(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023169580
(43)【公開日】2023-11-30
(54)【発明の名称】ブラックマトリクス基板及び表示装置
(51)【国際特許分類】
G09F 9/30 20060101AFI20231122BHJP
H01L 33/58 20100101ALI20231122BHJP
G02F 1/1335 20060101ALI20231122BHJP
【ＦＩ】
G09F9/30 349C
H01L33/58
G09F9/30 310
G09F9/30 349D
G02F1/1335 505
【審査請求】未請求
【請求項の数】17
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022080780
(22)【出願日】2022-05-17
(71)【出願人】
【識別番号】000003193
【氏名又は名称】ＴＯＰＰＡＮホールディングス株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110003708
【氏名又は名称】弁理士法人鈴榮特許綜合事務所
(74)【代理人】
【識別番号】100108855
【弁理士】
【氏名又は名称】蔵田 昌俊
(74)【代理人】
【識別番号】100179062
【弁理士】
【氏名又は名称】井上 正
(74)【代理人】
【識別番号】100199565
【弁理士】
【氏名又は名称】飯野 茂
(74)【代理人】
【識別番号】100209048
【弁理士】
【氏名又は名称】森川 元嗣
(74)【代理人】
【識別番号】100212705
【弁理士】
【氏名又は名称】矢頭 尚之
(74)【代理人】
【識別番号】100219542
【弁理士】
【氏名又は名称】大宅 郁治
(72)【発明者】
【氏名】川田 京慧
(72)【発明者】
【氏名】今吉 孝二
(72)【発明者】
【氏名】塩満 一彦
(72)【発明者】
【氏名】後藤 圭佑
【テーマコード（参考）】
2H291
5C094
5F142
【Ｆターム（参考）】
2H291FA02X
2H291FA14X
2H291FA31X
2H291FA81Z
5C094AA02
5C094BA23
5C094BA43
5C094DA11
5C094ED11
5C094ED15
5C094JA01
5F142CA03
5F142CA11
5F142CD16
5F142CE03
5F142CE08
5F142DA02
5F142DA13
5F142DA73
5F142DB17
5F142DB20
5F142DB24
(57)【要約】
【課題】発光素子を含んだ表示装置において迷光に起因した画質の低下を生じ難くし得る技術を提供する。
【解決手段】ブラックマトリクス基板３Ａは、第１主面及び第２主面を有している透明基板３１と、前記第１主面上に設けられ、複数の第１貫通孔を有しているブラックマトリクス３２と、前記ブラックマトリクス３２上に設けられ、前記複数の第１貫通孔の位置に複数の第２貫通孔をそれぞれ有している樹脂層３４と、前記複数の第２貫通孔の各々の側壁を少なくとも部分的に被覆するとともに、前記樹脂層３４の上面の位置で少なくとも部分的に開口した反射層３５とを備えている。
【選択図】図３
【解決手段】ブラックマトリクス基板３Ａは、第１主面及び第２主面を有している透明基板３１と、前記第１主面上に設けられ、複数の第１貫通孔を有しているブラックマトリクス３２と、前記ブラックマトリクス３２上に設けられ、前記複数の第１貫通孔の位置に複数の第２貫通孔をそれぞれ有している樹脂層３４と、前記複数の第２貫通孔の各々の側壁を少なくとも部分的に被覆するとともに、前記樹脂層３４の上面の位置で少なくとも部分的に開口した反射層３５とを備えている。
【選択図】図３
【特許請求の範囲】
【請求項1】
第１主面及び第２主面を有している透明基板と、
前記第１主面上に設けられ、複数の第１貫通孔を有しているブラックマトリクスと、
前記ブラックマトリクス上に設けられ、前記複数の第１貫通孔の位置に複数の第２貫通孔をそれぞれ有している樹脂層と、
前記複数の第２貫通孔の各々の側壁を少なくとも部分的に被覆するとともに、前記樹脂層の上面の位置で少なくとも部分的に開口した反射層と
を備えたブラックマトリクス基板。
前記第１主面上に設けられ、複数の第１貫通孔を有しているブラックマトリクスと、
前記ブラックマトリクス上に設けられ、前記複数の第１貫通孔の位置に複数の第２貫通孔をそれぞれ有している樹脂層と、
前記複数の第２貫通孔の各々の側壁を少なくとも部分的に被覆するとともに、前記樹脂層の上面の位置で少なくとも部分的に開口した反射層と
を備えたブラックマトリクス基板。
【請求項2】
前記上面の前記反射層による被覆率は８５％以下である請求項１に記載のブラックマトリクス基板。
【請求項3】
前記反射層は金属又は合金からなる請求項１に記載のブラックマトリクス基板。
【請求項4】
前記樹脂層は透明である請求項１に記載のブラックマトリクス基板。
【請求項5】
前記複数の第２貫通孔は、前記透明基板側の開口の前記第１主面への正射影の輪郭が、それぞれ、前記複数の第１貫通孔の前記第１主面への正射影の輪郭を取り囲むように設けられている請求項１に記載のブラックマトリクス基板。
【請求項6】
前記複数の第１貫通孔は、互いに交差する第１方向及び第２方向へ配列し、前記反射層は、前記複数の第１貫通孔のうち前記第１方向へ隣り合ったものの間の位置、及び、前記複数の第１貫通孔のうち前記第２方向へ隣り合ったものの間の位置で開口した請求項１に記載のブラックマトリクス基板。
【請求項7】
前記反射層は、前記複数の第１貫通孔のうち前記第１方向へ隣り合ったものの間の位置で前記第２方向へ伸びたスリット形状に開口するとともに、前記複数の第１貫通孔のうち前記第２方向へ隣り合ったものの間の位置で前記第１方向へ伸びたスリット形状に開口した請求項６に記載のブラックマトリクス基板。
【請求項8】
前記複数の第２貫通孔は、前記複数の第２貫通孔の３以上から各々がなり、互いに交差する第１方向及び第２方向へ配列した複数の貫通孔群を構成し、前記反射層は、前記複数の貫通孔群のうち前記第１方向へ隣り合ったものの間の位置、及び、前記複数の貫通孔群のうち前記第２方向へ隣り合ったものの間の位置で開口した請求項１に記載のブラックマトリクス基板。
【請求項9】
前記反射層は、前記複数の貫通孔群のうち前記第１方向へ隣り合ったものの間の位置で前記第２方向へ伸びたスリット形状に開口するとともに、前記複数の貫通孔群のうち前記第２方向へ隣り合ったものの間の位置で前記第１方向へ伸びたスリット形状に開口した請求項８に記載のブラックマトリクス基板。
【請求項10】
前記複数の貫通孔群の各々において、前記３以上の第２貫通孔は前記第１方向へ配列した請求項８に記載のブラックマトリクス基板。
【請求項11】
前記複数の第２貫通孔は前記第２方向へ伸びた形状を有している請求項１０に記載のブラックマトリクス基板。
【請求項12】
前記ブラックマトリクスと前記樹脂層との間に介在し、透明樹脂と、紫外線吸収剤及び透明粒子の１以上とを含んだオーバーコート層を更に備えた請求項１に記載のブラックマトリクス基板。
【請求項13】
前記オーバーコート層は、透明樹脂と、紫外線吸収剤、イエロー顔料及び透明粒子の１以上とを含んだ請求項１２に記載のブラックマトリクス基板。
【請求項14】
前記複数の第１貫通孔の少なくとも一部の位置にそれぞれ配置された複数の着色層を含んだカラーフィルタを更に備えた請求項１に記載のブラックマトリクス基板。
【請求項15】
前記複数の第２貫通孔の少なくとも一部の中にそれぞれ設けられた複数の波長変換層を更に備えた請求項１に記載のブラックマトリクス基板。
【請求項16】
請求項１乃至１５の何れか１項に記載のブラックマトリクス基板と、
前記第１主面と向き合うように設置された調光装置と
を備えた表示装置。
前記第１主面と向き合うように設置された調光装置と
を備えた表示装置。
【請求項17】
前記調光装置は、基板と、前記複数の第１貫通孔に対応して前記基板上に配置された複数の発光ダイオードとを備えた請求項１６に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、ブラックマトリクス基板及び表示装置に関する。
【背景技術】
【0002】
表示装置において、発光ダイオードなどの発光素子は、例えば、バックライトユニットの光源として、又は、画素若しくはサブ画素の構成要素として利用されている。そのような表示装置では、発光素子又は画素若しくはサブ画素を互いから区画する隔壁を設けることがある（特許文献１乃至４を参照）。隔壁は、例えば、発光素子が射出する光を効率的に利用すること、又は、或る発光素子が射出した光を入射させるべき領域へ他の発光素子が射出した光が入射するのを防止することを可能とする。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】国際公開第２０１７／１９１７１４号
【特許文献2】特開２０１８－１８９９２０号公報
【特許文献3】特開２０１５－０６４３９１号公報
【特許文献4】国際公開第２０１９／０２６８２６号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本発明は、発光素子を含んだ表示装置において迷光に起因した画質の低下を生じ難くし得る技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明の一側面によると、第１主面及び第２主面を有している透明基板と、前記第１主面上に設けられ、複数の第１貫通孔を有しているブラックマトリクスと、前記ブラックマトリクス上に設けられ、前記複数の第１貫通孔の位置に複数の第２貫通孔をそれぞれ有している樹脂層と、前記複数の第２貫通孔の各々の側壁を少なくとも部分的に被覆するとともに、前記樹脂層の上面の位置で少なくとも部分的に開口した反射層とを備えたブラックマトリクス基板が提供される。
【0006】
本発明の他の側面によると、前記上面の前記反射層による被覆率は８５％以下である上記側面に係るブラックマトリクス基板が提供される。
【0007】
本発明の更に他の側面によると、前記反射層は金属又は合金からなる上記側面の何れかに係るブラックマトリクス基板が提供される。
【0008】
本発明の更に他の側面によると、前記樹脂層は透明である上記側面の何れかに係るブラックマトリクス基板が提供される。
【0009】
本発明の更に他の側面によると、前記複数の第２貫通孔は、前記透明基板側の開口の前記第１主面への正射影の輪郭が、それぞれ、前記複数の第１貫通孔の前記第１主面への正射影の輪郭を取り囲むように設けられている上記側面の何れかに係るブラックマトリクス基板が提供される。
【0010】
本発明の更に他の側面によると、前記複数の第１貫通孔は、互いに交差する第１方向及び第２方向へ配列し、前記反射層は、前記複数の第１貫通孔のうち前記第１方向へ隣り合ったものの間の位置、及び、前記複数の第１貫通孔のうち前記第２方向へ隣り合ったものの間の位置で開口した上記側面の何れかに係るブラックマトリクス基板が提供される。本発明の更に他の側面によると、前記反射層は、前記複数の第１貫通孔のうち前記第１方向へ隣り合ったものの間の位置で前記第２方向へ伸びたスリット形状に開口するとともに、前記複数の第１貫通孔のうち前記第２方向へ隣り合ったものの間の位置で前記第１方向へ伸びたスリット形状に開口した上記側面に係るブラックマトリクス基板が提供される。
【0011】
或いは、本発明の更に他の側面によると、前記複数の第２貫通孔は、前記複数の第２貫通孔の３以上から各々がなり、互いに交差する第１方向及び第２方向へ配列した複数の貫通孔群を構成し、前記反射層は、前記複数の貫通孔群のうち前記第１方向へ隣り合ったものの間の位置、及び、前記複数の貫通孔群のうち前記第２方向へ隣り合ったものの間の位置で開口した上記側面の何れかに係るブラックマトリクス基板が提供される。本発明の更に他の側面によると、前記反射層は、前記複数の貫通孔群のうち前記第１方向へ隣り合ったものの間の位置で前記第２方向へ伸びたスリット形状に開口するとともに、前記複数の貫通孔群のうち前記第２方向へ隣り合ったものの間の位置で前記第１方向へ伸びたスリット形状に開口した上記側面に係るブラックマトリクス基板が提供される。或いは、本発明の更に他の側面によると、前記複数の貫通孔群の各々において、前記３以上の第２貫通孔は前記第１方向へ配列した上記側面に係るブラックマトリクス基板が提供される。本発明の更に他の側面によると、前記複数の第２貫通孔は前記第２方向へ伸びた形状を有している上記側面に係るブラックマトリクス基板が提供される。
【0012】
本発明の更に他の側面によると、前記ブラックマトリクスと前記樹脂層との間に介在し、透明樹脂と、紫外線吸収剤及び透明粒子の１以上とを含んだオーバーコート層を更に備えた上記側面の何れかに係るブラックマトリクス基板が提供される。
【0013】
本発明の更に他の側面によると、前記オーバーコート層は、透明樹脂と、紫外線吸収剤、イエロー顔料及び透明粒子の１以上とを含んだ上記側面に係るブラックマトリクス基板が提供される。
【0014】
本発明の更に他の側面によると、前記複数の第１貫通孔の少なくとも一部の位置にそれぞれ配置された複数の着色層を含んだカラーフィルタを更に備えた上記側面に係るブラックマトリクス基板が提供される。
【0015】
本発明の更に他の側面によると、前記複数の第２貫通孔の少なくとも一部の中にそれぞれ設けられた複数の波長変換層を更に備えた上記側面の何れかに係るブラックマトリクス基板が提供される。
【0016】
本発明の更に他の側面によると、上記側面の何れかに係るブラックマトリクス基板と、前記第１主面と向き合うように設置された調光装置とを備えた表示装置が提供される。
【0017】
本発明の更に他の側面によると、前記調光装置は、基板と、前記複数の第１貫通孔に対応して前記基板上に配置された複数の発光ダイオードとを備えた上記側面に係る表示装置が提供される。
【発明の効果】
【0018】
本発明によれば、発光素子を含んだ表示装置において迷光に起因した画質の低下を生じ難くし得る技術が提供される。
【図面の簡単な説明】
【0019】
【発明を実施するための形態】
【0020】
以下に、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。以下に説明する実施形態は、上記側面の何れかをより具体化したものである。以下に記載する事項は、単独で又は複数を組み合わせて、上記側面の各々に組み入れることができる。
【0021】
また、以下に示す実施形態は、本発明の技術的思想を具体化するための構成を例示するものであって、本発明の技術的思想は、下記の構成部材の材質、形状、及び構造等によって限定されるものではない。本発明の技術的思想には、請求の範囲に記載された請求項が規定する技術的範囲内において、種々の変更を加えることができる。
【0022】
なお、同様又は類似した機能を有する要素については、以下で参照する図面において同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。また、図面は模式的なものであり、或る方向の寸法と別の方向の寸法との関係、及び、或る部材の寸法と他の部材の寸法との関係等は、現実のものとは異なり得る。
【0023】
＜１＞第１実施形態
図１は、本発明の第１実施形態に係る表示装置の一部を示す平面図である。図２は、図１に示す表示装置の等価回路図である。図３は、図１に示す表示装置のＩＩＩ－ＩＩＩ線に沿った断面図である。図４は、図１に示す表示装置のＩＶ－ＩＶ線に沿った断面図である。図５は、図１に示す表示装置のＶ－Ｖ線に沿った断面図である。図６は、図１に示す表示装置のＶＩ－ＶＩ線に沿った断面図である。図７は、図１の表示装置が含んでいるブラックマトリクス基板の一部を示す平面図である。なお、図１において、破線で囲まれた領域は、後述するように、ブラックマトリクス３２が有している第１貫通孔の透明基板３１側の開口を表している。
図１は、本発明の第１実施形態に係る表示装置の一部を示す平面図である。図２は、図１に示す表示装置の等価回路図である。図３は、図１に示す表示装置のＩＩＩ－ＩＩＩ線に沿った断面図である。図４は、図１に示す表示装置のＩＶ－ＩＶ線に沿った断面図である。図５は、図１に示す表示装置のＶ－Ｖ線に沿った断面図である。図６は、図１に示す表示装置のＶＩ－ＶＩ線に沿った断面図である。図７は、図１の表示装置が含んでいるブラックマトリクス基板の一部を示す平面図である。なお、図１において、破線で囲まれた領域は、後述するように、ブラックマトリクス３２が有している第１貫通孔の透明基板３１側の開口を表している。
【0024】
【0025】
なお、各図において、Ｘ方向及びＹ方向は、表示装置１Ａの表示面に対して平行であり且つ互いに交差する方向である。一例によれば、Ｘ方向及びＹ方向は、互いに対して垂直である。また、Ｚ方向は、Ｘ方向及びＹ方向に対して垂直な方向である。即ち、Ｚ方向は、表示装置１Ａの厚さ方向である。
【0026】
表示装置１Ａは、図２に示すように、映像信号線ＶＳＬと、電源線ＰＳＬと、走査信号線ＳＳＬと、画素ＰＸと、映像信号線ドライバＶＤＲと、走査信号線ドライバＳＤＲとを含んでいる。
【0027】
映像信号線ＶＳＬ及び電源線ＰＳＬは、Ｙ方向へ各々が伸びており、Ｘ方向へ交互に配列している。走査信号線ＳＳＬは、Ｘ方向へ各々が伸びており、Ｙ方向へ配列している。
【0028】
画素ＰＸは、Ｘ方向及びＹ方向へ配列している。各画素ＰＸは、第１サブ画素ＰＸＲと、第２サブ画素ＰＸＧと、第３サブ画素ＰＸＢとを含んでいる。第１サブ画素ＰＸＲ、第２サブ画素ＰＸＧ、及び第３サブ画素ＰＸＢは、映像信号線ＶＳＬと走査信号線ＳＳＬとの交差部に対応して配列している。
【0029】
第１サブ画素ＰＸＲ、第２サブ画素ＰＸＧ、及び第３サブ画素ＰＸＢは、異なる色の光を射出する。ここでは、一例として、第１サブ画素ＰＸＲ、第２サブ画素ＰＸＧ、及び第３サブ画素ＰＸＢは、それぞれ、赤色光、緑色光及び青色光を射出することとする。
【0030】
各画素ＰＸにおいて、第１サブ画素ＰＸＲ、第２サブ画素ＰＸＧ、及び第３サブ画素ＰＸＢは、Ｘ方向へこの順に配列している。各画素ＰＸにおける、第１サブ画素ＰＸＲ、第２サブ画素ＰＸＧ、及び第３サブ画素ＰＸＢの配列順序は変更可能である。
【0031】
また、ここでは、第１サブ画素ＰＸＲ、第２サブ画素ＰＸＧ、及び第３サブ画素ＰＸＢは、ストライプ配列を形成している。第１サブ画素ＰＸＲ、第２サブ画素ＰＸＧ、及び第３サブ画素ＰＸＢは、デルタ配列及びモザイク配列などの他の配列を形成していてもよい。
【0032】
第１サブ画素ＰＸＲ、第２サブ画素ＰＸＧ、及び第３サブ画素ＰＸＢの各々は、発光素子Ｄと、駆動制御素子ＤＲと、スイッチＳＷと、キャパシタＣとを含んでいる。
【0033】
発光素子Ｄは、発光ダイオードである。発光ダイオードは、例えば、無機物からなる発光ダイオードである。無機物からなる発光ダイオードは、例えば、これらと同様の層構造を有している積層体を、複数の部分へと個片化することにより得られる。発光素子Ｄは、有機物からなる発光ダイオードであるエレクトロルミネッセンス素子であってもよい。発光素子Ｄの陰極は、接地電極へ接続されている。ここでは、一例として、発光素子Ｄは、無機物からなり、青色光を射出する青色発光ダイオードであるとする。
【0034】
駆動制御素子ＤＲ及びスイッチＳＷは、電界効果トランジスタである。ここでは、駆動制御素子ＤＲはｐチャネル薄膜トランジスタであり、スイッチＳＷはｎチャネル薄膜トランジスタである。駆動制御素子ＤＲは、ゲートがスイッチＳＷのドレインへ接続され、ソースが電源線ＰＳＬへ接続され、ドレインが発光素子Ｄの陽極へ接続されている。スイッチＳＷは、ゲートが走査信号線ＳＳＬへ接続され、ソースが映像信号線ＶＳＬへ接続されている。
【0035】
キャパシタＣは、例えば、薄膜キャパシタである。キャパシタＣは、一方の電極が駆動制御素子ＤＲのゲートへ接続されており、他方の電極が電源線ＰＳＬへ接続されている。
【0036】
【0037】
第１波長変換層３６Ｒは、第１サブ画素ＰＸＲの発光素子Ｄと向き合うように設置されている。第１波長変換層３６Ｒは、第１サブ画素ＰＸＲの発光素子Ｄが射出した光を特定の色の第１光へと変換する。第１波長変換層３６Ｒは、例えば、第１サブ画素ＰＸＲの発光素子Ｄが射出した青色光を赤色光へと変換する。
【0038】
第１着色層３３Ｒは、第１波長変換層３６Ｒを間に挟んで第１サブ画素ＰＸＲの発光素子Ｄと向き合うように設置されている。第１着色層３３Ｒは、第１波長変換層３６Ｒによる波長変換後の光を透過させるとともに、第１波長変換層３６Ｒによって波長変換されなかった光を吸収する。第１着色層３３Ｒは、例えば、第１波長変換層３６Ｒによる波長変換後の赤色光を透過させるとともに、第１波長変換層３６Ｒによって波長変換されなかった青色光等を吸収する赤色着色層である。
【0039】
第２サブ画素ＰＸＧは、図３に示す第２波長変換層３６Ｇ及び第２着色層３３Ｇを更に含んでいる。
【0040】
第２波長変換層３６Ｇは、第２サブ画素ＰＸＧの発光素子Ｄと向き合うように設置されている。第２波長変換層３６Ｇは、第２サブ画素ＰＸＧの発光素子Ｄが射出した光を、第１光とは色が異なる第２光へと変換する。第２波長変換層３６Ｇは、例えば、第２サブ画素ＰＸＧの発光素子Ｄが射出した青色光を緑色光へと変換する。
【0041】
第２着色層３３Ｇは、第２波長変換層３６Ｇを間に挟んで第２サブ画素ＰＸＧの発光素子Ｄと向き合うように設置されている。第２着色層３３Ｇは、第２波長変換層３６Ｇによる波長変換後の光を透過させるとともに、第２波長変換層３６Ｇによって波長変換されなかった光を吸収する。第２着色層３３Ｇは、例えば、第２波長変換層３６Ｇによる波長変換後の緑色光を透過させるとともに、第２波長変換層３６Ｇによって波長変換されなかった青色光等を吸収する緑色着色層である。
【0042】
【0043】
充填層３６Ｂは、第３サブ画素ＰＸＢの発光素子Ｄと向き合うように設置されている。充填層３６Ｂは、例えば、無色透明な層である。充填層３６Ｂは省略することができる。
【0044】
下地層３３Ｂは、充填層３６Ｂを間に挟んで第３サブ画素ＰＸＢの発光素子Ｄと向き合うように設置されている。下地層３３Ｂは、第３サブ画素ＰＸＢの発光素子Ｄが射出した光を第３光として透過させる。下地層３３Ｂは、例えば、第３サブ画素ＰＸＢの発光素子Ｄが射出した青色光を透過させる無色の光透過層又は青色着色層である。
【0045】
映像信号線ドライバＶＤＲ及び走査信号線ドライバＳＤＲは、図２に示すように、表示パネルにＣＯＧ（chip on glass）実装されている。映像信号線ドライバＶＤＲ及び走査信号線ドライバＳＤＲは、ＣＯＧ実装の代わりに、ＴＣＰ（tape carrier package）実装されてもよい。
【0046】
映像信号線ドライバＶＤＲには、映像信号線ＶＳＬと電源線ＰＳＬとが接続されている。映像信号線ドライバＶＤＲは、映像信号線ＶＳＬに、映像信号として電圧信号を出力する。
【0047】
走査信号線ドライバＳＤＲには、走査信号線ＳＳＬが接続されている。走査信号線ドライバＳＤＲは、走査信号線ＳＳＬに走査信号として電圧信号を出力する。電源線ＰＳＬは、映像信号線ドライバＶＤＲに接続する代わりに、走査信号線ドライバＳＤＲに接続してもよい。
【0048】
【0049】
調光基板は、ブラックマトリクス基板へ向けて光を射出するとともに、この光の強さ及びこの光を射出する時間の少なくとも一方を、画素毎に又はサブ画素毎に調節可能な基板である。図３乃至図６に示す調光基板２は、基板２１と、半導体層２２と、導体層２３Ａ、２３Ｂ、２３Ｃ及び２３Ｄと、絶縁層２４Ａ、２４Ｂ及び２４Ｃと、発光素子２５と、隔壁層２６と、充填層２７と、導体層２８とを含んでいる。
【0050】
基板２１は、例えば、ガラス基板などの絶縁基板を含んでいる。基板２１は、絶縁基板のブラックマトリクス基板３Ａと向き合った主面に設けられたアンダーコート層を更に含んでいてもよい。アンダーコート層は、例えば、絶縁基板上に順次積層されたシリコン窒化物層とシリコン酸化物層との積層体である。基板２１は、シリコン基板などの半導体基板であってもよい。基板２１は、硬質であってもよく、可撓性であってもよい。
【0051】
半導体層２２は、基板２１のブラックマトリクス基板３Ａと向き合った主面上で配列している。半導体層２２は、例えば、ポリシリコン層である。半導体層２２は、駆動制御素子ＤＲ又はスイッチＳＷを構成している薄膜トランジスタの半導体層である。各半導体層２２は、ソース及びドレインと、それらの間に介在したチャネル領域とを含んでいる。
【0052】
導体層２３Ａは、基板２１の上記主面上に設けられた導体パターンである。導体層２３Ａは、映像信号線ＶＳＬ、電源線ＰＳＬ、ソース電極ＳＥ、ドレイン電極ＤＥ、及びキャパシタＣの下部電極（図示せず）を構成している。ソース電極ＳＥ及びドレイン電極ＤＥは、それぞれ、半導体層２２のソース及びドレインへ接続されている。導体層２３Ａは、金属又は合金からなる。導体層２３Ａは、単層構造を有していてもよく、多層構造を有していてもよい。
【0053】
絶縁層２４Ａは、導体層２３Ａと基板２１の上記主面とを被覆している。絶縁層２４Ａは、例えばＴＥＯＳ（tetraethyl orthosilicate）を用いて形成することができる。駆動制御素子ＤＲ又はスイッチＳＷを構成している各薄膜トランジスタのゲート絶縁膜は、絶縁層２４Ａの一部である。また、各キャパシタＣの誘電体層は、絶縁層２４Ａの他の一部である。
【0054】
導体層２３Ｂは、絶縁層２４Ａ上に設けられた導体パターンである。駆動制御素子ＤＲ又はスイッチＳＷを構成している各薄膜トランジスタのゲート電極ＧＥは、導体層２３Ｂの一部である。各ゲート電極ＧＥは、絶縁層２４Ａを間に挟んで半導体層２２のチャネル領域と向き合っている。また、各キャパシタＣの上部電極（図示せず）は、導体層２３Ｂの他の一部である。各上部電極は、絶縁層２４Ａを間に挟んで、この上部電極を含んだキャパシタＣの下部電極と向き合っている。導体層２３Ｂは、金属又は合金からなる。導体層２３Ｂは、単層構造を有していてもよく、多層構造を有していてもよい。
【0055】
絶縁層２４Ｂは、導体層２３Ｂと絶縁層２４Ａとを被覆している。絶縁層２４Ｂは、層間絶縁膜である。絶縁層２４Ｂは、例えば、シリコン酸化物などの無機絶縁体からなる。無機絶縁体からなる絶縁層は、例えば、プラズマＣＶＤ（chemical vapor deposition）法により成膜することができる。
【0056】
導体層２３Ｃは、図５及び図６に示すように、絶縁層２４Ｂ上に設けられた導体パターンである。導体層２３Ｃは、走査信号線ＳＳＬを構成している。ソース電極ＳＥ及びドレイン電極ＤＥは、絶縁層２４Ａ上に設ける代わりに、絶縁層２４Ｂ上に設けてもよい。即ち、導体層２３Ｃで、走査信号線ＳＳＬとソース電極ＳＥ及びドレイン電極ＤＥとを構成してもよい。
【0057】
絶縁層２４Ｃは、導体層２３Ｃと絶縁層２４Ｂとを被覆している。絶縁層２４Ｃは、パッシベーション膜である。絶縁層２４Ｃは、例えば、シリコン窒化物などの無機絶縁体からなる。
【0058】
導体層２３Ｄは、絶縁層２４Ｃ上に設けられた導体パターンである。導体層２３Ｄは、第１サブ画素ＰＸＲ、第２サブ画素ＰＸＧ、及び第３サブ画素ＰＸＢに対応してＸ方向及びＹ方向へ配列した電極パッドを構成している。絶縁層２４Ａ、２４Ｂ及び２４Ｃからなる積層体には、駆動制御素子ＤＲのドレインへ接続されたドレイン電極ＤＥの位置に貫通孔が設けられている。各電極パッドは、この貫通孔を介してドレイン電極ＤＥへ接続されている。導体層２３Ｄは、例えば、金属又は合金からなる。導体層２３Ｄは、単層構造を有していてもよく、多層構造を有していてもよい。
【0059】
各電極パッドのＺ方向に対して垂直な平面への正射影の輪郭は、この電極パッド上に設置された発光素子２５の先の平面への正射影から離間するとともに、この正射影を取り囲んでいる。即ち、電極パッドは、発光素子２５と比較して、Ｚ方向に対して垂直な方向の寸法がより大きい。それ故、電極パッドは、基板２１へ向けて進行する光を反射する反射層としての役割も果たす。電極パッドには、この反射層としての役割を担わせなくてもよい。この場合、この役割を果たす反射層は、電極パッドとは別に設けてもよく、設けなくてもよい。
【0060】
【0061】
発光素子２５は、ここでは、無機物からなる発光ダイオードである。なお、発光素子２５として発光ダイオードを含んだ基板は、「ＬＥＤ基板」と呼ぶこともある。
【0062】
発光素子２５は、複数の層、例えば、第１層２５１、第２層２５２及び第３層２５３を含んだ多層構造を有している。ここでは、発光素子２５が含んでいる層の積層方向はＺ方向である。この積層方向は、Ｚ方向に対して垂直であってもよい。
【0063】
各発光素子２５は、陽極及び陰極を含んでいる。発光素子２５は、一方の面に陽極と陰極とを有している。発光素子２５の陽極は、図示しないボンディングワイヤを介して電極パッドへ接続されている。発光素子２５が一方の面に陽極を有し、他方の面に陰極を有している場合、発光素子２５の電極パッドへの接合と陽極の電極パッドへの接続とを、導電ペーストなどの導電材料を接合材として用いたダイボンディングによって行ってもよい。発光素子２５が一方の面に陽極と陰極とを有している場合、導体層２８を省略するとともに、発光素子２５の陰極と接続するための電極パッドを絶縁層２４Ｃ上に更に設け、これら電極パッドと接続された配線を絶縁層間に更に設け、発光素子２５の電極パッド及び導体層２８への接合と、陽極及び陰極の電極パッドへの接続とを、フリップチップボンディングによって行ってもよい。
【0064】
発光素子２５のＸ方向及びＹ方向における寸法は、好ましくは１乃至１００μｍの範囲内にあり、より好ましくは５乃至８０μｍの範囲内にあり、更に好ましくは１０乃至６０μｍの範囲内にある。発光素子２５のＺ方向における寸法は、好ましくは１乃至２０μｍの範囲内にあり、より好ましくは１乃至１５μｍの範囲内にあり、更に好ましくは１乃至１０μｍの範囲内にある。
【0065】
隔壁層２６は、絶縁層２４Ｃ上に設けられている。隔壁層２６は、電極パッドの位置に貫通孔を有している。発光素子２５は、それぞれ、これら貫通孔内に位置している。隔壁層２６は、例えば、樹脂からなる。そのような隔壁層２６は、感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィによって形成することができる。隔壁層２６は、貫通孔を有する樹脂層と、それら貫通孔の側壁と任意に樹脂層の上面とを被覆した反射層とを含んでいてもよい。反射層は、単層構造を有していてもよく、多層構造を有していてもよい。反射層が含む層は、例えば、金属、合金又は透明誘電体である。隔壁層２６は省略することができる。
【0066】
充填層２７は、発光素子２５と隔壁層２６との間の隙間を埋め込んでいる。充填層２７は、発光素子２５が射出した光を透過させる光透過層である。また、充填層２７は、発光素子２５及びこれと電極との接合部等を保護する保護層としての役割も果たす。充填層２７は、例えば、樹脂からなる。充填層２７の屈折率は、隔壁層２６の表面を構成している材料の屈折率とは異なることが好ましい。
【0067】
導体層２８は、隔壁層２６及び充填層２７上に設けられている。発光素子２５の陰極は、導体層２８へ接続されている。導体層２８は、導電性透明酸化物からなる場合、発光素子２５の陰極全体を覆うように設けることができる。導体層２８は、金属又は合金からなる場合、発光素子２５の陰極を部分的に覆うように設けることが好ましい。
【0068】
ブラックマトリクス基板３Ａは、調光基板２と向き合っている。具体的には、ブラックマトリクス基板３Ａは、発光素子２５等を間に挟んで基板２１と向き合っている。
【0069】
ブラックマトリクス基板３Ａは、透明基板３１と、ブラックマトリクス３２と、樹脂層３４と、反射層３５と、第１着色層３３Ｒ及び第２着色層３３Ｇを含んだカラーフィルタと、下地層３３Ｂと、第１波長変換層３６Ｒと、第２波長変換層３６Ｇと、充填層３６Ｂとを含んでいる。
【0070】
透明基板３１は、可視光透過性を有している。透明基板３１は、例えば、無色の基板である。透明基板３１は、単層構造を有していてもよく、多層構造を有していてもよい。透明基板３１は、例えば、ガラス、透明樹脂又はそれらの組み合わせからなる。透明基板３１は、硬質であってもよく、可撓性であってもよい。透明基板３１は、調光基板２と向き合った第１主面と、その裏面である第２主面とを有している。
【0071】
ブラックマトリクス３２は、透明基板３１の第１主面上に設けられている。ブラックマトリクス３２は、可視光を遮る黒色層である。ブラックマトリクス３２は、例えば、バインダ樹脂と着色剤とを含んだ混合物からなる。着色剤は、例えば、黒色顔料であるか、又は、減法混色によって黒色を呈する顔料の混合物、例えば、青色顔料、緑色顔料及び赤色顔料を含んだ混合物である。
【0072】
ブラックマトリクス３２は、発光素子２５の位置に第１貫通孔を有している。各第１貫通孔の透明基板３１側の開口は、発光素子２５と比較して、Ｚ方向に垂直な方向の寸法がより大きい。
【0073】
ここでは、第１貫通孔の透明基板３１側の開口は、図１に破線で示すように、Ｙ方向へ伸びた形状を有している。ブラックマトリクス３２のうち画素ＰＸに対応した各部分は、第１サブ画素ＰＸＲの位置に設けられた第１貫通孔と、第２サブ画素ＰＸＧの位置に設けられた第１貫通孔と、第３サブ画素ＰＸＢの位置に設けられた第１貫通孔とを含んでおり、これら３つの第１貫通孔はＸ方向へ配列している。これら３つの第１貫通孔から各々がなる複数の第１貫通孔群は、Ｘ方向及びＹ方向へ配列している。Ｘ方向へ隣り合った第１貫通孔群間の距離は、同一の貫通孔群が含んでいる第１貫通孔間の距離と比較してより大きい。Ｙ方向へ隣り合った第１貫通孔群間の距離も、同一の貫通孔群が含んでいる第１貫通孔間の距離と比較してより大きい。
【0074】
ブラックマトリクス３２の開口率は、好ましくは５乃至６６％の範囲内にあり、より好ましくは５乃至４０％の範囲内にあり、更に好ましくは５乃至２０％の範囲内にある。無機物からなる発光ダイオードは、光射出面が小さい場合であっても明るく発光させることができ、また、長寿命である。それ故、発光素子２５が無機物からなる発光ダイオードである場合、ブラックマトリクス３２の開口率を小さくしても、明るい表示が可能である。そして、ブラックマトリクス３２の開口率を小さくすると、外光の反射を抑制でき、深みがより強い黒色を表示することができ、従って、より高いコントラスト比を実現することができる。
【0075】
ブラックマトリクス３２の厚さは、好ましくは１乃至３０μｍの範囲内にあり、より好ましくは１乃至１５μｍの範囲内にあり、更に好ましくは１乃至５μｍの範囲内にある。厚いブラックマトリクス３２は、高い遮光性を達成するうえで有利である。但し、ブラックマトリクス３２を厚くすると、感光性黒色組成物からなる塗膜へのパターン露光において、塗膜の深部へ光が十分な強さで到達できず、高い形状精度を達成できない可能性がある。
【0076】
樹脂層３４は、図３乃至図６に示すように、ブラックマトリクス３２上に設けられている。一例によれば、樹脂層３４は透明である。この場合、樹脂層３４は、着色していてもよく、無色であってもよい。樹脂層３４は、光散乱性を有していてもよい。透明な樹脂層３４は、例えば、膜厚が５μｍであると仮定した場合に、その厚さ方向へ入射させた、波長が３５０乃至４８０ｎｍの範囲内の光の透過率の最大値が２０％以上であることが望ましい。
【0077】
樹脂層３４は、第１貫通孔の位置に第２貫通孔をそれぞれ有している。これら第２貫通孔は、上記の第１貫通孔群に対応した第２貫通孔群を構成している。第２貫通孔群の各々は、ここでは、Ｘ方向へ配列した３つの第２貫通孔からなる。第２貫通孔群は、互いに交差する第１方向及び第２方向、ここでは、Ｘ方向及びＹ方向へ配列している。
【0078】
図７に示すように、Ｘ方向へ隣り合った第２貫通孔群間の距離Ｗｘ１は、同一の貫通孔群が含んでいる第２貫通孔間の距離Ｗ１と比較してより大きい。Ｙ方向へ隣り合った第２貫通孔群間の距離Ｗｙ１も、同一の貫通孔群が含んでいる第２貫通孔間の距離Ｗ１と比較してより大きい。
【0079】
距離Ｗ１は、好ましくは５乃至８０μｍの範囲内にあり、より好ましくは５乃至４０μｍの範囲内にあり、更に好ましくは５乃至２０μｍの範囲内にある。
【0080】
距離Ｗｘ１は、好ましくは５乃至２５０μｍの範囲内にあり、より好ましくは５０乃至２５０ｍの範囲内にあり、更に好ましくは１００乃至２５０μｍの範囲内にある。
【0081】
距離Ｗｙ１は、好ましくは５乃至２５０μｍの範囲内にあり、より好ましくは５乃至１００μｍの範囲内にあり、更に好ましくは５乃至５０μｍの範囲内にある。
【0082】
距離Ｗｘ１と距離Ｗ１との比Ｗｘ１／Ｗ１は、好ましくは０．１乃至５０の範囲内にあり、より好ましくは２乃至２０の範囲内にあり、更に好ましくは５乃至１５の範囲内にある。距離Ｗｘ１は、距離Ｗ１と等しくてもよく、距離Ｗ１よりも小さくてもよい。
【0083】
距離Ｗｙ１と距離Ｗ１との比Ｗｙ１／Ｗ１は、好ましくは０．１乃至５０の範囲内にあり、より好ましくは０．１乃至１０の範囲内にあり、更に好ましくは０．１至５の範囲内にある。距離Ｗｙ１は、距離Ｗ１と等しくてもよく、距離Ｗ１よりも小さくてもよい。
【0084】
第２貫通孔は、ここでは、透明基板３１側の開口の第１主面への正射影の輪郭（以下、第２輪郭という）が、それぞれ、第１貫通孔の第１主面への正射影の輪郭（以下、第１輪郭という）を取り囲むように設けられている。第２輪郭は、第１輪郭を取り囲んでいなくてもよい。第２輪郭が第１輪郭を取り囲んだ構造では、第２輪郭が第１輪郭を取り囲んでいない構造と比較して、迷光が表示へ及ぼす影響が小さい。
【0085】
樹脂層３４のうち隣り合った第２貫通孔によって挟まれた部分は、順テーパ状の断面形状を有している。この部分は、矩形状の断面形状を有していてもよく、逆テーパ状の断面形状を有していてもよく、他の断面形状を有していてもよい。
【0086】
樹脂層３４の厚さは、好ましくは５乃至５０μｍの範囲内にあり、より好ましくは５乃至４０μｍの範囲内にあり、更に好ましくは１０乃至２５μｍの範囲内にある。樹脂層３４の厚さが小さい場合、第２貫通孔内に形成する層の合計厚さを大きくすることが難しい。樹脂層３４を厚くすると、隣り合った第２貫通孔間に挟まれた隔壁部の形状精度が低下する。
【0087】
反射層３５は、第２貫通孔の各々の側壁を少なくとも部分的に被覆している。ここでは、反射層３５は、図３乃至図６に示すように、第２貫通孔の各々の側壁全体を被覆している。反射層３５は、第２貫通孔の側壁の一部を被覆していなくてもよい。例えば、反射層３５は、第２貫通孔の少なくとも１つの側壁のうちブラックマトリクス３２近傍の部分、及び、第２貫通孔の少なくとも１つの側壁のうち樹脂層３４の上面近傍の部分の少なくとも一方を被覆していなくてもよい。
【0088】
反射層３５のうち第２貫通孔の側壁を被覆している部分は、透明基板３１側の開口の面積Ｓ２が、好ましくは、第１貫通孔の開口の面積Ｓ１と比較してより大きい。面積Ｓ２と面積Ｓ１との比Ｓ２／Ｓ１は、好ましくは１乃至１００の範囲内にあり、より好ましくは１乃至３０の範囲内にあり、更に好ましくは１乃至２の範囲内にある。
【0089】
反射層３５は、樹脂層３４の上面を更に被覆している。反射層３５は、樹脂層３４の上面の位置で少なくとも部分的に開口している。ここでは、反射層３５は、図７に示すように、第１貫通孔のうちＸ方向へ隣り合ったものの間の位置でＹ方向へ伸びたスリット形状に開口するとともに、第１貫通孔のうちＹ方向へ隣り合ったものの間の位置でＸ方向へ伸びたスリット形状に開口している。
【0090】
即ち、反射層３５は、第２貫通孔群のうちＸ方向へ隣り合ったものの間の位置でＹ方向へ伸びたスリット形状に開口しており、これら開口として第１スリットＳＬ１を有している。また、反射層３５は、第２貫通孔群のうちＹ方向へ隣り合ったものの間の位置でＸ方向へ伸びたスリット形状に開口しており、これら開口として第２スリットＳＬ２を有している。そして、反射層３５は、各第２貫通孔群が含んでいる第２貫通孔のうち隣り合った各２つの間の位置でＹ方向へ伸びたスリット形状に開口しており、これら開口として第３スリットＳＬ３を有している。
【0091】
第１スリットＳＬ１の幅Ｗｘ２と距離Ｗｘ１との比Ｗｘ２／Ｗｘ１は、好ましくは０．０６乃至０．８８の範囲内にあり、より好ましくは０．２乃至０．８８の範囲内にあり、更に好ましくは０．５乃至０．８８範囲内にある。
【0092】
第２スリットＳＬ２の幅Ｗｙ２と距離Ｗｙ１との比Ｗｙ２／Ｗｙ１は、好ましくは０．０６乃至０．８８の範囲内にあり、より好ましくは０．０６乃至０．５の範囲内にあり、更に好ましくは０．０６乃至０．２の範囲内にある。
【0093】
第３スリットＳＬ３の幅Ｗ２と距離Ｗ１との比Ｗ２／Ｗ１は、好ましくは０．３３乃至１の範囲内にあり、より好ましくは０．５乃至０．９の範囲内にあり、更に好ましくは０．６乃至０．８の範囲内にある。
【0094】
これら比を大きくすると、迷光が表示へ及ぼす影響が小さくなる。これら比を小さくすると、反射層３５に設ける開口の位置誤差が表示へ及ぼす影響が小さくなる。
【0095】
樹脂層３４の上面の位置における反射層３５の開口の形状は、スリット形状でなくてもよい。例えば、スリットの代わりに、貫通孔の列を設けてもよい。
【0096】
樹脂層３４の上面の反射層３５による被覆率は、８５％以下であることが好ましく、７５％以下であることがより好ましく、６５％以下であることが更に好ましい。この被覆率を小さくすると、迷光が表示へ及ぼす影響が小さくなる。
【0097】
この被覆率はゼロでもよいが、１％以上であることが好ましく、１０％以上であることがより好ましく、３０％以上であることが更に好ましい。この被覆率を大きくすると、反射層３５に設ける開口の位置誤差が表示へ及ぼす影響が小さくなる。
【0098】
反射層３５は、単層構造を有していてもよく、多層構造を有していてもよい。反射層３５が含む層は、例えば、金属、合金又は透明誘電体である。一例によれば、反射層３５は、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる。反射層３５は、例えば、スパッタリング法及び真空蒸着法などの気相堆積法による成膜と、エッチングマスクの形成と、ウェットエッチングなどのエッチングとをこの順に行うことにより形成することができる。エッチングマスクは、感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィにより形成することができる。このエッチングマスクとして利用した透明樹脂層は、上記のエッチング後に除去してもよく、除去しなくてもよい。
【0099】
【0100】
第２着色層３３Ｇは、図３に示すように、第２サブ画素ＰＸＧの位置で第１貫通孔を埋め込んでいる。上記の通り、ここでは、第２着色層３３Ｇは緑色着色層である。
【0101】
【0102】
第１波長変換層３６Ｒは、第１着色層３３Ｒ上に設けられており、第２凹部の少なくとも底部を埋め込んでいる。第１波長変換層３６Ｒは、量子ドット蛍光体などの蛍光体と透明樹脂とを含んだ層である。上記の通り、ここでは、第１波長変換層３６Ｒは、第１サブ画素ＰＸＲの発光素子Ｄが射出した青色光を赤色光へと変換する。
【0103】
第２波長変換層３６Ｇは、第２着色層３３Ｇ上に設けられており、第２凹部の少なくとも底部を埋め込んでいる。第２波長変換層３６Ｇは、量子ドット蛍光体などの蛍光体と透明樹脂とを含んだ層である。上記の通り、ここでは、第２波長変換層３６Ｇは、第２サブ画素ＰＸＧの発光素子Ｄが射出した青色光を赤色光へと変換する。
【0104】
充填層３６Ｂは、下地層３３Ｂ上に設けられており、第２凹部の少なくとも底部を埋め込んでいる。上記の通り、ここでは、充填層３６Ｂは無色透明な層である。この場合、充填層３６Ｂは、例えば、透明樹脂からなる。
【0105】
接着層４は、調光基板２とブラックマトリクス基板３Ａとの間に介在しており、それらを互いに対して貼り合わせている。接着層４は、発光素子２５が射出した光を透過させる。接着層４は、例えば、無色透明な層である。接着層４は、接着剤又は粘着剤からなる。
【0106】
この表示装置１Ａについて上述した構造を採用すると、迷光に起因した画質の低下を生じ難くすることができる。これについて、以下に説明する。
【0107】
【0108】
図８に示す表示装置１Ｘは、ブラックマトリクス基板３Ａの代わりに、ブラックマトリクス基板３Ｘを含んでいること以外は、表示装置１Ａと同様である。ブラックマトリクス基板３Ｘは、樹脂層３４の上面の位置で反射層３５が開口していないこと以外は、ブラックマトリクス基板３Ａと同様である。
【0109】
発光素子２５は、様々な方向へ光を射出する。表示装置１Ｘでは、図８に示すように、例えば、第１サブ画素ＰＸＲの発光素子２５が広角側へ射出した光Ｌは、反射層３５のうち樹脂層３４の上面を覆っている部分によって反射され、その後、導体層２３Ｄ等によって更に反射されて、第２サブ画素ＰＸＧの第２波長変換層３６Ｇへ入射する。それ故、第２サブ画素ＰＸＧの輝度が、本来の輝度から逸脱する。即ち、表示装置１Ｘでは、迷光に起因した画質の低下、例えば、色再現性やコントラスト比の低下を生じ得る。
【0110】
これに対し、表示装置１Ａでは、図９に示すように、例えば、第１サブ画素ＰＸＲの発光素子２５が広角側へ射出した光Ｌは、反射層３５のうち樹脂層３４の上面を覆っている部分に設けられた開口を経由して樹脂層３４へ入射する。樹脂層３４が光Ｌに対して小さな吸収率及び低い散乱性を示す場合、樹脂層３４へ入射した光は、樹脂層３４によって殆ど吸収されることなしに、反射層３５によって反射されるが、最終的にはブラックマトリクス３２によって吸収される。樹脂層３４が光Ｌに対して高い吸収率を示す場合、樹脂層３４へ入射した光は、少なくとも一部が樹脂層３４によって吸収され、残りはブラックマトリクス３２によって吸収される。樹脂層３４が光Ｌに対して高い散乱性を示す場合、樹脂層３４へ入射した光は、一部は散乱に伴って進行方向が変化することにより第１サブ画素ＰＸＲへ戻り、他の一部は散乱及び反射層３５による反射によって減衰し、更に他の一部はブラックマトリクス３２によって吸収される。それ故、第２サブ画素ＰＸＧの輝度の、本来の輝度からの逸脱は小さい。即ち、表示装置１Ａでは、迷光に起因した画質の低下、例えば、色再現性やコントラスト比の低下を生じ難い。
【0111】
＜２＞第２実施形態
図１０は、本発明の第２実施形態に係る表示装置が含んでいるブラックマトリクス基板の一部を示す平面図である。
図１０は、本発明の第２実施形態に係る表示装置が含んでいるブラックマトリクス基板の一部を示す平面図である。
【0112】
第２実施形態に係る表示装置は、ブラックマトリクス基板３Ａの代わりに、図１０に示すブラックマトリクス基板３Ｂを含んでいること以外は、表示装置１Ａと同様である。ブラックマトリクス基板３Ｂは、第３スリットＳＬ３を省略したこと以外は、ブラックマトリクス基板３Ａと同様である。
【0113】
第１実施形態に係る表示装置１Ａでは、第１スリットＳＬ１は、例えば、或る画素ＰＸに含まれる第１サブ画素ＰＸＲの発光素子２５が射出した光が、その画素ＰＸとＸ方向へ隣り合う他の画素ＰＸに含まれる第３サブ画素ＰＸＢの充填層３６Ｂへ入射するのを抑制する。また、第２スリットＳＬ２は、例えば、或る画素ＰＸに含まれる第１サブ画素ＰＸＲの発光素子２５が射出した光が、その画素ＰＸとＹ方向へ隣り合う他の画素ＰＸに含まれる第１サブ画素ＰＸＲの第１波長変換層３６Ｒへ入射するのを抑制する。そして、第３スリットＳＬ３は、例えば、或る画素ＰＸに含まれる第１サブ画素ＰＸＲの発光素子２５が射出した光が、その画素ＰＸに含まれる第２サブ画素ＰＸＧの第２波長変換層３６Ｇへ入射するのを抑制する。それ故、図７に示すように、第１スリットＳＬ１、第２スリットＳＬ２及び第３スリットＳＬ３の全てを設けた場合、迷光に起因した画質の低下を生じ難くする効果が大きい。
【0114】
但し、距離Ｗ２は、距離Ｗｘ１及び距離Ｗｙ１と比較して小さい。それ故、第３スリットＳＬ３のＸ方向における位置誤差が表示へ及ぼす影響は、第１スリットＳＬ１のＸ方向における位置誤差が表示へ及ぼす影響や、第２スリットＳＬ２のＹ方向における位置誤差が表示へ及ぼす影響と比較してより大きい。従って、第３スリットＳＬ３の形成には、高い位置精度が要求される。
【0115】
図１０のブラックマトリクス基板３Ｂでは、第３スリットＳＬ３を省略しているので、スリットの位置誤差が表示へ及ぼす影響が小さい。また、ブラックマトリクス基板３Ｂでは、第３スリットＳＬ３を省略しているものの、第１スリットＳＬ１及び第２スリットＳＬ２は、迷光に起因した画質の低下を生じ難くする効果へ寄与し得る。従って、図１０の構造を採用すると、迷光に起因した画質の低下を生じ難くすることができ、また、スリットの位置誤差が表示へ及ぼす影響を小さくすることができる。
【0116】
＜３＞変形例
上述した表示装置及びブラックマトリクス基板には、以下に例示するように、様々な変形が可能である。
上述した表示装置及びブラックマトリクス基板には、以下に例示するように、様々な変形が可能である。
【0117】
調光基板２等に設ける回路には、図２とは異なる構成を採用することができる。
例えば、映像信号線ドライバＶＤＲは、映像信号線ＶＳＬへ映像信号として電流信号を供給するものであってもよい。この場合、第１サブ画素ＰＸＲ、第２サブ画素ＰＸＧ、及び第３サブ画素ＰＸＢの各々は、映像信号を書き込む書込期間においては、駆動制御素子ＤＲのゲート－ソース間電圧がこの電流信号に対応した値に設定され、発光期間においては、上記ゲート－ソース間電圧に対応した大きさの駆動電流を発光素子Ｄへ流すように構成してもよい。また、調光基板２には、アクティブマトリクス駆動方式により画像を表示するための回路を採用する代わりに、パッシブマトリクス駆動方式により画像を表示するための回路を採用してもよい。
例えば、映像信号線ドライバＶＤＲは、映像信号線ＶＳＬへ映像信号として電流信号を供給するものであってもよい。この場合、第１サブ画素ＰＸＲ、第２サブ画素ＰＸＧ、及び第３サブ画素ＰＸＢの各々は、映像信号を書き込む書込期間においては、駆動制御素子ＤＲのゲート－ソース間電圧がこの電流信号に対応した値に設定され、発光期間においては、上記ゲート－ソース間電圧に対応した大きさの駆動電流を発光素子Ｄへ流すように構成してもよい。また、調光基板２には、アクティブマトリクス駆動方式により画像を表示するための回路を採用する代わりに、パッシブマトリクス駆動方式により画像を表示するための回路を採用してもよい。
【0118】
発光素子２５として、青色発光ダイオードを使用する代わりに、紫外発光ダイオードを使用してもよい。この場合、充填層３６Ｂは、第３サブ画素ＰＸＢの発光素子２５が射出した光を、第１光及び第２光とは色が異なる第３光へと変換する波長変換層である。例えば、第１波長変換層３６Ｒ、第２波長変換層３６Ｇ、及び充填層３６Ｂは、発光素子２５が射出した紫外光を、それぞれ、赤色光、緑色光及び青色光へと変換する。
【0119】
発光素子２５として、単一種類の発光ダイオードを使用する代わりに、複数種類の発光ダイオードを使用してもよい、例えば、第１サブ画素ＰＸＲ、第２サブ画素ＰＸＧ、及び第３サブ画素ＰＸＢにおいて、赤色発光ダイオード、緑色発光ダイオード及び青色発光ダイオードをそれぞれ使用してもよい。この場合、第１着色層３３Ｒ及び第２着色層３３Ｇの代わりに、下地層３３Ｂについて上述したのと同様の層を設け、第１波長変換層３６Ｒ及び第２波長変換層３６Ｇの代わりに、充填層３６Ｂについて上述したのと同様の層を設けてもよい。
【0120】
上記の表示装置はカラー画像の表示が可能であるが、表示装置は、モノクローム画像を表示するものであってもよい。例えば、表示装置１Ａにおいて、第１サブ画素ＰＸＲ及び第２サブ画素ＰＸＧを省略し、発光素子２５として青色発光ダイオードを使用し、充填層３６Ｂを、青色光を黄色光へ変換する波長変換層とする。充填層３６Ｂが、これに入射した青色光の一部を黄色光へ変換し、残りを透過させる場合、青色と黄色との加法混色による白色の表示が可能である。
【0121】
ブラックマトリクス基板は、ブラックマトリクス３２と樹脂層３４との間に介在したオーバーコート層を更に含んでいてもよい。オーバーコート層は、透明樹脂と、紫外線吸収剤、イエロー顔料及び透明粒子の１以上とを含むことができる。紫外線吸収剤を含んだオーバーコート層は、樹脂層３４へ入射した迷光が紫外光である場合に、これを吸収し得る。
【0122】
表示装置は、液晶表示装置であってもよい。そのような表示装置は、例えば、ブラックマトリクス基板と、調光基板と、それらの間に介在した液晶層とを備えた液晶表示パネルを含む。この表示装置は、液晶表示パネルを調光基板側から照明するバックライトユニットを更に含むことができる。
【符号の説明】
【0123】
１Ａ…表示装置、１Ｘ…表示装置、２…調光基板、３Ａ…ブラックマトリクス基板、３Ｂ…ブラックマトリクス基板、３Ｘ…ブラックマトリクス基板、４…接着層、２１…基板、２２…半導体層、２３Ａ…導体層、２３Ｂ…導体層、２３Ｃ…導体層、２３Ｄ…導体層、２４Ａ…絶縁層、２４Ｂ…絶縁層、２４Ｃ…絶縁層、２５…発光素子、２６…隔壁層、２７…充填層、２８…導体層、３１…透明基板、３２…ブラックマトリクス、３３Ｂ…下地層、３３Ｇ…第２着色層、３３Ｒ…第１着色層、３４…樹脂層、３５…反射層、３６Ｂ…充填層、３６Ｇ…第２波長変換層、３６Ｒ…第１波長変換層、２５１…第１層、２５２…第２層、２５３…第３層、Ｃ…キャパシタ、Ｄ…発光素子、ＤＲ…駆動制御素子、Ｌ…光、ＰＳＬ…電源線、ＰＸ…画素、ＰＸＢ…第３サブ画素、ＰＸＧ…第２サブ画素、ＰＸＲ…第１サブ画素、ＳＤＲ…走査信号線ドライバ、ＳＬ１…第１スリット、ＳＬ２…第２スリット、ＳＬ３…第３スリット、ＳＳＬ…走査信号線、ＳＷ…スイッチ、ＶＤＲ…映像信号線ドライバ、ＶＳＬ…映像信号線、Ｗ１…距離、Ｗ２…幅、Ｗｘ１…距離、Ｗｘ２…幅、Ｗｙ１…距離、Ｗｙ２…幅。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
