特開2023-178662半導体装置、および半導体装置の製造方法

発明の名称　半導体装置、および半導体装置の製造方法

出願人　新電元工業株式会社　（識別番号 2037）

　　　　特許公開件数ランキング 1193 位（4件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 360 位（16件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2023-178662

公報発行日　2023年12月18

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2023-178662

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