特開 2023-180352 遊技球磨き装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023180352

(43)【公開日】2023-12-21

(54)【発明の名称】遊技球磨き装置

(51)【国際特許分類】

   A63F 7/02 20060101AFI20231214BHJP

   B24B 11/02 20060101ALI20231214BHJP

【ＦＩ】

A63F7/02 351A

A63F7/02 346A

A63F7/02 301C

B24B11/02

【審査請求】有

【請求項の数】7

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2022093580

(22)【出願日】2022-06-09

(11)【特許番号】

(45)【特許公報発行日】2022-11-28

(71)【出願人】

【識別番号】500224302

【氏名又は名称】株式会社ブラザーエンタープライズ

(74)【代理人】

【識別番号】100104178

【弁理士】

【氏名又は名称】山本 尚

(74)【代理人】

【識別番号】100152515

【弁理士】

【氏名又は名称】稲山 朋宏

(72)【発明者】

【氏名】北原 功己

(72)【発明者】

【氏名】河路 和繁

【テーマコード（参考）】

2C088

3C049

【Ｆターム（参考）】

2C088BA96

2C088BA99

3C049AA06

3C049AA13

3C049AB01

3C049AB03

3C049AB06

3C049AB08

3C049AC04

3C049CA01

(57)【要約】

【課題】遊技盤や釘が遊技球に接触して削れることを抑制できる遊技球磨き装置を提供する。
【解決手段】遊技球磨き装置１は、遊技球Ｐを搬送するスクリューコンベア５と、ポリエチレンからなり、スクリューコンベア５により搬送される遊技球Ｐに接触して脂肪族化合物を遊技球Ｐに塗布する磨き部６２とを備えたことを特徴とする。遊技球磨き装置１は、遊技球Ｐに接触して脂肪族化合物を遊技球Ｐに塗布することにより、遊技盤や釘が遊技球に接触して削れることを抑制できる。
【選択図】図８

【特許請求の範囲】

【請求項1】

遊技球を搬送する搬送部と、
ポリエチレンからなり、前記搬送部により搬送される前記遊技球に接触して脂肪族化合物を前記遊技球に塗布する磨き部と
を備えたことを特徴とする遊技球磨き装置。

【請求項2】

前記磨き部は、低密度ポリエチレンからなることを特徴とする請求項１に記載の遊技球磨き装置。

【請求項3】

前記磨き部は、直鎖状低密度ポリエチレンからなることを特徴とする請求項２に記載の遊技球磨き装置。

【請求項4】

前記磨き部は、脂肪族炭化水素を前記遊技球に塗布することを特徴とする請求項１に記載の遊技球磨き装置。

【請求項5】

前記磨き部は、
前記搬送部に向けて突出する複数の突起部を有することを特徴とする請求項１に記載の遊技球磨き装置。

【請求項6】

前記複数の突起部は弾性を有することを特徴とする請求項５に記載の遊技球磨き装置。

【請求項7】

前記複数の突起部の先端が曲折したことを特徴とする請求項５又は６に記載の遊技球磨き装置。

【請求項8】

前記複数の突起部の先端の向く方向が互いに相違することを特徴とする請求項７に記載の遊技球磨き装置。

【請求項9】

前記複数の突起部は、前記搬送部に向けて直線状に延びることを特徴とする請求項５又は６に記載の遊技球磨き装置。

【請求項10】

前記搬送部は、
スクリューコンベアを有し、
前記スクリューコンベアの回転により、前記遊技球を搬送することを特徴とする請求項１に記載の遊技球磨き装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、遊技機にて使用される遊技球を磨く遊技球磨き装置に関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１は、遊技球の汚れ除去装置を開示する。汚れ除去装置は、スクリュー及び研磨布を有する。スクリューは、螺旋状の溝を外周面に有し、回転により遊技球を搬送する。研磨布は、フェルト等の不織布により構成される。研磨布は、スクリューによって搬送される遊技球に接触し、遊技球の表面に付着した汚れを除去する。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０１３－１３２４００号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

遊技中において、遊技盤や釘が遊技球と接触して削れ、粉状の削り屑が発生する場合がある。削り屑は、遊技盤や遊技球に付着して汚れの要因となる可能性がある。このため、遊技盤や遊技球の汚れを防止する為に、遊技盤や釘が遊技球と接触して削れることを抑制できるのが好ましい。

【0005】

本発明の目的は、遊技盤や釘が遊技球に接触して削れることを抑制できる遊技球磨き装置を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明に係る遊技球磨き装置は、遊技球を搬送する搬送部と、ポリエチレンからなり、前記搬送部により搬送される前記遊技球に接触して脂肪族化合物を前記遊技球に塗布する磨き部とを備えたことを特徴とする。

【0007】

本発明によれば、遊技球に塗布された脂肪族化合物により、遊技盤や釘と遊技球との接触時における摩擦力を軽減させることができる。従って遊技球磨き装置は、遊技盤や釘が遊技球と接触して削れることを抑制できる。このため遊技球磨き装置は、削り屑により遊技盤や遊技球が汚れることを防止できる。

【0008】

本発明において、前記磨き部は、低密度ポリエチレンからなってもよい。又、本発明において、前記磨き部は、直鎖状低密度ポリエチレンからなってもよい。低密度ポリエチレンや直鎖状低密度ポリエチレンからなる磨き部は、脂肪族化合物を容易に保持できる。従って遊技球磨き装置は、磨き部に保持された脂肪族化合物を遊技球に塗布できる。

【0009】

本発明において、前記磨き部は、脂肪族炭化水素を前記遊技球に塗布してもよい。脂肪族炭化水素は、遊技盤や釘と遊技球との接触時における摩擦力を効率良く軽減させることができる。従って遊技球磨き装置は、遊技盤や釘が遊技球と接触して削れることを抑制し、削り屑が発生することを防止できる。

【0010】

本発明において、前記磨き部は、前記搬送部に向けて突出する複数の突起部を有してもよい。この場合、複数の突起部は多量の脂肪族化合物を保持できる。従って遊技球磨き装置は、遊技球に対して十分な量の脂肪族化合物を塗布できる。

【0011】

本発明においいて、前記複数の突起部は弾性を有してもよい。この場合、複数の突起部は、遊技球に対して脂肪族化合物を満遍なく塗布できる。

【0012】

本発明において、前記複数の突起部の先端が曲折してもよい。この場合、遊技球磨き装置は、複数の突起部と遊技球との接触面積を大きくできる。従って遊技球磨き装置は、遊技球に対して脂肪族化合物を効率良く塗布できる。

【0013】

本発明において、前記複数の突起部の先端の向く方向が互いに相違してもよい。この場合、複数の突起部は、遊技球に対する脂肪族化合物の塗り残しを抑制できる。

【0014】

本発明において、前記複数の突起部は、前記搬送部に向けて直線状に延びてもよい。この場合、複数の突起部は、遊技球に対して脂肪族化合物を満遍なく塗布できる。

【0015】

本発明において、前記搬送部は、スクリューコンベアを有し、前記スクリューコンベアの回転により、前記遊技球を搬送してもよい。この場合、遊技球磨き装置は、簡易な構成で遊技球を適切に搬送できる。

【図面の簡単な説明】

【0016】

【図1】遊技球磨き装置１の斜視図である。

【図2】遊技球磨き装置１の正面図である。

【図3】図２のＩ－Ｉ線を矢印方向から視た断面図である。

【図4】図２のII－II線を矢印方向から視た断面図である。

【図5】スクリューコンベア５の正面図である。

【図6】研磨ブラシ６の右側面図である。

【図7】研磨ブラシ６の背面図である。

【図8】遊技球磨き装置１により遊技球Ｐに脂肪族化合物が塗布される様子を示す図である。

【図9】複数の突起部６３から検出されたイオン種を示す表である。

【図10】遊技球磨き装置１を通過する前の遊技球Ｐの表面を示す写真である。

【図11】遊技球磨き装置１を約１４００回通過させた後の遊技球Ｐの表面を示す写真である。

【図12】変形例における研磨ブラシ６を示す右側面図である。

【発明を実施するための形態】

【0017】

以下、本発明の一実施形態に係る遊技球磨き装置１について、図面を参照して説明する。参照する図面は、本発明が採用しうる技術的特徴を説明するために用いられるものである。図面に記載されている装置の構成は、それのみに限定する趣旨ではなく、単なる説明例である。本実施形態の説明では、図１の上方、下方、左斜め上方、右斜め下方、左斜め下方、右斜め上方を、それぞれ、遊技球磨き装置１の上方、下方、左方、右方、前方、後方とする。

【0018】

＜遊技球磨き装置１の概要＞
遊技球磨き装置１は、例えば、球循環式の遊技機に取り付けられて使用される。球循環式の遊技機では、球発射装置から遊技盤の遊技領域に向けて、遊技球Ｐが発射される。遊技球Ｐは、遊技領域に設けられた入賞口やアウト口を通過し、球貯留部に集められる。球貯留部に集められた遊技球Ｐは、球循環路を介して再び球発射装置へ供給される。遊技球磨き装置１は、球循環路に設けられる。

【0019】

図１、図２に示すように、遊技球磨き装置１は、送入部２、揚送部３、送出部４、スクリューコンベア５、及び、研磨ブラシ６を有する。

【0020】

＜送入部２、揚送部３、送出部４＞
送入部２は、左右方向に長い直方体状を有する。揚送部３は、送入部２の上面２Ｕのうち右部分に設けられる。揚送部３は、上下方向に長い直方体状を有する。揚送部３は、送入部２の上面２Ｕから上方に延びる。揚送部３の下面３Ｂは、送入部２の上面２Ｕに接触する。送入部２の前面２Ｆと揚送部３の前面３Ｆとは、同一平面状に配置される。送入部２の左面２Ｌは、揚送部３の左面３Ｌよりも左方に突出する。

【0021】

送出部４は、揚送部３の上面３Ｕに設けられる。送出部４は、左右方向に長い直方体状を有する。送出部４の下面４Ｂのうち右部分は、揚送部３の上面３Ｕに接触する。送出部４の左面４Ｌは、揚送部３の左面３Ｌよりも左方に突出する。送出部４の前面４Ｆは、揚送部３の前面３Ｆよりも前方に突出する。

【0022】

送入部２の右面２Ｒ、揚送部３の右面３Ｒ、及び送出部４の右面４Ｒは、同一平面状に配置される。図１に示すように、送入部２の後面２Ｓ、揚送部３の後面３Ｓ、及び送出部４の後面４Ｓは、同一平面状に配置され、遊技機のベース板２０に連結する。ベース板２０は、前後方向と直交する。遊技球磨き装置１は、ベース板２０を介して遊技機に固定される。遊技球磨き装置１が遊技機に固定された状態で、送入部２は遊技機の球貯留部の近傍に位置し、送出部２３は遊技機の球発射装置の近傍に位置する。

【0023】

図１、図２に示すように、送入部２の上面２Ｕのうち揚送部３の下方部分に、下方に凹む溝部２１が形成される。図３に示すように、溝部２１は、送入部２の前面２Ｆから後方に向けて延び、左方に湾曲し、左方に延びる。図１、図２に示すように、溝部２１の上方は、揚送部３により覆われる。これにより溝部２１は、遊技球磨き装置１の内部に、遊技球Ｐが通流する流路２１Ａを形成させる。溝部２１の前端部は、遊技球磨き装置１の前面に開口２２を形成させる。開口２２は流路２１Ａに連通する。遊技機の球貯留部に集められた遊技球Ｐは、開口２２を介して流路２１Ａに送入され、流路２１Ａに沿って後方に向けて流れる。

【0024】

図４に示すように、揚送部３の内部に流路３１Ａが形成される。流路３１Ａは、揚送部３の下面３Ｂと上面３Ｕ（図１、図２参照）との間に亘って上下方向に延びる。流路３１Ａの下端部は、送入部２の流路２１Ａに連通する。開口２２を介して流路２１Ａに送入された遊技球Ｐは、流路３１Ａを介して上方に搬送される。

【0025】

流路３１Ａを構成する内壁は、第１内壁部３２と第２内壁部３３とを有する。第１内壁部３２の断面形状は、上下方向に延びる仮想的な第１軸Ｘ１を中心とした半径ｒ１の円形となる。第２内壁部３３の断面形状は、第１軸Ｘ１よりも前方で上下方向に延びる仮想的な第２軸Ｘ２を中心とした半径ｒ２の円形となる。半径ｒ１よりも半径ｒ２の方が小さい。半径ｒ２は、遊技球Ｐの半径よりも僅かに大きい。

【0026】

第１内壁部３２により囲まれる部分に、後述のスクリューコンベア５が収容される。第２内壁部３３により囲まれる部分に、スクリューコンベア５により搬送される遊技球Ｐの一部が収容される。第２内壁部３３は、一部が収容された状態の遊技球Ｐが水平方向に移動することを規制する。

【0027】

図１、図２に示すように、揚送部３の前面３Ｆに孔３０が形成される。孔３０の断面形状は矩形状であり、前面３Ｆから後方に向けて延びる。図４に示すように、孔３０の底部は、揚送部３の内部に形成された流路３１Ａの第２内壁部３３に連通する。

【0028】

図１に示すように、送出部４の上面４Ｕに、下方に凹む溝部４１が形成される。溝部４１は、送出部４の前面４Ｆから右斜め後方に向けて延びる。溝部４１の底部は、後端部から前方に向けて、下方に僅かに傾斜する。溝部４１は、遊技球磨き装置１の上端部に、遊技球Ｐが通流する流路４１Ａを形成する。溝部４１の前端部は、遊技球磨き装置１の前面に開口４２を形成させる。開口４２は流路４１Ａに連通する。流路４１Ａの後端部に、流路３１Ａの上端部が連通する。流路３１Ａを介して搬送された遊技球Ｐは、流路４１Ａに沿って前方に向けて流れる。遊技球Ｐは、開口４２から送出され、遊技機の球発射装置に供給される。

【0029】

＜スクリューコンベア５＞
図１、図３、図４に示すように、スクリューコンベア５は、流路２１Ａの一部（図３参照）、流路３１Ａ（図４参照）、及び流路４１Ａ（図１参照）の一部に収容される。図５に示すように、スクリューコンベア５は、軸５１及び羽根５２を有する。軸５１は円柱状を有し、上下方向に延びる。軸５１の中心を通って上下方向に延びる仮想的な軸を、「回転軸Ｘ３」という。羽根５２は、軸５１の側面に設けられ、回転軸Ｘ３の半径方向に突出する。羽根５２は、先端に向かう程厚さが薄くなる板状を有し、螺旋状に延びる。回転軸Ｘ３から、羽根５２の先端までの間の半径方向の長さは、流路３１Ａの第１内壁部３２の半径ｒ１よりも僅かに小さい。スクリューコンベア５は、非図示のモータの駆動に応じ、回転軸Ｘ３を中心として回転可能である。スクリューコンベア５の回転方向は、上方から視て時計回り方向である。

【0030】

図３に示すように、スクリューコンベア５の下端部は、送入部２の流路２１Ａに配置される。図１に示すように、スクリューコンベア５の上端部は、送出部４の流路４１Ａに配置される。スクリューコンベア５の下端部及び上端部を除く部分は、揚送部３の流路３１Ａに配置される。スクリューコンベア５の回転軸Ｘ３の位置は、流路３１Ａの第１軸Ｘ１の位置と一致する。

【0031】

スクリューコンベア５は、流路３１Ａのうち第２内壁部３３により囲まれる部分に一部が収容された状態の遊技球Ｐを、羽根５２により下方から支持する。なお遊技球Ｐは、流路３１Ａの第２内壁部３３により、水平方向の移動が規制されている。従って、遊技球Ｐは、スクリューコンベア５の回転に応じて、羽根５２から力を受けて上方に移動する。このためスクリューコンベア５は、流路２１Ａの遊技球Ｐを、流路３１Ａを介して流路４１Ａまで上方に搬送することが可能である。なお、遊技球Ｐが上方に搬送される場合において、遊技球Ｐの中心Ｘ４は、流路３１Ａの第２軸Ｘ２に沿って移動する。又、遊技球Ｐは、搬送の過程で羽根５２が相対移動することに応じ、回転子ながら上方に搬送される。

【0032】

＜研磨ブラシ６＞
図１に示すように、研磨ブラシ６は、揚送部３の孔３０に嵌合した状態で、揚送部３により支持される。研磨ブラシ６は、揚送部３に対して着脱可能である。以下、研磨ブラシ６が揚送部３に支持された状態を前提として、研磨ブラシ６の各方向を説明する。図６、図７に示すように、研磨ブラシ６は、土台部６１及び磨き部６２を有する。

【0033】

土台部６１は矩形板状を有し、前後方向と直交する。土台部６１を前方から視た場合の形状は、揚送部３の孔３０の断面形状と同一である。研磨ブラシ６は、土台部６１が孔３０に嵌合することにより、揚送部３に固定される。

【0034】

磨き部６２は、土台部６１から直線状に延びる突起部６３を複数有する。複数の突起部６３は、土台部６１に対して後方に突出する。図４に示すように、複数の突起部６３の突出する方向は、土台部６１から、揚送部３の流路３１Ａに配置されたスクリューコンベア５に向かう方向と一致する。図６に示すように、複数の突起部６３のそれぞれの長さは等しく、例えば７．５ｍｍである。図４に示すように、複数の突起部６３の先端部は、揚送部３の流路３１Ａの第２内壁部３３に対し、流路３１Ａの内側に突出する。

【0035】

複数の突起部６３は、ポリエチレン、より詳細には、直鎖状低密度ポリエチレンからなる。なおポリエチレンは、炭素と水素のみからなる脂肪族化合物であり、エチレンを重合させた高分子化合物である。直鎖状低密度ポリエチレンとは、密度が０．９１０以上０．９２５未満のポリエチレンと定義される。複数の突起部６３の表面には、脂肪族化合物、より詳細には、脂肪族炭化水素が保持されている。直鎖状低密度ポリエチレンの曲げ弾性率は、７０．３～１８３の範囲であり、複数の突起部６３は弾性を有する。

【0036】

図６に示すように、突起部６３の先端は丸みを帯びている。図７に示すように、突起部６３の断面形状は、半円である。突起部６３は、土台部６１に対して格子状に配列される。より詳細には、突起部６３は、上下方向に延びる３つの列Ｃ（列Ｃ１～Ｃ３）、及び、左右方向に延びる９つの列Ｍ（列Ｍ１～Ｍ９）に沿って配列される。上下方向に隣接する列Ｃ間の間隔は等しい。左右方向に隣接する列Ｍ間の間隔は等しい。更に、列Ｃ間の間隔と、列Ｍ間の間隔とは等しい。列Ｃ間及び列Ｍ間の間隔は、一例として９ｍｍである。

【0037】

列Ｃ２に沿って上下方向に配列される複数の突起部６３の間の間隔と、列Ｍ２～Ｍ８に沿って左右方向に配列される複数の突起部６３の間の間隔は等しい。以下、この間隔を「ｄ１」と表記する。列Ｃ１、Ｃ３に沿って上下方向に配列される複数の突起部６３の間の間隔と、列Ｍ１、Ｍ９に沿って左右方向に配列される複数の突起部６３の間の間隔とは等しい。以下、この間隔を「ｄ２」と表記する。間隔ｄ２は、間隔ｄ１の２倍である。つまり、土台部６１の左右方向中央部において上下方向に配列される複数の突起部６３の密度は、土台部６１の左右両端部において上下方向に配列される複数の突起部６３の密度よりも大きい。

【0038】

＜動作概要＞
図８を参照し、遊技球球磨き装置１の動作概要について説明する。なお、遊技球磨き装置１の動作時、非図示のモータは常時駆動し、スクリューコンベア５を回転させる。

【0039】

遊技機の球貯留部に集められた遊技球Ｐは、送入部２の開口２２を介して流路２１Ａに送入される。遊技球Ｐは、流路２１Ａに沿って後方に移動し（矢印Ｙ１１）、流路２１Ａの後端部に到達する。スクリューコンベア５は、羽根５２により遊技球Ｐを下方から支持した状態で回転する。これにより遊技球Ｐは、流路３１Ａに沿って上方に搬送される（矢印Ｙ１２）。このとき遊技球Ｐは、流路３１Ａの第２内壁部３３により囲まれる部分を通過する。

【0040】

遊技球Ｐは、研磨ブラシ６の後方を通過する過程で、第２内壁部３３に対して後方に突出する複数の突起部６３の先端部分に接触する。このとき、複数の突起部６３の表面に付着した脂肪族炭化水素が、遊技球Ｐに塗布される。なお、複数の突起部６３は、遊技球Ｐとの接触により弾性変形する。これにより、遊技球Ｐの表面のうち複数の突起部６３が接触する部分の面積は大きくなるので、遊技球Ｐのより広い領域に満遍なく脂肪族炭化水素が塗布される。

【0041】

遊技球Ｐは、スクリューコンベア５により上方に搬送されることにより、流路４１Ａの後端部に到達する。流路４１Ａの底部には傾斜が設けられているので、遊技球Ｐは、流路４１Ａに沿って前方に向けて流れ（矢印Ｙ１３）、流路４１Ａの前端部に到達する。遊技球Ｐは、送出部４の開口４２を介して外部に送出される。送出された遊技球Ｐは、遊技機の球発射装置に供給される。

【0042】

＜本実施形態の作用、効果＞
遊技球Ｐに塗布された脂肪族炭化水素は、遊技機の遊技盤や釘と遊技球Ｐとの接触時における摩擦力を軽減させる。従って遊技球磨き装置１は、遊技球Ｐに脂肪族炭化水素を塗布することにより、遊技盤や釘が遊技球Ｐと接触して削れることを抑制できる。このため遊技球磨き装置１は、削り屑により遊技盤や遊技球Ｐが汚れることを防止できる。

【0043】

磨き部６２の複数の突起部６３は、直鎖状低密度ポリエチレンから構成されるので、脂肪族炭化水素を容易に保持できる。従って遊技球磨き装置１は、磨き部６２の複数の突起部６３に保持された脂肪族炭化水素を、遊技球Ｐに塗布できる。

【0044】

遊技球磨き装置１は、脂肪族化合物として脂肪族炭化水素を遊技球Ｐに塗布する。脂肪族炭化水素は、遊技盤や釘と遊技球Ｐとの接触時における摩擦力を、効率良く軽減させることができる。従って遊技球磨き装置１は、遊技盤や釘が遊技球Ｐと接触して削れることを抑制し、削り屑が発生することを防止できる。

【0045】

複数の突起部６３は、大きな表面積を有するので、多量の脂肪族炭化水素を保持できる。従って遊技球磨き装置１は、遊技球Ｐに対して十分な量の脂肪族炭化水素を塗布できる。

【0046】

遊技球磨き装置１は、研磨ブラシ６を着脱可能である。このためユーザは、例えば遊技球磨き装置１の使用により研磨ブラシ６の複数の突起部６３が擦れて劣化した場合、研磨ブラシ６を別の研磨ブラシ６に交換することが可能となる。

【0047】

複数の突起部６３は、遊技球Ｐを搬送するスクリューコンベア５に向けて直線状に延びる。又、複数の突起部６３は、遊技球Ｐが接触することに応じて弾性変形する。これにより、遊技球磨き装置１は、遊技球Ｐの表面のうち複数の突起部６３が接触する部分の面積を大きくすることができる。このため、複数の突起部６３は、遊技球Ｐのより広い領域に満遍なく脂肪族炭化水素を塗布できる。

【0048】

遊技球磨き装置１は、スクリューコンベア５により遊技球Ｐを上方に搬送する。従って、遊技球磨き装置１は、遊技機の球貯留部から球発射装置に向けた遊技球Ｐの搬送を、簡易な構成で実現送できる。又、遊技球Ｐは、スクリューコンベア５により搬送される過程で回転する。従って、遊技球磨き装置１は、遊技球Ｐの表面のより広い領域に脂肪族炭化水素を塗布できる。

【0049】

＜実験結果１＞
研磨ブラシ６の磨き部６２の表面組成を調べる為、飛行時間型二次イオン質量分析（ＴＯＦ－ＳＩＭＳ）が行われた。分析装置として、ＵＬＶＡＣ－ＰＨＩ社製のＴＯＦ－ＳＩＭＳ装置である「ＴＲＩＦＴ－Ｖ」が用いられた。試料として、複数の突起部６３の一部を切り出したものが準備された。測定は、イオン源：Ｂｉ_３ ^２＋を使用し、加速電圧：３０ｋＶ、主走査範囲：１００μｍ×１００μｍの条件で行われた。測定には、帯電補正用中和銃が使用された。測定の結果、検出された主なイオン種を、図９に示す。

【0050】

この結果から、脂肪族炭化水素成分、ヒンダードアミン系光安定剤（Ｔｉｎｕｖｉｎ７７０ 相当）、脂肪酸成分、脂肪酸アミド成分、アルキルベンゼンスルホン酸成分、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸成分、シリコーン（ポリジメチルシロキサン）成分等が検出された。このことから、複数の突起部６３の表面に脂肪族化合物が付着していることが明らかになった。

【0051】

＜実験結果２＞
遊技球磨き装置１を通過することにより、遊技球Ｐの表面に脂肪族炭化水素が付着することを確認するため、遊技球Ｐの表面を撮影して評価した。遊技球磨き装置１を通過する前の遊技球Ｐと、遊技球磨き装置１を約１４００回通過させた後の遊技球Ｐとを撮影対象とし、それぞれを比較することにより評価を行った。

【0052】

図１０は、遊技球磨き装置１を通過する前の遊技球Ｐの表面を示す写真である。図１１は、遊技球磨き装置１を約１４００回通過させた後の遊技球Ｐの表面を示す写真である。この結果から、遊技球磨き装置１を通過させた後の遊技球Ｐの表面に、脂肪族炭化水素であると思われる色の濃い部分が多く観察された。従って、遊技球磨き装置１により遊技球Ｐに対して脂肪族炭化水素が塗布されていることが明らかになった。

【0053】

＜変形例＞
本発明は上記実施形態に限定されず、種々の変更が可能である。遊技球磨き装置１は、球循環式の遊技機に取り付けられて使用される場合に限定されない。例えば遊技球磨き装置１は、複数の遊技機が収容された遊技機島の中の球循環経路に設けられてもよい。

【0054】

研磨ブラシ６の磨き部６２により遊技球Ｐに塗布される脂肪族化合物である脂肪族炭化水素は、鎖式、環式いずれでもよい。鎖式の脂肪族炭化水素は、鎖式飽和炭化水素でもよいし、鎖式不飽和炭化水素でもよい。環式の脂肪族炭化水素は、脂環式炭化水素でもよい。

【0055】

研磨ブラシ６の磨き部６２により遊技球Ｐに塗布される脂肪族化合物は、脂肪族炭化水素に限定されない。例えば磨き部６２は、炭素と水素以外の元素を有する脂肪族化合物でもよい。

【0056】

磨き部６２は直鎖状低密度ポリエチレンに限定されない。例えば磨き部６２は、高密度ポリエチレン、超低密度ポリエチレン、分岐構造を有する低密度ポリエチレン、超高分子量ポリエチレン等でもよい。

【0057】

遊技球磨き装置１は、スクリューコンベア５以外の機構を用いて遊技球Ｐを搬送しつつ、研磨ブラシ６を用いて遊技球Ｐに脂肪族炭化水素を塗布してもよい。例えば遊技球磨き装置１は、ベルトコンベアにより遊技球Ｐを搬送しつつ、研磨ブラシ６を用いて遊技球Ｐに脂肪族炭化水素を塗布してもよい。

【0058】

複数の突起部６３のそれぞれの断面形状は、半円状に限定されず、円形、矩形等でもよい。複数の突起部６３のそれぞれの長さは均一でなくてもよい。例えば、列Ｃ２に沿って配列された複数の突起部６３の長さよりも、列Ｃ１、Ｃ３に沿って配列された複数の突起部６３の長さを長くしてもよい。複数の突起部６３は、それぞれ、先端に向かうに従って細くなっていてもよい。

【0059】

複数の突起部６３の配列は、上記実施形態に限定されない。例えば複数の突起部６３は、土台部６１に対して上下方向及び左右方向に等間隔に設けられていてもよい。

【0060】

複数の突起部６３は、直線状に延びていなくてもよい。例えば図１２に示すように、複数の突起部６３は、先端が曲折していてもよい。この場合、遊技球磨き装置１は、複数の突起部６３と遊技球Ｐとの接触面積を更に大きくできる。従って遊技球磨き装置１は、遊技球Ｐに対して脂肪族炭化水素を効率良く塗布できる。

【0061】

更に、例えば図１２（Ａ）に示すように、複数の突起部６３の先端は同一方向を向いていてもよい。又は、図１２（Ｂ）に示すように、複数の突起部６３の先端は、互いに異なる方向を向いていてもよい。なお、複数の突起部６３の先端の向きを互いに相違させることにより、複数の突起部６３は、遊技球Ｐに対する脂肪族化合物の塗り残しを抑制できる。なお、複数の突起部６３の先端の向きは、規則的に変化してもよいし、ランダムに変化してもよい。

【0062】

複数の突起部６３の形状は、均一でなくてもよい。例えば複数の突起部６３の形状は、列Ｃ１～Ｃ３、Ｍ１～Ｍ９毎に異なっていてもよい。

【0063】

研磨ブラシ６の磨き部６２は、複数の突起部６３を有さなくてもよい。例えば磨き部６２は、脂肪族化合部を保持する布、スポンジ等を、複数の突起部６３の代わりに有してもよい。

【0064】

遊技球磨き装置１は、脂肪族化合物を遊技球Ｐに塗布する機能に加えて、複数の突起部６３により遊技球Ｐを磨いたり、表面の汚れを除去したりする機能を有していてもよい。

【符号の説明】

【0065】

１ ：遊技球磨き装置
５ ：スクリューコンベア
６ ：研磨ブラシ
６２ ：磨き部
６３ ：突起部

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【手続補正書】

【提出日】2022-09-12

【手続補正1】

【補正対象書類名】特許請求の範囲

【補正対象項目名】全文

【補正方法】変更

【補正の内容】

【特許請求の範囲】

【請求項1】

遊技球を搬送する搬送部と、
ポリエチレンからなり、前記搬送部により搬送される前記遊技球に接触して脂肪族化合物を前記遊技球に塗布する磨き部と
を備え、
前記磨き部は、
前記搬送部に向けて突出する複数の突起部を有し、
前記複数の突起部の先端が曲折したことを特徴とする遊技球磨き装置。

【請求項2】

前記磨き部は、低密度ポリエチレンからなることを特徴とする請求項１に記載の遊技球磨き装置。

【請求項3】

前記磨き部は、直鎖状低密度ポリエチレンからなることを特徴とする請求項２に記載の遊技球磨き装置。

【請求項4】

前記磨き部は、脂肪族炭化水素を前記遊技球に塗布することを特徴とする請求項１に記載の遊技球磨き装置。

【請求項5】

前記複数の突起部は弾性を有することを特徴とする請求項１に記載の遊技球磨き装置。

【請求項6】

前記複数の突起部の先端の向く方向が互いに相違することを特徴とする請求項１に記載の遊技球磨き装置。

【請求項7】

前記搬送部は、
スクリューコンベアを有し、
前記スクリューコンベアの回転により、前記遊技球を搬送することを特徴とする請求項１に記載の遊技球磨き装置。

【手続補正2】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】全文

【補正方法】変更

【補正の内容】

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、遊技機にて使用される遊技球を磨く遊技球磨き装置に関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１は、遊技球の汚れ除去装置を開示する。汚れ除去装置は、スクリュー及び研磨布を有する。スクリューは、螺旋状の溝を外周面に有し、回転により遊技球を搬送する。研磨布は、フェルト等の不織布により構成される。研磨布は、スクリューによって搬送される遊技球に接触し、遊技球の表面に付着した汚れを除去する。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０１３－１３２４００号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

遊技中において、遊技盤や釘が遊技球と接触して削れ、粉状の削り屑が発生する場合がある。削り屑は、遊技盤や遊技球に付着して汚れの要因となる可能性がある。このため、遊技盤や遊技球の汚れを防止する為に、遊技盤や釘が遊技球と接触して削れることを抑制できるのが好ましい。

【0005】

本発明の目的は、遊技盤や釘が遊技球に接触して削れることを抑制できる遊技球磨き装置を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明に係る遊技球磨き装置は、遊技球を搬送する搬送部と、ポリエチレンからなり、前記搬送部により搬送される前記遊技球に接触して脂肪族化合物を前記遊技球に塗布する磨き部とを備え、前記磨き部は、前記搬送部に向けて突出する複数の突起部を有し、前記複数の突起部の先端が曲折したことを特徴とする。

【0007】

本発明によれば、遊技球に塗布された脂肪族化合物により、遊技盤や釘と遊技球との接触時における摩擦力を軽減させることができる。従って遊技球磨き装置は、遊技盤や釘が遊技球と接触して削れることを抑制できる。このため遊技球磨き装置は、削り屑により遊技盤や遊技球が汚れることを防止できる。又、磨き部は、搬送部に向けて突出する複数の突起部を有するので、複数の突起部は多量の脂肪族化合物を保持できる。従って遊技球磨き装置は、遊技球に対して十分な量の脂肪族化合物を塗布できる。又、複数の突起部の先端が曲折しているので、遊技球磨き装置は、複数の突起部と遊技球との接触面積を大きくできる。従って遊技球磨き装置は、遊技球に対して脂肪族化合物を効率良く塗布できる。

【0008】

本発明において、前記磨き部は、低密度ポリエチレンからなってもよい。又、本発明において、前記磨き部は、直鎖状低密度ポリエチレンからなってもよい。低密度ポリエチレンや直鎖状低密度ポリエチレンからなる磨き部は、脂肪族化合物を容易に保持できる。従って遊技球磨き装置は、磨き部に保持された脂肪族化合物を遊技球に塗布できる。

【0009】

本発明において、前記磨き部は、脂肪族炭化水素を前記遊技球に塗布してもよい。脂肪族炭化水素は、遊技盤や釘と遊技球との接触時における摩擦力を効率良く軽減させることができる。従って遊技球磨き装置は、遊技盤や釘が遊技球と接触して削れることを抑制し、削り屑が発生することを防止できる。

【0010】

【0011】

本発明においいて、前記複数の突起部は弾性を有してもよい。この場合、複数の突起部は、遊技球に対して脂肪族化合物を満遍なく塗布できる。

【0012】

【0013】

本発明において、前記複数の突起部の先端の向く方向が互いに相違してもよい。この場合、複数の突起部は、遊技球に対する脂肪族化合物の塗り残しを抑制できる。

【0014】

【0015】

本発明において、前記搬送部は、スクリューコンベアを有し、前記スクリューコンベアの回転により、前記遊技球を搬送してもよい。この場合、遊技球磨き装置は、簡易な構成で遊技球を適切に搬送できる。

【図面の簡単な説明】

【0016】

【図1】遊技球磨き装置１の斜視図である。

【図2】遊技球磨き装置１の正面図である。

【図3】図２のＩ－Ｉ線を矢印方向から視た断面図である。

【図4】図２のII－II線を矢印方向から視た断面図である。

【図5】スクリューコンベア５の正面図である。

【図6】研磨ブラシ６の右側面図である。

【図7】研磨ブラシ６の背面図である。

【図8】遊技球磨き装置１により遊技球Ｐに脂肪族化合物が塗布される様子を示す図である。

【図9】複数の突起部６３から検出されたイオン種を示す表である。

【図10】遊技球磨き装置１を通過する前の遊技球Ｐの表面を示す写真である。

【図11】遊技球磨き装置１を約１４００回通過させた後の遊技球Ｐの表面を示す写真である。

【図12】変形例における研磨ブラシ６を示す右側面図である。

【発明を実施するための形態】

【0017】

以下、本発明の一実施形態に係る遊技球磨き装置１について、図面を参照して説明する。参照する図面は、本発明が採用しうる技術的特徴を説明するために用いられるものである。図面に記載されている装置の構成は、それのみに限定する趣旨ではなく、単なる説明例である。本実施形態の説明では、図１の上方、下方、左斜め上方、右斜め下方、左斜め下方、右斜め上方を、それぞれ、遊技球磨き装置１の上方、下方、左方、右方、前方、後方とする。

【0018】

＜遊技球磨き装置１の概要＞
遊技球磨き装置１は、例えば、球循環式の遊技機に取り付けられて使用される。球循環式の遊技機では、球発射装置から遊技盤の遊技領域に向けて、遊技球Ｐが発射される。遊技球Ｐは、遊技領域に設けられた入賞口やアウト口を通過し、球貯留部に集められる。球貯留部に集められた遊技球Ｐは、球循環路を介して再び球発射装置へ供給される。遊技球磨き装置１は、球循環路に設けられる。

【0019】

図１、図２に示すように、遊技球磨き装置１は、送入部２、揚送部３、送出部４、スクリューコンベア５、及び、研磨ブラシ６を有する。

【0020】

＜送入部２、揚送部３、送出部４＞
送入部２は、左右方向に長い直方体状を有する。揚送部３は、送入部２の上面２Ｕのうち右部分に設けられる。揚送部３は、上下方向に長い直方体状を有する。揚送部３は、送入部２の上面２Ｕから上方に延びる。揚送部３の下面３Ｂは、送入部２の上面２Ｕに接触する。送入部２の前面２Ｆと揚送部３の前面３Ｆとは、同一平面状に配置される。送入部２の左面２Ｌは、揚送部３の左面３Ｌよりも左方に突出する。

【0021】

送出部４は、揚送部３の上面３Ｕに設けられる。送出部４は、左右方向に長い直方体状を有する。送出部４の下面４Ｂのうち右部分は、揚送部３の上面３Ｕに接触する。送出部４の左面４Ｌは、揚送部３の左面３Ｌよりも左方に突出する。送出部４の前面４Ｆは、揚送部３の前面３Ｆよりも前方に突出する。

【0022】

送入部２の右面２Ｒ、揚送部３の右面３Ｒ、及び送出部４の右面４Ｒは、同一平面状に配置される。図１に示すように、送入部２の後面２Ｓ、揚送部３の後面３Ｓ、及び送出部４の後面４Ｓは、同一平面状に配置され、遊技機のベース板２０に連結する。ベース板２０は、前後方向と直交する。遊技球磨き装置１は、ベース板２０を介して遊技機に固定される。遊技球磨き装置１が遊技機に固定された状態で、送入部２は遊技機の球貯留部の近傍に位置し、送出部２３は遊技機の球発射装置の近傍に位置する。

【0023】

図１、図２に示すように、送入部２の上面２Ｕのうち揚送部３の下方部分に、下方に凹む溝部２１が形成される。図３に示すように、溝部２１は、送入部２の前面２Ｆから後方に向けて延び、左方に湾曲し、左方に延びる。図１、図２に示すように、溝部２１の上方は、揚送部３により覆われる。これにより溝部２１は、遊技球磨き装置１の内部に、遊技球Ｐが通流する流路２１Ａを形成させる。溝部２１の前端部は、遊技球磨き装置１の前面に開口２２を形成させる。開口２２は流路２１Ａに連通する。遊技機の球貯留部に集められた遊技球Ｐは、開口２２を介して流路２１Ａに送入され、流路２１Ａに沿って後方に向けて流れる。

【0024】

図４に示すように、揚送部３の内部に流路３１Ａが形成される。流路３１Ａは、揚送部３の下面３Ｂと上面３Ｕ（図１、図２参照）との間に亘って上下方向に延びる。流路３１Ａの下端部は、送入部２の流路２１Ａに連通する。開口２２を介して流路２１Ａに送入された遊技球Ｐは、流路３１Ａを介して上方に搬送される。

【0025】

流路３１Ａを構成する内壁は、第１内壁部３２と第２内壁部３３とを有する。第１内壁部３２の断面形状は、上下方向に延びる仮想的な第１軸Ｘ１を中心とした半径ｒ１の円形となる。第２内壁部３３の断面形状は、第１軸Ｘ１よりも前方で上下方向に延びる仮想的な第２軸Ｘ２を中心とした半径ｒ２の円形となる。半径ｒ１よりも半径ｒ２の方が小さい。半径ｒ２は、遊技球Ｐの半径よりも僅かに大きい。

【0026】

第１内壁部３２により囲まれる部分に、後述のスクリューコンベア５が収容される。第２内壁部３３により囲まれる部分に、スクリューコンベア５により搬送される遊技球Ｐの一部が収容される。第２内壁部３３は、一部が収容された状態の遊技球Ｐが水平方向に移動することを規制する。

【0027】

図１、図２に示すように、揚送部３の前面３Ｆに孔３０が形成される。孔３０の断面形状は矩形状であり、前面３Ｆから後方に向けて延びる。図４に示すように、孔３０の底部は、揚送部３の内部に形成された流路３１Ａの第２内壁部３３に連通する。

【0028】

図１に示すように、送出部４の上面４Ｕに、下方に凹む溝部４１が形成される。溝部４１は、送出部４の前面４Ｆから右斜め後方に向けて延びる。溝部４１の底部は、後端部から前方に向けて、下方に僅かに傾斜する。溝部４１は、遊技球磨き装置１の上端部に、遊技球Ｐが通流する流路４１Ａを形成する。溝部４１の前端部は、遊技球磨き装置１の前面に開口４２を形成させる。開口４２は流路４１Ａに連通する。流路４１Ａの後端部に、流路３１Ａの上端部が連通する。流路３１Ａを介して搬送された遊技球Ｐは、流路４１Ａに沿って前方に向けて流れる。遊技球Ｐは、開口４２から送出され、遊技機の球発射装置に供給される。

【0029】

＜スクリューコンベア５＞
図１、図３、図４に示すように、スクリューコンベア５は、流路２１Ａの一部（図３参照）、流路３１Ａ（図４参照）、及び流路４１Ａ（図１参照）の一部に収容される。図５に示すように、スクリューコンベア５は、軸５１及び羽根５２を有する。軸５１は円柱状を有し、上下方向に延びる。軸５１の中心を通って上下方向に延びる仮想的な軸を、「回転軸Ｘ３」という。羽根５２は、軸５１の側面に設けられ、回転軸Ｘ３の半径方向に突出する。羽根５２は、先端に向かう程厚さが薄くなる板状を有し、螺旋状に延びる。回転軸Ｘ３から、羽根５２の先端までの間の半径方向の長さは、流路３１Ａの第１内壁部３２の半径ｒ１よりも僅かに小さい。スクリューコンベア５は、非図示のモータの駆動に応じ、回転軸Ｘ３を中心として回転可能である。スクリューコンベア５の回転方向は、上方から視て時計回り方向である。

【0030】

図３に示すように、スクリューコンベア５の下端部は、送入部２の流路２１Ａに配置される。図１に示すように、スクリューコンベア５の上端部は、送出部４の流路４１Ａに配置される。スクリューコンベア５の下端部及び上端部を除く部分は、揚送部３の流路３１Ａに配置される。スクリューコンベア５の回転軸Ｘ３の位置は、流路３１Ａの第１軸Ｘ１の位置と一致する。

【0031】

スクリューコンベア５は、流路３１Ａのうち第２内壁部３３により囲まれる部分に一部が収容された状態の遊技球Ｐを、羽根５２により下方から支持する。なお遊技球Ｐは、流路３１Ａの第２内壁部３３により、水平方向の移動が規制されている。従って、遊技球Ｐは、スクリューコンベア５の回転に応じて、羽根５２から力を受けて上方に移動する。このためスクリューコンベア５は、流路２１Ａの遊技球Ｐを、流路３１Ａを介して流路４１Ａまで上方に搬送することが可能である。なお、遊技球Ｐが上方に搬送される場合において、遊技球Ｐの中心Ｘ４は、流路３１Ａの第２軸Ｘ２に沿って移動する。又、遊技球Ｐは、搬送の過程で羽根５２が相対移動することに応じ、回転子ながら上方に搬送される。

【0032】

＜研磨ブラシ６＞
図１に示すように、研磨ブラシ６は、揚送部３の孔３０に嵌合した状態で、揚送部３により支持される。研磨ブラシ６は、揚送部３に対して着脱可能である。以下、研磨ブラシ６が揚送部３に支持された状態を前提として、研磨ブラシ６の各方向を説明する。図６、図７に示すように、研磨ブラシ６は、土台部６１及び磨き部６２を有する。

【0033】

土台部６１は矩形板状を有し、前後方向と直交する。土台部６１を前方から視た場合の形状は、揚送部３の孔３０の断面形状と同一である。研磨ブラシ６は、土台部６１が孔３０に嵌合することにより、揚送部３に固定される。

【0034】

磨き部６２は、土台部６１から直線状に延びる突起部６３を複数有する。複数の突起部６３は、土台部６１に対して後方に突出する。図４に示すように、複数の突起部６３の突出する方向は、土台部６１から、揚送部３の流路３１Ａに配置されたスクリューコンベア５に向かう方向と一致する。図６に示すように、複数の突起部６３のそれぞれの長さは等しく、例えば７．５ｍｍである。図４に示すように、複数の突起部６３の先端部は、揚送部３の流路３１Ａの第２内壁部３３に対し、流路３１Ａの内側に突出する。

【0035】

複数の突起部６３は、ポリエチレン、より詳細には、直鎖状低密度ポリエチレンからなる。なおポリエチレンは、炭素と水素のみからなる脂肪族化合物であり、エチレンを重合させた高分子化合物である。直鎖状低密度ポリエチレンとは、密度が０．９１０以上０．９２５未満のポリエチレンと定義される。複数の突起部６３の表面には、脂肪族化合物、より詳細には、脂肪族炭化水素が保持されている。直鎖状低密度ポリエチレンの曲げ弾性率は、７０．３～１８３の範囲であり、複数の突起部６３は弾性を有する。

【0036】

図６に示すように、突起部６３の先端は丸みを帯びている。図７に示すように、突起部６３の断面形状は、半円である。突起部６３は、土台部６１に対して格子状に配列される。より詳細には、突起部６３は、上下方向に延びる３つの列Ｃ（列Ｃ１～Ｃ３）、及び、左右方向に延びる９つの列Ｍ（列Ｍ１～Ｍ９）に沿って配列される。上下方向に隣接する列Ｃ間の間隔は等しい。左右方向に隣接する列Ｍ間の間隔は等しい。更に、列Ｃ間の間隔と、列Ｍ間の間隔とは等しい。列Ｃ間及び列Ｍ間の間隔は、一例として９ｍｍである。

【0037】

列Ｃ２に沿って上下方向に配列される複数の突起部６３の間の間隔と、列Ｍ２～Ｍ８に沿って左右方向に配列される複数の突起部６３の間の間隔は等しい。以下、この間隔を「ｄ１」と表記する。列Ｃ１、Ｃ３に沿って上下方向に配列される複数の突起部６３の間の間隔と、列Ｍ１、Ｍ９に沿って左右方向に配列される複数の突起部６３の間の間隔とは等しい。以下、この間隔を「ｄ２」と表記する。間隔ｄ２は、間隔ｄ１の２倍である。つまり、土台部６１の左右方向中央部において上下方向に配列される複数の突起部６３の密度は、土台部６１の左右両端部において上下方向に配列される複数の突起部６３の密度よりも大きい。

【0038】

＜動作概要＞
図８を参照し、遊技球球磨き装置１の動作概要について説明する。なお、遊技球磨き装置１の動作時、非図示のモータは常時駆動し、スクリューコンベア５を回転させる。

【0039】

遊技機の球貯留部に集められた遊技球Ｐは、送入部２の開口２２を介して流路２１Ａに送入される。遊技球Ｐは、流路２１Ａに沿って後方に移動し（矢印Ｙ１１）、流路２１Ａの後端部に到達する。スクリューコンベア５は、羽根５２により遊技球Ｐを下方から支持した状態で回転する。これにより遊技球Ｐは、流路３１Ａに沿って上方に搬送される（矢印Ｙ１２）。このとき遊技球Ｐは、流路３１Ａの第２内壁部３３により囲まれる部分を通過する。

【0040】

遊技球Ｐは、研磨ブラシ６の後方を通過する過程で、第２内壁部３３に対して後方に突出する複数の突起部６３の先端部分に接触する。このとき、複数の突起部６３の表面に付着した脂肪族炭化水素が、遊技球Ｐに塗布される。なお、複数の突起部６３は、遊技球Ｐとの接触により弾性変形する。これにより、遊技球Ｐの表面のうち複数の突起部６３が接触する部分の面積は大きくなるので、遊技球Ｐのより広い領域に満遍なく脂肪族炭化水素が塗布される。

【0041】

遊技球Ｐは、スクリューコンベア５により上方に搬送されることにより、流路４１Ａの後端部に到達する。流路４１Ａの底部には傾斜が設けられているので、遊技球Ｐは、流路４１Ａに沿って前方に向けて流れ（矢印Ｙ１３）、流路４１Ａの前端部に到達する。遊技球Ｐは、送出部４の開口４２を介して外部に送出される。送出された遊技球Ｐは、遊技機の球発射装置に供給される。

【0042】

＜本実施形態の作用、効果＞
遊技球Ｐに塗布された脂肪族炭化水素は、遊技機の遊技盤や釘と遊技球Ｐとの接触時における摩擦力を軽減させる。従って遊技球磨き装置１は、遊技球Ｐに脂肪族炭化水素を塗布することにより、遊技盤や釘が遊技球Ｐと接触して削れることを抑制できる。このため遊技球磨き装置１は、削り屑により遊技盤や遊技球Ｐが汚れることを防止できる。

【0043】

磨き部６２の複数の突起部６３は、直鎖状低密度ポリエチレンから構成されるので、脂肪族炭化水素を容易に保持できる。従って遊技球磨き装置１は、磨き部６２の複数の突起部６３に保持された脂肪族炭化水素を、遊技球Ｐに塗布できる。

【0044】

遊技球磨き装置１は、脂肪族化合物として脂肪族炭化水素を遊技球Ｐに塗布する。脂肪族炭化水素は、遊技盤や釘と遊技球Ｐとの接触時における摩擦力を、効率良く軽減させることができる。従って遊技球磨き装置１は、遊技盤や釘が遊技球Ｐと接触して削れることを抑制し、削り屑が発生することを防止できる。

【0045】

複数の突起部６３は、大きな表面積を有するので、多量の脂肪族炭化水素を保持できる。従って遊技球磨き装置１は、遊技球Ｐに対して十分な量の脂肪族炭化水素を塗布できる。

【0046】

遊技球磨き装置１は、研磨ブラシ６を着脱可能である。このためユーザは、例えば遊技球磨き装置１の使用により研磨ブラシ６の複数の突起部６３が擦れて劣化した場合、研磨ブラシ６を別の研磨ブラシ６に交換することが可能となる。

【0047】

複数の突起部６３は、遊技球Ｐを搬送するスクリューコンベア５に向けて直線状に延びる。又、複数の突起部６３は、遊技球Ｐが接触することに応じて弾性変形する。これにより、遊技球磨き装置１は、遊技球Ｐの表面のうち複数の突起部６３が接触する部分の面積を大きくすることができる。このため、複数の突起部６３は、遊技球Ｐのより広い領域に満遍なく脂肪族炭化水素を塗布できる。

【0048】

遊技球磨き装置１は、スクリューコンベア５により遊技球Ｐを上方に搬送する。従って、遊技球磨き装置１は、遊技機の球貯留部から球発射装置に向けた遊技球Ｐの搬送を、簡易な構成で実現送できる。又、遊技球Ｐは、スクリューコンベア５により搬送される過程で回転する。従って、遊技球磨き装置１は、遊技球Ｐの表面のより広い領域に脂肪族炭化水素を塗布できる。

【0049】

＜実験結果１＞
研磨ブラシ６の磨き部６２の表面組成を調べる為、飛行時間型二次イオン質量分析（ＴＯＦ－ＳＩＭＳ）が行われた。分析装置として、ＵＬＶＡＣ－ＰＨＩ社製のＴＯＦ－ＳＩＭＳ装置である「ＴＲＩＦＴ－Ｖ」が用いられた。試料として、複数の突起部６３の一部を切り出したものが準備された。測定は、イオン源：Ｂｉ_３ ^２＋を使用し、加速電圧：３０ｋＶ、主走査範囲：１００μｍ×１００μｍの条件で行われた。測定には、帯電補正用中和銃が使用された。測定の結果、検出された主なイオン種を、図９に示す。

【0050】

この結果から、脂肪族炭化水素成分、ヒンダードアミン系光安定剤（Ｔｉｎｕｖｉｎ７７０ 相当）、脂肪酸成分、脂肪酸アミド成分、アルキルベンゼンスルホン酸成分、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸成分、シリコーン（ポリジメチルシロキサン）成分等が検出された。このことから、複数の突起部６３の表面に脂肪族化合物が付着していることが明らかになった。

【0051】

＜実験結果２＞
遊技球磨き装置１を通過することにより、遊技球Ｐの表面に脂肪族炭化水素が付着することを確認するため、遊技球Ｐの表面を撮影して評価した。遊技球磨き装置１を通過する前の遊技球Ｐと、遊技球磨き装置１を約１４００回通過させた後の遊技球Ｐとを撮影対象とし、それぞれを比較することにより評価を行った。

【0052】

図１０は、遊技球磨き装置１を通過する前の遊技球Ｐの表面を示す写真である。図１１は、遊技球磨き装置１を約１４００回通過させた後の遊技球Ｐの表面を示す写真である。この結果から、遊技球磨き装置１を通過させた後の遊技球Ｐの表面に、脂肪族炭化水素であると思われる色の濃い部分が多く観察された。従って、遊技球磨き装置１により遊技球Ｐに対して脂肪族炭化水素が塗布されていることが明らかになった。

【0053】

＜変形例＞
本発明は上記実施形態に限定されず、種々の変更が可能である。遊技球磨き装置１は、球循環式の遊技機に取り付けられて使用される場合に限定されない。例えば遊技球磨き装置１は、複数の遊技機が収容された遊技機島の中の球循環経路に設けられてもよい。

【0054】

研磨ブラシ６の磨き部６２により遊技球Ｐに塗布される脂肪族化合物である脂肪族炭化水素は、鎖式、環式いずれでもよい。鎖式の脂肪族炭化水素は、鎖式飽和炭化水素でもよいし、鎖式不飽和炭化水素でもよい。環式の脂肪族炭化水素は、脂環式炭化水素でもよい。

【0055】

研磨ブラシ６の磨き部６２により遊技球Ｐに塗布される脂肪族化合物は、脂肪族炭化水素に限定されない。例えば磨き部６２は、炭素と水素以外の元素を有する脂肪族化合物でもよい。

【0056】

磨き部６２は直鎖状低密度ポリエチレンに限定されない。例えば磨き部６２は、高密度ポリエチレン、超低密度ポリエチレン、分岐構造を有する低密度ポリエチレン、超高分子量ポリエチレン等でもよい。

【0057】

遊技球磨き装置１は、スクリューコンベア５以外の機構を用いて遊技球Ｐを搬送しつつ、研磨ブラシ６を用いて遊技球Ｐに脂肪族炭化水素を塗布してもよい。例えば遊技球磨き装置１は、ベルトコンベアにより遊技球Ｐを搬送しつつ、研磨ブラシ６を用いて遊技球Ｐに脂肪族炭化水素を塗布してもよい。

【0058】

複数の突起部６３のそれぞれの断面形状は、半円状に限定されず、円形、矩形等でもよい。複数の突起部６３のそれぞれの長さは均一でなくてもよい。例えば、列Ｃ２に沿って配列された複数の突起部６３の長さよりも、列Ｃ１、Ｃ３に沿って配列された複数の突起部６３の長さを長くしてもよい。複数の突起部６３は、それぞれ、先端に向かうに従って細くなっていてもよい。

【0059】

複数の突起部６３の配列は、上記実施形態に限定されない。例えば複数の突起部６３は、土台部６１に対して上下方向及び左右方向に等間隔に設けられていてもよい。

【0060】

複数の突起部６３は、直線状に延びていなくてもよい。例えば図１２に示すように、複数の突起部６３は、先端が曲折していてもよい。この場合、遊技球磨き装置１は、複数の突起部６３と遊技球Ｐとの接触面積を更に大きくできる。従って遊技球磨き装置１は、遊技球Ｐに対して脂肪族炭化水素を効率良く塗布できる。

【0061】

更に、例えば図１２（Ａ）に示すように、複数の突起部６３の先端は同一方向を向いていてもよい。又は、図１２（Ｂ）に示すように、複数の突起部６３の先端は、互いに異なる方向を向いていてもよい。なお、複数の突起部６３の先端の向きを互いに相違させることにより、複数の突起部６３は、遊技球Ｐに対する脂肪族化合物の塗り残しを抑制できる。なお、複数の突起部６３の先端の向きは、規則的に変化してもよいし、ランダムに変化してもよい。

【0062】

複数の突起部６３の形状は、均一でなくてもよい。例えば複数の突起部６３の形状は、列Ｃ１～Ｃ３、Ｍ１～Ｍ９毎に異なっていてもよい。

【0063】

研磨ブラシ６の磨き部６２は、複数の突起部６３を有さなくてもよい。例えば磨き部６２は、脂肪族化合部を保持する布、スポンジ等を、複数の突起部６３の代わりに有してもよい。

【0064】

遊技球磨き装置１は、脂肪族化合物を遊技球Ｐに塗布する機能に加えて、複数の突起部６３により遊技球Ｐを磨いたり、表面の汚れを除去したりする機能を有していてもよい。

【符号の説明】

【0065】

１ ：遊技球磨き装置
５ ：スクリューコンベア
６ ：研磨ブラシ
６２ ：磨き部
６３ ：突起部