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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023167537
(43)【公開日】2023-11-24
(54)【発明の名称】レジスト塗布装置
(51)【国際特許分類】
H01L 21/027 20060101AFI20231116BHJP
B05C 11/08 20060101ALI20231116BHJP
【ＦＩ】
H01L21/30 564C
B05C11/08
【審査請求】未請求
【請求項の数】18
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022078805
(22)【出願日】2022-05-12
(71)【出願人】
【識別番号】000002037
【氏名又は名称】新電元工業株式会社
(71)【出願人】
【識別番号】591132955
【氏名又は名称】株式会社秋田新電元
(74)【代理人】
【識別番号】100110858
【弁理士】
【氏名又は名称】柳瀬 睦肇
(74)【代理人】
【識別番号】100172627
【弁理士】
【氏名又は名称】宮澤 亘
(72)【発明者】
【氏名】菅原 鉄晴
【テーマコード（参考）】
4F042
5F146
【Ｆターム（参考）】
4F042AA02
4F042AA06
4F042AB00
4F042EB05
4F042EB09
4F042EB13
4F042EB17
4F042EB23
5F146JA06
(57)【要約】
【課題】糸状のレジストが基板表面に再付着することを防止できるレジスト塗布装置を提供する。
【解決手段】本発明は、基板１０を回転自在に保持する保持部１１と、前記基板を回転させる回転駆動機構１２と、前記保持部に保持された前記基板の上方に配置され、レジスト液を前記基板の表面に供給するノズル１４と、前記保持部に保持された前記基板の外周の外側を覆う第１リング１５と、前記保持部に保持された前記基板の表面より上方に配置され、且つ前記基板の外周より大きい内径を有し、且つ前記第１リングの内径より小さい外径を有する第２リング１６と、を有するレジスト塗布装置である。
【選択図】図１
【解決手段】本発明は、基板１０を回転自在に保持する保持部１１と、前記基板を回転させる回転駆動機構１２と、前記保持部に保持された前記基板の上方に配置され、レジスト液を前記基板の表面に供給するノズル１４と、前記保持部に保持された前記基板の外周の外側を覆う第１リング１５と、前記保持部に保持された前記基板の表面より上方に配置され、且つ前記基板の外周より大きい内径を有し、且つ前記第１リングの内径より小さい外径を有する第２リング１６と、を有するレジスト塗布装置である。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
基板を回転自在に保持する保持部と、
前記基板を回転させる回転駆動機構と、
前記保持部に保持された前記基板の上方に配置され、レジスト液を前記基板の表面に供給するノズルと、
前記保持部に保持された前記基板の外周の外側を覆う第１リングと、
前記保持部に保持された前記基板の表面より上方に配置され、且つ前記基板の外周より大きい内径を有し、且つ前記第１リングの内径より小さい外径を有する第２リングと、
を有することを特徴とするレジスト塗布装置。
前記基板を回転させる回転駆動機構と、
前記保持部に保持された前記基板の上方に配置され、レジスト液を前記基板の表面に供給するノズルと、
前記保持部に保持された前記基板の外周の外側を覆う第１リングと、
前記保持部に保持された前記基板の表面より上方に配置され、且つ前記基板の外周より大きい内径を有し、且つ前記第１リングの内径より小さい外径を有する第２リングと、
を有することを特徴とするレジスト塗布装置。
【請求項2】
請求項１において、
前記第１リングは、前記基板の表面より上方に上端が位置するとともに前記基板の裏面より下方に下端を有する筒状で且つ網目状のリングであることを特徴とするレジスト塗布装置。
前記第１リングは、前記基板の表面より上方に上端が位置するとともに前記基板の裏面より下方に下端を有する筒状で且つ網目状のリングであることを特徴とするレジスト塗布装置。
【請求項3】
請求項１又は２において、
前記第２リングの形状は、筒状且つ網目状であることを特徴とするレジスト塗布装置。
前記第２リングの形状は、筒状且つ網目状であることを特徴とするレジスト塗布装置。
【請求項4】
請求項１又は２において、
前記保持部に保持された前記基板の裏面を覆う網目状で且つスカート形状のレジスト付着防止部材を有することを特徴とするレジスト塗布装置。
前記保持部に保持された前記基板の裏面を覆う網目状で且つスカート形状のレジスト付着防止部材を有することを特徴とするレジスト塗布装置。
【請求項5】
請求項１において、
前記第１リングは、前記基板の表面より上方に上端が位置するとともに前記基板の裏面より下方に下端を有する筒状のリングであり、
前記第２リングの形状は、筒状のリングであることを特徴とするレジスト塗布装置。
前記第１リングは、前記基板の表面より上方に上端が位置するとともに前記基板の裏面より下方に下端を有する筒状のリングであり、
前記第２リングの形状は、筒状のリングであることを特徴とするレジスト塗布装置。
【請求項6】
請求項５において、
前記第１リングの筒状のリングは、複数の開口部を有しており、
前記第２リングの筒状のリングは、複数の開口部を有していることを特徴とするレジスト塗布装置。
前記第１リングの筒状のリングは、複数の開口部を有しており、
前記第２リングの筒状のリングは、複数の開口部を有していることを特徴とするレジスト塗布装置。
【請求項7】
請求項２において、
前記第１リングは、網目状による複数の開口部を有しており、前記複数の開口部の内径は３ｍｍ以上２０ｍｍ以下であることを特徴とするレジスト塗布装置。
前記第１リングは、網目状による複数の開口部を有しており、前記複数の開口部の内径は３ｍｍ以上２０ｍｍ以下であることを特徴とするレジスト塗布装置。
【請求項8】
請求項３において、
前記第２リングは、網目状による複数の開口部を有しており、前記複数の開口部の内径は１ｍｍ以上１０ｍｍ以下であることを特徴とするレジスト塗布装置。
前記第２リングは、網目状による複数の開口部を有しており、前記複数の開口部の内径は１ｍｍ以上１０ｍｍ以下であることを特徴とするレジスト塗布装置。
【請求項9】
請求項４において、
前記レジスト付着防止部材は、網目状による複数の開口部を有しており、前記複数の開口部の内径は１ｍｍ以上１０ｍｍ以下であることを特徴とするレジスト塗布装置。
前記レジスト付着防止部材は、網目状による複数の開口部を有しており、前記複数の開口部の内径は１ｍｍ以上１０ｍｍ以下であることを特徴とするレジスト塗布装置。
【請求項10】
請求項１又は２において、
前記保持部に保持された前記基板の裏面を覆うスカート形状のレジスト付着防止部材を有しており、
前記レジスト付着防止部材は、複数の開口部を有することを特徴とするレジスト塗布装置。
前記保持部に保持された前記基板の裏面を覆うスカート形状のレジスト付着防止部材を有しており、
前記レジスト付着防止部材は、複数の開口部を有することを特徴とするレジスト塗布装置。
【請求項11】
請求項４において、
前記レジスト付着防止部材は、ＳＵＳ金網にテフロン（登録商標）コートを施したものであることを特徴とするレジスト塗布装置。
前記レジスト付着防止部材は、ＳＵＳ金網にテフロン（登録商標）コートを施したものであることを特徴とするレジスト塗布装置。
【請求項12】
請求項１又は２において、
前記第１リングは、ＳＵＳにテフロン（登録商標）コートしたものであり、
前記第２リングは、ＳＵＳにテフロン（登録商標）コートしたものであることを特徴とするレジスト塗布装置。
前記第１リングは、ＳＵＳにテフロン（登録商標）コートしたものであり、
前記第２リングは、ＳＵＳにテフロン（登録商標）コートしたものであることを特徴とするレジスト塗布装置。
【請求項13】
請求項１又は２において、
前記レジスト液にはキシレンが含まれていることを特徴とするレジスト塗布装置。
前記レジスト液にはキシレンが含まれていることを特徴とするレジスト塗布装置。
【請求項14】
請求項１又は２において、
前記第１リングは、Ａｌにアルマイト処理されたものであり、
前記第２リングは、Ａｌにアルマイト処理されたものであることを特徴とするレジスト塗布装置。
前記第１リングは、Ａｌにアルマイト処理されたものであり、
前記第２リングは、Ａｌにアルマイト処理されたものであることを特徴とするレジスト塗布装置。
【請求項15】
基板を回転自在に保持する保持部と、
前記基板を回転させる回転駆動機構と、
前記保持部に保持された前記基板の上方に配置され、レジスト液を前記基板の表面に供給するノズルと、
第１リング又は第２リングのいずれか一方と、
を有し、
前記第１リングは、前記保持部に保持された前記基板の外周の外側に位置しており、
前記第２リングは、前記基板の外周より大きい内径を有し、且つ前記第１リングの内径より小さい外径を有することを特徴とするレジスト塗布装置。
前記基板を回転させる回転駆動機構と、
前記保持部に保持された前記基板の上方に配置され、レジスト液を前記基板の表面に供給するノズルと、
第１リング又は第２リングのいずれか一方と、
を有し、
前記第１リングは、前記保持部に保持された前記基板の外周の外側に位置しており、
前記第２リングは、前記基板の外周より大きい内径を有し、且つ前記第１リングの内径より小さい外径を有することを特徴とするレジスト塗布装置。
【請求項16】
請求項１５において、
前記第１リングは、前記保持部に保持された前記基板の外周の外側を覆っており、
前記第２リングは、前記保持部に保持された前記基板の表面より上方に配置されていることを特徴とするレジスト塗布装置。
前記第１リングは、前記保持部に保持された前記基板の外周の外側を覆っており、
前記第２リングは、前記保持部に保持された前記基板の表面より上方に配置されていることを特徴とするレジスト塗布装置。
【請求項17】
請求項１５において、
前記第１リングは、前記保持部に保持された前記基板の表面より上方に配置されており、
前記第２リングは、前記保持部に保持された前記基板の外周の外側を覆っていることを特徴とするレジスト塗布装置。
前記第１リングは、前記保持部に保持された前記基板の表面より上方に配置されており、
前記第２リングは、前記保持部に保持された前記基板の外周の外側を覆っていることを特徴とするレジスト塗布装置。
【請求項18】
請求項１５から１７のいずれか一項において、
平面視において、前記第１リングと前記第２リングとの間に１つ以上の第３リングを有することを特徴とするレジスト塗布装置。
平面視において、前記第１リングと前記第２リングとの間に１つ以上の第３リングを有することを特徴とするレジスト塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、レジスト塗布装置に関する。
【背景技術】
【0002】
従来のレジスト塗布装置は、基板であるウェーハ上の中心位置などにレジスト液を供給してウェーハを回転させることで、ウェーハ上の全面にレジスト液を伸展させて塗布膜を形成する。その際に、伸展したレジスト液をウェーハの外周端部から遠心力により外側方向に飛ばされて、その飛ばされた不要なレジスト液をカップ体によって受け留めていた。そのカップ体はウェーハの外周に設置されていた（例えば、特許文献１参照）。
【0003】
ところで、レジスト液を供給する際のウェーハ回転数が３０００ｒｐｍを超えると、飛ばされたレジストのキシレン成分が揮発することで、レジストが蜘蛛の糸のようにウェーハ上に浮遊し、ウェーハ表面に糸状のレジストが再付着することがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特許第６８４１１８８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本発明の種々の態様は、糸状のレジストが基板表面に再付着することを防止できるレジスト塗布装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
以下に本発明の種々の態様について説明する。
【0007】
［１］基板を回転自在に保持する保持部と、
前記基板を回転させる回転駆動機構と、
前記保持部に保持された前記基板の上方に配置され、レジスト液を前記基板の表面に供給するノズルと、
前記保持部に保持された前記基板の外周の外側を覆う第１リングと、
前記保持部に保持された前記基板の表面より上方に配置され、且つ前記基板の外周より大きい内径を有し、且つ前記第１リングの内径より小さい外径を有する第２リングと、
を有することを特徴とするレジスト塗布装置。
前記基板を回転させる回転駆動機構と、
前記保持部に保持された前記基板の上方に配置され、レジスト液を前記基板の表面に供給するノズルと、
前記保持部に保持された前記基板の外周の外側を覆う第１リングと、
前記保持部に保持された前記基板の表面より上方に配置され、且つ前記基板の外周より大きい内径を有し、且つ前記第１リングの内径より小さい外径を有する第２リングと、
を有することを特徴とするレジスト塗布装置。
【0008】
［２］上記［１］において、
前記第１リングは、前記基板の表面より上方に上端が位置するとともに前記基板の裏面より下方に下端を有する筒状で且つ網目状のリングであることを特徴とするレジスト塗布装置。
前記第１リングは、前記基板の表面より上方に上端が位置するとともに前記基板の裏面より下方に下端を有する筒状で且つ網目状のリングであることを特徴とするレジスト塗布装置。
【0009】
［３］上記［１］又は［２］において、
前記第２リングの形状は、筒状且つ網目状であることを特徴とするレジスト塗布装置。
前記第２リングの形状は、筒状且つ網目状であることを特徴とするレジスト塗布装置。
【0010】
［４］上記［１］から［３］のいずれか一項において、
前記保持部に保持された前記基板の裏面を覆う網目状で且つスカート形状のレジスト付着防止部材を有することを特徴とするレジスト塗布装置。
前記保持部に保持された前記基板の裏面を覆う網目状で且つスカート形状のレジスト付着防止部材を有することを特徴とするレジスト塗布装置。
【0011】
［５］上記［１］において、
前記第１リングは、前記基板の表面より上方に上端が位置するとともに前記基板の裏面より下方に下端を有する筒状のリングであり、
前記第２リングの形状は、筒状のリングであることを特徴とするレジスト塗布装置。
前記第１リングは、前記基板の表面より上方に上端が位置するとともに前記基板の裏面より下方に下端を有する筒状のリングであり、
前記第２リングの形状は、筒状のリングであることを特徴とするレジスト塗布装置。
【0012】
［６］上記［５］において、
前記第１リングの筒状のリングは、複数の開口部を有しており、
前記第２リングの筒状のリングは、複数の開口部を有していることを特徴とするレジスト塗布装置。
前記第１リングの筒状のリングは、複数の開口部を有しており、
前記第２リングの筒状のリングは、複数の開口部を有していることを特徴とするレジスト塗布装置。
【0013】
［７］上記［２］において、
前記第１リングは、網目状による複数の開口部を有しており、前記複数の開口部の内径は３ｍｍ以上２０ｍｍ以下であることを特徴とするレジスト塗布装置。
前記第１リングは、網目状による複数の開口部を有しており、前記複数の開口部の内径は３ｍｍ以上２０ｍｍ以下であることを特徴とするレジスト塗布装置。
【0014】
［８］上記［３］において、
前記第２リングは、網目状による複数の開口部を有しており、前記複数の開口部の内径は１ｍｍ以上１０ｍｍ以下であることを特徴とするレジスト塗布装置。
前記第２リングは、網目状による複数の開口部を有しており、前記複数の開口部の内径は１ｍｍ以上１０ｍｍ以下であることを特徴とするレジスト塗布装置。
【0015】
［９］上記［４］において、
前記レジスト付着防止部材は、網目状による複数の開口部を有しており、前記複数の開口部の内径は１ｍｍ以上１０ｍｍ以下であることを特徴とするレジスト塗布装置。
前記レジスト付着防止部材は、網目状による複数の開口部を有しており、前記複数の開口部の内径は１ｍｍ以上１０ｍｍ以下であることを特徴とするレジスト塗布装置。
【0016】
［１０］上記［１］から［３］のいずれか一項において、
前記保持部１１に保持された前記基板１０の裏面を覆うスカート形状のレジスト付着防止部材を有しており、
前記レジスト付着防止部材は、複数の開口部を有することを特徴とするレジスト塗布装置。
前記保持部１１に保持された前記基板１０の裏面を覆うスカート形状のレジスト付着防止部材を有しており、
前記レジスト付着防止部材は、複数の開口部を有することを特徴とするレジスト塗布装置。
【0017】
［１１］上記［４］、［９］及び［１０］のいずれか一項において、
前記レジスト付着防止部材は、ＳＵＳ金網にテフロン（登録商標）コートを施したものであることを特徴とするレジスト塗布装置。
前記レジスト付着防止部材は、ＳＵＳ金網にテフロン（登録商標）コートを施したものであることを特徴とするレジスト塗布装置。
【0018】
［１２］上記［１］から［１１］のいずれか一項において、
前記第１リングは、ＳＵＳにテフロン（登録商標）コートしたものであり、
前記第２リングは、ＳＵＳにテフロン（登録商標）コートしたものであることを特徴とするレジスト塗布装置。
前記第１リングは、ＳＵＳにテフロン（登録商標）コートしたものであり、
前記第２リングは、ＳＵＳにテフロン（登録商標）コートしたものであることを特徴とするレジスト塗布装置。
【0019】
［１３］上記［１］から［１２］のいずれか一項において、
前記レジスト液にはキシレンが含まれていることを特徴とするレジスト塗布装置。
［１４］上記［１］から［１３］のいずれか一項において、
前記第１リングは、Ａｌにアルマイト処理されたものであり、
前記第２リングは、Ａｌにアルマイト処理されたものであることを特徴とするレジスト塗布装置。
［１５］基板を回転自在に保持する保持部と、
前記基板を回転させる回転駆動機構と、
前記保持部に保持された前記基板の上方に配置され、レジスト液を前記基板の表面に供給するノズルと、
第１リング又は第２リングのいずれか一方と、
を有し、
前記第１リングは、前記保持部に保持された前記基板の外周の外側に位置しており、
前記第２リングは、前記基板の外周より大きい内径を有し、且つ前記第１リングの内径より小さい外径を有することを特徴とするレジスト塗布装置。
［１６］上記［１５］において、
前記第１リングは、前記保持部に保持された前記基板の外周の外側を覆っており、
前記第２リングは、前記保持部に保持された前記基板の表面より上方に配置されていることを特徴とするレジスト塗布装置。
［１７］上記［１５］において、
前記第１リングは、前記保持部に保持された前記基板の表面より上方に配置されており、
前記第２リングは、前記保持部に保持された前記基板の外周の外側を覆っていることを特徴とするレジスト塗布装置。
［１８］上記［１５］から［１７］のいずれか一項において、
平面視において、前記第１リングと前記第２リングとの間に１つ以上の第３リングを有することを特徴とするレジスト塗布装置。
前記レジスト液にはキシレンが含まれていることを特徴とするレジスト塗布装置。
［１４］上記［１］から［１３］のいずれか一項において、
前記第１リングは、Ａｌにアルマイト処理されたものであり、
前記第２リングは、Ａｌにアルマイト処理されたものであることを特徴とするレジスト塗布装置。
［１５］基板を回転自在に保持する保持部と、
前記基板を回転させる回転駆動機構と、
前記保持部に保持された前記基板の上方に配置され、レジスト液を前記基板の表面に供給するノズルと、
第１リング又は第２リングのいずれか一方と、
を有し、
前記第１リングは、前記保持部に保持された前記基板の外周の外側に位置しており、
前記第２リングは、前記基板の外周より大きい内径を有し、且つ前記第１リングの内径より小さい外径を有することを特徴とするレジスト塗布装置。
［１６］上記［１５］において、
前記第１リングは、前記保持部に保持された前記基板の外周の外側を覆っており、
前記第２リングは、前記保持部に保持された前記基板の表面より上方に配置されていることを特徴とするレジスト塗布装置。
［１７］上記［１５］において、
前記第１リングは、前記保持部に保持された前記基板の表面より上方に配置されており、
前記第２リングは、前記保持部に保持された前記基板の外周の外側を覆っていることを特徴とするレジスト塗布装置。
［１８］上記［１５］から［１７］のいずれか一項において、
平面視において、前記第１リングと前記第２リングとの間に１つ以上の第３リングを有することを特徴とするレジスト塗布装置。
【発明の効果】
【0020】
本発明の上記［１］のレジスト塗布装置によれば、基板の外周の外側を覆う第１リングと、基板の表面より上方に且つ基板の外周より大きい内径を有する第２リングを配置する。このような二重インナーリング方式により、基板の回転速度が速くなって、飛ばされたレジストの成分が揮発することで蜘蛛の糸状の浮遊レジストが発生しても、この浮遊レジストは第２リングの内側間及び第１リングと第２リング間に捕獲される。その結果、その浮遊レジストが基板の表面に再付着することを防止できる。
【0021】
本発明の上記［２］のレジスト塗布装置によれば、第１リングは、基板の表面より上方に上端が位置するとともに基板の裏面より下方に下端を有する筒状で且つ網目状のリングである。これにより、回転している基板に供給されたレジスト液が基板の回転による遠心力により基板の外側に飛ばされるので、その飛ばされたレジスト液が筒状の第１リングによってからめとられ、基板へのレジスト液の再付着を防止でき、糸状のレジストが基板表面に再付着することを防止できる。
【0022】
本発明の上記［３］のレジスト塗布装置によれば、第２リングの形状は、筒状且つ網目状である。これにより、基板の回転速度が速くなって、上述したように蜘蛛の糸状の浮遊レジストが発生しても、この浮遊レジストは第２リングの内側間及び第１リングと第２リング間に捕獲されやすくなる。その結果、その浮遊レジストが基板の表面に再付着することを防止できる。
【0023】
本発明の上記［４］のレジスト塗布装置によれば、保持部に保持された基板の裏面を覆う網目状で且つスカート形状のレジスト付着防止部材を有する。これにより、第１リングから飛んでくるレジストが基板の裏面に再付着することを防止できる。
【0024】
また、本発明の種々の態様によれば、糸状のレジストが基板表面に再付着することを防止できるレジスト塗布装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0025】
【図1】本発明の一態様に係るレジスト塗布装置を説明するための内部構造を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【0026】
以下では、本発明の実施形態について図面を用いて詳細に説明する。ただし、本発明は以下の説明に限定されず、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは、当業者であれば容易に理解される。従って、本発明は以下に示す実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。
【0027】
図１は、本発明の一態様に係るレジスト塗布装置を説明するための内部構造を示す斜視図である。
【0028】
図１に示すレジスト塗布装置１００は、基板１０を回転自在に保持する保持部１１と、この基板１０を回転させる回転駆動機構１２と、レジスト液を前記基板１０の表面に供給するノズル１４と、前記保持部１１に保持された基板１０の外周の外側を覆う第１リング１５と、その第１リング１５の内径より小さい外径を有する第２リング１６と、を有している。
上記のノズル１４は保持部１１に保持された基板１０の上方に配置されている。また、第２リング１６は、保持部１１に保持された基板１０の表面より上方に配置されている。また第２リング１６は、基板１０の外周より大きい内径を有している。
なお、第１リング１５及び第２リング１６それぞれは、図１では円形のリングを示しているが、円形に限定されるものではなく、基板１０の形状に合わせて円形以外の形状であってもよく、例えば基板が四角形状であれば、四角形のリングを用いてもよい。
上記のノズル１４は保持部１１に保持された基板１０の上方に配置されている。また、第２リング１６は、保持部１１に保持された基板１０の表面より上方に配置されている。また第２リング１６は、基板１０の外周より大きい内径を有している。
なお、第１リング１５及び第２リング１６それぞれは、図１では円形のリングを示しているが、円形に限定されるものではなく、基板１０の形状に合わせて円形以外の形状であってもよく、例えば基板が四角形状であれば、四角形のリングを用いてもよい。
【0029】
以下に詳細に説明する。
このレジスト塗布装置１００は、基板１０を回転自在に保持する保持部１１を有している。基板１０は、例えば半導体ウェーハである。基板１０は保持部１１によって水平に保持される。
このレジスト塗布装置１００は、基板１０を回転自在に保持する保持部１１を有している。基板１０は、例えば半導体ウェーハである。基板１０は保持部１１によって水平に保持される。
【0030】
また、レジスト塗布装置は、基板（ウェーハ）１０を回転させる回転駆動機構１２を有している。この回転駆動機構１２は、保持部１１に接続された回転軸１３を回転させるモータ等の駆動部により構成されているとよい。
【0031】
ウェーハ１０は保持部１１に保持される。そのウェーハ１０の上方にはノズル１４が配置されており、そのノズル１４はウェーハ１０の表面にレジスト液を矢印のように供給するものである。またノズル１４は図示せぬレジスト供給機構に接続されており、そのレジスト供給機構によってノズル１４にレジストが供給され、そのレジストがノズル１４からウェーハ１０の表面に供給される。
【0032】
また、レジスト塗布装置１００は第１リング（外側インナーリング）１５を有している。回転している基板（ウェーハ）１０にノズル１４からレジスト液が矢印のように供給され、その供給されたレジスト液がウェーハ１０の回転による遠心力によってウェーハ１０の全面に拡がり塗布される。その際、遠心力により余分なレジスト液が矢印のようにウェーハ１０の外側に飛ばされるので、その飛ばされたレジスト液が外側インナーリング１５によってからめとられ、ウェーハ１０へのレジスト液の再付着を防止する。このような外側インナーリング１５は、保持部１１に保持されたウェーハ１０の外周の外側を覆っている。なお、外側インナーリング１５は、筒状且つ網目状を有しているが、リング状であれば、筒状且つ網目状でなくてもよく、単にリング形状であってもよい。つまり、外側インナーリング１５は、単なるリング形状を有しているものも含む。
【0033】
また、レジスト塗布装置は第２リング（内側インナーリング）１６を有している。内側インナーリング１６は、保持部１１に保持された基板（ウェーハ）１０の表面より若干上方に配置されている。また内側インナーリング１６はウェーハ１０の外周より大きい内径を有している。また内側インナーリング１６は第１リング（外側インナーリング）１５の内径より小さい外径を有している。なお、内側インナーリング１６は、筒状且つ網目状を有しているが、リング状であれば、筒状且つ網目状でなくてもよく、単にリング形状であってもよい。つまり、内側インナーリング１６は、単なるリング形状を有しているものも含む。
またレジスト塗布装置１００は、保持部１１に保持されたウェーハ１０、内側インナーリング１６及び外側インナーリング１５の外側を取り囲むようにカップ体２０を備えている。カップ体２０は、回転するウェーハ１０にノズル１４からレジスト液が供給され、その供給されたレジスト液がウェーハ１０の回転による遠心力によって外側に飛散したり、こぼれ落ちた排液を受け止め、その排液をレジスト塗布装置外に排出する機能を有する。
またレジスト塗布装置１００は、保持部１１に保持されたウェーハ１０、内側インナーリング１６及び外側インナーリング１５の外側を取り囲むようにカップ体２０を備えている。カップ体２０は、回転するウェーハ１０にノズル１４からレジスト液が供給され、その供給されたレジスト液がウェーハ１０の回転による遠心力によって外側に飛散したり、こぼれ落ちた排液を受け止め、その排液をレジスト塗布装置外に排出する機能を有する。
【0034】
本実施形態によれば、ウェーハ１０の外周の外側を覆う外側インナーリング１５と、ウェーハ１０の表面より若干上方に且つウェーハ１０の外周より少し大きい内径を有する内側インナーリング１６を配置する。このような二重インナーリング方式により、ウェーハ１０の回転数が３０００ｒｐｍを超えて、飛ばされたレジストのキシレン成分が揮発することで蜘蛛の糸状の浮遊レジストが発生しても、この浮遊レジストは内側インナーリング１６の内側間及び外側インナーリング１５と内側インナーリング１６間に捕獲される。その結果、その浮遊レジストがウェーハ１０の表面に再付着することを防止できる。
【0035】
また、上記のように再付着を防止することで、従来のレジスト塗布装置に比べてレジストの使用量を大幅に削減できる。その理由は次のとおりである。従来のレジスト塗布装置では、上記のような蜘蛛の糸状の浮遊レジストがウェーハの表面に再付着することを防止する有効な手段を設けていなかった。このような従来のレジスト塗布装置であっても、蜘蛛の糸状の浮遊物がウェーハに再付着することを抑制する必要があるために以下の（１）、（２）の対策をとることが考えられる。
【0036】
（１）基板（ウェーハ）が回転している空間を密閉状態にして気流を発生させない事で、キシレンの揮発を抑制する。
（２）従来のレジスト塗布装置においてノズルから供給されるレジストの供給量を、図１に示すレジスト塗布装置においてノズル１４から供給されるレジストの供給量の１．５倍～２．０倍程度に増やし、ウェーハの外側へ飛ばされるレジスト量を増加させる。このように、レジストの供給量を増やすことで、ウェーハが回転する空間のキシレン濃度が上昇し、揮発を抑制する。
（２）従来のレジスト塗布装置においてノズルから供給されるレジストの供給量を、図１に示すレジスト塗布装置においてノズル１４から供給されるレジストの供給量の１．５倍～２．０倍程度に増やし、ウェーハの外側へ飛ばされるレジスト量を増加させる。このように、レジストの供給量を増やすことで、ウェーハが回転する空間のキシレン濃度が上昇し、揮発を抑制する。
【0037】
しかし、上記の従来のレジスト塗布装置の対策では、レジストの供給量を多くしなければならなかった。
【0038】
これに対し、図１に示すレジスト塗布装置１００では、上記のような蜘蛛の糸状の浮遊レジストがウェーハ１０の表面に再付着することを防止する有効な手段を設けているため、レジストの供給量を大幅に削減することが可能となった。
【0039】
また、図１に示すレジスト塗布装置１００において、第１リング１５は、基板１０の表面より上方に上端が位置するとともに基板１０の裏面より下方に下端を有する筒状で且つ網目状のリングであるとよい。
【0040】
詳細には、本実施形態のレジスト塗布装置１００は、前述したように、筒状で且つ網目状の第１リング（外側インナーリング）１５を有している。回転しているウェーハ１０に供給されたレジスト液がウェーハ１０の回転による遠心力により矢印のようにウェーハ１０の外側に飛ばされるので、その飛ばされたレジスト液が筒状の外側インナーリング１５によってからめとられ、ウェーハ１０へのレジスト液の再付着を防止する。このような外側インナーリング（第１リング）１５は、保持部１１に保持されたウェーハ１０の外周の外側を覆い、且つウェーハ１０の表面より上方に上端が位置するとともにウェーハ１０の裏面より下方に下端を有する筒状で且つ網目状のリングであるとよい。
【0041】
また、図１に示すレジスト塗布装置１００において、第２リング１６の形状は、筒状且つ網目状であるとよい。
【0042】
詳細には、第２リング（内側インナーリング）１６の形状は、筒状且つ網目状であることにより、ウェーハ１０の回転数が３０００ｒｐｍを超えて、飛ばされたレジストのキシレン成分が揮発することで蜘蛛の糸状の浮遊レジストが発生しても、この浮遊レジストは内側インナーリング１６の内側間及び外側インナーリング１５と内側インナーリング１６間に捕獲されやすくなる。その結果、その浮遊レジストがウェーハ１０の表面に再付着することを防止できる。
【0043】
また、図１に示すレジスト塗布装置１００において、保持部１１に保持された基板１０の裏面を覆う網目状で且つスカート形状のレジスト付着防止部材１７を有するとよい。
【0044】
詳細には、レジスト塗布装置が、保持部１１に保持された基板（ウェーハ）１０の裏面を覆う網目状で且つスカート形状のレジスト付着防止部材を有することにより、図１に示す矢印のように第１リング（外側インナーリング）１５から飛んでくるレジスト液がウェーハ１０の裏面に再付着することを防止できる。従って、ウェーハ１０の両面へのレジスト再付着を防止することが可能となる。
【0045】
また、図１に示すレジスト塗布装置１００において、第１リング１５は、基板１０の表面より上方に上端が位置するとともに基板１０の裏面より下方に下端を有する筒状のリングであり、第２リング１６の形状は、筒状のリングであってもよい。
【0046】
詳細には、本実施形態のレジスト塗布装置１００は、第１リング（外側インナーリング）１５が筒状のリングであればよく、図１に示す網目状でなくてもよい（図示せず）。回転している基板（ウェーハ）１０に供給されたレジスト液がウェーハ１０の回転による遠心力により矢印のようにウェーハ１０の外側に飛ばされるので、その飛ばされたレジスト液が筒状の外側インナーリング１５によってからめとられ、ウェーハ１０へのレジスト液の再付着を防止する。このような外側インナーリング（第１リング）１５は、保持部１１に保持されたウェーハ１０の外周の外側を覆い、且つ基板（ウェーハ）１０の表面より上方に上端が位置するとともにウェーハ１０の裏面より下方に下端を有する筒状のリングであってもよい。
【0047】
また、第２リング（内側インナーリング）１６の形状は、筒状のリングであり、穴が開いていない壁状になっているリングであってもよい（図示せず）。これにより、ウェーハ１０の回転数が３０００ｒｐｍを超えて、飛ばされたレジストのキシレン成分が揮発することで蜘蛛の糸状の浮遊レジストが発生しても、この浮遊レジストは内側インナーリング１６の内側間及び外側インナーリング１５と内側インナーリング１６間に捕獲されやすくなる。その結果、その浮遊レジストがウェーハ１０の表面に再付着することを防止できる。
【0048】
また、上記の第１リング１５の筒状のリングは、複数の開口部を有しており、第２リング１６の筒状のリングは、複数の開口部を有していてもよい。
【0049】
詳細に説明する。
第１リング（外側インナーリング）１５の筒状のリングは、複数の開口部を有していてもよい。その複数の開口部は、例えば金属板に打ち抜き加工によって形成されたものでもよく（図示せず）、その複数の開口部の内径は３ｍｍ以上２０ｍｍ以下であるとよい。
第１リング（外側インナーリング）１５の筒状のリングは、複数の開口部を有していてもよい。その複数の開口部は、例えば金属板に打ち抜き加工によって形成されたものでもよく（図示せず）、その複数の開口部の内径は３ｍｍ以上２０ｍｍ以下であるとよい。
【0050】
また、第２リング（内側インナーリング）１６の筒状のリングは、複数の開口部を有していてもよい。その複数の開口部は、例えば金属板に打ち抜き加工によって形成されたものでもよく（図示せず）、その複数の開口部の内径は１ｍｍ以上１０ｍｍ以下であるとよい。
ここでいう内径とは、開口部の最も長い部分の内径を意味する。
ここでいう内径とは、開口部の最も長い部分の内径を意味する。
【0051】
上記の第１リング１５及び第２リング１６を備えたレジスト塗布装置によれば、ウェーハ１０の回転による遠心力により外側に飛ばされたレジスト液が外側インナーリング１５の複数の開口部によってからめとられる効率を向上させることができ、その結果、ウェーハ１０へのレジスト液の再付着をより効果的に防止できる。また、外側インナーリング１５及び内側インナーリング１６それぞれが複数の開口部を有するため、レジストのキシレン成分が揮発することで蜘蛛の糸状の浮遊レジストが発生しても、この浮遊レジストは内側インナーリング１６の内側間及び外側インナーリング１５と内側インナーリング１６間に捕獲される効率を向上させることができ、その結果、その浮遊レジストがウェーハ１０の表面に再付着することをより効果的に防止できる。
【0052】
また、本実施形態によるレジスト塗布装置の第１リング１５は、網目状による複数の開口部を有しており、複数の開口部の内径は３ｍｍ以上２０ｍｍ以下であるとよい。
【0053】
詳細に説明する。
図１に示すように、第１リング（外側インナーリング）１５は、網目状による複数の開口部を有している。この複数の開口部の内径は３ｍｍ以上２０ｍｍ以下であることが好ましい。網目状による複数の開口部は、例えば線径０．８ｍｍのＳＵＳ(Stainless Used Steel)線が６．３５ｍｍピッチの格子形状を有するものであってもよい。なお、内径とは開口部の最も長い部分の内径を意味するので、開口部が格子形状の場合の内径は対角線の長さをいう。このような内径を有することにより、ウェーハ１０の回転による遠心力により外側に飛ばされたレジスト液が網目状の外側インナーリング１５によってからめとられる効率を向上させることができ、その結果、ウェーハ１０へのレジスト液の再付着をより効果的に防止できる。
図１に示すように、第１リング（外側インナーリング）１５は、網目状による複数の開口部を有している。この複数の開口部の内径は３ｍｍ以上２０ｍｍ以下であることが好ましい。網目状による複数の開口部は、例えば線径０．８ｍｍのＳＵＳ(Stainless Used Steel)線が６．３５ｍｍピッチの格子形状を有するものであってもよい。なお、内径とは開口部の最も長い部分の内径を意味するので、開口部が格子形状の場合の内径は対角線の長さをいう。このような内径を有することにより、ウェーハ１０の回転による遠心力により外側に飛ばされたレジスト液が網目状の外側インナーリング１５によってからめとられる効率を向上させることができ、その結果、ウェーハ１０へのレジスト液の再付着をより効果的に防止できる。
【0054】
また、本実施形態によるレジスト塗布装置の第２リング１６は、網目状による複数の開口部を有しており、複数の開口部の内径は１ｍｍ以上１０ｍｍ以下であるとよい。
【0055】
詳細に説明する。
図１に示すように、第２リング（内側インナーリング）１６は、網目状による複数の開口部を有している。この複数の開口部の内径は１ｍｍ以上１０ｍｍ以下であることが好ましい。網目状による複数の開口部は、例えば線径０．４３ｍｍのＳＵＳ線が２．５４ｍｍピッチの格子形状を有するものであってもよい。なお、内径とは開口部の最も長い部分の内径を意味するので、開口部が格子形状の場合の内径は対角線の長さをいう。このような内径を有することにより、レジストのキシレン成分が揮発することで蜘蛛の糸状の浮遊レジストが発生しても、この浮遊レジストは内側インナーリング１６の内側間及び外側インナーリング１５と内側インナーリング１６間に捕獲される効率を向上させることができ、その結果、その浮遊レジストがウェーハ１０の表面に再付着することをより効果的に防止できる。
図１に示すように、第２リング（内側インナーリング）１６は、網目状による複数の開口部を有している。この複数の開口部の内径は１ｍｍ以上１０ｍｍ以下であることが好ましい。網目状による複数の開口部は、例えば線径０．４３ｍｍのＳＵＳ線が２．５４ｍｍピッチの格子形状を有するものであってもよい。なお、内径とは開口部の最も長い部分の内径を意味するので、開口部が格子形状の場合の内径は対角線の長さをいう。このような内径を有することにより、レジストのキシレン成分が揮発することで蜘蛛の糸状の浮遊レジストが発生しても、この浮遊レジストは内側インナーリング１６の内側間及び外側インナーリング１５と内側インナーリング１６間に捕獲される効率を向上させることができ、その結果、その浮遊レジストがウェーハ１０の表面に再付着することをより効果的に防止できる。
【0056】
また、本実施形態によるレジスト塗布装置のレジスト付着防止部材１７は、網目状による複数の開口部を有しており、複数の開口部の内径は１ｍｍ以上１０ｍｍ以下であるとよい。
【0057】
詳細に説明する。
図１に示すように、レジスト付着防止部材１７は、網目状による複数の開口部を有している。この複数の開口部の内径は１ｍｍ以上１０ｍｍ以下であることが好ましい。網目状による複数の開口部は、例えば線径０．４３ｍｍのＳＵＳ線が２．５４ｍｍピッチの格子形状を有するものであってもよい。内径とは開口部の最も長い部分の内径を意味する。これにより、第１リング（外側インナーリング）１５から飛んでくるレジストがウェーハ１０の裏面に再付着することをより効果的に防止できる。
図１に示すように、レジスト付着防止部材１７は、網目状による複数の開口部を有している。この複数の開口部の内径は１ｍｍ以上１０ｍｍ以下であることが好ましい。網目状による複数の開口部は、例えば線径０．４３ｍｍのＳＵＳ線が２．５４ｍｍピッチの格子形状を有するものであってもよい。内径とは開口部の最も長い部分の内径を意味する。これにより、第１リング（外側インナーリング）１５から飛んでくるレジストがウェーハ１０の裏面に再付着することをより効果的に防止できる。
【0058】
また、本実施形態では、レジスト付着防止部材１７は、網目状による複数の開口部を有しているが、複数の開口部を有するものであれば、網目状によるものでなくてもよい。
【0059】
詳細に説明する。
レジスト塗布装置１００は、保持部１１に保持された基板（ウェーハ）１０の裏面を覆うスカート形状のレジスト付着防止部材１７を有し、そのレジスト付着防止部材１７は、複数の開口部を有する。その複数の開口部は、例えば金属板に打ち抜き加工によって形成されたものでもよく（図示せず）、その複数の開口部の内径は１ｍｍ以上１０ｍｍ以下であるとよい。
レジスト塗布装置１００は、保持部１１に保持された基板（ウェーハ）１０の裏面を覆うスカート形状のレジスト付着防止部材１７を有し、そのレジスト付着防止部材１７は、複数の開口部を有する。その複数の開口部は、例えば金属板に打ち抜き加工によって形成されたものでもよく（図示せず）、その複数の開口部の内径は１ｍｍ以上１０ｍｍ以下であるとよい。
【0060】
上述したレジスト付着防止部材１７は、ＳＵＳ金網にテフロン（登録商標）コートを施したものであるとよい。
【0061】
詳細には、レジスト付着防止部材１７の材質が、ＳＵＳ金網にテフロン（登録商標）コートを施したものであることによってレジスト付着防止部材１７に付着したレジストを洗浄することが可能となり、そのレジスト付着防止部材１７を繰り返し用いることができる。また、このような材質を用いることで、レジストがウェーハ１０の裏面に再付着することを効果的に防止できる。
【0062】
上述した第１リング（外側インナーリング）１５は、ＳＵＳにテフロン（登録商標）コートしたものであるとよい。これにより、ウェーハ１０へのレジスト液の再付着を防止できる。また、第２リング（内側インナーリング）１６は、ＳＵＳにテフロン（登録商標）コートしたものであるとよい。これにより、前述した浮遊レジストがウェーハ１０の表面に再付着することを防止できる。
なお、本実施形態では、第１リング１５及び第２リング１６はＳＵＳにテフロン（登録商標）コートしたものを用いているが、これに限定されず、第１リング及び第２リングは、Ａｌにアルマイト処理されたものを用いてもよい。
なお、本実施形態では、第１リング１５及び第２リング１６はＳＵＳにテフロン（登録商標）コートしたものを用いているが、これに限定されず、第１リング及び第２リングは、Ａｌにアルマイト処理されたものを用いてもよい。
【0063】
上述したレジスト液にはキシレンが含まれていることも可能である。
【0064】
本実施形態では、ノズル１４からウェーハ１０の表面に供給されるレジスト液にはキシレンが含まれている。このレジスト塗布装置は、レジスト液のキシレン成分が揮発することで、レジストが蜘蛛の糸のようにウェーハ１０上に浮遊することになり、この浮遊レジストがウェーハ１０に再付着するのを防止するものである。ただし、レジスト液にキシレン以外の成分が含まれることで同様の浮遊レジストが発生する場合でも上記のレジスト塗布装置は効果を奏するものである。
【0065】
なお、本実施形態では、上述したようなレジスト塗布装置を説明したが、以下のように変更して実施することも可能である。
変形例１のレジスト塗布装置は、基板１０を回転自在に保持する保持部１１と、基板１０を回転させる回転駆動機構１２と、保持部１１に保持された基板１０の上方に配置され、レジスト液を基板１０の表面に供給するノズル１４と、第１リング１５又は第２リング１６のいずれか一方と、を有している。
上記の第１リング１５は、保持部１１に保持された基板１０の外周の外側に位置している。また、上記の第２リング１６は、基板１０の外周より大きい内径を有し、且つ第１リング１５の内径より小さい外径を有している。
上記変形例１によれば、基板１０の外周の外側を覆う第１リング１５と、基板１０の外周より少し大きい内径を有する第２リング１６を配置する。このような二重インナーリング方式により、基板１０の回転数が３０００ｒｐｍを超えて、飛ばされたレジストのキシレン成分が揮発することで蜘蛛の糸状の浮遊レジストが発生しても、この浮遊レジストは第２リング１６の内側間及び第１リング１５と第２リング１６間に捕獲される。その結果、その浮遊レジストが基板１０の表面に再付着することを防止できる。
また、第１リング１５は、保持部１１に保持された基板１０の外周の外側を覆っているとよい。また、第２リング１６は、保持部１１に保持された基板１０の表面より上方に配置されているとよい。
また、第１リング１５は、保持部１１に保持された基板１０の表面より上方に配置されていてもよい。第２リング１６は、保持部１１に保持された基板１０の外周の外側を覆っていてもよい。
また、平面視において、第１リング１５と第２リング１６との間に１つ以上の第３リング（図示せず）を有していてもよい。これにより、糸状のレジストを捕獲する空間を細かくし、また空間の数を増やすことができ、浮遊レジストが基板１０の表面に再付着することを防止できる。
変形例１のレジスト塗布装置は、基板１０を回転自在に保持する保持部１１と、基板１０を回転させる回転駆動機構１２と、保持部１１に保持された基板１０の上方に配置され、レジスト液を基板１０の表面に供給するノズル１４と、第１リング１５又は第２リング１６のいずれか一方と、を有している。
上記の第１リング１５は、保持部１１に保持された基板１０の外周の外側に位置している。また、上記の第２リング１６は、基板１０の外周より大きい内径を有し、且つ第１リング１５の内径より小さい外径を有している。
上記変形例１によれば、基板１０の外周の外側を覆う第１リング１５と、基板１０の外周より少し大きい内径を有する第２リング１６を配置する。このような二重インナーリング方式により、基板１０の回転数が３０００ｒｐｍを超えて、飛ばされたレジストのキシレン成分が揮発することで蜘蛛の糸状の浮遊レジストが発生しても、この浮遊レジストは第２リング１６の内側間及び第１リング１５と第２リング１６間に捕獲される。その結果、その浮遊レジストが基板１０の表面に再付着することを防止できる。
また、第１リング１５は、保持部１１に保持された基板１０の外周の外側を覆っているとよい。また、第２リング１６は、保持部１１に保持された基板１０の表面より上方に配置されているとよい。
また、第１リング１５は、保持部１１に保持された基板１０の表面より上方に配置されていてもよい。第２リング１６は、保持部１１に保持された基板１０の外周の外側を覆っていてもよい。
また、平面視において、第１リング１５と第２リング１６との間に１つ以上の第３リング（図示せず）を有していてもよい。これにより、糸状のレジストを捕獲する空間を細かくし、また空間の数を増やすことができ、浮遊レジストが基板１０の表面に再付着することを防止できる。
【符号の説明】
【0066】
１０ 基板（ウェーハ）
１１ 保持部
１２ 回転駆動機構
１４ ノズル
１５ 第１リング
１６ 第２リング
１７ レジスト付着防止部材
１１ 保持部
１２ 回転駆動機構
１４ ノズル
１５ 第１リング
１６ 第２リング
１７ レジスト付着防止部材
【図1】