特開 2023-166670 塗布装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023166670

(43)【公開日】2023-11-22

(54)【発明の名称】塗布装置

(51)【国際特許分類】

   B05C 11/00 20060101AFI20231115BHJP

   B05C 11/10 20060101ALI20231115BHJP

   B05C 5/00 20060101ALI20231115BHJP

【ＦＩ】

B05C11/00

B05C11/10

B05C5/00 101

【審査請求】未請求

【請求項の数】5

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022077317

(22)【出願日】2022-05-10

(71)【出願人】

【識別番号】000219314

【氏名又は名称】東レエンジニアリング株式会社

(72)【発明者】

【氏名】濱川 健史

(72)【発明者】

【氏名】鈴木 暁雄

【テーマコード（参考）】

4F041

4F042

【Ｆターム（参考）】

4F041AB01

4F041BA05

4F041BA12

4F041BA23

4F041BA34

4F041BA60

4F042AB00

4F042BA08

4F042BA25

4F042CC02

4F042CC08

4F042DF05

4F042DF09

4F042DF29

4F042DF34

(57)【要約】

【課題】塗布動作のタクトタイムを短縮させることができる塗布装置を提供する。
【解決手段】基板を載置するステージと、前記ステージの表面に載置された前記基板に対し相対的に一方向に移動しつつ塗布液を吐出することにより前記基板上に塗布膜を形成する塗布ユニットと、を備える塗布装置であって、前記塗布ユニットは、塗布液を吐出する塗布器と、この塗布器を支持する支持ユニットを有しており、前記支持ユニットは、塗布方向と直交する幅方向一方側に配置される支柱部と、前記支柱部から前記ステージを横切るように延びるビーム部とを有しており、前記塗布器は、前記ビーム部に取り付けられることにより、前記支持ユニットに片持ち梁構造で支持されている構成とする。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板を載置するステージと、
前記ステージの表面に載置された前記基板に対し一方向に移動しつつ塗布液を吐出することにより前記基板上に塗布膜を形成する塗布ユニットと、
を備える塗布装置であって、
前記塗布ユニットは、塗布液を吐出する塗布器と、この塗布器を支持する支持ユニットを有しており、
前記支持ユニットは、塗布方向と直交する幅方向一方側に配置される支柱部と、前記支柱部から前記ステージを横切るように延びるビーム部とを有しており、
前記塗布器は、前記ビーム部に取り付けられることにより、前記支持ユニットに片持ち梁構造で支持されていることを特徴とする塗布装置。

【請求項2】

前記支柱部は、塗布方向と直交する幅方向寸法が前記塗布器の幅方向寸法より大きい寸法で形成されていることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。

【請求項3】

前記支持ユニットは、前記支持ユニットが塗布方向に走行するための複数のガイド部材上に搭載されており、前記ガイド部材の少なくとも１つは、前記支柱部よりも前記ステージに近接して設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載の塗布装置。

【請求項4】

前記支持ユニットは、その重心位置が前記支柱部の重心位置に比べて、幅方向両端に位置する前記ガイド部材間の中央に位置するように、前記支柱部が、前記幅方向両端に位置する前記ガイド部材間の中央に対して偏心させて設けられていることを特徴とする請求項３に記載の塗布装置。

【請求項5】

前記支持ユニットを塗布方向に走行させる駆動部は、磁気吸引機構を有するリニアモータで形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の塗布装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、塗布液を吐出する塗布ユニットと基板とを相対的に移動させて、基板上に塗布膜を形成する塗布装置に関するものである。

【背景技術】

【0002】

液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイには、ガラスからなる基板上にレジスト液等の塗布液が塗布されたもの（塗布基板という）が使用されている。この塗布基板は、塗布液を均一に塗布する塗布装置によって形成されている。この塗布装置は、図５に示すように、基板Ｗを載置するステージ１００と、塗布液を吐出する塗布ユニット１０１とを有しており、塗布ユニット１０１の塗布器１０２から塗布液を吐出させながら、基板Ｗと塗布ユニット１０１とを相対的に一方向に移動させることにより、均一厚さの塗布膜が形成された基板Ｗが形成されるようになっている。

【0003】

この塗布装置の塗布ユニット１０１は、塗布液が吐出される塗布器１０２と、塗布器１０２を支持する支持ユニット１０３を有している。支持ユニット１０３は、いわゆるガントリと呼ばれる門型形状に形成されており、ステージ１００における塗布方向と直交する幅方向の両側に支柱部１０３ａと、これら両支柱部１０３ａに掛け渡される棒状のビーム部１０３ｂとを有しており、このビーム部１０３ｂに塗布器１０２が取り付けられている。そして、支柱部１０３ａには駆動装置１０４が設けられており、支持ユニット１０３全体がステージ１００に対して移動するように形成されている。すなわち、両側に配置される支柱部１０３ａを設けることにより剛性の高い支持ユニット１０３で塗布器１０２を支持させることにより、塗布ユニット１０１が移動することによる塗布器１０２への振動等の影響が抑えられ、均一厚さの塗布膜が形成されるようになっている。

【0004】

また、塗布装置には、ステージ１００の幅方向一方側にロボットハンド１０５が配置されており、このロボットハンド１０５により基板Ｗがステージ１００上に搬入される。このとき、塗布ユニット１０１は、塗布器１０２がステージ１００の塗布方向端部に設けられたメンテナンス装置１０６上に配置される位置で停止している。搬入された基板Ｗはリフトピン１０７で支持されており、リフトピン１０７が下降することによりステージ１００上に基板Ｗが載置され吸着保持される。そして、塗布ユニット１０１が移動し、塗布器１０２が基板Ｗの塗布方向端部に位置した状態で停止する。そして、塗布器１０２から塗布液が吐出され、塗布器１０２と基板Ｗとが塗布液で連結されることによりビードが形成されると、ビードが形成された状態を保ちつつ、塗布ユニット１０１が移動することにより、基板Ｗ上に均一厚さの塗布膜が形成される。そして、塗布ユニット１０１が他方側に移動し、ステージ１００上の基板Ｗがリフトピン１０７で持ち上げられた状態でロボットハンド１０５が侵入することにより、リフトピン１０７からロボットハンド１０５に基板Ｗの受け渡しが行われ、基板Ｗが排出される（例えば、下記特許文献１参照）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開２０１０－０９３１２５号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

しかし、上記塗布装置では、塗布動作のタクトタイムを削減することが難しいという問題があった。すなわち、上記塗布装置では、塗布動作が開始されると、塗布ユニット１０１が塗布方向一方側端部の塗布開始位置から他方側端部の塗布終了位置まで移動し、基板Ｗ上に塗布膜が形成される。タクトタイムを削減するには、基板Ｗ上に塗布膜が形成された後、すぐにロボットハンド１０５を進入させて基板Ｗを排出したいが、塗布ユニット１０１がメンテナンス装置１０６へ移動する間、支持ユニット１０３の支柱部１０３ａが存在することにより、ロボットハンド１０５がステージ１００上に進入することができない。一方、塗布膜が形成された後、塗布ユニット１０１をそのまま通過させて、その位置で待機させている間、ロボットハンド１０５を進入させて基板Ｗを排出させることも考えられるが、その後、塗布ユニット１０１をメンテナンス装置１０６に移動させて初期化する必要があり、いずれにせよ、塗布ユニット１０１がメンテナンス装置１０６に移動するまでの間、待機が必要になることから、全体としてタクトタイムの短縮には繋がらないという問題があった。近年では、基板Ｗが塗布方向に長尺形状に形成されたものもあり、待機時間が長くなりタクトタイムへの影響が大きくなっていた。

【0007】

本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、塗布動作のタクトタイムを短縮させることができる塗布装置を提供することを目的としている。

【課題を解決するための手段】

【0008】

上記課題を解決するために本発明の塗布装置は、基板を載置するステージと、前記ステージの表面に載置された前記基板に対し相対的に一方向に移動しつつ塗布液を吐出することにより前記基板上に塗布膜を形成する塗布ユニットと、を備える塗布装置であって、前記塗布ユニットは、塗布液を吐出する塗布器と、この塗布器を支持する支持ユニットを有しており、前記支持ユニットは、塗布方向と直交する幅方向一方側に配置される支柱部と、前記支柱部から前記ステージを横切るように延びるビーム部とを有しており、前記塗布器は、前記ビーム部に取り付けられることにより、前記支持ユニットに片持ち梁構造で支持されていることを特徴としている。

【0009】

上記塗布装置によれば、塗布液を吐出する塗布器が、幅方向一方側に配置される支持ユニットの支持部により片持ち梁構造で支持されているため、塗布膜が形成された後、すぐに基板を排出する動作を開始することにより、塗布動作のタクトタイムを短縮することができる。すなわち、塗布器が幅方向一方側に配置される支持部により支持されているため、幅方向他方側には支持部が存在していない。そのため、支持部が配置される側と反対側にロボットハンドを配置することにより、ロボットハンドの進入を阻害する支持部が存在しておらず、基板上に塗布膜が形成された後、塗布ユニットの位置にかかわらずロボットハンドを進入させて基板を排出することができる。これにより、塗布ユニットがメンテナンス装置の位置に移動するまでロボットハンドが待機する必要があった従来技術に比べて、ロボットハンドが任意のタイミングで進入することができ、塗布動作のタクトタイムを短縮することができる。

【0010】

また、前記支柱部は、塗布方向と直交する幅方向寸法が前記塗布器の幅方向寸法より大きい寸法で形成されている構成にしてもよい。

【0011】

この構成によれば、支柱部の剛性を十分に高めることができるため、塗布器を片持ち梁構造で支持した場合でも剛性不足から生じる塗布器の鉛直方向に変位する振動が抑えられ、形成された塗布膜に振動が起因する塗布ムラの発生を抑えることができる。

【0012】

また、前記支持ユニットは、前記支持ユニットが塗布方向に走行するための複数のガイド部材上に搭載されており、前記ガイド部材の少なくとも１つは、前記支柱部よりも前記ステージに近接して設けられている構成としてもよい。

【0013】

この構成によれば、支持ユニットが複数のガイド部材上に搭載されているため、１つのガイド部材上に搭載される場合に比べて剛性が高くなる。また、複数のガイド部材の少なくとも１つは、支柱部が設けられる領域よりもステージに側に近接して設けられているため、塗布器が塗布方向を中心軸とするモーメントを低減することができ、塗布器が鉛直方向に変位する振動を抑え、塗布ムラが発生するのを抑えることができる。

【0014】

また、前記支持ユニットは、その重心位置が前記支柱部の重心位置に比べて、幅方向両端に位置する前記ガイド部材間の中央に位置するように、前記支柱部が、前記幅方向両端に位置する前記ガイド部材間の中央に対して偏心させて設けられている構成にしてもよい。

【0015】

この構成によれば、支持ユニットを支持するためのそれぞれのガイド部材に生じる反力、及び、反力の偏りについて、支柱部の重心がガイド部材間の中央に位置する場合に比べて低減させることができる。支持ユニット全体の剛性を高めることができ、支持ユニット全体の塗布方向回りのモーメントに対する強度についても向上させることができる。

【0016】

また、前記支持ユニットを塗布方向に走行させる駆動部は、磁気吸引機構を有するリニアモータで形成されている構成にしてもよい。

【0017】

この構成によれば、リニアモータの磁気吸引機構により支持ユニットが駆動部側に磁力により吸引されるため、塗布器が鉛直方向（駆動部から離れる方向）に変位する振動の発生を抑えることができる。

【発明の効果】

【0018】

本発明の塗布装置によれば、塗布動作のタクトタイムを短縮することができる。

【図面の簡単な説明】

【0019】

【図1】本発明の一実施形態における塗布装置の正面図である。

【図2】上記塗布装置における側面図である。

【図3】上記塗布装置における塗布ユニットの拡大図である。

【図4】塗布装置の処理動作を示す図であり、（ａ）はステージに基板が搬入される前の状態を示す図、（ｂ）はロボットハンドが進入しステージ上に基板が搬入された状態を示す図、（ｃ）は塗布動作において塗布器が塗布高さに下降した状態を示す図、（ｄ）塗布膜が形成後、ロボットハンドに基板の受け渡しが行われた状態を示す図、（ｅ）基板がステージから搬出された状態を示す図である。

【図5】従来の塗布装置を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0020】

図１、図２は、本発明の一実施形態における塗布装置の外観を概略的に示す図であり、図１は、正面図、図２は、側面図である。

【0021】

塗布装置１は、基板Ｗ上に薬液やレジスト液等の液状物（以下、塗布液と称す）の塗布膜Ｍを形成するものであり、基台２と、基板Ｗを載置するためのステージ２１と、このステージ２１に対し特定方向に移動可能に構成される塗布ユニット３０とを備えている。そして、ロボットハンド９により、ステージ２１に基板Ｗが供給されると、塗布ユニット３０から基板Ｗ上に塗布液が吐出され、塗布液が吐出された状態で塗布ユニット３０が移動することにより、基板Ｗ上に均一厚さの塗布膜が形成される。

【0022】

なお、以下の説明では、この塗布ユニット３０が移動する方向（塗布方向）をＸ軸方向、これと水平面上で直交する方向（幅方向）をＹ軸方向、Ｘ軸およびＹ軸方向の双方に直交する方向をＺ軸方向として説明を進めることとする。

【0023】

本実施形態における基板Ｗは、幅方向寸法が５０～１００ｍｍであり、塗布方向寸法が１５００～１８００ｍｍの長尺形状の基板Ｗである。すなわち、塗布方向寸法が幅方向寸法の２倍以上の基板であり、この基板Ｗは、例えば、ガラス、フィルム等で形成されており、可撓性を有している。

【0024】

基台２は、平板形状に形成されており、この基台２上にステージ２１、塗布ユニット３０、メンテナンス装置８（図２参照）が載置された状態で設けられている。すなわち、ステージ２１とメンテナンス装置８がＸ軸方向に並べて配置されており、このステージ２１からＹ軸方向に離れた位置に塗布ユニット３０がＸ軸方向に走行可能に設けられている。すなわち、塗布ユニット３０は、ステージ２１とメンテナンス装置８とに走行可能に構成されている。

【0025】

ステージ２１は、基板Ｗを載置して保持するものである。ステージ２１は、直方体形状に形成されており、基板Ｗを載置させる載置面２１ａ（ステージ２１の表面）がほぼ平坦状に形成されている。具体的には、Ｘ軸方向に延びる形状を有しており、載置面２１ａに基板Ｗが載置されると、長尺状の基板Ｗが載置面２１ａの沿う平坦な姿勢で保持できるように形成されている。

【0026】

ステージ２１には、供給された基板Ｗを昇降動作させる基板昇降機構が設けられている。具体的には、ステージ２１の載置面２１ａには複数のピン孔が形成されており、このピン孔にはＺ軸方向に昇降動作可能なリフトピン２５（図４参照）が埋設されている。すなわち、ステージ２１の表面からリフトピン２５を突出させた状態（図４（ｂ）参照）で基板Ｗが搬入されるとリフトピン２５の先端部分が基板Ｗに当接して基板Ｗを保持することができる。そして、その状態からリフトピン２５を下降させてピン孔に収容させることにより、基板Ｗをステージ２１の載置面２１ａに載置することができるようになっている（図４（ｃ））。

【0027】

また、このステージ２１には、基板保持手段が設けられており、この基板保持手段により基板Ｗが保持されるようになっている。基板保持手段は、基板Ｗを吸着して保持するものである。具体的には、基板保持手段は、ステージ２１の載置面２１ａに形成される吸引溝と吸引孔とを有しており、この吸引溝及び吸引孔により吸引力を発生させて基板Ｗを載置面２１ａに保持できるようになっている。すなわち、ステージ２１の載置面２１ａには、所定の深さで形成される吸引溝がＸ軸方向及びＹ軸方向にほぼ等間隔で並んで配置されており、それぞれが互いに交差するように格子状に配置されている。また、吸引溝が交差する部分には、吸引孔が設けられており、この吸引孔と真空ポンプが配管を通じて連結されている。そして、真空ポンプを作動させることにより、吸引孔に吸引力が発生し、吸引溝を通じて載置面２１ａ全体に亘って吸引力が発生するようになっている。

【0028】

塗布ユニット３０は、基板Ｗ上に塗布液を吐出することにより塗布膜Ｍを形成するものである。塗布ユニット３０は、塗布液を吐出する塗布器３１と、塗布器３１を支持する支持ユニット４０を有している。そして、塗布ユニット３０は、塗布器３１が支持された状態でＸ軸方向に移動するように形成されている。すなわち、塗布器３１がステージ２１上に載置された基板Ｗと対向した状態で塗布器３１から塗布液を吐出しつつ、移動することにより基板Ｗ上に均一厚さの塗布膜Ｍが形成されるようになっている。

【0029】

塗布器３１は、塗布液を吐出して基板Ｗ上に塗布膜Ｍを形成するものである。この塗布器３１は、一方向に延びる形状を有する柱状部材であり、塗布ユニット３０の走行方向（Ｘ軸方向）とほぼ直交するＹ軸方向（幅方向）に延びるように設けられている。この塗布器３１には、ステージ２１と対向する面に長手方向に延びるスリットノズル３１ａが形成されており、塗布器３１に供給された塗布液がスリットノズル３１ａから長手方向に亘って一様に吐出されるようになっている。したがって、このスリットノズル３１ａから塗布液を吐出させた状態で塗布ユニット３０をＸ軸方向に走行させることにより、スリットノズル３１ａの長手方向に亘って基板Ｗ上に一定厚さの塗布膜Ｍ（図２参照）が形成されるようになっている。

【0030】

支持ユニット４０は、塗布器３１の姿勢を保ちつつ、塗布器３１を支持するためのものである。支持ユニット４０は、支柱部４１と、この支柱部４１から水平方向に延伸されるビーム部４２とを有している。

【0031】

支柱部４１は、一方向に延びる柱状部材であり、ステージ２１から離れた位置に設けられている。具体的には、支柱部４１は、ステージ２１から塗布方向と直交する幅方向（Ｙ軸方向）一方側に離れて配置されており、基台２上に鉛直方向に延びるように設けられている。本実施形態では、基台２上に平板状のベース４３が設けられており、支柱部４１は、ベース４３上に直立して設けられている。

【0032】

ビーム部４２は、棒状部材であり塗布器３１を支持するものである。ビーム部４２は、支柱部４１によりＹ軸方向に延びる姿勢で支持されており、ステージ２１を横切る長さに形成されている。すなわち、ビーム部４２は、支柱部４１により片持ち梁構造により支持されている。そして、ビーム部４２には塗布器３１が取り付けられており、塗布器３１のスリットノズル３１ａがステージ２１の載置面２１ａに向く姿勢で支持されている。

【0033】

また、ビーム部４２は、支柱部４１に支持された状態で昇降動作するように構成されている。具体的には、この支柱部４１にはＺ軸方向に延びるレール４４と、このレール４４に沿ってスライド４５するスライダ４５が設けられており、これらのスライダ４５とビーム部４２とが連結されている。そして、スライダ４５にはサーボモータにより駆動されるボールねじ機構が取り付けられており、このサーボモータを駆動制御することにより、スライダがＺ軸方向に移動するとともに、任意の位置で停止できるようになっている。すなわち、ビーム部４２が昇降動作することにより、塗布器３１が、ステージ２１に保持された基板Ｗに対して接離可能に支持されている。

【0034】

また、支柱部４１は、幅方向寸法Ｓが塗布器３１の幅方向寸法Ｔより大きい寸法で形成されている。本実施形態では、図３に示すように、支柱部４１の幅方向寸法Ｓは、塗布器３１の幅方向寸法Ｔの２倍以上大きい寸法で形成されている。これにより、塗布器３１及びビーム部４２は、片持ち梁構造であっても十分な強度で支持することができるようになっている。この支柱部４１の幅方向寸法Ｓは、支柱部４１の幅方向における最大寸法値であり、塗布器３１の幅方向寸法Ｔは、塗布器３１単体の長手方向における最大寸法値である。

【0035】

また、支柱部４１が載置されるベース４３には、駆動部５が設けられている。この駆動部５により支持ユニット４０がＸ軸方向に移動できるようになっている。具体的には、基台２上には、Ｘ軸方向に延びる２本のレール５１（本発明のガイド部材）が設けられており、ベース４３がスライダ５２を介してレール５１にスライド自在に取り付けられている。そして、基台２にはリニアモータ５５が取り付けられている。本実施形態では、ベース４３の幅方向中央位置に取り付けられており、リニアモータ５５を駆動制御することにより、ベース４３に取り付けられた支柱部４１、ひいては塗布ユニット３０がレール５１に沿ってＸ軸方向に移動し、任意の位置で停止できるようになっている。本実施形態では、塗布器３１がステージ２１とメンテナンス装置８のそれぞれの位置に停止することができ、塗布器３１がステージ２１と対向する姿勢でステージ２１上を移動できるようになっている。

【0036】

また、本実施形態では、レール５１は、支柱部４１の幅方向寸法よりも大きい寸法を有するように設けられている。図３に示す例では、ベース４３は、ステージ２１側に張り出す延長部４３ａを有しており、２本のレール５１のうち１本が延長部４３ａ直下に設けられている。そして、レール５１は、ベース４３の幅方向両端部に設けられており、支柱部４３は、２本のレール５１の中央位置から外側（塗布器３１と反対側）に所定量偏心させた位置に配置されている。すなわち、支持ユニット４０全体の重心位置Ｇｓが、支柱部４１の重心位置Ｇ２に比べて、２本のレール５１の中央に近い位置に位置するように支柱部４１を偏心させて配置させている。すなわち、支持ユニット４０の重心位置Ｇｓは、ビーム部４２の重心Ｇ１と支柱部４１の重心Ｇ２から、図３におけるＧｓの位置に存在しており、この重心位置Ｇｓは、支柱部４１の重心Ｇ２に比べて、２本のレール５１の中央付近に位置している。これにより、支持ユニット４０を支持するためのそれぞれのレール５１に生じる反力、及び、反力の偏りが、支柱部４１の重心Ｇ２が２本のレール５１を支柱部４１直下に配置させる場合に比べて低減させることができる。したがって支持ユニット４０全体の剛性を高めることができ、支持ユニット４０全体の塗布方向（Ｘ軸方向）回りのモーメントに対する強度についても向上させることができる。これにより、塗布器３１が片持ち梁構造で支持する構成であっても、剛性不足から塗布器３１が鉛直方向（Ｚ軸方向）に振動することを回避し、強固に支持することができ、塗布器が鉛直方向に変位する振動を抑え、塗布ムラが発生するのを抑えることができる。

【0037】

また、本実施形態では、駆動部５のリニアモータ５５として、磁気吸引機構を有するリニアモータ５５が使用されている。すなわち、コアレスタイプのリニアモータでは、上下の固定子の間に可動子が磁気的に保持されている。そのため、可動子が固定子の間で磁気的に非接触で支持されるため、微小な隙間により支柱部４１がＺ方向に変位することが許容され、塗布器３１が振動する要因となる。本実施形態では、磁気吸引機構を有するコア付きタイプのリニアモータ５５が使用されることにより塗布器３１の振動を抑えることができる。具体的には、リニアモータ５５の可動子５５ａが支柱部４１に取り付けられており、ベース４３に固定子５５ｂが取り付けられていることにより、可動子５５ａと固定子５５ｂとが磁気的に吸引されつつ、リニアモータ５５の駆動力が発生する。そのため、支柱部４１がベース４３から離れるような変位が発生しにくくなり、支柱部４１とベース４３との位置関係がほぼガタツキなく一定に保たれる。これにより、支柱部４１が僅かにＺ方向に変位することを回避できるため、塗布器３１が鉛直方向（Ｚ軸方向）に振動することを極力抑えることができるようになっている。このように、塗布器３１が片持ち梁構造で支持されていても、剛性不足、ガタツキ等から塗布器３１が鉛直方向（Ｚ軸方向）に振動することを回避して、塗布器３１が振動することによる塗布ムラが発生するのを抑えることができる。

【0038】

また、ステージ２１のＸ軸方向に離れた位置には、メンテナンス装置８が配置されている。メンテナンス装置８は、塗布器３１を清掃、初期化するものである。すなわち、所定量の塗布液を吐出した後、拭き取り部材で塗布器３１のスリットノズル３１ａが拭き取られることにより、塗布器３１内の塗布液がスリットノズル３１ａの先端部分にまで長手方向に渡って均一に充填されている状態が形成される。これにより、スリットノズル３１ａの清掃と、次の塗布膜Ｍを形成するための初期化が行われる。

【0039】

次に、この塗布装置１の処理動作について、図２、及び、図４（ａ）～図４（ｅ）を参照しながら説明する。

【0040】

まず、塗布器３１の初期化と、基板Ｗの搬入が行われる。具体的には、図２に示すように、塗布ユニット３０がメンテナンス装置８上に塗布器３１が位置するように移動し、この位置において塗布器３１が初期化される。すなわち、塗布器３１のスリットノズル３１ａから所定量の塗布液が吐出され、拭き取り部材でスリットノズル３１ａに付着した余分な塗布液が拭き取られることにより、スリットノズル３１ａの先端部分にまで塗布液が充填された状態が形成される。

【0041】

次に、ステージ２１上に基板Ｗが搬入される。具体的には、図４（ａ）に示すように、塗布装置１の支柱部４１と反対側に配置されたロボットハンド９に基板Ｗが載置されると、ステージ２１に設けられたリフトピン２５が上昇した状態で待機する。そして、ロボットハンド９がステージ２１上に進入し、下降することにより、ロボットハンド９からリフトピン２５に基板Ｗの受け渡しが行われる（図４（ｂ））。基板Ｗの受け渡しが行われると、ロボットハンド９は、元の位置に退避する。そして、リフトピン２５が下降することにより、基板Ｗがステージ２１の載置面２１ａに載置され、図示しない位置決め部材により基板Ｗの位置決めが行われる。その後、基板保持手段により、基板Ｗがステージ２１上に位置決めされた状態で吸着保持される。

【0042】

次に、塗布処理が行われる。具体的には、塗布器３１が基板Ｗの塗布開始位置に位置するように塗布ユニット３０が移動し、塗布器３１が基板Ｗとの高さが塗布膜Ｍの形成に適切な高さ位置となるまで下降し（図４（ｃ））、スリットノズル３１ａから塗布液が吐出されることにより、スリットノズル３１ａと基板Ｗとの間にビードＢが形成される。この状態で塗布ユニット３０がＸ軸方向（塗布方向）に移動することにより基板Ｗ上に塗布膜Ｍが形成される。そして、図２の破線で示すように、塗布器３１が基板Ｗの終端部に位置する状態で、ビードＢの液切り処理が行われ、その後、塗布器３１が上昇することにより、塗布処理が完了する。

【0043】

次に、塗布器３１の初期化と共に基板Ｗの搬出が行われる。具体的には、塗布処理が完了した塗布ユニット３０は、初期化を行うために塗布器３１がメンテナンス装置８に位置するように移動する。一方、塗布ユニット３０が移動開始すると共に、基板Ｗの搬出処理が行われる。具体的には、リフトピン２５が上昇することにより、基板Ｗを搬出位置に位置させる。この状態でロボットハンド９が進入し、基板Ｗの底面側から上昇することにより、リフトピン２５からロボットハンド９に基板Ｗが受け渡される（図４（ｄ））。

【0044】

このとき、本実施形態における塗布装置１では、塗布器３１の初期化と基板Ｗの搬出は、同時に行うことができる。すなわち、従来では、塗布器３１は塗布精度への影響から両端支持構造が採用されていたため、ロボットハンド９の進入には支柱部４１の位置に影響を受ける。そのため、塗布処理が完了し、塗布ユニット３０が基板Ｗの終端部に位置する状態では、支柱部４１の存在によりロボットハンド９が進入することができず、支柱部４１がステージ２１からＸ軸方向に離れるまで待機する必要がある。一方、本実施形態では、塗布ユニット３０は、塗布器３１を片持ち梁構造で保持しているため、幅方向において、支柱部４１と反対側に配置されるロボットハンド９は、支柱部４１の位置にかかわらず、ステージ２１内に進入することができる。したがって、基板Ｗ上に塗布膜Ｍが形成されると、すぐにロボットハンド９を進入させて（図４（ｃ））、基板Ｗの排出を完了させることができる（図４（ｅ））。

【0045】

このように、上記実施形態における塗布装置１によれば、塗布液を吐出する塗布器３１が、幅方向一方側に配置される支持ユニット４０の支持部により片持ち梁構造で支持されているため、塗布膜Ｍが形成された後、すぐに基板Ｗを排出する動作を開始することにより、塗布動作のタクトタイムを短縮することができる。すなわち、塗布器３１が幅方向一方側に配置される支持部により支持されているため、幅方向他方側には支持部が存在していない。そのため、支持部が配置される側と反対側にロボットハンド９を配置することにより、ロボットハンド９の進入を阻害する支持部が存在しておらず、基板Ｗ上に塗布膜Ｍが形成された後、塗布ユニット３０の位置にかかわらずロボットハンド９を進入させて基板Ｗを排出させることができる。これにより、塗布ユニット３０がメンテナンス装置８の位置に移動するまでロボットハンド９が待機する必要があった従来技術に比べて、ロボットハンド９が任意のタイミングで進入することができ、塗布動作のタクトタイムを短縮することができる。

【0046】

また、上記実施形態では、支柱部４１は、幅方向寸法が塗布器３１の幅方向寸法より大きい寸法で形成されている例について説明したが、コストは高くなるものの、剛性の高い材料で支柱部４１を形成することにより、支柱部４１の幅方向寸法を塗布器３１の幅方向寸法以下の構成にすることができる。

【0047】

また、上記実施形態では、支持ユニット４０が走行するためのガイド部材（レール５１）が２本使用する例について説明したが、剛性が確保されれば、１本でもよく、３本以上使用するものであってもよい。特に複数本のガイド部材を使用する場合、上述の通り延長部４３ａを設け、支柱部４１が設けられる領域よりもステージ側に近接するようにレールを配置することにより、塗布器３１が塗布方向を中心軸とするモーメントを低減することができる。

【0048】

また、上記実施形態では、リニアモータ５５として磁気吸引機構を有するコア付きタイプのリニアモータ５５を使用する例について説明したが、剛性の影響が塗布ムラに影響なければ、コアレスタイプのリニアモータ５５を使用するものでもよく、リニアモータ５５の代わりにボールネジ等の他の駆動部５を用いるものであってもよい。

【符号の説明】

【0049】

１ 塗布装置
９ ロボットハンド
２１ ステージ
３０ 塗布ユニット
３１ 塗布器
４０ 支持ユニット
４１ 支柱部
４３ 延長部
５１ レール（ガイド部材）
５５ リニアモータ
Ｂ ビード

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】