特開 2023-178001 容器処理システム浄化方法及び容器処理システム

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023178001

(43)【公開日】2023-12-14

(54)【発明の名称】容器処理システム浄化方法及び容器処理システム

(51)【国際特許分類】

   B65B 55/08 20060101AFI20231207BHJP

   B65B 55/04 20060101ALI20231207BHJP

【ＦＩ】

B65B55/08 A

B65B55/04 B

【審査請求】未請求

【請求項の数】12

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022091010

(22)【出願日】2022-06-03

(71)【出願人】

【識別番号】000222727

【氏名又は名称】ＰＡＣＲＡＦＴ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100120031

【弁理士】

【氏名又は名称】宮嶋 学

(74)【代理人】

【識別番号】100130719

【弁理士】

【氏名又は名称】村越 卓

(72)【発明者】

【氏名】永田 景子

(72)【発明者】

【氏名】山根 徳幸

(57)【要約】

【課題】容器処理システムの浄化作業の負荷軽減に有利な容器処理システム浄化方法及び容器処理システムを提供する。
【解決手段】容器処理システム浄化方法は、容器処理システム１０が備える設備に光触媒を塗布する工程を含む。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

容器処理システムが備える設備に光触媒を塗布する工程を含む、容器処理システム浄化方法。

【請求項2】

前記光触媒が塗布される設備は、タッチパネルデバイスを含む請求項１に記載の容器処理システム浄化方法。

【請求項3】

前記容器処理システムは、制御盤と、前記制御盤によって制御される装置と、を備え、
前記光触媒が塗布される設備は、前記制御盤を含む請求項１又は２に記載の容器処理システム浄化方法。

【請求項4】

前記容器処理システムは、容器を使った処理を行う処理装置と、前記処理装置への接近を制限する安全カバーと、を備え、
前記光触媒が塗布される設備は、前記安全カバーを含む請求項１又は２に記載の容器処理システム浄化方法。

【請求項5】

前記光触媒が塗布される設備は、容器を使った処理を行う処理装置を含む請求項１又は２に記載の容器処理システム浄化方法。

【請求項6】

前記光触媒が塗布される設備は、容器を搬送する容器搬送装置を含む請求項１又は２に記載の容器処理システム浄化方法。

【請求項7】

光触媒を有する設備を備える容器処理システム。

【請求項8】

前記光触媒を有する設備は、タッチパネルデバイスを含む請求項７に記載の容器処理システム。

【請求項9】

制御盤と、前記制御盤によって制御される装置と、を備え、
前記光触媒を有する設備は、前記制御盤を含む請求項７又は８に記載の容器処理システム。

【請求項10】

容器を使った処理を行う処理装置と、前記処理装置への接近を制限する安全カバーと、を備え、
前記光触媒を有する設備は、前記安全カバーを含む請求項７又は８に記載の容器処理システム。

【請求項11】

前記光触媒を有する設備は、容器を使った処理を行う処理装置を含む請求項７又は８に記載の容器処理システム。

【請求項12】

前記光触媒を有する設備は、容器を搬送する容器搬送装置を含む請求項７又は８に記載の容器処理システム。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、容器処理システム浄化方法及び容器処理システムに関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１は、光触媒を用いることで包装材を変質させることなく殺菌処理することを目的とした殺菌装置を開示する。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０１３－１９３７８９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

容器処理システムにおいて、装置を清潔な状態に保つために、装置の清掃や除菌などの浄化作業が人手によって行われる。しかしながら人手による装置の浄化作業には、相当の労力及び時間が必要とされる。

【0005】

本開示は上述の事情に鑑みてなされており、容器処理システムの浄化作業の負荷軽減に有利な技術を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本開示の一態様は、容器処理システムが備える設備に光触媒を塗布する工程を含む、容器処理システム浄化方法に関する。

【0007】

光触媒が塗布される設備は、タッチパネルデバイスを含んでもよい。

【0008】

容器処理システムは、制御盤と、制御盤によって制御される装置と、を備えてもよく、光触媒が塗布される設備は、制御盤を含んでもよい。

【0009】

容器処理システムは、容器を使った処理を行う処理装置と、処理装置への接近を制限する安全カバーと、を備えてもよく、光触媒が塗布される設備は、安全カバーを含んでもよい。

【0010】

光触媒が塗布される設備は、容器を使った処理を行う処理装置を含んでもよい。

【0011】

光触媒が塗布される設備は、容器を搬送する容器搬送装置を含んでもよい。

【0012】

本開示の他の態様は、光触媒を有する設備を備える容器処理システムに関する。

【0013】

光触媒を有する設備は、タッチパネルデバイスを含んでもよい。

【0014】

容器処理システムは、制御盤と、制御盤によって制御される装置と、を備えてもよく、光触媒を有する設備は、制御盤を含んでもよい。

【0015】

容器処理システムは、容器を使った処理を行う処理装置と、処理装置への接近を制限する安全カバーと、を備えてもよく、光触媒を有する設備は、安全カバーを含んでもよい。

【0016】

光触媒を有する設備は、容器を使った処理を行う処理装置を含んでもよい。

【0017】

光触媒を有する設備は、容器を搬送する容器搬送装置を含んでもよい。

【発明の効果】

【0018】

本開示によれば、容器処理システムの浄化作業の負荷軽減に有利である。

【図面の簡単な説明】

【0019】

【図1】図１は、包装処理システムの一例の斜視図である。

【図2】図２は、包装処理システムの一例の斜視図である。

【図3】図３は、袋の一例を示す平面図である。

【図4】図４は、タッチパネルデバイスの一例を示す断面図である。

【図5】図５は、安全カバーの一例の概略構成を示す断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0020】

以下では、容器処理システムの一例として、袋内に内容物を導入した後に袋をシールする包装処理システムについて説明する。下述の包装処理システムの技術は、他の容器処理システム（例えば袋以外の容器を使った包装処理システム、或いは、容器を使って包装処理以外の任意の処理を行う容器処理システム）に対しても適宜応用可能である。

【0021】

図１及び図２は、包装処理システム１０の一例の斜視図である。図３は、袋Ｂの一例を示す平面図である。

【0022】

本例の袋Ｂ（空袋）は、図３に示すように矩形の平面形状を有し、一方の端部によって構成される口部Ｂ１と、口部Ｂ１と反対側の端部によって構成される底部Ｂ３と、口部Ｂ１と底部Ｂ３との間に延在する端部によって構成される両側部Ｂ２と、を有する。両側部Ｂ２及び底部Ｂ３の各々は、シール部分を含み、閉じられている。一方、口部Ｂ１は非シール部分によって構成され、開閉自在である。後述の袋Ｂ内への内容物及びガスの導入は、口部Ｂ１を介して行われる。

【0023】

図１及び図２に示す包装処理システム１０は、搬入ベルト２１、回転テーブル２２、複数の袋支持部２３、及び搬出ベルト２４を備える。また包装処理システム１０は、タッチパネルデバイス１３（HMI：Human Machine Interface）、制御盤１４、安全カバー１５、開口装置３２、内容物導入装置３３、ガス注入装置３４、加熱シール装置３５、及び冷却シール装置３６を備える。

【0024】

搬入ベルト２１、回転テーブル２２、袋支持部２３、及び搬出ベルト２４の各々は、袋Ｂを搬送する容器搬送装置として働く。

【0025】

搬入ベルト２１は、図３に示す袋Ｂ（空袋）を複数貯留する貯留部３０として働く。搬入ベルト２１上の袋Ｂ（特に搬入ベルト２１に載せられる複数の袋Ｂのうち、最下流に位置し且つ所定の取出位置に配置される袋Ｂ）は、取出装置（図示省略）により取り出されて袋支持部２３に渡される。袋支持部２３への袋Ｂの受け渡しに応じて搬入ベルト２１（特に袋Ｂが載せられている部分）は下流に向かって走行し、搬入ベルト２１上の各袋Ｂは、順次、取出位置に配置され、取出装置により取り出されて袋支持部２３に渡される。

【0026】

図１及び図２に示す例では、２つの搬入ベルト２１が設けられ、一度に２つの袋Ｂが２つの袋支持部２３のそれぞれに渡される。各袋支持部２３は、開閉可能な２つの支持開閉部（グリッパー）を含み、これらの支持開閉部が両側部Ｂ２を挟むことで袋Ｂは袋支持部２３によって吊り下げ状態で支持される。袋支持部２３によって支持される袋Ｂの口部Ｂ１は上方に向けられており、底部Ｂ３は口部Ｂ１の下方に位置する。

【0027】

回転テーブル２２は、モーターなどの駆動装置（図示省略）によって間欠的に回転させられる。複数の袋支持部２３は、回転テーブル２２の外周部に等間隔（等角度間隔）に取り付けられており、回転テーブル２２の回転に応じて移動し、それぞれ複数の処理ステーションにおいて間欠的に停止する。

【0028】

図１及び図２に示す例において各袋支持部２３は、袋受取ステーション、開口ステーション、内容物導入ステーション、空きステーション、ガス注入ステーション、加熱シールステーション、及び冷却放出ステーションを順次且つ繰り返し巡る。これらのステーションの各々には、一度に２つの袋支持部２３が間欠的に停止する。そして開口ステーション、内容物導入ステーション、ガス注入ステーション、加熱シールステーション、及び冷却放出ステーションの各々では、２つの袋支持部２３により支持される２つの袋Ｂが一度に間欠的に停止し、各種処理が２つの袋Ｂに対して一度に行われる。

【0029】

各袋支持部２３は、袋受取ステーションに間欠的に停止している間に、上述のように取出装置を介して搬入ベルト２１（貯留部３０）から供給される袋Ｂ（空袋）を受け取って支持する。

【0030】

開口ステーションでは、袋支持部２３が支持する袋Ｂの口部Ｂ１が、開口装置３２によって開かれる。その後、口部Ｂ１の開口状態が維持された状態で、袋Ｂは、対応の袋支持部２３とともに開口ステーションから内容物導入ステーションに移動する。

【0031】

内容物導入ステーションでは、内容物導入装置３３によって、開口状態の口部Ｂ１を介して袋Ｂ内に内容物が導入される。内容物の種類及び形態は限定されない。内容物は、例えば食品であってもよいし、洗剤等の日用品であってもよい。また内容物は、例えば固形状物であってもよいし、液状物であってもよいし、固形状物及び液状物の両方を含んでいてもよい。

【0032】

空きステーションでは袋Ｂに対する処理は行われない。各袋支持部２３によって支持される袋Ｂは、空きステーションで処理を受けることなく間欠的に搬送され、空きステーションを通過する。

【0033】

ガス注入ステーションでは、ガス注入装置３４によって、開口状態の口部Ｂ１を介して袋Ｂ内にガスが注入される。ガス注入装置３４から供給されるガスは限定されず、不活性ガス（例えば窒素など）、水蒸気又は酸素が、ガス注入装置３４によって袋Ｂ内に注入されてもよい。

【0034】

加熱シールステーションでは、加熱シール装置３５によって、閉口状態の口部Ｂ１が加圧されながら加熱されてヒートシールされる。なお口部Ｂ１の開閉に応じて、袋Ｂの両側部Ｂ２を支持する袋支持部２３の支持開閉部間の間隔が調整されてもよい。口部Ｂ１を開いた状態に維持する間は、支持開閉部間の間隔が相対的に小さくされ、口部Ｂ１を閉じた状態に維持する間は、支持開閉部間の間隔が相対的に大きくされてもよい。この場合、口部Ｂ１が上記ヒートシール処理を受けるのに先立って、支持開閉部間の間隔が拡大されて相対的に大きくされることで口部Ｂ１は閉じられる。

【0035】

冷却放出ステーションでは、冷却シール装置３６によって、閉口状態の口部Ｂ１（特にヒートシール部分）が冷却されて、口部Ｂ１のシール状態が安定化される。その後、内容物が封入された袋Ｂ（製品袋）は、袋支持部２３及び冷却シール装置３６からリリースされて落下し、搬出ベルト２４上に着地し、その後搬出ベルト２４によって後段に送られる。

【0036】

包装処理システム１０が備える上述の容器搬送装置及び処理装置（例えば搬入ベルト２１、回転テーブル２２、袋支持部２３、搬出ベルト２４、開口装置３２、内容物導入装置３３、ガス注入装置３４、加熱シール装置３５及び冷却シール装置３６）は、例えば既知の任意の装置によって適宜実現可能であり、それらの装置の具体的な構成の説明は省略する。

【0037】

包装処理システム１０が備える容器搬送装置及び処理装置（例えば上述の搬入ベルト２１、回転テーブル２２、袋支持部２３、搬出ベルト２４、開口装置３２、内容物導入装置３３、ガス注入装置３４、加熱シール装置３５及び冷却シール装置３６のうちの少なくとも１以上）は、制御盤（制御部）１４の制御下で駆動する。

【0038】

制御盤１４にはタッチパネルデバイス１３が接続されている。タッチパネルデバイス１３は、制御盤１４から提供される各種情報をユーザに提示したり、ユーザによって入力される指示を制御盤１４に提供したりする。タッチパネルデバイス１３は、ユーザによるタッチパネル操作に応じて、制御盤１４が制御している容器搬送装置及び処理装置に関する各種情報をユーザに対して視覚的に提供したり、ユーザによって入力される指示を制御盤１４に送信したりする。制御盤１４は、タッチパネルデバイス１３から提供されるユーザの指示に応じて、容器搬送装置及び処理装置の制御を変更してもよい。

【0039】

包装処理システム１０は、更に、上述の処理装置のうちの少なくとも一部への接近を制限する安全カバー１５を備える。図１及び図２に示す安全カバー１５は、袋支持部２３とともに移動する袋Ｂの搬送軌道（本例では円軌道）を水平方向外側から覆うように設けられている。各袋Ｂは、安全カバー１５によって包囲される内側空間において、袋支持部２３とともに間欠的に移動し、且つ、各種の処理装置（例えば開口装置３２、内容物導入装置３３、ガス注入装置３４、加熱シール装置３５及び冷却シール装置３６）による処理を受ける。

【0040】

本例の安全カバー１５は、袋支持部２３とともに移動する袋Ｂの搬送軌道よりも上方に位置する梁部分を含み、当該梁部分に励起光源５０が設けられる。励起光源５０は、後述の光触媒を励起可能な励起光（例えば紫外線を含む光）を、包装処理システム１０の設備（例えば開口装置３２、内容物導入装置３３、ガス注入装置３４、加熱シール装置３５及び冷却シール装置３６）に向けて発する。

【0041】

上述の本実施形態の包装処理システム１０は光触媒を有する設備を備え、励起光を受けた光触媒によって浄化作用が発揮される。

【0042】

ここで言う光触媒は、励起光が照射されることで浄化作用が増強される物質全般を指しうる。そのような光触媒は限定されず、一例として励起光の照射に応じて酸化作用及び／又は親水化作用が増強される物質（例えば酸化チタン及び酸化タングステン）を、光触媒として使用することが可能である。例えば、光触媒としての酸化チタンに紫外線を照射することで、当該酸化チタンは、付着した汚れ（有機物質など）の酸化分解をもたらすことができ、また表面に付与された水の膜化（水膜化）を促進して当該水膜による汚れの洗い流しを促すことができる。

【0043】

光触媒を有する設備は、任意の方法で光触媒が付与されることができる。

【0044】

例えば、包装処理システム１０が備える設備に対して光触媒が塗布されることにより、当該設備は光触媒を有することができる。光触媒を含有する液状の光触媒含有物質が、設備の表面に塗りつけられたり噴霧されたりすることで、設備に対する光触媒の塗布を行うことができる。このようにして光触媒が塗布された設備の表面は、部分的に又は全体的に、光触媒を含む光触媒層によってコーティングされる。

【0045】

或いは、光触媒を有する設備は、先天的に光触媒を含んでもよい。例えば、設備の構成材料に光触媒が予め練り込まれることによって、当該設備は先天的に光触媒を含むことができる。このように設備の製造時点において及び包装処理システム１０の組み立てに先立って、設備を構成する材料が光触媒を既に含んでいてもよい。

【0046】

光触媒が付与（例えば塗布）される包装処理システム１０の設備は限定されない。例えばタッチパネルデバイス１３、袋Ｂ（容器）を使った処理を行う処理装置（例えば開口装置３２、内容物導入装置３３、ガス注入装置３４、加熱シール装置３５及び冷却シール装置３６）、安全カバー１５、及び袋Ｂを搬送する容器搬送装置（例えば搬入ベルト２１、回転テーブル２２、袋支持部２３及び搬出ベルト２４）が、光触媒を有する設備に含まれうる。

【0047】

特に、汚れやすい設備や汚れた際の影響が大きい設備が光触媒を有する場合、光触媒の浄化作用によりもたらされる恩恵が大きい傾向がある。例えば人が接触する可能性がある設備（例えば設備の調整、保守或いは点検の際に人が接触しうる設備）の一部又は全部に対して（特に、人が接触する頻度が高い部分を含む設備箇所に対して）、光触媒が与えられてもよい。また袋内への内容物の導入前、導入中、及び導入後において内容物が付着しうる設備（例えば設備や袋から飛散した内容物が付着しうる設備）の一部又は全部に対して光触媒が与えられてもよい。

【0048】

以上説明したように本実施形態によれば、包装処理システム１０の設備が有する光触媒の浄化作用によって、人手を介することなく設備を浄化することができる。したがって、容器処理システムの浄化を行う人の作業負荷を軽減することができ、例えば浄化作業頻度を低減したり、定期的な浄化作業の間隔を長期化したりすることが可能である。なお光触媒の浄化作用のみでは包装処理システム１０の設備の清浄状態を適切に保つことが難しい場合であっても、光触媒の浄化作用によって人手による浄化作業の負荷を軽減でき、浄化作業時間を短縮できたり、簡単な浄化作業で設備を十分に清潔な状態に復帰させることができたりしうる。

【0049】

また包装処理システム１０の設備に対して光触媒を適用することで、包装処理システム１０の浄化のために人が包装処理システム１０に近づく頻度を抑えることができる。このように包装処理システム１０の近くに人間を存在させる必要のある頻度が低減されることで、包装処理システム１０の浄化作業の安全性が高まり、また包装処理システム１０の自動運転化の促進の点でも有利になりうる。

【0050】

また光触媒の浄化作用（特に酸化分解作用）は、水を使わずに包装処理システム１０を浄化することができる。そのため水を使った浄化作業の頻度を低減することができ、設備におけるサビの発生を有効に抑えて、その結果、装置寿命の短縮が抑えられる。

【0051】

このように本実施形態によれば、包装処理システム１０（容器処理システム）の清掃、除菌、防汚、及び防サビの点で有利である。

【0052】

［変形例］
図１及び図２に示す例では、安全カバー１５の天井部に位置する梁部分に励起光源５０が設けられているが、励起光源５０は、設備が有する光触媒に励起光を照射可能な任意の位置及び形態で設置可能である。

【0053】

したがって光触媒を有する設備に対する、励起光源５０の相対的な位置は限定されない。励起光源５０は、光触媒を有する設備に対して上方向、下方向、及び／又は水平方向に離れた１以上の位置に設置されてもよく、励起光源５０からの励起光が当該設備に対して、直接的に又は間接的に、上方向、下方向、水平方向、及び／又は斜め方向（すなわち水平方向及び／又は垂直方向に対して斜めを成す方向）に入射してもよい。また励起光源５０は、光触媒を有する設備の一部として設けられてもよい。また励起光源５０から発せられる励起光は、設備の外側から及び／又は内側から、当該設備が有する光触媒に対して照射されてもよい。

【0054】

また包装処理システム１０が設置される場所（例えば部屋）を照明するために設けられる蛍光灯などの人工光源から発せられる光や、太陽光などの自然光を、包装処理システム１０の設備が有する光触媒を励起する励起光として利用してもよい。この場合、光触媒を励起するための励起光を発することを主たる目的として設けられる励起光源５０は、設置されてもよいし、設置されなくてもよい。

【0055】

図４は、タッチパネルデバイス１３の一例を示す断面図である。なお図４は、タッチパネルデバイス１３の概略構成を示すに過ぎず、実際のタッチパネルデバイス１３は、図４に示されるタッチパネルデバイス１３と異なる構成（例えばサイズ比）を有しうる。図４に示すタッチパネルデバイス１３では、タッチパネル６２とバックライト６４との間に液晶パネル６３が設けられ、タッチパネル６２は保護シート６１によって覆われる。光触媒を含む光触媒コーティング層６０は、保護シート６１を覆うように設けられる。保護シート６１、タッチパネル６２、液晶パネル６３及びバックライト６４の各々は任意の構成を有し、例えば既知のデバイスを利用可能である。

【0056】

バックライト６４から発せられる照明光は、液晶パネル６３、タッチパネル６２、保護シート６１及び光触媒コーティング層６０を透過しうる。すなわちバックライト６４からの照明光は、光触媒コーティング層６０に照射されうる。そのため、バックライト６４からの照明光が、光触媒コーティング層６０に含まれる光触媒を励起可能な励起光を含む場合、バックライト６４を励起光源５０として利用可能である。

【0057】

ユーザは、図４に示すタッチパネルデバイス１３を操作する際に、光触媒コーティング層６０に接触する。したがってユーザは、接触によって光触媒コーティング層６０を汚しうる。一方、バックライト６４を励起光源５０として利用することで、ユーザがタッチパネル操作をしている間、光触媒コーティング層６０中の光触媒はバックライト６４からの照明光により励起されて浄化作用を発揮し、光触媒コーティング層６０上の汚染を有効に低減しうる。

【0058】

なお図４に示すタッチパネルデバイス１３では光触媒コーティング層６０が保護シート６１を介してタッチパネル６２を覆うように設けられているが、タッチパネルデバイス１３は保護シート６１を含まなくてもよい。この場合、光触媒コーティング層６０は、タッチパネル６２を直接的に覆うように設けられてもよい。

【0059】

また図４に示すタッチパネルデバイス１３は、液晶パネル６３の外側にタッチパネル６２が設けられるアウトセル型構造を有するが、液晶パネル６３の内側にタッチパネル６２が設けられて、タッチパネル６２が液晶パネル６３の一部を構成してもよい。この場合、タッチパネル６２として働く１又は複数のタッチパネル機能部が、液晶パネル６３の液晶層の外側に設けられてもよいし（オンセル型構造）、当該液晶層内に設けられてもよい（インセル型構造）。

【0060】

図５は、安全カバー１５の一例の概略構成を示す断面図である。図５に示す安全カバー１５は、励起光源５０から発せられる励起光Ｌを透過可能な光透過パーティション７０と、光透過パーティション７０の表面及び裏面を覆う光触媒コーティング層６０と、を有する。光透過パーティション７０の上方及び下方の各々に設けられる励起光源５０から発せられた励起光Ｌは、光透過パーティション７０の内部に入射する。光透過パーティション７０の内部に入射した励起光Ｌは、光透過パーティション７０の内部を進行し、光透過パーティション７０と光触媒コーティング層６０との間の境界面で反射したり、当該境界面から出射したりする。

【0061】

光透過パーティション７０の内部から出射して光触媒コーティング層６０に入射した励起光Ｌは、光触媒コーティング層６０が含有する光触媒に照射されて当該光触媒を励起する。その結果、光触媒コーティング層６０は浄化作用を発揮する。このように安全カバー１５（設備）の内部から光触媒コーティング層６０に励起光を照射することで、光触媒コーティング層６０の外表面（露出面）に付着した汚れによって励起光が阻害されることなく、光触媒コーティング層６０に励起光を効率的に照射できる。

【0062】

なお図５に示す安全カバー１５の構成は、他の任意の設備に対しても応用可能である。すなわち光触媒を有する設備が、励起光Ｌを透過可能な光透過体と、当該光透過体の一部又は全体を覆うように設けられる光触媒コーティング層６０（光触媒）と、を有する場合、励起光Ｌを光透過体の内部に入射させることで、光触媒コーティング層６０に対して設備の内側から励起光を照射することが可能である。

【0063】

本開示は上述の実施形態及び変形例には限定されない。例えば、上述の実施形態及び変形例の各要素に各種の変形が加えられてもよいし、上述の実施形態及び変形例間において部分的に又は全体的に構成が組み合わせられてもよい。また、本開示によって奏される効果も上述の効果に限定されず、各実施形態の具体的な構成に応じた特有の効果も発揮されうる。このように、本開示の技術的思想及び趣旨を逸脱しない範囲で、特許請求の範囲、明細書及び図面に記載される各要素に対して種々の追加、変更及び部分的削除が可能である。

【0064】

［付記］
本開示は、以下の構成をとることもできる。

【0065】

［項目１］
容器処理システムが備える設備に光触媒を塗布する工程を含む、容器処理システム浄化方法。

【0066】

［項目２］
前記光触媒が塗布される設備は、タッチパネルデバイスを含む項目１に記載の容器処理システム浄化方法。

【0067】

［項目３］
前記容器処理システムは、制御盤と、前記制御盤によって制御される装置と、を備え、 前記光触媒が塗布される設備は、前記制御盤を含む項目１又は２に記載の容器処理システム浄化方法。

【0068】

［項目４］
前記容器処理システムは、容器を使った処理を行う処理装置と、前記処理装置への接近を制限する安全カバーと、を備え、
前記光触媒が塗布される設備は、前記安全カバーを含む項目１～３のいずれかに記載の容器処理システム浄化方法。

【0069】

［項目５］
前記光触媒が塗布される設備は、容器を使った処理を行う処理装置を含む項目１～４のいずれかに記載の容器処理システム浄化方法。

【0070】

［項目６］
前記光触媒が塗布される設備は、容器を搬送する容器搬送装置を含む項目１～５のいずれかに記載の容器処理システム浄化方法。

【0071】

［項目７］
光触媒を有する設備を備える容器処理システム。

【0072】

［項目８］
前記光触媒を有する設備は、タッチパネルデバイスを含む項目７に記載の容器処理システム。

【0073】

［項目９］
制御盤と、前記制御盤によって制御される装置と、を備え、
前記光触媒を有する設備は、前記制御盤を含む項目７又は８に記載の容器処理システム。

【0074】

［項目１０］
容器を使った処理を行う処理装置と、前記処理装置への接近を制限する安全カバーと、を備え、
前記光触媒を有する設備は、前記安全カバーを含む項目７～９のいずれかに記載の容器処理システム。

【0075】

［項目１１］
前記光触媒を有する設備は、容器を使った処理を行う処理装置を含む項目７～１０のいずれかに記載の容器処理システム。

【0076】

［項目１２］
前記光触媒を有する設備は、容器を搬送する容器搬送装置を含む項目７～１１のいずれかに記載の容器処理システム。

【符号の説明】

【0077】

１０ 包装処理システム、１３ タッチパネルデバイス、１４ 制御盤、１５ 安全カバー、２１ 搬入ベルト、２２ 回転テーブル、２３ 袋支持部、２４ 搬出ベルト、３０ 貯留部、３２ 開口装置、３３ 内容物導入装置、３４ ガス注入装置、３５ 加熱シール装置、３６ 冷却シール装置、５０ 励起光源、６０ 光触媒コーティング層、６１ 保護シート、６２ タッチパネル、６３ 液晶パネル、６４ バックライト、７０ 光透過パーティション、Ｂ 袋、Ｂ１ 口部、Ｂ２ 側部、Ｂ３ 底部、Ｌ 励起光

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】