(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023163521
(43)【公開日】2023-11-10
(54)【発明の名称】液晶表示装置
(51)【国際特許分類】
G02F 1/1335 20060101AFI20231102BHJP
G02F 1/1368 20060101ALI20231102BHJP
G02F 1/1343 20060101ALI20231102BHJP
【ＦＩ】
G02F1/1335 520
G02F1/1368
G02F1/1343
G02F1/1335 505
【審査請求】未請求
【請求項の数】10
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022074479
(22)【出願日】2022-04-28
(71)【出願人】
【識別番号】520487808
【氏名又は名称】シャープディスプレイテクノロジー株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100101683
【弁理士】
【氏名又は名称】奥田 誠司
(74)【代理人】
【識別番号】100155000
【弁理士】
【氏名又は名称】喜多 修市
(74)【代理人】
【識別番号】100139930
【弁理士】
【氏名又は名称】山下 亮司
(74)【代理人】
【識別番号】100184985
【弁理士】
【氏名又は名称】田中 悠
(74)【代理人】
【識別番号】100202197
【弁理士】
【氏名又は名称】村瀬 成康
(74)【代理人】
【識別番号】100202142
【弁理士】
【氏名又は名称】北 倫子
(72)【発明者】
【氏名】箱井 博之
(72)【発明者】
【氏名】佐藤 孝
【テーマコード（参考）】
2H092
2H192
2H291
【Ｆターム（参考）】
2H092GA13
2H092HA04
2H092JA24
2H092JB54
2H092PA07
2H092PA08
2H092PA11
2H092PA13
2H092QA09
2H192AA24
2H192BA02
2H192BC32
2H192BC64
2H192BC72
2H192BC82
2H192CC73
2H192EA04
2H192EA13
2H192EA43
2H192JA13
2H291FA02Y
2H291FA15Y
2H291FA22X
2H291FA22Z
2H291FA24Z
2H291FA30X
2H291FA30Z
2H291FA31Z
2H291FA81Z
2H291FD12
2H291FD16
2H291FD22
2H291GA19
2H291HA08
2H291HA11
2H291KA04
2H291LA27
2H291NA05
2H291NA12
2H291NA13
2H291NA29
2H291NA34
2H291NA37
2H291PA44
2H291PA65
(57)【要約】
【課題】２段電極構造およびマルチギャップ構造を有し、液晶層のツイスト角が０°である半透過型液晶表示装置において、反射白色度の黄色シフトおよび／またはセルギャップの変動に伴う反射色度の変化を抑制する。
【解決手段】液晶表示装置は、第１基板と、第２基板と、液晶層とを備える。各画素は、反射領域と透過領域とを含む。第１基板は、反射層と、反射層を覆うように設けられた第１絶縁層と、第１絶縁層上に設けられた画素電極とを有する。透過領域における液晶層の厚さは、反射領域における液晶層の厚さよりも大きく、液晶層のツイスト角は、実質的に０°である。第１基板の液晶層側の表面は、上段部と、下段部と、上段部と下段部とを結ぶ傾斜部とを含む段差を有する。表示面法線方向から見たとき、傾斜部の反射領域に含まれる部分の長さＬ１と、下段部の反射領域に含まれる部分の長さＬ２とが、Ｌ１＋Ｌ２≦１．８１・Ｌ１の関係を満足する。
【選択図】図２
【解決手段】液晶表示装置は、第１基板と、第２基板と、液晶層とを備える。各画素は、反射領域と透過領域とを含む。第１基板は、反射層と、反射層を覆うように設けられた第１絶縁層と、第１絶縁層上に設けられた画素電極とを有する。透過領域における液晶層の厚さは、反射領域における液晶層の厚さよりも大きく、液晶層のツイスト角は、実質的に０°である。第１基板の液晶層側の表面は、上段部と、下段部と、上段部と下段部とを結ぶ傾斜部とを含む段差を有する。表示面法線方向から見たとき、傾斜部の反射領域に含まれる部分の長さＬ１と、下段部の反射領域に含まれる部分の長さＬ２とが、Ｌ１＋Ｌ２≦１．８１・Ｌ１の関係を満足する。
【選択図】図２
【特許請求の範囲】
【請求項1】
第１基板と、
前記第１基板に対向する第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた液晶層と、
を備え、
マトリクス状に配列された複数の画素を有する液晶表示装置であって、
前記複数の画素のそれぞれは、反射モードで表示を行う反射領域と、透過モードで表示を行う透過領域とを含み、
前記第１基板は、各画素の前記反射領域に位置する部分を含む反射層と、前記反射層を覆うように設けられた第１絶縁層と、前記第１絶縁層上に設けられ、各画素に配置された画素電極と、を有し、
前記透過領域における前記液晶層の厚さは、前記反射領域における前記液晶層の厚さよりも大きく、
前記液晶層のツイスト角は、実質的に０°であり、
前記第１基板の前記液晶層側の表面は、少なくとも前記反射領域内に位置する上段部と、少なくとも前記透過領域内に位置する下段部と、前記上段部と前記下段部とを結ぶ傾斜部と、を含む段差を有し、
表示面法線方向から見たとき、前記傾斜部の前記反射領域に含まれる部分の長さＬ１と、前記下段部の前記反射領域に含まれる部分の長さＬ２とが、Ｌ１＋Ｌ２≦１．８１・Ｌ１の関係を満足する、液晶表示装置。
前記第１基板に対向する第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた液晶層と、
を備え、
マトリクス状に配列された複数の画素を有する液晶表示装置であって、
前記複数の画素のそれぞれは、反射モードで表示を行う反射領域と、透過モードで表示を行う透過領域とを含み、
前記第１基板は、各画素の前記反射領域に位置する部分を含む反射層と、前記反射層を覆うように設けられた第１絶縁層と、前記第１絶縁層上に設けられ、各画素に配置された画素電極と、を有し、
前記透過領域における前記液晶層の厚さは、前記反射領域における前記液晶層の厚さよりも大きく、
前記液晶層のツイスト角は、実質的に０°であり、
前記第１基板の前記液晶層側の表面は、少なくとも前記反射領域内に位置する上段部と、少なくとも前記透過領域内に位置する下段部と、前記上段部と前記下段部とを結ぶ傾斜部と、を含む段差を有し、
表示面法線方向から見たとき、前記傾斜部の前記反射領域に含まれる部分の長さＬ１と、前記下段部の前記反射領域に含まれる部分の長さＬ２とが、Ｌ１＋Ｌ２≦１．８１・Ｌ１の関係を満足する、液晶表示装置。
【請求項2】
前記反射領域に、前記傾斜部および前記下段部が含まれていない、請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項3】
前記反射領域に、前記傾斜部が少なくとも部分的に含まれており、前記下段部が含まれていない、請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項4】
前記反射領域に、前記傾斜部の全体と前記下段部の一部とが含まれている、請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項5】
前記複数の画素は、赤を表示する赤画素、緑を表示する緑画素および青を表示する青画素を含み、
前記青画素の前記反射領域における前記液晶層の厚さは、前記赤画素の前記反射領域における前記液晶層の厚さおよび前記緑画素の前記反射領域における前記液晶層の厚さのそれぞれよりも小さい、請求項１から４のいずれかに記載の液晶表示装置。
前記青画素の前記反射領域における前記液晶層の厚さは、前記赤画素の前記反射領域における前記液晶層の厚さおよび前記緑画素の前記反射領域における前記液晶層の厚さのそれぞれよりも小さい、請求項１から４のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項6】
前記第２基板は、カラーフィルタ層を有し、
前記カラーフィルタ層は、前記赤画素に配置された赤カラーフィルタ、前記緑画素に配置された緑カラーフィルタおよび前記青画素に配置された青カラーフィルタを含み、
前記青カラーフィルタの厚さは、前記赤カラーフィルタの厚さおよび前記緑カラーフィルタの厚さのそれぞれよりも大きい、請求項５に記載の液晶表示装置。
前記カラーフィルタ層は、前記赤画素に配置された赤カラーフィルタ、前記緑画素に配置された緑カラーフィルタおよび前記青画素に配置された青カラーフィルタを含み、
前記青カラーフィルタの厚さは、前記赤カラーフィルタの厚さおよび前記緑カラーフィルタの厚さのそれぞれよりも大きい、請求項５に記載の液晶表示装置。
【請求項7】
前記第１基板は、前記画素電極に電気的に接続されたバックプレーン回路と、前記バックプレーン回路を覆うように設けられた第２絶縁層とを有し、
前記反射層は、前記第２絶縁層上に設けられており、
前記第１基板は、前記第１絶縁層に形成された第１コンタクトホールおよび前記第２絶縁層に形成された第２コンタクトホールにおいて前記画素電極と前記バックプレーン回路とを電気的に接続するコンタクト部をさらに有する、請求項１から４のいずれかに記載の液晶表示装置。
前記反射層は、前記第２絶縁層上に設けられており、
前記第１基板は、前記第１絶縁層に形成された第１コンタクトホールおよび前記第２絶縁層に形成された第２コンタクトホールにおいて前記画素電極と前記バックプレーン回路とを電気的に接続するコンタクト部をさらに有する、請求項１から４のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項8】
前記コンタクト部は、
透明導電材料から形成された透明コンタクト電極であって、前記第２コンタクトホール内に位置する部分を含む透明コンタクト電極と、
前記透明コンタクト電極に接するように前記反射層と同層に形成された反射コンタクト電極であって、前記第１コンタクトホールに重なる部分を含む反射コンタクト電極と、
を含む、請求項７に記載の液晶表示装置。
透明導電材料から形成された透明コンタクト電極であって、前記第２コンタクトホール内に位置する部分を含む透明コンタクト電極と、
前記透明コンタクト電極に接するように前記反射層と同層に形成された反射コンタクト電極であって、前記第１コンタクトホールに重なる部分を含む反射コンタクト電極と、
を含む、請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項9】
前記コンタクト部は、
透明導電材料から形成された透明コンタクト電極であって、前記第２コンタクトホール内に位置する部分および前記第１コンタクトホールに重なる部分を含む透明コンタクト電極を含み、
前記反射層と同層に形成された電極を含まない、請求項７に記載の液晶表示装置。
透明導電材料から形成された透明コンタクト電極であって、前記第２コンタクトホール内に位置する部分および前記第１コンタクトホールに重なる部分を含む透明コンタクト電極を含み、
前記反射層と同層に形成された電極を含まない、請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項10】
表示面法線方向から見たとき、前記第１コンタクトホールの中心と、前記第２コンタクトホールの中心とが実質的に重なっている、請求項７に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、液晶表示装置に関し、特に、各画素が反射領域および透過領域を含む半透過型液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、スマートウォッチ用や屋外広告向けのデジタルサイネージ用の表示装置として、半透過型（「透過反射両用型」と呼ばれることもある）の液晶表示装置（ＬＣＤ）が用いられている。半透過型ＬＣＤは、１つの画素内に、反射モードでの表示（反射表示）を行う反射領域と、透過モードでの表示（透過表示）を行う透過領域とを有している。そのため、外光を用いた反射表示によって太陽光下の屋外環境での高い視認性が得られるとともに、バックライトを用いた透過表示によって夜間の情報確認が可能である。
【0003】
本願出願人は、特許文献１に、反射表示および透過表示の明るさを改善できる半透過型ＬＣＤを提案している。特許文献１に開示されている半透過型ＬＣＤでは、反射電極（反射層）と透明電極（画素電極）とが絶縁層を介して隔てられた２段電極構造によって、反射率が向上する。また、特許文献１には、電圧無印加時に液晶分子が垂直配向し、電圧印加時に液晶分子がツイスト角０°で倒れるＶＡ－ＥＣＢモードと、反射領域におけるセルギャップと透過領域におけるセルギャップとが異なるマルチギャップ構造とにも言及がなされており、これらを採用することによって、透過率が向上する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開２０２１－９６４６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかしながら、上述したような構成を有する特許文献１の半透過型ＬＣＤでは、反射モードで表示される白が黄色がかる（反射白色度の黄色シフト）という問題や、セルギャップの変動に対して反射表示の色度（反射色度）が大きく変化するという問題があることがわかった。
【0006】
反射白色度の黄色シフトは、表示に暗い印象を与えるため、好ましく思われない傾向にある。また、セルギャップの変動に伴う反射色度の変化は、製品の仕上りバラツキにつながるので、歩留まり低下の原因となる。
【0007】
本発明の実施形態は、上記問題に鑑みてなされたものであり、その目的は、２段電極構造およびマルチギャップ構造を有し、液晶層のツイスト角が０°である半透過型液晶表示装置において、反射白色度の黄色シフトおよび／またはセルギャップの変動に伴う反射色度の変化を抑制することにある。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本明細書は、以下の項目に記載の液晶表示装置を開示している。
【0009】
［項目１］
第１基板と、
前記第１基板に対向する第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた液晶層と、
を備え、
マトリクス状に配列された複数の画素を有する液晶表示装置であって、
前記複数の画素のそれぞれは、反射モードで表示を行う反射領域と、透過モードで表示を行う透過領域とを含み、
前記第１基板は、各画素の前記反射領域に位置する部分を含む反射層と、前記反射層を覆うように設けられた第１絶縁層と、前記第１絶縁層上に設けられ、各画素に配置された画素電極と、を有し、
前記透過領域における前記液晶層の厚さは、前記反射領域における前記液晶層の厚さよりも大きく、
前記液晶層のツイスト角は、実質的に０°であり、
前記第１基板の前記液晶層側の表面は、少なくとも前記反射領域内に位置する上段部と、少なくとも前記透過領域内に位置する下段部と、前記上段部と前記下段部とを結ぶ傾斜部と、を含む段差を有し、
表示面法線方向から見たとき、前記傾斜部の前記反射領域に含まれる部分の長さＬ１と、前記下段部の前記反射領域に含まれる部分の長さＬ２とが、Ｌ１＋Ｌ２≦１．８１・Ｌ１の関係を満足する、液晶表示装置。
第１基板と、
前記第１基板に対向する第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた液晶層と、
を備え、
マトリクス状に配列された複数の画素を有する液晶表示装置であって、
前記複数の画素のそれぞれは、反射モードで表示を行う反射領域と、透過モードで表示を行う透過領域とを含み、
前記第１基板は、各画素の前記反射領域に位置する部分を含む反射層と、前記反射層を覆うように設けられた第１絶縁層と、前記第１絶縁層上に設けられ、各画素に配置された画素電極と、を有し、
前記透過領域における前記液晶層の厚さは、前記反射領域における前記液晶層の厚さよりも大きく、
前記液晶層のツイスト角は、実質的に０°であり、
前記第１基板の前記液晶層側の表面は、少なくとも前記反射領域内に位置する上段部と、少なくとも前記透過領域内に位置する下段部と、前記上段部と前記下段部とを結ぶ傾斜部と、を含む段差を有し、
表示面法線方向から見たとき、前記傾斜部の前記反射領域に含まれる部分の長さＬ１と、前記下段部の前記反射領域に含まれる部分の長さＬ２とが、Ｌ１＋Ｌ２≦１．８１・Ｌ１の関係を満足する、液晶表示装置。
【0010】
［項目２］
前記反射領域に、前記傾斜部および前記下段部が含まれていない、項目１に記載の液晶表示装置。
前記反射領域に、前記傾斜部および前記下段部が含まれていない、項目１に記載の液晶表示装置。
【0011】
［項目３］
前記反射領域に、前記傾斜部が少なくとも部分的に含まれており、前記下段部が含まれていない、項目１に記載の液晶表示装置。
前記反射領域に、前記傾斜部が少なくとも部分的に含まれており、前記下段部が含まれていない、項目１に記載の液晶表示装置。
【0012】
［項目４］
前記反射領域に、前記傾斜部の全体と前記下段部の一部とが含まれている、項目１に記載の液晶表示装置。
前記反射領域に、前記傾斜部の全体と前記下段部の一部とが含まれている、項目１に記載の液晶表示装置。
【0013】
［項目５］
前記複数の画素は、赤を表示する赤画素、緑を表示する緑画素および青を表示する青画素を含み、
前記青画素の前記反射領域における前記液晶層の厚さは、前記赤画素の前記反射領域における前記液晶層の厚さおよび前記緑画素の前記反射領域における前記液晶層の厚さのそれぞれよりも小さい、項目１から４のいずれかに記載の液晶表示装置。
前記複数の画素は、赤を表示する赤画素、緑を表示する緑画素および青を表示する青画素を含み、
前記青画素の前記反射領域における前記液晶層の厚さは、前記赤画素の前記反射領域における前記液晶層の厚さおよび前記緑画素の前記反射領域における前記液晶層の厚さのそれぞれよりも小さい、項目１から４のいずれかに記載の液晶表示装置。
【0014】
［項目６］
前記第２基板は、カラーフィルタ層を有し、
前記カラーフィルタ層は、前記赤画素に配置された赤カラーフィルタ、前記緑画素に配置された緑カラーフィルタおよび前記青画素に配置された青カラーフィルタを含み、
前記青カラーフィルタの厚さは、前記赤カラーフィルタの厚さおよび前記緑カラーフィルタの厚さのそれぞれよりも大きい、項目５に記載の液晶表示装置。
前記第２基板は、カラーフィルタ層を有し、
前記カラーフィルタ層は、前記赤画素に配置された赤カラーフィルタ、前記緑画素に配置された緑カラーフィルタおよび前記青画素に配置された青カラーフィルタを含み、
前記青カラーフィルタの厚さは、前記赤カラーフィルタの厚さおよび前記緑カラーフィルタの厚さのそれぞれよりも大きい、項目５に記載の液晶表示装置。
【0015】
［項目７］
前記第１基板は、前記画素電極に電気的に接続されたバックプレーン回路と、前記バックプレーン回路を覆うように設けられた第２絶縁層とを有し、
前記反射層は、前記第２絶縁層上に設けられており、
前記第１基板は、前記第１絶縁層に形成された第１コンタクトホールおよび前記第２絶縁層に形成された第２コンタクトホールにおいて前記画素電極と前記バックプレーン回路とを電気的に接続するコンタクト部をさらに有する、項目１から６のいずれかに記載の液晶表示装置。
前記第１基板は、前記画素電極に電気的に接続されたバックプレーン回路と、前記バックプレーン回路を覆うように設けられた第２絶縁層とを有し、
前記反射層は、前記第２絶縁層上に設けられており、
前記第１基板は、前記第１絶縁層に形成された第１コンタクトホールおよび前記第２絶縁層に形成された第２コンタクトホールにおいて前記画素電極と前記バックプレーン回路とを電気的に接続するコンタクト部をさらに有する、項目１から６のいずれかに記載の液晶表示装置。
【0016】
［項目８］
前記コンタクト部は、
透明導電材料から形成された透明コンタクト電極であって、前記第２コンタクトホール内に位置する部分を含む透明コンタクト電極と、
前記透明コンタクト電極に接するように前記反射層と同層に形成された反射コンタクト電極であって、前記第１コンタクトホールに重なる部分を含む反射コンタクト電極と、
を含む、項目７に記載の液晶表示装置。
前記コンタクト部は、
透明導電材料から形成された透明コンタクト電極であって、前記第２コンタクトホール内に位置する部分を含む透明コンタクト電極と、
前記透明コンタクト電極に接するように前記反射層と同層に形成された反射コンタクト電極であって、前記第１コンタクトホールに重なる部分を含む反射コンタクト電極と、
を含む、項目７に記載の液晶表示装置。
【0017】
［項目９］
前記コンタクト部は、
透明導電材料から形成された透明コンタクト電極であって、前記第２コンタクトホール内に位置する部分および前記第１コンタクトホールに重なる部分を含む透明コンタクト電極を含み、
前記反射層と同層に形成された電極を含まない、項目７に記載の液晶表示装置。
前記コンタクト部は、
透明導電材料から形成された透明コンタクト電極であって、前記第２コンタクトホール内に位置する部分および前記第１コンタクトホールに重なる部分を含む透明コンタクト電極を含み、
前記反射層と同層に形成された電極を含まない、項目７に記載の液晶表示装置。
【0018】
［項目１０］
表示面法線方向から見たとき、前記第１コンタクトホールの中心と、前記第２コンタクトホールの中心とが実質的に重なっている、項目７または８に記載の液晶表示装置。
表示面法線方向から見たとき、前記第１コンタクトホールの中心と、前記第２コンタクトホールの中心とが実質的に重なっている、項目７または８に記載の液晶表示装置。
【発明の効果】
【0019】
本発明の実施形態によると、２段電極構造およびマルチギャップ構造を有し、液晶層のツイスト角が０°である半透過型液晶表示装置において、反射白色度の黄色シフトおよび／またはセルギャップの変動に伴う反射色度の変化を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【0020】
【図1】本発明の実施形態による液晶表示装置１００を模式的に示す平面図であり、液晶表示装置１００の９つの画素Ｐに対応した領域を示している。
【図3】実施例１の液晶表示装置１００Ａを模式的に示す断面図である。
【図4】実施例２の液晶表示装置１００Ｂを模式的に示す断面図である。
【図5】実施例３の液晶表示装置１００Ｃを模式的に示す断面図である。
【図6】比較例１の液晶表示装置９００Ａを模式的に示す断面図である。
【図7】反射領域Ｒｆの凹み長さＣＬの大きさによって、反射率および透過率と、反射白色差および透過白色差がどのように変化するかをシミュレーション計算した結果を示すグラフである。
【図8】厚さ１．５μｍの有機絶縁層に溝を形成した際の実際の傾斜部形状を示すグラフである。
【図9】本発明の実施形態による他の液晶表示装置２００を模式的に示す平面図であり、液晶表示装置２００の９つの画素Ｐに対応した領域を示している。
【図11】本発明の実施形態によるさらに他の液晶表示装置３００を模式的に示す平面図であり、液晶表示装置３００の９つの画素Ｐに対応した領域を示している。
【図13】本発明の実施形態によるさらに他の液晶表示装置４００Ａを模式的に示す断面図であり、赤画素ＰＲ、緑画素ＰＧおよび青画素ＰＢに対応した領域を示している。
【図14】本発明の実施形態によるさらに他の液晶表示装置４００Ｂを模式的に示す断面図であり、赤画素ＰＲ、緑画素ＰＧおよび青画素ＰＢに対応した領域を示している。
【図15】本発明の実施形態によるさらに他の液晶表示装置４００Ｃを模式的に示す断面図であり、赤画素ＰＲ、緑画素ＰＧおよび青画素ＰＢに対応した領域を示している。
【図16】本発明の実施形態によるさらに他の液晶表示装置４００Ｄを模式的に示す断面図であり、赤画素ＰＲ、緑画素ＰＧおよび青画素ＰＢに対応した領域を示している。
【図17】本発明の実施形態によるさらに他の液晶表示装置４００Ｅを模式的に示す断面図であり、赤画素ＰＲ、緑画素ＰＧおよび青画素ＰＢに対応した領域を示している。
【図18】実施例９の液晶表示装置４００Ｄ（ｄｒＲ＝ｄｒＧ＝ｄｒＢ）について、セルギャップの変動に対する、赤画素ＰＲ、緑画素ＰＧおよび青画素ＰＢの反射率変化をシミュレーション計算した結果を示すグラフである。
【図19】実施例６～１０の液晶表示装置４００Ａ～４００Ｅについて、赤画素ＰＲ、緑画素ＰＧおよび青画素ＰＢのそれぞれの反射セルギャップｄｒが平均値にある場合と、平均値に対して±０．１５μmのセルギャップ変動があった場合の反射率の変化をシミュレーション計算した結果を示すグラフである。
【図20】実施例６～１０の液晶表示装置４００Ａ～４００Ｅについて、赤画素ＰＲ、緑画素ＰＧおよび青画素ＰＢのそれぞれの反射セルギャップｄｒが平均値にある場合と、平均値に対して±０．１５μmのセルギャップ変動があった場合の反射白色度の変化をシミュレーション計算した結果を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【0021】
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態を説明する。なお、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
【0022】
（実施形態１）
図１および図２を参照しながら、本実施形態における液晶表示装置１００を説明する。本実施形態の液晶表示装置１００は、半透過型（透過反射両用型）の液晶表示装置である。図１は、液晶表示装置１００を模式的に示す平面図であり、液晶表示装置１００の９つの画素Ｐに対応した領域を示している。図２は、液晶表示装置１００を模式的に示す断面図であり、図１中の２Ａ－２Ａ’線に沿った断面構造を示している。
図１および図２を参照しながら、本実施形態における液晶表示装置１００を説明する。本実施形態の液晶表示装置１００は、半透過型（透過反射両用型）の液晶表示装置である。図１は、液晶表示装置１００を模式的に示す平面図であり、液晶表示装置１００の９つの画素Ｐに対応した領域を示している。図２は、液晶表示装置１００を模式的に示す断面図であり、図１中の２Ａ－２Ａ’線に沿った断面構造を示している。
【0023】
液晶表示装置１００は、図１に示すように、複数の画素Ｐを有する。複数の画素Ｐは、複数の行および複数の列を含むマトリクス状に配列されている。複数の画素Ｐは、典型的には、赤を表示する赤画素、緑を表示する緑画素および青を表示する青画素を含む。
【0024】
また、液晶表示装置１００は、図２に示すように、液晶表示パネルＬＰと、液晶表示パネルＬＰの背面側（観察者側とは反対側）に配置されたバックライト（照明装置）ＢＬとを備える。液晶表示パネルＬＰは、ＴＦＴ基板（第１基板）１０と、ＴＦＴ基板１０に対向する対向基板（第２基板）２０と、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０との間に設けられた垂直配向型の液晶層３０とを有する。各画素Ｐは、反射モードで表示を行う反射領域Ｒｆと、透過モードで表示を行う透過領域Ｔｒとを含んでいる。
【0025】
透過領域Ｔｒにおける液晶層３０の厚さ（透過セルギャップ）ｄｔと、反射領域Ｒｆにおける液晶層３０の厚さ（反射セルギャップ）ｄｒとは異なっている。具体的には、透過セルギャップｄｔは、反射セルギャップｄｒよりも大きい（つまりｄｔ＞ｄｒ）。このように、液晶表示装置１００は、マルチギャップ構造を有する。
【0026】
画素Ｐ内に占める透過領域Ｔｒの面積の割合は、用途等に応じて適宜設定され得るが、例えば１０％以上９０％以下である。また、画素Ｐ内における透過領域Ｔｒの位置や形状も用途等に応じて適宜設定され得る。なお、本願明細書では、画素Ｐ内で反射表示にも透過表示にも寄与しない領域Ｉｖを「無効領域」と呼ぶことがある。
【0027】
ＴＦＴ基板１０は、各画素Ｐに配置された画素電極１１と、画素電極１１に対して液晶層３０とは反対側（つまり画素電極１１よりも背面側）に位置する反射層１２とを有する。ＴＦＴ基板１０は、さらに、第１絶縁層１３、第２絶縁層１４、コンタクト部ＣＰおよび第１配向膜１５を有する。
【0028】
ＴＦＴ基板１０の構成要素（上述した画素電極１１等）は、透明基板１０ａによって支持されている。透明基板１０ａの材料としては、例えば無アルカリガラスやプラスチックを用いることができる。
【0029】
透明基板１０ａ上には、画素Ｐを駆動するための回路（バックプレーン回路）が形成されている（不図示）。バックプレーン回路は、特に限定されない。例えば、バックプレーン回路は、複数の画素Ｐのそれぞれに接続されたメモリ回路（例えばＳＲＡＭ）を含んでもよい。画素Ｐごとにメモリ回路が設けられた液晶表示装置は、「メモリ液晶」と呼ばれることもある。メモリ液晶の具体的な構成は、例えば、特許第５０３６８６４号公報（米国特許第８６９２７５８号明細書に対応）に開示されている。特許第５０３６８６４号公報および米国特許第８６９２７５８号明細書のすべての開示内容を参考のために本明細書に援用する。あるいは、バックプレーン回路ＢＰは、一般的なアクティブマトリクス基板のように、画素電極１１に接続された薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を含んでいてもよい。ＴＦＴは、例えば、活性層として、アモルファスシリコン層、ポリシリコン層、またはＩｎ－Ｇａ－Ｚｎ－Ｏ系半導体を含む酸化物半導体層を有するＴＦＴ（特開２０１４－００７３９９号公報参照）である。特開２０１４－００７３９９号公報を参考のために本明細書に援用する。バックプレーン回路は、メモリ回路やＴＦＴの他に、ゲート配線、ソース配線などの各種配線も含み得る。
【0030】
第２絶縁層１４は、バックプレーン回路を覆うように設けられている。第２絶縁層１４は、透明絶縁層であり、例えば透明な有機絶縁材料から形成されている。第２絶縁層１４の表面は、凹凸形状を有する。つまり、第２絶縁層１４は、凹凸表面構造を有する。凹凸表面構造を有する第２絶縁層１４は、例えば、特許第３３９４９２６号公報に記載されているように感光性樹脂を用いて形成され得る。
【0031】
反射層１２は、第２絶縁層１２上に設けられている。反射層１２は、反射率の高い金属材料から形成されている。反射層１２を形成するための金属材料としては、例えば、アルミニウムや銀、銀合金などを用いることができる。
【0032】
反射層１２の表面は、第２絶縁層１４の凹凸表面構造が反映された凹凸形状を有する。つまり、反射層１２も凹凸表面構造を有する。反射層１２の凹凸表面構造は、ＭＲＳ（Micro Reflective Structure）と呼ばれることもあり、周囲光を拡散反射してペーパーホワイトに近い表示を実現するために設けられている。凹凸表面構造は、例えば、隣り合う凸部ｐの中心間隔が５μｍ以上５０μｍ以下、好ましくは１０μｍ以上２０μｍ以下となるようにランダムに配置された複数の凸部ｐで構成され得る。表示面法線方向からみたとき、凸部ｐの形状は略円形または略多角形である。画素Ｐに占める凸部ｐの面積は、例えば約２０％から４０％である。凸部ｐの高さは、例えば１μｍ以上５μｍ以下である。
【0033】
反射層１２は、各画素Ｐの反射領域Ｒｆに位置する第１部分１２ａと、互いに隣接する任意の２つの画素Ｐ間に位置する第２部分１２ｂとを含んでいる。反射層１２の凹凸表面構造は、第１部分１２ａおよび第２部分１２ｂのそれぞれに形成されている。つまり、第１部分１２ａだけでなく第２部分１２ｂも凹凸表面構造を有している。
【0034】
なお、反射層１２は、凹凸表面構造を有していなくても（つまり平坦な鏡面状であっても）よい。反射層１２が凹凸表面構造を有していない場合には、反射層１２と光散乱層とを組み合わせて用いることによって、ペーパーホワイトに近い表示を実現することができる。
【0035】
第１絶縁層１３は、反射層１２を覆うように設けられている。第１絶縁層１３は、透明絶縁層であり、例えば透明な有機絶縁材料から形成されている。第１絶縁層１３には、フォトリソグラフィプロセスによって、透過セルギャップｄｔを反射セルギャップｄｒよりも大きくするための凹部（透過開口溝）が形成されている。
【0036】
画素電極１１は、第１絶縁層１３上に設けられている。つまり、画素電極１１は、第１絶縁層１３を介して反射層１２上に設けられている。画素電極１１は、透明導電材料から形成されている。透明導電材料としては、例えば、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ（登録商標））、またはこれらの混合物を用いることができる。画素電極１１は、バックプレーン回路に電気的に接続されている。
【0037】
コンタクト部ＣＰは、第１絶縁層１３に形成された第１コンタクトホールＣＨ１および第２絶縁層１４に形成された第２コンタクトホールＣＨ２において、画素電極１１とバックプレーン回路とを電気的に接続する。第１コンタクトホールＣＨ１および第２コンタクトホールＣＨ２は、例えばフォトリソグラフィプロセスにより形成される。図示している例では、コンタクト部ＣＰは、第１コンタクト電極ｃｅ１、第２コンタクト電極ｃｅ２および第３コンタクト電極ｃｅ３から構成されている。
【0038】
第１コンタクト電極ｃｅ１は、第２コンタクトホールＣＨ２内に露出した電極（または配線の一部）である。第１コンタクト電極ｃｅ１は、例えば、バックプレーン回路のソース配線と同じ導電膜（アルミニウムや銅などの金属膜）から形成されている。
【0039】
第２コンタクト電極ｃｅ２は、透明導電材料（例えばインジウム錫酸化物やインジウム亜鉛酸化物）から形成された透明コンタクト電極である。第２コンタクト電極ｃｅ２は、第２コンタクトホールＣＨ２内に位置する部分を含んでおり、第２コンタクトホールＣＨ２内で第１コンタクト電極ｃｅ１に接している。
【0040】
第３コンタクト電極ｃｅ３は、第２コンタクト電極（透明コンタクト電極）ｃｅ２に接するように反射層１２と同層に（つまり反射層１２と同じ反射膜から）形成された反射コンタクト電極である。第３コンタクト電極ｃｅ３は、第１コンタクトホールＣＨ１に重なる部分を含んでいる。画素電極１１は、第１コンタクトホールＣＨ１内で第３コンタクト電極ｃｅ３と接しており、コンタクト部ＣＰを介して、バックプレーン回路に電気的に接続されている。
【0041】
コンタクト部ＣＰが反射コンタクト電極ｃｅ３を含んでいると、反射コンタクト電極ｃｅ３がバックライトＢＬからの光に対する遮光層として機能するので、第１コンタクトホールＣＨ１近傍において配向欠陥が発生した場合に、透過表示の品位への配向欠陥による悪影響を防止することができる。
【0042】
なお、図示している例では、第２コンタクト電極ｃｅ２と同じ導電膜から（つまり第２コンタクト電極ｃｅ２と同層に）形成された透明導電層１９が、反射層１２と第２絶縁層１４との間に介在している。透明導電層１９は、省略されてもよい。
【0043】
対向基板２０は、対向電極２１、カラーフィルタ層２２および第２配向膜２５を有する。また、対向基板２０は、複数の柱状スペーサ（不図示）をさらに有する。対向基板２０の構成要素（上述した対向電極２１等）は、透明基板２０ａによって支持されている。透明基板２０ａの材料としては、例えば無アルカリガラスやプラスチックを用いることができる。なお、対向基板２０は、互いに隣接する任意の２つの画素Ｐ間にはブラックマトリクス（遮光層）を有しない。
【0044】
対向電極２１は、画素電極１１に対向するように設けられている。対向電極２１は、透明導電材料から形成されている。対向電極２１を形成するための透明導電材料としては、画素電極１１と同様の材料を用いることができる。反射層１２には、例えば、対向電極２１に与えられる電位（共通電位）と同じ電位が与えられる。
【0045】
カラーフィルタ層２２は、典型的には、赤画素に配置された赤カラーフィルタ、緑画素に配置された緑カラーフィルタ、および、青画素に配置された青カラーフィルタを含む。カラーフィルタ層の、異なる色の画素Ｐ間に対応する領域は、例えば、異なる色のカラーフィルタで略等分されている。カラーフィルタ層２２を覆うように、オーバーコート層が形成されていてもよい。
【0046】
柱状スペーサは、液晶層３０の厚さ（セルギャップ）を規定する。柱状スペーサは、感光性樹脂から形成することができる。
【0047】
液晶層３０は、誘電異方性が負の（つまりネガ型の）ネマチック液晶材料を含み、カイラル剤を含んでいない。液晶層３０は、例えば滴下法により形成することができる。
【0048】
第１配向膜１５および第２配向膜２５は、それぞれ液晶層３０に接するように設けられている。ここでは、第１配向膜１５および第２配向膜２５のそれぞれは、垂直配向膜である。本明細書において、「垂直配向膜」は、配向膜近傍の液晶分子を、配向膜表面に対して実質的に垂直に配向させるものであればよく、例えば、液晶分子に８６．０°以上のプレチルト角を付与する配向膜であり得る。垂直配向膜の主成分は、例えば、ポリイミド、ポリアミック酸、ポリマレイミドまたはポリシロキサンであることが好ましい。これらは、配向膜として効果的に利用することができるポリマー群である。
【0049】
第１配向膜１５および第２配向膜２５の少なくとも一方は、配向処理を施されており、プレチルト方位を規定する。配向処理としては、ラビング処理や光配向処理を用いることができる。光配向処理（光照射／露光）によって液晶分子に対する配向規制力の強さや方向が変化する配向膜は、「光配向膜」と呼ばれる。光配向膜は、光反応性官能基として、シンナメート基、アゾベンゼン基、カルコン基、スチルベン基およびクマリン基のうちの少なくとも１種類を含むことが好ましい。これにより、液晶層３０中に光分解物を溶出させるおそれが少なくなるので信頼性を向上させることができ、また、比較的低い照射エネルギーで光配向処理を行うことが可能となる。
【0050】
液晶層３０の液晶分子は、液晶層３０に電圧が印加されていない状態では垂直配向し、液晶層３０に所定の電圧が印加された状態では水平配向する。本実施形態では、液晶層３０のツイスト角は実質的に０°であり、ＶＡ－ＥＣＢ（Vertical Aligned Electrically Controlled Birefringence）モードで表示が行われる。なお、「ツイスト角が実質的に０°である」とは、ツイスト角が製造誤差の範囲内で０°に近い場合も含意している。
【0051】
液晶層３０として、誘電異方性が正の（つまりポジ型の）ネマチック液晶材料を含むものを用いてもよい。その場合、第１配向膜１５および第２配向膜２５として水平配向膜が用いられ、表示モードとしてＥＣＢモードが採用される。
【0052】
液晶表示装置１００は、さらに、一対の円偏光板４０Ａおよび４０Ｂを備える。一対の円偏光板４０Ａおよび４０Ｂの一方（第１円偏光板）４０Ａは、液晶表示パネルＬＰの背面側に配置されており、他方（第２円偏光板）４０Ｂは、液晶表示パネルＬＰの観察者側に配置されている。第１円偏光板（裏円偏光板）４０Ａは、第１直線偏光板４１Ａと、第１直線偏光板４１Ａと液晶表示パネルＬＰの間に位置する第１位相差板４２Ａとを含む。第２円偏光板（表円偏光板）４０Ｂは、第２直線偏光板４１Ｂと、第２直線偏光板４１Ｂと液晶表示パネルＬＰの間に位置する第２位相差板４２Ｂとを含む。
【0053】
第２直線偏光板（表直線偏光板）４１Ｂは、吸収型の直線偏光板である。吸収型直線偏光板として、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を染色して延伸させたフィルム偏光子とトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）保護層とから構成された直線偏光板や、染料系偏光板、塗布型偏光板などを用いることができる。吸収型直線偏光板は、透過軸と、透過軸に直交する吸収軸とを有している。
【0054】
第１直線偏光板（裏直線偏光板）４１Ａとしては、表直線偏光板４１Ｂと同様に吸収型直線偏光板を用いることができる。また、反射型の直線偏光板や、吸収型直線偏光板と反射型直線偏光板との積層体を用いてもよい。反射型直線偏光板として、スリーエム ジャパン社製の多層反射型偏光板（商品名：ＤＢＥＦ）や、コレステリック液晶フィルムとλ／４板とを組み合わせたものが挙げられる。反射型直線偏光板は、吸収型直線偏光板と異なり、透過軸と直交する方向に反射軸を有している。そのため、バックライトＢＬからの光の一部は、反射型直線偏光板で反射され、バックライトＢＬに含まれる反射板５３で更に反射されることでリサイクルされる。なお、反射型直線偏光板が、裏直線偏光板４１Ａではなく、バックライトＢＬに含まれてもよい。
【0055】
第１位相差板４２Ａおよび第２位相差板４２Ｂのそれぞれは、１枚のλ／４板であってもよいし、１枚のλ／４板と１枚または２枚のλ／２板との組み合わせや、１枚のλ／４板と１枚のネガティブＣプレートとの組み合わせであってもよい。
【0056】
裏直線偏光板４１Ａおよび表直線偏光板４１Ｂの吸収軸の方位や、第１位相差板４２Ａおよび第２位相差板４２Ｂの遅相軸の方位は、ノーマリブラックモードで表示が行われるように設定されている。液晶層３０の液晶分子は、黒表示状態において垂直配向し、白表示状態（および中間調表示状態）においてツイスト角０°で倒れる。
【0057】
バックライトＢＬは、裏円偏光板４０Ａの背面側に配置されている。バックライトＢＬは、光を発する光源（例えばＬＥＤ）５１、光源５１からの光を液晶パネル側に導く導光板５２および導光板５２の背面側に配置された反射板５３を有する。また、バックライトＢＬは、導光板５２の前面側（または背面側）に配置されたプリズムシートおよび拡散シートをさらに有してもよい。
【0058】
本実施形態では、ＴＦＴ基板１０の液晶層３０側の表面は、上段部Ｐ１、下段部Ｐ２および傾斜部Ｐ３を含む段差を有している。上段部Ｐ１は、少なくとも反射領域Ｒｆ内に位置しており、実質的に平坦である。下段部Ｐ２は、少なくとも透過領域Ｔｒ内に位置しており、実質的に平坦である。傾斜部Ｐ３は、上段部Ｐ１と下段部Ｐ２とを結ぶ部分であり、透明基板１０ａの基板面に対して傾斜している。
【0059】
上述したように、本実施形態の液晶表示装置１００は、反射層（反射電極）１２と画素電極１１とが第１絶縁層１３を介して隔てられた２段電極構造を有する。そのため、反射層１２は、画素Ｐ内に位置する第１部分１２ａだけでなく、隣接する２つの画素Ｐ間に位置する第２部分１２ｂを含み得る。従って、画素Ｐ間の領域も反射表示に寄与させることができるので、反射開口率（表示領域内で反射モードの表示に寄与する領域が占める割合）が向上し、反射率のいっそうの向上を図ることができる。そのため、反射モードでいっそう明るい表示を行うことができる。また、反射層１２の凹凸表面構造は、画素電極１１の下に形成される第１絶縁層１３によって平坦化されるので、反射層１２の凹凸表面構造に起因する配向乱れは発生せず、面内均一性の高い配向が得られる。
【0060】
なお、本実施形態の液晶表示装置１００では、画素Ｐ間の領域を反射モードの表示に寄与させるので、対向基板２０は、複数の画素Ｐのうちの互いに隣接する任意の２つの画素Ｐ間にブラックマトリクスを有しないことが好ましい。
【0061】
また、本実施形態の液晶表示装置１００では、透過セルギャップｄｔは、反射セルギャップｄｒよりも大きい。つまり、液晶表示装置１００はマルチギャップ構造を有する。
【0062】
透過モードの表示に用いられる光が液晶層３０を１回だけ通過するのに対し、反射モードの表示に用いられる光は液晶層３０を２回通過する。そのため、本実施形態のように、透過領域Ｔｒのセルギャップｄｔを反射領域Ｒｆのセルギャップｄｒよりも大きくすることで、透過モードの表示に用いられる光に対する液晶層３０のリタデーションを大きくすることができ、透過領域Ｔｒにとって好ましい（より明るい表示を実現できる）電圧－輝度特性が得られる。
【0063】
本願発明者の検討によれば、２段電極構造およびマルチギャップ構造を有する半透過型液晶表示装置において、反射白色度の黄色シフトが発生することがわかった。これに対し、本実施形態の液晶表示装置１００は、以下の構成を有することにより、反射白色度の黄色シフトが抑制される。
【0064】
本実施形態では、表示面法線方向から見たとき、傾斜部Ｐ３の反射領域Ｒｆに含まれる部分の長さＬ１と、下段部Ｐ２の反射領域Ｒｆに含まれる部分の長さＬ２とが、Ｌ１＋Ｌ２≦１．８１・Ｌ１の関係を満足している。ここで、長さＬ１および長さＬ２は、上段部Ｐ１、傾斜部Ｐ３および下段部Ｐ２が並ぶ方向において規定される。上記の関係が満足されることにより、反射白色度の黄色シフトが抑制される。以下、この点を図３、図４および図５に示す実施例１、２および３の液晶表示装置１００Ａ、１００Ｂおよび１００Ｃと、図６に示す比較例１の液晶表示装置９００Ａを例としてより具体的に説明する。図３、図４、図５および図６は、液晶表示装置１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃおよび９００Ａを模式的に示す断面図である。なお、図３、図４、図５および図６では、一部の構成要素を省略している。
【0065】
図３に示す実施例１の液晶表示装置１００Ａでは、反射領域Ｒｆには、傾斜部Ｐ３および下段部Ｐ２が含まれていない。傾斜部Ｐ３は、透過領域Ｔｒにのみ存在しており、下段部Ｐ２は、透過領域Ｔｒおよび無効領域Ｉｖに存在している。そのため、傾斜部Ｐ３の反射領域Ｒｆに含まれる部分の長さＬ１、および、下段部Ｐ２の反射領域Ｒｆに含まれる部分の長さＬ２はともにゼロであり、Ｌ１＋Ｌ２≦１．８１・Ｌ１の関係が満足されている。
【0066】
実施例１の液晶表示装置１００Ａの仕様は、以下の通りである。
反射層１２、第３コンタクト電極ｃｅ３：銀合金層
透明導電層１９、画素電極１１、第２コンタクト電極ｃｅ２：ＩＴＯ層
第１コンタクト電極ｃｅ１：金属層
第１絶縁層１３、第２絶縁層１４：有機絶縁層
無効領域Ｉｖ（コンタクトホール領域）：９μｍ角の正方形状、第３コンタクト電極ｃｅ３（銀合金層）で遮光されている
透過領域Ｔｒ：１８μｍ角の正方形状の領域から無効領域Ｉｖを除いた領域
反射領域Ｒｆ：４１μｍ角の正方形状の領域から透過領域Ｔｒおよび無効領域Ｉｖを除いた領域
液晶層３０：ネガ型液晶材料、カイラル剤非含有
表示モード：ＶＡ－ＥＣＢモード、ツイスト角０°
反射セルギャップｄｒ：２．０μｍ
透過セルギャップｄｔ：２．０～３．５μｍの間で変化
対向電極２１：ＩＴＯ層
透明基板１０ａ、２０ａ：無アルカリガラス基板
裏表偏光板：直線偏光板と位相差板とを組み合わせた円偏光板
バックライトＢＬ：ＬＥＤバックライト
反射層１２、第３コンタクト電極ｃｅ３：銀合金層
透明導電層１９、画素電極１１、第２コンタクト電極ｃｅ２：ＩＴＯ層
第１コンタクト電極ｃｅ１：金属層
第１絶縁層１３、第２絶縁層１４：有機絶縁層
無効領域Ｉｖ（コンタクトホール領域）：９μｍ角の正方形状、第３コンタクト電極ｃｅ３（銀合金層）で遮光されている
透過領域Ｔｒ：１８μｍ角の正方形状の領域から無効領域Ｉｖを除いた領域
反射領域Ｒｆ：４１μｍ角の正方形状の領域から透過領域Ｔｒおよび無効領域Ｉｖを除いた領域
液晶層３０：ネガ型液晶材料、カイラル剤非含有
表示モード：ＶＡ－ＥＣＢモード、ツイスト角０°
反射セルギャップｄｒ：２．０μｍ
透過セルギャップｄｔ：２．０～３．５μｍの間で変化
対向電極２１：ＩＴＯ層
透明基板１０ａ、２０ａ：無アルカリガラス基板
裏表偏光板：直線偏光板と位相差板とを組み合わせた円偏光板
バックライトＢＬ：ＬＥＤバックライト
【0067】
図４に示す実施例２の液晶表示装置１００Ｂでは、反射領域Ｒｆには、傾斜部Ｐ３が少なくとも部分的に含まれており、下段部Ｐ２が含まれていない。図示している例では、傾斜部Ｐ３は、反射領域Ｒｆにのみ存在しており、下段部Ｐ２は、透過領域Ｔｒおよび無効領域Ｉｖに存在している。そのため、下段部Ｐ２の反射領域Ｒｆに含まれる部分の長さＬ２はゼロであり、Ｌ１＋Ｌ２≦１．８１・Ｌ１の関係が満足されている。
【0068】
実施例２の液晶表示装置１００Ｂの仕様は、反射セルギャップｄｒが２．０～３．５μｍの間で変化し、透過セルギャップｄｔが３．５μｍである点以外は、実施例１の液晶表示装置１００Ａと同じである。
【0069】
図５に示す液晶表示装置１００Ｃでは、反射領域Ｒｆには、傾斜部Ｐ３の全体と下段部Ｐ２の一部とが含まれている。傾斜部Ｐ３は、反射領域Ｒｆにのみ存在しており、下段部Ｐ２は、反射領域Ｒｆ、透過領域Ｔｒおよび無効領域Ｉｖに存在している。下段部Ｐ２の反射領域Ｒｆに含まれる部分の長さＬ２は、傾斜部Ｐ３の反射領域Ｒｆに含まれる部分の長さＬ１よりも小さく、より具体的には、長さＬ１の０．８１倍以下である。そのため、Ｌ１＋Ｌ２≦１．８１・Ｌ１の関係が満足されている。
【0070】
実施例３の液晶表示装置１００Ｃの仕様は、反射セルギャップｄｒが２．０～３．５μｍの間で変化し、透過セルギャップｄｔが３．５μｍである点以外は、実施例１の液晶表示装置１００Ａと同じである。
【0071】
図６に示す比較例１の液晶表示装置９００Ａにおいても、ＴＦＴ基板１０の液晶層３０側の表面は、上段部Ｐ１、下段部Ｐ２および傾斜部Ｐ３を含む段差を有しており、反射領域Ｒｆには、傾斜部Ｐ３の全体と下段部Ｐ２の一部とが含まれている。ただし、下段部Ｐ２の反射領域Ｒｆに含まれる部分の長さＬ２は、傾斜部Ｐ３の反射領域Ｒｆに含まれる部分の長さＬ１よりも大きい。そのため、Ｌ１＋Ｌ２≦１．８１・Ｌ１の関係は満足されていない。
【0072】
比較例１の液晶表示装置９００Ａの仕様は、反射セルギャップｄｒが２．０～３．５μｍの間で変化し、透過セルギャップｄｔが３．５μｍである点以外は、実施例１の液晶表示装置１００Ａと同じである。
【0073】
本願発明者は、傾斜部Ｐ３の反射領域Ｒｆに含まれる部分の長さＬ１と、下段部Ｐ２の反射領域Ｒｆに含まれる部分の長さＬ２との合計（反射領域Ｒｆにおいて凹んでいる領域の長さであるので以下では反射領域Ｒｆの「凹み長さ」と称することがある）ＣＬが、反射白色度に与える影響に着目した。
【0074】
図７および表１は、反射領域Ｒｆの凹み長さＣＬの大きさによって、反射率および透過率と、反射白色差および透過白色差とがどのように変化するかをシミュレーション計算した結果を示している。シミュレーション計算は、反射領域Ｒｆと透過領域Ｔｒの実測面積比率（反射領域Ｒｆ：７６．５%、透過領域Ｔｒ：１４．３％）と、図８に示している、厚さ１．５μｍの有機絶縁層に溝（透過開口溝に対応）を形成した際の実際の傾斜部形状とを用いて、液晶シミュレーター（シンテック社製LCD master）で行った。
【0075】
【表1】
【0076】
図７において、反射領域Ｒｆの凹み長さＣＬが０．０μｍの場合が実施例１、３．１５μｍの場合が実施例２、４．０μｍの場合が実施例３、７．０μｍの場合が比較例１に対応している。凹み長さＣＬが０．０μｍの場合、反射セルギャップｄｒは、反射領域Ｒｆ全体にわたって２．０μｍである。凹み長さＣＬが増加するにつれて、反射セルギャップｄｒが部分的に、図８に示した有機絶縁層の傾斜部の厚さ変化に従って、２．０μmから３．５μｍへと変化する。
【0077】
図７では、反射率および透過率として、凹み長さＣＬが０．０μｍの場合（実施例１）の値で規格化した規格化反射率および規格化透過率を示している。また、反射白色差および透過白色差は、実施例１の反射表示および透過表示による白に対する色差を示している。 色差としては、具体的には、Ｌ*ａ*ｂ*表色系における色差ΔＥ＊ａｂを求めた。色差ΔＥ＊ａｂは、Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間（ＣＩＥ １９７６）における２つの試料の座標Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊の差であるΔＬ＊、Δａ＊、Δｂ＊によって定義される色差である。色差ΔＥ＊ａｂは、下記式で表される。各色度座標の具体的な算出方法については、当業者によく知られているので、ここではその説明を省略する。
【0078】
ΔＥ＊ａｂ＝［（ΔＬ＊）２＋（Δａ＊）２＋（Δｂ＊）２］１／２
ΔＬ＊＝Ｌ１ ＊－Ｌ２ ＊
Δａ＊＝ａ１ ＊－ａ２ ＊
Δｂ＊＝ｂ１ ＊－ｂ２ ＊
色差ΔＥ＊ａｂの許容範囲（許容色差）については、表２に示すような、ＪＩＳ規格や各種工業界で一般的に使用されている許容色差の分類で判定を行った。
ΔＬ＊＝Ｌ１ ＊－Ｌ２ ＊
Δａ＊＝ａ１ ＊－ａ２ ＊
Δｂ＊＝ｂ１ ＊－ｂ２ ＊
色差ΔＥ＊ａｂの許容範囲（許容色差）については、表２に示すような、ＪＩＳ規格や各種工業界で一般的に使用されている許容色差の分類で判定を行った。
【0079】
【表2】
【0080】
図７に示されているように、凹み長さＣＬが３．１５μｍ（傾斜部Ｐ３全体が反射領域Ｒｆに含まれている実施例２）を超えて増加していくと、反射率が緩やかに減少していく。また、反射白色差は、凹み長さＣＬが１．５μｍを超えると、徐々に増加し、凹み長さＣＬが大きくなるにしたがってその増加率も大きくなる。また、表１に示されているように、反射白色差が大きくなると、反射白色度は黄色側にシフトする。また、透過率および透過白色差は、凹み長さＣＬが大きくなるにつれて増加するが、凹み長さＣＬが３．１５μｍを超えると、それ以降は透過セルギャップｄｔに変化がなくなるので、一定の値となる。
【0081】
本発明の実施形態では、反射白色差の許容色差は、表２の許容色差分類における「色差の大きさ５．０（経時比較した場合に、ほぼ同一と認めることが出来る）」を許容上限値とした。従って、図７に示した例では、凹み長さＣＬは５．７μｍ以下であればよい。凹み長さＣＬが５．７μｍの場合、傾斜部Ｐ３の反射領域Ｒｆに含まれる部分の長さＬ１は３．１５μｍであり、下段部Ｐ２の反射領域Ｒｆに含まれる部分の長さＬ２は２．５５μｍである。このとき、長さＬ２は、長さＬ１の０．８１倍である。そのため、凹み長さＣＬ（傾斜部Ｐ３の反射領域Ｒｆに含まれる部分の長さＬ１と、下段部Ｐ２の反射領域Ｒｆに含まれる部分の長さＬ２との合計）を、長さＬ１の１．８１倍以下にする（つまりＬ１＋Ｌ２≦１．８１・Ｌ１の関係が満足される）ことにより、反射領域Ｒｆに傾斜部Ｐ３や下段部Ｐ２が含まれること（つまり反射セルギャップｄｒが部分的に大きくなりすぎること）に起因する反射白色度の黄色シフトを抑制することができる。また、それとともに、図７および表１に示されているように、反射領域Ｒｆに傾斜部Ｐ３および下段部Ｐ２が含まれない場合（実施例１）の９０％以上の高い反射率を維持することができる。
【0082】
なお、実施例２および３のように、凹み長さＣＬが比較的大きい場合、透過白色差が比較的大きな値となるが、透過白色度についてはバックライトＢＬの調光によって色度の調節が可能であるので、反射白色度のように大きな問題とはならない。
【0083】
（実施形態２）
図９および図１０を参照しながら、本実施形態における液晶表示装置２００を説明する。図９は、液晶表示装置２００を模式的に示す平面図であり、液晶表示装置２００の９つの画素Ｐに対応した領域を示している。図１０は、液晶表示装置２００を模式的に示す断面図であり、図９中の１０Ａ－１０Ａ’線に沿った断面構造を示している。以下では、本実施形態の液晶表示装置２００が、実施形態１における液晶表示装置１００と異なる点を中心に説明を行う（以降の実施形態でも同様である）。
図９および図１０を参照しながら、本実施形態における液晶表示装置２００を説明する。図９は、液晶表示装置２００を模式的に示す平面図であり、液晶表示装置２００の９つの画素Ｐに対応した領域を示している。図１０は、液晶表示装置２００を模式的に示す断面図であり、図９中の１０Ａ－１０Ａ’線に沿った断面構造を示している。以下では、本実施形態の液晶表示装置２００が、実施形態１における液晶表示装置１００と異なる点を中心に説明を行う（以降の実施形態でも同様である）。
【0084】
図９および図１０に示す液晶表示装置２００は、コンタクト部ＣＰが反射層１２と同層に形成された電極（反射コンタクト電極）を含まない点において、実施形態１の液晶表示装置１００と異なっている。つまり、液晶表示装置２００のコンタクト部ＣＰは、第２コンタクトホールＣＨ２内に位置する部分および第１コンタクトホールＣＨ１に重なる部分を含む透明コンタクト電極（第２コンタクト電極）ｃｅ２を含んでいるが、反射層１２と同層に形成された電極を含んでいない。コンタクト部ＣＰの反射コンタクト電極が省略されていることにより、第１コンタクトホールＣＨ１および第２コンタクトホールＣＨ２が形成されている領域を遮光する遮光層の面積が小さくなるので、無効領域Ｉｖが小さくなり、透過率が向上する。なお、図１０では、第１コンタクト電極ｃｅ１によって遮光される領域を無効領域Ｉｖとして図示しているが、ＴＦＴ基板１０は、第１コンタクト電極ｃｅ１以外の遮光層として機能する部材（例えばゲート配線やソース配線）を含み得る。
【0085】
なお、本実施形態の液晶表示装置２００においても、傾斜部Ｐ３の反射領域Ｒｆに含まれる部分の長さＬ１と、下段部Ｐ２の反射領域Ｒｆに含まれる部分の長さＬ２とが、Ｌ１＋Ｌ２≦１．８１・Ｌ１の関係を満足しているので、反射白色度の黄色シフトが抑制される。図示している例では、液晶表示装置２００の透過領域Ｔｒの外形（反射領域Ｒｆとの境界の形状）は、実施形態１の液晶表示装置１００の透過領域Ｔｒの外形と同じであるので、実施形態１について説明したシミュレーション計算による検証結果は、本実施形態の液晶表示装置２００にも適用され得る。
【0086】
（実施形態３）
図１１および図１２を参照しながら、本実施形態における液晶表示装置３００を説明する。図１１は、液晶表示装置３００を模式的に示す平面図であり、液晶表示装置３００の９つの画素Ｐに対応した領域を示している。図１２は、液晶表示装置３００を模式的に示す断面図であり、図１１中の１２Ａ－１２Ａ’線に沿った断面構造を示している。
図１１および図１２を参照しながら、本実施形態における液晶表示装置３００を説明する。図１１は、液晶表示装置３００を模式的に示す平面図であり、液晶表示装置３００の９つの画素Ｐに対応した領域を示している。図１２は、液晶表示装置３００を模式的に示す断面図であり、図１１中の１２Ａ－１２Ａ’線に沿った断面構造を示している。
【0087】
図１１および図１２に示す液晶表示装置３００は、表示面法線方向から見たとき、第１コンタクトホールＣＨ１の中心と、第２コンタクトホールＣＨ２の中心とが実質的に重なっている点において、実施例１の液晶表示装置１００と異なっている。図示している例では、さらに、表示面法線方向から見たとき、第１コンタクトホールＣＨ１および第２コンタクトホールＣＨ２のそれぞれの中心と、第１コンタクト電極ｃｅ１、第２コンタクト電極ｃｅ２および第３コンタクト電極ｃｅ３のそれぞれの中心とが実質的に重なっている。
【0088】
本実施形態のように、第１コンタクトホールＣＨ１の中心と第２コンタクトホールＣＨ２の中心とが実質的に重なっていると、第１コンタクトホールＣＨ１および第２コンタクトホールＣＨ２が形成されている領域を遮光する遮光層（第３コンタクト電極ｃｅ３）の面積を小さくできるので、透過率が向上する。なお、実施形態２の液晶表示装置２００について説明したのと同様に、ＴＦＴ基板１０は、第３コンタクト電極ｃｅ３以外の遮光層として機能する部材（例えばゲート配線やソース配線）を含み得る。
【0089】
なお、本実施形態の液晶表示装３００においても、傾斜部Ｐ３の反射領域Ｒｆに含まれる部分の長さＬ１と、下段部Ｐ２の反射領域Ｒｆに含まれる部分の長さＬ２とが、Ｌ１＋Ｌ２≦１．８１・Ｌ１の関係を満足しているので、反射白色度の黄色シフトが抑制される。図示している例では、液晶表示装置３００の透過領域Ｔｒの外形（反射領域Ｒｆとの境界の形状）は、実施形態１の液晶表示装置１００の透過領域Ｔｒの外形と同じであるので、実施形態１について説明したシミュレーション計算による検証結果は、本実施形態の液晶表示装置３００にも適用され得る。
【0090】
（実施形態４）
図１３、図１４および図１５を参照しながら、本実施形態における液晶表示装置４００Ａ、４００Ｂおよび４００Ｃを説明する。図１３、図１４および図１５は、それぞれ液晶表示装置４００Ａ、４００Ｂおよび４００Ｃを模式的に示す断面図であり、赤画素ＰＲ、緑画素ＰＧおよび青画素ＰＢに対応した領域を示している。なお、図１３、図１４および図１５では、一部の構成要素の図示を省略しており、第１コンタクトホールＣＨ１および第２コンタクトホールＣＨ２が形成されている領域も図示していない。
図１３、図１４および図１５を参照しながら、本実施形態における液晶表示装置４００Ａ、４００Ｂおよび４００Ｃを説明する。図１３、図１４および図１５は、それぞれ液晶表示装置４００Ａ、４００Ｂおよび４００Ｃを模式的に示す断面図であり、赤画素ＰＲ、緑画素ＰＧおよび青画素ＰＢに対応した領域を示している。なお、図１３、図１４および図１５では、一部の構成要素の図示を省略しており、第１コンタクトホールＣＨ１および第２コンタクトホールＣＨ２が形成されている領域も図示していない。
【0091】
また、傾斜部Ｐ３も図示していないが、本実施形態の液晶表示装置４００Ａ、４００Ｂおよび４００Ｃにおいても、傾斜部Ｐ３の反射領域Ｒｆに含まれる部分の長さＬ１および下段部Ｐ２の反射領域Ｒｆに含まれる部分の長さＬ２は、Ｌ１＋Ｌ２≦１．８１・Ｌ１の関係を満足しており、そのことによって反射白色度の黄色シフトが抑制される。
【0092】
図１３、図１４および図１５に示すように、液晶表示装置４００Ａ、４００Ｂおよび４００Ｃのカラーフィルタ層２２は、赤画素ＰＲに配置された赤カラーフィルタ２２Ｒ、緑画素ＰＧに配置された緑カラーフィルタ２２Ｇおよび青画素ＰＢに配置された青カラーフィルタ２２Ｂを含む。青カラーフィルタ２２Ｂの厚さｔＢは、赤カラーフィルタ２２Ｒの厚さｔＲおよび緑カラーフィルタ２２Ｇの厚さｔＧのそれぞれよりも大きい。そのため、青画素ＰＢの反射セルギャップｄｒＢは、赤画素ＰＲの反射セルギャップｄｒＲおよび緑画素ＰＧの反射セルギャップｄｒＧのそれぞれよりも小さい。
【0093】
具体的には、図１３に示す液晶表示装置４００Ａでは、赤画素ＰＲの反射セルギャップｄｒＲと緑画素ＰＧの反射セルギャップｄｒＧとが同じであり、青画素ＰＢの反射セルギャップｄｒＢはそれらよりも小さい（つまりｄｒＲ＝ｄｒＧ＞ｄｒＢ）。また、図１４に示す液晶表示装置４００Ｂでは、赤画素ＰＲの反射セルギャップｄｒＲが緑画素ＰＧの反射セルギャップｄｒＧよりも小さく、青画素ＰＢの反射セルギャップｄｒＢが赤画素ＰＲの反射セルギャップｄｒＲよりも小さい（つまりｄｒＧ＞ｄｒＲ＞ｄｒＢ）。図１５に示す液晶表示装置４００Ｃでは、緑画素ＰＧの反射セルギャップｄｒＧが赤画素ＰＲの反射セルギャップｄｒＲよりも小さく、青画素ＰＢの反射セルギャップｄｒＢが緑画素ＰＧの反射セルギャップｄｒＧよりも小さい（つまりｄｒＲ＞ｄｒＧ＞ｄｒＢ）。
【0094】
上述したように、本実施形態の液晶表示装置４００Ａ、４００Ｂおよび４００Ｃでは、青画素ＰＢの反射セルギャップｄｒＢは、赤画素ＰＲの反射セルギャップｄｒＲおよび緑画素ＰＧの反射セルギャップｄｒＧのそれぞれよりも小さく、そのことによって、セルギャップの変動に伴う反射色度の変化を抑制することができる。以下、このことを、図１６に示す液晶表示装置４００Ｄおよび図１７に示す液晶表示装置４００Ｅと比較して説明する。
【0095】
図１６に示す液晶表示装置４００Ｄでは、赤画素ＰＲの反射セルギャップｄｒＲ、緑画素ＰＧの反射セルギャップｄｒＧおよび青画素ＰＢの反射セルギャップｄｒＢは、同じである（つまりｄｒＲ＝ｄｒＧ＝ｄｒＢ）。また、図１７に示す液晶表示装置４００Ｅでは、赤画素ＰＲの反射セルギャップｄｒＲおよび緑画素ＰＧの反射セルギャップｄｒＧが同じであり、青画素ＰＢの反射セルギャップｄｒＢはそれらよりも大きい（つまりｄｒＲ＝ｄｒＧ＜ｄｒＢ）。
【0096】
図１８に、ＶＡ－ＥＣＢモードで表示を行う液晶表示装置４００Ｄ（ｄｒＲ＝ｄｒＧ＝ｄｒＢ）について、セルギャップの変動に対する、赤画素ＰＲ、緑画素ＰＧおよび青画素ＰＢの反射率変化をシミュレーション計算した結果を示す。図１８では、反射率として、赤画素ＰＲ、緑画素ＰＧおよび青画素ＰＢのそれぞれの最大反射率で規格化した規格化反射率を示している。
【0097】
図１８から、反射率が最大となる反射セルギャップｄｒが、赤画素ＰＲ、緑画素ＰＧおよび青画素ＰＢそれぞれで異なっていることがわかる。これは、ＶＡ－ＥＣＢモードがツイスト角０°の表示モードであるため、波長依存性（波長分散性）が高いことに起因している。そのため、反射セルギャップｄｒの仕上り値にばらつきがあると、反射色度が大きくばらつくおそれがある。
【0098】
図１９および表３に、液晶表示装置４００Ａ、４００Ｂ、４００Ｃ、４００Ｄおよび４００Ｅ（以下ではそれぞれ実施例６、７、８、９および１０と呼ぶ）について、赤画素ＰＲ、緑画素ＰＧおよび青画素ＰＢのそれぞれの反射セルギャップｄｒが平均値にある場合と、平均値に対して±０．１５μmのセルギャップ変動があった場合の反射率の変化をシミュレーション計算した結果を示す。なお、図１９および表３では、反射率として、実施例９で反射セルギャップｄｒが平均値であるときの反射率で規格化した規格化反射率を示している。また、図２０および表４に、実施例６～１０について、赤画素ＰＲ、緑画素ＰＧおよび青画素ＰＢのそれぞれの反射セルギャップｄｒが平均値にある場合と、平均値に対して±０．１５μmのセルギャップ変動があった場合の反射白色度の変化をシミュレーション計算した結果を示す。
【0099】
【表3】
【0100】
【表4】
【0101】
実施例９（ｄｒＲ＝ｄｒＧ＝ｄｒＢ）と実施例１０（ｄｒＲ＝ｄｒＧ＜ｄｒＢ）とを比較すると、実施例１０は、図１９および表３に示されているように反射率は実施例９の９０％以上を維持できているものの、図２０および表４に示されているように反射白色度のばらつきは実施例９と同程度である。これに対し、実施例６、７および８は、実施例９の９０％以上の反射率を維持しながら、反射白色度のばらつきが大きく改善している。このように、青画素ＰＢの反射セルギャップｄｒＢを、赤画素ＰＲの反射セルギャップｄｒＲおよび緑画素ＰＧの反射セルギャップｄｒＧのそれぞれよりも小さくすることによって、セルギャップの変動に伴う反射色度の変化を抑制できることがわかった。
【0102】
また、実施例７および８では実施例６よりも高い反射率が得られている。このことから、実施例７および８のように、青画素ＰＢの反射セルギャップｄｒＢを小さくするだけでなく、赤画素ＰＲの反射セルギャップｄｒＲおよび緑画素ＰＧの反射セルギャップｄｒＧを調整することによって、反射色度の変化を抑制しながら、反射率を改善することができることがわかった。
【0103】
赤画素ＰＲ、緑画素ＰＧおよび青画素ＰＢの反射セルギャップｄｒＲ、ｄｒＢおよびｄｒＧは、それぞれ赤カラーフィルタ２２Ｒ、緑カラーフィルタ２２Ｇおよび青カラーフィルタ２２Ｂの厚さｔＲ、ｔＧおよびｔＢを変更することにより調整することができる。各カラーフィルタの厚さを変更する際に、分光特性が変化しないように、顔料濃度等を調節してもよい。
【産業上の利用可能性】
【0104】
本発明の実施形態によると、２段電極構造およびマルチギャップ構造を有し、液晶層のツイスト角が０°である半透過型液晶表示装置において、反射白色度の黄色シフトおよび／またはセルギャップの変動に伴う反射色度の変化を抑制することができる。本発明の実施形態による半透過型液晶表示装置は、スマートウォッチ用や屋外広告向けのデジタルサイネージ用の表示装置として好適に用いられる。
【符号の説明】
【0105】
１０ ＴＦＴ基板
１０ａ、２０ａ 透明基板
１１ 画素電極
１２ 反射層
１２ａ 反射層の第１部分
１２ｂ 反射層の第２部分
１３ 第１絶縁層
１４ 第２絶縁層
１５ 第１配向膜
１９ 透明導電層
２０ 対向基板
２１ 対向電極
２２ カラーフィルタ層
２２Ｒ 赤カラーフィルタ
２２Ｇ 緑カラーフィルタ
２２Ｂ 青カラーフィルタ
２５ 第２配向膜
３０ 液晶層
４０Ａ 裏円偏光板
４０Ｂ 表円偏光板
４１Ａ 裏直線偏光板
４１Ｂ 表直線偏光板
４２Ａ 第１位相差板
４２Ｂ 第２位相差板
５１ 光源
５２ 導光板
５３ 反射板
１００、１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、２００、３００ 液晶表示装置
４００Ａ、４００Ｂ、４００Ｃ、４００Ｄ、４００Ｅ 液晶表示装置
ＬＰ 液晶表示パネル
ＢＬ バックライト
Ｐ 画素
ＰＲ 赤画素
ＰＧ 緑画素
ＰＢ 青画素
Ｒｆ 反射領域
Ｔｒ 透過領域
ＣＰ コンタクト部
ｃｅ１ 第１コンタクト電極
ｃｅ２ 第２コンタクト電極
ｃｅ３ 第３コンタクト電極
ＣＨ１ 第１コンタクトホール
ＣＨ２ 第２コンタクトホール
Ｐ１ 上段部
Ｐ２ 下段部
Ｐ３ 傾斜部
１０ａ、２０ａ 透明基板
１１ 画素電極
１２ 反射層
１２ａ 反射層の第１部分
１２ｂ 反射層の第２部分
１３ 第１絶縁層
１４ 第２絶縁層
１５ 第１配向膜
１９ 透明導電層
２０ 対向基板
２１ 対向電極
２２ カラーフィルタ層
２２Ｒ 赤カラーフィルタ
２２Ｇ 緑カラーフィルタ
２２Ｂ 青カラーフィルタ
２５ 第２配向膜
３０ 液晶層
４０Ａ 裏円偏光板
４０Ｂ 表円偏光板
４１Ａ 裏直線偏光板
４１Ｂ 表直線偏光板
４２Ａ 第１位相差板
４２Ｂ 第２位相差板
５１ 光源
５２ 導光板
５３ 反射板
１００、１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、２００、３００ 液晶表示装置
４００Ａ、４００Ｂ、４００Ｃ、４００Ｄ、４００Ｅ 液晶表示装置
ＬＰ 液晶表示パネル
ＢＬ バックライト
Ｐ 画素
ＰＲ 赤画素
ＰＧ 緑画素
ＰＢ 青画素
Ｒｆ 反射領域
Ｔｒ 透過領域
ＣＰ コンタクト部
ｃｅ１ 第１コンタクト電極
ｃｅ２ 第２コンタクト電極
ｃｅ３ 第３コンタクト電極
ＣＨ１ 第１コンタクトホール
ＣＨ２ 第２コンタクトホール
Ｐ１ 上段部
Ｐ２ 下段部
Ｐ３ 傾斜部
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
