(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023172105
(43)【公開日】2023-12-06
(54)【発明の名称】光処理装置及び光処理方法
(51)【国際特許分類】
B01J 19/12 20060101AFI20231129BHJP
C08J 7/00 20060101ALN20231129BHJP
【ＦＩ】
B01J19/12 F
B01J19/12 C
C08J7/00 304
C08J7/00 CER
C08J7/00 CEZ
【審査請求】未請求
【請求項の数】12
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022083683
(22)【出願日】2022-05-23
(71)【出願人】
【識別番号】000102212
【氏名又は名称】ウシオ電機株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110000729
【氏名又は名称】弁理士法人ユニアス国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】山森 賢治
(72)【発明者】
【氏名】佐藤 伸吾
【テーマコード（参考）】
4F073
4G075
【Ｆターム（参考）】
4F073AA01
4F073BB01
4F073CA45
4F073CA62
4G075AA30
4G075AA65
4G075BA05
4G075CA02
4G075CA33
4G075CA34
4G075DA02
4G075DA18
4G075EA07
4G075EB31
4G075ED11
4G075FA01
4G075FB02
(57)【要約】
【課題】高い処理能力を有し、均質な表面改質を行うことができる光処理装置を提供する。
【解決手段】光処理装置は、２０５ｎｍ以下の波長帯域に属する紫外光を照射する、少なくとも一つの光源と、前記少なくとも一つの光源を覆い、前記紫外光が出射する方向に開口を有するランプハウスと、前記ランプハウスとの間に隙間を空けつつ、前記開口と対向する位置を横切るように、被処理材を一方向に搬送する、搬送体と、前記ランプハウスの下流に配置され、前記搬送体を昇温させる加熱器と、前記紫外光を前記被処理材に照射しながら前記被処理材を搬送するように制御する、制御部と、を備え、前記制御部は、前記加熱器を制御して、前記少なくとも一つの光源により昇温した前記搬送体の温度低下を抑えるように前記搬送体を昇温させる。
【選択図】図１
【解決手段】光処理装置は、２０５ｎｍ以下の波長帯域に属する紫外光を照射する、少なくとも一つの光源と、前記少なくとも一つの光源を覆い、前記紫外光が出射する方向に開口を有するランプハウスと、前記ランプハウスとの間に隙間を空けつつ、前記開口と対向する位置を横切るように、被処理材を一方向に搬送する、搬送体と、前記ランプハウスの下流に配置され、前記搬送体を昇温させる加熱器と、前記紫外光を前記被処理材に照射しながら前記被処理材を搬送するように制御する、制御部と、を備え、前記制御部は、前記加熱器を制御して、前記少なくとも一つの光源により昇温した前記搬送体の温度低下を抑えるように前記搬送体を昇温させる。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
２０５ｎｍ以下の波長帯域に属する紫外光を照射する、少なくとも一つの光源と、
前記少なくとも一つの光源を覆い、前記紫外光が出射する方向に開口を有するランプハウスと、
前記ランプハウスとの間に隙間を空けつつ、前記開口と対向する位置を横切るように、被処理材を一方向に搬送する、搬送体と、
前記ランプハウスの下流に配置され、前記搬送体を昇温させる加熱器と、
前記紫外光を前記被処理材に照射しながら前記被処理材を搬送するように制御する、制御部と、を備え、
前記制御部は、前記加熱器を制御して、前記少なくとも一つの光源により昇温した前記搬送体の温度低下を抑えるように、前記搬送体を昇温させることを特徴とする、光処理装置。
前記少なくとも一つの光源を覆い、前記紫外光が出射する方向に開口を有するランプハウスと、
前記ランプハウスとの間に隙間を空けつつ、前記開口と対向する位置を横切るように、被処理材を一方向に搬送する、搬送体と、
前記ランプハウスの下流に配置され、前記搬送体を昇温させる加熱器と、
前記紫外光を前記被処理材に照射しながら前記被処理材を搬送するように制御する、制御部と、を備え、
前記制御部は、前記加熱器を制御して、前記少なくとも一つの光源により昇温した前記搬送体の温度低下を抑えるように、前記搬送体を昇温させることを特徴とする、光処理装置。
【請求項2】
前記搬送体は、前記ランプハウスの上流に配置された第一プーリと前記ランプハウスの下流に配置された第二プーリとの間に張架された無端ベルトであることを特徴とする、請求項１に記載の光処理装置。
【請求項3】
前記加熱器は、前記搬送体に向けて赤外線を放射することを特徴とする、請求項１又は２に記載の光処理装置。
【請求項4】
前記加熱器は、前記搬送体に向けて加熱流体を噴射することを特徴とする、請求項１又は２に記載の光処理装置。
【請求項5】
前記加熱器は、前記第二プーリの表面を昇温することで、前記無端ベルトを間接的に昇温させることを特徴とする、請求項２に記載の光処理装置。
【請求項6】
前記ランプハウスの上流に配置され、前記搬送体を昇温させる第二加熱器を備えることを特徴とする、請求項１又は２に記載の光処理装置。
【請求項7】
前記ランプハウスの上流と前記ランプハウスの下流の少なくともいずれか一方に、排気室を備えることを特徴とする、請求項１又は２に記載の光処理装置。
【請求項8】
前記無端ベルトの主な材料はステンレス鋼であることを特徴とする、請求項２又は５に記載の光処理装置。
【請求項9】
前記無端ベルトは、前記無端ベルトの厚み方向に貫通する貫通孔を有していることを特徴とする、請求項２又は５に記載の光処理装置。
【請求項10】
前記開口に対向する位置にガイドローラを備え、前記無端ベルトは、前記開口と前記ガイドローラに挟まれることを特徴とする、請求項２又は５に記載の光処理装置。
【請求項11】
前記加熱器で昇温される前、若しくは、昇温された後の前記搬送体の温度、又は前記加熱器の放射熱量を測定するセンサを備えていることを特徴とする、請求項１又は２に記載の光処理装置。
【請求項12】
表面に樹脂を有する被処理材を一方向に搬送体で搬送しながら、酸素が存在するランプハウス内で、光源が放射する２０５ｎｍ以下の波長帯域に属する紫外光を前記被処理材に照射し、
前記ランプハウスから搬出された前記被処理材を、前記光源により昇温した前記搬送体の温度低下を抑えるように、前記搬送体を昇温させることを特徴とする、光処理方法。
前記ランプハウスから搬出された前記被処理材を、前記光源により昇温した前記搬送体の温度低下を抑えるように、前記搬送体を昇温させることを特徴とする、光処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光処理装置及び光処理方法に関する。
【背景技術】
【0002】
被処理材の表面に紫外光を照射して該表面を改質する、表面改質方法が知られている。例えば、特許文献１には、フッ素樹脂の表面に処理ガスを供給しながら紫外光を照射して当該表面を改質する表面改質方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】国際公開第２０２２／０２４８８２号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
紫外光を使用した表面改質技術が進展するにつれて、光処理装置の改善が要請されている。本発明は、高い処理能力を有し、均質な表面改質を行うことができる光処理装置及び光処理方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明の光処理装置は、２０５ｎｍ以下の波長帯域に属する紫外光を照射する、少なくとも一つの光源と、
前記少なくとも一つの光源を覆い、前記紫外光が出射する方向に開口を有するランプハウスと、
前記ランプハウスとの間に隙間を空けつつ、前記開口と対向する位置を横切るように、被処理材を一方向に搬送する、搬送体と、
前記ランプハウスの下流に配置され、前記搬送体を昇温させる加熱器と、
前記紫外光を前記被処理材に照射しながら前記被処理材を搬送するように制御する、制御部と、を備え、
前記制御部は、前記加熱器を制御して、前記光源により昇温した前記搬送体の温度低下を抑えるように前記搬送体を昇温させる。
前記少なくとも一つの光源を覆い、前記紫外光が出射する方向に開口を有するランプハウスと、
前記ランプハウスとの間に隙間を空けつつ、前記開口と対向する位置を横切るように、被処理材を一方向に搬送する、搬送体と、
前記ランプハウスの下流に配置され、前記搬送体を昇温させる加熱器と、
前記紫外光を前記被処理材に照射しながら前記被処理材を搬送するように制御する、制御部と、を備え、
前記制御部は、前記加熱器を制御して、前記光源により昇温した前記搬送体の温度低下を抑えるように前記搬送体を昇温させる。
【0006】
２０５ｎｍ以下の波長帯域に属する紫外光は真空紫外（ＶＵＶ）光と言われる光である。該波長帯域に属する紫外光は、環境中の酸素分子から、酸素ラジカル及びオゾンを生成する。酸素ラジカル及びオゾンは被処理材の表面と反応し、該表面を改質する能力を有する。一方で、２０５ｎｍ以下の波長帯域に属する紫外光は、酸素分子に対する光吸収が大きい。被処理材は、搬送体によって、ランプハウスの開口と対向する位置を横切るように移動される。
【0007】
ランプハウスの開口と対向する位置とは、ランプハウス内に配置された光源からの出射光が到達する、ランプハウス直下の位置である。被処理材を、ランプハウス内に配置された光源からの出射光が到達する位置を横切るように通過させる。これにより、被処理材の改質処理を連続的に行うことができ、改質処理を大面積かつ短時間で行うことができる。「搬送体」とは、被処理材を載置して被処理材を移動させる搬送手段である。詳細は後述するが、「搬送体」の具体例として、ベルトコンベヤ及び可動ステージが挙げられる。
【0008】
光源は、２０５ｎｍ以下の波長帯域に属する紫外光だけでなく、赤外線をも放射する。ランプハウスの開口と対向する位置、すなわち、ランプハウス直下では、赤外線の光エネルギーにより搬送体の温度が上昇する。一方で、赤外線が届かないランプハウス直下の位置の外では、搬送体は赤外線の影響を受けない。
【0009】
本発明者は、搬送体が、ランプハウスの内から外へ搬出されるとき、搬送体に撓みが生じるおそれがあることに気付いた。搬送体の一部がランプハウスの直下に位置し、残りがランプハウス直下の外に位置するとき、搬送体の内部に温度ばらつきを生じ、熱膨張差から撓みが発生するためである。搬送体に撓みが発生すると、光源と被処理材の間隔が変化し、光源との間隔を一定に保ったまま搬送体を一方向に通過させられず、所望の改質処理を均質に行うことができない。
【0010】
そこで、本発明者は、搬送体を昇温させる加熱器をランプハウスの下流に配置し、加熱器で、ランプハウスから搬出された搬送体を加熱させる。これにより、搬送体の一部がランプハウスの直下に位置し、残りがランプハウスの直下の外に位置するときでも、搬送体の内部の温度ばらつきを抑えて、熱膨張差による撓みを小さくできる。その結果、光源との間隔を保ったまま搬送体を一方向に通過させることができ、所望の改質処理を均質に行うことができる。
【0011】
前記搬送体は、前記ランプハウスの上流に配置された第一プーリと前記ランプハウスの下流に配置された第二プーリとの間に張架された無端ベルトであっても構わない。
【0012】
前記加熱器は、前記搬送体に向けて赤外線を放射しても構わない。
【0013】
前記加熱器は、前記搬送体に向けて加熱流体を噴射しても構わない。
【0014】
前記加熱器は、前記第二プーリの表面を昇温することで、前記無端ベルトを間接的に昇温させても構わない。
【0015】
前記光処理装置は、さらに、前記ランプハウスの上流に配置され、前記搬送体を昇温させる第二加熱器を備えても構わない。撓みを小さくして、光源と被処理材の間隔をより保つことができる。
【0016】
前記光処理装置は、さらに、前記ランプハウスの上流と前記ランプハウスの下流の少なくともいずれか一方に、排気室を備えても構わない。ランプハウス内の酸素濃度及び湿度を制御しやすくなる。
【0017】
前記無端ベルトの主な材料はステンレス鋼であっても構わない。ステンレス鋼は上記紫外光に対して高い耐食性を有する。前記無端ベルトは、前記無端ベルトの厚み方向に貫通する貫通孔を有していても構わない。
【0018】
前記光処理装置は、さらに、前記開口に対向する位置にガイドローラを備え、前記無端ベルトは、前記開口と前記ガイドローラに挟まれても構わない。ガイドローラは、金属製又は樹脂製であっても構わない。ガイドローラは、幅方向に分割されていても構わない。
【0019】
前記光処理装置は、さらに、前記加熱器で昇温される前、若しくは、昇温された後の前記搬送体の温度、又は前記加熱器の放射熱量を測定するセンサを備えていても構わない。
前記制御部は、前記センサから得た温度結果に基づいて、前記加熱器を制御しても構わない。
前記制御部は、前記センサから得た温度結果に基づいて、前記加熱器を制御しても構わない。
【0020】
本発明の光処理方法は、表面に樹脂を有する被処理材を一方向に搬送体で搬送しながら、酸素が存在するランプハウス内で、光源が放射する２０５ｎｍ以下の波長帯域に属する紫外光を前記被処理材に照射し、
前記ランプハウスから搬出された前記被処理材を、前記光源により昇温した前記搬送体の温度低下を抑えるように、前記搬送体を昇温させる。
前記ランプハウスから搬出された前記被処理材を、前記光源により昇温した前記搬送体の温度低下を抑えるように、前記搬送体を昇温させる。
【発明の効果】
【0021】
高い処理能力を有し、均質な表面改質を行うことができる光処理装置及び光処理方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【0022】
【図1】光処理装置の第一実施形態を示す図である。
【図2】ランプハウスの後部分から第二プーリまでの領域を拡大した図である。
【図3】表面改質前の被処理材の表面と表面改質後の被処理材の表面を示す図である。
【図4】第一プーリの形状を示す図である。
【図5】本実施形態のガイドローラを示す図である。
【図6】光処理装置の第二実施形態を示す図である。
【図8】光処理装置の第三実施形態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0023】
図面を参照しながら実施形態を説明する。なお、本明細書に開示された各図面は、あくまで模式的に図示されたものである。すなわち、図面上の寸法比と実際の寸法比とは必ずしも一致しておらず、また、各図面間においても寸法比は必ずしも一致していない。
【0024】
以下において、各図面は、ＸＹＺ座標系を参照しながら説明される。本明細書において、方向を表現する際に、正負の向きを区別する場合には、「＋Ｘ方向」、「－Ｘ方向」のように、正負の符号を付して記載される。正負の向きを区別せずに方向を表現する場合には、単に「Ｘ方向」と記載される。すなわち、本明細書において、単に「Ｘ方向」と記載されている場合には、「＋Ｘ方向」と「－Ｘ方向」の双方が含まれる。Ｙ方向及びＺ方向についても同様である。以下に述べる実施形態では、重力方向が－Ｚ方向であり、搬送体上で被処理材が搬送される搬送方向が＋Ｙ方向であり、被処理材の幅方向はＸ方向である。
【0025】
＜第一実施形態＞
［光処理装置の概要］
図１とともに、光処理装置の第一実施形態を示す。光処理装置１００は、２０５ｎｍ以下の波長帯域に属する紫外光を照射する三つの光源３と、三つの光源３を覆うように配置されるランプハウス２と、被処理材４を搬送する搬送体と、を備える。詳細は後述するが、本実施形態において、搬送体としてコンベヤベルト１（以下、単に、「ベルト１」と言うことがある。）を使用している。
［光処理装置の概要］
図１とともに、光処理装置の第一実施形態を示す。光処理装置１００は、２０５ｎｍ以下の波長帯域に属する紫外光を照射する三つの光源３と、三つの光源３を覆うように配置されるランプハウス２と、被処理材４を搬送する搬送体と、を備える。詳細は後述するが、本実施形態において、搬送体としてコンベヤベルト１（以下、単に、「ベルト１」と言うことがある。）を使用している。
【0026】
光源３が出射する紫外光Ｌ１は、真空紫外光、より詳細には、少なくとも波長２０５ｎｍ以下の波長帯域に属する紫外光である。本明細書において使用される、「少なくとも波長２０５ｎｍ以下の波長帯域に属する紫外光」とは、光源３の発光スペクトルにおいて、少なくとも２０５ｎｍ以下に発光強度を示す光である。斯かる光は、例えば、（１）ブロードな波長帯域に強度を示しつつ、最大強度を示すピーク発光波長が２０５ｎｍ以下となる発光スペクトルを示す光、（２）複数の極大強度（複数のピーク）を示す発光スペクトル示しつつ、複数のピークのうちいずれかのピークが２０５ｎｍ以下の波長範囲に含まれるような発光スペクトルを示す光、（３）発光スペクトル内における全積分強度に対して、２０５ｎｍ以下の光が、少なくとも３０％以上の積分強度を示す光、を含む。
【0027】
本実施形態のランプハウス２の内壁には、不活性ガスを供給するための複数のガス供給口８を有する。複数のガス供給口８はガス供給源９に接続される。本実施形態では不活性ガスとして窒素を使用する。ガス供給源９からガス供給口８に窒素を供給し、ガス供給口８からランプハウス２内に窒素を吹き出す。詳細は後述するが、これにより、ランプハウス２内の酸素濃度を低下させる。なお、ランプハウス２自体を不活性ガスの多い環境下に配置することなどによっても、ランプハウス２内の酸素濃度を低下させ得ることができる。よって、ランプハウス２内に設けられるガス供給口８は、本発明にとって必須の構成ではない。
【0028】
ベルト１に近接してランプハウス２の開口がある。光処理装置１００は、ベルト１を挟んで、ランプハウス２の開口の反対側に、排気空間形成器５と、排気口２４とを有する。ガス供給口８より供給された不活性ガスの大部分は、ベルト１を回り込み、排気空間形成器５で収集されて、排気口２４から排気される。
【0029】
本実施形態のベルト１は環状であるため無端である。ベルト１は、相対的に－Ｙ方向に位置する第一プーリ１１と、相対的に＋Ｙ方向に位置する第二プーリ１２との間を張架される。ベルト１は、ランプハウス２との間に隙間を空けつつ、被処理材４を、ランプハウス２の開口と対向する位置を横切るように、移動させる。
【0030】
位置Ｙ１と位置Ｙ２は、ベルト１の上側（＋Ｚ側）にある。位置Ｙ１は、ランプハウス２及び位置Ｙ２より上流側（－Ｙ側）に位置する。位置Ｙ２は、位置Ｙ１及びランプハウス２より下流側（＋Ｙ側）に位置する。位置Ｙ１において被処理材４がベルト１の部分上に載置されて、載置された被処理材４がベルト１の部分とともに下流方向（＋Ｙ方向）に移動し、ランプハウス２の直下で被処理材４が改質処理されて、位置Ｙ２において被処理材４がベルト１上から離脱される。被処理材４のベルト１上への載置、又は、被処理材４のベルト１からの離脱は、不図示のハンドリングロボット又は別のコンベヤベルト等により行われても構わない。
【0031】
光処理装置１００は、第一プーリ１１と第二プーリ１２との間に、ベルト１を支持する複数のガイドローラ１３を有する。光源３と被処理材４との間隔の変動を小さくするために、ガイドローラ１３は、特に、光源３の近くに数多く配置されるとよい。本実施形態では、ランプハウス２の開口の下方に６本のガイドローラ１３を有する。また、光処理装置１００は、ベルト１に一定の張力を付与するためのダンサーローラ１４を有する。
【0032】
［加熱器］
光処理装置１００は、ランプハウス２の下流に位置するベルト１を昇温させる加熱器を有する。本実施形態の場合、加熱器は、第二プーリ１２に内蔵されたヒータ２１と加熱ガス供給部２２である。ランプハウス２の下流に位置する第二プーリ１２に内蔵されたヒータ２１は、第二プーリ１２の表面を昇温させる。これにより、第二プーリ１２に接するベルト１を加熱する。
光処理装置１００は、ランプハウス２の下流に位置するベルト１を昇温させる加熱器を有する。本実施形態の場合、加熱器は、第二プーリ１２に内蔵されたヒータ２１と加熱ガス供給部２２である。ランプハウス２の下流に位置する第二プーリ１２に内蔵されたヒータ２１は、第二プーリ１２の表面を昇温させる。これにより、第二プーリ１２に接するベルト１を加熱する。
【0033】
加熱ガス供給部２２からベルト１に向けて加熱ガス２３を吹き付ける。これにより、ランプハウス２の下流のベルト１を加熱する。加熱ガス供給部２２とベルト１の間に、被処理材４が存在しても構わない。被処理材４を昇温させることで、間接的にベルト１を昇温させられる。加熱ガス供給部２２以外の加熱器（詳細は後述する）とベルト１との間に被処理材４がある場合でも、同様である。
【0034】
加熱器（２１，２２）の作用を図２とともに説明する。図２は、図１のランプハウス２の後部分から第二プーリ１２までの領域を拡大した図である。ただし、図２では、加熱器（２１，２２）が動作していない状態を示す。つまり、第二プーリ１２は加熱されず、加熱ガス供給部２２は、加熱ガス２３をベルト１に吹き付けていない。加熱器（２１，２２）を動作させない状態で光源３を点灯させ、紫外光Ｌ１をベルト１に照射する。そうすると、図２に示すように、ベルト１が、＋Ｚ方向の膨らみをＹ方向へ周期的に有する波状の撓みＤ１を発生させることがある。なお、図２において、ガイドローラ１３に接する一点鎖線２５は、撓みＤ１がない場合のベルト１の位置である。
【0035】
この撓みＤ１は、以下の機序に基づいて起こると推察される。まず、光源３は、２０５ｎｍ以下の波長帯域に属する紫外光Ｌ１のみならず、赤外線も放射する。光源３を点灯させると、赤外線によりランプハウス２直下のベルト１が加熱されて、ベルト１が膨脹する。ベルト１の膨張は、ベルト１の長さ方向、幅方向及び厚み方向に生じる。次に、加熱されたベルト１がランプハウス２から出てしばらく走行すると、ベルト１が自然冷却されて、膨張していたベルト１が収縮する。つまり、ベルト１内に熱膨張差が生じる。
【0036】
第一プーリ１１から第二プーリ１２までの間は、ベルト１は一定速度で移動する。そのため、一定速度で移動するベルト１の内部に熱膨張差が生じると、ベルト１に波状の撓みＤ１が現れる。なお、図２ではベルト１のＹＺ平面に表れる撓みＤ１のみを示しているが、ベルト１は、幅方向（Ｘ方向）にも撓む。このような撓みの大きさは、撓みがない場合の一点鎖線２５の位置に対して、＋Ｚ方向に３ｍｍに達することがある。なお、光処理装置１００が室温（約２０℃）の環境にあるとき、光源３の近傍のベルト１は、点灯する光源３に加熱されて、ベルト１の表面が５０℃に到達することもある。
【0037】
ベルト１の波状の撓みＤ１は、被処理材４と光源３との間隔を狭くする。光源３と被処理材４の間隔が狭くなると、所望の改質処理を均質に行うことができなくなる。また、ベルト１の撓みＤ１がとりわけ大きくなると、ベルト１に載置された被処理材４が、光源３に干渉したり、ランプハウス２から搬出されるとき、ランプハウス２に干渉したりするおそれがある。
【0038】
そこで、本発明者は、加熱されたベルト１がランプハウス２から出た後に、ベルト１の温度が低下しないように、加熱器（２１，２２）を使用してベルト１を昇温させることにした。これにより、ベルト１の熱膨張がランプハウス２から第二プーリ１２まで続くことになり、ベルト１の熱膨脹ばらつきを抑えられる。その結果、波状の撓みＤ１が小さくなって、ベルト１の位置が一点鎖線２５に近づくか、又は、一点鎖線２５と重なるようになる。そして、光源３と被処理材４の間隔を保ち、所望の改質処理を均質に行うことができる。
【0039】
［加熱器の制御］
図１に示されるように、光処理装置１００は、加熱器（２１，２２）を制御する制御部１９を備える。制御部１９は、加熱器（２１，２２）を所望の温度になるように加熱制御する。本実施形態では、光処理装置１００は、温度センサ１８を有する。温度センサ１８は、ランプハウス２の下流に位置し、かつ、加熱器（２１，２２）の上流に位置する。温度センサ１８を使用して、ベルト１の、ランプハウス２の下流、かつ、加熱器（２１，２２）の上流の位置の温度を検出する。本実施形態では、温度センサ１８として、ベルト１の放射熱量を検出するセンサ（放射温度計）を使用している。これにより、動くベルト１の温度を非接触で検出できる。
図１に示されるように、光処理装置１００は、加熱器（２１，２２）を制御する制御部１９を備える。制御部１９は、加熱器（２１，２２）を所望の温度になるように加熱制御する。本実施形態では、光処理装置１００は、温度センサ１８を有する。温度センサ１８は、ランプハウス２の下流に位置し、かつ、加熱器（２１，２２）の上流に位置する。温度センサ１８を使用して、ベルト１の、ランプハウス２の下流、かつ、加熱器（２１，２２）の上流の位置の温度を検出する。本実施形態では、温度センサ１８として、ベルト１の放射熱量を検出するセンサ（放射温度計）を使用している。これにより、動くベルト１の温度を非接触で検出できる。
【0040】
図１は、加熱器（２１，２２）、温度センサ１８、及び制御部１９が、電力線で接続される様子を示す。温度センサ１８で、加熱器（２１，２２）で昇温する前、又は、昇温した後のベルト１の温度を測定する。温度センサ１８で検出した電気信号を制御部１９に送り、制御部１９は、検出した温度に基づいて加熱器（２１，２２）の出力を決定できる。なお、図２では、電力線は省略している。
【0041】
また、他の加熱器（２１，２２）と共有する制御部１９で温度制御を行うだけでなく、加熱器（２１，２２）のそれぞれに、個々の温度センサが取り付けられても構わない。前記個々の温度センサの検出信号に基づいて、加熱器（２１，２２）を制御しても構わない。温度センサは、熱電対又は測温抵抗体などを使用しても構わない。
【0042】
なお、図１では全ての電力線（電気通信線）を示していない。制御部１９は、光処理装置１００の動作制御（例えば、第一プーリ１１の駆動制御、光源３の点灯制御、不活性ガスの供給量制御）を行っても構わない。
【0043】
制御部１９は、光処理装置１００のために設けられた専用の制御部でも構わないし、他の装置又はシステムと共有する制御部でも構わない。制御部に、プログラマブルロジックコントローラ（若しくはシーケンサ）、パーソナルコンピュータ、又は汎用コンピュータを使用してもよい。
【0044】
本実施形態の加熱器は、第二プーリ１２に内蔵されるヒータ２１と加熱ガス供給部２２であることを説明したが、これに限らない。加熱器（２１，２２）は、例えば、第二プーリ１２とは別体のヒータであっても構わない。また、加熱器（２１，２２）に赤外線放射ヒータを使用しても構わない。また、本実施形態は、二つの加熱器（２１，２２）を有していたが、少なくとも一つの加熱器を有しておればよい。
【0045】
ベルト１の部分領域が第二プーリ１２の回りを通過すると、ベルト１の部分領域は第一プーリ１１に向かって戻る。このとき、ベルト１の部分領域は自然冷却される。そのため、環状のベルト１が第一プーリ１１と第二プーリ１２の回りを一回転した後においても、ベルト１は加熱器による加熱を要する。
【0046】
加熱器（２１，２２）がベルト１の温度低下を防いでいるか否かの判別方法を説明する。加熱器（２１，２２）を動作させたときのベルト１の温度と、加熱器（２１，２２）を動作させないときのベルト１の温度の両方を測定する。そして、加熱器（２１，２２）を動作させたときのベルト１の温度が、加熱器（２１，２２）を動作させないときのベルト１の温度より高ければ、加熱器（２１，２２）がベルト１の温度低下を防いでいることが確認される。
【0047】
［被処理材］
本実施形態で使用される被処理材４は、プリプレグと呼ばれる、紙やガラス等の基材に樹脂を含浸させた樹脂シートである。斯かる樹脂シートに銅箔を接合して硬化させた銅張積層板（ＣＣＬ）より層間絶縁フィルムを形成する。層間絶縁フィルムは、高周波回路基板等に使用される。前記樹脂シートに銅箔を接合する際、前記樹脂シートの銅箔に対する接合力を高めるために、上述の表面改質処理が使用される。
本実施形態で使用される被処理材４は、プリプレグと呼ばれる、紙やガラス等の基材に樹脂を含浸させた樹脂シートである。斯かる樹脂シートに銅箔を接合して硬化させた銅張積層板（ＣＣＬ）より層間絶縁フィルムを形成する。層間絶縁フィルムは、高周波回路基板等に使用される。前記樹脂シートに銅箔を接合する際、前記樹脂シートの銅箔に対する接合力を高めるために、上述の表面改質処理が使用される。
【0048】
被処理材４には樹脂シート以外の材料も適用され得る。接合力の向上以外の目的で改質処理を行うこともあり得る。被処理材４は、他に、厚みのある堅い板状基板でも構わないし、長尺の可撓性フィルムでも構わないし、板状ではない立体形状でも構わない。被処理材４のＹ方向長さは、ランプハウス２のＹ方向長さより短くても構わないし、長くても構わない。被処理材４のＸ方向の幅は、ランプハウス２のＸ方向の幅より短い。
【0049】
［改質メカニズム］
本実施形態の表面改質の機序を説明する。本実施形態で使用する、少なくとも波長２０５ｎｍ以下の波長帯域に属する紫外光ｈνは、環境中の酸素分子に作用して原子状酸素を生成する。Ｏ（１Ｄ）は反応性の高い原子状酸素（酸素ラジカル）であり、酸化作用を有する。Ｏ（３Ｐ）は基底状態の原子状酸素を示す。これを（１）式に示す。
ｈν＋Ｏ２ → Ｏ（１Ｄ）＋Ｏ（３Ｐ） ・・・（１）
本実施形態の表面改質の機序を説明する。本実施形態で使用する、少なくとも波長２０５ｎｍ以下の波長帯域に属する紫外光ｈνは、環境中の酸素分子に作用して原子状酸素を生成する。Ｏ（１Ｄ）は反応性の高い原子状酸素（酸素ラジカル）であり、酸化作用を有する。Ｏ（３Ｐ）は基底状態の原子状酸素を示す。これを（１）式に示す。
ｈν＋Ｏ２ → Ｏ（１Ｄ）＋Ｏ（３Ｐ） ・・・（１）
【0050】
基底状態の原子状酸素であるＯ（３Ｐ）は、第三体Ｍの存在下で酸素分子と結合して、オゾン（Ｏ３）を生成する。これを（２）式に示す。オゾンは、酸化作用を有する。
Ｏ（３Ｐ）＋Ｏ２＋Ｍ → Ｏ３＋Ｍ ・・・（２）
Ｏ（３Ｐ）＋Ｏ２＋Ｍ → Ｏ３＋Ｍ ・・・（２）
【0051】
空気に含まれる水蒸気もまた、以下の（３）式及び（４）式により、酸化作用のある、ヒドロキシラジカル（・ＯＨ）を生成する。
ｈν＋Ｈ２Ｏ → ・ＯＨ＋Ｈ ・・・（３）
Ｏ（１Ｄ）＋Ｈ２Ｏ → ２（・ＯＨ） ・・・（４）
ｈν＋Ｈ２Ｏ → ・ＯＨ＋Ｈ ・・・（３）
Ｏ（１Ｄ）＋Ｈ２Ｏ → ２（・ＯＨ） ・・・（４）
【0052】
図３は、被処理材４であるプリプレグの表面を模式的に示した図である。被処理材４ａは、改質処理前の樹脂シートの表面を表す。樹脂シートの表面は炭化水素基が露出する。本実施形態では、樹脂シートの表面に露出する高分子中の一部の炭化水素のみを単純化して示している。斯かる表面は疎水性を示す。
【0053】
被処理材４ｂは、改質処理後のプリプレグの表面を表す。酸素分子に紫外光ｈνが照射されることで生成された、酸素ラジカル（Ｏ（１Ｄ））、オゾン（Ｏ３）、又はヒドロキシラジカル（・ＯＨ）が、樹脂の表面の炭化水素基を酸化して、ヒドロキシ基やカルボキシル基に生成する。親水性であるヒドロキシ基やカルボキシル基は、銅との接合性を向上させる。
【0054】
［酸素濃度］
酸素分子はＯ（１Ｄ）又はＯ３を生成するための原料である。しかしながら、被処理材４ｂの表面近傍においてＯ（１Ｄ）又はＯ３を生成する必要があり、酸素分子に吸収されやすい紫外光ｈνを表面近傍まで到達させるため、酸素濃度を低下させて、光路中の酸素分子量を減らさなければならない。そのために、ランプハウス２内に不活性ガスを充填する。
酸素分子はＯ（１Ｄ）又はＯ３を生成するための原料である。しかしながら、被処理材４ｂの表面近傍においてＯ（１Ｄ）又はＯ３を生成する必要があり、酸素分子に吸収されやすい紫外光ｈνを表面近傍まで到達させるため、酸素濃度を低下させて、光路中の酸素分子量を減らさなければならない。そのために、ランプハウス２内に不活性ガスを充填する。
【0055】
ランプハウス２内の酸素濃度は、１０％以下であると良く、５％以下であるとより好ましい。例えば、１７２ｎｍの紫外光が、酸素濃度が１０％以下である空間を４ｍｍ進行すると、５０％以上の光強度を確保でき、１７２ｎｍの紫外光が、酸素濃度が５％以下である空間を４ｍｍ進行すると、７０％以上の光強度を確保できる。とはいえ、上述したように、酸素分子はＯ（１Ｄ）又はＯ３を生成するための原料であるから、原料としての酸素分子を確保するため、酸素濃度は１％以上あると好ましく、３％以上あるとより好ましい。
【0056】
酸素ラジカル（Ｏ（１Ｄ））、オゾン（Ｏ３）、又はヒドロキシラジカル（・ＯＨ）を得るための酸素分子及び水分子の供給源は、ランプハウス２の外の空気である。図１及び図２に示されるように、ランプハウス２とベルト１との間には隙間がある。この隙間は、例えば、３～４ｍｍである。酸素分子及び水分子は、ランプハウス２の外から、ランプハウス２とベルト１の間の隙間を通ってランプハウス２内に流入する。ランプハウス２内の酸素濃度を調整するためには、ガス供給口８から供給される不活性ガスの供給量、排気口２４からのガス吸引力、ランプハウス２とベルト１との隙間の少なくともいずれか一つを制御するとよい。
【0057】
［搬送体］
搬送体であるベルト１は、主にステンレス鋼で形成されている。ステンレス鋼は、酸素ラジカル（Ｏ（１Ｄ））、オゾン（Ｏ３）、又はヒドロキシラジカル（・ＯＨ）に曝されても劣化しにくい高い耐食性を有する。ベルト１は、他の金属製でも構わないし、樹脂製でも構わない。
搬送体であるベルト１は、主にステンレス鋼で形成されている。ステンレス鋼は、酸素ラジカル（Ｏ（１Ｄ））、オゾン（Ｏ３）、又はヒドロキシラジカル（・ＯＨ）に曝されても劣化しにくい高い耐食性を有する。ベルト１は、他の金属製でも構わないし、樹脂製でも構わない。
【0058】
本実施形態のベルト１はシート状である。ベルト１のＸ方向の幅は、被処理材４のＸ方向の幅より大きい。ベルト１のＸ方向の幅は、３８０ｍｍ以上であるとよく、５８０ｍｍ以下であるとよい。なお、ベルト１のＺ方向の厚みは、０．１ｍｍ以上であるとよく、０．５ｍｍ以下であるとよい。ベルト１が厚いと、ベルト１が加熱されにくく撓みにくい。他方で、ベルト１が薄いとベルト１を円滑に移動させやすい。ベルト１の移動速度は、１ｍ／分～５ｍ／分であるとよい。
【0059】
ベルト１は、ベルト１の厚み方向に複数の貫通孔を有していてもよい。ベルト１が、複数の貫通孔を有することにより、ランプハウス２から排気空間形成器５に向かうガスの流れの一部が、ベルト１を回り込むことなく貫通孔を通る。貫通孔により、ガスの乱流抑制効果が得られる。さらに、光処理装置１００が、貫通孔を介して被処理材４を吸着する吸着体を有する場合には、被処理材４をベルト１に吸着固定できる。吸着体は、例えば、貫通孔を吸引する吸引機構であってもよい。
【0060】
［光源］
本実施形態の光源３はキセノンエキシマランプが使用される。キセノンエキシマランプは、キセノンガスが発光管の内部に封入された放電ランプである。キセノンエキシマランプのピーク発光波長は１７２ｎｍである。光源３は、キセノンガス以外のガスが封入された放電ランプであっても構わない。また、光源３は、ＬＥＤ等の固体光源であっても構わない。
本実施形態の光源３はキセノンエキシマランプが使用される。キセノンエキシマランプは、キセノンガスが発光管の内部に封入された放電ランプである。キセノンエキシマランプのピーク発光波長は１７２ｎｍである。光源３は、キセノンガス以外のガスが封入された放電ランプであっても構わない。また、光源３は、ＬＥＤ等の固体光源であっても構わない。
【0061】
図１では、Ｙ方向に三つの光源３が並んで配置されているが、光源３は少なくとも一つあればよい。また、Ｘ方向に光源３が並んで配置されてもよいし、Ｘ方向とＹ方向それぞれに光源３が並んで配置されてもよい。
【0062】
光源３のＸ方向の幅は、被処理材４のＸ方向の幅より大きいとよい。光源３のＸ方向の幅は、例えば、３８０～５８０ｍｍであるとよい。
【0063】
［ランプハウス］
光源３を覆うように配置されるランプハウス２は、光源３が発光する紫外光が出射する方向（－Ｚ方向）に開口を有する。これにより、光源３からの出射光を－Ｚ方向に方向付ける。ランプハウス２の内壁には、紫外光を反射する反射器又は反射層が形成されていてもよい。
光源３を覆うように配置されるランプハウス２は、光源３が発光する紫外光が出射する方向（－Ｚ方向）に開口を有する。これにより、光源３からの出射光を－Ｚ方向に方向付ける。ランプハウス２の内壁には、紫外光を反射する反射器又は反射層が形成されていてもよい。
【0064】
ランプハウス２のＹ方向長さは、例えば、３００ｍｍ～５００ｍｍであるとよい。また、ランプハウス２の＋Ｙ側の端と第二プーリ１２の回転中心とのＹ方向における間隔は、例えば、３００ｍｍ～５００ｍｍであるとよい。
【0065】
［プーリ］
図４は、第一プーリ１１の形状を示している。本実施形態において、第一プーリ１１は、ベルト１を駆動するための駆動プーリである。第一プーリ１１は、Ｘ方向に延びるＸ１軸を中心とする回転体である。第一プーリ１１は、Ｘ方向の中央の径Ｒ１が、Ｘ方向の端の径Ｒ２より少し大きいクラウン形状を呈する。第一プーリ１１のクラウン（曲率半径）Ｒ３は、例えば、１０００００ｍｍ以上であるとよい。径Ｒ１は、例えば、５０ｍｍ～１７０ｍｍであっても構わない。第一プーリ１１の形状は本実施形態に限らず、径がＸ方向に一定の円柱形状であっても構わない。第一プーリ１１の幅方向長さＷ１は、ベルト１のＸ方向の幅より大きい。第一プーリ１１の幅方向長さＷ１は、４００ｍｍ～６００ｍｍであるとよい。
図４は、第一プーリ１１の形状を示している。本実施形態において、第一プーリ１１は、ベルト１を駆動するための駆動プーリである。第一プーリ１１は、Ｘ方向に延びるＸ１軸を中心とする回転体である。第一プーリ１１は、Ｘ方向の中央の径Ｒ１が、Ｘ方向の端の径Ｒ２より少し大きいクラウン形状を呈する。第一プーリ１１のクラウン（曲率半径）Ｒ３は、例えば、１０００００ｍｍ以上であるとよい。径Ｒ１は、例えば、５０ｍｍ～１７０ｍｍであっても構わない。第一プーリ１１の形状は本実施形態に限らず、径がＸ方向に一定の円柱形状であっても構わない。第一プーリ１１の幅方向長さＷ１は、ベルト１のＸ方向の幅より大きい。第一プーリ１１の幅方向長さＷ１は、４００ｍｍ～６００ｍｍであるとよい。
【0066】
第二プーリ１２は、駆動しているベルト１との摩擦によって動く従動プーリである。第二プーリ１２の形状及び各寸法は、第一プーリ１１の上記形状及び上記各寸法と同じであってもよく、異なっていてもよい。第一プーリ１１の回転中心と第二プーリ１２の回転中心との間隔は、８００ｍｍ～１２００ｍｍであってもよい。なお、第一プーリ１１が従動プーリであり、第二プーリ１２が駆動プーリであっても構わない。
【0067】
［ガイドローラ］
図５は、本実施形態のガイドローラ１３のうちの一つを示す。ガイドローラ１３は、ベルト１を支持しつつ、摩擦抵抗を抑えてベルト１を移動させるために使用される。ガイドローラ１３は、幅方向に分割されている。つまり、複数の小ローラ４３（図５では、一つの小ローラ４３のみ符号を付す）がＸ方向に並んで構成される。これにより、ガイドローラ１３とベルト１の接触面積を減らして、ベルト１とガイドローラ１３の双方向の熱伝達量を小さくして、ベルト１がガイドローラ１３による熱影響を受け難くできる。
図５は、本実施形態のガイドローラ１３のうちの一つを示す。ガイドローラ１３は、ベルト１を支持しつつ、摩擦抵抗を抑えてベルト１を移動させるために使用される。ガイドローラ１３は、幅方向に分割されている。つまり、複数の小ローラ４３（図５では、一つの小ローラ４３のみ符号を付す）がＸ方向に並んで構成される。これにより、ガイドローラ１３とベルト１の接触面積を減らして、ベルト１とガイドローラ１３の双方向の熱伝達量を小さくして、ベルト１がガイドローラ１３による熱影響を受け難くできる。
【0068】
ガイドローラ１３は、金属製又は樹脂製であっても構わない。ガイドローラ１３が、金属など熱伝導率の高い材料で主に構成される場合には、複数の小ローラ４３を使用することは特に有効である。ガイドローラ１３に樹脂を使用する場合には、紫外光に対して劣化しにくい樹脂（例えば、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、又はＰＴＦＥ樹脂）を使用するとよい。
【0069】
複数の小ローラ４３の形状と各寸法を例示する。複数の小ローラ４３は、全てＸ方向に沿うＸ１軸を中心とする回転体である。小ローラ４３の径Ｒ３は、５０ｍｍ～１５０ｍｍであるとよい。小ローラ４３の幅Ｗ２は、２０ｍｍ～１００ｍｍであるとよい。小ローラ４３はＸ方向に２～２０個の並んでいるとよい。
【0070】
なお、ガイドローラ１３は、幅方向に分割されない一つのローラから構成されてもよい。また、ガイドローラ１３は、ベルト１を温度調整可能にする温度調整要素を備えていてもよい。温度調整要素は、加熱要素及び冷却要素の少なくとも一つを備えていてもよい。
【0071】
本実施形態の光処理装置１００は、ランプハウス２の外にガイドローラを有していないが、ランプハウス２の外にガイドローラを有しても構わない。
【0072】
［暖機運転］
光源３の点灯開始直後、第一プーリ１１及び第二プーリ１２は室温である。そのため、ベルト１の撓みＤ１は、光源３の点灯開始直後に特に発生しやすい。光源３の点灯から時間が経過するにしたがって、第二プーリ１２等のベルト１に接触する部材が昇温し、撓みＤ１が小さくなる。よって、光処理装置１００を暖機運転させてもよい。暖機運転とは、実際に被処理材４をベルト１に載置して改質処理を始める前に、光処理装置１００を動作させる（すなわち、光源３を点灯させて、加熱器を動作させつつベルト１を回転させる）ことである。これにより、ベルト１が昇温し、ベルト１の撓みＤ１の発生を抑えることができる。暖機運転は、例えば、５～１５分行ってもよい。
光源３の点灯開始直後、第一プーリ１１及び第二プーリ１２は室温である。そのため、ベルト１の撓みＤ１は、光源３の点灯開始直後に特に発生しやすい。光源３の点灯から時間が経過するにしたがって、第二プーリ１２等のベルト１に接触する部材が昇温し、撓みＤ１が小さくなる。よって、光処理装置１００を暖機運転させてもよい。暖機運転とは、実際に被処理材４をベルト１に載置して改質処理を始める前に、光処理装置１００を動作させる（すなわち、光源３を点灯させて、加熱器を動作させつつベルト１を回転させる）ことである。これにより、ベルト１が昇温し、ベルト１の撓みＤ１の発生を抑えることができる。暖機運転は、例えば、５～１５分行ってもよい。
【0073】
＜第二実施形態＞
図６とともに、光処理装置の第二実施形態を説明する。以下に、第一実施形態とは異なる特徴を中心に説明する。第二実施形態に説明がない点については、第一実施形態と同様に実施できる。後述する第三実施形態についても同様である。
図６とともに、光処理装置の第二実施形態を説明する。以下に、第一実施形態とは異なる特徴を中心に説明する。第二実施形態に説明がない点については、第一実施形態と同様に実施できる。後述する第三実施形態についても同様である。
【0074】
第二実施形態の光処理装置２００は、ランプハウス２の上流に第二加熱器を有する。第二加熱器は、ランプハウス２の上流に配置される。そして、第二加熱器は、ランプハウス２の上流に位置するベルト１を昇温させる。本実施形態の第二加熱器は、第一プーリ１１に内蔵されたヒータ４１と赤外線放射ヒータ４２である。ランプハウス２の上流に位置する第一プーリ１１に内蔵されたヒータ４１は、第一プーリ１１の表面を昇温させる。これにより、第一プーリ１１に接するベルト１を加熱する。赤外線放射ヒータ４２は、第一プーリ１１の表面に沿って、ベルト１を挟んで配置されている。赤外線放射ヒータ４２はベルト１に向かって赤外線を放射し、ベルト１を加熱する。赤外線放射ヒータ４２は、ベルト１が、樹脂等の熱放射率の高い材料で構成される場合には、ベルト１の加熱器として特に好ましい。
【0075】
加熱器（４１，４２）の作用を、図７とともに説明する。図７は、図６の第一プーリ１１からランプハウス２の前部分までの領域を拡大した図である。ただし、図７では、加熱器（４１，４２）が動作していない状態を示す。加熱器（４１，４２）を動作させない状態で光源３を点灯させると、ベルト１が、図７に示すように、＋Ｚ方向の膨らみをＹ方向へ周期的に有する波状の撓みＤ２を発生させることがある。なお、図７において、ガイドローラ１３に接する一点鎖線２５は、撓みＤ２がない場合のベルト１の位置である。
【0076】
この撓みＤ２は、撓みＤ１と同様に、ベルト１内の熱膨張量差によって生じると推察される。ランプハウス２の上流では、ベルト１の温度は室温程度であり、ベルト１は収縮した状態にある。他方、ランプハウス２の直下では、光源３からの赤外線により、光源３の近傍のベルト１は加熱されて膨脹する。
【0077】
一定速度で移動するベルト１の内部に熱膨張差が生じると、ベルト１に波状の撓みＤ２が現れる。なお、図７ではベルト１のＹＺ平面に表れる撓みＤ２のみを示しているが、ベルト１は、幅方向（Ｘ方向）にも撓む。
【0078】
そこで、ベルト１がランプハウス２に入る前に、ベルト１を予備的に加熱する。これにより、ランプハウス２の直下におけるベルト１の昇温幅が小さくなる。その結果、ランプハウス２の上流に位置するベルト１と、ランプハウス２の直下に位置するベルト１の間で熱膨張差を抑えられる。その結果、波状の撓みＤ２が小さくなって、ベルト１の位置が、一点鎖線２５に近づくか、又は、一点鎖線２５と重なるようになる。そして、光源３と被処理材４の間隔を保ち、所望の改質処理を均質に行うことができる。
【0079】
図６及び図７に示されるように、光処理装置２００は、第一プーリ１１の表面の温度を測定する温度センサ４５を備えている。これにより、第一プーリ１１の表面の温度を測定することにより、第一プーリ１１に接した直後のベルト１の温度を推定できる。ベルト１が金属等の放射率の低い材料である場合には、ベルト１の放射熱量を測定することが難しい。このとき、第一プーリ１１の表面が相対的に放射率の高い材料である場合には、ベルト１の放射熱量に代えて、第一プーリ１１の放射熱量を測定するとよい。
【0080】
［排気室］
図６に示されるように、光処理装置２００は、ランプハウス２の上流に排気室３０を、ランプハウス２の下流に排気室３１を、備える。排気室（３０，３１）は、それぞれ、排気室（３０，３１）内のガスを排出するための排気口（３２，３３）を有している。排気室（３０，３１）を設けることにより、ランプハウス２とベルト１との間の隙間からランプハウス２内に流入する酸素及び湿度を調整しやすくする。つまり、ランプハウス２内の酸素濃度を調整するために、排気口（３１，３２）の排気量を制御してもよい。
図６に示されるように、光処理装置２００は、ランプハウス２の上流に排気室３０を、ランプハウス２の下流に排気室３１を、備える。排気室（３０，３１）は、それぞれ、排気室（３０，３１）内のガスを排出するための排気口（３２，３３）を有している。排気室（３０，３１）を設けることにより、ランプハウス２とベルト１との間の隙間からランプハウス２内に流入する酸素及び湿度を調整しやすくする。つまり、ランプハウス２内の酸素濃度を調整するために、排気口（３１，３２）の排気量を制御してもよい。
【0081】
＜第三実施形態＞
図８とともに、光処理装置の第三実施形態を説明する。第三実施形態の光処理装置３００では、搬送体は、無端ベルトでなく、端の有る板５１である。板５１はＹ方向に長い。そのため、板５１の一部がランプハウス２の外を移動し自然冷却されるとき、板５１の残りがランプハウス２内で加熱される。よって、板５１はＹ方向に温度差を生じ得る。また、板５１は薄いため、Ｙ方向の温度差による熱膨張差によって、板５１内にＺ方向の撓みが発生することがある。
図８とともに、光処理装置の第三実施形態を説明する。第三実施形態の光処理装置３００では、搬送体は、無端ベルトでなく、端の有る板５１である。板５１はＹ方向に長い。そのため、板５１の一部がランプハウス２の外を移動し自然冷却されるとき、板５１の残りがランプハウス２内で加熱される。よって、板５１はＹ方向に温度差を生じ得る。また、板５１は薄いため、Ｙ方向の温度差による熱膨張差によって、板５１内にＺ方向の撓みが発生することがある。
【0082】
そこで、撓みを小さくするために、ランプハウス２の下流に配置された加熱ガス供給部２２から加熱ガス２３を吹き付けて、板５１を昇温させることが有効である。また、第二実施形態で説明したように、ランプハウス２の上流に配置された第二加熱器である赤外線放射ヒータ４２で、板５１を予備的に加熱することも、有効である。
【0083】
以上で各実施形態及びその変形例を説明した。本発明は、上述の実施形態及びその変形例に限られず、上述の実施形態又は変形例を適宜組み合わせたり、さらなる変更を施したりできる。
【0084】
上述した光処理装置（１００，２００，３００）は、単一のランプハウス２を有していたが、搬送方向（Ｙ方向）に複数のランプハウス２を配置しても構わない。
【0085】
上述した光処理装置（１００，２００，３００）は、紫外光Ｌ１の照射方向が重力方向（－Ｚ方向）と同じ方向となるように示したが、紫外光Ｌ１の照射方向が重力方向と異なっていても構わない。例えば、重力方向に搬送される搬送体に対し、水平方向に紫外光を照射しても構わない。
【符号の説明】
【0086】
１ ：ベルト
２ ：ランプハウス
３ ：光源
４、４ａ、４ｂ：被処理材
５ ：排気空間形成器
８ ：ガス供給口
９ ：ガス供給源
１１ ：第一プーリ
１２ ：第二プーリ
１３ ：ガイドローラ
１４ ：ダンサーローラ
１８，４５：温度センサ
１９ ：制御部
２１，４１：ヒータ
２２ ：加熱ガス供給部
２３ ：加熱ガス
２４，３２，３３：排気口
３０，３１ ：排気室
４２ ：赤外線放射ヒータ
４３ ：小ローラ
５１ ：板
１００，２００，３００ ：光処理装置
Ｄ１，Ｄ２ ：撓み
Ｌ１ ：紫外光
２ ：ランプハウス
３ ：光源
４、４ａ、４ｂ：被処理材
５ ：排気空間形成器
８ ：ガス供給口
９ ：ガス供給源
１１ ：第一プーリ
１２ ：第二プーリ
１３ ：ガイドローラ
１４ ：ダンサーローラ
１８，４５：温度センサ
１９ ：制御部
２１，４１：ヒータ
２２ ：加熱ガス供給部
２３ ：加熱ガス
２４，３２，３３：排気口
３０，３１ ：排気室
４２ ：赤外線放射ヒータ
４３ ：小ローラ
５１ ：板
１００，２００，３００ ：光処理装置
Ｄ１，Ｄ２ ：撓み
Ｌ１ ：紫外光
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
