特開 2023-165548 反射防止膜、光学部材、レンズモジュール、及びカメラモジュール

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023165548

(43)【公開日】2023-11-16

(54)【発明の名称】反射防止膜、光学部材、レンズモジュール、及びカメラモジュール

(51)【国際特許分類】

   G02B 1/116 20150101AFI20231109BHJP

   G03B 30/00 20210101ALI20231109BHJP

   G02B 7/02 20210101ALI20231109BHJP

【ＦＩ】

G02B1/116

G03B30/00

G02B7/02 D

【審査請求】未請求

【請求項の数】21

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022076736

(22)【出願日】2022-05-06

(71)【出願人】

【識別番号】000104652

【氏名又は名称】キヤノン電子株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110003281

【氏名又は名称】弁理士法人大塚国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】内山 真志

(72)【発明者】

【氏名】佐藤 安紘

【テーマコード（参考）】

2H044

2K009

【Ｆターム（参考）】

2H044AD03

2H044AE01

2K009AA03

2K009BB02

2K009CC02

2K009CC03

(57)【要約】

【課題】帯電防止機能及び耐擦傷性を有し、耐久性に優れた反射防止膜、光学部材、レンズモジュール、及びカメラモジュールを得る。
【解決手段】透明基板上に配置された多層膜である反射防止膜。多層膜の最表層は窒化珪素を主成分とした透明硬質膜である。多層膜の最表層に隣接する層が透明導電膜である。
【選択図】図３

【特許請求の範囲】

【請求項1】

透明基板上に配置された多層膜である反射防止膜であって、
前記多層膜の最表層は窒化珪素を主成分とした透明硬質膜であり、
前記多層膜の前記最表層に隣接する層が透明導電膜である
ことを特徴とする、反射防止膜。

【請求項2】

透明基板上に配置された多層膜である反射防止膜であって、
前記多層膜の最表層は窒化珪素を主成分とした透明硬質膜であり、
前記多層膜の前記最表層から２番目の層が透明導電膜である
ことを特徴とする、反射防止膜。

【請求項3】

前記多層膜の前記最表層に隣接する層が、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．６以下の低屈折率膜であることを特徴とする、請求項２に記載の反射防止膜。

【請求項4】

透明基板上に配置された多層膜である反射防止膜であって、
前記多層膜の最表層は窒化珪素を主成分とした透明硬質膜であり、
前記多層膜は複数の低屈折率膜を有し、
前記多層膜は、前記複数の低屈折率膜の間、又は前記複数の低屈折率膜と前記最表層との間に、透明導電膜の層を有する
ことを特徴とする、反射防止膜。

【請求項5】

前記透明導電膜はＴＮＯを主成分とすることを特徴とする、請求項１に記載の反射防止膜。

【請求項6】

前記多層膜が、前記透明導電膜に加えて第２の透明導電膜を含むことを特徴とする、請求項１に記載の反射防止膜。

【請求項7】

前記第２の透明導電膜はＴＮＯ又はＩＴＯを主成分とすることを特徴とする、請求項６に記載の反射防止膜。

【請求項8】

透明基板上に配置された多層膜である反射防止膜であって、
前記多層膜の最表層は窒化珪素を主成分とした透明硬質膜であり、
前記多層膜が透明導電膜を含み、前記透明導電膜の表面の一部が前記多層膜の隣接する層を越えて拡がっている
ことを特徴とする、反射防止膜。

【請求項9】

前記透明導電膜の表面の一部は周囲雰囲気に晒されるように前記透明基板上に形成されていることを特徴とする、請求項８に記載の反射防止膜。

【請求項10】

前記透明導電膜が接地されていることを特徴とする、請求項８に記載の反射防止膜。

【請求項11】

前記透明導電膜はＩＴＯを主成分とすることを特徴とする、請求項８に記載の反射防止膜。

【請求項12】

前記多層膜が、前記透明導電膜に加えて第２の透明導電膜を含むことを特徴とする、請求項８に記載の反射防止膜。

【請求項13】

前記多層膜の前記最表層に隣接する層が前記第２の透明導電膜であることを特徴とする、請求項１２に記載の反射防止膜。

【請求項14】

前記多層膜の前記最表層から２番目の層が前記第２の透明導電膜であることを特徴とする、請求項１２に記載の反射防止膜。

【請求項15】

前記多層膜の前記最表層に隣接する層が、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．６以下の低屈折率膜であることを特徴とする、請求項１４に記載の反射防止膜。

【請求項16】

前記第２の透明導電膜はＴＮＯ又はＩＴＯを主成分とすることを特徴とする、請求項１２に記載の反射防止膜。

【請求項17】

透明基板と、前記透明基板上に設けられた請求項１から１６のいずれか１項に記載の反射防止膜と、を備える光学部材。

【請求項18】

レンズとして請求項１７に記載の光学部材を搭載したレンズモジュール。

【請求項19】

複数のレンズを搭載したレンズモジュールであって、前記複数のレンズのうち外気に晒されるレンズは請求項１７に記載の光学部材であり、
残りのレンズの最表層には、前記残りのレンズ上に形成される多層膜のうち最も屈折率が低い層が配置される
ことを特徴とするレンズモジュール。

【請求項20】

筐体と、
請求項８から１６のいずれか１項に記載の反射防止膜が設けられたレンズと、
を備えるレンズモジュールであって、前記反射防止膜が有する前記透明導電膜が前記筐体に電気的に接続されていることを特徴とする、レンズモジュール。

【請求項21】

請求項１８に記載のレンズモジュールと、前記レンズモジュールを通過した光による像を撮像する撮像素子と、を搭載したカメラモジュール。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は反射防止膜、光学部材、レンズモジュール、及びカメラモジュールに関し、特に、帯電防止機能を有し、耐擦傷性に優れる反射防止膜に関する。

【背景技術】

【0002】

屋外環境下で長時間使用される監視カメラ及び車載カメラでは、外部に面したカバーガラス又はレンズ上に、外部雰囲気中の砂埃のようなパーティクルが付着することがある。このようなパーティクルは、それ自体が撮影画像に悪影響を与えることがあり、またカバーガラス又はレンズの表面にキズを付けることにより撮影画像が劣化することがある。砂漠及び月面などの特殊環境下ではこのような問題が顕著となる。

【0003】

特許文献１は、耐摩耗性及び帯電防止効果に優れた光学部材を得るために、基材上の反射防止膜の最表層として、撥水膜を設けることや、有機－無機ハイブリッド層を設けることを開示している。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２００６－２７６５６８号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

しかしながら、特許文献１のように反射防止膜の最表層に有機物の層を設けると、長時間使用することで紫外線又は放射線などにより層が化学的に劣化し、耐摩耗性及び耐擦傷性も低下するという課題があった。

【0006】

本発明は、帯電防止機能及び耐擦傷性を有し、耐久性に優れた反射防止膜、光学部材、レンズモジュール、及びカメラモジュールを提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明の一実施形態に係る反射防止膜は以下の構成を備える。すなわち、
透明基板上に配置された多層膜である反射防止膜であって、
前記多層膜の最表層は窒化珪素を主成分とした透明硬質膜であり、
前記多層膜の前記最表層に隣接する層が透明導電膜である。

【発明の効果】

【0008】

帯電防止機能及び耐擦傷性を有し、耐久性に優れた反射防止膜、光学部材、レンズモジュール、及びカメラモジュールを得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1】反射防止膜の分光反射率の特性を示す図。

【図2】実施例１に係る反射防止膜の膜構成を示す概略図。

【図3】実施例２に係る反射防止膜の膜構成を示す概略図。

【図4】実施例３に係る反射防止膜の膜構成を示す概略図。

【図5】実施例７に係るレンズモジュール及びカメラモジュールの概略図。

【図6】実施例３の変形例に係る反射防止膜の膜構成を示す概略図。

【図7】実施例４に係る反射防止膜の膜構成を示す概略図。

【図8】実施例５に係る反射防止膜の膜構成を示す概略図。

【図9】実施例６に係る反射防止膜の膜構成を示す概略図。

【図10】実施例６の変形例に係る反射防止膜の膜構成を示す概略図。

【発明を実施するための形態】

【0010】

以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、添付図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。

【0011】

（反射防止膜）
本発明の一実施形態に係る反射防止膜は、透明基板上に配置された多層膜である。反射防止膜は、カバーガラス又レンズなどの透明基板上に形成することができ、可視波長などの所定の波長領域の反射を低減することができる。例えば、反射防止膜は、図１に示すように、少なくとも対象波長領域において反射率が１％以下程度となる特性を有している。特に、対象波長領域の各波長における反射率が１％以下程度となることが望ましい。反射防止膜の対象波長領域は、例えば可視波長領域（４００～７００ｎｍ）であるが、これには限られず、例えば７００ｎｍ以上の近赤外波長領域、又は４００ｎｍ以下の紫外線波長領域であってもよい。近赤外波長領域を対象波長領域とする場合には好ましくは７００～１２００ｎｍの領域である。また、反射防止膜の対象波長領域における光吸収率は１０％以下であることが好ましく、１％以下であることが特に好ましい。特に、対象波長領域の各波長における光吸収率が１％以下程度となることが望ましい。

【0012】

反射防止膜は、高屈折率膜と低屈折率膜との繰り返し部分を基本構成として有することができる。高屈折率膜は、低屈折率膜よりも屈折率が高い膜のことである。例えば、反射防止膜は、光吸収がほとんどなく屈折率の高い高屈折率膜と、光吸収がほとんどなく屈折率が低い低屈折率膜と、の交互積層構造を有することができる。このような反射防止膜によれば、対象波長領域の全域で高い透過特性と低い反射特性とを得ることができる。

【0013】

低屈折率膜としては、例えば波長５００ｎｍにおける屈折率が１．６以下の膜を用いることができる。低屈折率膜の材料としては、反射防止膜の対象波長領域における光吸収が少なく、安定的に成膜可能な材料を用いることができる。例えば、光学特性を重視する場合には屈折率が低いＭｇＦ_２を主成分とする薄膜層が、環境性を重視する場合にはＳｉＯ_２などを主成分とした薄膜層を用いることができ、これらの薄膜層又はこれらの材料を組み合わせた複合層も用いることができる。

【0014】

高屈折率膜としては、例えば波長５００ｎｍにおける屈折率が１．８以上の膜を用いることができる。高屈折率膜の材料としては、反射防止膜の対象波長領域における光吸収が少なく、安定的に成膜可能な材料を用いることができる。例えば、ＴｉＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５、チタンニオブ酸化物（ＴＮＯ）、ＺｒＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５、ＨｆＯ_２、Ｌａ_２Ｔｉ_２Ｏ_７（ＬａＴｉＯ_３）、又はＳｉ_３Ｎ_４などを主成分とした薄膜層を用いることができ、これらの薄膜層又はこれらの材料を組み合わせた複合層も用いることができる。また、光学特性を重視する場合には屈折率が高いＴｉＯ_２又はＮｂ_２Ｏ_５などが特に好ましく、紫外側の吸収を抑えたい場合にはＴａ_２Ｏ_５、ＨｆＯ_２、又はＬａ_２Ｔｉ_２Ｏ_７などが特に好ましい。

【0015】

一実施形態において、多層膜の最表層は透明硬質膜である。このように反射防止膜の最表層に透明硬質膜を配置することにより、耐擦傷性を高めることができる。反射防止膜の光吸収率を低くするためには、無機材料を主成分とする透明硬質膜を多層膜の最表層に配置することができる。このような透明硬質膜は、砂埃又は月面のレゴリスなどの比較的硬質なパーティクルに対する擦傷性を高める効果を有している。また、無機材料を主成分とする透明硬質膜は、紫外線又は放射線などの影響を受ける環境においても劣化しにくく、十分な擦傷性を長期間維持することができる。

【0016】

透明硬質膜は、対象波長領域における光吸収率は１０％以下、好ましくは１％以下となる膜である。透明硬質膜の材料としては、反射防止膜の対象波長領域における光吸収が少なく、安定的に成膜可能な材料を用いることができる。高い耐久性を得るために、透明硬質膜は無機材料を主成分とした薄膜層であってもよく、無機成分からなる薄膜層であってもよい。例えば、透明硬質層として、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＡｌＮ、ＳｉＯＮ、ＤＬＣ、又はＴｉＮなどを主成分とした薄膜層、又はこれらの材料からなる薄膜層を用いることができる。また、これらの材料を組み合わせた複合層、例えば主成分となるＳｉ_３Ｎ_４に微量のＡｌ_２Ｏ_３を添加した複合層なども用いることができる。なお、本明細書において特定の成分を「主成分とする」とは、複合層の成分のうち成分比が最も多い成分であり、特定の成分の質量比が７５％以上であることが好ましく、より好ましくは９０％以上であることを指す。また、本明細書において特定の成分「からなる」とは、特定の成分以外には不純物しか含まないこと、例えば特定の成分の質量比が９９％以上であることを指す。

【0017】

透明硬質膜の硬度は、例えばビッカス硬度（ＪＩＳ Ｚ ２２４４）で１０００Ｈｖ以上であることが好ましく、１５００Ｈｖ以上が特に好ましい。また、ナノインデンター測定による硬度（ＩＳＯ １４５７７）は１０ＧＰａ以上であることが好ましい。このような硬度を有することにより、耐擦傷性がより向上する。

【0018】

透明硬質膜として、可視波長での透明性及び耐擦傷性などに優れる窒化珪素（Ｓｉ_３Ｎ_４）を主成分とした薄膜、又は窒化珪素からなる薄膜を用いることは特に好ましい。Ｓｉ_３Ｎ_４膜はビッカス硬度で１５００Ｈｖ以上、マイヤー硬さで１５ＧＰａ以上、ナノインデンターによる硬度で１０ＧＰａ以上を有しているように非常に硬く、膜面のキズの発生を抑制することができる。また、透明性及び硬度の観点から、Ｓｉ_３Ｎ_４を主成分とした透明硬質膜は、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．８以上程度であることが好ましく、２．２以下程度であることが好ましい。

【0019】

Ｓｉ_３Ｎ_４のような透明硬質膜は屈折率が高いため、膜厚が薄い方が反射率が低くなる傾向にある。一方で、透明硬質膜には、耐擦傷性を実現できる強度が求められる。このような観点から、透明硬質膜の膜厚は８０Å以上であることが好ましく、１５０Å以上であることが特に好ましい。また、光学特性を重視する場合、透明硬質膜は、光の干渉が起こりにくい１μｍ程度以下の膜厚を有することが好ましい。

【0020】

ところで、透明性を備える硬質膜は屈折率が高いことが多く、最表層に配置すると周囲雰囲気との屈折率差が大きくなるために反射率が高くなる傾向がある。一方で、多層膜全体の干渉条件を調整することにより、最表層にＭｇＦ_２などの低屈折率膜を配置した場合と比べると反射特性は高くなるものの、対象波長領域における反射率が１％以下程度となるような反射防止特性を得ることができる。図１は、このような膜構成を有する反射防止膜の光学特性例を示す。

【0021】

また、本発明の一実施形態に係る反射防止膜は透明導電膜を有している。透明導電膜は、光吸収を抑えて透過率を高めるために、対象波長領域において透明性を有する導電膜である。例えば、透明導電膜の対象波長領域における光吸収率は、１０％以下、好ましくは１％以下である。透明導電膜は、２０℃での電気抵抗率が１×１０^－５Ω・ｍ以下の材料、好ましくは１×１０^－６Ω・ｍ以下の材料で構成されている。

【0022】

このように、反射防止膜を構成する多層膜の１層以上として透明導電膜を配置することにより、帯電防止性能を高めることができる。特に砂漠地帯、月面、又は宇宙空間などの屋外環境下では、砂又はレゴリスなどの比較的硬質なパーティクルが反射防止膜に付着することが多い。これらのパーティクルが膜面上を滑りながら移動したり、又はワイパーのようなもので取り除かれたりする場合、パーティクルが引きずられることにより膜面上にキズが発生する可能性かある。また、このようなパーティクルは静電気を帯びていることが多く、静電気によって反射防止膜上にさらにパーティクルが引き寄せられてしまう可能性もある。本実施形態によれば、反射防止膜に導電膜を配置することにより、膜面上に電荷が溜まることを抑制し、反射防止膜に付着するパーティクルを減らすことができる。そして、パーティクルの付着及びこれに伴うキズの発生を減らすことにより、反射防止膜の耐擦傷性を長期間維持することが可能になる。

【0023】

一実施形態においては、多層膜の最表層に隣接する層が透明導電膜である。多層膜の最表層のより近くに透明導電膜を配置することによりパーティクルに対する影響がより大きくなるが、最表層には擦傷性を高める目的で比較的絶縁性の高い透明硬質膜を配置するため、最表層の手前の層として透明導電膜を配置することができる。後述する実施例２及び６はこのような構成を有する。

【0024】

一実施形態においては、多層膜の最表層から２番目の層が透明導電膜である。多層膜の最表層に配置される透明硬質膜は高屈折率であることが多いため、光学性能を向上させるために、最表層の手前の層として低屈折率膜を配置することができる。この場合、最表層から２層手前となる、低屈折率膜のさらに手前の層として、透明導電膜を配置することができる。このような構成によれば、比較的屈折率の高い透明導電膜を用いる場合に、反射防止膜の光学性能を向上させやすい。後述する実施例１、３、及び５はこのような構成を有する。

【0025】

一実施形態においては、透明導電膜は、多層膜が有する複数の低屈折率膜の間に設けられていてもよい。本実施形態において透明導電膜は高屈折率膜として用いられてもよく、この場合、透明導電膜が、より低い屈折率を有する低屈折率膜に挟まれていてもよい。後述する実施例１、３、及び５はこのような構成を有する。また、透明導電膜は、多層膜が有する複数の低屈折率膜と最表層との間に設けられていてもよい。後述する実施例２及び６はこのような構成を有する。また、一実施形態においては、透明導電膜は、帯電防止性能を高めるために、反射防止膜の膜厚方向の中間点よりも最表層に近い側に配置されている。このように、透明導電膜の配置には様々なバリエーションが考えられる。

【0026】

一実施形態においては、多層膜が透明導電膜を含み、透明導電膜の表面の一部が多層膜の隣接する層を越えて拡がっている。このように、より大きい透明導電膜を設けることにより、帯電防止機能を有する透明導電膜を広く形成し、反射防止膜の表面に溜まる電荷をより逃がしやすくすることができる。また、このような構成においては、透明導電膜の表面の一部を、周囲雰囲気に晒されるように透明基板上に形成することができる。この場合、透明導電膜のうち多層膜の隣接する層を越えて拡がっている部分、例えば周囲雰囲気に晒された部分にアース線を繋いで接地することで、電荷の蓄積をより一層抑制することができる。

【0027】

透明導電膜の材料は特に限定されないが、例えば、反射防止膜の第１層目として、透明基板の直上に、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）膜、Ｎｂドープ酸化チタン（ＴＮＯ）膜、又は金属ナノメッシュなどの透明導電膜を形成することができる。この場合、さらに透明導電膜上に高屈折率膜及び低屈折率膜等を積層した後にも、透明導電膜の表面の一部が外気に晒されるような構成を採用することができる。このような反射防止膜は、第１層目として面積の大きい透明導電膜を成膜し、第２層目以降として面積の小さい高屈折率膜及び低屈折率膜等を成膜することにより作製することができる。この場合、面積が異なる透明導電膜を第１層目以外の層として設ける場合と比較して、成膜プロセスの分割回数を減らし、生産性を向上させることができる。後述する実施例４～６はこのような構成を有する。

【0028】

反射防止膜は２層以上の透明導電膜を有していてもよい。例えば、少なくとも１層の透明導電膜が上述の位置に配置されていることに加えて、多層膜がさらなる透明導電膜を含んでいてもよい。例えば、反射防止膜の最表層に隣接する層又は最表層から２番目の層として透明導電膜を設けるのに加えて、反射防止膜中にさらなる透明導電膜を配置することも可能である。また、反射防止膜の第１層目として透明導電膜を設けるのに加えて、反射防止膜中にさらなる透明導電膜を配置することも可能である。この場合、さらなる透明導電膜は、上述のように、多層膜の最表層に隣接する層、又は多層膜の最表層から２番目の層であってもよい。ここで、多層膜の最表層から２番目の層を透明導電膜とする場合、上述のように、最表層の手前の層として低屈折率膜、例えば波長５００ｎｍにおける屈折率が１．６以下の膜を配置することができる。このようなさらなる透明導電膜の材料は特に限定されないが、さらなる透明導電膜は、例えばＴＮＯ又はＩＴＯを主成分としていてもよく、ＴＮＯ又はＩＴＯからなっていてもよい。これらの２層以上の透明導電膜は、それぞれ異なる材料で形成されていてもよい。

【0029】

透明導電膜の数及び膜厚は特に限定されない。透明導電膜の積層数が多く、透明導電膜の膜厚が厚い方が高い帯電防止効果を得ることができるが、具体的な設計は、必要な帯電防止性能に加え、光学的な特性、及び生産性なども考慮して行うことができる。一例として、透明導電膜の膜厚は、導電性を高めるために３ｎｍ以上又は１０ｎｍ以上であってよく、光透過性を高めるために１００ｎｍ以下又は５０ｎｍ以下であってよい。一方で、透明基板の直上に形成される透明導電膜の膜厚は、透明導電膜が反射防止膜から離れていても十分な帯電防止効果を得る観点から、５０ｎｍ以上、又は１５０ｎｍ以上であってもよく、例えば４００ｎｍ以下又は３００ｎｍ以下であってもよい。このように、反射防止膜が複数の透明導電膜を有する場合、第１層目の透明導電膜の膜厚が、他の透明導電膜の膜厚より大きくてもよい。

【0030】

後述する実施例１～３のように、反射防止膜の内部に設ける透明導電膜としては、例えば、ＴＮＯ、ＩＴＯ、ＩＧＺＯ、ＩＺＯ、ＡＺＯ、ＧＺＯ、ＦＴＯ、ＳｎＯ_２、若しくはグラフェンなどを主成分とした薄膜層、又はこれらからなる薄膜層を用いることができる。また、これらの材料を組み合わせた複合層などを用いることもできる。これらの薄膜材料の中でも、成膜プロセスにおける選択性、コスト面、透明性、及び導電性などの点で総合的に優れている、ＴＮＯを主成分とする膜、ＴＮＯからなる膜、ＩＴＯを主成分とする膜、又はＩＴＯからなる膜が好ましく、ＴＮＯを主成分とする膜又はＴＮＯからなる膜が特に好ましい。

【0031】

後述する実施例４～６のように、透明基板上に設ける透明導電膜としては、酸化チタンに数％程度ニオブをドープしたＴＮＯ、ＩＴＯ、ＩＧＺＯ、ＩＺＯ、ＡＺＯ、ＧＺＯ、ＦＴＯ、ＳｎＯ_２、若しくはグラフェンなどを主成分とした薄膜層、又はこれらの材料を組み合わせた複合層などを用いることができる。また、このような透明導電膜としては、透明性の高い、銀などで構成された金属ナノメッシュ膜、又は極薄の金属膜などを用いることもできる。これらの薄膜材料の中でも、成膜プロセスにおける選択性、コスト面、透明性、及び導電性などの点で総合的に優れている、ＴＮＯを主成分とする膜、ＴＮＯからなる膜、ＩＴＯを主成分とする膜、ＩＴＯからなる膜、又は銀などで構成される金属ナノメッシュ膜などが好ましく、ＩＴＯを主成分とする膜又はＩＴＯからなる膜が特に好ましい。

【0032】

これらに加えて、反射防止膜全体としてクラックを抑制する観点から、各層の膜厚及び膜密度などを制御することにより、反射防止膜全体の膜応力が小さくなるように調整することができる。さらにクラックを抑制するためには、各層の膜応力値を小さくすること、例えば膜厚が薄い層の積層構成を採用することができる。

【0033】

透明導電膜を有する本実施形態に係る反射防止膜の表面抵抗率は１０^８Ω／□以下とすることができる。このような表面抵抗率においては、帯電自体が起きにくく、埃等が付着しにくい。

【0034】

ここまで、透明硬質膜及び透明導電膜を備え、透明硬質膜上の帯電を抑制できる反射防止膜について説明した。しかしながら、透明硬質膜を有さなくても、反射防止膜に透明導電膜を設けることにより、反射防止膜の帯電は抑制することができる。例えば、多層膜により構成され、多層膜が透明導電膜を含み、透明導電膜の表面の一部が多層膜の隣接する層を越えて拡がっている反射防止膜が、透明硬質膜を有さない実施形態も考えられる。このような実施形態においても、反射防止膜の表面における帯電を抑制することができ、パーティクルによる反射防止膜の損傷も抑制することができる。この効果は、特に透明導電膜を接地することにより向上させることができる。

【0035】

（透明基板）
本発明の一実施形態で用いられる透明基板は、対象波長領域における透明性を有する基板である。透明基板の対象波長領域における光吸収率は１０％以下であることが好ましく、１％以下であることが特に好ましい。透明基板の形状は特に限定されず、例えば、透明基板は球面形状若しくは非球面形状を有するレンズ、又は平板形状の基板でありうる。透明基板の具体的な例としては、周囲雰囲気からレンズモジュール又はカメラモジュールを保護する目的で光入射面に配置されるカバーガラスが挙げられる。また、透明基板の別の例としては、カバーガラスを有さないタイプのレンズモジュールにおいて用いられ、周囲雰囲気に晒される位置に配置されるレンズそのものが挙げられる。このように、本発明の一実施形態に係る反射防止膜が設けられた透明基板は、光学部材として用いることができる。

【0036】

透明基板がレンズである場合、レンズ材料の種類は特に限定されず、使用環境に応じて、レンズとして必要とされる機械的、光学的、又は熱的な性能を有するものを利用することができる。このような材料としては、各硝材メーカが取り扱っている様々なガラス材料を使用することができる。例えば、月面環境などの放射線が降り注ぐ宇宙空間で使用される場合には、強い放射線環境下におけるガラスの着色を防ぐために、特殊な光学ガラスの１つである耐放射線ガラスを用いることができる。

【0037】

（成膜プロセス）
本発明の一実施形態に係る上記のような反射防止膜の成膜方法は特に限定されない。例えば、反射防止膜は、物理的又は化学的な成膜手法で形成することができる。再現性及び膜の耐環境性などの観点からは、スパッタ法、又は何らかのアシストを用いる蒸着方法などの、比較的高エネルギーで膜を形成できるプロセスを用いることができる。より具体的には、スパッタ法、ＩＡＤ（Ｉｏｎ Ａｓｓｉｓｔ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、イオンプレーティング法、ＩＢＳ（Ｉｏｎ Ｂｅａｍ Ｓｐｕｔｔｅｒ）法、クラスター蒸着法、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、及びＡＬＤ（Ａｔｏｍｉｃ Ｌａｙｅｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法などが挙げられる。

【0038】

それぞれの成膜手法には、成膜速度及び膜厚制御等の点で違いがある。また、例えばＡＬＤ法などには、光が透過する有効領域だけでなく、レンズ全体を覆うように成膜を行うことが容易であるという利点がある。これらを考慮して、求められる再現性、膜密度などの薄膜特性、及び生産性などを考慮して、適切な成膜方法を選択することができる。また、２つ以上の異なる成膜プロセスを組み合わせて用いてもよい。これらに加えて、成膜中は基板の耐熱性に合わせて加熱を行ってもよい。

【0039】

（レンズモジュール及びカメラモジュール）
図５は、本発明の一実施形態に係るレンズモジュール５４及びカメラモジュール５５の概略構成図である。レンズモジュール５４は、レンズ５０ａ～５０ｅを有している。また、レンズモジュール５４は、絞り５３、鏡筒（不図示）、及びレンズ５０ａ～５０ｅの間に配置された遮光環（不図示）などを有することができる。

【0040】

レンズ５０ａ～５０ｅは、レンズモジュール５４により所定の光学特性を得られるような、適切な形状及び材質を有する、適切な枚数のレンズである。図５には５枚のレンズが示されているが、レンズの枚数は限定されない。このようなレンズ５０ａ～５０ｅは、それぞれ異なる材料で構成されたレンズであってもよく、１枚以上の樹脂レンズを含んでいてもよい。図５の例において、最も外側のレンズ５０ａは外気に触れるように配置されており、優れた耐擦過性を有していることが望ましい。このような観点から、レンズ５０ａは、上述のように、透明基板上に本発明の一実施形態に係る反射防止膜が設けられた構成を有する。この場合、レンズ５０ａとしては、耐久性に優れるガラスを透明基板として有する、ガラスレンズを用いることができる。また、少なくとも、レンズ５０ａの外気に晒される側の面には、本発明の一実施形態に係る反射防止膜を設けることができる。この反射防止膜は、最表層に前述した透明硬質膜を最表層に備えており、また帯電防止機能を有している。

【0041】

また、レンズ５０ａの反対面（すなわち、外気に晒される側の面とは反対の面）に、本発明の一実施形態に係る反射防止膜を設けてもよい。このように、レンズ５０ａの反対面にも帯電防止機能を有する反射防止膜を設けることにより、レンズ５０ａの外気に晒される面の帯電防止性を向上させることができる。一方で、レンズ５０ａの反対面には、帯電防止機能を有していない反射防止膜を形成してもよい。このような反射防止膜は透明導電層を有さなくてもよいため、光学的な性能がより向上するように設計することが容易となる。レンズ５０ｂ～５０ｅは直接的には外気に晒されないため、同様に、帯電防止機能を有していない反射防止膜を形成することができ、この反射防止膜は最表層に透明硬質膜を備えていなくてもよい。

【0042】

カメラモジュール５５は、前述のレンズモジュール５４に加えて、ＣＣＤ又はＣＭＯＳなどの撮像素子５１を有するモジュールである。撮像素子５１は、レンズモジュール５４を通過した光による像を撮像することができる。また、図５のように、カメラモジュール５５には、近赤外波長領域の光の通過を制限するＩＲカットフィルタ５２を有してもよい。また、カメラモジュール５５は、近赤外波長領域の光のみを透過するＩＲパスフィルタなどの他の光学フィルタを有していてもよい。さらに、カメラモジュール５５は、複数の光学フィルタを有していてもよいし、複数の光学フィルタから選択された光学フィルタを選択的に光軸上に配置するための機構を有していてもよい。

【0043】

上述したように、反射防止膜が有する透明導電膜は接地することができる。具体的には、レンズモジュール５４又はカメラモジュール５５が有する鏡筒などの筐体部分と、透明導電膜とを、配線などを介して電気的に接続することにより、透明導電膜の接地を行うことができる。具体的には、透明導電膜のうち多層膜の隣接する層を越えて拡がっている部分、例えば周囲雰囲気に晒された部分を、筐体と電気的に接続することができる。さらに、この筐体部分を接地してもよい。このような構成により、反射防止膜に溜まる電荷を積極的に逃がすことができるため、帯電防止効果をより高めることができる。

【0044】

（実施例１）
図２は、実施例１に係る反射防止膜２１の膜構成を示す概略図である。図２では、膜構成を示す目的で、レンズ２０の表面の一部に形成された反射防止膜２１が示されている。実際の実施例１は、レンズ２０の表裏両面の、少なくとも光が透過するレンズの有効部全域が、反射防止膜２１に覆われた構造を有している。なお、反射防止膜２１をＡＬＤ法などにより成膜した場合には、側面を含めてレンズ２０全面の全面が反射防止膜２１に覆われる。

【0045】

実施例１に係る反射防止膜２１を構成する全ての薄膜層は、膜密度が高くなり、膜面の平滑性も高くなるように、スパッタ法により成膜されている。実施例１では、宇宙空間、特には月面での使用を想定して、透明基板であるレンズ２０として耐放射線ガラスを用いた。

【0046】

実施例１に係る反射防止膜２１においては、図２に示すように、透明基板であるレンズ２０の直上に高屈折率膜２２であるＴｉＯ_２膜が配置され、さらにその直上に低屈折率膜２３であるＳｉＯ_２膜が配置されている。この反射防止膜２１は、ＴｉＯ_２とＳｉＯ_２との交互積層を基本構成として有している。また、反射防止膜２１の最表層には透明硬質膜２５であるＳｉ_３Ｎ_４膜が配置されている。そして、透明硬質膜２５の手前の層として低屈折率膜２３であるＳｉＯ_２膜が配置され、さらにその手前の層として透明導電膜２４であり帯電防止効果を有するＴＮＯ膜が配置されている。このように、最表層の透明硬質膜２５に隣接するように低屈折率膜２３を配置することで、このＳｉＯ_２膜と、隣接し比較的屈折率が高いＴＮＯ膜及びＳｉ_３Ｎ_４膜のそれぞれと、の間の屈折率差を大きくすることができ、反射率などの光学特性を向上させることが容易になる。なお、実施例１では採用していないものの、反射防止膜２１がさらなる層を有していてもよい。例えば、レンズ２０と、レンズ２０に最も近いＴｉＯ_２膜との間に、ＳｉＯ層などの密着層を形成してもよい。また、レンズ２０の直上には、低屈折率膜２３であるＳｉＯ_２膜から始まる交互積層構造を設けてもよい。

【0047】

高屈折率膜２２であるＴｉＯ_２膜は以下のように作製した。まず、Ｔｉの金属ターゲットを用い、これをスパッタすることで極薄のＴｉ薄膜を形成した後、所定の組成となるように、反応ソースとしてＯ_２ガスを流して酸化させることで、極薄のＴｉＯ_２薄膜を作製した。このようなプロセスを所定の膜厚になるまで繰り返した。

【0048】

低屈折率膜２３であるＳｉＯ_２膜は以下のように作製した。まず、Ｓｉの金属ターゲットを用い、これをスパッタすること極薄のＳｉ薄膜を形成した後、所定の組成となるように、反応ソースとしてＯ_２ガスを流して酸化させることで、極薄のＳｉＯ_２薄膜を作製した。このようなプロセスを所定の膜厚になるまで繰り返した。

【0049】

透明導電膜２４であるＴＮＯ膜は以下のように作製した。まず、所定の比率で混合されたＴｉ－Ｎｂ合金ターゲットを用い、これをスパッタすることで極薄のＴｉ－Ｎｂ薄膜を形成した後、所定の組成となるように、反応ソースとしてＯ_２ガスを流して酸化させることで極薄のＴＮＯ薄膜を作製した。このようなプロセスを所定の膜厚になるまで繰り返した。

【0050】

透明硬質膜２５であるＳｉ_３Ｎ_４膜は以下のように作製した。まず、Ｓｉの金属ターゲットを用い、これをスパッタすることで極薄のＳｉ薄膜を形成した後、所定の組成となるよう、反応ソースとしてＮ_２ガスを流して窒化させることで極薄のＳｉ_３Ｎ_４薄膜を作製した。このようなプロセスを所定の膜厚になるまで繰り返した。実施例１においては、１５０Åの膜厚を有する透明硬質膜２５を作製した。

【0051】

以上のように形成された反射防止膜２１は、図１に示す反射特性と略等しい分光反射率を得ることができた。また、帯電防止効果を得やすいように、最表層から２層手前の位置に透明導電膜２４を配置したことにより、反射防止膜２１の全体としての表面抵抗率は１０^８Ω／□以下となった。このように、実施例１で作製された反射防止膜２１は、優れた反射防止効果を有しつつも、同時に高い帯電防止効果を有している。実施例１によれば、外気に直接触れる最表層に透明硬質膜２５を設けた効果と合わせて、紫外線及び放射線などによる耐擦傷性の劣化が少なくなり、パーティクルの付着も低減できることから、優れた耐擦傷性を長期間維持することができる。このような実施例１に係る反射防止膜２１は、宇宙空間又は月面環境下での使用にも適している。

【0052】

（実施例２）
図３は、実施例２に係る反射防止膜３１の膜構成を示す概略図である。以下では、実施例１との違いについて説明する。

【0053】

実施例２に係る反射防止膜３１は、透明基板であるレンズ３０上に設けられ、図３に示すように、高屈折率膜３２であるＴｉＯ_２膜と低屈折率膜３３であるＳｉＯ_２膜との交互積層を基本構成として有している。反射防止膜３１の最表層には、透明硬質膜３５であるＳｉ_３Ｎ_４膜が配置されている。そして、透明硬質膜３５の手前の層として透明導電膜３４であり帯電防止効果を有するＴＮＯ膜が配置されている。このように、最表層の透明硬質膜３５に隣接するように透明導電膜３４を設けることにより、より高い帯電防止効果を得ることができる。

【0054】

レンズ３０、高屈折率膜３２、低屈折率膜３３、透明導電膜３４、及び透明硬質膜３５の特性及び製法は実施例１と同様である。実施例２において、透明硬質膜３５は１５０Å以上の膜厚とした。

【0055】

以上のように形成された反射防止膜３１は、図１に示す反射特性と比較すると全体的に分光反射率が０．１～０．２％程度高くなっていたが、４００～７００ｎｍの波長領域における分光反射率は略１％以下となっていた。また、帯電防止効果を得やすいように、最表層の手前に透明導電膜３４を配置したことにより、反射防止膜３１の全体としての表面抵抗率は１０^８Ω／□以下となった。このように、実施例２で作製された反射防止膜３１は、優れた反射防止効果を有しつつも、同時に高い帯電防止効果を有している。実施例２によれば、外気に直接触れる最表層に透明硬質膜３５を設けた効果と合わせて、紫外線及び放射線などによる耐擦傷性の劣化が少なくなり、パーティクルの付着も低減できることから、優れた耐擦傷性を長期間維持することができる。このような実施例２に係る反射防止膜３１は、宇宙空間又は月面環境下での使用にも適している。

【0056】

（実施例３）
図４は、実施例２に係る反射防止膜４１の膜構成を示す概略図である。以下では、実施例１との違いについて説明する。実施例３においては、反射防止膜内に複数の透明導電膜が配置されている。

【0057】

実施例３に係る反射防止膜４１は、透明基板であるレンズ４０上に設けられ、図３に示すように、高屈折率膜４２であるＴｉＯ_２膜と低屈折率膜４３であるＳｉＯ_２膜との交互積層を基本構成として有している。反射防止膜４１の最表層には、透明硬質膜４５であるＳｉ_３Ｎ_４膜が配置されている。そして、透明硬質膜４５の手前の層として低屈折率膜４３であるＳｉＯ_２膜が配置され、さらにその手前の層として透明導電膜４４であり帯電防止効果を有するＴＮＯ膜が配置されている。さらに、この透明導電膜４４の手前の層として低屈折率膜４３であるＳｉＯ_２膜が配置され、さらにその手前の層として透明導電膜４４であり帯電防止効果を有するＴＮＯ膜が配置されている。このように、最表層の透明硬質膜４５に隣接するように低屈折率膜４３を配置することで、このＳｉＯ_２膜と、隣接し比較的屈折率が高いＴＮＯ膜及びＳｉ_３Ｎ_４膜のそれぞれと、の間の屈折率差を大きくすることができ、反射率などの光学特性を向上させることが容易になる。また、このように透明導電膜４４であるＴＮＯ膜を複数層配置することで、高い帯電防止効果を得ることができる。

【0058】

レンズ４０、高屈折率膜４２、低屈折率膜４３、透明導電膜４４、及び透明硬質膜４５の特性及び製法は実施例１と同様である。実施例３において、透明硬質膜４５は１５０Å以上の膜厚とした。

【0059】

以上のように形成された反射防止膜４１は、図１に示す反射特性と略等しい分光反射率を得ることができた。また、帯電防止効果を得やすいように、最表層から２層手前の位置に透明導電膜４４を配置したことに加え、さらにもう１層の透明導電膜４４を配置したことにより、実施例２よりも高い帯電防止効果が得られる。反射防止膜４１の全体としての表面抵抗率は１０^８Ω／□以下となった。このように、実施例３で作製された反射防止膜４１は、優れた反射防止効果を有しつつも、同時に高い帯電防止効果を有している。実施例３によれば、外気に直接触れる最表層に透明硬質膜４５を設けた効果と合わせて、紫外線及び放射線などによる耐擦傷性の劣化が少なくなり、パーティクルの付着も低減できることから、優れた耐擦傷性を長期間維持することができる。このような実施例３に係る反射防止膜４１は、宇宙空間又は月面環境下での使用にも適している。

【0060】

さらには、図６で示すように、レンズ６０の直上に透明導電膜６６としてＩＴＯ膜を設けてもよい。図６に示す反射防止膜６１は、実施例３と同様の高屈折率膜６２、低屈折率膜６３、透明導電膜６４、及び透明硬質膜６５を有しており、すなわち３層の透明導電膜を有している。このような構成を有する反射防止膜６１も、優れた反射防止効果を有しつつ、同時に高い帯電防止効果を有している。この場合、３層の透明導電膜は、それぞれ同じ薄膜材料で形成されていてもよいし、異なる薄膜材料で形成されていてもよい。また、図６において、透明導電膜６４と透明導電膜６６の薄膜材料を入れ替えてもよい。

【0061】

（実施例４）
図７は、実施例４に係る反射防止膜７１の膜構成を示す概略図である。以下では、実施例１との違いについて説明する。

【0062】

実施例４に係る反射防止膜７１は、図７に示すように、透明基板であるレンズ７０の直上に成膜された、透明導電膜７４であるＩＴＯ膜を有している。反射防止膜７１はさらに、透明導電膜７４の直上に、透明導電膜７４よりも小さい領域に形成された、低屈折率膜７３であるＳｉＯ_２膜と高屈折率膜７２であるＴｉＯ_２との交互積層構造を有している。このように、透明導電膜７４の一部は交互積層構造から露出している。反射防止膜７１の最表層には、透明硬質膜７５であるＳｉ_３Ｎ_４膜が配置されており、透明硬質膜７５の手前の層には低屈折率膜７３であるＳｉＯ_２が配置されている。このように、最表層の透明硬質膜７５に隣接するように低屈折率膜７３を配置することで、このＳｉＯ_２膜と、隣接し比較的屈折率が高いＴｉＯ_２膜及びＳｉ_３Ｎ_４膜のそれぞれと、の間の屈折率差を大きくすることができ、反射率などの光学特性を向上させることが容易になる。

【0063】

レンズ７０、高屈折率膜７２、低屈折率膜７３、及び透明硬質膜７５の特性及び製法は実施例１と同様である。実施例４において、透明硬質膜７５は１５０Åの膜厚とした。

【0064】

透明導電膜７４であるＩＴＯ膜は、所定の比率で混合されたＩｎ－Ｓｎ合金の酸化物ターゲットを用い、これを加熱しながら所定の組成となるようにＯ_２ガスを流しながらスパッタすることで形成した。

【0065】

以上のように形成された反射防止膜７１は、図１に示す反射特性と略等しい分光反射率を得ることができた。また、反射防止膜７１を構成する他の積層膜に対して、高い帯電防止効果を有する透明導電膜７４を、面積が大きく、外気に晒されるように配置したことにより、反射防止膜７１の表面抵抗率は１０^８Ω／□以下となった。このように、実施例４で作製された反射防止膜７１は、優れた反射防止効果を有しつつも、同時に高い帯電防止効果を有している。また、透明導電膜７４にアース線などを取り付けて接地することで、静電気の発生をさらに抑制することができ、さらなる帯電防止効果を得ることができる。実施例４によれば、外気に直接触れる最表層に透明硬質膜７５を設けた効果と合わせて、紫外線及び放射線などによる耐擦傷性の劣化が少なくなり、パーティクルの付着も低減できることから、優れた耐擦傷性を長期間維持することができる。このような実施例４に係る反射防止膜７１は、宇宙空間又は月面環境下での使用にも適している。

【0066】

（実施例５）
図８は、実施例５に係る反射防止膜８１の膜構成を示す概略図である。以下では、実施例４との違いについて説明する。

【0067】

実施例５に係る反射防止膜８１は、図８に示すように、透明基板であるレンズ８０の直上に成膜された、透明導電膜８４であるＩＴＯ膜を有している。反射防止膜８１はさらに、透明導電膜８４の直上に、透明導電膜８４よりも小さい領域に形成された、低屈折率膜８３であるＳｉＯ_２膜と高屈折率膜８２であるＴｉＯ_２との交互積層構造を有している。反射防止膜８１の最表層には、透明硬質膜８５であるＳｉ_３Ｎ_４膜が配置されている。そして、透明硬質膜８５の手前の層として低屈折率膜８３であるＳｉＯ_２膜が配置され、さらにその手前の層として透明導電膜８６であり帯電防止効果を有するＴＮＯ膜が配置されている。このように、最表層の透明硬質膜８５に隣接するように低屈折率膜８３を配置することで、このＳｉＯ_２膜と、隣接し比較的屈折率が高いＴＮＯ膜及びＳｉ_３Ｎ_４膜のそれぞれと、の間の屈折率差を大きくすることができ、反射率などの光学特性を向上させることが容易になる。

【0068】

レンズ８０、高屈折率膜８２、低屈折率膜８３、透明導電膜８４、及び透明硬質膜８５の特性及び製法は実施例４と同様である。また、透明導電膜８６の特性及び製法は実施例１と同様である。実施例３において、透明硬質膜８５は１５０Å以上の膜厚とした。

【0069】

以上のように形成された反射防止膜８１は、図１に示す反射特性と略等しい分光反射率を得ることができた。また、反射防止膜８１を構成する他の積層膜に対して、高い帯電防止効果を有する透明導電膜８４を、面積が大きく、外気に晒されるように配置し、さらには帯電防止効果を得やすいように最表層から２層手前の位置に透明導電膜８６を配置したことにより、反射防止膜８１の表面抵抗率は１０^８Ω／□以下となった。このように、実施例５で作製された反射防止膜８１は、優れた反射防止効果を有しつつも、同時に高い帯電防止効果を有している。実施例５によれば、外気に直接触れる最表層に透明硬質膜８５を設けた効果と合わせて、紫外線及び放射線などによる耐擦傷性の劣化が少なくなり、パーティクルの付着も低減できることから、優れた耐擦傷性を長期間維持することができる。このような実施例５に係る反射防止膜８１は、宇宙空間又は月面環境下での使用にも適している。

【0070】

（実施例６）
図９は、実施例６に係る反射防止膜９１の膜構成を示す概略図である。以下では、実施例４との違いについて説明する。

【0071】

実施例６に係る反射防止膜９１は、図９に示すように、透明基板であるレンズ９０の直上に成膜された、透明導電膜９４であるＩＴＯ膜を有している。反射防止膜９１はさらに、透明導電膜９４の直上に、透明導電膜９４よりも小さい領域に形成された、低屈折率膜９３であるＳｉＯ_２膜と高屈折率膜９２であるＴｉＯ_２との交互積層構造を有している。反射防止膜９１の最表層には、透明硬質膜９５であるＳｉ_３Ｎ_４膜が配置されている。そして、透明硬質膜９５の手前の層として透明導電膜９６であり帯電防止効果を有するＴＮＯ膜が配置されている。このように、最表層の透明硬質膜９５に隣接するように透明導電膜９６を設けることにより、より高い帯電防止効果を得ることができる。

【0072】

レンズ９０、高屈折率膜９２、低屈折率膜９３、透明導電膜９４、及び透明硬質膜９５の特性及び製法は実施例５と同様である。また、透明導電膜９６の特性及び製法は実施例１と同様である。実施例６において、透明硬質膜９５は１５０Å以上の膜厚とした。

【0073】

以上のように形成された反射防止膜９１は、図１に示す反射特性と略等しい分光反射率を得ることができた。また、反射防止膜９１を構成する他の積層膜に対して、高い帯電防止効果を有する透明導電膜９４を、面積が大きく、外気に晒されるように配置し、さらには帯電防止効果を得やすいように最表層の手前の位置に透明導電膜９６を配置したことにより、反射防止膜９１の表面抵抗率は１０^８Ω／□以下となった。このように、実施例６で作製された反射防止膜９１は、優れた反射防止効果を有しつつも、同時に高い帯電防止効果を有している。実施例６によれば、外気に直接触れる最表層に透明硬質膜９５を設けた効果と合わせて、紫外線及び放射線などによる耐擦傷性の劣化が少なくなり、パーティクルの付着も低減できることから、優れた耐擦傷性を長期間維持することができる。このような実施例６に係る反射防止膜９１は、宇宙空間又は月面環境下での使用にも適している。

【0074】

さらには、図１０で示すように、反射防止膜が３層以上の透明導電膜を有していてもよい。図１０に示す反射防止膜１０１は、実施例６と同様に、透明基板１００上に透明導電膜１０４及び低屈折率膜１０３と高屈折率膜１０２との積層構造を有する他、実施例３と同様に、２層の透明導電膜１０６、及び透明硬質膜１０５を有しており、すなわち３層の透明導電膜を有している。このような構成を有する反射防止膜１０１も、優れた反射防止効果を有しつつ、同時に高い帯電防止効果を有している。この場合、３層の透明導電膜は、それぞれ同じ薄膜材料で形成されていてもよいし、異なる薄膜材料で形成されていてもよい。また、図１０において、透明導電膜１０４と透明導電膜１０６の薄膜材料を入れ替えてもよい。

【0075】

（実施例７）
以上のように実施例１～６で作製された、反射防止膜２１，３１，４１，７１，８１，９１が形成されたレンズ２０，３０，４０，７０，８０，９０を、鏡筒内に配置することで、図５に示すようなレンズモジュール５４を作製した。前述のように、少なくともレンズ５０ａの外気に晒される側の面には、実施例１～６のような、透明硬質膜を最表層に備え、帯電防止機能を有する反射防止膜５６を形成した。

【0076】

また、レンズ５０ａの反対面側にも反射防止膜を形成したが、この反対面は直接的には外気に晒されないため、反射防止膜の最表層には必ずしも透明硬質膜を配置する必要がない。このため、レンズ５０ａの反対面側には、光学的な性能を向上させやすい、最表層に低屈折率膜が配置された反射防止膜５７を形成した。一方で、帯電防止機能を重視して、レンズ５０ａの反対面側に形成した反射防止膜５７には、透明導電膜を配置した。より具体的には、反射防止膜５７は、高屈折率膜であるＴｉＯ_２膜と低屈折率膜であるＳｉＯ_２膜の交互層を基本構成として有し、最表層に低屈折率膜としてＳｉＯ_２膜を配置し、最表層の手前の層に透明導電膜としてＴＮＯ膜を配置した。ＴＮＯ膜は屈折率が高いことから、ＴｉＯ_２膜のような高屈折率膜の一部又は全部の代わりにＴＮＯ膜を用いてもよい。また、反射防止膜５７が、実施例４～６と同様に、透明基板の直上に設けられた透明導電膜を有していてもよい。

【0077】

同様に、レンズ５０ｂ～５０ｅは直接的には外気には晒されないため、高度な耐擦傷性能及び帯電防止機能の必要性は低い。このため、光学特性を最重視した反射防止膜５８を、透明基板であるレンズ５０ｂ～５０ｅの表裏の２つの面に形成した。より具体的には、反射防止膜５８は、高屈折率膜であるＴｉＯ_２膜と低屈折率であるＳｉＯ_２膜との交互層を有し、最表層には低屈折率膜であるＳｉＯ_２膜を配置した。これらの反射防止膜５７及び５８も、実施例１と同様の成膜プロセスに従って作製できる。

【0078】

さらに、このようなレンズモジュール５４に撮像素子５１及びＩＲカットフィルタ５２を追加することでカメラモジュール５５を作製した。このようなレンズモジュール５４及びカメラモジュール５５においては、外気に晒される透明基板の表面に帯電防止機能を有し耐擦傷性に優れた反射防止膜が形成されている。このため、レンズモジュール５４及びカメラモジュール５５も長期にわたる優れた耐擦傷性を発揮することができる。

【0079】

さらに、レンズ５０ａの外気に晒される側の面に作製した反射防止膜５６において、実施例４～６のように、透明導電膜の表面の一部が多層膜の隣接する層を越えて拡がっている実施例においては、この部分を接地した。具体的には、透明導電膜の外気に晒されている部分と、鏡筒のようなレンズモジュール５４又はカメラモジュール５５の筐体部分とを電気的に接続した。このように構成により、反射防止膜５６の膜面上に電荷が溜まるのをさらに抑制することができた。

【0080】

発明は上記実施形態に制限されるものではなく、発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、発明の範囲を公にするために請求項を添付する。

【符号の説明】

【0081】

２０，３０，４０，６０，７０，８０，９０，１００：レンズ
２１，３１，４１，６１，７１，８１，９１，１０１：反射防止膜
２２，３２，４２，６２，７２，８２，９２，１０２：高屈折率膜
２３，３３，４３，６３，７３，８３，９３，１０３：低屈折率膜
２４，３４，４４，６４，７４，８４，９４，１０４：透明導電膜
２５，３５，４５，６５，７５，８５，９５，１０５：透明硬質膜
６６，８６，９６，１０６：透明導電膜
５０ａ～５０ｅ：レンズ、５１：撮像素子、５２：ＩＲカットフィルタ、５３：絞り、５４：レンズモジュール、５５：カメラモジュール、５６～５８：反射防止膜

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】