(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023172682
(43)【公開日】2023-12-06
(54)【発明の名称】熱処理設備
(51)【国際特許分類】
F27B 9/12 20060101AFI20231129BHJP
F27B 9/02 20060101ALI20231129BHJP
F27D 9/00 20060101ALI20231129BHJP
F27D 7/04 20060101ALI20231129BHJP
C21D 1/00 20060101ALI20231129BHJP
C21D 1/773 20060101ALI20231129BHJP
F27D 3/06 20060101ALI20231129BHJP
【FI】
F27B9/12
F27B9/02
F27D9/00
F27D7/04
C21D1/00 113Z
C21D1/00 119
C21D1/773 D
F27D3/06 A
【審査請求】未請求
【請求項の数】3
【出願形態】OL
(21)【出願番号】P 2022084653
(22)【出願日】2022-05-24
(71)【出願人】
【識別番号】000003713
【氏名又は名称】大同特殊鋼株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100076473
【弁理士】
【氏名又は名称】飯田 昭夫
(74)【代理人】
【識別番号】100112900
【弁理士】
【氏名又は名称】江間 路子
(74)【代理人】
【識別番号】100198247
【弁理士】
【氏名又は名称】並河 伊佐夫
(72)【発明者】
【氏名】浅井 康一郎
【テーマコード(参考)】
4K034
4K050
4K055
4K063
【Fターム(参考)】
4K034AA19
4K034DB02
4K034DB03
4K034DB04
4K034DB05
4K034EA02
4K034FA01
4K034FA02
4K050AA02
4K050BA02
4K050CA04
4K050CA12
4K050CC08
4K050CD30
4K050CF02
4K050CF12
4K050CG28
4K050EA03
4K050EA08
4K055AA06
4K055EA00
4K063AA05
4K063AA15
4K063BA02
4K063CA06
4K063DA05
4K063DA22
4K063DA26
4K063DA32
4K063DA34
(57)【要約】
【課題】バッチ式の熱処理チャンバ間での被処理品の搬送を担う搬送ユニット内で被処理品を冷却することが可能で、且つ、その際の冷却速度を調整することが可能な熱処理設備を提供する。
【解決手段】熱処理設備1は、レール10に沿って配置されたバッチ式の第1熱処理チャンバ12及び第2熱処理チャンバ13と、被処理品Wを搬送する搬送ユニット20とを有している。搬送ユニット20は被処理品Wを冷却する冷却チャンバ56を備え、冷却チャンバ56は、炉殻76内に断熱材により区画形成された処理室82を備えるとともに、冷却ガスを循環させる循環ファン100と、冷却ガスの流路79上に設けられたガスクーラ98およびヒータ120を有している。循環ファン100およびガスクーラ98は、処理室82の側方であって炉殻76と処理室82の間に設けられ、ヒータ120は処理室82の上方に設けられている。
【選択図】
図4
【特許請求の範囲】
【請求項1】
(A)搬送軌道に沿って配置されたバッチ式の第1熱処理チャンバおよび第2熱処理チャンバと、
(B)被処理品を収容し冷却ガスにより該被処理品を冷却する冷却チャンバと、前記第1熱処理チャンバ若しくは第2熱処理チャンバと前記冷却チャンバとの間で前記被処理品を受渡しする受渡しチャンバとを備えた搬送ユニットと、
を有し、前記第1熱処理チャンバから受け取った熱処理後の前記被処理品を、前記冷却チャンバで所定温度まで冷却するとともに、前記第2熱処理チャンバまで搬送し装入する熱処理設備であって、
前記冷却チャンバは、炉殻内にて断熱材により区画形成された処理室を備えるとともに、前記冷却ガスを循環させる循環ファンと、前記冷却ガスの流路上に設けられたガスクーラおよびヒータを有し、
前記循環ファンは、炉殻外、または、前記処理室の側方であって前記炉殻と前記処理室の間に設けられ、
前記ガスクーラは、炉殻外、または、前記炉殻と前記処理室の間に設けられ、
前記ヒータは、前記処理室内、前記処理室の上方、前記処理室の下方の何れかに設けられている、熱処理設備。
【請求項2】
前記循環ファンによって循環せしめられる前記冷却ガスの流路に沿って、前記ガスクーラ、前記循環ファン、前記ヒータ、前記被処理品がその順に配置されている、請求項1に記載の熱処理設備。
【請求項3】
前記ガスクーラを回避して前記冷却ガスを流通させるバイパス流路が更に形成されている、請求項2に記載の熱処理設備。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
この発明は被処理品に熱処理を行う熱処理設備に関する。
【背景技術】
【0002】
従来より、鋼部品の材料においては、後工程での切削性を高める目的で恒温焼鈍が実施されている。恒温焼鈍では、鋼を一旦オーステナイト組織に変態させるための加熱工程と、その後目的の温度まで比較的短時間で冷却する中間冷却工程と、その後目的の温度で均熱する均熱工程が実施される。このような恒温焼鈍を実施するに際しては、加熱工程を担う1次炉、中間冷却工程を担う急冷室、均熱工程を担う2次炉の3室を備えた連続雰囲気炉を用い、処理に際して脱炭や酸化防止の為に還元性ガスを炉内に送気しながら処理を行うのが一般的であった(例えば下記特許文献1参照)。
【0003】
上記のような連続雰囲気炉を用いて焼鈍を行った場合、以下の点が課題とされていた。
(1)連続雰囲気炉停止後の再立上げに際して雰囲気が処理に適した状態になるのに時間を要してしまう。(2)その為、処理が無い場合にも炉内雰囲気を維持する為に、炉内温度と雰囲気を維持しておく必要がある。(3)よって、休日も保安要員の配置が必要となり、また炉内状態を維持するために余分なエネルギーを要してしまう。(4)連続炉であることから各処理品重量に応じたヒートパターン設定を行う事が出来ない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開平10-176217号公報
【特許文献2】特開2015-17790号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
上記の問題を解決する手段として、本出願人の特許出願に係る上記特許文献2に示された熱処理設備を用いることが考えられる。上記特許文献2に示された熱処理設備では、バッチ式の複数の熱処理チャンバと、保温チャンバを備え被処理品を搬送する搬送ユニットと、を備えており、保温チャンバにおいては被処理品をガス冷却する機能を備えている。
しかしながら、前記保温チャンバを用いて被処理品に前記中間冷却処理に相当する冷却を行うと、必要以上に早く被処理品が冷やされてしまい、目的とする冷却勾配が得られず、処理後の組織が予定していたものとは異なるものに変化してしまう。
【0006】
本発明は以上のような事情を背景とし、バッチ式の熱処理チャンバ間での被処理品の搬送を担う搬送ユニット内で被処理品を冷却することが可能で、且つ、その際の冷却速度を調整することが可能な熱処理設備を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
而して本発明の熱処理設備は次のように規定される。即ち、
(A)搬送軌道に沿って配置されたバッチ式の第1熱処理チャンバおよび第2熱処理チャンバと、
(B)被処理品を収容し冷却ガスにより該被処理品を冷却する冷却チャンバと、前記第1熱処理チャンバ若しくは第2熱処理チャンバと前記冷却チャンバとの間で前記被処理品を受渡しする受渡しチャンバとを備えた搬送ユニットと、
を有し、前記第1熱処理チャンバから受け取った熱処理後の前記被処理品を、前記冷却チャンバで所定温度まで冷却するとともに、前記第2熱処理チャンバまで搬送し装入する熱処理設備であって、
前記冷却チャンバは、炉殻内にて断熱材により区画形成された処理室を備えるとともに、前記冷却ガスを循環させる循環ファンと、前記冷却ガスの流路上に設けられたガスクーラおよびヒータを有し、
前記循環ファンは、炉殻外、または、前記処理室の側方であって前記炉殻と前記処理室の間に設けられ、
前記ガスクーラは、炉殻外、または、前記炉殻と前記処理室の間に設けられ、
前記ヒータは、前記処理室内、前記処理室の上方、前記処理室の下方の何れかに設けられている。
【0008】
このように規定された本発明の熱処理設備によれば、バッチ式の熱処理チャンバ間での被処理品の搬送を担う搬送ユニット内の冷却チャンバで恒温焼鈍における中間冷却処理を行なうことができ、恒温焼鈍のための一連の熱処理を効率よく実行することができる。ここで、この熱処理設備では、冷却チャンバで中間冷却処理を行なうに際し、冷却ガスの温度がガスクーラおよびヒータにより調整される。これにより、被処理品の冷却速度を調整することができる。
【0009】
またこの熱処理設備では、ヒータと循環ファンとが異なる位置に配置されているため、ヒータの輻射熱が循環ファンに直接当たることで循環ファンが過度に加熱され故障する問題を回避することができる。
【0010】
この熱処理設備では、前記循環ファンによって循環せしめられる前記冷却ガスの流路に沿って、前記ガスクーラ、前記循環ファン、前記ヒータ、前記被処理品をその順に配置することができる。
このようにすることで、冷却ガスの温度を、被処理品に当たる手前の段階で調整することができるとともに、循環ファンの一次側にガスクーラが位置するため、循環ファンに高温のガスが当たるのを回避することができる。
【0011】
またこの熱処理設備では、前記ガスクーラを回避して前記冷却ガスを流通させるバイパス流路を更に形成することができる。
このようにすることで、被処理品を冷却する際、被処理品を通過して高温となった冷却ガスの一部のみがガスクーラを通過し冷却されるので、下流側に位置するヒータが冷却ガスを加熱する際の負荷が軽減され、ヒータの消費電力を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【0012】
【
図1】本発明の第1実施形態の熱処理設備の全体構成を示した図である。
【
図2】同実施形態における加熱チャンバ及び搬送ユニットの内部構造を示した断面図である。
【
図3】同加熱チャンバ及び搬送ユニットの平面図である。
【
図5】同実施形態における受渡し機構の動作説明図である。
【
図6】同実施形態における熱処理の各工程を被処理品に対するヒートパターン及び圧力パターンとともに示した図である。
【
図7】本発明の第2実施形態の要部を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【0013】
次に本発明の実施形態を以下に詳しく説明する。
図6は、本実施形態における熱処理(恒温焼鈍)の各工程を被処理品Wに対するヒートパターン及び圧力パターンとともに示したものである。同図に示しているように、ここでは被処理品Wを加熱処理した後、所定の温度にまで冷却し、かかる温度で均熱処理し、その後冷却を行っている。具体的には、加熱工程K1で被処理品Wを910℃まで昇温加熱し、続く中間冷却工程K2で所定の冷却速度(例えば1℃/s)で650℃まで冷却した後、650℃で均熱し(均熱工程K3)、その後冷却する(冷却工程K4)。
【0014】
図1は、第1実施形態の熱処理設備1の概略全体構成を示している。同図において、10は図中左右方向に直線状に延設された搬送軌道たるレールで、このレール10に沿って複数のバッチ式の熱処理チャンバ(加熱チャンバ12および均熱チャンバ13)が、後述の開口部44(
図2参照)を同方向である図中上方に向けた状態で直線状に一列に配置されている。また、
図1中の左端には装入テーブル16が設けられ、同図中の右端には抽出テーブル18が設けられている。
【0015】
20は、レール10上を走行する搬送ユニットである。搬送ユニット20は、装入テーブル16上の被処理品Wを受け取ってレール10上を走行し、複数の加熱チャンバ12の何れかに被処理品Wを装入する。
或いはこれら加熱チャンバ12において加熱処理された後の被処理品Wを、それら加熱チャンバ12から受け取ってレール10上を走行し、複数の均熱チャンバ13の何れかに被処理品Wを装入する。
また搬送ユニット20は、均熱チャンバ13にて均熱処理された後の被処理品Wを受け取ってレール10上を走行し、これを抽出テーブル18へと搬送する。なお本例では、
図6で示す熱処理のうち中間冷却および均熱処理後の冷却の処理が、搬送ユニット20内で実施される。
【0016】
図2に、加熱チャンバ12及び搬送ユニット20の内部構造が示してある。
同図に示しているように加熱チャンバ12は、有底の円筒状とされた耐圧性の炉殻22と、その内部に配置された断熱材24とを有している。断熱材24は有底の円筒状の断熱壁25を構成している。そしてその断熱壁25は内側に処理室26を形成している。
この加熱チャンバ12には吸引口32が設けられている。吸引口32は図示を省略する真空ポンプに繋がっており、該吸引口からチャンバ内の空気を吸引することによりチャンバ内(処理室26内)は真空状態(減圧状態)とされる。
【0017】
加熱チャンバ12にはまた、その内部に窒素ガスを供給するための供給口34が設けられている。供給口34から供給された窒素ガスは、一旦ヘッダー36へと導かれ、更にこのヘッダー36に続く分岐管37及び分岐管37に設けられたノズル38から加熱チャンバ12内部、詳しくは断熱壁25内側の処理室26へと導入される。尚ここでは分岐管37に1つのノズル38が設けられているが、複数のノズル38を設けておいても良い。
【0018】
断熱壁25には、処理室26内で供給された窒素ガスを撹拌させて対流させ、被処理品Wの昇温期においてその昇温を促進する対流加熱用のファン39と、これを回転させるモータ40とが設けられている。また断熱壁25には、モータ40を熱から保護するための水冷パネル41がモータ40近傍に設けられている。
【0019】
加熱チャンバ12には、開口部44を開閉する引戸式の扉42が設けられている。扉42はシリンダ46によってフランジ48内面を摺動し、閉状態で開口部44をゴムパッキンを介して気密にシールする。この扉42には板状の断熱材55が一体移動する状態に設けられており、この断熱材55によって円筒状の断熱壁25の開口部52が閉鎖される。
加熱チャンバ12においては、扉42の内面側にも、開口部44を気密にシールするゴムパッキンを熱から保護するための水冷パネル51が設けられている。
【0020】
以上、加熱チャンバ12についての構造を説明したが、均熱チャンバ13も基本的に同様の構造である。このため均熱チャンバ13の内部構造において、加熱チャンバ12と同様の部分については符号のみを示して詳しい説明は省略する。
【0021】
図2において、搬送ユニット20は、レール10上を走行する走行台車90を有しており、更に走行台車90上において、後述の冷却チャンバ56を受渡しチャンバ54とともにレール10と直交方向である
図2中左右方向に進退移動し、受渡しチャンバ54及び冷却チャンバ56を加熱チャンバ12及び均熱チャンバ13に対して連結及び連結解除させる連結台車92を有している。
94は、その連結台車92を
図2中左右方向に微小ストローク進退移動させるシリンダで、冷却チャンバ56及び受渡しチャンバ54は、このシリンダ94によりローラ96の転動を伴って
図2中左右方向に進退移動せしめられる。
この実施形態では、これら連結台車92,ローラ96,シリンダ94等が進退移動手段を成している。
【0022】
搬送ユニット20は、加熱チャンバ12,均熱チャンバ13側の前部に受渡しチャンバ54を、反対側の後部に、
図6の工程K2、K4で被処理品Wを冷却するための冷却チャンバ56を有している。
【0023】
受渡しチャンバ54は、耐圧性の角筒状の筒壁58を有しており、その内部に被処理品Wを収容する収容室60を形成している。この収容室60には受渡し機構62が設けられている。
受渡し機構62は、加熱チャンバ12等と後部の冷却チャンバ56との間で被処理品Wを受渡しするもので、
図5に示しているようにフォーク部62Aと水平スライド部材62B,62Cとを有しており、それらを水平方向にスライドさせることによりフォーク部62Aにて被処理品Wを受渡しする。
【0024】
この受渡しチャンバ54には吸引口63が設けられており、この吸引口63が、
図3に示す真空ポンプ64に対して吸引管66Aを通じて接続され、受渡しチャンバ54の内部が真空ポンプ64により真空吸引されるようになっている。
吸引管66上には電磁弁から成る開閉弁68Aが設けられており、開閉弁68Aの開閉によって、吸引口63と真空ポンプ64とが連通及び連通遮断されるようになっている。
【0025】
受渡しチャンバ54にはまた、
図3に示しているように供給口70が設けられており、この供給口70を通じて窒素ガスが受渡しチャンバ54内に供給されるようになっている。
受渡しチャンバ54は、その前端即ち
図2中左端が扉を有しない開口部72とされている。受渡しチャンバ54にはこの開口部72周りに偏平な枠状パッキン74が設けられている。
受渡しチャンバ54は、この枠状パッキン74を加熱チャンバ12及び均熱チャンバ13の外面に気密に接触させる状態に、加熱チャンバ12,均熱チャンバ13側への前進移動により、それら加熱チャンバ12,均熱チャンバ13にドッキングされる。
【0026】
他方、後者の冷却チャンバ56は有底円筒状をなす耐圧性の炉殻76の内部に断熱材78を有しており、その断熱材78が断熱壁80を構成している。断熱壁80で囲繞された内側の領域には処理室82が形成されており、そこに被処理品Wを収容するようになっている。処理室82には架台84が設けられており、処理室82内の被処理品Wは、その架台84上に載置されて支持される。また、処理室82を形成する断熱壁80の上部および下部には、後述する冷却ガスとしての窒素ガスを流通させるための開口104,106が設けられている。
【0027】
この冷却チャンバ56には、
図4に示しているようにその内部を真空吸引するための吸引口86が設けられており、この吸引口86が、
図3に示すように上記の真空ポンプ64に対して吸引管66Bを通じ接続されている。この吸引管66B上には電磁バルブから成る開閉弁68Bが設けられており、開閉弁68Bの開閉動作によって吸引口86と真空ポンプ64とが連通及び連通遮断されるようになっている。
【0028】
冷却チャンバ56にはまた、
図4で示すように、窒素ガスを内部に供給する供給口88が炉殻76に設けられている。本例では炉殻76内部に供給された窒素ガスを冷却ガスとして用い処理室82に収容された被処理品Wを冷却する。
【0029】
図4において、100は冷却チャンバ56内で窒素ガスを循環させる循環ファン、102は循環ファン100を回転させるモータである。循環ファン100は、処理室82の図中左側方であって、炉殻76と処理室82の間の領域に設けられている。また処理室82の図中右側方には、炉殻76と処理室82の間の領域(図中右側の領域)を閉鎖する隔壁77が設けられている。
本例では、循環ファン100によって、
図4において矢印で示すような、処理室82内を上方から下方に抜けていく往路79aと、炉殻76と処理室82との間を上向きに抜けて行く復路79bを含む窒素ガスの循環流れ79を生じさせる。
【0030】
98は窒素ガスを熱交換により温度低下させるガスクーラである。ガスクーラ98は、循環ファン100と同様に処理室82の図中左側方であって、炉殻76と処理室82の間に設けられており、被処理品Wを通過して高温となった窒素ガスの温度を一旦低下させる。
【0031】
120は窒素ガスを加熱するためのヒータで、本例では処理室82の直上であって、上部の開口104を臨む位置に配設されている。
121は冷却チャンバ56内を流通する窒素ガスの温度を検出する温度センサで、ガス流路79におけるヒータ120と被処理品Wとの間の位置に設置されて、ヒータ120の二次側における窒素ガスの温度を検出する。本例では、温度センサ121と接続された制御部(図示省略)により、温度センサ121で検出された窒素ガスの温度が、予め設定された目標ガス温度と一致するように、ヒータ120の出力が制御される。なお、温度センサ121は、ガス流路79における被処理品Wとガスクーラ98との間の位置、あるいは、ガスクーラ98の二次側に設置することも可能である。
【0032】
これらガスクーラ98、循環ファン100、ヒータ120、温度センサ121および制御部は、被処理品Wに対するガス冷却装置を構成している。
このガス冷却装置では、循環ファン100の回転により、
図4で示すように、窒素ガスが断熱壁80の上部の開口104を通じ下向きに流れて高温の被処理品Wに当り、これを冷却する。このとき被処理品Wとの熱交換により高温となった窒素ガスは、断熱壁80の下部の開口106より流出した後、炉殻76と処理室82の間の流路(復路79b)を上向きに流れてガスクーラ98を通過して、そこで一旦温度低下せしめられる。その後、窒素ガスはヒータ120で加熱され、所定の温度に調整される。温度が調整された窒素ガスは、再び被処理品Wに当りこれを冷却する。即ち本例では、処理室82に収容された被処理品Wを単に冷却するだけでなく、窒素ガスの温度を制御して被処理品Wを所望の冷却勾配で冷却することができる。
【0033】
また搬送ユニット20においては、
図2に示しているように、冷却チャンバ56と受渡しチャンバ54との間、詳しくは冷却チャンバ56の受渡しチャンバ54側の端部に開口部122が設けられており、この開口部122が、シリンダ124によってフランジ126内面を摺動する扉128によって開閉されるようになっている。
【0034】
前記の加熱チャンバ12におけるのと同様、この冷却チャンバ56の扉128にもまた、断熱壁80の開口部129を開閉する板状の断熱材130が一体移動する状態に設けられており、また開口部122を気密にシールするゴムパッキンを熱から保護するための水冷パネル132が扉128に設けられている。
【0035】
次に本実施形態における一連の熱処理について具体的に説明する。
先ず搬送ユニット20は、受渡しチャンバ54において受渡し機構62により装入テーブル16(
図1参照)上の被処理品Wを受け取り、これを受渡しチャンバ54内に収容する。その後、搬送ユニット20は何れかの加熱チャンバ12の位置まで移動し、被処理品Wを搬送する。
【0036】
その後、搬送ユニット20は、シリンダ94により受渡しチャンバ54を後部の冷却チャンバ56とともに加熱チャンバ12側に微小距離前進移動させて、受渡しチャンバ54の先端の枠状パッキン74を加熱チャンバ12の外面に密着させる状態に、加熱チャンバ12に対しドッキングさせる。
【0037】
そして冷却チャンバ56との間の扉128を閉鎖した状態で、真空ポンプ64により吸引口63を通じて受渡しチャンバ54内部が真空吸引され、受渡しチャンバ54内部が加熱チャンバ12と同程度の真空圧まで減圧される。
【0038】
受渡しチャンバ54内の圧力が加熱チャンバ12内の圧力と同程度の真空圧となったところで、加熱チャンバ12の扉42を開いて、受渡しチャンバ54内の被処理品Wを受渡し機構62により加熱チャンバ12内の処理室26に装入し、架台30上にセットする。
【0039】
被処理品Wが加熱チャンバ12内に装入されると、被処理品Wの加熱が開始され、
図6の加熱工程K1で示すように、被処理品Wは目標加熱温度である910℃まで昇温せしめられる。
【0040】
その際に昇温を促進するため、加熱チャンバ12内に窒素ガスが供給口34から供給されるとともに、対流加熱ファン39が回転せしめられて、その対流加熱ファン39による対流加熱とヒータ28による輻射熱とによって、被処理品Wが速やかに目標加熱温度の910℃まで昇温せしめられる。被処理品Wが910℃まで昇温したところで、加熱チャンバ12内部の窒素ガスが吸引口32を通じて真空排気され、加熱チャンバ12内部が設定された真空圧(例えば10Pa)に減圧される。なお、加熱チャンバ内部は大気圧以下であればよく、例えば、70kPa程度とすることも可能である。
【0041】
被処理品Wに対する加熱処理を終えたところで、一旦加熱チャンバ12から離れていた搬送ユニット20を再び加熱チャンバ12に向けて前進移動させ、受渡しチャンバ54を加熱チャンバ12に対しドッキングさせる。そして、受渡しチャンバ54の内部と冷却チャンバ56の内部とを真空ポンプ64により真空吸引し、それらを真空圧(チャンバー12と同圧)とする。
【0042】
その後に加熱チャンバ12の扉42を開いて、加熱チャンバ12内の加熱処理後の被処理品Wを受渡しチャンバ54内に移動させ、引続いてこれを受渡しチャンバ54から冷却チャンバ56へと移動させて、被処理品Wを冷却チャンバ56内に収容する。
【0043】
被処理品Wを冷却チャンバ56内に収容したところで、扉128を閉じ、その後、
図6の中間冷却工程K2で示すように、被処理品Wを目的の温度(例えば650℃)まで冷却する。その際、冷却チャンバ56内に窒素ガスが供給口88から供給されるとともに、循環ファン100が回転せしめられて、窒素ガスを循環させる。このとき被処理品Wに当たる窒素ガスの温度も、ガスクーラ98およびヒータ120により調整されるため被処理品Wを所望の冷却勾配で冷却することができる。
なお、窒素ガスは定量供給してもよいし、可変供給してもよい。可変供給する場合、例えば、炉内圧力が予め設定された目標炉内圧力と一致するように窒素ガス流量が制御されるようにすることが可能である。また、炉内圧力は、一定の圧力となるように制御することが可能であり、大気圧としてもよいし、大気圧よりも圧力を高めた所定の加圧状態としてもよい。所定の加圧状態で窒素ガスを循環させることで、対流の熱伝達効率を向上させ冷却時の材料間の温度バラつきを低減する事も可能である。
【0044】
被処理品Wが目的の温度まで冷却されたところで、冷却チャンバ56内部の窒素ガスが吸引口86を通じて真空排気され、冷却チャンバ56内部が減圧される。被処理品Wについては目的の温度で温度保持される。
なお、中間冷却工程における目的の温度は、所望の組織を得るために最短時間となる温度であり一般的には550~680℃である。より詳細には、恒温変態曲線を用いて定めることが可能であり、例えば、微細なフェライト-パーライト組織を得たい場合、SAE1541は550℃、SCM420は680℃とすることが可能である。また、目的の温度への冷却速度は、恒温変態曲線のノーズを考慮して決定することが可能であり、例えば、0.1~10℃/sとすることが可能であり、0.3~3℃/sとすることが好ましい。
【0045】
搬送ユニット20が加熱チャンバ12から離れて移動し、受け渡しチャンバ54内の圧力と均熱チャンバ13内の圧力が同程度の真空圧となったところで、目的とする温度で保温された被処理品Wを、今度は均熱チャンバ13に受渡しチャンバ54を通じて装入する。
【0046】
均熱チャンバ13に装入された被処理品Wは、その後、
図6の均熱工程K3で示すように、恒温焼鈍における等温保持温度である650℃に保持されながら均熱チャンバ13内部で均熱処理される。詳しくは、均熱チャンバ13における扉42(
図2参照)を閉じた状態で、被処理品Wが、ヒータ28による加熱にて650℃に保温される。
【0047】
均熱処理が終了したところで、搬送ユニット20の受渡しチャンバ54を均熱チャンバ13にドッキングさせる。そして均熱処理された被処理品Wを、均熱チャンバ13から取り出し、受渡しチャンバ54内に移動させ、引続いてこれを受渡しチャンバ54から冷却チャンバ56へと移動させて、被処理品Wを冷却チャンバ56内に収容する。
【0048】
冷却チャンバ56に収容された被処理品Wは、その後、
図6で示すように冷却される(冷却工程K4参照)。詳しくは、冷却チャンバ56内に窒素ガスが供給口88から供給されるとともに、循環ファン100が回転せしめられ、冷却ガスとしての窒素ガスを被処理品Wに当てることにより冷却が行われる。
【0049】
そして冷却が完了すると、冷却チャンバ56の扉128が開いて、被処理品Wは開口部72を通じて
図1中右端の抽出テーブル18へと排出される。抽出テーブル18上に排出された被処理品Wは、続いて下流工程へと引き取られて行く。
【0050】
以上のように構成された本実施形態の熱処理設備1によれば、バッチ式の熱処理チャンバ間での被処理品Wの搬送を担う搬送ユニット20内の冷却チャンバ56で中間冷却処理を行なうことができ、恒温焼鈍のための一連の熱処理を効率よく実行することができる。
バッチ式の各熱処理チャンバは、真空ポンプによる脱気機能を備え、炉内雰囲気を短時間で処理に適した状態に入れ替えることができるため、連続雰囲気炉の場合のように被処理品が無い場合に炉内雰囲気の状態を維持する必要なく、炉内雰囲気の状態を維持するためだけの無駄なエネルギー使用を削減できる。
また本実施形態の熱処理設備1では、冷却チャンバ56での中間冷却に際し、冷却ガスとしての窒素ガスの温度が、ガスクーラ98およびヒータ120により調整される。これにより、被処理品Wの冷却速度を調整することができる。
【0051】
また本実施形態の熱処理設備1では、ヒータ120が処理室82の上方に、また循環ファン100が処理室82の側方にそれぞれ配置されているため、ヒータ120の輻射熱が循環ファン100に直接当たることで循環ファン100が過度に加熱され故障する問題を回避することができる。
【0052】
また本実施形態の熱処理設備1では、循環ファン100によって循環せしめられる窒素ガスの流路79に沿って、ガスクーラ98、循環ファン100、ヒータ120、被処理品Wがその順に配置されているため、窒素ガスの温度を被処理品Wに当たる手前の段階で適正に調整できるとともに、循環ファン100の一次側にはガスクーラ98が位置するため、循環ファン100に高温の窒素ガスが当たるのを回避することができる。
【0053】
図7は、本発明の第2実施形態の要部を示した図である。
第2実施形態の熱処理設備1Bでは、炉殻76と処理室82の間の領域に上下方向に延びる隔壁135を設けてガス流路を二つに区画し、一方の流路136にのみガスクーラ98が設けられている。他方の流路137については、ガスクーラ98を回避して窒素ガスを流通させるバイパス流路とされている。本例では、このバイパス流路137に流量調節用のダンパ139が設けられ、ガス流路79におけるガスクーラ98とヒータ120の間に温度センサ121Bが設けられている。ダンパ139は、例えば温度センサ121Bで検出されたガスクーラ98の二次側のガス温度に基づいてその開度を調整できるように構成されている。なお、温度センサ121Bは、ガス流路79における被処理品Wとガスクーラ98との間に設けることも可能であり、この場合、ガスクーラ79の一次側のガス温度に基づいてダンパ139の開度を調整できるように構成することが可能である。
【0054】
被処理品Wを通過した後の窒素ガスは、二つの流路136,137に分かれて流通した後、ガスクーラ98の二次側で合流し、合流した窒素ガスはさらに下流のヒータ120に向けて送られる。なお、熱処理設備1Bの構成各部のうち、第1実施形態に係る熱処理設備1の構成と共通する構成については、同じ符号を用いて示すとともに、その説明を省略する。
【0055】
このように構成された熱処理設備1Bによれば、被処理品Wを冷却する際、被処理品Wを通過して高温となった窒素ガスの一部のみがガスクーラ98を通過し冷却されるので、下流側に位置するヒータ120が窒素ガスを加熱する際の負荷が軽減され、ヒータ120の消費電力を抑制することができる。
【0056】
以上本発明の実施形態を詳述したがこれらはあくまで一例示である。例えば下記で示すように、本発明はその趣旨を逸脱しない範囲において種々変更を加えた形態で構成可能である。
(1)上記実施形態では、
図4で示すように、処理室82の側方であって炉殻76と処理室82の間に、冷却ガス流路79における復路79bを設けているが、本発明では、かかる復路79bを炉殻76外に設け、そこにガスクーラ98や循環ファン100を設けることも可能である。
(2)上記実施形態では、
図4で示すように、ガスクーラ98および循環ファン100を、処理室82の図中左側方にのみ設けているが、本発明では処理室82の左側方および右側方にそれぞれ1式(計2式)設置することも可能である。
(3)上記実施形態では、
図4で示すように、処理室82の外側(上方)にヒータ120を設けているが、場合によっては処理室82内であって被処理品Wよりも上流側にヒータ120を設けることも可能である。
(4)上記実施形態では、
図4で示すように、被処理品Wを冷却する際の冷却ガスの流れ79aが、処理室82の上方から導入されて下方に抜けていくダウンフローであったが、本発明ではヒータ120を処理室82の下方に配置して、冷却ガスの流れを、処理室82の下方から導入されて上方に抜けていくアップフローとすることも可能である。この場合においても、窒素ガスの流路に沿って、ガスクーラ、循環ファン、ヒータ、被処理品がその順に配置されていることが好ましい。
(5)上記実施形態では、雰囲気ガスとして窒素ガスを用いているが、場合によっては窒素ガス以外の低酸化性ガスおよび/または還元性ガスを用いることも可能である。
(6)上記実施形態は、
図6で示す中間冷却および均熱処理後の冷却の両方の処理を搬送ユニット20内で行う例であったが、場合によっては冷却用の熱処理チャンバを搬送軌道に沿って別途配置し、かかる冷却用の熱処理チャンバで均熱処理後の冷却の処理を行うように熱処理設備を構成することも可能である。
【符号の説明】
【0057】
1,1B 熱処理設備
10 レール
12 加熱チャンバ(第1熱処理チャンバ)
13 均熱チャンバ(第2熱処理チャンバ)
20 搬送ユニット
54 受渡しチャンバ
56 冷却チャンバ
76 炉殻
79 ガス流路
82 処理室
98 ガスクーラ
100 循環ファン
120 ヒータ
137 バイパス流路
W 被処理品