特開2023-166007反射型マスクブランク、反射型マスク及びその製造方法、並びに半導体装置の製造方法

発明の名称　反射型マスクブランク、反射型マスク及びその製造方法、並びに半導体装置の製造方法

出願人　ＨＯＹＡ株式会社　（識別番号 113263）

　　　　特許公開件数ランキング 494 位（57件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 296 位（90件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2023-166007

公報発行日　2023年11月17

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2023-166007

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