特開 2023-164098 ドレッシング装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023164098

(43)【公開日】2023-11-10

(54)【発明の名称】ドレッシング装置

(51)【国際特許分類】

   B24B 53/017 20120101AFI20231102BHJP

   B24B 53/12 20060101ALI20231102BHJP

   H01L 21/304 20060101ALI20231102BHJP

【ＦＩ】

B24B53/017 A

B24B53/12 Z

H01L21/304 622M

【審査請求】未請求

【請求項の数】8

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022075432

(22)【出願日】2022-04-28

(71)【出願人】

【識別番号】000107745

【氏名又は名称】スピードファム株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】240000327

【弁護士】

【氏名又は名称】弁護士法人クレオ国際法律特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】井上 裕介

(72)【発明者】

【氏名】小田桐 茂

(72)【発明者】

【氏名】田山 遊

(72)【発明者】

【氏名】武居 裕樹

【テーマコード（参考）】

3C047

5F057

【Ｆターム（参考）】

3C047AA34

3C047EE05

5F057AA21

5F057AA25

5F057DA03

5F057EB27

5F057FA39

(57)【要約】

【課題】ドレッシング時に研磨パッドの平坦度の向上や研磨パッドの削り量の均一化ができるドレッシング装置を提供すること。
【解決手段】ワークを研磨する円環状の上定盤１１に取り付けられた研磨パッド１１ａを、上定盤１１の外周縁１４及び内周縁１５に交差する円弧状の軌道２ｃに沿って移動しながらドレッシングするドレッサー３を備えたドレッシング装置１において、ドレッサー３は、研磨パッド１１ａに接触するドレッシング領域３３を有し、ドレッシング領域３３と研磨パッド１１ａとの定盤周方向αに沿った接触長さＳ１、Ｓ２は、ドレッサー３が上定盤１１の外周縁１４に位置するとき、定盤径方向βの外側から内側に向かうにつれて次第に短くなり、ドレッサー３が上定盤１１の内周縁１５に位置するとき、定盤径方向βの内側から外側に向かうにつれて次第に短くなる。
【選択図】図８

【特許請求の範囲】

【請求項1】

ワークを研磨する円環状の定盤に取り付けられた研磨パッドを、前記定盤の外周縁及び前記定盤の内周縁に交差する円弧状の軌道に沿って移動しながらドレッシングするドレッサーを備えたドレッシング装置において、
前記ドレッサーは、前記研磨パッドに接触するドレッシング領域を有し、
前記ドレッシング領域と前記研磨パッドとの前記定盤の周方向に沿った接触長さは、
前記ドレッサーが前記定盤の外周縁に位置するとき、前記定盤の径方向の外側から前記定盤の径方向の内側に向かうにつれて次第に短くなり、
前記ドレッサーが前記定盤の内周縁に位置するとき、前記定盤の径方向の内側から前記定盤の径方向の外側に向かうにつれて次第に短くなる
ことを特徴とするドレッシング装置。

【請求項2】

請求項１に記載されたドレッシング装置において、
前記軌道に直交する方向を第１方向とし、前記第１方向に直交すると共に前記軌道の接線方向に沿う方向を第２方向とするとき、
前記ドレッシング領域は、前記第１方向の一方の端縁である第１端縁と、前記第１方向の他方の端縁である第２端縁と、前記第２方向の一方の端縁である第３端縁と、前記第２方向の他方の端縁である第４端縁と、を有し、
前記第１端縁は、前記第２方向の中間部に、両端部よりも前記第２端縁に近い位置に設定される中間点を有し、
前記第３端縁と前記第４端縁とは、平面視で、前記第１端縁から前記第２端縁に向かうにつれて次第に近づく
ことを特徴とするドレッシング装置。

【請求項3】

請求項２に記載されたドレッシング装置において、
前記ドレッシング領域は、前記ドレッサーが前記定盤の外周縁に位置するとき、前記第３端縁が前記定盤の外周縁の接線方向に沿い、前記ドレッサーが前記定盤の内周縁に位置するとき、前記第４端縁が前記定盤の内周縁の接線方向に沿い、
前記中間点は、前記定盤の内周縁の接線方向に平行な第１直線と、前記定盤の外周縁の接線方向に平行な第２直線との交点上に設定されている
ことを特徴とするドレッシング装置。

【請求項4】

請求項３に記載されたドレッシング装置において、
前記第１端縁と前記第３端縁とでなす角と、前記第１端縁と前記第４端縁とでなす角とは、同一の角度に設定され、
前記第３端縁と前記第１直線とでなす角と、前記第４端縁と前記第２直線とでなす角とは、同一の角度に設定されている
ことを特徴とするドレッシング装置。

【請求項5】

請求項１から請求項４のいずれか一項に記載されたドレッシング装置において、
前記ドレッシング領域は、ドレッシング実施時に供給される流体が流動可能であって、前記ドレッサーの側方に開放した溝部が形成されている
ことを特徴とするドレッシング装置。

【請求項6】

請求項５に記載されたドレッシング装置において、
前記軌道に直交する方向を第１方向とし、前記第１方向に直交すると共に前記軌道の接線方向に沿う方向を第２方向とするとき、
前記溝部は、前記第１方向に沿う第１溝部を有する
ことを特徴とするドレッシング装置。

【請求項7】

請求項５に記載されたドレッシング装置において、
前記軌道に直交する方向を第１方向とし、前記第１方向に直交すると共に前記軌道の接線方向に沿う方向を第２方向とするとき、
前記ドレッシング領域は、前記第１方向の一方の端縁である第１端縁と、前記第１方向の他方の端縁である第２端縁と、前記第２方向の一方の端縁である第３端縁と、前記第２方向の他方の端縁である第４端縁と、を有し、
前記溝部は、前記第２方向の中央位置から前記第３端縁又は前記第４端縁の少なくとも一方に向かって、前記定盤の回転に対して下流方向に倣う向きに延びる第２溝部を有する
ことを特徴とするドレッシング装置。

【請求項8】

請求項１から請求項４のいずれか一項に記載されたドレッシング装置において、
前記軌道に直交する方向を第１方向とし、前記第１方向に直交すると共に前記軌道の接線方向に沿う方向を第２方向とするとき、
前記ドレッシング領域は、前記第１方向の一方の端縁である第１端縁と、前記第１方向の他方の端縁である第２端縁と、前記第２方向の一方の端縁である第３端縁と、前記第２方向の他方の端縁である第４端縁と、を有すると共に、前記第２端縁に、平面視でＲ加工が施されている
ことを特徴とするドレッシング装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、ワークを研磨する研磨機の定盤に取り付けられた研磨パッドをドレッシングするドレッシング装置に関する発明である。

【背景技術】

【0002】

従来、シリコンウェーハ等のワークを研磨する円環状の定盤に取り付けられた研磨パッドのドレッシングを行うドレッシング装置が知られている。従来のドレッシング装置では、例えば、図１４（ａ）、（ｂ）に示されるように、上下定盤の間に配置されるドレッサー１００が、上定盤に対向するドレッシング面１０１ａを有する棒状の第１砥石１０１と、下定盤に対向するドレッシング面１０２ａを有する棒状の第２砥石１０２と、を備えている。そして、従来のドレッサー１００では、弾性部材（板バネ等）１０３を介して第１、第２砥石１０１、１０２が押圧用の同軸シリンダ１０４でそれぞれ上下定盤に向けて押圧される（例えば、特許文献１参照）。

【0003】

また、図１４（ａ）、（ｂ）に示された例では、第１砥石１０１と第２砥石１０２とが同一の長さに設定されているが、例えば、図１５（ａ）、（ｂ）に示された変形例のドレッサー２００のように、棒状の第１砥石２０１と第２砥石２０２との長さが異なっているドレッシング装置も存在する。図１５（ａ）、（ｂ）に示された従来のドレッサー２００においても、第１砥石２０１が上定盤に対向するドレッシング面２０１ａを有し、第２砥石２０２が下定盤に対向するドレッシング面２０２ａを有している。そして、ドレッサー２００は、弾性部材（板バネ等）２０３を介して第１砥石２０１を押圧用の第１シリンダ２０４ａで上定盤に向けて押圧し、第２砥石２０２を押圧用の第２シリンダ２０４ｂで下定盤に向けて押圧する。

【0004】

さらに、従来、ドレッシング面が、ドレッシング中に定盤の内縁側に位置する内側領域部と、ドレッシング中に定盤の外縁側に位置する外側領域部と、内側領域部と外側領域部との間に位置する中間領域部とを有するドレッシング装置が知られている（例えば、特許文献２参照）。ここで、内側領域部は、定盤径方向に所要長さで延びると共に、定盤の内縁に沿う形状に形成されている。外側領域部は、定盤径方向に所要長さで延びると共に、定盤の外縁に沿う形状に形成されている。さらに、中間領域部は、定盤径方向に所要長さで延びると共に、定盤周方向に延びる長さが、内側領域部及び外側領域部の定盤周方向に延びる長さよりも短くなるように設定されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開２０２０－１２４７５０号公報

【特許文献2】特許第６５３５５２９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

しかしながら、例えば、特許文献１に記載のドレッシング装置では、定盤の外周部及び内周部で、定盤径方向の中間部よりも研磨パッドの削り量が少なくなるため、定盤の外周部及び内周部と、定盤径方向の中間部とで、研磨パッドの削り量に差が生じる。そのため、研磨パッドの全面を一様に平坦化することが難しいという問題がある。また、例えば特許文献２に記載のドレッシング装置では、ドレッシング時、定盤の外周縁及び内周縁の近傍位置で研磨パッドを削り過ぎる傾向があり、定盤の外周部及び内周部で研磨パッドの削り量が大きく変動する。

【0007】

本発明は、上記問題に着目してなされたもので、ドレッシング時に研磨パッドの平坦度を向上させることや、研磨パッドの削り量を均一にさせることができるドレッシング装置を提供することを課題としている。

【課題を解決するための手段】

【0008】

上記目的を達成するため、本発明は、ワークを研磨する円環状の定盤に取り付けられた研磨パッドを、前記定盤の外周縁及び前記定盤の内周縁に交差する円弧状の軌道に沿って移動しながらドレッシングするドレッサーを備えたドレッシング装置において、前記ドレッサーは、前記研磨パッドに接触するドレッシング領域を有し、前記ドレッシング領域と前記研磨パッドとの前記定盤の周方向に沿った接触長さは、前記ドレッサーが前記定盤の外周縁に位置するとき、前記定盤の径方向の外側から前記定盤の径方向の内側に向かうにつれて次第に短くなり、前記ドレッサーが前記定盤の内周縁に位置するとき、前記定盤の径方向の内側から前記定盤の径方向の外側に向かうにつれて次第に短くなることを特徴とする。

【発明の効果】

【0009】

本発明のドレッシング装置では、ドレッシング時に研磨パッドの平坦度を向上させることや、研磨パッドの削り量を均一にさせることができる。

【図面の簡単な説明】

【0010】

【図1】実施例１のドレッシング装置及び両面研磨機を模式的に示す説明図である。

【図2】実施例１のドレッシング装置及び両面研磨機を模式的に示す平面図である。

【図3】実施例１のドレッサーの第１ドレッシング面を示す平面図である。

【図4】実施例１のドレッサーの第２ドレッシング面を示す平面図である。

【図5】実施例１のドレッサーが定盤外周縁に位置した状態を示す説明図である。

【図6】実施例１のドレッサーが定盤内周縁に位置した状態を示す説明図である。

【図7】ドレッシング領域の形状を示す説明図である。

【図8】（ａ）ドレッシング領域が定盤外周縁に位置しているときの、定盤径方向位置における、ドレッシング領域と研磨パッドとの定盤周方向の接触長さ（第１接触長さ）を示す図である。（ｂ）第１接触長さを示す説明図である。

【図9】ドレッシング領域が定盤内周縁に位置しているときの、ドレッシング領域と研磨パッドとの定盤周方向の接触長さ（第２接触長さ）を示す説明図である。

【図10】（ａ）実施例１のドレッシング装置による研磨パッドの削り量を示す図である。（ｂ）研磨パッドの削り量の測定位置を示す説明図である。

【図11】（ａ）第１比較例のドレッサーのドレッシング領域を示す平面図である。（ｂ）第１比較例のドレッサーの第１接触長さを示す図である。（ｃ）第１比較例のドレッサーによる研磨パッドの削り量を示す図である。

【図12】（ａ）第２比較例のドレッサーのドレッシング領域を示す平面図である。（ｂ）第２比較例のドレッサーの第１接触長さを示す図である。（ｃ）第２比較例のドレッサーによる研磨パッドの削り量を示す図である。

【図13】（ａ）第１変形例のドレッシング領域を示す平面図である。（ｂ）第１変形例のドレッシング領域における第１接触長さを示す図である。（ｃ）第１変形例のドレッシング領域による研磨パッドの削り量を示す図である。

【図14】（ａ）従来のドレッシング装置のドレッサーを示す第１の斜視図である。（ｂ）従来のドレッシング装置のドレッサーを示す第２の斜視図である。

【図15】（ａ）従来のドレッシング装置のドレッサーの変形例を示す第１の斜視図である。（ｂ）従来のドレッシング装置のドレッサーの変形例を示す第２の斜視図である。

【発明を実施するための形態】

【0011】

以下、本発明のドレッシング装置を実施するための形態を、図面に示す実施例１に基づいて説明する。

【0012】

実施例１のドレッシング装置１は、薄板状のワークの表裏両面を研磨する両面研磨機１０用のドレッシング装置である。すなわち、実施例１のドレッシング装置１は、回転可能な上定盤１１に取り付けられた研磨パッド１１ａと、回転可能な下定盤１２に取り付けられた研磨パッド１２ａとを同時にドレッシングする。なお、ドレッシングとは、研磨パッド１１ａ、１２ａの表面を研削や粗化などをして、研磨パッド１１ａ、１２ａのスラリーの保持性を回復させ、両面研磨機１０の研磨能力を維持させることをいう。研磨パッド１１ａ、１２ａの表面は、ドレッシングを行うことで一様に平坦化される、若しくは、研磨パッド１１ａ、１２ａの削り量が均一にされることが望ましい。

【0013】

ドレッシング時、ドレッシング装置１は、上下定盤１１、１２の間にドレッサー３を入れる。そして、両面研磨機１０は、ドレッサー３を上定盤１１と下定盤１２で挟んだ状態で、回転軸１３によって上定盤１１を第１の方向（例えば反時計回り方向、以下「上定盤回転方向ＣＣＷ」という）に回転させ、下定盤１２を第１の方向に対して逆向きの第２の方向（例えば時計回り方向、以下「下定盤回転方向ＣＷ」という）に回転させる。これにより、研磨パッド１１ａ、１２ａとドレッサー３とが摺接し、研磨パッド１１ａ、１２ａがドレッシングされる。また、上定盤１１及び下定盤１２は、中心に回転軸１３が取り付けられた円環状（ドーナツ円盤形状）を呈している。ドレッシング中、ドレッサー３は、上下定盤１１、１２の外周縁１４と内周縁１５との間を移動する。

【0014】

ドレッシング装置１は、図１及び図２に示されるように、アーム部材２と、アーム部材２の先端部２ｂに設けられたドレッサー３と、アーム部材２を回動する駆動機構４と、駆動機構４を制御する制御部（図示せず）とを備えている。

【0015】

アーム部材２は、両面研磨機１０の近傍に配置された駆動機構４に基部２ａが保持され、駆動機構４から水平方向に延びたパイプ部材である。アーム部材２は、駆動機構４によって回動し、先端部２ｂを上下定盤１１、１２の間に進退可能に進入させる。このとき、アーム部材２の先端部２ｂは、図２に示されたように、上下定盤１１、１２の外周縁１４及び内周縁１５に交差する円弧状の軌道２ｃを描く。これにより、アーム部材２の先端部２ｂに設けられたドレッサー３は、ドレッシング中、軌道２ｃに沿って、上下定盤１１、１２の外周縁１４及び内周縁１５に位置するまで移動させられる。なお、アーム部材２は、ドレッシング時以外は上下定盤１１、１２の間からドレッサー３を退避させる位置に回動させられる。

【0016】

ドレッサー３は、ドレッシング部材３ａと、洗浄水噴射機構３ｂとを有している。ドレッシング部材３ａは、研磨パッド１１ａ、１２ａをドレッシングする機能を有する。ドレッシング部材３ａは、ドレッシング時に上定盤１１に対向する第１ドレッシング面３１（図３参照）と、ドレッシング時に下定盤１２に対向する第２ドレッシング面３２（図４参照）と、を備えている。そして、第１ドレッシング面３１には、ドレッシング時に上定盤１１に接触するドレッシング領域３３が設定され、第２ドレッシング面３２には、ドレッシング時に下定盤１２に接触するドレッシング領域３３が設定されている。

【0017】

洗浄水噴射機構３ｂは、ドレッシング時に高圧の洗浄水を噴射する機能を有する。洗浄水噴射機構３ｂは、一対の第１噴射口３４（図３参照）と、三カ所の第２噴射口３５（図４参照）と、不図示の洗浄水通路（不図示）等と、を備えている。第１噴射口３４は、第１ドレッシング面３１に設けられ、ドレッシング中に洗浄水を噴射する。第２噴射口３５は、第２ドレッシング面３２に設けられ、ドレッシング中に洗浄水を噴射する。洗浄水通路は、ドレッシング部材３ａを貫通し、第１噴射口３４及び第２噴射口３５に連通している。洗浄水は、アーム部材２の内部を介して供給され、洗浄水通路を通って第１噴射口３４及び第２噴射口３５から噴射される。ここで、第１噴射口３４は、ドレッシング領域３３よりも、上定盤回転方向ＣＣＷの上流側に配置されている。また、第２噴射口３５は、ドレッシング領域３３よりも、下定盤回転方向ＣＷの上流側に配置されている。さらに、第１、第２噴射口３４、３５の先端は、いずれもドレッシング時に研磨パッド１１ａ、１２ａに接触しない位置に設けられている。

【0018】

ドレッシング領域３３は、第１ドレッシング面３１と第２ドレッシング面３２とでほぼ同じ形状であり、図３及び図４に示されたように、中央線Ｏを対称軸にして線対称となる平面視でほぼ凹多角形状を呈している。「凹多角形」とは、一つ以上の凹角（内角が１８０°以上の角）を有する多角形である。実施例１のドレッシング領域３３は、平面視で一つの凹角５０と、第１隅角部５１～第４隅角部５４までの四つの凸角と、を有するほぼ五角形（凹五角形状）を呈している。

【0019】

また、ドレッシング領域３３には、砥粒が電着され、例えば＃５０～３２５等の任意の番手の粒度に設定されている。ドレッシング領域３３に電着される砥粒は、ダイヤモンドやＣＢＮ砥粒等が使用可能である。また、図３及び図４に示された第１ドレッシング面３１及び第２ドレッシング面３２に設けられた複数の円形の穴３ｃは、任意に形成されるネジ穴である。

【0020】

そして、ドレッサー３は、図２に示されたように、ドレッシング領域３３に設定された中央線Ｏが、軌道２ｃに直交する第１方向Ｘに沿う向きに配置される。また、以下の説明では、軌道２ｃの接線方向に沿い、第１方向Ｘに直交する方向を第２方向Ｙとする。

【0021】

そして、ドレッシング領域３３は、第１方向Ｘの一方の端縁である第１端縁４１と、第１方向Ｘの他方の端縁である第２端縁４２と、第２方向Ｙの一方の端縁である第３端縁４３と、第２方向Ｙの他方の端縁である第４端縁４４と、を有する。ここで、第１隅角部５１は、第１端縁４１と第３端縁４３とで形成される。第２隅角部５２は、第１端縁４１と第４端縁４４とで形成される。第３隅角部５３は、第２端縁４２と第３端縁４３とで形成される。第４隅角部５４は、第２端縁４２と第４端縁４４とで形成される。また、ドレッサー３が上下定盤１１、１２の間に配置されたとき、ドレッシング領域３３の第３端縁４３が外周縁１４に臨み、第４端縁４４が内周縁１５に臨む。

【0022】

そして、ドレッシング領域３３は、第１端縁４１に、内角が１８０°以上の凹角５０が設定されている。つまり、第１端縁４１は、第２方向Ｙの中間部に、両端部（第１隅角部５１及び第２隅角部５２）よりも第２端縁４２に近い位置に設定される中間点Ｐを有し、中間点Ｐに凹角５０の頂点が設定されている。このため、第１端縁４１は、平面視で途中位置が屈曲した直線状に延びている。

【0023】

また、実施例１では、第３端縁４３、第４端縁４４は、平面視で直線状に延びている。さらに、第２端縁４２には平面視でＲ加工が施されている。また、実施例１では、第１隅角部５１～第４隅角部５４は、いずれも平面視でＲ状に湾曲している。

【0024】

また、ドレッシング領域３３では、第３端縁４３と第４端縁４４とが、平面視で、第１端縁４１側から第２端縁４２側に向かうにつれて次第に近づくように傾斜している。すなわち、第３端縁４３から第４端縁４４までの第２方向Ｙに沿った長さは、第１端縁４１側から第２端縁４２側に向かうにつれて次第に短くなっている。

【0025】

また、ドレッシング領域３３は、図５に示されたように、ドレッサー３が上下定盤１１、１２の外周縁１４に位置するとき、外周縁１４に臨む第３端縁４３が、外周縁１４の接線方向（以下、「第１接線方向Ｌα」という）に沿う。なお、「ドレッサー３が上下定盤１１、１２の外周縁１４に位置する」とは、ドレッサー３が軌道２ｃに沿って上下定盤１１、１２の最外周まで移動した状態になることである。「第１接線方向Ｌα」は、平面視で、外周縁１４に第３端縁４３が接する位置である交点Ｐａにおける外周縁１４の接線方向である。なお、図５では、上定盤１１と第１ドレッシング面３１に設定されたドレッシング領域３３との位置関係が示されているが、下定盤１２と第２ドレッシング面３２に設定されたドレッシング領域３３との位置関係も、図５に示された位置関係と同様である。つまり、第２ドレッシング面３２に設定されたドレッシング領域３３も、ドレッサー３が上下定盤１１、１２の外周縁１４に位置するとき、第３端縁４３が第１接線方向Ｌαに沿う。

【0026】

また、ドレッシング領域３３は、図６に示されたように、ドレッサー３が上下定盤１１、１２の内周縁１５に位置するとき、内周縁１５に臨む第４端縁４４が、内周縁１５の接線方向（以下、「第２接線方向Ｌβ」という）に沿う。なお、「ドレッサー３が上下定盤１１、１２の内周縁１５に位置するとき」とは、ドレッサー３が軌道２ｃに沿って上下定盤１１、１２の最内周まで移動した状態となることである。「第２接線方向Ｌβ」は、平面視で、内周縁１５に第４端縁４４が接する位置である交点Ｐｂにおける内周縁１５の接線方向である。なお、図６では、上定盤１１と第１ドレッシング面３１に設定されたドレッシング領域３３との位置関係が示されているが、下定盤１２と第２ドレッシング面３２に設定されたドレッシング領域３３との位置関係も、図６に示された位置関係と同様である。つまり、第２ドレッシング面３２に設定されたドレッシング領域３３も、ドレッサー３が上下定盤１１、１２の内周縁１５に位置するとき、第４端縁４４が第２接線方向Ｌβに沿う。

【0027】

そして、凹角５０の頂点（中間点Ｐ）は、図７に示されたように、ドレッシング領域３３上に設定される第１直線Ｌ１と、第２直線Ｌ２との交点上に設定されている。ここで、第１直線Ｌ１は、第２接線方向Ｌβ（第４端縁４４）に平行であって、第３隅角部５３を通る直線である。また、第２直線Ｌ２は、第１接線方向Ｌα（第３端縁４３）に平行であって、第４隅角部５４を通る直線である。

【0028】

そして、実施例１では、図７に示されたように、第１端縁４１と第３端縁４３（第１接線方向Ｌα）とでなす角θ１（第１隅角部５１の内角）と、第１端縁４１と第４端縁４４（第２接線方向Ｌβ）とでなす角θ２（第２隅角部５２の内角）とが、同一の角度に設定されている。また、第３端縁４３（第１接線方向Ｌα）と第１直線Ｌ１とでなす角θ３と、第４端縁４４（第２接線方向Ｌβ）と第２直線Ｌ２とでなす角θ４とが、同一の角度に設定されている。なお、図７では、角θ１～角θ４を明確に示すため、ドレッシング領域３３が模式的に示され、第１隅角部５１～第４隅角部５４がＲ状に湾曲していない。また、図７では、第１ドレッシング面３１に設定されたドレッシング領域３３が示されているが、第２ドレッシング面３２に設定されたドレッシング領域３３においても同様である。

【0029】

また、実施例１では、第３端縁４３と第４端縁４４、つまり第１接線方向Ｌαと第２接線方向Ｌβとでなす角θ５も、角θ３及び角θ４と同一角度に設定されている。なお、角θ５は、アーム部材２の長さや上下定盤１１、１２の半径の大きさ等に応じて設定され、例えばゼロ°よりも大きく、１００°程度までの角度に設定される。

【0030】

そして、実施例１のドレッシング装置１では、ドレッサー３が上下定盤１１、１２の外周縁１４に位置しているとき、図８（ａ）に示されたように、ドレッシング領域３３と研磨パッド１１ａ、１２ａとの上下定盤１１、１２の周方向（以下、「定盤周方向α」という）の接触長さ（以下、「第１接触長さＳ１」という、図８（ｂ）参照）が、上下定盤１１、１２の径方向（以下、「定盤径方向β」という）の外側から内側に向かうにつれて、次第に低減する。つまり、第１接触長さＳ１は、定盤径方向位置が、外周縁１４に臨む第３端縁４３側から、内周縁１５に臨む第４端縁４４側に向かうにつれて、次第に短くなる。

【0031】

さらに、図８（ａ）において、Ｘ軸とＹ軸及び第１接触長さＳ１を示す線とで囲まれた領域（斜線を付した領域）は、ドレッシング領域３３と研磨パッド１１ａとの接触面積を示している。ドレッサー３が上下定盤１１、１２の外周縁１４に位置しているとき、ドレッシング領域３３と研磨パッド１１ａとの接触面積は、図８（ａ）から分かるように、上下定盤１１、１２の最外周から徐々に小さくなり、横軸を定盤径方向βとして図示したときにほぼ三角形状を呈する。

【0032】

なお、図８（ａ）、（ｂ）に示された第１接触長さＳ１は、第１ドレッシング面３１に設定されたドレッシング領域３３と、上定盤１１に設けられた研磨パッド１１ａとの定盤周方向αの接触長さを示している。図示されていないが、第２ドレッシング面３２に設定されたドレッシング領域３３における第１接触長さＳ１も、図８（ａ）、（ｂ）に示された第１接触長さＳ１と同様である。また、第１接触長さＳ１は、ここでは穴３ｃを考慮していない。

【0033】

また、実施例１のドレッシング装置１では、ドレッサー３が上下定盤１１、１２の内周縁１５に位置しているとき、図示しないが、ドレッシング領域３３と研磨パッド１１ａ（１２ａ）との定盤周方向αの接触長さ（以下、「第２接触長さＳ２」という、図９参照）が、定盤径方向βの内側から外側に向かうにつれて、低減する。つまり、第２接触長さＳ２は、定盤径方向位置が、内周縁１５に臨む第４端縁４４側から、外周縁１４に臨む第３端縁４３側に向かうにつれて、次第に短くなる。

【0034】

なお、図９に示された第２接触長さＳ２は、第１ドレッシング面３１に設定されたドレッシング領域３３と、上定盤１１に設けられた研磨パッド１１ａとの定盤周方向αの接触長さを示している。しかしながら、第２ドレッシング面３２に設定されたドレッシング領域３３における第２接触長さＳ２も、図９に示された第２接触長さＳ２と同様である。また、第２接触長さＳ２は、穴３ｃを考慮していない。

【0035】

このように、実施例１のドレッシング装置１では、ドレッシング領域３３と研磨パッド１１ａ、１２ａとの定盤周方向αの接触長さ（第１接触長さＳ１、第２接触長さＳ２）は、ドレッサー３が上下定盤１１、１２の外周縁１４に位置したときと、ドレッサー３が上下定盤１１、１２の内周縁１５に位置したときとのいずれにおいても、定盤縁部（外周縁１４或いは内周縁１５）側から定盤内部（定盤径方向βの中間部）側に向かって次第に低減していく。

【0036】

さらに、ドレッシング領域３３には、図３及び図４に示されたように、溝部６０が形成されている。溝部６０は、ドレッシング領域３３に形成されたへこみであり、ドレッサー３の側方に開放している。溝部６０は、ドレッシング実施時に供給される洗浄水等の流体が流動可能な幅及び深さに設定されている。なお、溝部６０の内側には、砥粒は電着されていない。そして、実施例１の溝部６０は、第１溝部６１と、第２溝部６２と、を有している。

【0037】

第１溝部６１は、第１方向Ｘに沿って延び、実施例１では中央線Ｏに重なる位置に形成されている。

【0038】

第２溝部６２は、ドレッシング領域３３の第２方向Ｙの中央位置（中央線Ｏ）から、第３端縁４３及び第４端縁４４に向かって、上定盤１１或いは下定盤１２の回転に対して下流方向に倣う向きに延びている。なお、「上定盤１１の回転に対して下流方向に倣う向き」とは、溝部６０に流れ込んだ流体を上定盤回転方向ＣＣＷの下流側に流す向きである。第１ドレッシング面３１に形成された第２溝部６２は、上定盤１１の回転に対して下流方向に倣う向きに延びている（図３参照）。また、「下定盤１２の回転に対して下流方向に倣う向き」とは、溝部６０に流れ込んだ流体を下定盤回転方向ＣＷの下流側に流す向きである。第２ドレッシング面３２に形成された第２溝部６２は、下定盤１２の回転に対して下流方向に倣う向きに延びている（図４参照）。すなわち、図３及び図４に示されたように、上定盤回転方向ＣＣＷと下定盤回転方向ＣＷとは逆向きであるため、第１ドレッシング面３１に形成された第２溝部６２と、第２ドレッシング面３２に形成された第２溝部６２とは、平面視で異なる方向に延びている。

【0039】

以下、実施例１のドレッシング装置１の作用を説明する。

【0040】

実施例１のドレッシング装置１は、両面研磨機１０の研磨パッド１１ａ、１２ａをドレッシングするとき、図示しない制御部により各部を制御し、まず、駆動機構４によってアーム部材２を回動させる。そして、駆動機構４は、アーム部材２の先端部２ｂに設けられたドレッサー３を上定盤１１と下定盤１２の間に入れる。

【0041】

次に、両面研磨機１０は、上定盤１１と下定盤１２の間の隙間高さを予め設定した所定の高さに設定する。これにより、ドレッサー３が上下定盤１１、１２によって挟まれ、第１ドレッシング面３１に設定されたドレッシング領域３３が上定盤１１の研磨パッド１１ａに接触し、第２ドレッシング面３２に設定されたドレッシング領域３３が下定盤１２の研磨パッド１２ａに接触する。

【0042】

そして、両面研磨機１０は、ドレッシング領域３３がそれぞれ研磨パッド１１ａ、１２ａに接触した状態で、回転軸１３を中心にして上定盤１１及び下定盤１２を互いに逆方向に回転させる。このとき、ドレッシング装置１は、駆動機構４を駆動してアーム部材２を回動させる。この結果、ドレッシング装置１は、ドレッサー３を軌道２ｃに沿って上下定盤１１、１２の外周縁１４側から内周縁１５側、或いは内周縁１５側から外周縁１４側へと移動させながら、研磨パッド１１ａ、１２ａとドレッシング領域３３とを摺接させ、研磨パッド１１ａ、１２ａをドレッシングする。

【0043】

ここで、実施例１のドレッシング装置１では、ドレッシング領域３３と研磨パッド１１ａ、１２ａとの定盤周方向αに沿った接触長さ（第１接触長さＳ１、第２接触長さＳ２）は、ドレッサー３が上下定盤１１、１２の外周縁１４に位置したときと、ドレッサー３が上下定盤１１、１２の内周縁１５に位置したときとのいずれにおいても、定盤縁部（外周縁１４或いは内周縁１５）側から定盤内部（定盤径方向βの中間部）側に向かって次第に低減する（例えば図８（ａ）参照）。

【0044】

つまり、ドレッサー３が上下定盤１１、１２の外周縁１４に位置するとき、第１接触長さＳ１は、定盤径方向βの外側から内側に向かうにつれて、次第に短くなる。また、ドレッサー３が上下定盤１１、１２の内周縁１５に位置するとき、第２接触長さＳ２は、定盤径方向βの内側から外側に向かうにつれて、次第に短くなる。

【0045】

また、実施例１のドレッシング装置１では、ドレッシング領域３３の第１方向Ｘの一方の端縁である第１端縁４１が、第２方向Ｙの中間部に、両端部（第１隅角部５１、第２隅角部５２）よりも第３端縁４３に近い位置に設定された中間点Ｐを有している。つまり、実施例１では、ドレッシング領域３３が、平面視で凹多角形状を呈し、第１端縁４１には、内角が１８０°以上の凹角５０が設定されている。また、上下定盤１１、１２の外周縁１４に臨む第３端縁４３と、上下定盤１１、１２の内周縁１５に臨む第４端縁４４とは、平面視で、第１端縁４１から第２端縁４２に向かうにつれて次第に近づくように傾斜している。

【0046】

これにより、図１０（ａ）に示されたように、上定盤１１の外周部（外周縁１４の近傍位置）及び内周部（内周縁１５の近傍位置）における研磨パッド１１ａの削り量と、上定盤１１の径方向の中間部における研磨パッド１１ａの削り量との差を、ドレッサー３をオーバーハングさせることなく小さくすることができる。また、図示しないが、下定盤１２に設けられた研磨パッド１２ａにおいても、実施例１のドレッシング装置１を用いてドレッシングすることで、下定盤１２の外周部（外周縁１４の近傍位置）及び内周部（内周縁１５の近傍位置）における研磨パッド１２ａの削り量と、下定盤１２の径方向の中間部における研磨パッド１２ａの削り量との差を、ドレッサー３をオーバーハングさせることなく小さくすることができる。この結果、実施例１のドレッシング装置１は、研磨パッド１１ａ、１２ａの平坦度を向上させることができる。

【0047】

なお、実施例１のドレッシング装置１は、粒度の番手によるドレッシング力を用いてドレッシングを行っているが、ドレッシング時、砥粒の密度、材質、配置等によって得られるドレッシング力を用いてもよい。

【0048】

また、「オーバーハング」とは、上下定盤１１、１２の外周縁１４及び内周縁１５に対し、ドレッサー３の一部を定盤外側にはみ出させた状態でドレッシングすることである。ドレッサー３をオーバーハングさせる場合、上下定盤１１、１２の外周部や内周部で研磨パッド１１ａ、１２ａを所望の状態にドレッシングすることが可能となる。しかしながら、この場合、ドレッサー３の位置調整が複雑になったり、インターナルギヤやサンギヤ等の構造物とドレッサー３との干渉が起こったりする等、制御が難しい。そのため、ドレッサー３のオーバーハングは行わない方が好ましい。

【0049】

また、図１０（ａ）に示された研磨パッド１１ａの削り量は、図１０（ｂ）に示された測定線ＬＳに沿って測定した値である。さらに、図１０（ａ）に示された研磨パッド１１ａの削り量は、ドレッシング時、第１ドレッシング面３１のドレッシング領域３３が上定盤１１の外周縁１４に接したときと、第１ドレッシング面３１のドレッシング領域３３が内周縁１５に接したときに、ドレッサー３の軌道２ｃに沿った移動を所定時間（例えば１０秒間）停止させた場合の値である。

【0050】

これに対し、例えば、図１１（ａ）に示された第１比較例のドレッサーは、平面視で長方形状を呈するドレッシング領域３３Ｘを有している。第１比較例のドレッサーでは、ドレッサーが上下定盤１１、１２の外周縁１４又は内周縁１５に位置するとき、アーム部材２の回動によりドレッシング領域３３Ｘが外周縁１４や内周縁１５に対して斜め方向に接触する。つまり、第１比較例のドレッサーが上下定盤１１、１２の外周縁１４に位置するとき、ドレッシング領域３３の第３端縁４３は第１接線方向Ｌαに沿うことができず、上下定盤１１、１２の内周縁１５に位置するとき、ドレッシング領域３３の第４端縁４４は第２接線方向Ｌβに沿うことができない。このため、例えば、第１比較例のドレッサーが上下定盤１１、１２の外周縁１４に位置するとき、第１接触長さＳ１は、図１１（ｂ）に示されたように、定盤径方向βの外側（第３端縁４３）から、定盤径方向βの内側（第４端縁４４）に向かって低減し続けることがない。

【0051】

また、図１１（ｂ）において斜線を付して示されたドレッシング領域３３Ｘと研磨パッド１１ａとの接触面積は、横軸を定盤径方向βとして図示したときに台形形状を呈する。このため、図１１（ｃ）に示されたように、実施例１のドレッシング装置１と比べると、上定盤１１の外周部及び内周部において、研磨パッド１１ａの削り量が少なくなる。一方、上定盤１１の定盤径方向βの中間部では、実施例１と比べると、研磨パッド１１ａの削り量が多くなる。そして、第１比較例のドレッサーでは、下定盤１２に対しても、実施例１よりも定盤外周部及び定盤内周部で研磨パッド１２ａの削り量が少なく、定盤径方向βの中間部で研磨パッド１２ａの削り量が多くなる。そのため、第１比較例のドレッサーを用いてドレッシングを行う場合、上下定盤１１、１２の外周部及び内周部の研磨パッド１１ａ、１２ａの削り量と、上下定盤１１、１２の定盤径方向βの中間部の研磨パッド１１ａ、１２ａの削り量との差が実施例１よりも大きくなり、研磨パッド１１ａ、１２ａの平坦度を向上させることができない。

【0052】

さらに、例えば、図１２（ａ）に示された第２比較例のドレッサーは、平面視で二つの三角形の頂点が繋がっている形状を呈するドレッシング領域３３Ｙを有している。第２比較例のドレッサーでは、例えば、ドレッサーが上下定盤１１、１２の外周縁１４に位置するとき、第１接触長さＳ１は、図１２（ｂ）に示されたように、定盤径方向βの外側（第３端縁４３）から、定盤径方向βの内側（第４端縁４４）に向かって次第に低減することはなく、途中で増加して再び低減する。

【0053】

また、図１２（ｂ）において斜線を付して示されたドレッシング領域３３Ｙと研磨パッド１１ａとの接触面積は、横軸を定盤径方向βとして図示したときに二つの三角形を並べた形となる。このため、図１２（ｃ）に示されたように、研磨パッド１１ａの削り量の増加が、上定盤１１の外周部及び内周部において大きく変動し、いわゆる段差Ｄを生じる。そのため、研磨パッド１１ａの平坦度を向上させることができない。

【0054】

また、実施例１のドレッシング装置１では、ドレッサー３が上下定盤１１、１２の外周縁１４に位置するとき、ドレッシング領域３３の第３端縁４３が第１接線方向Ｌαに沿う。そして、ドレッサー３が上下定盤１１、１２の内周縁１５に位置するとき、ドレッシング領域３３の第４端縁４４が第２接線方向Ｌβに沿う。さらに、ドレッシング領域３３の第１端縁４１に設定された中間点Ｐ、つまり凹角５０の頂点は、第２接線方向Ｌβに平行な第１直線Ｌ１と、第１接線方向Ｌαに平行な第２直線Ｌ２との交点上に設定されている。

【0055】

これにより、実施例１のドレッシング装置１では、ドレッサー３が上下定盤１１、１２の外周縁１４に位置したときには、ドレッシング領域３３と研磨パッド１１ａ、１２ａとの定盤周方向αに沿った接触長さ（第１接触長さＳ１）を、定盤縁部（外周縁１４）側から定盤内部（定盤径方向βの中間部）側に向かって次第に低減させることができ（図８（ａ）参照）、ドレッサー３が上下定盤１１、１２の内周縁１５に位置したときには、ドレッシング領域３３と研磨パッド１１ａ、１２ａとの定盤周方向αに沿った接触長さ（第２接触長さＳ２）を、定盤縁部（内周縁１５）側から定盤内部（定盤径方向βの中間部）側に向かって次第に低減させることができる。この結果、図１０（ａ）に示されたように、実施例１のドレッシング装置１は、上定盤１１の外周部及び内周部と中間部とで、研磨パッド１１ａの削り量の変動を抑制し、研磨パッド１１ａの平坦度を高めることができる。

【0056】

しかも、実施例１のドレッシング装置１では、第１端縁４１と第３端縁４３（第１接線方向Ｌα）とでなす角θ１と、第１端縁４１と第４端縁４４（第２接線方向Ｌβ）とでなす角θ２とが、同一の角度に設定されている。そして、第３端縁４３（第１接線方向Ｌα）と第１直線Ｌ１とでなす角θ３と、第４端縁４４（第２接線方向Ｌβ）と第２直線Ｌ２とでなす角θ４とが、同一の角度に設定されている。

【0057】

そのため、実施例１のドレッシング装置１は、ドレッシング領域３３を、中央線Ｏを対称軸にした平面視で線対称の凹多角形状とすることができる。これにより、実施例１のドレッシング装置１は、ドレッシング領域３３と研磨パッド１１ａ、１２ａとの定盤周方向αに沿った接触長さ（第１接触長さＳ１、第２接触長さＳ２）を、ドレッサー３が上下定盤１１、１２の外周縁１４に位置したときと、ドレッサー３が上下定盤１１、１２の内周縁１５に位置したときとのいずれにおいても、定盤縁部（外周縁１４或いは内周縁１５）側から定盤内部（定盤径方向βの中間部）側に向かって同じように低減させていくことができる。

【0058】

なお、例えば、図１３（ａ）に示された第１変形例のドレッシング領域３３Ａのように、角θ１及び角θ２が、角θ３及び角θ４より著しく小さい角度に設定された場合では、図１３（ｂ）に示されたように、ドレッサー３が上下定盤１１、１２の外周縁１４に位置しているとき、定盤径方向βの外側から内側（第３端縁４３から第４端縁４４）に向かう途中位置（中間位置）で、第１接触長さＳ１の低減率が大きく変化する。また、図示しないが、ドレッサー３が上下定盤１１、１２の内周縁１５に位置しているときには、定盤径方向βの内側から外側（第４端縁４４から第３端縁４３）に向かう途中位置（中間位置）で、第２接触長さＳ２の低減率が大きく変化する。さらに、図１３（ｂ）において斜線を付して示されたドレッシング領域３３と研磨パッド１１ａとの接触面積は、横軸を定盤径方向位置として図示した際、三角形を呈することはない。

【0059】

しかしながら、このような場合であっても図１３（ｃ）に示されたように、上定盤１１の外周部及び内周部と、定盤径方向βの中間部とで、研磨パッド１１ａの削り量の変動を抑制し、研磨パッド１１ａの平坦度を高めることができる。

【0060】

ただし、第３隅角部５３と第４隅角部５４を結んだ直線ＬＢから中間点Ｐ（凹角５０の頂点）までの最短距離Ｂは、第１隅角部５１と第２隅角部５２を結んだ直線ＬＡから中間点Ｐ（凹角５０の頂点）までの最短距離Ａの１０％以上の長さであることが望ましい。距離Ａの１０％の長さよりも距離Ｂが短くなると、ドレッシング領域３３Ａの面積が狭くなり、ドレッシング装置１のドレッシング機能が低下して実用性に乏しくなる。

【0061】

また、実施例１のドレッシング装置１では、ドレッシング領域３３に、ドレッシングの実施時に供給される洗浄水（流体）が流動可能であって、ドレッサー３の側方に開放した溝部６０が形成されている。

【0062】

これにより、実施例１のドレッシング装置１は、溝部６０を流れる洗浄水によって、ドレッシングによって生じた研磨パッド１１ａ、１２ａの研削屑や、研磨パッド１１ａ、１２ａに付着した付着物や副生成物等をドレッシング領域３３と研磨パッド１１ａ、１２ａとの間から速やかに排出することができる。

【0063】

また、実施例１では、溝部６０が、第１方向Ｘに沿った第１溝部６１を有している。これにより、第１方向Ｘに沿って流れる洗浄水の排出性能を向上し、研削屑の排出性能を高めることができる。このため、ドレッサー３の目詰まりを抑制することができる。

【0064】

さらに、実施例１では、溝部６０が、ドレッシング領域３３の第２方向Ｙの中央位置から第３端縁４３及び第４端縁４４に向かって、上定盤１１の回転に対して下流方向に倣う向き、或いは、下定盤１２の回転に対して下流方向に倣う向きに延びる第２溝部６２を有している。これにより、研削屑の排出性能を高め、ドレッサー３の目詰まりを抑制することができる。

【0065】

さらに、実施例１のドレッシング装置１では、ドレッシング領域３３の第２端縁４２に平面視でＲ加工が施されている。これにより、ドレッシング領域３３の第２端縁４２と研磨パッド１１ａと間で抵抗を少なくすることができる。このため、第１ドレッシング面３１が研磨パッド１１ａに引っ掛かることを抑制し、研磨パッド１１ａや砥粒へのダメージを抑えることができる。

【0066】

以上、本発明のドレッシング装置を実施例１に基づいて説明してきたが、具体的な構成については、この実施例に限られるものではなく、各請求項に係る発明の要旨を逸脱しない限り、設計の変更や追加等は許容される。

【0067】

実施例１では、溝部６０が、第１溝部６１と第２溝部６２とを有する例が示された。しかしながら、溝部６０は、第１溝部６１又は第２溝部６２のいずれか一方を有するものであってもよい。また、溝部６０は、必ずしもドレッシング領域３３に形成されていなくてもよい。また、溝部６０の大きさ（幅及び深さ）は任意に設定することができる。さらに、第１溝部６１及び第２溝部６２の数や、これらが形成される位置についても、任意に設定することができる。

【0068】

また、実施例１では、ドレッシング装置１が、第１ドレッシング面３１と第２ドレッシング面３２とを有するドレッサー３を備え、両面研磨機１０の上定盤１１と下定盤１２とを同時にドレッシングすることができる例が示された。しかしながら、ドレッサー３はこれに限らない。ドレッサー３は、例えば、上定盤１１の研磨パッド１１ａに対向する第１ドレッシング面３１のみを有するドレッサー３や、下定盤１２の研磨パッド１２ａに対向する第２ドレッシング面３２のみを有するドレッサー３であってもよい。この場合、第１、第２ドレッシング面３１、３２の形状を上定盤回転方向ＣＣＷや下定盤回転方向ＣＷに応じた最適な形状とすることが可能となる。

【0069】

また、実施例１のドレッシング装置１では、ドレッシング領域３３が第１端縁４１に凹角５０が設定された平面視で凹多角形状（凹五角形状）を呈する例が示された。しかしながら、ドレッシング領域３３は、平面視で凹多角形状を呈していなくてもよい。すなわち、第１端縁４１の形状は実施例１の形状に限らず、例えば、平面視で、中間点Ｐを頂点とする円弧線を描くように設定されてもよい。また、第１端縁４１は、平面視で、第１隅角部５１と中間点Ｐとをつなぐ階段状に折れ曲がった折れ線と、第２隅角部５２と中間点Ｐとをつなぐ階段状に折れ曲がった折れ線を描くように設定されてもよい。

【0070】

さらに、実施例１のドレッシング装置１では、研磨パッド１１ａ、１２ａの平坦度を向上させる例が示された。しかしながら、本発明のドレッシング装置は、第１端縁４１に設定された中間点Ｐの位置を制御することにより、ドレッサー３が上下定盤１１、１２の外周縁１４に位置したときの第１接触長さＳ１の低減の仕方や、ドレッサー３が上下定盤１１、１２の内周縁１５に位置したときの第２接触長さＳ２の低減の仕方を制御することが可能である。つまり、研磨パッド１１ａ、１２ａの外周部及び内周部を、意図的にタチ（外周部及び内周部の削り量が少ない状態）やダレ（外周部及び内周部の削り量が多い状態）等の形状に制御することも可能となる。

【0071】

また、本発明のドレッシング装置では、実際にドレッシングを行った後の研磨パッド１１ａ、１２ａの外周部及び内周部の形状を解析し、研磨パッド１１ａ、１２ａのドレッシング後の形状解析から、ドレッシング領域３３と研磨パッド１１ａ、１２ａとの接触面積の形状（Ｘ軸とＹ軸及び第１接触長さＳ１、第２接触長さＳ２を示す線とで囲まれた領域の形状）を適切に設定し、設定した接触面積の形状に基づいてドレッシング領域３３の形状（中間点Ｐの位置）を設計することも可能である。これにより、研磨パッド１１ａ、１２ａの形状を細かく制御することができる。

【0072】

さらに、実施例１のドレッシング装置１では、ドレッサー３が洗浄水噴射機構３ｂを有する例が示されたが、必ずしも洗浄水はドレッサー３から噴出可能でなくてもよい。すなわち、ドレッサー３が洗浄水噴射機構３ｂを有していなくてもよい。

【0073】

また、ドレッシング装置１を具備した両面研磨機１０は、ドレッシング時に上定盤１１を固定させる機構を持つことがある。その場合、上定盤１１を所定の高さまで上昇させた位置に、上定盤１１を吊下げた状態で固定する機構（以下、「上定盤吊部固定機構」という）によって、上定盤１１が固定された状態で、ドレッシングを行ってもよい。

【0074】

上定盤吊部固定機構は、上定盤１１及び上定盤１１に設けられた上定盤吊部を吊下げた状態で支持する装置フレームに設けられる。上定盤吊部固定機構は、上定盤１１の上下方向の位置（高さ）や振れを制止することができる。なお、上定盤吊部固定機構は、例えば、係止・解除する駆動が可能なＵ字状や円柱状、爪状などの装置フレームに設けられた係止部材が、上定盤吊部に設けられた被係止部材に係止されて装置フレームと上定盤吊部とを固定する機構や、逆に、係止・解除する駆動が可能な係止部材を上定盤吊部に設け、被係止部材を装置フレームに設けた機構など、任意の構造及び形状とすることができる。係止部材を係止・解除する際の駆動方向は、水平方向のほか、被係止部に対して係止が可能であれば、その他の方向でもよい。なお、上定盤吊部固定機構は、本発明のオートドレッシング技術に限らず、他の形態の定盤ドレッサー及びパッドドレッサーによるドレッシング、並びにあらゆる定盤のメンテナンス作業にも適用することができる。

【符号の説明】

【0075】

１ ドレッシング装置
２ アーム部材
２ｃ 軌道
３ ドレッサー
３ａ ドレッシング部材
４ 駆動機構
３１ 第１ドレッシング面
３２ 第２ドレッシング面
３３ ドレッシング領域
４１ 第１端縁
４２ 第２端縁
４３ 第３端縁
４４ 第４端縁
５０ 凹角
５１ 第１隅角部
５２ 第２隅角部
５３ 第３隅角部
５４ 第４隅角部
６０ 溝部
６１ 第１溝部
６２ 第２溝部
１０ 両面研磨機
１１ 上定盤
１１ａ 研磨パッド
１２ 下定盤
１２ａ 研磨パッド
１３ 回転軸
１４ 外周縁
１５ 内周縁
Ｘ 第１方向（軌道に直交する方向）
Ｙ 第２方向（軌道の接線方向）
Ｌα 第１接線方向（外周縁の接線方向）
Ｌβ 第２接線方向（内周縁の接線方向）
Ｐａ 外周縁に第３端縁が接する位置
Ｐｂ 内周縁に第４端縁が接する位置
Ｌ１ 第１直線（第２接線方向に平行で、第３隅角部を通る直線）
Ｌ２ 第２直線（第１接線方向に平行で、第４隅角部を通る直線）
Ｓ１ 第１接触長さ（ドレッサーが定盤外周縁に位置しているときのドレッシング領
域と研磨パッドとの定盤周方向の接触長さ）
Ｓ２ 第２接触長さ（ドレッサーが定盤内周縁に位置しているときのドレッシング領
域と研磨パッドとの定盤周方向の接触長さ）
α 定盤周方向
β 定盤径方向

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】