照射部２１２は、シート部材Ｗ２の粘着層の粘着力を低下させるために、シート部材Ｗ２に紫外線Ｕｔを照射するように構成されている。具体的には、紫外線照射部２１２は、紫外線用照明を有している。紫外線照射部２１２は、スキージ部２１３の後述する押圧部２１３ａのＺ１方向側の端部に配置されている。紫外線照射部２１２は、スキージ部２１３とともに移動しながら、シート部材Ｗ２に紫外線Ｕｔを照射するように構成されている。
紫外線照射部２１２は、シート部材Ｗ２の粘着層の粘着力を低下させるために、シート部材Ｗ２に紫外線Ｕｔを照射するように構成されている。具体的には、紫外線照射部２１２は、紫外線用照明を有している。紫外線照射部２１２は、スキージ部２１３の後述する押圧部２１３ａのＺ１方向側の端部に配置されている。紫外線照射部２１２は、スキージ部２１３とともに移動しながら、シート部材Ｗ２に紫外線Ｕｔを照射するように構成されている。
【0068】
〈スキージ部〉
スキージ部２１３は、シート部材Ｗ２をエキスパンドさせた後、ウエハＷ１をＺ２方向側から局所的に押圧することにより、ウエハＷ１を改質層に沿ってさらに分割させるように構成されている。具体的には、スキージ部２１３は、押圧部２１３ａと、Ｚ方向移動機構２１３ｂと、Ｘ方向移動機構２１３ｃと、回動機構２１３ｄとを有している。なお、Ｚ方向移動機構２１３ｂ、Ｘ方向移動機構２１３ｃおよび回動機構２１３ｄは、特許請求の範囲の「共通の移動機構」の一例である。また、Ｘ方向移動機構２１３ｃは、特許請求の範囲の「第１直線移動機構」の一例である。
スキージ部２１３は、シート部材Ｗ２をエキスパンドさせた後、ウエハＷ１をＺ２方向側から局所的に押圧することにより、ウエハＷ１を改質層に沿ってさらに分割させるように構成されている。具体的には、スキージ部２１３は、押圧部２１３ａと、Ｚ方向移動機構２１３ｂと、Ｘ方向移動機構２１３ｃと、回動機構２１３ｄとを有している。なお、Ｚ方向移動機構２１３ｂ、Ｘ方向移動機構２１３ｃおよび回動機構２１３ｄは、特許請求の範囲の「共通の移動機構」の一例である。また、Ｘ方向移動機構２１３ｃは、特許請求の範囲の「第１直線移動機構」の一例である。
【0069】
押圧部２１３ａは、シート部材Ｗ２を介してＺ２方向側からウエハＷ１を押圧しつつ、回動機構２１３ｄおよびＸ方向移動機構２１３ｃにより移動することによって、ウエハＷ１に曲げ応力を発生させて改質層に沿ってウエハＷ１を分割するように構成されている。押圧部２１３ａがＺ方向移動機構２１３ｂによりＺ１方向側の上昇位置Ｕｐ（図１８を参照）に上昇することにより、シート部材Ｗ２を介してウエハＷ１が押圧される。押圧部２１３ａがＺ方向移動機構２１３ｂによりＺ２方向側に下降位置Ｌｗ（図２０を参照）に下降することにより、ウエハＷ１が押圧されなくなる。押圧部２１３ａは、スキージである。
【0070】
押圧部２１３ａは、Ｚ方向移動機構２１３ｂのＺ１方向側の端部に取り付けられている。Ｚ方向移動機構２１３ｂは、Ｚ１方向またはＺ２方向に直線的に押圧部２１３ａを移動させるように構成されている。Ｚ方向移動機構２１３ｂは、たとえば、シリンダである。Ｚ方向移動機構２１３ｂは、Ｘ方向移動機構２１３ｃのＺ１方向側の端部に取り付けられている。
【0071】
Ｘ方向移動機構２１３ｃは、回動機構２１３ｄのＺ１方向側の端部に取り付けられている。Ｘ方向移動機構２１３ｃは、一方向に直線的に押圧部２１３ａを移動させるように構成されている。Ｘ方向移動機構２１３ｃは、たとえば、リニアコンベアモジュール、または、ボールねじおよびエンコーダ付きモータを有する駆動部を有している。
【0072】
スキージ部２１３では、Ｚ方向移動機構２１３ｂにより押圧部２１３ａが上昇位置Ｕｐ（図１８を参照）まで上昇される。スキージ部２１３では、シート部材Ｗ２を介してＺ２方向側からウエハＷ１を押圧部２１３ａが局所的に押圧しつつ、Ｘ方向移動機構２１３ｃにより押圧部２１３ａがＹ方向に移動することにより、ウエハＷ１が分割される。スキージ部２１３では、Ｚ方向移動機構２１３ｂにより押圧部２１３ａが下降位置Ｌｗ（図２０を参照）まで下降される。スキージ部２１３では、押圧部２１３ａのＹ方向への移動が終了した後、回動機構２１３ｄにより押圧部２１３ａが９０度回動する。
【0073】
スキージ部２１３では、Ｚ方向移動機構２１３ｂにより押圧部２１３ａが上昇位置Ｕｐ（図１８を参照）まで上昇される。スキージ部２１３では、押圧部２１３ａが９０度回動した後、シート部材Ｗ２を介してＺ２方向側からウエハＷ１を押圧部２１３ａが局所的に押圧しつつ、Ｘ方向移動機構２１３ｃにより押圧部２１３ａがＸ方向に移動することにより、ウエハＷ１が分割される。
【0074】
〈クランプ部〉
クランプ部２１４は、ウエハリング構造体Ｗのリング状部材Ｗ３を把持するように構成されている。具体的には、クランプ部２１４は、把持部２１４ａと、Ｚ方向移動機構２１４ｂと、Ｙ方向移動機構２１４ｃとを有している。把持部２１４ａは、リング状部材Ｗ３をＺ２方向側から支持するとともに、リング状部材Ｗ３をＺ１方向側から押さえる。このように、リング状部材Ｗ３は、把持部２１４ａにより把持される。把持部２１４ａは、Ｚ方向移動機構２１４ｂに取り付けられている。
クランプ部２１４は、ウエハリング構造体Ｗのリング状部材Ｗ３を把持するように構成されている。具体的には、クランプ部２１４は、把持部２１４ａと、Ｚ方向移動機構２１４ｂと、Ｙ方向移動機構２１４ｃとを有している。把持部２１４ａは、リング状部材Ｗ３をＺ２方向側から支持するとともに、リング状部材Ｗ３をＺ１方向側から押さえる。このように、リング状部材Ｗ３は、把持部２１４ａにより把持される。把持部２１４ａは、Ｚ方向移動機構２１４ｂに取り付けられている。
【0075】
Ｚ方向移動機構２１４ｂは、クランプ部２１４をＺ方向に移動させるように構成されている。具体的には、Ｚ方向移動機構２１４ｂは、把持部２１４ａをＺ１方向またはＺ２方向に移動させるように構成されている。Ｚ方向移動機構２１４ｂは、たとえば、リニアコンベアモジュール、または、ボールねじおよびエンコーダ付きモータを有する駆動部を有している。Ｚ方向移動機構２１４ｂは、Ｙ方向移動機構２１４ｃに取り付けられている。Ｙ方向移動機構２１４ｃは、Ｚ方向移動機構２１４ｂをＹ１方向またはＹ２方向に移動させるように構成されている。Ｙ方向移動機構２１４ｃは、たとえば、リニアコンベアモジュール、または、ボールねじおよびエンコーダ付きモータを有する駆動部を有している。
【0076】
（半導体ウエハの加工装置の制御的な構成）
図９に示すように、半導体ウエハの加工装置１００は、第１制御部１０１と、第２制御部１０２と、第３制御部１０３と、第４制御部１０４と、第５制御部１０５と、第６制御部１０６と、第７制御部１０７と、第８制御部１０８と、エキスパンド制御演算部１０９と、ハンドリング制御演算部１１０と、ダイシング制御演算部１１１と、記憶部１１２とを備えている。なお、エキスパンド制御演算部１０９は、特許請求の範囲の「制御部」の一例である。
図９に示すように、半導体ウエハの加工装置１００は、第１制御部１０１と、第２制御部１０２と、第３制御部１０３と、第４制御部１０４と、第５制御部１０５と、第６制御部１０６と、第７制御部１０７と、第８制御部１０８と、エキスパンド制御演算部１０９と、ハンドリング制御演算部１１０と、ダイシング制御演算部１１１と、記憶部１１２とを備えている。なお、エキスパンド制御演算部１０９は、特許請求の範囲の「制御部」の一例である。
【0077】
第１制御部１０１は、スキージ部２１３を制御するように構成されている。第１制御部１０１は、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）と、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）およびＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）などを有する記憶部とを含んでいる。なお、第１制御部１０１は、記憶部として、電圧遮断後にも記憶された情報が保持されるＨＤＤ（Ｈａｒｄ Ｄｉｓｋ Ｄｒｉｖｅ）などを含んでいてもよい。また、ＨＤＤは、第１制御部１０１、第２制御部１０２、第３制御部１０３、第４制御部１０４、第５制御部１０５、第６制御部１０６、第７制御部１０７、および、第８制御部１０８に対して共通に設けられていてもよい。
【0078】
第２制御部１０２は、冷気供給部２０６および冷却ユニット２０７を制御するように構成されている。第２制御部１０２は、ＣＰＵと、ＲＯＭおよびＲＡＭなどを有する記憶部とを含んでいる。第３制御部１０３は、ヒートシュリンク部２１１および紫外線照射部２１２を制御するように構成されている。第３制御部１０３は、ＣＰＵと、ＲＯＭおよびＲＡＭなどを有する記憶部とを含んでいる。なお、第２制御部１０２および第３制御部１０３は、記憶部として、電圧遮断後にも記憶された情報が保持されるＨＤＤなどを含んでいてもよい。
【0079】
第４制御部１０４は、カセット部２０２およびリフトアップハンド部２０３を制御するように構成されている。第４制御部１０４は、ＣＰＵと、ＲＯＭおよびＲＡＭなどを有する記憶部とを含んでいる。第５制御部１０５は、吸着ハンド部２０４を制御するように構成されている。第５制御部１０５は、ＣＰＵと、ＲＯＭおよびＲＡＭなどを有する記憶部とを含んでいる。なお、第４制御部１０４および第５制御部１０５は、記憶部として、電圧遮断後にも記憶された情報が保持されるＨＤＤなどを含んでいてもよい。
【0080】
第６制御部１０６は、チャックテーブル部１２を制御するように構成されている。第６制御部１０６は、ＣＰＵと、ＲＯＭおよびＲＡＭなどを有する記憶部とを含んでいる。第７制御部１０７は、レーザ部１３を制御するように構成されている。第７制御部１０７は、ＣＰＵと、ＲＯＭおよびＲＡＭなどを有する記憶部とを含んでいる。第８制御部１０８は、撮像部１４を制御するように構成されている。第８制御部１０８は、ＣＰＵと、ＲＯＭおよびＲＡＭなどを有する記憶部とを含んでいる。なお、第６制御部１０６、第７制御部１０７および第８制御部１０８は、記憶部として、電圧遮断後にも記憶された情報が保持されるＨＤＤなどを含んでいてもよい。
【0081】
エキスパンド制御演算部１０９は、第１制御部１０１、第２制御部１０２および第３制御部１０３の処理結果に基づいて、シート部材Ｗ２のエキスパンド処理に関する演算を行うように構成されている。エキスパンド制御演算部１０９は、ＣＰＵと、ＲＯＭおよびＲＡＭなどを有する記憶部とを含んでいる。なお、エキスパンド制御演算部１０９の詳細な構成については、後に詳細に説明する。
【0082】
ハンドリング制御演算部１１０は、第４制御部１０４および第５制御部１０５の処理結果に基づいて、ウエハリング構造体Ｗの移動処理に関する演算を行うように構成されている。ハンドリング制御演算部１１０は、ＣＰＵと、ＲＯＭおよびＲＡＭなどを有する記憶部とを含んでいる。
【0083】
ダイシング制御演算部１１１は、第６制御部１０６、第７制御部１０７および第８制御部１０８の処理結果に基づいて、ウエハＷ１のダイシング処理に関する演算を行うように構成されている。ダイシング制御演算部１１１は、ＣＰＵと、ＲＯＭおよびＲＡＭなどを有する記憶部とを含んでいる。
【0084】
記憶部１１２は、ダイシング装置１およびエキスパンド装置２を動作させるためのプログラムが記憶されている。記憶部１１２は、ＲＯＭ、ＲＡＭおよびＨＤＤなどを含んでいる。
【0085】
【0086】
ステップＳ１において、カセット部２０２からウエハリング構造体Ｗが取り出される。すなわち、カセット部２０２内に収容されたウエハリング構造体Ｗをリフトアップハンド２０３ｂにより支持した後、Ｙ方向移動機構２０３ａによりリフトアップハンド２０３ｂがＹ１方向側に移動することによって、カセット部２０２からウエハリング構造体Ｗが取り出される。ステップＳ２において、吸着ハンド２０４ｃによりウエハリング構造体Ｗが、ダイシング装置１のチャックテーブル部１２に移載される。すなわち、カセット部２０２から取り出されたウエハリング構造体Ｗは、吸着ハンド２０４ｃにより吸着された状態で、Ｘ方向移動機構２０４ａによりＸ２方向側に移動する。そして、Ｘ２方向側に移動したウエハリング構造体Ｗは、吸着ハンド２０４ｃからチャックテーブル部１２に移載された後、チャックテーブル部１２により把持される。
【0087】
ステップＳ３において、レーザ部１３によりウエハＷ１に改質層が形成される。ステップＳ４において、吸着ハンド２０４ｃにより改質層が形成されたウエハＷ１を有するウエハリング構造体Ｗがクランプ部２１４に移載される。ステップＳ５において、冷気供給部２０６および冷却ユニット２０７によりシート部材Ｗ２が冷却される。すなわち、Ｚ方向移動機構２１４ｂによりクランプ部２１４に把持されたウエハリング構造体ＷをＺ２方向に移動（下降）させて冷却ユニット２０７に接触させるとともに、冷気供給部２０６によりＺ１方向側から冷気を供給することによって、シート部材Ｗ２が冷却される。
【0088】
ステップＳ６において、クランプ部２１４によりエキスパンド部２０８にウエハリング構造体Ｗが移動する。すなわち、シート部材Ｗ２が冷却されたウエハリング構造体Ｗが、クランプ部２１４に把持された状態で、Ｙ方向移動機構２１４ｃによりＹ１方向に移動する。ステップＳ７において、エキスパンド部２０８によりシート部材Ｗ２がエキスパンドされる。すなわち、ウエハリング構造体Ｗが、クランプ部２１４に把持された状態で、Ｚ方向移動機構２１４ｂによりＺ２方向に移動する。そして、シート部材Ｗ２が、エキスパンドリング２８１に当接するとともに、エキスパンドリング２８１により引っ張られることによって、エキスパンドされる。これにより、ウエハＷ１が分割ライン（改質層）に沿って分割される。
【0089】
ステップＳ８において、拡張維持部材２１０により、エキスパンドされた状態のシート部材Ｗ２がＺ１方向側から押さえられる。すなわち、押圧リング部２１０ａが、Ｚ方向移動機構２１０ｄによりシート部材Ｗ２に当接するまでＺ２方向に移動（下降）する。そして、図１０のＡ点から図１１のＡ点を介してステップＳ９に進む。
【0090】
図１１に示すように、ステップＳ９において、拡張維持部材２１０によりシート部材Ｗ２が押さえられた後、スキージ部２１３によりウエハＷ１を押圧しながら、紫外線照射部２１２によりシート部材Ｗ２に紫外線Ｕｔを照射する。これにより、ウエハＷ１が、スキージ部２１３によりさらに分割される。また、シート部材Ｗ２の粘着力が、紫外線照射部２１２から照射される紫外線Ｕｔにより低下する。
【0091】
ステップＳ１０において、ヒートシュリンク部２１１によりシート部材Ｗ２が加熱されて収縮されつつ、クランプ部２１４が上昇する。この際、吸気部２１０ｃが、加熱されているシート部材Ｗ２付近の空気を吸い込む。ステップＳ１１において、ウエハリング構造体Ｗがクランプ部２１４から吸着ハンド２０４ｃに移載される。すなわち、ウエハリング構造体Ｗが、クランプ部２１４に把持された状態で、Ｙ方向移動機構２１４ｃによりＹ２方向に移動する。そして、ウエハリング構造体Ｗが、冷却ユニット２０７のＺ１方向側の位置において、クランプ部２１４による把持が解除された後、吸着ハンド２０４ｃにより吸着される。
【0092】
ステップＳ１２において、吸着ハンド２０４ｃによりリフトアップハンド２０３ｂにウエハリング構造体Ｗが移載される。ステップＳ１３において、ウエハリング構造体Ｗが、カセット部２０２に収容される。すなわち、リフトアップハンド２０３ｂにより支持されたウエハリング構造体Ｗは、Ｙ方向移動機構２０３ａによってＹ１方向側に移動させることによって、カセット部２０２にウエハリング構造体Ｗが収容される。これらにより、１枚のウエハリング構造体Ｗに対して行われる処理が終了する。そして、図１１のＢ点から図１０のＢ点を介してステップＳ１に戻る。
【0093】
（紫外線照射部およびスキージ部の詳細な構成）
図１２に示すように、エキスパンド装置２は、上記エキスパンド部２０８と、上記拡張維持部材２１０と、上記紫外線照射部２１２と、上記スキージ部２１３とを含んでいる。なお、図１２は、エキスパンド部２０８によるシート部材Ｗ２のエキスパンド終了後、スキージ部２１３によるウエハＷ１の押圧前の状態を示している。
図１２に示すように、エキスパンド装置２は、上記エキスパンド部２０８と、上記拡張維持部材２１０と、上記紫外線照射部２１２と、上記スキージ部２１３とを含んでいる。なお、図１２は、エキスパンド部２０８によるシート部材Ｗ２のエキスパンド終了後、スキージ部２１３によるウエハＷ１の押圧前の状態を示している。
【0094】
〈エキスパンド部〉
エキスパンド部２０８は、ウエハＷ１が貼り付けられた伸縮性を有するシート部材Ｗ２をエキスパンドすることによりウエハＷ１を複数の半導体チップＣｈに分割するように構成されている。エキスパンド部２０８は、エキスパンドリング２８１を有している。
エキスパンド部２０８は、ウエハＷ１が貼り付けられた伸縮性を有するシート部材Ｗ２をエキスパンドすることによりウエハＷ１を複数の半導体チップＣｈに分割するように構成されている。エキスパンド部２０８は、エキスパンドリング２８１を有している。
【0095】
エキスパンドリング２８１は、シート部材Ｗ２をエキスパンドさせる際にシート部材Ｗ２をＺ２方向側から支持するように構成されている。
【0096】
具体的には、エキスパンドリング２８１は、支持リング部２８１ａと、移動機構収容部２８１ｂとを有している。
【0097】
支持リング部２８１ａは、エキスパンドリング２８１の移動機構収容部２８１ｂよりもＺ１方向側の部分である。支持リング部２８１ａは、Ｚ方向に貫通した貫通孔１２８１ａが形成された円筒形状を有している。
【0098】
移動機構収容部２８１ｂは、エキスパンドリング２８１の支持リング部２８１ａよりもＺ２方向側の部分である。エキスパンドリング２８１の径方向において、移動機構収容部２８１ｂは、支持リング部２８１ａよりも大きい直径を有している。移動機構収容部２８１ｂは、支持リング部２８１ａと一体的に設けられている。移動機構収容部２８１ｂは、内部に収容空間１２８１ｂが形成された略円筒形状を有している。エキスパンドリング２８１の径方向において、収容空間１２８１ｂは、貫通孔１２８１ａよりも大きい直径を有している。移動機構収容部２８１ｂのＺ２方向側の端部は、ベース２０５に固定されている。
【0099】
エキスパンドリング２８１の径方向の内側には、平面視において、紫外線照射部２１２およびスキージ部２１３が配置されている。収容空間１２８１ｂには、Ｚ方向移動機構２１３ｂのＺ２方向側の部分、Ｘ方向移動機構２１３ｃおよび回動機構２１３ｄが収容されている。貫通孔１２８１ａには、Ｚ方向移動機構２１３ｂのＺ２方向側の部分よりもＺ１方向側の部分および押圧部２１３ａが配置されている。Ｚ方向において、Ｚ方向移動機構２１３ｂは、スキージ部２１３の押圧部２１３ａの上端部がエキスパンドリング２８１から突出しないように押圧部２１３ａのＺ１方向へ移動させるように構成されている。
【0100】
〈拡張維持部材〉
拡張維持部材２１０は、上記押圧リング部２１０ａと、上記蓋部２１０ｂと、上記吸気部２１０ｃとを有している。
拡張維持部材２１０は、上記押圧リング部２１０ａと、上記蓋部２１０ｂと、上記吸気部２１０ｃとを有している。
【0101】
蓋部２１０ｂは、窒素供給用孔１２１０ｂを有している。窒素供給用孔１２１０ｂは、シート部材Ｗ２における粘着力を低下させたい部分に対し紫外線照射部２１２による紫外線照射中に酸素が供給されない状態にするため、紫外線照射部２１２による紫外線照射の直前に窒素を拡張維持部材２１０内の空間に流入させる孔である。窒素供給用孔１２１０ｂは、蓋部２１０ｂをＺ方向に貫通している。窒素供給用孔１２１０ｂは、窒素供給用孔１２１０ｂは、図示しない窒素供給源に窒素供給用ホース１２１１ｂを介して接続されている。
【0102】
上記押圧リング部２１０ａは、空気逃がし用孔１２１０ａを有している。空気逃がし用孔１２１０ａは、窒素供給用孔１２１０ｂから供給された窒素によって拡張維持部材２１０内の酸素を流出させる孔である。空気逃がし用孔１２１０ａは、押圧リング部２１０ａを径方向に貫通している。空気逃がし用孔１２１０ａは、押圧リング部２１０ａをＺ２方向側に形成されている。窒素供給用孔１２１０ｂは、図示しない窒素供給源に接続されている。
【0103】
これらにより、拡張維持部材２１０内の酸素が窒素により空気逃がし用孔１２１０ａから追い出されることにより、シート部材Ｗ２における粘着力を低下させたい部分に対し紫外線照射中に酸素が供給されない状態になるので、紫外線照射部２１２による紫外線照射によってシート部材Ｗ２の粘着力を低下させることができる。
【0104】
〈紫外線照射部〉
図１３および図１４に示すように、紫外線照射部２１２は、エキスパンド部２０８によりエキスパンドされたシート部材Ｗ２のうちウエハＷ１の位置に対応するシート部材Ｗ２に紫外線Ｕｔを照射するように構成されている。
図１３および図１４に示すように、紫外線照射部２１２は、エキスパンド部２０８によりエキスパンドされたシート部材Ｗ２のうちウエハＷ１の位置に対応するシート部材Ｗ２に紫外線Ｕｔを照射するように構成されている。
【0105】
具体的には、紫外線照射部２１２は、複数のＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）を一列に並べた紫外線発光部２１２ａを有している。紫外線照射部２１２は、スキージ部２１３の後述する押圧部２１３ａのＺ１方向側の端部に配置されている。紫外線照射部２１２は、スキージ部２１３内に一体的に設けられている。紫外線照射部２１２は、Ｚ１方向側に紫外線Ｕｔを照射するように構成されている。紫外線照射部２１２は、エキスパンド部２０８によりシート部材Ｗ２がエキスパンドされたエキスパンド状態において、リング状部材Ｗ３の上面Ｗ３１と、スキージ部２１３の局所的な押圧が行われるシート部材Ｗ２の押圧面Ｗ２２との間の位置に配置されている。
【0106】
〈スキージ部〉
図１４および図１５に示すように、スキージ部２１３は、エキスパンド部２０８によりシート部材Ｗ２をエキスパンドさせてウエハＷ１を複数の半導体チップＣｈに分割させた後、ウエハＷ１を局所的に押圧するように構成されている。
図１４および図１５に示すように、スキージ部２１３は、エキスパンド部２０８によりシート部材Ｗ２をエキスパンドさせてウエハＷ１を複数の半導体チップＣｈに分割させた後、ウエハＷ１を局所的に押圧するように構成されている。
【0107】
具体的には、スキージ部２１３は、押圧部２１３ａと、Ｚ方向移動機構２１３ｂと、Ｘ方向移動機構２１３ｃと、回動機構２１３ｄとを有している。
【0108】
押圧部２１３ａは、平面視において、一直線状に延びた板形状を有している。押圧部２１３ａは、Ｘ方向移動機構２１３ｃおよび回動機構２１３ｄにより移動するとともにシート部材Ｗ２を介してウエハＷ１を押圧するように構成されている。押圧部２１３ａは、シート部材Ｗ２のうちウエハＷ１に対応する部分の下面である押圧面Ｗ２２を押圧している。
【0109】
Ｅｘ方向において、押圧部２１３ａは、ウエハＷ１の直径Ｗｄ１よりも大きく、かつ、リング状部材Ｗ３の内径Ｗｄ２よりも小さい長さＬを有している。また、Ｅｘ方向において、押圧部２１３ａの長さＬは、エキスパンドリング２８１の内径Ｒｅよりも小さい。なお、Ｅｘ方向は、平面視において、一直線状に延びた板形状の押圧部２１３ａの延びる方向を示している。
【0110】
図１５および図１６に示すように、Ｚ方向移動機構２１３ｂ、Ｘ方向移動機構２１３ｃ、および、回動機構２１３ｄは、紫外線照射部２１２およびスキージ部２１３の両方を移動させることが可能な共通の移動機構である。
【0111】
Ｘ方向移動機構２１３ｃは、紫外線照射部２１２およびスキージ部２１３の両方を水平方向のうちのＭ１１方向（一方向）に移動させるように構成されている。Ｘ方向移動機構２１３ｃは、取付部２１３１ｃと、直線状部２１３２ｃと、モータ２１３３ｃとを有している。取付部２１３１ｃは、直線状部２１３２ｃにＭ１１方向およびＭ１２方向（一方向の逆方向）にスライド移動可能に取り付けられている。取付部２１３１ｃの上端部には、Ｚ方向移動機構２１３ｂが取り付けられている。モータ２１３３ｃは、取付部２１３１ｃをＭ１１方向およびＭ１２方向にスライド移動させるための駆動源である。
【0112】
図１６および図１７に示すように、回動機構２１３ｄは、Ｚ方向に沿って延びる回動軸線Ａｃ回りのＲｔ方向に、紫外線照射部２１２およびスキージ部２１３を回動させるように構成されている。また、回動機構２１３ｄは、紫外線照射部２１２およびスキージ部２１３の両方をＭ１１方向に移動させることが可能な位置からＭ１１方向に直交するＭ２１方向（他方向）に移動させることが可能な位置までＸ方向移動機構２１３ｃを回動させるように構成されている。
【0113】
具体的には、回動機構２１３ｄは、回動テーブル２１３１ｄと、モータ２１３２ｄとを有している。回動テーブル２１３１ｄの上端部には、Ｘ方向移動機構２１３ｃが取り付けられている。モータ２１３２ｄは、回動テーブル２１３１ｄをＲｔ方向に回動させるための駆動源である。
【0114】
【0115】
エキスパンド制御演算部１０９は、共通の移動機構により紫外線照射部２１２およびスキージ部２１３を共に移動させながら並行して実施する制御を行うように構成されている。ここで、共通の移動機構とは、Ｚ方向移動機構２１３ｂ、Ｘ方向移動機構２１３ｃおよび回動機構２１３ｄである。
【0116】
図１８および図１９に示すように、エキスパンド制御演算部１０９は、共通の移動機構により水平方向のうちのＭ１１方向へスキージ部２１３の押圧部２１３ａを移動させてウエハＷ１の局所的な押圧を行う場合、紫外線照射部２１２による紫外線Ｕｔの照射を並行して実施する制御を行うように構成されている。なお、上記制御は、窒素供給用孔１２１０ｂから窒素を拡張維持部材２１０内の空間に流入させて、空気逃がし用孔１２１０ａから拡張維持部材２１０内の空間の酸素流出させた後に実施される。
【0117】
具体的には、エキスパンド制御演算部１０９は、Ｚ方向移動機構２１３ｂにより押圧部２１３ａを上昇位置Ｕｐまで上昇する制御を行うように構成されている。エキスパンド制御演算部１０９は、上昇位置Ｕｐに押圧部２１３ａが到達したことに基づいて、シート部材Ｗ２を介してＺ２方向側からウエハＷ１を押圧部２１３ａが局所的に押圧しつつ、Ｘ方向移動機構２１３ｃにより押圧部２１３ａがＭ１１方向に移動することにより、ウエハＷ１を分割する制御を行うように構成されている。この際、エキスパンド制御演算部１０９は、紫外線照射部２１２による紫外線Ｕｔの照射を並行して実施する制御を行うように構成されている。
【0118】
エキスパンド制御演算部１０９は、押圧部２１３ａのＭ１１方向への移動を終了したことに基づいて、紫外線照射部２１２による紫外線Ｕｔの照射を停止するとともに、Ｚ方向移動機構２１３ｂにより押圧部２１３ａが下降位置Ｌｗ（図２０参照）まで下降する制御を行うように構成されている。
【0119】
図２０および図２１に示すように、エキスパンド制御演算部１０９は、水平方向のうちのＭ２１方向へスキージ部２１３の押圧部２１３ａを移動させてウエハＷ１の局所的な押圧を行う場合、紫外線照射部２１２による紫外線Ｕｔの照射を並行して実施する制御を行うように構成されている。
【0120】
具体的には、エキスパンド制御演算部１０９は、押圧部２１３ａが下降位置Ｌｗに到達したことに基づいて、回動機構２１３ｄにより押圧部２１３ａを９０度回動する制御を行うように構成されている。エキスパンド制御演算部１０９は、押圧部２１３ａの９０度の回動が終了したことに基づいて、Ｚ方向移動機構２１３ｂにより押圧部２１３ａを上昇位置Ｕｐ（図１８を参照）まで上昇する制御を行うように構成されている。
【0121】
エキスパンド制御演算部１０９は、押圧部２１３ａが上昇位置Ｕｐ（図１８を参照）に到達したことに基づいて、シート部材Ｗ２を介してＺ２方向側からウエハＷ１を押圧部２１３ａが局所的に押圧しつつ、Ｘ方向移動機構２１３ｃにより押圧部２１３ａがＭ２１方向に移動することにより、ウエハＷ１が分割される。この際、エキスパンド制御演算部１０９は、紫外線照射部２１２による紫外線Ｕｔの照射を並行して実施する制御を行うように構成されている。
【0122】
エキスパンド制御演算部１０９は、押圧部２１３ａのＭ２１方向への移動を終了したことに基づいて、紫外線照射部２１２による紫外線Ｕｔの照射を停止するとともに、Ｚ方向移動機構２１３ｂにより押圧部２１３ａが下降位置Ｌｗまで下降する制御を行うように構成されている。
【0123】
（スキージブレーキング処理）
図２２および図２３を参照して、エキスパンド制御演算部１０９により紫外線照射部２１２およびスキージ部２１３を制御することにより行われるスキージブレーキング処理について、以下に説明する。なお、上記スキージブレーキング処理は、窒素供給用孔１２１０ｂから窒素を拡張維持部材２１０内の空間に流入させて、空気逃がし用孔１２１０ａから拡張維持部材２１０内の空間の酸素を流出させた後に実施される。
図２２および図２３を参照して、エキスパンド制御演算部１０９により紫外線照射部２１２およびスキージ部２１３を制御することにより行われるスキージブレーキング処理について、以下に説明する。なお、上記スキージブレーキング処理は、窒素供給用孔１２１０ｂから窒素を拡張維持部材２１０内の空間に流入させて、空気逃がし用孔１２１０ａから拡張維持部材２１０内の空間の酸素を流出させた後に実施される。
【0124】
ステップＳ１０１において、スキージ部２１３の押圧部２１３ａが上昇位置Ｕｐまで上昇される。ステップＳ１０２において、押圧部２１３ａが上昇位置Ｕｐに到達したか否かが判断される。押圧部２１３ａが上昇位置Ｕｐに到達した場合にはステップＳ１０３に進み、押圧部２１３ａが上昇位置Ｕｐに到達していない場合にはステップＳ１０２を繰り返す。ステップＳ１０３において、スキージ部２１３がウエハＷ１を押圧しながら、紫外線照射部２１２により紫外線Ｕｔが照射される。この際、押圧部２１３ａは、Ｘ方向移動機構２１３ｃによりＭ１１方向に移動されている。
【0125】
ステップＳ１０４において、押圧部２１３ａのＭ１１方向への移動が終了したか否かが判断される。押圧部２１３ａのＭ１１方向への移動が終了した場合にはステップＳ１０５に進み、押圧部２１３ａのＭ１１方向への移動が終了していない場合にはステップＳ１０４を繰り返す。ステップＳ１０５において、スキージ部２１３の押圧部２１３ａが下降位置Ｌｗまで下降される。ステップＳ１０６において、押圧部２１３ａが下降位置Ｌｗへ到達したか否かが判断される。押圧部２１３ａが下降位置Ｌｗへ到達した場合にはステップＳ１０７に進み、押圧部２１３ａが下降位置Ｌｗへ到達していない場合にはステップＳ１０６を繰り返す。
【0126】
ステップＳ１０７において、回動機構２１３ｄにより押圧部２１３ａが９０度回動する。ステップＳ１０８において、押圧部２１３ａが上昇位置Ｕｐに到達した場合にはステップＳ１０９に進み、押圧部２１３ａが上昇位置Ｕｐに到達していない場合にはステップＳ１０８を繰り返す。ステップＳ１０９において、スキージ部２１３がウエハＷ１を押圧しながら、紫外線照射部２１２により紫外線Ｕｔが照射される。この際、押圧部２１３ａは、Ｘ方向移動機構２１３ｃによりＭ２１方向に移動されている。
【0127】
ステップＳ１０９において、押圧部２１３ａのＭ２１方向への移動が終了したか否かが判断される。押圧部２１３ａのＭ２１方向への移動が終了した場合には図２２のＣ点および図２３のＣ点を介してステップＳ１１０に進み、押圧部２１３ａのＭ２１方向への移動が終了していない場合にはステップＳ１０９を繰り返す。ステップＳ１１０において、スキージ部２１３の押圧部２１３ａが下降位置Ｌｗまで下降される。ステップＳ１１１において、押圧部２１３ａが下降位置Ｌｗへ到達したか否かが判断される。押圧部２１３ａが下降位置Ｌｗへ到達した場合にはスキージブレーキング処理が終了され、押圧部２１３ａが下降位置Ｌｗへ到達していない場合にはステップＳ１１１を繰り返す。
【0128】
ここで、半導体チップＣｈを製造するための製造方法である半導体チップＣｈの製造方法（上記の半導体チップ製造処理）のうちのスキージブレーキング処理以外の処理として、半導体チップ製造処理は、レーザ光を照射するレーザ照射部１３ａから複数の半導体チップＣｈが設けられたウエハＷ１にレーザ光を照射することによりウエハＷ１内に改質層を形成するステップを備えている。半導体チップ製造処理は、ウエハＷ１が貼り付けられた伸縮性を有するシート部材Ｗ２をエキスパンドするエキスパンド部２０８によりウエハＷ１を複数の半導体チップＣｈに分割するステップを備えている。半導体チップ製造処理は、共通の移動機構により紫外線照射部２１２およびスキージ部２１３を移動させることにより、シート部材Ｗ２のうちウエハＷ１の位置に対応するシート部材Ｗ２に紫外線を照射するとともに、ウエハＷ１を局所的に押圧する工程を備えている。
【0129】
このように、半導体チップ製造処理により製造された半導体チップＣｈは、上記エキスパンド部２０８と、上記紫外線照射部２１２と、上記スキージ部２１３と、上記共通の移動機構とを備えるエキスパンド装置２によって製造される。
【0130】
（第１実施形態の効果）
第１実施形態では、以下のような効果を得ることができる。
第１実施形態では、以下のような効果を得ることができる。
【0131】
第１実施形態では、上記のように、エキスパンド装置２は、紫外線照射部２１２およびスキージ部２１３の両方を移動させることが可能な共通のＸ方向移動機構２１３ｃおよび回動機構２１３ｄを備えている。これにより、共通のＸ方向移動機構２１３ｃおよび回動機構２１３ｄ（共通の移動機構）によりスキージ部２１３によるウエハＷ１の局所的な押圧と紫外線照射部２１２による紫外線Ｕｔの照射とを行うことができるので、スキージ部２１３および紫外線照射部２１２の両方を設けた場合でも、装置の大型化を抑制することができる。また、スキージ部２１３はウエハＷ１を複数の半導体チップＣｈに分割するために、シート部材Ｗ２のうちウエハＷ１の位置に対応するシート部材Ｗ２を押圧する。紫外線照射部２１２は、シート部材Ｗ２のうちウエハＷ１の位置に対応するシート部材Ｗ２の接着剤を硬化させるために、シート部材Ｗ２のうちウエハＷ１の位置に対応するシート部材Ｗ２に紫外線を照射する。したがって、スキージ部２１３により押圧するシート部材Ｗ２の部分と、紫外線照射部２１２により紫外線を照射するシート部材Ｗ２の部分とは共通しているので、スキージ部２１３の移動に合わせて紫外線照射部２１２を移動させて紫外線を照射することにより、シート部材Ｗ２のうちウエハＷ１の位置に対応するシート部材Ｗ２に対して、スキージ部２１３によるウエハＷ１の分割および紫外線照射部２１２から照射される紫外線による接着剤の硬化の両方を行うことができる。この結果、２つの部材を別々に移動させる場合と比較して、エキスパンド装置２の部品点数の増加および装置の大型化を抑制することができる。
【0132】
また、第１実施形態では、上記のように、共通の移動機構は、紫外線照射部２１２およびスキージ部２１３の両方を水平方向のうちの一方向に移動させるＸ方向移動機構２１３ｃおよび回動機構２１３ｄと、上下方向に沿って延びる回動軸線Ａｃ回りに、少なくともスキージ部２１３を回動させる回動機構２１３ｄとを含んでいる。これにより、紫外線照射部２１２による紫外線Ｕｔの照射およびスキージ部２１３によるウエハＷ１の押圧の両方の移動を実現するために必要な共通の移動機構の数がＸ方向移動機構２１３ｃおよび回動機構２１３ｄと比較的少ないので、エキスパンド装置２の部品点数の増加および大型化を抑制することができる。
【0133】
また、第１実施形態では、上記のように、Ｘ方向移動機構２１３ｃは、回動機構２１３ｄに取り付けられている。回動機構２１３ｄは、紫外線照射部２１２およびスキージ部２１３の両方を一方向に移動させることが可能な位置から一方向に直交する他方向に移動させることが可能な位置までＸ方向移動機構２１３ｃを回動させるように構成されている。これにより、回動機構２１３ｄによる回動により、一方向および他方向の各々において、スキージ部２１３によるウエハＷ１の押圧および紫外線照射部２１２による紫外線Ｕｔの照射を行うことができるので、スキージ部２１３による複数の半導体チップＣｈの分割および紫外線照射部２１２によるシート部材Ｗ２の接着剤の硬化を十分に行うことができる。
【0134】
また、第１実施形態では、上記のように、エキスパンド部２０８は、シート部材Ｗ２をエキスパンドさせるエキスパンドリング２８１を含んでいる。紫外線照射部２１２、スキージ部２１３、Ｘ方向移動機構２１３ｃおよび回動機構２１３ｄは、平面視において、エキスパンドリング２８１の径方向の内側に配置されている。これにより、他の用途に利用しにくいエキスパンドリング２８１内の空間を有効に利用して紫外線照射部２１２、スキージ部２１３およびＸ方向移動機構２１３ｃおよび回動機構２１３ｄをエキスパンドリング２８１内に収容することができるので、エキスパンド装置２の大型化をより抑制することができる。
【0135】
また、第１実施形態では、上記のように、エキスパンド装置２は、紫外線照射部２１２による紫外線照射と、スキージ部２１３によるウエハＷ１の局所的な押圧とを、共通のＸ方向移動機構２１３ｃおよび回動機構２１３ｄにより紫外線照射部２１２およびスキージ部２１３を共に移動させながら並行して実施する制御を行うように構成されたエキスパンド制御演算部１０９を備えている。これにより、紫外線照射部２１２による紫外線照射と、スキージ部２１３によるウエハＷ１の局所的な押圧とを効率的に行うことができるので、エキスパンド装置２において実施される作業の作業効率を向上させることができる。
【0136】
また、第１実施形態では、上記のように、紫外線照射部２１２は、スキージ部２１３内に一体的に設けられた状態で、共通のＸ方向移動機構２１３ｃおよび回動機構２１３ｄに取り付けられている。これにより、スキージ部２１３を配置するスペースだけで紫外線照射部２１２およびスキージ部２１３を配置することができるので、共通のＸ方向移動機構２１３ｃおよび回動機構２１３ｄに必要な紫外線照射部２１２およびスキージ部２１３の配置スペースの増大を抑制することができる。この結果、共通のＸ方向移動機構２１３ｃおよび回動機構２１３ｄの大型化を抑制することができるので、エキスパンド装置２の大型化をより抑制することができる。
【0137】
また、第１実施形態では、上記のように、共通の移動機構により紫外線照射部２１２およびスキージ部２１３を移動させることにより、シート部材Ｗ２のうちウエハＷ１の位置に対応するシート部材Ｗ２に紫外線を照射するとともに、ウエハＷ１を局所的に押圧する工程を設ける。これにより、共通の移動機構によりスキージ部２１３によるウエハＷ１の局所的な押圧と紫外線照射部２１２による紫外線の照射とを行うことができるので、スキージ部２１３および紫外線照射部２１２の両方を設けた場合でも、装置の大型化を抑制することが可能な半導体チップＣｈの製造方法を得ることができる。
【0138】
また、第１実施形態では、上記のように、半導体チップＣｈは、紫外線照射部２１２およびスキージ部２１３の両方を移動させることが可能な共通の移動機構を備えるエキスパンド装置２によって製造される。これにより、共通の移動機構によりスキージ部２１３によるウエハＷ１の局所的な押圧と紫外線照射部２１２による紫外線の照射とを行うことができるので、スキージ部２１３および紫外線照射部２１２の両方を設けた場合でも、装置の大型化を抑制することが可能な半導体チップＣｈを得ることができる。
【0139】
［第２実施形態］
図２４～図２８を参照して、第２実施形態による半導体ウエハの加工装置３００の構成について説明する。第２実施形態では、第１実施形態とは異なり、紫外線照射部３２１２が、スキージ部３２１３とは別個に配置されている。なお、第２実施形態では、第１実施形態と同じ構成については、詳細な説明を省略する。
図２４～図２８を参照して、第２実施形態による半導体ウエハの加工装置３００の構成について説明する。第２実施形態では、第１実施形態とは異なり、紫外線照射部３２１２が、スキージ部３２１３とは別個に配置されている。なお、第２実施形態では、第１実施形態と同じ構成については、詳細な説明を省略する。
【0140】
（半導体ウエハの加工装置）
半導体ウエハの加工装置３００は、ウエハリング構造体Ｗに設けられたウエハＷ１の加工を行う装置である。
半導体ウエハの加工装置３００は、ウエハリング構造体Ｗに設けられたウエハＷ１の加工を行う装置である。
【0141】
また、半導体ウエハの加工装置３００は、ダイシング装置１と、エキスパンド装置３０２とを備えている。上下方向をＺ方向とし、上方向をＺ１方向とするとともに、下方向をＺ２方向とする。Ｚ方向に直交する水平方向のうちダイシング装置１とエキスパンド装置３０２とが並ぶ方向をＸ方向とし、Ｘ方向のうちエキスパンド装置３０２側をＸ１方向とし、Ｘ方向のうちダイシング装置１側をＸ２方向とする。水平方向のうちＸ方向に直交する方向をＹ方向とし、Ｙ方向のうち一方側をＹ１方向とし、Ｙ方向のうち他方側をＹ２方向とする。
【0142】
（ダイシング装置）
ダイシング装置１は、ウエハＷ１に対して透過性を有する波長のレーザを分割ライン（ストリート）に沿って照射することにより、改質層を形成するように構成されている。
ダイシング装置１は、ウエハＷ１に対して透過性を有する波長のレーザを分割ライン（ストリート）に沿って照射することにより、改質層を形成するように構成されている。
【0143】
具体的には、ダイシング装置１は、ベース１１と、チャックテーブル部１２と、レーザ部１３と、撮像部１４とを含んでいる。
【0144】
（エキスパンド装置）
エキスパンド装置３０２は、ウエハＷ１を分割して複数の半導体チップＣｈを形成するように構成されている。
エキスパンド装置３０２は、ウエハＷ１を分割して複数の半導体チップＣｈを形成するように構成されている。
【0145】
エキスパンド装置３０２は、ベース２０１と、カセット部２０２と、リフトアップハンド部２０３と、吸着ハンド部２０４と、ベース２０５と、冷気供給部２０６と、冷却ユニット２０７と、エキスパンド部２０８と、ベース２０９と、拡張維持部材２１０と、ヒートシュリンク部２１１と、紫外線照射部３２１２と、スキージ部３２１３と、クランプ部２１４とを含んでいる。
【0146】
（紫外線照射部およびスキージ部の詳細な構成）
図２５に示すように、紫外線照射部３２１２は、エキスパンド部２０８によりエキスパンドされたシート部材Ｗ２のうちウエハＷ１の位置に対応するシート部材Ｗ２に紫外線Ｕｔを照射するように構成されている。
図２５に示すように、紫外線照射部３２１２は、エキスパンド部２０８によりエキスパンドされたシート部材Ｗ２のうちウエハＷ１の位置に対応するシート部材Ｗ２に紫外線Ｕｔを照射するように構成されている。
【0147】
具体的には、紫外線照射部３２１２は、複数のＬＥＤを一列に並べた紫外線発光部３２１２ａを有している。紫外線照射部３２１２は、スキージ部３２１３とは別個に共通の移動機構に取り付けられている。紫外線照射部２１２は、Ｘ方向移動機構２１３ｃのＺ１方向側の端部に配置されている。紫外線発光部３２１２ａは、エキスパンド部２０８によりシート部材Ｗ２がエキスパンドされたエキスパンド状態において、リング状部材Ｗ３の上面Ｗ３１よりも、スキージ部３２１３の局所的な押圧が行われるシート部材Ｗ２の押圧面Ｗ２２からＺ２方向に離間した位置に配置されている。
【0148】
〈スキージ部〉
スキージ部３２１３は、エキスパンド部２０８によりシート部材Ｗ２をエキスパンドさせてウエハＷ１を複数の半導体チップＣｈに分割させた後、ウエハＷ１を局所的に押圧するように構成されている。
スキージ部３２１３は、エキスパンド部２０８によりシート部材Ｗ２をエキスパンドさせてウエハＷ１を複数の半導体チップＣｈに分割させた後、ウエハＷ１を局所的に押圧するように構成されている。
【0149】
具体的には、スキージ部３２１３は、押圧部３２１３ａと、Ｚ方向移動機構２１３ｂと、Ｘ方向移動機構２１３ｃと、回動機構２１３ｄとを有している。
【0150】
ここで、Ｘ方向移動機構２１３ｃおよび回動機構２１３ｄは、紫外線照射部３２１２およびスキージ部３２１３の両方を移動させることが可能な共通の移動機構である。
【0151】
【0152】
エキスパンド制御演算部１０９は、共通の移動機構により紫外線照射部３２１２およびスキージ部３２１３を共に移動させながら並行して実施する制御を行うように構成されている。なお、上記制御は、窒素供給用孔１２１０ｂから窒素を拡張維持部材２１０内の空間に流入させて、空気逃がし用孔１２１０ａから拡張維持部材２１０内の空間の酸素流出させた後に実施される。
【0153】
図２６および図２７に示すように、エキスパンド制御演算部１０９は、共通の移動機構により水平方向のうちのＭ２２方向へスキージ部３２１３の押圧部３２１３ａを移動させてウエハＷ１の局所的な押圧を行う場合、紫外線照射部３２１２による紫外線Ｕｔの照射を並行して実施する制御を行うように構成されている。
【0154】
図２８および図２９に示すように、エキスパンド制御演算部１０９は、水平方向のうちのＭ１１方向へスキージ部３２１３の押圧部３２１３ａを移動させてウエハＷ１の局所的な押圧を行う場合、紫外線照射部３２１２による紫外線Ｕｔの照射を並行して実施する制御を行うように構成されている。なお、第２実施形態のその他の構成は、上記第１実施形態の構成と同様であるので、説明を省略する。
【0155】
（第２実施形態の効果）
第２実施形態では、以下のような効果を得ることができる。
第２実施形態では、以下のような効果を得ることができる。
【0156】
第２実施形態では、第１実施形態と同様に、エキスパンド装置３０２は、紫外線照射部３２１２およびスキージ部３２１３の両方を移動させることが可能な共通のＸ方向移動機構２１３ｃおよび回動機構２１３ｄを備えている。これにより、スキージ部３２１３および紫外線照射部３２１２の両方を設けた場合でも、装置の大型化を抑制することができる。
【0157】
また、第２実施形態では、上記のように、紫外線照射部３２１２は、スキージ部３２１３とは別個に共通のＸ方向移動機構２１３ｃおよび回動機構２１３ｄに取り付けられている。これにより、スキージ部２１３内に紫外線照射部３２１２を設けるための構成がスキージ部２１３に必要ないので、スキージ部２１３の構造の複雑化を抑制することができる。
【0158】
また、第２実施形態では、上記のように、紫外線照射部３２１２は、エキスパンド状態のシート部材Ｗ２に下方から照射するように構成されている。紫外線照射部３２１２は、紫外線Ｕｔを発光する紫外線発光部３２１２ａを含んでいる。紫外線発光部３２１２ａは、エキスパンド部２０８によりシート部材Ｗ２がエキスパンドされたエキスパンド状態において、ウエハＷ１を囲んだ状態でシート部材Ｗ２に貼り付けられたリング状部材Ｗ３の上面Ｗ３１よりも、スキージ部２１３の局所的な押圧が行われるシート部材Ｗ２の押圧面Ｗ２２から下方に離間した位置に配置されている。これにより、紫外線Ｕｔをシート部材Ｗ２からある程度離した場所から照射することができるので、紫外線Ｕｔがシート部材Ｗ２の特定の箇所に当たらないようにすることができる。この結果、紫外線Ｕｔをシート部材Ｗ２に満遍なく当てることができる。なお、第２実施形態のその他の効果は、上記第１実施形態の効果と同様であるので、説明を省略する。
【0159】
［第３実施形態］
図２９～図３２を参照して、第３実施形態による半導体ウエハの加工装置４００の構成について説明する。第２実施形態では、第１実施形態とは異なり、スキージ部４２１３が、エキスパンドリング４２８１の外側に配置されている。なお、第３実施形態では、第１実施形態と同じ構成については、詳細な説明を省略する。
図２９～図３２を参照して、第３実施形態による半導体ウエハの加工装置４００の構成について説明する。第２実施形態では、第１実施形態とは異なり、スキージ部４２１３が、エキスパンドリング４２８１の外側に配置されている。なお、第３実施形態では、第１実施形態と同じ構成については、詳細な説明を省略する。
【0160】
【0161】
また、半導体ウエハの加工装置４００は、ダイシング装置１と、エキスパンド装置４０２とを備えている。上下方向をＺ方向とし、上方向をＺ１方向とするとともに、下方向をＺ２方向とする。Ｚ方向に直交する水平方向のうちダイシング装置１とエキスパンド装置４０２とが並ぶ方向をＸ方向とし、Ｘ方向のうちエキスパンド装置４０２側をＸ１方向とし、Ｘ方向のうちダイシング装置１側をＸ２方向とする。水平方向のうちＸ方向に直交する方向をＹ方向とし、Ｙ方向のうち一方側をＹ１方向とし、Ｙ方向のうち他方側をＹ２方向とする。
【0162】
（ダイシング装置）
ダイシング装置１は、ウエハＷ１に対して透過性を有する波長のレーザを分割ライン（ストリート）に沿って照射することにより、改質層を形成するように構成されている。
ダイシング装置１は、ウエハＷ１に対して透過性を有する波長のレーザを分割ライン（ストリート）に沿って照射することにより、改質層を形成するように構成されている。
【0163】
具体的には、ダイシング装置１は、ベース１１と、チャックテーブル部１２と、レーザ部１３と、撮像部１４とを含んでいる。
【0164】
【0165】
エキスパンド装置４０２は、ベース２０１と、カセット部２０２と、リフトアップハンド部２０３と、吸着ハンド部２０４と、ベース２０５と、冷気供給部２０６と、冷却ユニット２０７と、エキスパンド部４２０８と、ベース２０９と、拡張維持部材２１０と、ヒートシュリンク部２１１と、紫外線照射部４２１２と、スキージ部４２１３と、クランプ部２１４とを含んでいる。
【0166】
〈エキスパンド部〉
エキスパンド部４２０８は、ウエハリング構造体Ｗのシート部材Ｗ２をエキスパンドすることにより、分割ラインに沿ってウエハＷ１を分割するように構成されている。
エキスパンド部４２０８は、ウエハリング構造体Ｗのシート部材Ｗ２をエキスパンドすることにより、分割ラインに沿ってウエハＷ１を分割するように構成されている。
【0167】
具体的には、エキスパンド部４２０８は、エキスパンドリング４２８１と、Ｚ方向移動機構４２８２とを有している。
【0168】
エキスパンドリング４２８１は、シート部材Ｗ２をＺ２方向側から支持することにより、シート部材Ｗ２をエキスパンド（拡張）させるように構成されている。エキスパンドリング４２８１は、平面視においてリング形状を有している。Ｚ方向移動機構４２８２は、エキスパンドリング４２８１をＺ１方向またはＺ２方向に移動させるように構成されている。Ｚ方向移動機構４２８２は、たとえば、リニアコンベアモジュール、または、ボールねじおよびエンコーダ付きモータを有する駆動部を有している。Ｚ方向移動機構４２８２は、ベース２０１に取り付けられている。
【0169】
〈紫外線照射部〉
紫外線照射部４２１２は、エキスパンド部４２０８によりエキスパンドされたシート部材Ｗ２のうちウエハＷ１の位置に対応するシート部材Ｗ２に紫外線Ｕｔを照射するように構成されている。
紫外線照射部４２１２は、エキスパンド部４２０８によりエキスパンドされたシート部材Ｗ２のうちウエハＷ１の位置に対応するシート部材Ｗ２に紫外線Ｕｔを照射するように構成されている。
【0170】
具体的には、紫外線照射部４２１２は、複数のＬＥＤを一列に並べた紫外線発光部（図示せず）を有している。紫外線照射部４２１２は、スキージ部４２１３とは別個に共通の移動機構に取り付けられている。
【0171】
〈スキージ部〉
図３２および図３３に示すように、スキージ部４２１３は、シート部材Ｗ２をエキスパンドさせた後、ウエハＷ１をＺ２方向側から押圧することにより、ウエハＷ１を改質層に沿ってさらに分割するように構成されている。具体的には、スキージ部４２１３は、押圧部４２１３ａと、Ｙ方向移動機構４２１３ｂと、Ｘ方向移動機構４２１３ｃと、Ｚ方向移動機構４２１３ｄと、回動機構４２１３ｅとを有している。なお、Ｘ方向移動機構４２１３ｃは、特許請求の範囲の「第１直線移動機構」の一例である。Ｙ方向移動機構４２１３ｂは、特許請求の範囲の「第２直線移動機構」の一例である。
図３２および図３３に示すように、スキージ部４２１３は、シート部材Ｗ２をエキスパンドさせた後、ウエハＷ１をＺ２方向側から押圧することにより、ウエハＷ１を改質層に沿ってさらに分割するように構成されている。具体的には、スキージ部４２１３は、押圧部４２１３ａと、Ｙ方向移動機構４２１３ｂと、Ｘ方向移動機構４２１３ｃと、Ｚ方向移動機構４２１３ｄと、回動機構４２１３ｅとを有している。なお、Ｘ方向移動機構４２１３ｃは、特許請求の範囲の「第１直線移動機構」の一例である。Ｙ方向移動機構４２１３ｂは、特許請求の範囲の「第２直線移動機構」の一例である。
【0172】
押圧部４２１３ａは、Ｚ方向移動機構４２１３ｄによりＺ１方向に移動した後、シート部材Ｗ２を介してＺ２方向側からウエハＷ１を押圧しつつ、回動機構４２１３ｅ、Ｙ方向移動機構４２１３ｂおよびＸ方向移動機構４２１３ｃにより移動することによって、ウエハＷ１に曲げ応力を発生させて改質層に沿ってウエハＷ１を分割するように構成されている。押圧部４２１３ａは、スキージである。
【0173】
Ｙ方向移動機構４２１３ｂは、Ｙ方向（他方向）に直線的に押圧部４２１３ａおよび紫外線照射部４２１２を移動させる直線移動機構である。Ｙ方向移動機構４２１３ｂは、ベース２０５に固定されている。Ｙ方向移動機構４２１３ｂは、たとえば、リニアコンベアモジュール、または、ボールねじおよびエンコーダ付きモータを有する駆動部を有している。
【0174】
Ｘ方向移動機構４２１３ｃは、Ｘ方向（一方向）に直線的に押圧部４２１３ａおよび紫外線照射部４２１２を移動させる直線移動機構である。Ｘ方向移動機構４２１３ｃは、Ｙ方向移動機構４２１３ｂに取り付けられている。Ｘ方向移動機構４２１３ｃは、たとえば、リニアコンベアモジュール、または、ボールねじおよびエンコーダ付きモータを有する駆動部を有している。
【0175】
Ｚ方向移動機構４２１３ｄは、Ｚ方向に直線的に押圧部４２１３ａおよび紫外線照射部４２１２を移動させる直線移動機構である。Ｚ方向移動機構４２１３ｄは、Ｘ方向移動機構４２１３ｃに取り付けられている。Ｚ方向移動機構４２１３ｄは、たとえば、シリンダにより構成されている。
【0176】
回動機構４２１３ｅは、押圧部４２１３ａおよび紫外線照射部４２１２を回動させるように構成されている。回動機構４２１３ｅは、Ｚ方向移動機構４２１３ｄを介してＸ方向移動機構４２１３ｃに取り付けられている。回動機構４２１３ｅのＺ１方向側の端部には、紫外線照射部４２１２および押圧部４２１３ａが取り付けられている。
【0177】
（エキスパンド制御演算部の詳細な構成）
エキスパンド制御演算部１０９は、第１実施形態と同様に、共通の移動機構により紫外線照射部４２１２およびスキージ部４２１３を共に移動させながら並行して実施する制御を行うように構成されている。なお、第３実施形態のその他の構成は、上記第１実施形態の構成と同様であるので、説明を省略する。
エキスパンド制御演算部１０９は、第１実施形態と同様に、共通の移動機構により紫外線照射部４２１２およびスキージ部４２１３を共に移動させながら並行して実施する制御を行うように構成されている。なお、第３実施形態のその他の構成は、上記第１実施形態の構成と同様であるので、説明を省略する。
【0178】
（第３実施形態の効果）
第３実施形態では、以下のような効果を得ることができる。
第３実施形態では、以下のような効果を得ることができる。
【0179】
第３実施形態では、第１実施形態と同様に、エキスパンド装置４０２は、紫外線照射部４２１２およびスキージ部４２１３の両方を移動させることが可能な共通のＹ方向移動機構４２１３ｂ、Ｘ方向移動機構４２１３ｃおよび回動機構４２１３ｅを備えている。これにより、スキージ部４２１３および紫外線照射部４２１２の両方を設けた場合でも、装置の大型化を抑制することができる。
【0180】
また、第３実施形態では、上記のように、エキスパンド装置４０２は、水平方向における一方向に直交する他方向に移動させるＹ方向移動機構４２１３ｂを備えている。Ｘ方向移動機構４２１３ｃは、Ｙ方向移動機構４２１３ｂに取り付けられている。回動機構４２１３ｅは、Ｘ方向移動機構４２１３ｃに取り付けられている。紫外線照射部２１２は、回動機構４２１３ｅに取り付けられている。スキージ部４２１３は、回動機構４２１３ｅに取り付けられている。これにより、回動機構４２１３ｅ上にＸ方向移動機構４２１３ｃおよびＹ方向移動機構４２１３ｂを取り付けないので、回動機構４２１３ｅを回動させるために必要なモータの駆動力の増大を抑制することができる。この結果、比較的小型のモータにより回動機構３２１３ｅを回動させることができるので、エキスパンド装置４０２の大型化をより抑制することができる。
【0181】
また、第３実施形態では、上記のように、エキスパンド部４２０８は、シート部材Ｗ２をエキスパンドさせるエキスパンドリング４２８１を含んでいる。紫外線照射部４２１２、スキージ部４２１３、Ｙ方向移動機構４２１３ｂ、Ｘ方向移動機構４２１３ｃおよび回動機構４２１３ｅは、エキスパンドリング４２８１外に配置されている。これにより、紫外線照射部４２１２、スキージ部４２１３、Ｙ方向移動機構４２１３ｂ、Ｘ方向移動機構４２１３ｃおよび回動機構４２１３ｅを配置するためのスペースの制限が緩和されるので、紫外線照射部４２１２、スキージ部４２１３、Ｙ方向移動機構４２１３ｂ、Ｘ方向移動機構４２１３ｃおよび回動機構４２１３ｅの配置の自由度を向上させることができる。なお、第３実施形態のその他の効果は、上記第１実施形態の効果と同様であるので、説明を省略する。
【0182】
［第４実施形態］
図３３～図３５を参照して、第４実施形態による半導体ウエハの加工装置５００の構成について説明する。第４実施形態では、第３実施形態とは異なり、紫外線照射部５２１２が、回動機構４２１３ｅに取り付けられずに、Ｘ方向移動機構４２１３ｃに取り付けられている。なお、第４実施形態では、第３実施形態と同じ構成については、詳細な説明を省略する。
図３３～図３５を参照して、第４実施形態による半導体ウエハの加工装置５００の構成について説明する。第４実施形態では、第３実施形態とは異なり、紫外線照射部５２１２が、回動機構４２１３ｅに取り付けられずに、Ｘ方向移動機構４２１３ｃに取り付けられている。なお、第４実施形態では、第３実施形態と同じ構成については、詳細な説明を省略する。
【0183】
【0184】
また、半導体ウエハの加工装置５００は、ダイシング装置１と、エキスパンド装置５０２とを備えている。上下方向をＺ方向とし、上方向をＺ１方向とするとともに、下方向をＺ２方向とする。Ｚ方向に直交する水平方向のうちダイシング装置１とエキスパンド装置４０２とが並ぶ方向をＸ方向とし、Ｘ方向のうちエキスパンド装置４０２側をＸ１方向とし、Ｘ方向のうちダイシング装置１側をＸ２方向とする。水平方向のうちＸ方向に直交する方向をＹ方向とし、Ｙ方向のうち一方側をＹ１方向とし、Ｙ方向のうち他方側をＹ２方向とする。
【0185】
（ダイシング装置）
ダイシング装置１は、ウエハＷ１に対して透過性を有する波長のレーザを分割ライン（ストリート）に沿って照射することにより、改質層を形成するように構成されている。
ダイシング装置１は、ウエハＷ１に対して透過性を有する波長のレーザを分割ライン（ストリート）に沿って照射することにより、改質層を形成するように構成されている。
【0186】
具体的には、ダイシング装置１は、ベース１１と、チャックテーブル部１２と、レーザ部１３と、撮像部１４とを含んでいる。
【0187】
（エキスパンド装置）
エキスパンド装置５０２は、ウエハＷ１を分割して複数の半導体チップＣｈを形成するように構成されている。
エキスパンド装置５０２は、ウエハＷ１を分割して複数の半導体チップＣｈを形成するように構成されている。
【0188】
エキスパンド装置５０２は、ベース２０１と、カセット部２０２と、リフトアップハンド部２０３と、吸着ハンド部２０４と、ベース２０５と、冷気供給部２０６と、冷却ユニット２０７と、エキスパンド部４２０８と、ベース２０９と、拡張維持部材２１０と、ヒートシュリンク部２１１と、紫外線照射部５２１２と、スキージ部４２１３と、クランプ部２１４とを含んでいる。
【0189】
〈紫外線照射部〉
図３３～図３５に示すように、紫外線照射部５２１２は、エキスパンド部４２０８によりエキスパンドされたシート部材Ｗ２のうちウエハＷ１の位置に対応するシート部材Ｗ２に紫外線Ｕｔを照射するように構成されている。
図３３～図３５に示すように、紫外線照射部５２１２は、エキスパンド部４２０８によりエキスパンドされたシート部材Ｗ２のうちウエハＷ１の位置に対応するシート部材Ｗ２に紫外線Ｕｔを照射するように構成されている。
【0190】
具体的には、紫外線照射部５２１２は、複数のＬＥＤを一列に並べた紫外線発光部（図示せず）を有している。紫外線照射部５２１２は、スキージ部４２１３とは別個に共通の移動機構に取り付けられている。紫外線照射部５２１２は、回動機構４２１３ｅではなく、Ｘ方向移動機構４２１３ｃに取り付けられている。
【0191】
（エキスパンド制御演算部）
エキスパンド制御演算部（図示せず）は、共通の移動機構により水平方向のうちのＭ１１方向へスキージ部４２１３の押圧部４２１３ａを移動させてウエハＷ１の局所的な押圧を行う場合、紫外線照射部５２１２による紫外線Ｕｔの照射を並行して実施する制御を行うように構成されている。また、エキスパンド制御演算部は、共通の移動機構により水平方向のうちのＭ２２方向へスキージ部４２１３の押圧部４２１３ａを移動させてウエハＷ１の局所的な押圧を行う場合、紫外線照射部５２１２による紫外線Ｕｔの照射を実施しない制御を行うように構成されている。なお、Ｘ方向移動機構４２１３ｃは、特許請求の範囲の「第１直線移動機構」の一例である。また、第４実施形態のその他の構成は、上記第３実施形態の構成と同様であるので、説明を省略する。
エキスパンド制御演算部（図示せず）は、共通の移動機構により水平方向のうちのＭ１１方向へスキージ部４２１３の押圧部４２１３ａを移動させてウエハＷ１の局所的な押圧を行う場合、紫外線照射部５２１２による紫外線Ｕｔの照射を並行して実施する制御を行うように構成されている。また、エキスパンド制御演算部は、共通の移動機構により水平方向のうちのＭ２２方向へスキージ部４２１３の押圧部４２１３ａを移動させてウエハＷ１の局所的な押圧を行う場合、紫外線照射部５２１２による紫外線Ｕｔの照射を実施しない制御を行うように構成されている。なお、Ｘ方向移動機構４２１３ｃは、特許請求の範囲の「第１直線移動機構」の一例である。また、第４実施形態のその他の構成は、上記第３実施形態の構成と同様であるので、説明を省略する。
【0192】
（第４実施形態の効果）
第４実施形態では、以下のような効果を得ることができる。
第４実施形態では、以下のような効果を得ることができる。
【0193】
第４実施形態では、第３実施形態と同様に、エキスパンド装置５０２は、紫外線照射部５２１２およびスキージ部４２１３の両方を移動させることが可能な共通のＹ方向移動機構４２１３ｂ、Ｘ方向移動機構４２１３ｃおよび回動機構４２１３ｅを備えている。これにより、スキージ部４２１３および紫外線照射部５２１２の両方を設けた場合でも、装置の大型化を抑制することができる。なお、第４実施形態のその他の効果は、上記第３実施形態の効果と同様であるので、説明を省略する。
【0194】
［変形例］
なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更（変形例）が含まれる。
なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更（変形例）が含まれる。
【0195】
たとえば、上記第１～第３実施形態では、エキスパンド制御演算部１０９（制御部）は、紫外線照射部２１２（３２１２、４２１２、５２１２）による紫外線照射と、スキージ部２１３（３２１３、４２１３）によるウエハＷ１の局所的な押圧とを、共通の移動機構２１３ｃ、２１３ｄ（４２１３ｂ、４２１３ｃ、４２１３ｅ）により紫外線照射部２１２（３２１２、４２１２、５２１２）およびスキージ部２１３（３２１３、４２１３）を共に移動させながら並行して実施する制御を行うように構成されている例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、制御部は、紫外線照射部による紫外線照射と、スキージ部によるウエハの局所的な押圧とを、共通の移動機構により紫外線照射部およびスキージ部を共に移動させながら順次実施する制御を行うように構成されていてもよい。たとえば、共通の移動機構によりスキージ部および紫外線照射部を共に移動させながらウエハの局所的な押圧を行った後、共通の移動機構によりスキージ部および紫外線照射部を共に移動させながら紫外線照射部による紫外線照射がウエハに対応するシート部材に行われてもよい。
【0196】
上記第１～第３実施形態では、エキスパンド制御演算部１０９（制御部）は、一方向へスキージ部２１３（３２１３、４２１３）を移動させてウエハＷ１の局所的な押圧を行う場合、および、水平方向のうちの一方向に直交する他方向へスキージ部２１３（３２１３、４２１３）を移動させてウエハＷ１の局所的な押圧を行う場合の両方で紫外線照射部２１２（３２１２、４２１２、５２１２）による紫外線Ｕｔの照射を並行して実施する制御を行うように構成されている例を示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、制御部は、一方向へスキージ部を移動させてウエハの局所的な押圧を行う場合、および、水平方向のうちの一方向に直交する他方向へスキージ部を移動させてウエハの局所的な押圧を行う場合のいずれかで紫外線照射部による紫外線の照射を並行して実施する制御を行うように構成されていてもよい。このように、制御部は、共通の移動機構により水平方向のうちの一方向へスキージ部を移動させてウエハの局所的な押圧を行う場合、および、水平方向のうちの一方向に直交する他方向へスキージ部を移動させてウエハの局所的な押圧を行う場合の少なくともいずれかの押圧を行う場合に紫外線照射部による紫外線の照射を並行して実施する制御を行うように構成されている。これにより、水平方向のうちの一方向へスキージ部を移動させてウエハの局所的な押圧を行う場合にのみ紫外線照射部により紫外線を照射するか、または、水平方向のうちの他方向へスキージ部を移動させてウエハの局所的な押圧を行う場合にのみ紫外線照射部により紫外線を照射することにより、紫外線照射部による紫外線照射を１回実施することができる。また、水平方向のうちの一方向へスキージ部を移動させてウエハの局所的な押圧を行う場合、および、水平方向のうちの他方向へスキージ部を移動させてウエハの局所的な押圧を行う場合の両方で紫外線照射部により紫外線を照射することにより、紫外線照射部による紫外線照射を２回実施することができる。これらにより、紫外線照射部による紫外線照射を実施する回数を１回または２回から選択することができるので、シート部材の接着剤の種類などに合わせて紫外線照射部による紫外線照射を適切な回数実施することができる。
【0197】
また、上記第１～第４実施形態では、説明の便宜上、エキスパンド制御演算部１０９の制御処理を、処理フローに沿って順番に処理を行うフロー駆動型のフローチャートを用いて説明した例について示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、エキスパンド制御演算部の制御処理を、イベント単位で処理を実行するイベント駆動型（イベントドリブン型）の処理により行ってもよい。この場合、完全なイベント駆動型で行ってもよいし、イベント駆動およびフロー駆動を組み合わせて行ってもよい。
【符号の説明】
【0198】
２、３０２、４０２、５０２ エキスパンド装置
１０９ エキスパンド制御演算部（制御部）
２０８、４２０８ エキスパンド部
２１２、３２１２、４２１２、５２１２ 紫外線照射部
２１３、３２１３、４２１３ スキージ部
２１３ａ 押圧部（板状押圧部）
２１３ｃ、４２１３ｃ Ｘ方向移動機構（共通の移動機構、第１直線移動機構）
２１３ｄ、４２１３ｅ 回動機構（共通の移動機構）
２８１、４２８１ エキスパンドリング
２１２ａ、３２１２ａ 紫外線発光部
４２１３ｂ Ｙ方向移動機構（共通の移動機構、第２直線移動機構）
Ａｃ 回動軸線
Ｃｈ 半導体チップ
Ｕｔ 紫外線
Ｗ１ ウエハ
Ｗ２ シート部材
Ｗ２２ 押圧面
Ｗ３ リング状部材
Ｗ３１ 上面
１０９ エキスパンド制御演算部（制御部）
２０８、４２０８ エキスパンド部
２１２、３２１２、４２１２、５２１２ 紫外線照射部
２１３、３２１３、４２１３ スキージ部
２１３ａ 押圧部（板状押圧部）
２１３ｃ、４２１３ｃ Ｘ方向移動機構（共通の移動機構、第１直線移動機構）
２１３ｄ、４２１３ｅ 回動機構（共通の移動機構）
２８１、４２８１ エキスパンドリング
２１２ａ、３２１２ａ 紫外線発光部
４２１３ｂ Ｙ方向移動機構（共通の移動機構、第２直線移動機構）
Ａｃ 回動軸線
Ｃｈ 半導体チップ
Ｕｔ 紫外線
Ｗ１ ウエハ
Ｗ２ シート部材
Ｗ２２ 押圧面
Ｗ３ リング状部材
Ｗ３１ 上面
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29】
【図30】
【図31】
【図32】
【図33】
【図34】
【図35】