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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023173638
(43)【公開日】2023-12-07
(54)【発明の名称】基板処理装置
(51)【国際特許分類】
H05K 3/34 20060101AFI20231130BHJP
H01L 21/60 20060101ALI20231130BHJP
H05K 3/32 20060101ALI20231130BHJP
【ＦＩ】
H05K3/34 504B
H01L21/60 311T
H05K3/32 B
【審査請求】未請求
【請求項の数】9
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022086034
(22)【出願日】2022-05-26
(71)【出願人】
【識別番号】000003067
【氏名又は名称】ＴＤＫ株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110001494
【氏名又は名称】前田・鈴木国際特許弁理士法人
(72)【発明者】
【氏名】佐藤 洋平
(72)【発明者】
【氏名】小泉 洋
(72)【発明者】
【氏名】宮腰 敏暢
(72)【発明者】
【氏名】進藤 修
(72)【発明者】
【氏名】須永 誠寿郎
(72)【発明者】
【氏名】牧田 光悦
(72)【発明者】
【氏名】山下 誠
(72)【発明者】
【氏名】加藤 康生
(72)【発明者】
【氏名】進藤 諒
(72)【発明者】
【氏名】松本 匡史
【テーマコード（参考）】
5E319
5F044
【Ｆターム（参考）】
5E319AA03
5E319AB05
5E319AC02
5E319AC04
5E319BB11
5E319CC03
5E319CC12
5E319CC61
5E319CD04
5E319GG01
5F044KK02
5F044KK03
5F044LL09
5F044LL11
5F044PP15
5F044RR01
(57)【要約】
【課題】加圧対象物に加わる荷重を均一にすることを可能とする基板処理装置を提供する。
【解決手段】上治具プレート４４で加圧対象物である基板２を加圧する基板処理装置１０であって、上治具プレート４４の下に配置される下治具プレート４６と、下治具プレート４６の上に設けられ、基板２が配置される設置ベース４７と、を有し、設置ベース４７は、設置ベース４７の変形を許容可能に、下治具プレート４６に仮固定されている。
【選択図】図８Ａ
【解決手段】上治具プレート４４で加圧対象物である基板２を加圧する基板処理装置１０であって、上治具プレート４４の下に配置される下治具プレート４６と、下治具プレート４６の上に設けられ、基板２が配置される設置ベース４７と、を有し、設置ベース４７は、設置ベース４７の変形を許容可能に、下治具プレート４６に仮固定されている。
【選択図】図８Ａ
【特許請求の範囲】
【請求項1】
上治具プレートで加圧対象物を加圧する基板処理装置であって、
前記上治具プレートの下に配置される下治具プレートと、
前記下治具プレートの上に設けられ、加圧対象物が配置される設置ベースと、を有し、
前記設置ベースは、前記設置ベースの変形を許容可能に、前記下治具プレートに仮固定されている基板処理装置。
前記上治具プレートの下に配置される下治具プレートと、
前記下治具プレートの上に設けられ、加圧対象物が配置される設置ベースと、を有し、
前記設置ベースは、前記設置ベースの変形を許容可能に、前記下治具プレートに仮固定されている基板処理装置。
【請求項2】
上治具プレートで加圧対象物を加圧する基板処理装置であって、
前記上治具プレートの下に配置される下治具プレートと、
前記下治具プレートの上に設けられ、加圧対象物が配置される設置ベースと、を有し、
前記設置ベースは、セラミックスまたはガラスで構成されている基板処理装置。
前記上治具プレートの下に配置される下治具プレートと、
前記下治具プレートの上に設けられ、加圧対象物が配置される設置ベースと、を有し、
前記設置ベースは、セラミックスまたはガラスで構成されている基板処理装置。
【請求項3】
前記下治具プレートの上には、前記設置ベースの縁部の一部に当接する仮固定枠が設けられている請求項１または２に記載の基板処理装置。
【請求項4】
前記仮固定枠は、複数からなり、
複数の前記仮固定枠は、それぞれ前記設置ベースのいずれかの辺に対応して設けられている請求項３に記載の基板処理装置。
複数の前記仮固定枠は、それぞれ前記設置ベースのいずれかの辺に対応して設けられている請求項３に記載の基板処理装置。
【請求項5】
前記設置ベースの縁部にはベース傾斜部が設けられており、
前記設置ベースの縁部が当接する前記仮固定枠の内側には、前記ベース傾斜部に係合する内側傾斜部が形成されている請求項３に記載の基板処理装置。
前記設置ベースの縁部が当接する前記仮固定枠の内側には、前記ベース傾斜部に係合する内側傾斜部が形成されている請求項３に記載の基板処理装置。
【請求項6】
前記下治具プレートの上には、可動部材を移動可能に保持する仮固定治具が設けられおり、
前記可動部材は、前記仮固定治具から受ける弾性力によって、前記仮固定治具から前記設置ベースに向けて押し出されるとともに、前記設置ベースから受ける応力によって、前記設置ベースから前記仮固定治具に向けて押し戻される請求項１または２に記載の基板処理装置。
前記可動部材は、前記仮固定治具から受ける弾性力によって、前記仮固定治具から前記設置ベースに向けて押し出されるとともに、前記設置ベースから受ける応力によって、前記設置ベースから前記仮固定治具に向けて押し戻される請求項１または２に記載の基板処理装置。
【請求項7】
前記設置ベースは略矩形状を有し、
前記仮固定枠は、前記設置ベースの第１側面に対応する位置に設けられており、
前記仮固定治具は、前記第１側面に対向する前記設置ベースの第２側面に対応する位置に設けられている請求項６に記載の基板処理装置。
前記仮固定枠は、前記設置ベースの第１側面に対応する位置に設けられており、
前記仮固定治具は、前記第１側面に対向する前記設置ベースの第２側面に対応する位置に設けられている請求項６に記載の基板処理装置。
【請求項8】
前記設置ベースは略矩形状を有し、
前記仮固定枠は、前記設置ベースの第１角部に対応する位置に設けられており、
前記仮固定治具は、前記第１角部に対して略対角線上に位置する前記設置ベースの第２角部に対応する位置に設けられている請求項６に記載の基板処理装置。
前記仮固定枠は、前記設置ベースの第１角部に対応する位置に設けられており、
前記仮固定治具は、前記第１角部に対して略対角線上に位置する前記設置ベースの第２角部に対応する位置に設けられている請求項６に記載の基板処理装置。
【請求項9】
前記設置ベースは略円形状を有し、
前記仮固定枠および前記仮固定治具は、それぞれ前記設置ベースの径方向に関して対向する位置に設けられている請求項６に記載の基板処理装置。
前記仮固定枠および前記仮固定治具は、それぞれ前記設置ベースの径方向に関して対向する位置に設けられている請求項６に記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、例えば複数の素子が配置された基板を処理する基板処理装置に関する。
【背景技術】
【0002】
複数の素子からなる素子アレイを基板上に形成する技術では、複数の素子と基板との機械的な接合の強度や接合の安定性の向上を図るために、基板処理装置を用いて、複数の素子が配置された基板に対し複数の素子を平板で押し付ける処理が行われる（例えば特許文献１）。
【0003】
この種の処理を実行する基板処理装置として、例えば、加圧対象物（複数の素子が配置された基板）が配置される下治具プレートと、下治具プレートに配置された加圧対象物を加圧する上治具プレートと、を有する基板処理装置が用いられる。下治具プレート上で、複数の素子が配置された基板を上治具プレートで加圧することにより、当該基板に荷重が与えられ、これに伴い、複数の素子を当該基板に対して押し付けることが可能となっている。
【0004】
近年では、基板に配置される素子のサイズ（高さ）は数μｍ程度まで微細化しており、下治具プレートあるいは上治具プレートの表面の平行度や平坦度等が数十μｍ程度でばらつくと、上治具プレートによって、基板上の複数の素子に対して均一な荷重を与えることが困難となり、複数の素子と基板との間で接合不良が発生するおそれがある。
【0005】
また、上治具プレートで基板を加圧するときには、上治具プレートあるいは下治具プレートの加熱に伴い下治具プレート等に熱変形が生じ、基板に対して均一な荷重を与えることが困難となる。そのため、無負荷状態において、上治具プレートや下治具プレートの表面の平行度や平坦度等をある程度確保することができたとしても、基板加圧時における下治具プレートの熱変形に起因して、複数の素子と基板との間で接合不良が生じるおそれがあった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【特許文献1】特開２０１０－２３２２３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
本発明は、このような実状に鑑みてなされ、その目的は、加圧対象物に加わる荷重を均一にすることを可能とする基板処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0008】
上記目的を達成するために、本発明の第１の観点に係る基板処理装置は、
上治具プレートで加圧対象物を加圧する基板処理装置であって、
前記上治具プレートの下に配置される下治具プレートと、
前記下治具プレートの上に設けられ、加圧対象物が配置される設置ベースと、を有し、
前記設置ベースは、前記設置ベースの変形を許容可能に、前記下治具プレートに仮固定されている。
上治具プレートで加圧対象物を加圧する基板処理装置であって、
前記上治具プレートの下に配置される下治具プレートと、
前記下治具プレートの上に設けられ、加圧対象物が配置される設置ベースと、を有し、
前記設置ベースは、前記設置ベースの変形を許容可能に、前記下治具プレートに仮固定されている。
【0009】
本発明の第１の観点に係る基板処理装置は、下治具プレートの上に設けられ、加圧対象物が配置される設置ベースを有する。そのため、加圧対象物と下治具プレートとの間には、設置ベースが介在することになる。このような状態で、上治具プレートで加圧対象物を加圧する場合、下治具プレートの加熱に伴い下治具プレートに変形（熱膨張）が生じたとしても、その影響が加圧対象物に直接的に及びにくく、設置ベースに配置された加圧対象物に対して、上治具プレートによって均一な荷重を加えることができる。
【0010】
特に、本発明の第１の観点に係る基板処理装置では、設置ベースは、設置ベースの変形を許容可能に、下治具プレートに仮固定されている。そのため、下治具プレートの加熱に伴い、下治具プレートの熱が設置ベースに伝熱し、設置ベースに変形（熱膨張）が生じるような事態が生じたとしても、その変形を妨げることなく、設置ベースを下治具プレートの上で面方向に自在に変形させることにより、設置ベースの変形に伴い発生する応力を逃がすことが可能となる。したがって、設置ベースの上面の表面精度（例えば平坦性や平滑性等）を十分に確保し、設置ベースに配置された加圧対象物に設置ベースの変形による影響が及ぶことを防止することが可能となり、この点においても、加圧対象物に加わる荷重を均一にすることができる。
【0011】
なお、設置ベースが下治具プレートに本固定されている場合には、設置ベースに変形（熱膨張）が生じたときに、その固定位置を起点として、設置ベースが膨出し、設置ベースの表面精度（例えば平坦性や平滑性等）が悪化するおそれがあるが、本発明に係る基板処理装置では、上記の通り、設置ベースが下治具プレートに仮固定されているため、このような不具合を有効に防止することができる。
【0012】
上記目的を達成するために、本発明の第２の観点に係る基板処理装置は、
上治具プレートで加圧対象物を加圧する基板処理装置であって、
前記上治具プレートの下に配置される下治具プレートと、
前記下治具プレートの上に設けられ、加圧対象物が配置される設置ベースと、を有し、
前記設置ベースは、セラミックスまたはガラスで構成されている。
上治具プレートで加圧対象物を加圧する基板処理装置であって、
前記上治具プレートの下に配置される下治具プレートと、
前記下治具プレートの上に設けられ、加圧対象物が配置される設置ベースと、を有し、
前記設置ベースは、セラミックスまたはガラスで構成されている。
【0013】
本発明の第２の観点に係る基板処理装置は、本発明の第１の観点に係る基板処理装置と同様に、下治具プレートの上に設けられ、加圧対象物が配置される設置ベースを有するため、上述したように、上治具プレートによる加圧対象物の加圧時において、下治具プレートの加熱に伴い下治具プレートに変形が生じたとしても、その影響が設置ベースに直接的に及びにくく、設置ベースに配置された加圧対象物に対して、上治具プレートによって均一な荷重を加えることができる。
【0014】
特に、本発明の第２の観点に係る基板処理装置では、設置ベースは、セラミックスまたはガラスで構成されている。設置ベースを構成する材質として、下治具プレートを構成する金属等に比べて熱膨張率の小さいセラミックスまたはガラスを用いることにより、下治具プレートの加熱に伴い、下治具プレートの熱が設置ベースに伝熱したとしても、設置ベースに変形（熱膨張）が生じることを防止することが可能となる。したがって、設置ベースに配置された加圧対象物に設置ベースの変形による影響が及ぶことを防止することが可能となり、加圧対象物に加わる荷重を均一にすることができる。
【0015】
また、加工精度の観点から、セラミックスまたはガラスは金属等に比べて、その表面精度（例えば平坦性や平滑性等）を確保しやすい。そのため、設置ベースをセラミックスまたはガラスで構成することにより、設置ベースの表面精度を十分に確保することができる。
【0016】
好ましくは、前記下治具プレートの上には、前記設置ベースの縁部の一部に当接する仮固定枠が設けられている。仮固定枠に設置ベースの縁部の一部を当接させることにより、設置ベースを下治具プレートに仮固定することができる。また、設置ベースの縁部の残りの部分を仮固定枠に当接させることなくフリーの状態とすることにより、下治具プレートの加熱に伴い、設置ベースに変形が生じるような事態が生じたとしても、その変形を妨げることなく、設置ベースを下治具プレートの上で面方向に自在に変形させ、設置ベースの変形に伴い発生する応力を効果的に逃がすことができる。また、仮固定枠を用いて設置ベースを下治具プレートに仮固定することにより、設置ベースの位置決めが容易になる。
【0017】
好ましくは、前記仮固定枠は、複数からなり、複数の前記仮固定枠は、それぞれ前記設置ベースのいずれかの辺に対応して設けられている。このような構成とすることにより、設置ベースを下治具プレートに仮固定するときに、設置ベースの位置決めを高精度で行うことができる。また、設置ベースのいずれかの辺を仮固定枠で仮固定することにより、設置ベースの位置ずれを有効に防止することができる。
【0018】
好ましくは、前記設置ベースの縁部にはベース傾斜部が設けられており、前記設置ベースの縁部が当接する前記仮固定枠の内側には、前記ベース傾斜部に係合する内側傾斜部が形成されている。設置ベースのベース傾斜部と仮固定枠の内側傾斜部とを係合させることにより、設置ベースの位置ずれや、設置ベースが下治具プレートから外れることを有効に防止することができる。
【0019】
好ましくは、前記下治具プレートの上には、可動部材を移動可能に保持する仮固定治具が設けられおり、前記可動部材は、前記仮固定治具から受ける弾性力によって、前記仮固定治具から前記設置ベースに向けて押し出されるとともに、前記設置ベースから受ける応力によって、前記設置ベースから前記仮固定治具に向けて押し戻される。仮固定治具から受ける弾性力によって、可動部材が、仮固定治具から設置ベースに向けて押し出され、設置ベースの縁部を押圧することにより、設置ベースに適度な力を与えつつ、設置ベースを下治具プレートに仮固定することができる。また、下治具プレートの加熱に伴い、設置ベースに変形が生じるような事態が生じた場合には、設置ベースから受ける応力によって、可動部材が設置ベースから仮固定治具に向けて（すなわち、設置ベースの変形方向に）押し戻されることにより、設置ベースの変形を妨げることなく、設置ベースを下治具プレートの上で面方向に自在に変形させ、設置ベースの変形に伴い発生する応力を効果的に逃がすことができる。
【0020】
前記設置ベースは略矩形状を有し、前記仮固定枠は、前記設置ベースの第１側面に対応する位置に設けられており、前記仮固定治具は、前記第１側面に対向する前記設置ベースの第２側面に対応する位置に設けられていてもよい。このような構成とした場合、設置ベースの第１側面に対応する位置では、設置ベースの縁部が仮固定枠に当接することにより、設置ベースが下治具プレートに仮固定される。また、設置ベースの第２側面に対応する位置では、設置ベースの縁部が仮固定治具に当接することにより、設置ベースが下治具プレートに仮固定される。これにより、仮固定枠と仮固定治具とで設置ベースの第１側面と第２側面とを挟み込むようにして、設置ベースを下治具プレートに仮固定することができる。このように、仮固定枠および仮固定治具の両方を用いて設置ベースを下治具プレートに仮固定することにより、仮固定枠および仮固定治具のいずれか一方による設置ベースの仮固定を他方によって補強することができる。
【0021】
前記設置ベースは略矩形状を有し、前記仮固定枠は、前記設置ベースの第１角部に対応する位置に設けられており、前記仮固定治具は、前記第１角部に対して略対角線上に位置する前記設置ベースの第２角部に対応する位置に設けられていてもよい。このような構成とした場合、設置ベースの第１角部に対応する位置では、設置ベースの縁部が仮固定枠に当接することにより、設置ベースが下治具プレートに仮固定される。また、設置ベースの第２角部に対応する位置では、設置ベースの縁部が仮固定治具に当接することにより、設置ベースが下治具プレートに仮固定される。これにより、仮固定枠と仮固定治具とで設置ベースの角部を挟み込むようにして、設置ベースを下治具プレートに仮固定することができる。
【0022】
前記設置ベースは略円形状を有し、前記仮固定枠および前記仮固定治具は、それぞれ前記設置ベースの径方向に関して対向する位置に設けられていてもよい。このような構成とした場合、仮固定枠と仮固定治具とで設置ベースの外周を挟み込むようにして、設置ベースを下治具プレートに仮固定することができる。
【図面の簡単な説明】
【0023】
【発明を実施するための形態】
【0024】
以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。
【0025】
図１Ａに示すように、本発明の一実施形態に係る基板処理装置１０は、複数の素子４ａ，４ｂ，４ｃからなる素子アレイ４（図２）を基板２上に形成するための装置であり、複数の素子４ａ，４ｂ，４ｃが配置された基板２に対し、複数の素子４ａ，４ｂ，４ｃを所定の手段で押し付ける処理を行うことにより、複数の素子４ａ，４ｂ，４ｃと基板２との機械的な接合の強度や接合の安定性の向上を図るためのものである。すなわち、基板処理装置１０は、素子アレイ４を基板２上に形成するにあたって、加圧部（加圧装置）として機能する。
【0026】
基板２の材質は、例えばガラスエポキシ材である。ただし、基板２の材質は、これに限定されるものではなく、例えば、ガラス基板としてＳｉＯ2あるいはＡｌ2Ｏ3で構成されてもよく、あるいはフレキシブル基板としてポリイミド、ポリアミド、ポリプロピレン、ポリエーテルエーテルケトン、ウレタン、シリコーン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のエラストマー等、さらにはグラスウール等で構成されてもよい。
【0027】
基板２の表面には、例えば図示しない導電性接合材料が予め形成されている。この導電性接合材料は、異方性導電粒子接続あるいはバンプ圧接接続等により、基板２と素子４ａ，４ｂ，４ｃとを電気的および機械的に接続し、加熱により硬化する。導電性接合材料としては、例えばＡＣＦ、ＡＣＰ、ＮＣＦあるいはＮＣＰ等が挙げられる。導電性接合材料の厚みは、好ましくは、１．０～１００００μｍである。
【0028】
基板２には、配線が所定のパターンで形成されており、この配線に素子４ａ，４ｂ，４ｃの電極を導電性接合材料を介して接続することが可能となっている。
【0029】
素子４ａ，４ｂ，４ｃは、基板２上にアレイ状に配置される。アレイ状とは、決められたパターンに従って複数行複数列に素子４ａ，４ｂ，４ｃが配置された状態をいい、行方向と列方向の間隔は同一でもよく、あるいは相違していてもよい。
【0030】
素子４ａ，４ｂ，４ｃは、ディスプレイ用の表示基板にＲＧＢの各画素として配列され、またバックライトの発光体として照明基板に配列される。素子４ａは赤色光素子であり、素子４ｂは緑色発光素子であり、素子４ｃは青色発光素子である。ただし、基板２に配置される素子は、これらの素子に限定されるものではない。
【0031】
本実施形態における素子４ａ，４ｂ，４ｃは、マイクロ発光素子（マイクロＬＥＤ素子）であり、そのサイズ（幅×奥行き）は、例えば５μｍ×５μｍ～５０μｍ×５０μｍである。また、素子４ａ～４ｃの厚み（高さ）は、例えば５０μｍ以下である。
【0032】
基板処理装置１０は、架台２０と、荷重発生部３０と、基板加圧部４０とを有する。図面において、Ｘ軸は架台２０の幅方向に対応し、Ｙ軸は架台２０の奥行方向に対応し、Ｚ軸は架台２０の高さ方向に対応するものとする。
【0033】
架台２０は、例えば金属の筐体で構成され、架台上部２１と、可動加圧部２２と、架台下部２３と、ガイドブッシュ２４と、ガイドシャフトガイドシャフト２５と、を有する。架台下部２３は、架台２０の土台部分（テーブル）を構成しており、所定の高さを有する。図示の例では、架台下部２３の内部には中空部が形成されているが、架台下部２３の形状はこれに限定されるものではなく、架台下部２３の内部が中実になっていてもよい。
【0034】
架台下部２３の四隅には、４本のガイドシャフト２５の下端部が固定（挿入）されている。これらのガイドシャフト２５は、それぞれ所定の長さを有し、Ｚ軸方向に直立した状態で配置されている。各ガイドシャフト２５の下端部は架台下部２３に固定され、各ガイドシャフト２５の上端部は架台上部２１に固定されている。ガイドシャフト２５は、架台上部２１と架台下部２３との間に配置された可動加圧部２２の四隅を貫通している。これらのガイドシャフト２５は、架台上部２１を支持する役割を果たすとともに、可動加圧部２２をＺ軸方向に沿って上下に摺動可能に支持する役割を果たす。
【0035】
可動加圧部２２は、矩形状を有する板体（剛体）からなり、架台下部２３と架台上部２１との間に位置する。可動加圧部２２は、荷重発生部３０から荷重を受けることにより、４本のガイドシャフト２５に沿って、上下方向に摺動自在に構成されている。図１Ｂに示すように、可動加圧部２２は、基板加圧部４０の上面に当接し、これを加圧することにより、基板加圧部４０に例えば０～１００ｋＮ程度の荷重を与える。可動加圧部２２は、基板加圧部４０に対して平行に当接していることが好ましく、その平行度Ａは１μｍ≦Ａ＜２μｍであることが好ましい。
【0036】
図１Ａに示すように、可動加圧部２２の四隅には、４つの貫通孔２２０がそれぞれ形成されており、これらの貫通孔２２０の内部には、４本のガイドシャフト２５がそれぞれ挿入されている。可動加圧部２２の下面（Ｚ軸負方向側の面）には、４つの貫通孔２２０に対応する位置で、４つのガイドブッシュ２４が固定されている。ガイドブッシュ２４は、可動加圧部２２による上下方向への移動時において、可動加圧部２２の滑りを良くする（ガイドシャフト２５に対する摩擦を低減する）機能を有するとともに、貫通孔２２０の軸心に対するガイドシャフト２５の位置決めを容易に実現させる機能を有する。
【0037】
架台上部２１は、架台２０の天井部分を構成している。架台上部２１の下面の四隅には、４本のガイドシャフト２５の上端部が固定（挿入）されている。架台上部２１の中央部には、荷重発生部３０が固定されている。荷重発生部３０は、例えば加圧用シリンダ、サーボプレス、モータ、あるいはアクチュエータ等の装置で構成されており、可動加圧部２２に荷重を印加する役割を果たす。なお、図面が煩雑になるのを防止するため、可動加圧部２２の詳細構成については図示を省略し、その一部の構成のみを図示している。
【0038】
荷重発生部３０は、可動加圧部２２の中央領域２２１をプレスヘッド（図示略）で加圧することにより、可動加圧部２３に荷重を与える。これにより、可動加圧部２２は下方に移動し、基板加圧部４０を加圧する結果、基板加圧部４０において、加圧対象物（複数の素子４ａ，４ｂ，４ｃが配置された基板２）に荷重を与えることが可能となっている。
【0039】
図３Ａに示すように、基板加圧部４０は、上側ステージ４１と、下側ステージ４２と、上側搭載部４３と、上治具プレート４４と、支持部材４５と、下治具プレート４６と、設置ベース４７とを有する。上側ステージ４１は、可動加圧部２２の下面に設けられており、下側ステージ４２は、架台下部２３の上面に設けられている。上側ステージ４１および下側ステージ４２の厚みは、それぞれ基板２の厚みよりも厚くなっている。上側ステージ４１および下側ステージ４２は、それぞれ同一形状を有し、各々のＸ軸方向幅は、上側搭載部４３および支持部材４５の各々のＸ軸方向幅よりも大きくなっている。なお、上側ステージ４１および下側ステージ４２の形状は図示の形状に限定されるものではなく、適宜変更してもよい。
【0040】
上側ステージ４１は、平板状の板体（剛体）からなり、表面精度（例えば平坦性や平滑性等）が比較的高い部材で構成されていることが好ましい。例えば、上側ステージ４１の上面の表面精度は、可動加圧部２２の下面の表面精度よりも優れていることが好ましく、当該表面精度よりも、凹凸が少なく（平滑であり）、水平面に対する傾斜が小さくなっている（平坦である）ことが好ましい。
【0041】
このように、表面精度に優れた上側ステージ４１を可動加圧部２２の下面に固定しておくことにより、上側ステージ４１の下面に上側搭載部４３を固定したときに、上側搭載部４３あるいはこれに搭載される上治具プレート４４を水平面に対して傾斜させることなく、安定した状態で配置することが可能となる。
【0042】
下側ステージ４２は、平板状の板体（剛体）からなり、表面精度（例えば平坦性や平滑性等）が比較的高い部材で構成されていることが好ましい。例えば、下側ステージ４２の上面の表面精度は、架台下部２３の上面の表面精度よりも優れていることが好ましく、当該表面精度よりも、凹凸が少なく（平滑であり）、水平面に対する傾斜が小さくなっている（平坦である）ことが好ましい。
【0043】
このように、表面精度に優れた下側ステージ４２を架台下部２３の上面に固定しておくことにより、下側ステージ４２の上面に支持部材４５を固定したときに、支持部材４５あるいはこれに支持される下治具プレート４６を水平面に対して傾斜させることなく、安定した状態で配置することが可能となる。
【0044】
上側搭載部４３は、平板状の外観形状を有し、上側ステージ４１の下面に固定されている。上側搭載部４３には上治具プレート４４が搭載される。上側搭載部４３は、上治具プレート４４を支持する役割を果たす。
【0045】
上治具プレート４４は、平板状の板体（剛体）からなり、上側搭載部４３の下面に固定（搭載）されている。上治具プレート４４は、設置ベース４７に配置された基板２を加圧する機能を有する。上治具プレート４４には、加熱機能（例えばヒータ）が内蔵されており、上治具プレート４４で基板２を加圧するときに、上治具プレート４４によって基板２を加熱することが可能となっている。例えば、複数の素子４ａ，４ｂ，４ｃと基板２との接続にあたって導電性接合材料を用いる場合には、基板２を加熱することにより、基板２に対して複数の素子４ａ，４ｂ，４ｃを良好に接続させることが可能となり、基板２とその上に配置された複数の素子４ａ，４ｂ，４ｃとの接合力を高めることが可能となっている。
【0046】
上治具プレート４４は、表面精度が比較的高い部材で構成されていることが好ましい。上治具プレート４４の下面の表面精度は、例えば上側ステージ４１の下面の表面精度よりも優れていることが好ましく、当該表面精度よりも、凹凸が少なく（平滑であり）、水平面に対する傾斜が小さくなっている（平坦である）ことが好ましい。上治具プレート４４の表面（特に下面）の表面粗さＲａは、特に好ましくはＲａ≦１μｍである。
【0047】
このように、上治具プレート４４の表面精度を高めておくことにより、上治具プレート４４の下面で設置ベース４７に配置された基板２を加圧するときに、基板２に加わる荷重のムラを低減し、基板２上の複数の素子４ａ，４ｂ，４ｃに対して均一な荷重を与えることができる。
【0048】
下治具プレート４６は、平板状の板体（剛体）からなり、支持部材４５によって支持されている。下治具プレート４６は、上治具プレート４４と略同一からなる形状を有し、上治具プレート４４に対して対向して配置されている。下治具プレート４６には、設置ベース４７を配置することが可能となっている。上治具プレート４４と同様に、下治具プレート４６には、加熱機能（例えばヒータ）が内蔵されており、上治具プレート４４で基板２を加圧するときに、下治具プレート４６（および上治具プレート４４）によって、設置ベース４７に配置された基板２を加熱することが可能となっている。
【0049】
下治具プレート４６は、表面精度が比較的高い部材で構成されていることが好ましい。下治具プレート４６の上面の表面精度は、例えば下側ステージ４２の上面の表面精度よりも優れていることが好ましく、当該表面精度よりも、凹凸が少なく（平滑であり）、水平面に対する傾斜が小さくなっている（平坦である）ことが好ましい。
【0050】
下治具プレート４６の表面（特に上面）の表面粗さＲａは、上治具プレート４６の表面の表面粗さＲａと同様に、特に好ましくはＲａ≦１μｍである。また、下治具プレート４６と上治具プレート４４との平行度Ａは、Ａ＜１μｍであることが好ましい。後述する設置ベース４７についても同様である。
【0051】
このように、下治具プレート４６（あるいは設置ベース４７）の表面精度を高めておくことにより、下治具プレート４６に設置ベース４７を配置したときに、水平面に対する設置ベース４７の平行度を高めることができる。また、上治具プレート４４の下面で設置ベース４７に配置された基板２を加圧するときに、上治具プレート４４の下面と基板２とが平行になり（密着し）、上述した基板２に加わる荷重分布の均一性を高める効果を得ることができる。
【0052】
上治具プレート４４および下治具プレート４６の表面精度をある程度確保することができたとしても、上治具プレート４４で基板２を加圧するときには、下治具プレート４６に少なからず撓みが生じ、下治具プレート４６と上治具プレート４４との間の接触性（密着性）が不良になる等の理由により、基板２（あるいは、基板２に配置された複数の素子４ａ，４ｂ，４ｃ）に対して均一な荷重を与えることが困難となり、基板２と複数の素子４ａ，４ｂ，４ｃとの接合状態にばらつきが発生するおそれがある。
【0053】
すなわち、基板２には、相対的に見たときに、小さな面圧が加わることにより荷重が減少する方向に変動する領域と、大きな面圧が加わることにより荷重が増大する方向に変動する領域とが形成され、基板２の荷重分布が不均一となる。そこで、本実施形態における基板処理装置１０では、支持部材４５に、この基板２の加圧時における荷重分布の不均一性を解消するための手段を具備させている。以下、支持部材４５の詳細について説明する。
【0054】
支持部材４５は、下側ステージ４２の上面に固定され、下治具プレート４６を支持する。すなわち、本実施形態では、下治具プレート４６は、支持部材４５を介して、下側ステージ４２に配置される。支持部材４５は、上述した下治具プレート４６の撓みに伴う基板２の被荷重量の変動を調整可能に構成されており、下治具プレート４６に加わる荷重の面内分布に応じた支持力を下治具プレート４６に与える。
【0055】
例えば、下治具プレート４６のうち、その中心に近い位置ほど、下治具プレート４６が下に凸となるように凹形状に撓み、当該位置に加わる面圧が相対的に小さくなり、下治具プレート４６の被荷重量が相対的に小さくなる場合がある。このように下治具プレート４６に加わる荷重が相対的に小さくなる位置では、支持部材４５は下治具プレート４６に相対的に大きな支持力を与える。これにより、下治具プレート４６の中心に近い位置では、下治具プレート４６が撓みにくくなり、下治具プレート４６に加わる荷重を増大させることが可能となる。その結果、当該位置において、設置ベース４７に配置された基板２に加わる荷重を増大させることが可能となる。
【0056】
また、下治具プレート４６のうち、その中心から離れた位置ほど、当該位置に加わる面圧が相対的に大きくなり、被荷重量が相対的に大きくなる場合がある。このように下治具プレート４６に加わる荷重が相対的に大きくなる位置では、支持部材４５は下治具プレート４６に小さな支持力を与える。これにより、下治具プレート４６の中心から離れた位置では、下治具プレート４６が撓みやすくなり、下治具プレート４６に加わる荷重を減少させることが可能となる。その結果、当該位置において、設置ベース４７に配置された基板２に加わる荷重を減少させることが可能となる。
【0057】
このようにして、支持部材４５は、下治具プレート４６の各位置に加わる荷重が均衡するように下治具プレート４６の撓みを調整し、基板２に加わる荷重を均一にするのである。以下、支持部材４５が下治具プレート４６の荷重の面内分布に応じた支持力を下治具プレート４６に与えるための具体的手段について説明する。
【0058】
支持部材４５は、複数の柱状部材５０の集合体５００と、複数の柱状部材５０が設置される設置部５２とを有する。複数の柱状部材５０は、それぞれ円柱形状からなり、下治具プレート４６を支持する役割を果たす。各柱状部材５０の形状は、これに限定されるものではなく、三角柱形状、四角柱形状、その他の多角柱形状、円錐形状、三角錐形状、その他の多角錐形状であってもよい。また、各柱状部材５０は、中空形状を有していてもよい。
【0059】
複数の柱状部材５０は、弾性変形可能な剛体で構成されていることが好ましい。図４に示すように、複数の柱状部材５０は、設置部５２に、例えば７行７列のマトリクス状に整然と配置されており、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向に所定の間隔をあけて配置されている。図示の例では、複数の柱状部材５０の各々の中心間距離は実質的に同一であり、複数の柱状部材５０はそれぞれ等間隔で配置されているが、各柱状部材５０の間隔は必ずしも同一でなくてもよい。また、複数の柱状部材５０は、上方から見たときに、それぞれ設置部５２のＸ軸方向およびＹ軸方向の各々の一端から他端にかけて満遍なく配置されているが、設置部５２の一部に偏在（密集）していてもよい。
【0060】
また、複数の柱状部材５０は、設置部５２にランダムに配置されていてもよく、あるいは同心円状に配置されていてもよい。複数の柱状部材５０の配置は、下治具プレート４６に加わる荷重の面内分布に応じて適宜決定される。
【0061】
本実施形態では、複数の柱状部材５０の横断面積（ＸＹ平面に平行な面の断面積）は全て同一となっている訳ではなく、複数の柱状部材５０は、横断面積が相対的に大きい柱状部材５０（柱状部材５０ａ）と、横断面積が相対的に小さい柱状部材５０（柱状部材５０ｃ）と、これらの中間の横断面積を有する柱状部材５０（柱状部材５０ｂ）とで構成されている。すなわち、複数の柱状部材５０は、形状の異なる複数の部材で形成されている。
【0062】
下治具プレート４６に加わる荷重が相対的に小さくなる位置には複数の柱状部材５０ａが配置され、下治具プレート４６に加わる荷重が相対的に大きくなる位置には複数の柱状部材５０ｂ，５０ｃが配置されている。すなわち、複数の柱状部材５０ａ，５０ｂ，５０ｃは、下治具プレート４６に加わる荷重の面内分布に応じて配置されている。
【0063】
図示の例では、複数の柱状部材５０ａは、設置部５２に、５行５列のマトリクス状に配置されている。以下では、複数の柱状部材５０ａの集合体のうち、中央に位置する柱状部材５０ａを特に柱状部材５０ａ１と表記する場合がある。柱状部材５０ａ１は、下治具プレート４６の略中央部（荷重発生部３０による加圧軸の直下）に配置される。なお、加圧軸は、単一で構成されてもよく、あるいは複数で構成されてもよい。
【0064】
複数の柱状部材５０ｂおよび複数の柱状部材５０ｃは、複数の柱状部材５０ａの集合体の外側（集合体５００の最外周）に配置されており、これを取り囲んでいる。集合体５００の最外周では、その四隅にそれぞれ４つの柱状部材５０ｃが配置されており、さらに４つの柱状部材５０ｃの各々の間に４つの柱状部材５０ｃの各々が配置されている。また、各柱状部材５０ｃの間には、２つの柱状部材５０ｂが対になって配置されている。図４に示す複数の柱状部材５０ａ，５０ｂ，５０ｃの配置は一例であり、これらの配置は適宜変更してもよい。
【0065】
柱状部材５０ａの幅（直径）をＤａ、柱状部材５０ｂの幅（直径）をＤｂ、柱状部材５０ｃの幅（直径）をＤｃとしたとき、Ｄａ＞Ｄｂ＞Ｄｃである。直径Ｄａ，Ｄｂ，Ｄｃは、好ましくは１０～２０ｍｍである。また、最も直径が大きい柱状部材５０ａの直径Ｄａと最も直径が小さい柱状部材５０ｃの直径Ｄｃとの比Ｄａ／Ｄｃは、好ましくは２／１～１．５／１である。各柱状部材５０ａ，５０ｂ，５０ｃの直径（太さ）の範囲をこのような範囲に設定することにより、下治具プレート４６に加わる荷重の大きさあるいは面内分布に応じて、各柱状部材５０ａ，５０ｂ，５０ｃを適度に撓ませることが可能となる。
【0066】
なお、複数の柱状部材５０ａのうち、柱状部材５０ａ１の直径については、他の柱状部材５０ａよりも大きくし、他の柱状部材５０ａよりも撓みにくくしてもよい。
【0067】
各柱状部材５０間の中心間距離（ピッチ）Ｐは、好ましくは２０～５０ｍｍ、さらに好ましくは２０～ ２５ｍｍである。各柱状部材５０間の中心間距離Ｌの範囲をこのような範囲に設定することにより、下治具プレート４６の各位置を満遍なく各柱状部材５０ａ，５０ｂ，５０ｃで支持することが可能となり、適度な支持力で下治具プレート４６を支持することが可能となる。本実施形態では、複数の柱状部材５０ａ，５０ｂ，５０ｃが配置された位置において、複数の柱状部材５０ａ，５０ｂ，５０ｃから下治具プレート４６へ局所的に支持力を与えることが可能となっている。
【0068】
複数の柱状部材５０の長さＬは、好ましくは２０～５０ｍｍであり、さらに好ましくは２０～２５ｍｍである。複数の柱状部材５０の長さＬは、下治具プレート４６の高さと略同一であってもよい。
【0069】
柱状部材５０ａの横断面積をＳａ、柱状部材５０ｂの横断面積をＳｂ、柱状部材５０ｃの横断面積をＳｃとしたとき、Ｓａ＞Ｓｂ＞Ｓｃである。下治具プレート４６に加わる荷重が相対的に小さくなる位置に配置される柱状部材５０ａの横断面積Ｓａは、下治具プレート４６に加わる荷重が相対的に大きくなる位置に配置される柱状部材５０ｂ，５０ｃの横断面積Ｓｂ，Ｓｃに比べて大きくなっている。
【0070】
そのため、複数の柱状部材５０ａ，５０ｂ，５０ｃで下治具プレート４６が支持された状態において、上治具プレート４４（図３Ａ）による基板２の加圧により、下治具プレート４６（図３Ａ）に荷重が与えられ、それに伴い、複数の柱状部材５０ａ，５０ｂ，５０ｃに荷重が与えられると、柱状部材５０ａには相対的に小さな歪み量の歪み（Ｚ軸負方向側への圧縮歪み）が発生する一方で、柱状部材５０ｂ，５０ｃには相対的に大きな歪み量の歪み（Ｚ軸負方向側への圧縮歪み）が発生する。このように、本実施形態では、柱状部材５０ａ，５０ｂ，５０ｃが荷重を受けたときに、柱状部材５０ａ，５０ｂ，５０ｃに、これらの横断面積Ｓａ，Ｓｂ，Ｓｃに応じた歪み量の歪みを発生させることが可能となっている。
【0071】
柱状部材５０ａ，５０ｂ，５０ｃは、一定荷重を受けたときに、その横断面積に応じた歪みを発生させることにより、その延在方向に沿って伸縮自在となっている。柱状部材５０ａ，５０ｂ，５０ｃが荷重を受けることにより歪みを発生させるタイミングは、下治具プレート４６が上治具プレート４４から荷重を受けるタイミング、あるいは上治具プレート４４が可動加圧部２２から荷重を受けるタイミング、あるいは可動加圧部２２が荷重発生部３０から荷重を受けるタイミングと概ね同期している。柱状部材５０ａ，５０ｂ，５０ｃに荷重が加わっていない無負荷状態では、柱状部材５０ａ，５０ｂ，５０ｃは、歪み状態を解除し、元の状態へ復帰する。
【0072】
本実施形態では、下治具プレート４６に加わる荷重が相対的に小さくなる位置に配置される柱状部材５０ａの歪み量は、下治具プレート４６に加わる荷重が相対的に大きくなる位置に配置される柱状部材５０ｂ，５０ｃの歪み量に比べて小さくなっている。すなわち、複数の柱状部材５０には、下治具プレート４６に加わる荷重の面内分布に応じて、歪み量の勾配が形成されており、下治具プレート４６の中央付近に配置された柱状部材５０ほど歪みが小さく、下治具プレート４６の外周付近に配置された柱状部材５０ほど歪みが大きくなっている。
【0073】
下治具プレート４６に加わる荷重が相対的に小さくなる位置において、歪み量が相対的に小さい柱状部材５０ａで下治具プレート４６を支持することにより、柱状部材５０ａから下治具プレート４６に相対的に大きな支持力を与え、下治具プレート４６を撓みにくくし、下治具プレート４６に発生する撓みを柱状部材５０ａの歪み量に応じた小さな撓み量へ調整することが可能となる。すなわち、何ら策を講じなければ、凹形状に撓んでいた下治具プレート４６の中央付近では、図３Ｂに示すように撓みが相対的に小さくなる。その結果、下治具プレート４６に加わる荷重を増大させ、下治具プレート４６の上（設置ベース４７）に配置される基板２の被荷重量を増大させることが可能となっている。
【0074】
また、下治具プレート４６に加わる荷重が相対的に大きくなる位置において、歪み量が相対的に大きい柱状部材５０ｂ，５０ｃで下治具プレート４６を支持することにより、柱状部材５０ｂ，５０ｃから下治具プレート４６に相対的に小さな支持力を与え、下治具プレート４６を撓みやすくし、下治具プレート４６に発生する撓みを柱状部材５０ｂ，５０ｃの歪み量に応じた大きな撓み量へ調整することが可能となる。すなわち、何ら策を講じなければ、撓みがほとんど発生していなかった下治具プレート４６の外周付近には、図３Ｂに示すように相対的に大きな撓みが発生する。その結果、下治具プレート４６に加わる荷重を減少させ、下治具プレート４６の上（設置ベース４７）に配置される基板２の被荷重量を減少させることが可能となる。
【0075】
図５Ａは、本実施形態における支持部材４５を用いず、平板形状の部材（上側搭載部４３に対応する部材）に下治具プレート４６（図３Ａ）を搭載したときに、下治具プレート４６に配置された感圧紙６に加わる荷重の分布を示す図（すなわち、比較例を示す図）である。また、図５Ｂは、本実施形態における支持部材４５で下治具プレート４６を支持したときに、下治具プレート４６に配置された感圧紙６に加わる荷重の分布を示す図（すなわち、実施例を示す図）である。図５Ａおよび図５Ｂにおいて、感圧紙６に加わる荷重の分布は、基板２に加わる荷重部の分布に対応する。これらの図面において、濃色で示されている部分には相対的に大きな荷重が加わっていることを表しており、薄色で示されている部分には相対的に小さな荷重が加わっていることを表している。なお、感圧紙は、設置ベース４７を介することなく、下治具プレート４６の上面に直接的に配置されている。
【0076】
図５Ａに示すように、比較例では、感圧紙６の中央部に近づくほど、感圧紙６に加わる荷重が相対的に小さくなっている一方で、感圧紙６の外周部に近づくほど、感圧紙６に加わる荷重が相対的に大きくなっていくことが分かる。すなわち、比較例では、下治具プレート４６の中央付近に相対的に大きな撓みが発生している一方で、下治具プレート４６の外周付近には相対的に小さな撓みが発生している。
【0077】
一方、図５Ｂに示すように、実施例では、感圧紙６の各位置において、感圧紙６に加わる荷重が一様になっていることが分かる。本実施形態では、図３Ｂに示すように、下治具プレート４６の各位置に加わる荷重が均衡するように下治具プレート４６を撓ませることにより、図５Ｂに示すように、下治具プレート４６に加わる荷重の面内分布を均一になるように調整し、下治具プレート４６に配置された基板２に加わる荷重を均一にすることができる。
【0078】
図４に示す例では、異なる断面積を有する複数の柱状部材５０ａ，５０ｂ，５０ｃの歪み量の違いに基づいて、下治具プレート４６に加わる荷重の面内分布の調整を行う態様について示したが、当該調整を行うための態様はこれに限定されるものではない。
【0079】
例えば、支持部材４５は、一定荷重を受けた場合における複数の柱状部材５０のヤング率に基づく歪み量の違いにより、下治具プレート４６に加わる荷重の面内分布を調整してもよい。図６Ａに示す例では、複数の柱状部材５０ａ’，５０ｂ’，５０ｃ’はそれぞれヤング率（機械強度）あるいは硬度の異なる部材で構成されている。
【0080】
より詳細には、下治具プレート４６に加わる荷重が相対的に小さくなる下治具プレート４６の中央付近には、ヤング率が相対的に大きい柱状部材５０ａ’が配置されている。また、下治具プレート４６に加わる荷重が相対的に大きくなる下治具プレート４６の外周付近には、ヤング率が相対的に小さい柱状部材５０ｃ’が配置されている。また、下治具プレート４６に加わる荷重が相対的に中程度である下治具プレート４６の中央部と外周部の間の位置には、ヤング率が相対的に中程度である柱状部材５０ｂ’が配置されている。すなわち、各柱状部材５０ａ’，５０ｂ’，５０ｃ’のヤング率は、下治具プレート４６に加わる荷重の面内分布に応じた値となっており、各柱状部材５０のヤング率には下治具プレート４６の中心から離れた位置ほど小さくなるような勾配が形成されている。なお、各柱状部材５０ａ’，５０ｂ’，５０ｃ’の断面積および形状は全て同一になっている。
【0081】
この場合、複数の柱状部材５０ａ’，５０ｂ’，５０ｃ’で下治具プレート４６が支持された状態において、上治具プレート４４による基板２の加圧により、下治具プレート４６に荷重が与えられ、それに伴い、複数の柱状部材５０ａ’，５０ｂ’，５０ｃ’に荷重が与えられると、複数の柱状部材５０ａ’，５０ｂ’，５０ｃ’にそのヤング率に応じた歪みが発生し、これらの歪み量に応じた撓み量の撓みが下治具プレート４６に発生する。
【0082】
すなわち、柱状部材５０ａ’に相対的に小さな歪みが発生する結果、下治具プレート４６の中央付近には相対的に小さな撓みが発生する。また、柱状部材５０ｃ’に相対的に大きな歪みが発生する結果、下治具プレート４６の外周付近には相対的に大きな撓みが発生する。また、柱状部材５０ｂ’に相対的に中程度の歪みが発生する結果、下治具プレート４６の中央部と外周部の間の位置には相対的に中程度の撓みが発生する。
【0083】
このように、下治具プレート４６に加わる荷重の面内分布に複数の柱状部材５０ａ’，５０ｂ’，５０ｃ’の歪み量を対応させ、その歪み量に応じた撓み量の撓みを下治具プレート４６に発生させることにより、下治具プレート４６の各位置に加わる荷重が均衡するように下治具プレート４６を撓ませ（図３Ｂ参照）、基板２に加わる荷重を均一にすることができる。
【0084】
複数の柱状部材５０のヤング率Ｅは、好ましくは１００ＧＰａ～５００ＧＰａである。また、最もヤング率Ｅが大きい柱状部材５０ａ’のヤング率Ｅｍａｘと最もヤング率Ｅが小さい柱状部材５０ｃ’のヤング率Ｅｍｉｎとの比Ｅｍａｘ／Ｅｍｉｎは、好ましくは２／１～４／１である。各柱状部材５０ａ’，５０ｂ’，５０ｃ’のヤング率の範囲をこのような範囲に設定することにより、下治具プレート４６に加わる荷重の面内分布に応じて、各柱状部材５０ａ’，５０ｂ’，５０ｃ’を適度に撓ませることが可能となる。なお、支持部材４５には、柱状部材５０ａ’，５０ｂ’，５０ｃ’とは異なるヤング率を有する他の柱状部材５０を含めてもよい。
【0085】
上記のようなヤング率を有する材料として、複数の柱状部材５０は、例えば、炭素銅、窒化珪素、炭化珪素等の材料で構成されることが好ましい。
【0086】
また、例えば、支持部材４５は、複数の柱状部材５０の長さの違いにより、下治具プレート４６に加わる荷重の面内分布を調整してもよい。図６Ｂに示す例では、複数の柱状部材５０ａ”，５０ｂ”，５０ｃ”はそれぞれ長さの異なる部材で構成されており、複数の柱状部材５０ａ”，５０ｂ”，５０ｃ”の上端の高さ位置に分布が形成されている。
【0087】
より詳細には、下治具プレート４６に加わる荷重が相対的に小さくなる下治具プレート４６の中央付近には、長さが相対的に長い柱状部材５０ａ”が配置されている。また、下治具プレート４６に加わる荷重が相対的に大きくなる下治具プレート４６の外周付近には、長さが相対的に短い柱状部材５０ｃ”が配置されている。また、下治具プレート４６に加わる荷重が相対的に中程度である下治具プレート４６の中央部と外周部の間の位置には、長さが相対的に中程度である柱状部材５０ｂ”が配置されている。すなわち、各柱状部材５０ａ”，５０ｂ”，５０ｃ”の長さは、下治具プレート４６に加わる荷重の面内分布に応じた値となっており、各柱状部材５０の長さ（上端の高さ位置）には下治具プレート４６の中心から離れた位置ほど小さくなるような勾配が形成されている。なお、各柱状部材５０ａ”，５０ｂ”，５０ｃ”の断面積およびヤング率は全て同一になっている。
【0088】
この場合、複数の柱状部材５０ａ”，５０ｂ”，５０ｃ”で下治具プレート４６が支持された状態において、上治具プレート４４による基板２の加圧により、下治具プレート４６に荷重が与えられ、それに伴い、複数の柱状部材５０ａ”，５０ｂ”，５０ｃ”に荷重が与えられると、複数の下治具プレート４６には、複数の柱状部材５０ａ”，５０ｂ”，５０ｃ”の長さに応じた撓みが発生する。
【0089】
すなわち、柱状部材５０ａ”が配置された下治具プレート４６の中央付近には、相対的に小さな撓みが発生する。また、柱状部材５０ｃ”が配置された下治具プレート４６の外周付近には、相対的に大きな撓みが発生する。また、柱状部材５０ｂ”が配置された下治具プレート４６の中央部と外周部の間の位置には、相対的に中程度の撓みが発生する。このように、下治具プレート４６に加わる荷重の面内分布に応じて、異なる長さの複数の柱状部材５０ａ”，５０ｂ”，５０ｃ”を配置し、その長さに応じた撓み量の撓みを下治具プレート４６に発生させることにより、下治具プレート４６の各位置に加わる荷重が均衡するように下治具プレート４６を撓ませ（図３Ｂ参照）、基板２に加わる荷重を均一にすることができる。なお、支持部材４５には、柱状部材５０ａ”，５０ｂ”，５０ｃ”とは異なる長さを有する他の柱状部材５０を含めてもよい。
【0090】
なお、下治具プレート４６の撓みを調整するにあたって、複数の柱状部材５０の高さを調整する場合に比較して、複数の柱状部材５０の材質（ヤング率）あるいは径（断面積）を調整する方が、精度を出しやすく、容易である。
【0091】
複数の柱状部材５０の配置は図４に示す例に限定されるものではなく、例えば図７Ａ，８Ａ，９Ａ，１０Ａに示すような配置で、複数の柱状部材５０を配置してもよい。図７Ａに示す例では、点線で示す設置部５２の中央領域５２０に９個の柱状部材５０ｄが３行３列でマトリクス状に配置されている。また、設置部５２の中央領域５２０の外側には、複数の柱状部材５０ｅが局所的に配置されている。複数の柱状部材５０ｄ，５０ｅは、設置部５２の中心から放射状に延びるように配置されている。設置部５２の中央領域５２０では、複数の柱状部材５０ｄが相対的に高い密度で配置されており、設置部５２の中央領域５２０の外側では、複数の柱状部材５０ｅが相対的に低い密度で配置されている。
【0092】
すなわち、図７Ａに示す例では、下治具プレート４６（図１Ｂ）に加わる荷重が相対的に小さくなる位置（中央領域５２０）では、下治具プレート４６に加わる荷重が相対的に大きくなる位置（中央領域５２０の外側）に比べて、相対的に多くの本数の柱状部材５０ｄが密集して配置されている。
【0093】
図７Ｂは、図７Ａに示す複数の柱状部材５０ｄ，５０ｅで下治具プレート４６を支持したときに、下治具プレート４６に発生する撓みの分布をＣＡＥ（Computer Aided Engineering）解析により解析した結果を示す図である。これらの図面において、濃色で示されている部分には相対的に大きな撓みが発生していることを表しており、薄色で示されている部分には相対的に小さな撓みが発生していることを表している。
【0094】
図７Ｂに示すように、設置部５２の中央領域５２０に対応する下治具プレート４６の中央領域４６０は、相対的に多くの本数の柱状部材５０ｄで支持されているため、中央領域４６０では、下治具プレート４６には複数の柱状部材５０ｄから相対的に大きな支持力が与えられ、下治具プレート４６に撓みが発生しにくくなる。すなわち、中央領域４６０において、下治具プレート４６に発生する撓みは、複数の柱状部材５０ｄの密度（本数）に応じた小さな撓み量へ調整され、中央領域４６０に相対的に小さな撓みが発生する結果、下治具プレート４６に加わる荷重が増大することになる。
【0095】
一方、下治具プレート４６の中央領域４６０の外側の領域は、相対的に少ない本数の柱状部材５０ｅで支持されているため、当該領域では、下治具プレート４６には複数の柱状部材５０ｅから相対的に小さな支持力が与えられ、下治具プレート４６に撓みが発生しやすくなる。すなわち、中央領域４６０の外側の領域において、下治具プレート４６に発生する撓みは、複数の柱状部材５０ｅの密度（本数）に応じた大きな撓み量へ調整され、当該領域に相対的に大きな撓みが発生する結果、下治具プレート４６に加わる荷重が減少することになる。
【0096】
特に、柱状部材５０ｅで支持されていない下治具プレート４６の側方領域４６１では、下治具プレート４６に撓みが特に発生しやすく、下治具プレート４６の撓み量が他の領域に比べて特に大きくなっている。
【0097】
このように、複数の柱状部材５０ｄ，５０ｅを、下治具プレート４６に加わる荷重の面内分布に応じて配置することにより、複数の柱状部材５０ｄ，５０ｅの配置に応じて、下治具プレート４６の各位置に加わる荷重が均衡するように下治具プレート４６の撓みを調整し、下治具プレート４６の上（設置ベース４７）に配置される基板２に加わる荷重を均一にすることができる。
【0098】
図４および図７Ａのいずれに示す配置で複数の柱状部材５０を設置部５２に設置するかは、下治具プレート４６に加わる荷重の面内分布に応じて適宜決定される。なお、図４および図７Ａに示す配置以外の配置で、複数の柱状部材５０を設置部５２に設置してもよい。
【0099】
また、これらの設置態様は、前述したように、下治具プレート４６を支持部材４５で支持しなかった場合において、下治具プレート４６に、その中心に近い位置ほど相対的に大きな撓みが発生し、その外周に近い位置ほど相対的に小さな撓みが発生する場合を前提としている。しかし、これとは逆に、下治具プレート４６を支持部材４５で支持しなかった場合において、下治具プレート４６には、その中心に近い位置ほど相対的に小さな撓みが発生し、その外周に近い位置ほど相対的に大きな撓みが発生する場合がある。この場合、下治具プレート４６に加わる荷重の面内分布は、図５Ａに示す荷重の面内分布とは概ね逆の関係になり、下治具プレート４６の中心付近に加わる荷重が相対的に大きくなる一方で、下治具プレート４６の外周付近に加わる荷重が相対的に小さくなる。
【0100】
このような場合には、下治具プレート４６の中央付近に配置される柱状部材５０ほど歪みが大きく、下治具プレート４６の外周付近に配置される柱状部材５０ほど歪みが小さくなるように、設置部５２に配置する複数の柱状部材５０の材質（ヤング率）、形状、あるいは配置等を適宜選択すればよい。例えば、下治具プレート４６の中央付近に配置される柱状部材５０については、ヤング率を小さくし、あるいは径を細くするとともに、下治具プレート４６の外周付近に配置される柱状部材５０については、ヤング率を大きくし、あるいは径を太くすればよい。
【0101】
このような歪み特性を有する複数の柱状部材５０で下治具プレート４６を支持した場合、下治具プレート４６の中心に近い位置では、下治具プレート４６が撓みやすくなり、下治具プレート４６に加わる荷重を減少させることが可能となる。その結果、当該位置において、下治具プレート４６の上（設置ベース４７）に配置された基板２に加わる荷重を減少させることが可能となる。
【0102】
また、下治具プレート４６の外周に近い位置では、下治具プレート４６が撓みにくくなり、下治具プレート４６に加わる荷重を増大させることが可能となる。その結果、当該位置において、下治具プレート４６の上（設置ベース４７）に配置された基板２に加わる荷重を増大させることが可能となる。
【0103】
図３Ａに示すように、設置部５２は、略平板形状を有する板体からなり、複数の柱状部材５０が直立した状態で保持されるよう、複数の柱状部材５０を支持する機能を有する。設置部５２は、複数の柱状部材５０を設置するための複数の設置孔（図示略）を有する。複数の設置孔には、複数の柱状部材５０の下端部を挿入し、固定することが可能となっている。複数の設置孔の数は、複数の柱状部材５０の数と等しくてもよく、あるいは複数の柱状部材５０の数よりも多くてもよい。複数の柱状部材５０は、それぞれボルト等の連結部材で設置部５２（設置孔）に固定されてもよく、あるいは接着剤等の接続部材で設置部５２（設置孔）に固定されてもよい。
【0104】
なお、設置部５２に設置孔は必須ではなく、例えば平面形状（平坦形状）からなる設置部５２の表面に、複数の柱状部材５０を連結部材あるいは接続部材で固定してもよい。あるいは、複数の柱状部材５０は、単に設置部５２の表面に当接しているのみでもよい。図４に示す複数の柱状部材５０のうち、中央に位置する柱状部材５０ａ１については、連結部材あるいは接着部材等で設置部５２に固定されていることが好ましい。
【0105】
また、柱状部材５０ａ１については、連結部材あるいは接着部材等で下治具プレート４６の下面に固定されていることが好ましい。複数の柱状部材５０のうち、柱状部材５０ａ１のみ、下治具プレート４６の下面に固定することにより、下治具プレート４６の中央部において、下治具プレート４６の撓みが小さくなるように調整し、下治具プレート４６に加わる荷重を相対的に大きくすることができる。
【0106】
上治具プレート４４（図３Ａ）で基板２を加圧するときには、上治具プレート４４および下治具プレート４６の加熱に伴い下治具プレート４６等に熱変形が生じ、従来技術では、基板２に対して均一な荷重を与えることが困難となるおそれがあった。そこで、本実施形態における基板処理装置１０では、このような不具合を防止するために、図８Ａおよび図８Ｂに示すように、下治具プレート４６の上面に設置ベース４７が設けられている。設置ベース４７は略平板形状を有する中実の板体で構成され、設置ベース４７には基板２が配置される。すなわち、本実施形態では、基板２は下治具プレート４６の上面に直接的に配置されることはなく、基板２と下治具プレート４６との間には、設置ベース４７が介在することになる。
【0107】
このような状態で、上治具プレート４４で基板２を加圧する場合、下治具プレート４６の加熱に伴い下治具プレート４６に変形（熱膨張）が生じたとしても、その影響が基板２に直接的に及びにくく、設置ベース４７に配置された基板２に対して、上治具プレート４４によって均一な荷重を加えることができる。
【0108】
設置ベース４７の下面は、下治具プレート４６の上面に対して、密着するように当接している。設置ベース４７の縁部（側部あるいは側面）４７１には、それぞれベース傾斜部４７２が形成されている。ここで、縁部４７１のうち、設置ベース４７のＸ軸負方向側の縁部を「縁部４７１ａ」と表記し、設置ベース４７のＹ軸負方向側の縁部を「縁部４７１ｂ」と表記し、設置ベース４７のＸ軸正方向側の縁部を「縁部４７１ｃ」と表記し、設置ベース４７のＹ軸正方向側の縁部を「縁部４７１ｄ」と表記する。縁部４７１ａと縁部４７１ｃとはＸ軸方向に対向しており、縁部４７１ｂと縁部４７１ｄとはＹ軸方向に対向している。
【0109】
ベース傾斜部４７２は、設置ベース４７の外側（設置ベース４７の中心から離れる側）に向かうにしたがって、その厚みが小さくなる（ベース傾斜部４７２の傾斜面の高さが低くなる）ように傾斜している。すなわち、設置ベース４７は、全体として上に凸となる凸形状を有している。ベース傾斜部４７２の傾斜角度θは、好ましくは０°＜θ＜９０°であり、さらに好ましく３０°≦θ≦６０°である。ベース傾斜部４７２の傾斜角度θを上記の範囲に設定することにより、設置ベース４７の縁部４７１にある程度の厚みを持たせることが可能となり、縁部４７１の強度を高めることができる。
【0110】
設置ベース４７の上面あるいは下面の面積は、下治具プレート４６の上面の面積よりも小さく、基板２の上面あるいは下面の面積よりも大きいことが好ましい。設置ベース４７の厚みＴ１（図１０Ａ）は、下治具プレート４６の厚みＴ２（図１０Ａ）よりも小さく、厚みＴ１と厚みＴ２との比Ｔ１／Ｔ２は、好ましくは１／１６～１であり、さらに好ましくは１／８～３／４である。上記比Ｔ１／Ｔ２を上記の範囲に設定することにより、設置ベース４７に適度な厚みが付与され、下治具プレート４６の変形（熱膨張）による影響が、設置ベース４７に配置される基板２に及ぶことを効果的に防止することができる。
【0111】
設置ベース４７は、セラミックスまたはガラスで構成されている。設置ベース４７を構成するガラスとしては、ネオセラム（登録商標）、石英ガラス、等のガラス材料が好ましく用いられる。また、設置ベース４７を構成するセラミックスとしては、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム、等のセラミック材料が好ましく用いられる。また、上記の材料以外にも、下治具プレート４６よりも低い熱膨張性を有する各種の無機固形体材料を用いることができる。
【0112】
このように、設置ベース４７を構成する材料として、下治具プレート４６を構成する金属（ＳＵＳ、鉄、ニッケル等）等に比べて熱膨張率の小さいセラミックスまたはガラスを用いることにより、下治具プレート４６の加熱に伴い、下治具プレート４６の熱が設置ベース４７に伝熱したとしても、設置ベース４７に変形（熱膨張）が生じることを防止することが可能となる。したがって、設置ベース４７に配置された基板２に設置ベース４７の変形による影響が及ぶことを有効に防止することが可能となり、基板２に加わる荷重を均一にすることができる。
【0113】
また、加工精度の観点から、セラミックスまたはガラスは下治具プレート４６を構成する金属等に比べて、その表面精度（例えば平坦性や平滑性等）を確保しやすい。そのため、設置ベース４７をセラミックスまたはガラスで構成することにより、設置ベース４７の表面精度を十分に確保することができる。
【0114】
下治具プレート４６の上面には、設置ベース４７の縁部４７１の一部に当接する仮固定枠４８ａ，４８ｂが設けられている。仮固定枠４８ａは縁部４７１ａに当接し、仮固定枠４８ｂは縁部４７１ｂに当接している。複数の仮固定枠４８ａ，４８ｂは、それぞれ設置ベース４７のいずれかの辺（図示の例では、縁部４７１ａ，４７１ｂに対応する辺）に対応して設けられている。仮固定枠４８ａ，４８ｂは、設置ベース４７を下治具プレート４６の所定の位置に位置決めしつつ仮固定するためのものである。
【0115】
仮固定枠４８ａは、略平板形状（略直方体形状）を有する板体からなり、その長手方向がＹ軸方向と一致するように、下治具プレート４６の上面に配置されている。仮固定枠４８ａの厚みは、設置ベース４７の厚みと略同一となっているが、これよりも厚くてもよく、あるいはこれよりも薄くてもよい。仮固定枠４８ａのＹ軸方向幅は、設置ベース４７の縁部４７１ａのＹ軸方向幅と略等しくてもよく、あるいはこれよりも短くてもよい。すなわち、仮固定枠４８ａは、設置ベース４７の縁部４７１ａの全体に当接していてもよく、縁部４７１ａの一部に当接していてもよい。
【0116】
図示の例では、１個の仮固定枠４８ａが縁部４７１ａに当接しているが、複数の仮固定枠４８ａの各々が縁部４７１ａに所定の間隔で局所的に当接していてもよい。仮固定枠４８ａの形状は図示の形状に限定されるものではなく、例えば略立方体形状等であってもよい。仮固定枠４８ａのＸ軸方向幅は、下治具プレート４６上における設置ベース４７の外側のスペースの大きさに応じて適宜変更してもよい。
【0117】
仮固定枠４８ｂは、略平板形状（略直方体形状）を有する板体からなり、その長手方向がＸ軸方向と一致するように、下治具プレート４６の上面に配置されている。仮固定枠４８ｂの厚みは、設置ベース４７の厚みと略同一となっているが、これよりも厚くてもよく、あるいはこれよりも薄くてもよい。仮固定枠４８ｂのＸ軸方向幅は、設置ベース４７の縁部４７１ｂのＸ軸方向幅と略等しくてもよく、あるいはこれよりも短くてもよい。すなわち、仮固定枠４８ｂは、設置ベース４７の縁部４７１ｂの全体に当接していてもよく、縁部４７１ｂの一部に当接していてもよい。
【0118】
図示の例では、１個の仮固定枠４８ｂが縁部４７１ｂに当接しているが、複数の仮固定枠４８ｂの各々が縁部４７１ｂに所定の間隔で局所的に当接していてもよい。仮固定枠４８ｂの形状は図示の形状に限定されるものではなく、例えば略立方体形状等であってもよい。仮固定枠４８ｂのＹ軸方向幅は、下治具プレート４６上における設置ベース４７の外側のスペースの大きさに応じて適宜変更してもよい。
【0119】
仮固定枠４８ａ，４８ｂは、複数の留め具４８０により、下治具プレート４６に固定されている。複数の留め具４８０は、仮固定枠４８ａ，４８ｂの長手方向に沿って、所定の間隔で配置されている。留め具４８０は、仮固定枠４８ａ，４８ｂに形成された貫通孔の内部を貫通し、下治具プレート４６に形成された凹部の内部に嵌め込まれている（図１０Ａ参照）。留め具４８０は、ボルトやピン等、種々の部材で構成することができる。なお、仮固定枠４８ａ，４８ｂを下治具プレート４６に固定するための手段は、留め具４８０に限定されるものではなく、例えば接着剤等の接合部材で仮固定枠４８ａ，４８ｂを下治具プレート４６に固定してもよい。
【0120】
仮固定枠４８ａと仮固定枠４８ｂとは、略直交するように配置されている。仮固定枠４８ａと仮固定枠４８ｂとの交差部（設置ベース４７の角部に対応する位置）において、仮固定枠４８ａと仮固定枠４８ｂとは接しておらず、所定の距離だけ離間して配置されている。
【0121】
設置ベース４７の縁部４７１ａに当接する仮固定枠４８ａの内側には、縁部４７１ａに形成されたベース傾斜部４７２に係合する内側傾斜部４８１が形成されている。また、設置ベース４７の縁部４７１ｂに当接する仮固定枠４８ｂの内側には、縁部４７１ｂに形成されたベース傾斜部４７２に係合する内側傾斜部４８１が形成されている。内側傾斜部４８１は、設置ベース４７に近づく方向に向かうにしたがって、その厚みが小さくなる（内側傾斜部４８１の傾斜面の高さが高くなる）ように傾斜している。内側傾斜部４８１の傾斜面は、ベース傾斜部４７２の傾斜面に対して略平行となっており、内側傾斜部４８１とベース傾斜部４７２とは係合可能となっている。
【0122】
内側傾斜部４８１の傾斜面は、設置ベース４７に向かって上方に傾斜しているため、内側傾斜部４８１とベース傾斜部４７２とが係合したときに、設置ベース４７の上方への位置ずれを防止することが可能となっている。なお、内側傾斜部４８１の傾斜面は、設置ベース４７に向かって下方に傾斜していていてもよい。この場合、ベース傾斜部４７２は、その傾斜面が設置ベース４７の外側に向かって上方に傾斜するように形成される。
【0123】
下治具プレート４６の上には、複数の仮固定治具４９が設けられている。より詳細には、複数の仮固定治具４９は、設置ベース４７の縁部４７１ｃに対応する位置に設けられている。仮固定治具４９は、仮固定枠４８ａとともに、設置ベース４７を下治具プレート４６の所定の位置に位置決めしつつ仮固定するためのものである。複数の仮固定治具４９は、仮固定枠４８ａにＸ軸方向に対向するように配置されており、Ｙ軸方向から見たとき、設置ベース４７は仮固定枠４８ａと複数の仮固定治具４９とで挟まれるように配置される。
【0124】
複数の仮固定治具４９は、所定の間隔で、Ｙ軸方向に沿って配置されている。図示の例では、下治具プレート４６には、３つの仮固定治具４９が設けられているが、仮固定治具４９の数は１つでもよく、２つあるいは４つ以上でもよい。
【0125】
仮固定治具４９は、可動部材４９０をＸ軸方向に移動可能に保持する。仮固定治具４９は、可動部材４９０を設置ベース４７に向けて移動（延出）させ、可動部材４９０を設置ベース４７の縁部４７１ｃに当接させることにより、下治具プレート４６に対して設置ベース４７を仮固定する。仮固定治具４９の機能の詳細については後述する。
【0126】
図９に示すように、下治具プレート４６の上面には、仮固定枠４８ａ，４８ｂに加えて、仮固定枠４８ｃ，４８ｄが設けられていてもよい。仮固定枠４８ｃは設置ベース４７の縁部４７１ｃに対応する位置に設けられており、仮固定枠４８ｄは設置ベース４７の縁部４７１ｄに対応する位置に設けられている。
【0127】
仮固定枠４８ｃは仮固定枠４８ａにＸ軸方向に対向して設けられており、Ｙ軸方向から見て、設置ベース４７は仮固定枠４８ａと仮固定枠４８ｃとに挟まれるように配置されている。仮固定枠４８ｄは仮固定枠４８ｂにＹ軸方向に対向して設けられており、Ｘ軸方向から見て、設置ベース４７は仮固定枠４８ｂと仮固定枠４８ｄとに挟まれるように配置されている。仮固定枠４８ａ～４８ｄは略リング状に配置されており、設置ベース４７は仮固定枠４８ａ～４８ｄに囲まれるようにこれらの内側に配置される。
【0128】
仮固定枠４８ａと仮固定枠４８ｃとの間の距離は設置ベース４７のＸ軸方向幅よりも大きくなっており、仮固定枠４８ｂと仮固定枠４８ｄとの間の距離は設置ベース４７のＹ軸方向幅よりも大きくなっている（図１０Ａ参照）。詳細については後述するが、設置ベース４７の縁部４７１は、仮固定枠４８ａ～４８ｄのうち、仮固定枠４８ａ，４８ｂに当接し、仮固定枠４８ｃ，４８ｄには当接しない。
【0129】
下治具プレート４６の上面において、仮固定枠４８ｃが配置された位置には、複数（４つ）の仮固定治具４９ｃが設けられており、仮固定枠４８ｄが配置された位置には、複数（４つ）の仮固定治具４９ｄが設けられている。これらの仮固定治具４９ｃ，４９ｄは、仮固定枠４８ｃ，４８ｄに形成された複数の貫通孔の内部にそれぞれ配置されている。
【0130】
仮固定枠４８ｃに配置された仮固定治具４９ｃは、可動部材４９０をＸ軸方向に往復移動可能に保持する。仮固定枠４８ｄに配置された仮固定治具４９ｄは、可動部材４９０をＹ軸方向に往復移動可能に保持する。以下、図１０Ａおよび図１０Ｂを参照しつつ、仮固定治具４９ｄの詳細な構成について説明する。なお、仮固定治具４９ｃの構成は仮固定治具４９ｄの構成と同様であるため、その詳細な説明については省略する。
【0131】
図１０Ａおよび図１０Ｂに示すように、仮固定治具４９ｄは、例えばプランジャからなり、可動部材４９０と、弾性体４９１と、軸部材４９２と、筐体４９３とを有する。筐体４９３は、有底筒形状からなり、可動部材４９０と弾性体４９１とを内部に収容する。筐体４９３は、仮固定枠４８ｄに形成された治具設置孔４８２の内部に設置（収容）されている。治具設置孔４８２は、仮固定枠４８ｄの内側（設置ベース４７が配置される側）から外側に向かって凹む長手状の孔からなる。筐体４９３の一端は、軸部材４９２に形成された凹部に嵌め込まれており、筐体４９３は、軸部材４９２に対して直交した状態で固定されている。
【0132】
可動部材４９０は、例えば棒状部材からなり、筐体４９３の内部に収容されている。可動部材４９０の長手方向は、可動部材４９０の移動方向と一致している。可動部材４９０の形状は図示の形状に限定されるものではなく、必ずしも長手状に形成されていなくてもよい。例えば、可動部材４９０の形状は、立方体形状等であってもよい。可動部材４９０は、その先端部で設置ベース４７の縁部４７１ｄを押圧可能に構成されている。
【0133】
軸部材４９２は、例えば棒状部材からなり、下治具プレート４６に対して直立した状態で設けられている。軸部材４９２は、筐体４９３をＹ軸方向に平行な状態で固定されるように支持する。軸部材４９２の下端部は、下治具プレート４６に形成された凹部の内部に嵌め込まれており、下治具プレート４６に固定されている。ただし、軸部材４９２の固定態様はこれに限定されるものではなく、接着剤等の接続部材で下治具プレート４６の上面に固定されていてもよい。
【0134】
弾性体４９１は、弾性変形可能な弾性部材からなり、例えばばねやゴム等で構成される。弾性体４９１は、可動部材４９０に対して弾性力（付勢力）を与え、その弾性力により可動部材４９０をＹ軸正方向側およびＹ軸負方向側に移動させる。弾性体４９１の一端は筐体４９３の内面（底部）に接続されており、弾性体４９１の他端は可動部材４９０の一端に接続されている。
【0135】
仮固定枠４８ｂ（あるいは仮固定枠４８ａ）と仮固定枠４８ｄ（あるいは仮固定枠４８ｃ）との間に設置ベース４７を配置する段階では、弾性体４９１は、可動部材４９０を付勢した状態で保持しており、弾性体４９１には弾性力が蓄積されている。また、仮固定枠４８ｂ（あるいは仮固定枠４８ａ）と仮固定枠４８ｄ（あるいは仮固定枠４８ｃ）との間に設置ベース４７を配置する段階では、設置ベース４７の縁部４７１ｂと仮固定枠４８ｂとの間には隙間が形成されており、これらは当接してはいない。また、設置ベース４７の縁部４７１ｄと仮固定枠４８ｄとの間にも隙間が形成されている。
【0136】
この状態において、仮固定治具４９ｄが弾性体４９１に蓄積された弾性力（付勢力）を開放させると、図１０Ｂに示すように、弾性体４９１が伸張するとともに、弾性体４９１から受ける弾性力によって、可動部材４９０が、付勢位置（図１０Ａに示す位置）から設置ベース４７に向けてＹ軸方向に沿って押し出される。
【0137】
その結果、可動部材４９０の先端部が、設置ベース４７の縁部４７１ｄ（ベース傾斜部４７２）に当接するとともに、仮固定枠４８ｂが配置されている側に向けて縁部４７１ｄを押圧する。可動部材４９０によって押圧された設置ベース４７は、縁部４７１ｂが仮固定枠４８ｂに当接するまで、仮固定枠４８ｂに向けて移動する。設置ベース４７の縁部４７１ｂが仮固定枠４８ｂに当接し、仮固定枠４８ｂの内側傾斜部４８１が設置ベース４７のベース傾斜部４７２に係合することにより、縁部４７１ｂ側において、設置ベース４７が仮固定枠４８ｂによって下治具プレート４６に仮固定される。
【0138】
また、この状態において、可動部材４９０の先端部は設置ベース４７の縁部４７１ｄを適度な力で押圧した状態を維持しており、縁部４７１ｄ側において、設置ベース４７が仮固定治具４９ｄによって下治具プレート４６に仮固定される。その結果、設置ベース４７は仮固定枠４８ｂと可動部材４９０とで挟持された状態となり、仮固定枠４８ｂと可動部材４９０とによって、所定位置から位置ずれすることを防止することが可能となっている。なお、設置ベース４７の縁部４７１ｄは、仮固定枠４８ｄに当接することはなく、設置ベース４７が下治具プレート４６に仮固定された状態においても、設置ベース４７の縁部４７１ｄと仮固定枠４８ｄとの間には隙間が形成されたままとなっている。
【0139】
このように設置ベース４７を下治具プレート４６に仮固定した状態において、下治具プレート４６を加熱すると、その熱が設置ベース４７に伝熱し、設置ベース４７に少なからず熱膨張が発生し、設置ベース４７が面方向に（Ｘ軸方向およびＹ軸方向）に膨張する可能性がある。本実施形態では、仮固定治具４９ｄは設置ベース４７を本固定（完全固定）ではなく仮固定しているため、例えば設置ベース４７がＹ軸方向に膨張した場合には、設置ベース４７から受ける応力によって、可動部材４９０が、設置ベース４７から仮固定治具４９ｄに向けて押し戻される。なお、本固定（完全固定）とは、設置ベース４７が下治具プレート４６に対して移動できないように締結具等によってきつく固定されている状態をいう。
【0140】
すなわち、仮固定治具４９ｄが配置されている側に向けて、設置ベース４７が面方向に膨出することにより、その膨張時の応力によって、可動部材４９０が、仮固定治具４９ｄが配置されている側に向けて、設置ベース４７の変形方向に押し戻される。そして、設置ベース４７の膨張時の応力と弾性体４９１による弾性力とが釣り合う位置において、可動部材４９０の押し戻しが止まり、その状態で設置ベース４７は下治具プレート４６に仮固定される。なお、その後、設置ベース４７が収縮したときには、再び、設置ベース４７は、可動部材４９０で押圧される形で仮固定枠４８ｂが配置されている側に向けて移動し、弾性体４９１による弾性力と設置ベース４７が発生する応力とが釣り合う位置で、下治具プレート４６に仮固定される。
【0141】
このように、本実施形態では、設置ベース４７は、設置ベース４７の変形を許容（吸収）可能に、下治具プレート４６に仮固定されている。そのため、設置ベース４７の変形を妨げることなく、設置ベース４７を下治具プレート４６の上で面方向に自在に変形させ、設置ベース４７の変形に伴い発生する応力を効果的に逃がすことができる。また、設置ベース４７はＸ軸方向およびＹ軸方向に自在に変形（膨張）することができるため、設置ベース４７のＺ軸方向への変形は相対的に小さくなる。そのため、設置ベース４７の上面の表面精度（平坦性や平滑性等）が悪化することを防止することが可能となり、設置ベース４７の上面に配置される基板２に対して、上治具プレート４４によって均一な荷重を与えることができる。
【0142】
以上、図１０Ａおよび図１０Ｂに示しつつ、仮固定治具４９ｄの構成および動作について説明したが、これと同様のことが仮固定治具４９ｃについても当てはまる。すなわち、本実施形態では、図９に示すように、Ｘ軸方向に関しては、仮固定枠４８ａとそのＸ軸方向の反対側に位置する複数の仮固定治具４９ｃとによって、設置ベース４７のＸ軸方向に沿う変形（熱膨張）に応じて移動自在に設置ベース４７を下治具プレート４６に仮固定する。また、Ｙ軸方向に関しては、仮固定枠４８ｂとそのＹ軸方向の反対側に位置する複数の仮固定治具４９ｄとによって、設置ベース４７のＹ軸方向に沿う変形に応じて移動自在に設置ベース４７を下治具プレート４６に仮固定する。
【0143】
なお、図８Ａに示すように、Ｘ軸方向に関してのみ、仮固定枠４８ａと複数の仮固定治具４９とで、設置ベース４７を下治具プレート４６に仮固定してもよい。この場合、Ｙ軸方向に関しては、仮固定枠４８ｂとそのＹ軸方向の反対側に位置する複数の留め具４８０とで、設置ベース４７を下治具プレート４６に仮固定してもよい。
【0144】
なお、仮固定枠４８ａ～４８ｄの配置は、図８Ａおよび図９に示す配置に限定されるものではなく、適宜変更可能である。例えば、図１１に示すように、設置ベース４７が略矩形状を有する場合には、設置ベース４７の第１角部４７３ａに対応する位置に仮固定枠４８ａを設け、第１角部４７３ａに対して略対角線上に位置する第３角部４７３ｃに対応する位置に仮固定治具４９ｃを設けてもよい。また、設置ベース４７の第２角部４７３ｂに対応する位置に仮固定枠４８ｂを設け、第２角部４７３ｂに対して略対角線上に位置する第４角部４７３ｄに対応する位置に仮固定治具４９ｄを設けてもよい。
【0145】
図示の例では、仮固定治具４９ｃが配置されている第３角部４７３ｃには仮固定枠４８ｃが設けられ、仮固定治具４９ｄが配置されている第４角部４７３ｄには仮固定枠４８ｄが設けられている。
【0146】
設置ベース４７の角部４７３ａ～４７３ｄに面する仮固定枠４８ａ～４８ｄの各々の角部には、内側傾斜部４８１が形成されている。各内側傾斜部４８１の位置には、設置ベース４７の第１角部４７３ａ～第４角部４７３ｄの各々が配置される。
【0147】
仮固定治具４９ｃでは、可動部材４９０が、設置ベース４７の第３角部４７３ｃの位置において縁部４７１に当接し、縁部４７１を設置ベース４７の中心に向けて押圧する。そのため、設置ベース４７は仮固定枠４８ａに向けて斜め方向に移動し、設置ベース４７の第１角部４７３ａに形成されたベース傾斜部４７２が、仮固定枠４８ａの内側傾斜部４８１に当接する。これにより、当該ベース傾斜部４７２は、当該内側傾斜部４８１に係合するようになっている。
【0148】
また、仮固定治具４９ｄでは、可動部材４９０が、設置ベース４７の第４角部４７３ｄの位置において縁部４７１に当接し、縁部４７１を設置ベース４７の中心に向けて押圧する。そのため、設置ベース４７は仮固定枠４８ｂに向けて斜め方向に移動し、設置ベース４７の第２角部４７３ｂに形成されたベース傾斜部４７２が、仮固定枠４８ｂの内側傾斜部４８１に当接する。これにより、当該ベース傾斜部４７２は、当該内側傾斜部４８１に係合するようになっている。
【0149】
その結果、仮固定枠４８ａとその対角線上に配置された仮固定治具４９ｃとによって挟持されるように、設置ベース４７が下治具プレート４６に仮固定されるとともに、仮固定枠４８ｂとその対角線上に配置された仮固定治具４９ｄとによって挟持されるように、設置ベース４７が下治具プレート４６に仮固定される。なお、図示の例において、仮固定枠４８ａ（あるいは仮固定枠４８ｂ）およびその対角線上に位置する仮固定治具４９ｃ（あるいは仮固定治具４９ｄ）の設置を省略し、仮固定枠４８ｂ（あるいは仮固定枠４８ａ）およびその対角線上に位置する仮固定治具４９ｄ（あるいは仮固定治具４９ｃ）のみによって、設置ベース４７を下治具プレート４６に仮固定してもよい。
【0150】
また、図１２に示すように、設置ベース４７が略円形状を有する場合には、設置ベース４７の外周の任意の位置に仮固定枠４８ａを設け、設置ベース４７の径方向に関して仮固定枠４８ａと対向する位置（すなわち、仮固定枠４８ａに対して点対象となる位置）に、仮固定治具４９ｃを設けてもよい。また、仮固定枠４８ａに対して周方向に略９０度だけ時計回りに回転した位置に仮固定枠４８ｂを設け、設置ベース４７の径方向に関して仮固定枠４８ｂと対向する位置に、仮固定治具４９ｄを設けてもよい。このような構成とした場合、仮固定枠４８ａ，４８ｂと仮固定治具４９ｃ，４９ｄとで設置ベース４７の外周を挟み込むようにして、設置ベース４７を下治具プレート４６に仮固定することができる。
【0151】
図１０Ａおよび図１０Ｂに示す例では、設置ベース４７の縁部４７１ｂに形成されたベース傾斜部４７２に仮固定枠４８ｂの内側傾斜部４８１が係合するとともに、設置ベース４７の縁部４７１ｄに形成されたベース傾斜部４７２に仮固定治具４９ｄの可動部材４９０が当接することにより、設置ベース４７は下治具プレート４６に仮固定されていたが、設置ベース４７を下治具プレート４６に仮固定する態様はこれに限定されるものではない。例えば、図１３に示すように、仮固定枠４８ｂの内側に鉤部４８３ｂを形成するとともに、仮固定枠４８ｄの内側に鉤部４８３ｄを形成し、設置ベース４７の縁部４７１ｂを鉤部４８３ｂに係合させるとともに、設置ベース４７の縁部４７１ｄを鉤部４８３ｄに係合させることにより、設置ベース４７を下治具プレート４６に仮固定してもよい。鉤部４８３ｂ，４８３ｄは、設置ベース４７の縁部４７１よりも内側の領域に突出しており、この突出部分が設置ベース４７の上方への位置ずれに対するストッパとして機能する。
【0152】
この態様では、鉤部４８３ｂの位置に形成されたベース収容部４８４ｂに設置ベース４７の縁部４７１ｂが収容され、鉤部４８３ｄの位置に形成されたベース収容部４８４ｄに設置ベース４７の縁部４７１ｄが収容される。これにより、設置ベース４７の上方への移動を鉤部４８３ｂ，４８３ｄで規制することが可能となり、下治具プレート４６に対する設置ベース４７の仮固定が解除されることを防止することができる。このような構造は、図９に示す仮固定枠４８ａおよび仮固定枠４８ｃにも適用することができる。
【0153】
図８Ａ に示すように、下治具プレート４６と設置部５２との間には、断熱材６０が配置されている。断熱材６０は、略平板形状を有し、その内部には複数の柱状部材５０を収容するための複数の収容孔（図示略）が形成されている。複数の柱状部材５０は、複数の収容孔の内部に収容された状態で断熱材６０によって覆われている。下治具プレート４６と設置部５２との間に断熱材６０を介在させることにより、下治具プレート４６およびその上に配置される設置ベース４７の面内方向の各位置に温度差が形成されることを防止することが可能となっている。
【0154】
すなわち、図４に示すように、下治具プレート４６の中央部に横断面積の大きい柱状部材５０ａが配置され、下治具プレート４６の外周部に横断面積が小さい柱状部材５０ｂ，５０ｃが配置された場合、横断面積が大きい柱状部材５０ａの方が横断面積が小さい柱状部材５０ｂ，５０ｃに比べて熱伝導性（放熱性）が高くなる傾向があるため、下治具プレート４６の中央部では外周部に比べて、下治具プレート４６の熱がより多く放熱される。そのため、下治具プレート４６の中央部に近づくほどその温度が低下しやすくなり、下治具プレート４６の中央部と外周部とで温度差が生じ、下治具プレート４６およびその上に配置される設置ベース４７に温度分布の不均一性が生じ得る。
【0155】
そのため、本実施形態では、図８Ａに示すように、断熱部材８０を下治具プレート４６の下に配置し、特に下治具プレート４６の中央部における放熱を抑制することにより、下治具プレート４６およびその上に配置される設置ベース４７の温度分布が均一となるように調整している。
【0156】
なお、複数の柱状部材５０（特に、下治具プレート４６の中央部に配置される柱状部材５０ａ）を、断熱性を有する部材で構成することにより、複数の柱状部材５０を介した放熱を抑制してもよい。
【0157】
以上、本実施形態における基板処理装置１０では、図８Ａに示すように、設置ベース４７が、その面方向の変形を許容可能に、下治具プレート４６に仮固定されている。そのため、下治具プレート４６の加熱に伴い、下治具プレート４６の熱が設置ベース４７に伝熱し、設置ベース４７に変形（熱膨張）が生じるような事態が生じたとしても、その面方向の変形を妨げることなく、設置ベース４７を下治具プレート４６の上で面方向に自在に変形させることにより、設置ベース４７の変形に伴い発生する応力を逃がすことが可能となる。したがって、設置ベース４７の上面の表面精度（例えば平坦性や平滑性等）を十分に確保し、設置ベース４７に配置された基板２に設置ベース４７の変形による影響が及ぶことを防止することが可能となり、基板２に加わる荷重を均一にすることができる。
【0158】
また、本実施形態では、下治具プレート４６の上には、設置ベース４７の縁部４７１の一部に当接する仮固定枠４８ａ，４８ｂが設けられている。仮固定枠４８ａ，４８ｂに設置ベースの縁部４７１ａ，４７１ｂを当接させることにより、設置ベース４７を下治具プレート４６に仮固定することができる。また、設置ベース４７の縁部４７１ｃ，４７１ｄを仮固定枠に当接させることなくフリーの状態とすることにより、下治具プレート４６の加熱に伴い、設置ベース４７に変形が生じるような事態が生じたとしても、その変形を妨げることなく、設置ベース４７を下治具プレート４６の上で面方向に自在に変形させ、設置ベース４７の変形に伴い発生する応力を効果的に逃がすことができる。また、仮固定枠４８ａ，４８ｂを用いて設置ベース４７を下治具プレート４６に仮固定することにより、設置ベース４７の位置決めが容易になる。
【0159】
また、複数の仮固定枠４８ａ，４８ｂを設置ベース４７の縁部４７１ａ，４７１ｂに対応した位置に設けることにより、設置ベース４７を下治具プレート４６に仮固定するときに、設置ベース４７の位置決めを高精度で行うとともに、設置ベース４７の位置ずれを有効に防止することができる。
【0160】
また、本実施形態では、設置ベース４７の縁部４７１ａ，４７１ｂにはベース傾斜部４７２が設けられており、縁部４７１ａ，４７１ｂが当接する仮固定枠４８ａ，４８ｂの内側には、ベース傾斜部４７２に係合する内側傾斜部４８１が形成されている。ベース傾斜部４７２と内側傾斜部４８１とを係合させることにより、設置ベース４７の位置ずれや、設置ベース４７が下治具プレート４６から外れることを有効に防止することができる。
【0161】
また、本実施形態では、図９に示すように、設置ベース４７の縁部４７１ａ，４７１ｂに対応する位置では、縁部４７１ａ，４７１ｂが仮固定枠４８ａ，４８ｂに当接することにより、設置ベース４７が下治具プレート４６に仮固定される。また、設置ベースの縁部４７１ｃ，４７１ｄに対応する位置では、縁部４７１ｃ，４７１ｄが仮固定治具４９ｃ，４９ｄ（可動部材４９０）に当接することにより、設置ベース４７が下治具プレート４６に仮固定される。これにより、仮固定枠４８ａ，４８ｂと仮固定治具４９ｃ，４９ｄとで設置ベース４７の縁部４７１ａ～４７１ｄを挟み込むようにして、設置ベース４７を下治具プレート４６に仮固定することができる。このように、仮固定枠４８ａ，４８ｂおよび仮固定治具４９ｃ，４９ｄの両方を用いて設置ベース４７を下治具プレート４６に仮固定することにより、仮固定枠４８ａ，４８ｂおよび仮固定治具４９ｃ，４９ｄのいずれか一方による設置ベース４７の仮固定を他方によって補強することができる。
【0162】
なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変することができる。
【0163】
上記実施形態では、複数の柱状部材５０は全て円柱形状を有していたが、複数の柱状部材５０のいずれかが円柱形状であり、残りのいずれかが多角柱形状、円錐形状、あるいは多角錐形状等であってもよい。このような形状からなる複数の柱状部材５０は、一定荷重を受けた場合における歪み量が異なる。そのため、この場合も、上記実施形態と同様に、支持部材４５は、複数の柱状部材５０の形状の違いに基づく歪み量の違いにより、下治具プレート４６に加わる荷重の面内分布を調整し、下治具プレート４６に発生する撓みを調整することができる。
【0164】
上記実施形態において、支持部材４５は、複数の素子４ａ，４ｂ，４ｃが配置された基板２の高さの分布に応じた支持力を下治具プレート４６に与えてもよい。基板２に加わる荷重の不均一性は、基板２の高さの分布が要因で生じる場合がある。基板２の高さの分布は、複数の素子４ａ，４ｂ，４ｃの形状や大きさの違い、基板２に対する複数の素子４ａ，４ｂ，４ｃの配置の非対称性、あるいは加圧時における複数の素子４ａ，４ｂ，４ｃの変形等によって生じ得る。例えば、何ら策を講じなければ、基板２の高さが相対的に低い位置では、相対的に小さな荷重が与えられ、基板２の高さが相対的に高い位置では、相対的に大きな荷重が与えられる場合がある（その逆のパターンもある）。
【0165】
このような場合であっても、基板２の高さが相対的に低い位置では、歪みにくい柱状部材を配置する等して、支持部材４５（複数の柱状部材５０）から下治具プレート４６に相対的に大きな支持力を与えて、下治具プレート４６に加わる荷重が増大するようにし、基板２の高さが相対的に高い位置では、歪みやすい柱状部材５０を配置する等して、支持部材４５（複数の柱状部材５０）から下治具プレート４６に相対的に小さな支持力を与え、下治具プレート４６に加わる荷重が減少するようにすることにより、下治具プレート４６の各位置に加わる荷重を均衡させ、基板２に加わる荷重を均一にすることができる。
【0166】
上記実施形態では、図２に示すように、基板２の形状は略四角形であったが、円形あるいはその他の多角形であってもよい。
【0167】
上記実施形態において、下治具プレート４６に設ける仮固定枠４８ａ等の数は、図８Ａ，９，１１，１２に示す仮固定枠の数に限定されるものではなく、適宜変更してもよい。また、下治具プレート４６に設ける仮固定治具４９等の数についても同様である。また、図９において、仮固定枠４８ａ，４８ｂおよび仮固定治具４９ｃ，４９ｄは必ずしも対になって設置されている必要はなく、いずれか一方の設置を省略してもよい。例えば、設置ベース４７の縁部４７１ａ（あるいは縁部４７１ｂ）と縁部４７１ｃ（あるいは縁部４７１ｄ）とを一対の仮固定治具４９ｃで挟み込むようにして、設置ベース４７を下治具プレート４６に仮固定してもよい。
【符号の説明】
【0168】
２…基板
４…素子アレイ
４ａ，４ｂ，４ｃ…素子
６…感圧紙
１０…基板処理装置
２０…架台
２１…架台上部
２２…可動加圧部
２２０…貫通孔
２２１…中央領域
２３…架台下部
２４…ガイドブッシュ
２５…ガイドシャフト
３０…荷重発生部
４０…基板加圧部
４１…上側ステージ
４２…下側ステージ
４３…上側搭載部
４４…上治具プレート
４５…支持部材
４６…下治具プレート
４６０…中央領域
４６１…側方領域
４７…設置ベース
４７１，４７１ａ～４７１ｄ…縁部
４７２…ベース傾斜部
４７３ａ～４７３ｄ…角部
４８ａ～４８ｄ…仮固定枠
４８０…留め具
４８１…内側傾斜部
４８２…治具設置孔
４８３ｂ，４８３ｄ…鉤部
４８４ｂ，４８４ｄ…ベース収容部
４９，４９ｃ，４９ｄ…仮固定治具
４９０…可動部材
４９１…弾性体
４９２…軸部材
４９３…筐体
５０，５０ａ～５０ｅ…柱状部材
５００…集合体
５２…設置部
５２０…中央領域
６０…断熱材
４…素子アレイ
４ａ，４ｂ，４ｃ…素子
６…感圧紙
１０…基板処理装置
２０…架台
２１…架台上部
２２…可動加圧部
２２０…貫通孔
２２１…中央領域
２３…架台下部
２４…ガイドブッシュ
２５…ガイドシャフト
３０…荷重発生部
４０…基板加圧部
４１…上側ステージ
４２…下側ステージ
４３…上側搭載部
４４…上治具プレート
４５…支持部材
４６…下治具プレート
４６０…中央領域
４６１…側方領域
４７…設置ベース
４７１，４７１ａ～４７１ｄ…縁部
４７２…ベース傾斜部
４７３ａ～４７３ｄ…角部
４８ａ～４８ｄ…仮固定枠
４８０…留め具
４８１…内側傾斜部
４８２…治具設置孔
４８３ｂ，４８３ｄ…鉤部
４８４ｂ，４８４ｄ…ベース収容部
４９，４９ｃ，４９ｄ…仮固定治具
４９０…可動部材
４９１…弾性体
４９２…軸部材
４９３…筐体
５０，５０ａ～５０ｅ…柱状部材
５００…集合体
５２…設置部
５２０…中央領域
６０…断熱材
【図1A】
【図1B】
【図2】
【図3A】
【図3B】
【図4】
【図5A】
【図5B】
【図6A】
【図6B】
【図7A】
【図7B】
【図8A】
【図8B】
【図9】
【図10A】
【図10B】
【図11】
【図12】
【図13】