(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023181008
(43)【公開日】2023-12-21
(54)【発明の名称】有機デバイス及びマスク群
(51)【国際特許分類】
H05B 33/12 20060101AFI20231214BHJP
C23C 14/04 20060101ALI20231214BHJP
H05B 33/10 20060101ALI20231214BHJP
H10K 50/10 20230101ALI20231214BHJP
H10K 59/10 20230101ALI20231214BHJP
G09F 9/30 20060101ALI20231214BHJP
【ＦＩ】
H05B33/12 B
C23C14/04 A
H05B33/10
H05B33/14 A
H01L27/32
G09F9/30 365
【審査請求】未請求
【請求項の数】18
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022094735
(22)【出願日】2022-06-10
(71)【出願人】
【識別番号】000002897
【氏名又は名称】大日本印刷株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100120031
【弁理士】
【氏名又は名称】宮嶋 学
(74)【代理人】
【識別番号】100127465
【弁理士】
【氏名又は名称】堀田 幸裕
(74)【代理人】
【識別番号】100150717
【弁理士】
【氏名又は名称】山下 和也
(72)【発明者】
【氏名】中村 友祐
(72)【発明者】
【氏名】西村 直起
(72)【発明者】
【氏名】宮谷 勲
(72)【発明者】
【氏名】矢野 宏志
【テーマコード（参考）】
3K107
4K029
5C094
【Ｆターム（参考）】
3K107AA01
3K107BB01
3K107CC35
3K107EE06
3K107EE07
3K107GG04
3K107GG32
4K029AA09
4K029AA24
4K029BA62
4K029BB03
4K029BC07
4K029BD01
4K029CA01
4K029DA03
4K029DB06
4K029DB17
4K029HA02
4K029HA03
4K029HA04
4K029JA01
4K029JA06
4K029KA01
5C094AA05
5C094BA03
5C094BA27
5C094CA19
5C094GB10
5C094HA08
(57)【要約】 （修正有）
【解決手段】有機デバイスの基板上に位置する第１電極は、複数の第１色電極と、複数の第２色電極と、複数の第３色電極とを含み、１つの第１色電極と、１つの第２色電極と、２つの第３色電極とにより、１つの画素が構成され、第１色電極と第３色電極は、第１方向に沿って交互に並んでおり、第１方向に直交する第２方向に沿って交互に並んでいる。第１表示領域及び第２表示領域に位置する第１色電極は、第１方向及び第２方向のそれぞれに沿って第１ピッチで並んでいる。第２表示領域に位置する第１色電極と第３色電極は、第１方向及び第２方向のそれぞれに沿って、第２ピッチ及び第３ピッチを繰り返すように並んでいる。第２ピッチは、第３ピッチと異なっている。
【効果】有機デバイスを透過する光によって生じる回折光の強度を低減できる。
【選択図】図５
【効果】有機デバイスを透過する光によって生じる回折光の強度を低減できる。
【選択図】図５
【特許請求の範囲】
【請求項1】
第１表示領域と、平面視で前記第１表示領域とは異なる位置に位置する第２表示領域と、を有する有機デバイスであって、
基板と、
前記基板上に位置する第１電極と、
前記第１電極上に位置する有機層と、
前記有機層上に位置するとともに、平面視で前記第１電極に重なる第２電極と、を備え、
前記第１電極は、複数の第１色電極と、複数の第２色電極と、複数の第３色電極と、を含み、
前記有機層は、前記第１色電極上に位置する複数の第１色有機層と、前記第２色電極上に位置する複数の第２色有機層と、前記第３色電極上に位置する複数の第３色有機層と、を含み、
１つの前記第１色電極と、１つの前記第２色電極と、２つの前記第３色電極とにより、１つの画素が構成され、
前記第１色電極と前記第３色電極は、第１方向に沿って交互に並ぶとともに、前記第１方向に直交する第２方向に沿って交互に並び、
前記第１表示領域及び前記第２表示領域に位置する前記第１色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って第１ピッチで並び、
前記第２表示領域に位置する前記第１色電極と前記第３色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、第２ピッチ及び第３ピッチを繰り返すように並び、
前記第２ピッチは、前記第３ピッチと異なっている、
有機デバイス。
基板と、
前記基板上に位置する第１電極と、
前記第１電極上に位置する有機層と、
前記有機層上に位置するとともに、平面視で前記第１電極に重なる第２電極と、を備え、
前記第１電極は、複数の第１色電極と、複数の第２色電極と、複数の第３色電極と、を含み、
前記有機層は、前記第１色電極上に位置する複数の第１色有機層と、前記第２色電極上に位置する複数の第２色有機層と、前記第３色電極上に位置する複数の第３色有機層と、を含み、
１つの前記第１色電極と、１つの前記第２色電極と、２つの前記第３色電極とにより、１つの画素が構成され、
前記第１色電極と前記第３色電極は、第１方向に沿って交互に並ぶとともに、前記第１方向に直交する第２方向に沿って交互に並び、
前記第１表示領域及び前記第２表示領域に位置する前記第１色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って第１ピッチで並び、
前記第２表示領域に位置する前記第１色電極と前記第３色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、第２ピッチ及び第３ピッチを繰り返すように並び、
前記第２ピッチは、前記第３ピッチと異なっている、
有機デバイス。
【請求項2】
前記第１表示領域に位置する前記第１色電極と前記第３色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、第４ピッチで並び、
前記第４ピッチは、前記第１ピッチの半分である、
請求項１に記載の有機デバイス。
前記第４ピッチは、前記第１ピッチの半分である、
請求項１に記載の有機デバイス。
【請求項3】
前記第１表示領域に位置する前記第１色電極と前記第３色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、前記第２ピッチ及び前記第３ピッチを繰り返すように並ぶ、
請求項１に記載の有機デバイス。
請求項１に記載の有機デバイス。
【請求項4】
前記第２表示領域に位置する１つの前記画素を構成する前記第１色電極と前記第３色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、前記第２ピッチで並び、
前記第２ピッチは、前記第３ピッチよりも小さい、
請求項１に記載の有機デバイス。
前記第２ピッチは、前記第３ピッチよりも小さい、
請求項１に記載の有機デバイス。
【請求項5】
前記第２色電極と前記第３色電極は、前記第１方向に沿って交互に並ぶとともに前記第２方向に沿って交互に並び、
前記第１表示領域及び前記第２表示領域のそれぞれにおいて、前記第２色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って前記第１ピッチで並び、
前記第２表示領域に位置する前記第２色電極と前記第３色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、前記第２ピッチ及び前記第３ピッチを繰り返すように並ぶ、
請求項１に記載の有機デバイス。
前記第１表示領域及び前記第２表示領域のそれぞれにおいて、前記第２色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って前記第１ピッチで並び、
前記第２表示領域に位置する前記第２色電極と前記第３色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、前記第２ピッチ及び前記第３ピッチを繰り返すように並ぶ、
請求項１に記載の有機デバイス。
【請求項6】
前記第１表示領域に位置する前記第２色電極と前記第３色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、第４ピッチで並び、
前記第４ピッチは、前記第１ピッチの半分である、
請求項５に記載の有機デバイス。
前記第４ピッチは、前記第１ピッチの半分である、
請求項５に記載の有機デバイス。
【請求項7】
前記第１表示領域に位置する前記第２色電極と前記第３色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、前記第２ピッチ及び前記第３ピッチを繰り返すように並ぶ、
請求項５に記載の有機デバイス。
請求項５に記載の有機デバイス。
【請求項8】
前記第２表示領域に位置する１つの前記画素を構成する前記第２色電極と前記第３色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、前記第２ピッチで並び、
前記第２ピッチは、前記第３ピッチよりも小さい、
請求項５に記載の有機デバイス。
前記第２ピッチは、前記第３ピッチよりも小さい、
請求項５に記載の有機デバイス。
【請求項9】
前記第３ピッチに対する前記第２ピッチの比率は、０．５０～０．７０である、
請求項１～８のいずれか一項に記載の有機デバイス。
請求項１～８のいずれか一項に記載の有機デバイス。
【請求項10】
マスク群であって、
第１貫通孔を含む第１マスクと、
第２貫通孔を含む第２マスクと、
第３貫通孔を含む第３マスクと、を備え、
前記第１マスク、前記第２マスク及び前記第３マスクが重ねられたマスク積層体は、マスク第１領域と、平面視で前記マスク第１領域とは異なる位置に位置するマスク第２領域と、を有し、
１つの前記第１貫通孔と、１つの前記第２貫通孔と、２つの前記第３貫通孔とにより、１つの貫通孔群が構成され、
前記マスク積層体の平面視において、前記第１貫通孔と前記第３貫通孔は、第１方向に沿って交互に並ぶとともに、前記第１方向に直交する第２方向に沿って交互に並び、
前記マスク第１領域及び前記マスク第２領域に位置する前記第１貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って第１ピッチで並び、
前記マスク第２領域に位置する前記第１貫通孔と前記第３貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、第２ピッチ及び第３ピッチを繰り返すように並び、
前記第２ピッチは、前記第３ピッチと異なっている、
マスク群。
第１貫通孔を含む第１マスクと、
第２貫通孔を含む第２マスクと、
第３貫通孔を含む第３マスクと、を備え、
前記第１マスク、前記第２マスク及び前記第３マスクが重ねられたマスク積層体は、マスク第１領域と、平面視で前記マスク第１領域とは異なる位置に位置するマスク第２領域と、を有し、
１つの前記第１貫通孔と、１つの前記第２貫通孔と、２つの前記第３貫通孔とにより、１つの貫通孔群が構成され、
前記マスク積層体の平面視において、前記第１貫通孔と前記第３貫通孔は、第１方向に沿って交互に並ぶとともに、前記第１方向に直交する第２方向に沿って交互に並び、
前記マスク第１領域及び前記マスク第２領域に位置する前記第１貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って第１ピッチで並び、
前記マスク第２領域に位置する前記第１貫通孔と前記第３貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、第２ピッチ及び第３ピッチを繰り返すように並び、
前記第２ピッチは、前記第３ピッチと異なっている、
マスク群。
【請求項11】
前記マスク第１領域に位置する前記第１貫通孔と前記第３貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、第４ピッチで並び、
前記第４ピッチは、前記第１ピッチの半分である、
請求項１０に記載のマスク群。
前記第４ピッチは、前記第１ピッチの半分である、
請求項１０に記載のマスク群。
【請求項12】
前記マスク第１領域に位置する前記第１貫通孔と前記第３貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、前記第２ピッチ及び前記第３ピッチを繰り返すように並ぶ、
請求項１０に記載のマスク群。
請求項１０に記載のマスク群。
【請求項13】
前記マスク第２領域に位置する１つの前記貫通孔群を構成する前記第１貫通孔と前記第３貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、前記第２ピッチで並び、
前記第２ピッチは、前記第３ピッチよりも小さい、
請求項１０に記載のマスク群。
前記第２ピッチは、前記第３ピッチよりも小さい、
請求項１０に記載のマスク群。
【請求項14】
前記第２貫通孔と前記第３貫通孔は、前記第１方向に沿って交互に並ぶとともに前記第２方向に沿って交互に並び、
前記マスク第１領域及び前記マスク第２領域のそれぞれにおいて、前記第２貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って前記第１ピッチで並び、
前記マスク第２領域に位置する前記第２貫通孔と前記第３貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、前記第２ピッチ及び前記第３ピッチを繰り返すように並ぶ、
請求項１０に記載のマスク群。
前記マスク第１領域及び前記マスク第２領域のそれぞれにおいて、前記第２貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って前記第１ピッチで並び、
前記マスク第２領域に位置する前記第２貫通孔と前記第３貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、前記第２ピッチ及び前記第３ピッチを繰り返すように並ぶ、
請求項１０に記載のマスク群。
【請求項15】
前記マスク第１領域に位置する前記第２貫通孔と前記第３貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、第４ピッチで並び、
前記第４ピッチは、前記第１ピッチの半分である、
請求項１４に記載のマスク群。
前記第４ピッチは、前記第１ピッチの半分である、
請求項１４に記載のマスク群。
【請求項16】
前記マスク第１領域に位置する前記第２貫通孔と前記第３貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、前記第２ピッチ及び前記第３ピッチを繰り返すように並ぶ、
請求項１４に記載のマスク群。
請求項１４に記載のマスク群。
【請求項17】
前記マスク第２領域に位置する１つの前記貫通孔群を構成する前記第２貫通孔と前記第３貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、前記第２ピッチで並び、
前記第２ピッチは、前記第３ピッチよりも小さい、
請求項１４に記載のマスク群。
前記第２ピッチは、前記第３ピッチよりも小さい、
請求項１４に記載のマスク群。
【請求項18】
前記第３ピッチに対する前記第２ピッチの比率は、０．５０～０．７０である、
請求項１０～１７のいずれか一項に記載のマスク群。
請求項１０～１７のいずれか一項に記載のマスク群。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示の実施形態は、有機デバイス及びマスク群に関する。
【背景技術】
【0002】
スマートフォン又はタブレットＰＣ等のデバイスに、高精細な表示装置が求められている。表示装置は、例えば、４００ｐｐｉ以上の画素密度が求められる。ウルトラハイディフィニション（ＵＨＤ）に対応する表示装置への需要もある。このような表示装置は、例えば８００ｐｐｉ以上の画素密度を有している場合がある。
【0003】
応答性の良さ及び／又は消費電力の低さを有するため、有機デバイスの一例としての有機ＥＬ表示装置が注目されている。有機ＥＬ表示装置の画素を形成する方法として、画素を構成する材料を蒸着により基板に付着させる方法が知られている。蒸着法においては、所望のパターンで配列された貫通孔が形成された蒸着マスクを用いて、所望のパターンで画素及び電極が形成される。例えば、まず、蒸着マスクを用いて基板上に導電性材料を付着させて、画素に対応するパターンで第１電極が形成される。続いて、他の蒸着マスクを用いて、第１電極上に有機材料を付着させて発光層が形成される。その後、発光層上に導電性材料を付着させて第２電極が形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特許第６１４３０４３号公報
【特許文献2】特許第６３０１６１０号公報
【特許文献3】特許第６６７２１９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
有機デバイスにおいて第１電極が存在しない領域で、光が透過しやすい場合がある。第１電極の配置の周期性が高い場合、光の回折が生じ、回折光の強度が高まる可能性が考えられる。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本開示の一実施形態による有機デバイスは、第１表示領域と、平面視で前記第１表示領域とは異なる位置に位置する第２表示領域と、を有する有機デバイスである。有機デバイスは、基板と、基板上に位置する第１電極と、第１電極上に位置する有機層と、有機層上に位置するとともに、平面視で第１電極に重なる第２電極と、を備えている。第１電極は、複数の第１色電極と、複数の第２色電極と、複数の第３色電極と、を含む。有機層は、第１色電極上に位置する複数の第１色有機層と、第２色電極上に位置する複数の第２色有機層と、第３色電極上に位置する複数の第３色有機層と、を含む。１つの第１色電極と、１つの第２色電極と、２つの第３色電極とにより、１つの画素が構成されている。第１色電極と第３色電極は、第１方向に沿って交互に並ぶとともに、第１方向に直交する第２方向に沿って交互に並んでいる。第１表示領域及び第２表示領域に位置する第１色電極は、第１方向及び第２方向のそれぞれに沿って第１ピッチで並んでいる。第２表示領域に位置する第１色電極と第３色電極は、第１方向及び第２方向のそれぞれに沿って、第２ピッチ及び第３ピッチを繰り返すように並んでいる。第２ピッチは、第３ピッチと異なっている。
【0007】
本開示の一実施形態によるマスク群は、第１貫通孔を含む第１マスクと、第２貫通孔を含む第２マスクと、第３貫通孔を含む第３マスクと、を備えている。第１マスク、第２マスク及び第３マスクが重ねられたマスク積層体は、マスク第１領域と、平面視でマスク第１領域とは異なる位置に位置するマスク第２領域と、を有している。１つの第１貫通孔と、１つの第２貫通孔と、２つの第３貫通孔とにより、１つの貫通孔群が構成されている。マスク積層体の平面視において、第１貫通孔と第３貫通孔は、第１方向に沿って交互に並ぶとともに、第１方向に直交する第２方向に沿って交互に並んでいる。マスク第１領域及びマスク第２領域に位置する第１貫通孔は、第１方向及び第２方向のそれぞれに沿って第１ピッチで並んでいる。マスク第２領域に位置する第１貫通孔と第３貫通孔は、第１方向及び第２方向のそれぞれに沿って、第２ピッチ及び第３ピッチを繰り返すように並んでいる。第２ピッチは、第３ピッチと異なっている。
【発明の効果】
【0008】
本開示によれば、有機デバイスを透過する光によって生じる回折光の強度を低減できる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
【図1】本開示の一実施形態による有機デバイスの一例を示す平面図である。
【図2】有機デバイスの第１表示領域及び第２表示領域における素子を示す拡大平面図である。
【図8】マスク装置を備えた蒸着装置の一例を示す図である。
【図11】第１マスク装置を示す平面図である。
【図12】第２マスク装置を示す平面図である。
【図13】第３マスク装置を示す平面図である。
【図18】マスク第２領域におけるマスク群の貫通孔を示す拡大平面図である。
【図19】マスク第１領域におけるマスク群の貫通孔を示す拡大平面図である。
【図20】マスク第１領域及びマスク第２領域におけるマスク群の貫通孔を示す拡大平面図である。
【図21】有機デバイスの製造方法の第１電極形成工程において、第１色電極を形成する工程を説明するための断面図である。
【図22】有機デバイスの製造方法の第１電極形成工程において、第２色電極を形成する工程を説明するための断面図である。
【図23】有機デバイスの製造方法の第１電極形成工程において、第３色電極を形成する工程を説明するための断面図である。
【図24】有機デバイスの製造方法の絶縁層形成工程を説明するための断面図である。
【図25】有機デバイスの製造方法の有機層形成工程を説明するための断面図である。
【図26】有機デバイスの製造方法の第２電極形成工程を説明するための断面図である。
【図27】回折光の評価方法を示す図である。
【図28】例１における投影パターンの評価結果を示す図である。
【図29】例２における投影パターンの評価結果を示す図である。
【図30】例３における投影パターンの評価結果を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0010】
本明細書及び本図面において、特別な説明が無い限りは、「基板」や「基材」や「板」や「シート」や「フィルム」などのある構成の基礎となる物質を意味する用語は、呼称の違いのみによっては互いから区別されない。
【0011】
本明細書及び本図面において、特別な説明が無い限りは、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」や「直交」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待してもよい程度の範囲を含めて解釈する。
【0012】
本明細書及び本図面において、特別な説明が無い限りは、ある部材又はある領域等のある構成が、他の部材又は他の領域等の他の構成の「上に」や「下に」、「上側に」や「下側に」、又は「上方に」や「下方に」とする場合、ある構成が他の構成に直接的に接している場合を含む。さらに、ある構成と他の構成との間に別の構成が含まれている場合、つまり間接的に接している場合も含む。また、特別な説明が無い限りは、「上」や「上側」や「上方」、又は、「下」や「下側」や「下方」という語句は、上下方向が逆転してもよい。
【0013】
本明細書及び本図面において、特別な説明が無い限りは、同一部分又は同様な機能を有する部分には同一の符号又は類似の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する場合がある。また、図面の寸法比率は説明の都合上実際の比率とは異なる場合や、構成の一部が図面から省略される場合がある。
【0014】
本明細書及び本図面において、本開示の実施形態は、特別な説明が無い限りは、矛盾の生じない範囲で、その他の実施形態や変形例と組み合わせられてもよい。また、その他の実施形態同士や、その他の実施形態と変形例も、矛盾の生じない範囲で組み合わせられてもよい。また、変形例同士も、矛盾の生じない範囲で組み合わせられてもよい。
【0015】
本明細書及び本図面において、特別な説明が無い限りは、製造方法などの方法に関して複数の工程を開示する場合に、開示されている工程の間に、開示されていないその他の工程が実施されてもよい。また、開示されている工程の順序は、矛盾の生じない範囲で任意である。
【0016】
本明細書及び本図面において、特別な説明が無い限りは、「～」という記号によって表現される範囲は、「～」という符号の前後に置かれた数値や要素を含んでいる。例えば、「３４～３８質量％」という表現によって画定される数値範囲は、「３４質量％以上且つ３８質量％以下」という表現によって画定される数値範囲と同一である。例えば、「マスク５０Ａ～５０Ｃ」という表現によって画定される範囲は、マスク５０Ａ、５０Ｂ、５０Ｃを含んでいる。
【0017】
本明細書の一実施形態においては、複数のマスクを備えるマスク群が、有機ＥＬ表示装置を製造する際に電極を基板上に形成するために用いられる例について説明する。ただし、マスク群の用途が特に限定されることはなく、種々の用途に用いられるマスク群に対し、本実施形態を適用することができる。例えば、仮想現実いわゆるＶＲや拡張現実いわゆるＡＲを表現するための画像や映像を表示又は投影するための装置の電極を形成するために、本実施形態のマスク群を用いてもよい。また、液晶表示装置の電極などの、有機ＥＬ表示装置以外の表示装置の電極を形成するために、本実施形態のマスク群を用いてもよい。また、圧力センサの電極などの、表示装置以外の有機デバイスの電極を形成するために、本実施形態のマスク群を用いてもよい。
【0018】
本開示の第１の態様は、
第１表示領域と、平面視で前記第１表示領域とは異なる位置に位置する第２表示領域と、を有する有機デバイスであって、
基板と、
前記基板上に位置する第１電極と、
前記第１電極上に位置する有機層と、
前記有機層上に位置するとともに、平面視で前記第１電極に重なる第２電極と、を備え、
前記第１電極は、複数の第１色電極と、複数の第２色電極と、複数の第３色電極と、を含み、
前記有機層は、前記第１色電極上に位置する複数の第１色有機層と、前記第２色電極上に位置する複数の第２色有機層と、前記第３色電極上に位置する複数の第３色有機層と、を含み、
１つの前記第１色電極と、１つの前記第２色電極と、２つの前記第３色電極とにより、１つの画素が構成され、
前記第１色電極と前記第３色電極は、第１方向に沿って交互に並ぶとともに、前記第１方向に直交する第２方向に沿って交互に並び、
前記第１表示領域及び前記第２表示領域に位置する前記第１色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って第１ピッチで並び、
前記第２表示領域に位置する前記第１色電極と前記第３色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、第２ピッチ及び第３ピッチを繰り返すように並び、
前記第２ピッチは、前記第３ピッチと異なっている、
有機デバイス、
である。
第１表示領域と、平面視で前記第１表示領域とは異なる位置に位置する第２表示領域と、を有する有機デバイスであって、
基板と、
前記基板上に位置する第１電極と、
前記第１電極上に位置する有機層と、
前記有機層上に位置するとともに、平面視で前記第１電極に重なる第２電極と、を備え、
前記第１電極は、複数の第１色電極と、複数の第２色電極と、複数の第３色電極と、を含み、
前記有機層は、前記第１色電極上に位置する複数の第１色有機層と、前記第２色電極上に位置する複数の第２色有機層と、前記第３色電極上に位置する複数の第３色有機層と、を含み、
１つの前記第１色電極と、１つの前記第２色電極と、２つの前記第３色電極とにより、１つの画素が構成され、
前記第１色電極と前記第３色電極は、第１方向に沿って交互に並ぶとともに、前記第１方向に直交する第２方向に沿って交互に並び、
前記第１表示領域及び前記第２表示領域に位置する前記第１色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って第１ピッチで並び、
前記第２表示領域に位置する前記第１色電極と前記第３色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、第２ピッチ及び第３ピッチを繰り返すように並び、
前記第２ピッチは、前記第３ピッチと異なっている、
有機デバイス、
である。
【0019】
本開示の第２の態様は、上述した第１の態様による有機デバイスにおいて、
前記第１表示領域に位置する前記第１色電極と前記第３色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、第４ピッチで並び、
前記第４ピッチは、前記第１ピッチの半分である、
ようにしてもよい。
前記第１表示領域に位置する前記第１色電極と前記第３色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、第４ピッチで並び、
前記第４ピッチは、前記第１ピッチの半分である、
ようにしてもよい。
【0020】
本開示の第３の態様は、上述した第１の態様による有機デバイスにおいて、
前記第１表示領域に位置する前記第１色電極と前記第３色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、前記第２ピッチ及び前記第３ピッチを繰り返すように並ぶ、
ようにしてもよい。
前記第１表示領域に位置する前記第１色電極と前記第３色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、前記第２ピッチ及び前記第３ピッチを繰り返すように並ぶ、
ようにしてもよい。
【0021】
本開示の第４の態様は、上述した第１の態様から上述した第３の態様のそれぞれによる有機デバイスにおいて、
前記第２表示領域に位置する１つの前記画素を構成する前記第１色電極と前記第３色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、前記第２ピッチで並び、
前記第２ピッチは、前記第３ピッチよりも小さい、
ようにしてもよい。
前記第２表示領域に位置する１つの前記画素を構成する前記第１色電極と前記第３色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、前記第２ピッチで並び、
前記第２ピッチは、前記第３ピッチよりも小さい、
ようにしてもよい。
【0022】
本開示の第５の態様は、上述した第１の態様から上述した第４の態様のそれぞれによる有機デバイスにおいて、
前記第２色電極と前記第３色電極は、前記第１方向に沿って交互に並ぶとともに前記第２方向に沿って交互に並び、
前記第１表示領域及び前記第２表示領域のそれぞれにおいて、前記第２色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って前記第１ピッチで並び、
前記第２表示領域に位置する前記第２色電極と前記第３色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、前記第２ピッチ及び前記第３ピッチを繰り返すように並ぶ、
ようにしてもよい。
前記第２色電極と前記第３色電極は、前記第１方向に沿って交互に並ぶとともに前記第２方向に沿って交互に並び、
前記第１表示領域及び前記第２表示領域のそれぞれにおいて、前記第２色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って前記第１ピッチで並び、
前記第２表示領域に位置する前記第２色電極と前記第３色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、前記第２ピッチ及び前記第３ピッチを繰り返すように並ぶ、
ようにしてもよい。
【0023】
本開示の第６の態様は、上述した第５の態様による有機デバイスにおいて、
前記第１表示領域に位置する前記第２色電極と前記第３色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、第４ピッチで並び、
前記第４ピッチは、前記第１ピッチの半分である、
ようにしもよい。
前記第１表示領域に位置する前記第２色電極と前記第３色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、第４ピッチで並び、
前記第４ピッチは、前記第１ピッチの半分である、
ようにしもよい。
【0024】
本開示の第７の態様は、上述した第５の態様による有機デバイスにおいて、
前記第１表示領域に位置する前記第２色電極と前記第３色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、前記第２ピッチ及び前記第３ピッチを繰り返すように並ぶ、
ようにしてもよい。
前記第１表示領域に位置する前記第２色電極と前記第３色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、前記第２ピッチ及び前記第３ピッチを繰り返すように並ぶ、
ようにしてもよい。
【0025】
本開示の第８の態様は、上述した第５の態様から上述した第７の態様のそれぞれによる有機デバイスにおいて、
前記第２表示領域に位置する１つの前記画素を構成する前記第２色電極と前記第３色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、前記第２ピッチで並び、
前記第２ピッチは、前記第３ピッチよりも小さい、
ようにしてもよい。
前記第２表示領域に位置する１つの前記画素を構成する前記第２色電極と前記第３色電極は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、前記第２ピッチで並び、
前記第２ピッチは、前記第３ピッチよりも小さい、
ようにしてもよい。
【0026】
本開示の第９の態様は、上述した第１の態様から上述した第８の態様のそれぞれによる有機デバイスにおいて、
前記第３ピッチに対する前記第２ピッチの比率は、０．５０～０．７０である、
ようにしてもよい。
前記第３ピッチに対する前記第２ピッチの比率は、０．５０～０．７０である、
ようにしてもよい。
【0027】
本開示の第１０の態様は、
マスク群であって、
第１貫通孔を含む第１マスクと、
第２貫通孔を含む第２マスクと、
第３貫通孔を含む第３マスクと、を備え、
前記第１マスク、前記第２マスク及び前記第３マスクが重ねられたマスク積層体は、マスク第１領域と、平面視で前記マスク第１領域とは異なる位置に位置するマスク第２領域と、を有し、
１つの前記第１貫通孔と、１つの前記第２貫通孔と、２つの前記第３貫通孔とにより、１つの貫通孔群が構成され、
前記マスク積層体の平面視において、前記第１貫通孔と前記第３貫通孔は、第１方向に沿って交互に並ぶとともに、前記第１方向に直交する第２方向に沿って交互に並び、
前記マスク第１領域及び前記マスク第２領域に位置する前記第１貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って第１ピッチで並び、
前記マスク第２領域に位置する前記第１貫通孔と前記第３貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、第２ピッチ及び第３ピッチを繰り返すように並び、
前記第２ピッチは、前記第３ピッチと異なっている、
マスク群、
である。
マスク群であって、
第１貫通孔を含む第１マスクと、
第２貫通孔を含む第２マスクと、
第３貫通孔を含む第３マスクと、を備え、
前記第１マスク、前記第２マスク及び前記第３マスクが重ねられたマスク積層体は、マスク第１領域と、平面視で前記マスク第１領域とは異なる位置に位置するマスク第２領域と、を有し、
１つの前記第１貫通孔と、１つの前記第２貫通孔と、２つの前記第３貫通孔とにより、１つの貫通孔群が構成され、
前記マスク積層体の平面視において、前記第１貫通孔と前記第３貫通孔は、第１方向に沿って交互に並ぶとともに、前記第１方向に直交する第２方向に沿って交互に並び、
前記マスク第１領域及び前記マスク第２領域に位置する前記第１貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って第１ピッチで並び、
前記マスク第２領域に位置する前記第１貫通孔と前記第３貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、第２ピッチ及び第３ピッチを繰り返すように並び、
前記第２ピッチは、前記第３ピッチと異なっている、
マスク群、
である。
【0028】
本開示の第１１の態様は、上述した第１０の態様によるマスク群において、
前記マスク第１領域に位置する前記第１貫通孔と前記第３貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、第４ピッチで並び、
前記第４ピッチは、前記第１ピッチの半分である、
ようにしてもよい。
前記マスク第１領域に位置する前記第１貫通孔と前記第３貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、第４ピッチで並び、
前記第４ピッチは、前記第１ピッチの半分である、
ようにしてもよい。
【0029】
本開示の第１２の態様は、上述した第１０の態様によるマスク群において、
前記マスク第１領域に位置する前記第１貫通孔と前記第３貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、前記第２ピッチ及び前記第３ピッチを繰り返すように並ぶ、
ようにしてもよい。
前記マスク第１領域に位置する前記第１貫通孔と前記第３貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、前記第２ピッチ及び前記第３ピッチを繰り返すように並ぶ、
ようにしてもよい。
【0030】
本開示の第１３の態様は、上述した第１０の態様から上述した第１２の態様のそれぞれによるマスク群において、
前記マスク第２領域に位置する１つの前記貫通孔群を構成する前記第１貫通孔と前記第３貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、前記第２ピッチで並び、
前記第２ピッチは、前記第３ピッチよりも小さい、
ようにしてもよい。
前記マスク第２領域に位置する１つの前記貫通孔群を構成する前記第１貫通孔と前記第３貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、前記第２ピッチで並び、
前記第２ピッチは、前記第３ピッチよりも小さい、
ようにしてもよい。
【0031】
本開示の第１４の態様は、上述した第１０の態様によるマスク群において、
前記第２貫通孔と前記第３貫通孔は、前記第１方向に沿って交互に並ぶとともに前記第２方向に沿って交互に並び、
前記マスク第１領域及び前記マスク第２領域のそれぞれにおいて、前記第２貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って前記第１ピッチで並び、
前記マスク第２領域に位置する前記第２貫通孔と前記第３貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、前記第２ピッチ及び前記第３ピッチを繰り返すように並ぶ、
ようにしてもよい。
前記第２貫通孔と前記第３貫通孔は、前記第１方向に沿って交互に並ぶとともに前記第２方向に沿って交互に並び、
前記マスク第１領域及び前記マスク第２領域のそれぞれにおいて、前記第２貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って前記第１ピッチで並び、
前記マスク第２領域に位置する前記第２貫通孔と前記第３貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、前記第２ピッチ及び前記第３ピッチを繰り返すように並ぶ、
ようにしてもよい。
【0032】
本開示の第１５の態様は、上述した第１４の態様によるマスク群において、
前記マスク第１領域に位置する前記第２貫通孔と前記第３貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、第４ピッチで並び、
前記第４ピッチは、前記第１ピッチの半分である、
ようにしてもよい。
前記マスク第１領域に位置する前記第２貫通孔と前記第３貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、第４ピッチで並び、
前記第４ピッチは、前記第１ピッチの半分である、
ようにしてもよい。
【0033】
本開示の第１６の態様は、上述した第１５の態様によるマスク群において、
前記マスク第１領域に位置する前記第２貫通孔と前記第３貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、前記第２ピッチ及び前記第３ピッチを繰り返すように並ぶ、
ようにしてもよい。
前記マスク第１領域に位置する前記第２貫通孔と前記第３貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、前記第２ピッチ及び前記第３ピッチを繰り返すように並ぶ、
ようにしてもよい。
【0034】
本開示の第１７の態様は、上述した第１４の態様から上述した第１６の態様のそれぞれによるマスク群において、
前記マスク第２領域に位置する１つの前記貫通孔群を構成する前記第２貫通孔と前記第３貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、前記第２ピッチで並び、
前記第２ピッチは、前記第３ピッチよりも小さい、
ようにしてもよい。
前記マスク第２領域に位置する１つの前記貫通孔群を構成する前記第２貫通孔と前記第３貫通孔は、前記第１方向及び前記第２方向のそれぞれに沿って、前記第２ピッチで並び、
前記第２ピッチは、前記第３ピッチよりも小さい、
ようにしてもよい。
【0035】
本開示の第１８の態様は、上述した第１１の態様から上述した第１７の態様のそれぞれによるマスク群において、
前記第３ピッチに対する前記第２ピッチの比率は、０．５０～０．７０である、
ようにしてもよい。
前記第３ピッチに対する前記第２ピッチの比率は、０．５０～０．７０である、
ようにしてもよい。
【0036】
本開示の一実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態は本開示の実施形態の一例であって、本開示はこれらの実施形態のみに限定して解釈されるものではない。
【0037】
有機デバイス１００について、図１及び図２を用いて説明する。図１は、有機デバイス１００の基板１１０の法線方向に沿って見た場合の有機デバイス１００の一例を示す平面図である。本明細書の説明において、基板などの基礎となる部材の面の法線方向に沿って見ることを、平面視とも称する。
【0038】
有機デバイス１００は、図１に示すように、平面視において第１表示領域１０１及び第２表示領域１０２を有していてもよい。第２表示領域１０２は、平面視で第１表示領域１０１とは異なる位置に位置していてもよい。第２表示領域１０２は、第１表示領域１０１よりも小さい面積を有していてもよい。図１に示すように、第２表示領域１０２は、第１表示領域１０１によって囲まれていてもよい。
【0039】
第２表示領域１０２は、光を検出することにより何らかの機能を実現する光学部品が光を取り込む領域であってもよい。後述するように、第２表示領域１０２に素子１１５が存在している。このため、素子１１５が画素である場合、第２表示領域１０２に画像や映像を表示できる。以下では、画像や映像のことを画像等と記す。このように、第２表示領域１０２は、光を検出し、且つ画像等を表示できる。光を検出することによって実現される光学部品は、例えば、カメラ、指紋センサ、顔認証センサなどのセンサなどである。第２表示領域１０２の透過率が高いほど、センサが受光する光量を増やすことができる。
【0040】
【0041】
図２に示すように、有機デバイス１００は、複数の素子１１５を含む。１つの素子１１５は、１つの画素を構成する。１つの素子１１５は、１つの第１素子１１５Ａと、１つの第２素子１１５Ｂと、２つの第３素子１１５Ｃと、を含んでいてもよい。１つの素子１１５を構成する１つの第１素子１１５Ａと１つの第２素子１１５Ｂと２つの第３素子１１５Ｃは、正方形の頂点に位置づけられていてもよい。このような素子１１５の配列は、ペンタイル配列とも称される。
【0042】
本明細書の説明において、素子１１５の構成のうち、第１素子１１５Ａ、第２素子１１５Ｂ及び第３素子１１５Ｃに共通する構成を説明する場合には、「素子１１５」という用語及び符号を用いる。図２のような平面図において、各素子１１５Ａ、１１５Ｂ、１１５Ｃの輪郭は、平面視において、後述する色電極１２０Ａ～１２０Ｃの輪郭であってもよく、色電極１２０Ａ～１２０Ｃと重なる色有機層１３０Ａ～１３０Ｃの輪郭であってもよい。有機デバイス１００が後述する絶縁層１６０を備える場合、素子１１５の輪郭は平面視において有機層１３０のうち絶縁層１６０に重ならない部分の輪郭であってもよい。
【0043】
素子１１５は、４５°傾いた状態で、第１表示領域１０１及び第２表示領域１０２に並んでいてもよい。素子１１５は、素子第１方向Ｇ１に沿って並んでいるとともに、素子第２方向Ｇ２に沿って並んでいる。素子第２方向Ｇ２は、素子第１方向Ｇ１に直交する方向であってもよい。素子第１方向Ｇ１及び素子第２方向Ｇ２は、有機デバイス１００の外輪郭１００ａ（図１参照）に対して４５°の角度をなしていてもよい。
【0044】
本実施形態においては、後述するように、第２表示領域１０２に位置する１つの素子１１５を構成する各色電極１２０Ａ～１２０Ｃのピッチが、第１表示領域１０１に位置する同様のピッチよりも小さくなっている。一方、第２表示領域１０２の画素密度は、第１表示領域１０１の画素密度と等しくてもよい。画素密度は、素子１１５の密度に相当している。
【0045】
有機デバイス１００について、図３及び図４を用いてより詳細に説明する。図３は、第１表示領域１０１における有機デバイス１００の断面図であり、図２に示すＡ－Ａ線に沿った断面図である。図４は、第２表示領域１０２における有機デバイス１００の断面図であり、図２に示すＢ－Ｂ線に沿った断面図である。
【0046】
図３に示すように、有機デバイス１００は、基板１１０と、基板１１０上に位置する素子１１５と、を含む。素子１１５は、基板１１０上に位置する第１電極１２０と、第１電極１２０上に位置する有機層１３０と、有機層１３０上に位置する第２電極１４０と、を含んでいてもよい。有機層１３０は、平面視で第１電極１２０に重なっていてもよい。第２電極１４０は、平面視で第１電極１２０に重なっていてもよい。
【0047】
有機デバイス１００は、平面視において隣り合う２つの各色電極１２０Ａ～１２０Ｃの間に位置する絶縁層１６０を含んでいてもよい。絶縁層１６０は、例えばポリイミドを含んでいてもよい。絶縁層１６０は、色電極１２０Ａ～１２０Ｃの端部に重なっていてもよい。
【0048】
有機デバイス１００は、アクティブマトリクス型であってもよい。例えば、図示しないが、有機デバイス１００は、複数の素子１１５のそれぞれに電気的に接続されているスイッチを含んでいてもよい。スイッチは、例えばトランジスタであってもよい。スイッチは、対応する素子１１５に対する電圧又は電流のＯＮ／ＯＦＦを制御してもよい。
【0049】
素子１１５は、第１電極１２０と第２電極１４０との間に電圧が印加されることによって、何らかの機能を実現するように構成されていてもよい。あるいは、素子１１５は、第１電極１２０と第２電極１４０との間に電流が流れることによって、何らかの機能を実現するよう構成されていてもよい。例えば、素子１１５は、有機デバイス１００の画素である場合、画像等を構成する光を放出してもよい。
【0050】
基板１１０の構成について説明する。
【0051】
基板１１０は、素子１１５が位置する第１面１１０ａと、第１面１１０ａとは反対側に位置する第２面１１０ｂと、を含んでいてもよい。基板１１０は、絶縁性を有する板状の部材であってもよい。基板１１０は、可視光を透過させる光透過性を有していてもよい。例えば、基板１１０は、ガラス基板であってもよい。
【0052】
基板１１０が、所定の光透過性を有する場合、基板１１０の光透過性は、有機層１３０から発せられた光を透過させて表示できる光透過性であってもよい。例えば、可視光領域における基板１１０の透過率が７０％以上であってもよく、８０％以上であってもよく、９０％以上であってもよい。基板１１０の透過率は、５５０ｎｍの波長を有する光に対する透過率であってもよい。基板１１０の透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１－１に準ずるプラスチック－透明材料の全光透過率の試験方法によって測定されてもよい。
【0053】
基板１１０は、可撓性を有していてもよく、又は可撓性を有していなくてもよい。有機デバイス１００の用途に応じて基板１１０の材料は選択されてもよい。
【0054】
基板１１０の厚みは、基板１１０に用いられる材料又は有機デバイス１００の用途等に応じて適宜選択されてもよい。例えば、基板１１０の厚みは、０．００５ｍｍ以上であってもよい。基板１１０の厚みは、５ｍｍ以下であってもよい。
【0055】
第１電極１２０の構成について、図３～図７を用いて説明する。図５は、第２表示領域１０２における第１電極１２０を示す拡大平面図であり、図６は、第1表示領域１０１における第1電極１２０を示す拡大平面図である。図７は、第1表示領域１０１及び第2表示領域１０２における第1電極１２０を示す拡大平面図である。
【0056】
図３及び図４に示すように、第１電極１２０は複数の電極を含んでいてもよい。例えば、第１電極１２０は、第１色電極１２０Ａと、第２色電極１２０Ｂと、第３色電極１２０Ｃと、を含んでいてもよい。１つの第１色電極１２０Ａと、１つの第２色電極１２０Ｂと、２つの第３色電極１２０Ｃとにより、１つの画素又は素子１１５が構成されていてもよい。第１色電極１２０Ａ、第２色電極１２０Ｂ及び第３色電極１２０Ｃはそれぞれ、蒸着法によって形成されてもよい。より具体的には、第１色電極１２０Ａは、後述する第１マスク５０Ａ（図１１及び図１５参照）を用いる蒸着法によって形成されてもよい。第２色電極１２０Ｂは、後述する第２マスク５０Ｂ（図１２及び図１６参照）を用いる蒸着法によって形成されてもよい。第３色電極１２０Ｃは、後述する第３マスク５０Ｃ（図１３及び図１７参照）を用いる蒸着法によって形成されてもよい。本明細書の説明において、第１電極の構成のうち、第１色電極１２０Ａ、第２色電極１２０Ｂ及び第３色電極１２０Ｃに共通する構成を説明する場合には、「第１電極１２０」という用語及び符号を用いる。
【0057】
第１色電極１２０Ａは、後述する第１色有機層１３０Ａに平面視で重なっていてもよい。第１色有機層１３０Ａは、赤色発光層であってもよい。第２色電極１２０Ｂは、後述する第２色有機層１３０Ｂに平面視で重なっていてもよい。第２色有機層１３０Ｂは、青色有機層であってもよい。第３色電極１２０Ｃは、後述する第３色有機層１３０Ｃに平面視で重なっていてもよい。第３色有機層１３０Ｃは、緑色有機層であってもよい。
【0058】
図５～図7に示すように、第１色電極１２０Ａ、第２色電極１２０Ｂ及び第３色電極１２０Ｃは、平面視において、略円形状の輪郭若しくは略楕円形状の輪郭を有していてもよく、又は略多角形状の輪郭を有していてもよい。例えば、各電極１２０Ａ～１２０Ｃは、略四角形状、略六角形状又は略八角形状の輪郭を有していてもよい。図５～図７に示す例においては、各色電極１２０Ａ～１２０Ｃが略円形状の輪郭を有している。第２色電極１２０Ｂの直径は、第１色電極１２０Ａの直径よりも大きくてもよい。第３色電極１２０Ｃの直径は、第１色電極１２０Ａの直径よりも小さくてもよい。
【0059】
第２表示領域１０２に位置する各第１電極１２０の周囲に、非電極領域１２１が形成されていてもよい。より具体的には、非電極領域１２１は、各色電極１２０Ａ～１２０Ｃの周囲に形成されている領域であって、各色電極１２０Ａ～１２０Ｃが形成されていない領域である。有機デバイス１００の第２表示領域１０２に到達した光は、主として、非電極領域１２１を通過して基板１１０の裏側に位置する光学部品などに到達できる。非電極領域１２１は、第１表示領域１０１に位置する各第１電極１２０の周囲にも形成されていてもよい。
【0060】
第１色電極１２０Ａ、第２色電極１２０Ｂ及び第３色電極１２０Ｃの位置関係について説明する。本実施形態においては、第２表示領域１０２に位置する１つの素子１１５を構成する各色電極１２０Ａ～１２０Ｃのピッチが小さくなっている。このことについて、以下説明する。
【0061】
図５に示すように、第２表示領域１０２において、第１色電極１２０Ａは、素子第１方向Ｇ１に沿って並んでいてもよく、素子第２方向Ｇ２に沿って並んでいてもよい。素子第１方向Ｇ１に沿う第１色電極１２０Ａのピッチは、第１ピッチＰ１であってもよい。素子第２方向Ｇ２に沿う第１色電極１２０Ａのピッチは、第１ピッチＰ１であってもよい。第２表示領域１０２に位置する第１色電極１２０Ａは、素子第１方向Ｇ１及び素子第２方向Ｇ２のそれぞれに沿って、等間隔で並んでいてもよい。
【0062】
図６に示すように、第１表示領域１０１において、第１色電極１２０Ａは、素子第１方向Ｇ１に沿って並んでいてもよく、素子第２方向Ｇ２に沿って並んでいてもよい。素子第１方向Ｇ１に沿う第１色電極１２０Ａのピッチは、第１ピッチＰ１であってもよい。素子第２方向Ｇ２に沿う第１色電極１２０Ａのピッチは、第１ピッチＰ１であってもよい。第１表示領域１０１に位置する第１色電極１２０Ａは、素子第１方向Ｇ１及び素子第２方向Ｇ２のそれぞれに沿って、等間隔で並んでいてもよい。
【0063】
図５に示すように、第２表示領域１０２において、第２色電極１２０Ｂは、素子第１方向Ｇ１に沿って並んでいてもよく、素子第２方向Ｇ２に沿って並んでいてもよい。素子第１方向Ｇ１に沿う第２色電極１２０Ｂのピッチは、第１ピッチＰ１であってもよく、第１色電極１２０Ａのピッチと等しくてもよい。素子第２方向Ｇ２に沿う第２色電極１２０Ｂのピッチは、第１ピッチＰ１であってもよく、第１色電極１２０Ａのピッチと等しくてもよい。第２表示領域１０２に位置する第２色電極１２０Ｂは、素子第１方向Ｇ１及び素子第２方向Ｇ２のそれぞれに沿って、等間隔で並んでいてもよい。
【0064】
図６に示すように、第１表示領域１０１において、第２色電極１２０Ｂは、素子第１方向Ｇ１に沿って並んでいてもよく、素子第２方向Ｇ２に沿って並んでいてもよい。素子第１方向Ｇ１に沿う第２色電極１２０Ｂのピッチは、第１ピッチＰ１であってもよく、第１色電極１２０Ａのピッチと等しくてもよい。素子第２方向Ｇ２に沿う第２色電極１２０Ｂのピッチは、第１ピッチＰ１であってもよく、第１色電極１２０Ａのピッチと等しくてもよい。第１表示領域１０１に位置する第２色電極１２０Ｂは、素子第１方向Ｇ１及び素子第２方向Ｇ２のそれぞれに沿って、等間隔で並んでいてもよい。
【0065】
図５及び図６に示すように、第１表示領域１０１及び第２表示領域１０２のそれぞれにおいて、第３色電極１２０Ｃは、素子第１方向Ｇ１に沿って並んでいてもよく、素子第２方向Ｇ２に沿って並んでいてもよい。１つの素子１１５を構成する２つの第３色電極１２０Ｃは、１つの第３色電極１２０Ｃａと、１つの第３色電極１２０Ｃｂと、を含んでいてもよい。本明細書の説明において、第３色電極１２０Ｃの構成のうち、第３色電極１２０Ｃａ及び第３色電極１２０Ｃｂに共通する構成を説明する場合には、「第３色電極１２０Ｃ」という用語及び符号を用いる。
【0066】
第３色電極１２０Ｃａ及び第３色電極１２０Ｃｂは、互いに平行な素子第１方向Ｇ１に沿う配列を形成している。素子第１方向Ｇ１に沿う第３色電極１２０Ｃａのピッチは、第１ピッチＰ１であってもよく、第１色電極１２０Ａのピッチと等しくてもよい。素子第１方向Ｇ１に沿う第３色電極１２０Ｃｂのピッチは、第１ピッチＰ１であってもよく、第１色電極１２０Ａのピッチと等しくてもよい。
【0067】
第３色電極１２０Ｃａ及び第３色電極１２０Ｃｂは、互いに平行な素子第２方向Ｇ２に沿う配列を形成している。素子第２方向Ｇ２に沿う第３色電極１２０Ｃａのピッチは、第１ピッチＰ１であってもよく、第１色電極１２０Ａのピッチと等しくてもよい。素子第２方向Ｇ２に沿う第３色電極１２０Ｃｂのピッチは、第１ピッチＰ１であってもよく、第１色電極１２０Ａのピッチと等しくてもよい。
【0068】
図５及び図６に示すように、第１表示領域１０１及び第２表示領域１０２のそれぞれにおいて、第１色電極１２０Ａと第３色電極１２０Ｃは、素子第１方向Ｇ１に沿って交互に並んでいてもよく、素子第２方向Ｇ２に沿って交互に並んでいてもよい。
【0069】
図５に示すように、第２表示領域１０２に位置する第１色電極１２０Ａと第３色電極１２０Ｃａが、素子第１方向Ｇ１に沿う第１電極配列１５１を構成していてもよい。第２表示領域１０２に、複数の第1電極配列１５１が形成されていてもよい。第２表示領域１０２に位置する第１色電極１２０Ａと第３色電極１２０Ｃｂが、素子第２方向Ｇ２に沿う第２電極配列１５２を構成していてもよい。第２表示領域１０２に、複数の第２電極配列１５２が形成されていてもよい。
【0070】
第２表示領域１０２に位置する第１色電極１２０Ａと第３色電極１２０Ｃは、素子第１方向Ｇ１及び素子第２方向Ｇ２のそれぞれに沿って、第２ピッチＰ２及び第３ピッチＰ３を繰り返すように並んでいてもよい。上述した第１電極配列１５１において１つの素子１１５を構成する第１色電極１２０Ａと第３色電極１２０Ｃａのピッチは、第２ピッチＰ２であってもよい。第１電極配列１５１において隣り合う２つの素子１１５のうちの一方の素子１１５を構成する第１色電極１２０Ａと、他方の素子１１５を構成する第３色電極１２０Ｃａのピッチは、第３ピッチＰ３であってもよい。上述した第２電極配列１５２において１つの素子１１５を構成する第１色電極１２０Ａと第３色電極１２０Ｃｂのピッチは、第２ピッチＰ２であってもよい。第２電極配列１５２において隣り合う２つの素子１１５のうちの一方の素子１１５を構成する第１色電極１２０Ａと、他方の素子１１５を構成する第３色電極１２０Ｃｂのピッチは、第３ピッチＰ３であってもよい。第２ピッチＰ２と第３ピッチＰ３との和は、上述した第１ピッチＰ１に等しい。第２ピッチＰ２は、第３ピッチＰ３と異なっていてもよい。第２ピッチＰ２は、第３ピッチＰ３よりも小さくてもよい。第２ピッチＰ２は、第１ピッチＰ１の半分よりも小さくてもよい。
【0071】
第３ピッチＰ３に対する第２ピッチＰ２の比率は、例えば、０．５０以上でもよく、０．５１以上でもよく、０．５２以上でもよい。比率を０．５０以上とすることにより、各色電極１２０Ａ～１２０Ｃ間の距離を確保でき、混色の発生を抑制できる。比率は、例えば、０．６６以下でもよく、０．６８以下でもよく、０．７０以下でもよい。比率を０．７０以下とすることにより、各色電極１２０Ａ～１２０Ｃの配置の規則性を効果的に低下できる。比率の範囲は、０．５０、０．５１及び０．５２からなる第１グループ、及び／又は、０．６６、０．６８及び０．７０からなる第２グループによって定められてもよい。比率の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。比率の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。比率の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、０．５０以上０．７０以下でもよく、０．５０以上０．６８以下でもよく、０．５０以上０．６６以下でもよく、０．５０以上０．５２以下でもよく、０．５０以上０．５１以下でもよく、０．５１以上０．７０以下でもよく、０．５１以上０．６８以下でもよく、０．５１以上０．６６以下でもよく、０．５１以上０．５２以下でもよく、０．５２以上０．７０以下でもよく、０．５２以上０．６８以下でもよく、０．５２以上０．６６以下でもよく、０．６６以上０．７０以下でもよく、０．６６以上０．６８以下でもよく、０．６８以上０．７０以下でもよい。
【0072】
図６に示すように、第１表示領域１０１に位置する第１色電極１２０Ａと第３色電極１２０Ｃａが、素子第１方向Ｇ１に沿う第３電極配列１５３を構成していてもよい。第１表示領域１０１に、複数の第３電極配列１５３が形成されていてもよい。第１表示領域１０１に位置する第１色電極１２０Ａと第３色電極１２０Ｃｂが、素子第２方向Ｇ２に沿う第４電極配列１５４を構成していてもよい。第１表示領域１０１に、複数の第４電極配列１５４が形成されていてもよい。
【0073】
第１表示領域１０１に位置する第１色電極１２０Ａと第３色電極１２０Ｃは、素子第１方向Ｇ１及び素子第２方向Ｇ２のそれぞれに沿って、第４ピッチＰ４で並んでいてもよい。上述した第３電極配列１５３において、第１色電極１２０Ａと第３色電極１２０Ｃａのピッチは、第４ピッチＰ４であってもよい。上述した第４電極配列１５４において、第１色電極１２０Ａと第３色電極１２０Ｃｂのピッチは、第４ピッチＰ４であってもよい。第１表示領域１０１に位置する第１色電極１２０Ａと第３色電極１２０Ｃは、素子第１方向Ｇ１及び素子第２方向Ｇ２のそれぞれに沿って、等間隔で並んでいてもよい。第４ピッチＰ４は、第１ピッチＰ１の半分であってもよい。第４ピッチＰ４は、第２ピッチＰ２よりも大きくてもよく、第３ピッチＰ３よりも小さくてもよい。
【0074】
図５及び図６に示すように、第１表示領域１０１及び第２表示領域１０２のそれぞれにおいて、第２色電極１２０Ｂと第３色電極１２０Ｃは、素子第１方向Ｇ１に沿って交互に並んでいてもよく、素子第２方向Ｇ２に沿って交互に並んでいてもよい。
【0075】
図５に示すように、第２表示領域１０２に位置する第２色電極１２０Ｂと第３色電極１２０Ｃｂが、素子第１方向Ｇ１に沿う第５電極配列１５５を構成していてもよい。第２表示領域１０２に、複数の第５電極配列１５５が形成されていてもよい。第２表示領域１０２に位置する第２色電極１２０Ｂと第３色電極１２０Ｃａが、素子第２方向Ｇ２に沿う第６電極配列１５６を構成していてもよい。第２表示領域１０２に、複数の第６電極配列１５６が形成されていてもよい。
【0076】
第２表示領域１０２に位置する第２色電極１２０Ｂと第３色電極１２０Ｃは、素子第１方向Ｇ１及び素子第２方向Ｇ２のそれぞれに沿って、第２ピッチＰ２及び第３ピッチＰ３を繰り返すように並んでいてもよい。上述した第５電極配列１５５において１つの素子１１５を構成する第２色電極１２０Ｂと第３色電極１２０Ｃｂのピッチは、第２ピッチＰ２であってもよい。第５電極配列１５５において隣り合う２つの素子１１５のうちの一方の素子１１５を構成する第２色電極１２０Ｂと、他方の素子１１５を構成する第３色電極１２０Ｃｂのピッチは、第３ピッチＰ３であってもよい。上述した第６電極配列１５６において１つの素子１１５を構成する第２色電極１２０Ｂと第３色電極１２０Ｃａのピッチは、第２ピッチＰ２であってもよい。第６電極配列１５６において隣り合う２つの素子１１５のうちの一方の素子１１５を構成する第２色電極１２０Ｂと、他方の素子１１５を構成する第３色電極１２０Ｃａのピッチは、第３ピッチＰ３であってもよい。
【0077】
図６に示すように、第１表示領域１０１に位置する第２色電極１２０Ｂと第３色電極１２０Ｃｂが、素子第１方向Ｇ１に沿う第７電極配列１５７を構成していてもよい。第１表示領域１０１に、複数の第７電極配列１５７が形成されていてもよい。第１表示領域１０１に位置する第２色電極１２０Ｂと第３色電極１２０Ｃａが、素子第２方向Ｇ２に沿う第８電極配列１５８を構成していてもよい。第１表示領域１０１に、複数の第８電極配列１５８が形成されていてもよい。
【0078】
第１表示領域１０１に位置する第２色電極１２０Ｂと第３色電極１２０Ｃは、素子第１方向Ｇ１及び素子第２方向Ｇ２のそれぞれに沿って、第４ピッチＰ４で並んでいてもよい。上述した第７電極配列１５７において、第２色電極１２０Ｂと第３色電極１２０Ｃｂのピッチは、第４ピッチＰ４であってもよい。上述した第８電極配列１５８において、第２色電極１２０Ｂと第３色電極１２０Ｃａのピッチは、第４ピッチＰ４であってもよい。
【0079】
図７に示すように、第１表示領域１０１に位置する素子１１５と、第２表示領域１０２に位置する素子１１５は、素子第１方向Ｇ１に沿って並んでいてもよく、素子第２方向Ｇ２に沿って並んでいてもよい。より具体的には、第１表示領域１０１に位置する素子１１５の中心１１５Ｏと、第２表示領域１０２に位置する素子１１５の中心１１５Ｏが、素子第１方向Ｇ１に沿って並んでいてもよく、素子第２方向Ｇ２に沿って並んでいてもよい。素子第１方向Ｇ１及び素子第２方向Ｇ２のそれぞれに沿って、第２表示領域１０２に位置する素子１１５の中心１１５Ｏは、第１表示領域１０１に位置する素子１１５の中心１１５Ｏの配列の延長上に位置していてもよい。素子１１５の中心１１５Ｏは、第１色電極１２０Ａの中心と第２色電極１２０Ｂの中心とを結ぶ線分と、第３色電極１２０Ｃａの中心と第３色電極１２０Ｃｂの中心とを結ぶ線分との交点であってもよい。この場合、素子１１５の中心１１５Ｏは、第１色電極１２０Ａの中心と第２色電極１２０Ｂの中心の中間位置に位置するとともに、第３色電極１２０Ｃａの中心と第３色電極１２０Ｃｂの中心の中間位置に位置する。
【0080】
図７に示すように、上述した第１電極配列１５１は、上述した第３電極配列１５３と、素子第２方向Ｇ２においてずれていてもよい。上述した第２電極配列１５２は、上述した第４電極配列１５４と、素子第１方向Ｇ１においてずれていてもよい。上述した第５電極配列１５５は、上述した第７電極配列１５７と、素子第２方向Ｇ２においてずれていてもよい。上述した第６電極配列１５６は、上述した第８電極配列１５８と、素子第１方向Ｇ１においてずれていてもよい。
【0081】
【0082】
図３及び図４に示す有機層１３０は、有機材料を含む。有機層１３０に通電されると、有機層１３０は、何らかの機能を発揮できる。通電とは、有機層１３０に電圧が印加されること、又は有機層１３０に電流が流れることを意味する。有機層１３０には、通電によって光を放出する発光層、又は通電によって光の透過率若しくは屈折率が変化する層等であってもよい。有機層１３０は、有機半導体材料を含んでいてもよい。
【0083】
図３及び図４に示すように、有機層１３０は、第１色有機層１３０Ａと、第２色有機層１３０Ｂと、第３色有機層１３０Ｃと、を含んでいてもよい。各色有機層１３０Ａ～１３０Ｃは、本実施形態による蒸着マスク２０を用いる蒸着法によって形成されてもよい。例えば、第１色有機層１３０Ａは、第１色電極１２０Ａ上に位置していてもよく、赤色発光層であってもよい。例えば、第２色有機層１３０Ｂは、第２色電極１２０Ｂ上に位置していてもよく、青色発光層であってもよい。例えば、第３色有機層１３０Ｃは、第３色電極１２０Ｃ上に位置していてもよく、緑色発光層であってもよい。例えば、第１色有機層１３０Ａの形成に用いられるマスクの貫通孔は、第１色有機層１３０Ａのパターンに対応するように形成されていてもよい。第２色有機層１３０Ｂの形成に用いられるマスクの貫通孔は、第２色有機層１３０Ｂのパターンに対応するように形成されていてもよい。第３色有機層１３０Ｃの形成に用いられるマスクの貫通孔は、第３色有機層１３０Ｃのパターンに対応するように形成されていてもよい。本明細書の説明において、有機層の構成のうち、第１色有機層１３０Ａ、第２色有機層１３０Ｂ及び第３色有機層１３０Ｃに共通する構成を説明する場合には、「有機層１３０」という用語及び符号を用いる。
【0084】
【0085】
図３及び図４に示すように、第２電極１４０は、第１色有機層１３０Ａ、第２色有機層１３０Ｂ及び第３色有機層１３０Ｃに平面視で重なっていてもよい。第２電極１４０は、第１色有機層１３０Ａ、第２色有機層１３０Ｂ及び第３色有機層１３０Ｃに跨がるように形成されていてもよい。第２電極１４０は、有機層１３０の全体に、連続状に形成されていてもよい。しかしながら、このことに限られることはなく、第２電極１４０は、各素子１１５Ａ、１１５Ｂ、１１５Ｃに対応するようにパターン状に形成されていてもよい。この場合、第２電極１４０は、複数の層を含んでいてもよい。第２電極１４０の各層は、第１色有機層１３０Ａ、第２色有機層１３０Ｂ及び第３色有機層１３０Ｃの少なくとも１つに平面視で重なるようにパターン状に形成され、第２電極１４０の層同士が、部分的に重なっていてもよい。
【0086】
上述した第１素子１１５Ａは、第１色電極１２０Ａ、第１色有機層１３０Ａ及び第２電極１４０を含んでいてもよい。第２電極１４０が、各素子１１５Ａ、１１５Ｂ、１１５Ｃに対応するようにパターン状に形成されている場合、第２電極１４０のうち第１色有機層１３０Ａ上に位置する層が、第１素子１１５Ａを構成してもよい。第２素子１１５Ｂは、第２色電極１２０Ｂ、第２色有機層１３０Ｂ及び第２電極１４０を含んでいてもよい。第２電極１４０が、各素子１１５Ａ、１１５Ｂ、１１５Ｃに対応するようにパターン状に形成されている場合、第２電極１４０のうち第２色有機層１３０Ｂ上に位置する層が、第２素子１１５Ｂを構成してもよい。第３素子１１５Ｃは、第３色電極１２０Ｃ、第３色有機層１３０Ｃ及び第２電極１４０を含んでいてもよい。第２電極１４０が、各素子１１５Ａ、１１５Ｂ、１１５Ｃに対応するようにパターン状に形成されている場合、第２電極１４０のうち第３色有機層１３０Ｃ上に位置する層が、第３素子１１５Ｃを構成してもよい。第１素子１１５Ａ、第２素子１１５Ｂ及び第３素子１１５Ｃはそれぞれ、サブ画素である。１つの第１素子１１５Ａと、１つの第２素子１１５Ｂと、２つの第３素子１１５Ｃの組み合わせによって、１つの画素が構成されてもよい。
【0087】
第１電極１２０と第２電極１４０との間に電圧を印加すると、両者の間に位置する有機層１３０が駆動される。有機層１３０が発光層である場合、有機層１３０から光が放出され、光が第２電極１４０を通って外部へ、又は第１電極１２０を通って外部へ取り出される。
【0088】
有機層１３０が、通電によって光を放出する発光層である場合、有機層１３０は、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層などを含んでいてもよい。
【0089】
例えば、第１電極１２０が陽極である場合、有機層１３０は、発光層と第１電極１２０との間に正孔注入輸送層を有していてもよい。正孔注入輸送層は、正孔注入機能を有する正孔注入層であってもよい。あるいは、正孔注入輸送層は、正孔輸送機能を有する正孔輸送層であってもよく、又は正孔注入機能及び正孔輸送機能の両機能を有していてもよい。正孔注入輸送層は、正孔注入層及び正孔輸送層が積層された構成を有していてもよい。
【0090】
第２電極１４０が陰極である場合、有機層１３０は、発光層と第２電極１４０との間に電子注入輸送層を有していてもよい。電子注入輸送層は、電子注入機能を有する電子注入層であってもよい。あるいは、電子注入輸送層は、電子輸送機能を有する電子輸送層であってもよく、又は電子注入機能及び電子輸送機能の両機能を有していてもよい。電子注入輸送層は、電子注入層及び電子輸送層が積層された構成を有していてもよい。
【0091】
第１電極１２０は、導電性を有する材料を含む。例えば、第１電極１２０は、金属、導電性を有する金属酸化物、又はその他の導電性を有する無機材料等を含んでいてもよい。第１電極１２０は、インジウム・スズ酸化物等の、光透過性及び導電性を有する金属酸化物を含んでいてもよい。第１電極１２０を構成する材料としては、ＩＴＯと称される酸化インジウム錫、ＩＺＯと称される参加インジウム亜鉛等を用いてもよい。
【0092】
有機層１３０が発光層である場合、有機層１３０は、発光材料を含む。発光層は、レベリング性を良くする添加剤を含んでいてもよい。発光材料には、公知の材料を用いてもよい。例えば、発光材料には、色素系材料、金属錯体系材料、又は高分子系材料を用いてもよい。
【0093】
第２電極１４０は、金属などの、導電性を有する材料を含む。第２電極１４０は、有機層１３０の上に形成されてもよい。第２電極１４０を構成する材料には、白金、金、銀、銅、鉄、錫、クロム、アルミニウム、インジウム、リチウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、クロム、又は炭素等が用いられてもよい。これらの導電性材料は、単独で用いられてもよく、又は２種類以上の材料を組み合わせて用いられてもよい。２種類以上の材料を用いる場合には、各材料からなる層が積層されてもよい。導電性材料に、２種類以上の材料を含む合金が用いられてもよい。例えば、導電性材料に、ＭｇＡｇ等のマグネシウム合金、ＡｌＬｉ、ＡｌＣａ、ＡｌＭｇ等のアルミニウム合金、アルカリ金属類又はアルカリ土類金属類の合金等が用いられてもよい。第２電極１４０を構成する材料としては、ＩＴＯと称される酸化インジウム錫、ＩＺＯと称される酸化インジウム亜鉛等を用いてもよい。
【0094】
有機デバイス１００は、有機層１３０等の基板１１０上の要素を覆う封止層（図示せず）を備えていてもよい。封止層は、有機デバイス１００の外部の水蒸気等が有機デバイス１００の内部に入ることを抑制できる。これにより、有機層１３０等が水分に起因して劣化することを抑制できる。封止層は、例えば有機材料で構成された層を含んでいてもよい。有機材料は、封止層で光の屈折が生じることを抑制するために、有機層１３０と等しい屈折率を有していてもよく、又は有機層１３０に近い屈折率を有していてもよい。有機材料は、例えば、窒化シリコン（ＳｉＮ）等の無機材料で封止されていてもよい。この場合、封止層は、有機材料の層と無機材料の層とが積層された積層構造を有していてもよい。第２電極１４０と封止層との間には、平坦化層（図示せず）が介在されていてもよい。平坦化層は、基板１１０上の要素の凹凸に入り込むことにより、封止層の密着性を向上させるための層であってもよい。
【0095】
平面視における第１電極１２０及び有機層１３０の位置は、高倍率のデジタルマイクロスコープを用いて有機デバイス１００を観察することによって検出される。検出結果に基づいて、第１電極１２０及び有機層１３０の寸法が算出できるとともに、第１電極１２０の上述したピッチが算出できる。基板１１０が、所望の透光性を有している場合、第１電極１２０の各色電極１２０Ａ～１２０Ｃのピッチは、基板１１０を通して観察することによって算出できる。基板１１０が、所望の透光性を有していない場合、各色電極１２０Ａ～１２０Ｃのピッチは、第２電極１４０及び有機層１３０を取り除いた後、第１電極１２０を観察することによって算出できる。
【0096】
【0097】
蒸着装置１０は、蒸着源６と、ヒータ８と、マスク装置４０と、を含んでいてもよい。蒸着装置１０は、蒸着装置１０の内部を真空雰囲気にするための排気手段を含んでいてもよい。蒸着源６は、例えばるつぼである。蒸着源６は、導電性材料などの蒸着材料７を収容する。ヒータ８は、蒸着源６を加熱して、真空雰囲気の下で蒸着材料７を蒸発させる。マスク装置４０は、るつぼ６と対向するよう配置されている。
【0098】
図８に示すように、マスク装置４０は、少なくとも１つのマスク５０と、マスク５０を支持するフレーム４１と、を含んでいてもよい。フレーム４１は、第１フレーム面４１ａと、第２フレーム面４１ｂと、を含んでいてもよい。第１フレーム面４１ａにはマスク５０が固定されていてもよい。第２フレーム面４１ｂは、第１フレーム面４１ａの反対側に位置する。フレーム４１は、フレーム開口４２を含んでいてもよい。フレーム開口４２は、第１フレーム面４１ａから第２フレーム面４１ｂに貫通している。マスク５０は、平面視においてフレーム開口４２を横切るようにフレーム４１に固定されていてもよい。フレーム４１は、第１フレーム面４１ａに沿う方向にマスク５０を引っ張った状態で支持していてもよい。これにより、マスク５０が撓むことを抑制できる。
【0099】
マスク５０としては、後述する第１マスク５０Ａ、第２マスク５０Ｂ又は第３マスク５０Ｃが用いられてもよい。本明細書の説明において、第１マスク５０Ａ、第２マスク５０Ｂ及び第３マスク５０Ｃに共通するマスクの構成を説明する場合には、「マスク５０」という用語及び符号を用いる。この場合、後述する貫通孔又は遮蔽領域などのマスクの構成要素についても同様に、アルファベットが付されていない数字のみの符号であって、「５３」又は「５４」などの数字のみの符号を用いる。一方、第１マスク５０Ａ、第２マスク５０Ｂ及び第３マスク５０Ｃのそれぞれに特有の内容を説明する場合には、数字の後に「Ａ」、「Ｂ」又は「Ｃ」などの対応するアルファベットを付した符号を用いることもある。
【0100】
マスク装置４０のマスク５０は、基板１１０の第１面１１０ａに対向している。マスク５０を用いて蒸着材料７を付着させる対象物が基板１１０である。マスク５０は、複数の貫通孔５３を含む。貫通孔５３は、蒸着源６から飛来した蒸着材料７を通過させる。貫通孔５３を通過した蒸着材料７は、基板１１０の第１面１１０ａに付着する。マスク５０は、第１面５１ａ及び第２面５１ｂを含む。第１面５１ａは、第１面１１０ａに対向している。第２面５１ｂは、第１面５１ａの反対側に位置しており、フレーム４１の第１フレーム面４１ａに対向している。貫通孔５３は、第１面５１ａから第２面５１ｂに貫通している。
【0101】
蒸着装置１０は、基板１１０を保持する基板ホルダ２を含んでいてもよい。基板ホルダ２は、基板１１０の厚み方向において移動可能であってもよい。基板ホルダ２は、基板１１０の第１面１１０ａに沿う方向において移動可能であってもよい。基板ホルダ２は、基板１１０の傾きを変更可能であってもよい。例えば、基板ホルダ２は、基板１１０の外縁を保持する複数のチャックを含んでもよい。各チャックは、基板１１０の厚み方向及び第１面１１０ａに沿う方向において独立に移動可能であってもよい。
【0102】
蒸着装置１０は、マスク装置４０を保持するマスクホルダ３を備えていてもよい。マスクホルダ３は、マスク５０の厚み方向において移動可能であってもよい。マスクホルダ３は、マスク５０の第１面５１ａに沿う方向において移動可能であってもよい。例えば、マスクホルダ３は、フレーム４１の外縁を保持する複数のチャックを含んでいてもよい。各チャックは、マスク５０の厚み方向及び第１面５１ａに沿う方向において独立に移動可能であってもよい。
【0103】
基板ホルダ２及びマスクホルダ３の少なくとも一方を移動させることにより、基板１１０に対するマスク装置４０のマスク５０の位置を調整できる。
【0104】
蒸着装置１０は、冷却板４を含んでいてもよい。冷却板４は、基板１１０の第２面１１０ｂに対向していてもよい。冷却板４は、冷却板４の内部に冷媒を循環させるための流路を有していてもよい。冷却板４は、蒸着工程の際に基板１１０の温度が上昇することを抑制できる。
【0105】
蒸着装置１０は、冷却板４を介して第２面１１０ｂに対向する磁石５を含んでいてもよい。磁石５は、冷却板４に重ねられていてもよい。磁石５は、磁力によってマスク５０を基板１１０に引き寄せる。これにより、マスク５０と基板１１０との間の隙間を低減したり、隙間を無くしたりできる。このことにより、蒸着工程においてシャドーが発生することを抑制できる。このため、第１電極１２０の寸法精度や位置精度を高めることができる。あるいは、磁石５の代わりに、静電気力を利用する静電チャックを用いてマスク５０を基板１１０に引き寄せてもよい。
【0106】
マスク装置４０について説明する。図９は、マスク装置４０を示す平面図である。マスク装置４０は、２つ以上のマスク５０を含んでいてもよい。マスク５０は、例えば溶接によってフレーム４１に固定されていてもよい。
【0107】
フレーム４１は、一対の第１辺４１１と、一対の第２辺４１２と、を含む。フレーム４１は、矩形の輪郭を有していてもよい。第１辺４１１には、張力を加えられた状態のマスク５０が固定されていてもよい。第１辺４１１は、第２辺４１２よりも長くてもよい。一対の第１辺４１１及び一対の第２辺４１２はフレーム開口４２を囲んでいてもよい。
【0108】
フレーム４１を構成する材料としては、後述するマスク５０の材料と同一でもよい。例えば、フレーム４１を構成する材料に、ニッケルを含む鉄合金を用いてもよい。
【0109】
マスク５０について、図９～図１４を用いて説明する。図１０は、マスク５０の一例を拡大して示す平面図である。図１１は、第１マスク５０Ａを含む第１マスク装置４０Ａを示す平面図である。図１２は、第２マスク５０Ｂを含む第２マスク装置４０Ｂを示す平面図であり、図１３は、第３マスク５０Ｃを含む第３マスク装置４０Ｃを示す平面図である。図１４は、マスク５０の断面構造の一例を示す断面図である。
【0110】
図９及び図１０に示すように、マスク５０は、少なくとも１つのセル５２を含む。セル５２は、貫通孔５３及び貫通孔５３の周囲に位置する遮蔽領域５４を含む。セル５２は、複数の貫通孔５３によって構成されている。マスク５０は、２つ以上のセル５２を含んでいてもよい。マスク５０を用いて有機ＥＬ表示装置などの表示装置を作製する場合、１つのセル５２は、１つの有機ＥＬ表示装置の表示領域に、すなわち１つの画面に対応していてもよい。１つのセル５２が複数の表示領域に対応していてもよい。２つのセル５２の間に、遮蔽領域５４が位置していてもよい。図示はしないが、マスク５０は、２つのセル５２の間に位置する貫通孔を含んでいてもよい。
【0111】
セル５２は、例えば、平面視において略四角形、さらに正確には平面視において略矩形の輪郭を有していてもよい。各セル５２は、有機ＥＬ表示装置の表示領域の形状に応じて、様々な形状の輪郭を有していてもよい。例えば各セル５２は、円形の輪郭を有していてもよい。
【0112】
マスク５０は、マスク第３方向Ｄ３及びマスク第４方向Ｄ４を有する。マスク第４方向Ｄ４は、マスク第３方向Ｄ３に交差していてもよく、マスク第３方向Ｄ３に直交していてもよい。マスク第３方向Ｄ３は、素子第１方向Ｇ１及び素子第２方向Ｇ２と４５°の角度をなしていてもよい。マスク第４方向Ｄ４は、素子第１方向Ｇ１及び素子第２方向Ｇ２と４５°の角度をなしていてもよい。マスク第３方向Ｄ３及びマスク第４方向Ｄ４は、マスク５０の外輪郭５０ａに沿う方向であってもよい。マスク第３方向Ｄ３は、図９に示すマスク装置４０において、マスク５０が並ぶ方向であってもよく、マスク５０の幅方向であってもよい。マスク第４方向Ｄ４は、マスク５０の長手方向であってもよい。
【0113】
図１０に示すように、マスク５０は、上述した貫通孔５３及び遮蔽領域５４を含む。貫通孔５３は、マスク第１方向Ｄ１及びマスク第２方向Ｄ２に並んでいる。マスク第１方向Ｄ１は、素子第１方向Ｇ１に沿っており、マスク第２方向Ｄ２は、素子第２方向Ｇ２に沿っている。マスク第１方向Ｄ１及びマスク第２方向Ｄ２は、マスク５０の外輪郭５０ａに対して４５°の角度をなしていてもよく、マスク第３方向Ｄ３及びマスク第４方向Ｄ４に対して４５°の角度をなしていてもよい。
【0114】
以下では、上述した有機デバイス１００の第１電極１２０を蒸着法によって形成するためのマスク５０について説明する。
【0115】
図１０に示すように、第１面５１ａの法線方向に沿ってマスク５０を見た場合、マスク５０は、マスク第１領域Ｍ１及びマスク第２領域Ｍ２を含む。マスク第１領域Ｍ１は、有機デバイス１００の第１表示領域１０１に対応している。マスク第２領域Ｍ２は、有機デバイス１００の第２表示領域１０２に対応している。マスク第２領域Ｍ２は、平面視でマスク第１領域Ｍ１とは異なる位置に位置している。
【0116】
マスク第１領域Ｍ１に複数の貫通孔５３が位置していてもよい。マスク第１領域Ｍ１における複数の貫通孔５３は、パターン状に位置していてもよい。例えば、複数の貫通孔５３は、第１表示領域１０１における第１電極１２０の第１色電極１２０Ａ、第２色電極１２０Ｂ及び第３色電極１２０Ｃのいずれかに対応するように位置していてもよい。
【0117】
マスク第２領域Ｍ２に複数の貫通孔５３が位置していてもよい。マスク第２領域Ｍ２における複数の貫通孔５３は、パターン状に位置していてもよい。例えば、複数の貫通孔５３は、第２表示領域１０２における第１電極１２０の第１色電極１２０Ａ、第２色電極１２０Ｂ及び第３色電極１２０Ｃのいずれかに対応するように位置していてもよい。
【0118】
マスク５０は、アライメントマーク５０Ｍを有していてもよい。アライメントマーク５０Ｍは、例えばマスク５０のセル５２の隅に形成されている。アライメントマーク５０Ｍは、マスク５０を用いる蒸着法によって基板１１０に第１電極１２０を形成する工程において、基板１１０に対するマスク５０の位置合わせのために用いられてもよい。アライメントマーク５０Ｍは、例えば、フレーム開口４２と重なる位置に形成されてもよく、あるいはフレーム４１と重なる位置に形成されてもよい。マスク装置４０を作製する際、マスク５０とフレーム４１の位置合わせのためにアライメントマーク５０Ｍが用いられてもよい。
【0119】
第１電極１２０を形成する後述の第１電極形成工程においては、複数のマスク５０が用いられてもよい。例えば図１１～図１３に示すように、複数のマスク５０は、第１マスク５０Ａ、第２マスク５０Ｂ及び第３マスク５０Ｃを含んでいてもよい。第１マスク５０Ａ、第２マスク５０Ｂ及び第３マスク５０Ｃは、異なるマスク装置４０を構成してもよい。図１１に示すように、第１マスク５０Ａを含むマスク装置４０を第１マスク装置４０Ａとも称する。図１２に示すように、第２マスク５０Ｂを含むマスク装置４０を第２マスク装置４０Ｂとも称する。図１３に示すように、第３マスク５０Ｃを含むマスク装置４０を第３マスク装置４０Ｃとも称する。
【0120】
第１電極形成工程においては、例えば、蒸着装置１０に、図１１に示す第１マスク装置４０Ａが取り付けられて、基板１１０に第１電極１２０の第１色電極１２０Ａが形成される。続いて、蒸着装置１０に、図１２に示す第２マスク装置４０Ｂが取り付けられて、基板１１０に第１電極１２０の第２色電極１２０Ｂが形成される。続いて、蒸着装置１０に、図１３に示す第３マスク装置４０Ｃが取り付けられて、基板１１０に第１電極１２０の第３色電極１２０Ｃが形成される。このように、第１電極形成工程においては、第１マスク５０Ａ、第２マスク５０Ｂ及び第３マスク５０Ｃなどの複数のマスク５０が順に用いられる。有機デバイス１００の第１電極１２０を形成するために用いられる複数のマスク５０を、「マスク群」とも称する。
【0121】
図１４に示すように、マスク５０は、複数の貫通孔５３が形成された金属板５１によって構成されている。貫通孔５３は、第１面５１ａから第２面５１ｂに金属板５１を貫通している。
【0122】
貫通孔５３は、第１凹部５３１及び第２凹部５３２を含んでいてもよい。第１凹部５３１は、第１面５１ａに位置する。第１凹部５３１は、第１面５１ａに凹状に形成されている。第２凹部５３２は、第２面５１ｂに位置する。第２凹部５３２は、第２面５１ｂに凹状に形成されている。第１凹部５３１は、金属板５１の厚み方向において第２凹部５３２に接続されている。
【0123】
平面視において、第２凹部５３２の寸法ｒ２は、第１凹部５３１の寸法ｒ１よりも大きくてもよい。第１凹部５３１は、金属板５１を第１面５１ａからエッチングなどで加工することによって形成されてもよい。第２凹部５３２は、金属板５１を第２面５１ｂからエッチングなどで加工することによって形成されてもよい。第１凹部５３１と第２凹部５３２とは接続部５３３において接続されている。第１面５１ａからの接続部５３３の高さｈは、断面高さとも称される。断面高さは、後述するシャドーの影響要因になり得る。
【0124】
符号５３４は、貫通部を表す。平面視における貫通孔５３の開口面積は、貫通部５３４において最小になる。貫通部５３４は接続部５３３によって画定されてもよい。図１４において、貫通部５３４は、寸法ｒによって示されている。寸法ｒは、寸法ｒ１よりも小さく、寸法ｒ２よりも小さい。
【0125】
マスク５０を用いた蒸着法においては、第２面５１ｂから第１面５１ａへ貫通孔５３の貫通部５３４を蒸着材料７が通過する。通過した蒸着材料７が基板１１０に付着することによって、基板１１０に上述の第１電極１２０が形成される、より具体的には、基板１１０に上述の第１色電極１２０Ａ、第２色電極１２０Ｂ及び第３色電極１２０Ｃ等の層が形成される。基板１１０に形成される各色電極１２０Ａ～１２０Ｃの平面輪郭は、主として、貫通部５３４の平面輪郭によって画定される。
【0126】
貫通孔５３は、平面視において、略円形状の輪郭若しくは略楕円形状の輪郭を有していてもよく、又は略多角形状の輪郭を有していてもよい。例えば、貫通孔５３は、略四角形状、略六角形状又は略八角形状の輪郭を有していてもよい。貫通孔５３は、マスク５０の厚み方向において、相似形状で形成されていてもよい。図１５～図１７に示す例においては、貫通孔５３は、上述した第１色電極１２０Ａ、第２色電極１２０Ｂ及び第３色電極１２０Ｃと同様に、略円形状の輪郭を有している。後述する第２貫通孔５３Ｂの直径は、第１貫通孔５３Ａの直径よりも大きくてもよい。第３貫通孔５３Ｃの直径は、第１貫通孔５３Ａの直径よりも小さくてもよい。
【0127】
貫通部５３４以外の金属板５１の領域は、上述した遮蔽領域５４である。遮蔽領域５４は、基板１１０に向かう蒸着材料７を遮蔽することができる。
【0128】
マスク第２領域Ｍ２の遮蔽領域５４は、金属板５１を貫通しない凹部を含んでいてもよい。マスク第２領域Ｍ２に凹部を設けることにより、マスク第２領域Ｍ２の剛性を低下させることができる。これにより、マスク第２領域Ｍ２の剛性とマスク第１領域Ｍ１の剛性との間の差を低減できる。このため、剛性の差に起因してマスク５０に皺が生じることを抑制できる。皺は、例えば、マスク５０に張力を加える時に生じやすい。
【0129】
マスク５０の厚みＴは、例えば、５μｍ以上でもよく、１０μｍ以上でもよく、１５μｍ以上でもよく、２０μｍ以上でもよい。マスク５０の厚みＴは、例えば、２５μｍ以下でもよく、３０μｍ以下でもよく、５０μｍ以下でもよく、１００μｍ以下でもよい。マスク５０の厚みＴの範囲は、５μｍ、１０μｍ、１５μｍ及び２０μｍからなる第１グループ、及び／又は、２５μｍ、３０μｍ、５０μｍ及び１００μｍからなる第２グループによって定められてもよい。マスク５０の厚みＴの範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。マスク５０の厚みＴの範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。マスク５０の厚みＴの範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、５μｍ以上１００μｍ以下でもよく、５μｍ以上５０μｍ以下でもよく、５μｍ以上３０μｍ以下でもよく、５μｍ以上２５μｍ以下でもよく、５μｍ以上２０μｍ以下でもよく、５μｍ以上１５μｍ以下でもよく、５μｍ以上１０μｍ以下でもよく、１０μｍ以上１００μｍ以下でもよく、１０μｍ以上５０μｍ以下でもよく、１０μｍ以上３０μｍ以下でもよく、１０μｍ以上２５μｍ以下でもよく、１０μｍ以上２０μｍ以下でもよく、１０μｍ以上１５μｍ以下でもよく、１５μｍ以上１００μｍ以下でもよく、１５μｍ以上５０μｍ以下でもよく、１５μｍ以上３０μｍ以下でもよく、１５μｍ以上２５μｍ以下でもよく、１５μｍ以上２０μｍ以下でもよく、２０μｍ以上１００μｍ以下でもよく、２０μｍ以上５０μｍ以下でもよく、２０μｍ以上３０μｍ以下でもよく、２０μｍ以上２５μｍ以下でもよく、２５μｍ以上１００μｍ以下でもよく、２５μｍ以上５０μｍ以下でもよく、２５μｍ以上３０μｍ以下でもよく、３０μｍ以上１００μｍ以下でもよく、３０μｍ以上５０μｍ以下でもよく、５０μｍ以上１００μｍ以下でもよい。
【0130】
マスク５０の厚みＴを測定する方法としては、接触式の測定方法を採用する。接触式の測定方法としては、ボールブッシュガイド式のプランジャーを含む、ハイデンハイン社製の長さゲージHEIDENHAIN-METROの「MT1271」を用いる。
【0131】
貫通孔５３の断面形状は、図１４に示す形状には限られることはない。貫通孔５３の形成方法は、エッチングに限られることはなく、様々な方法を採用可能である。例えば、貫通孔５３が形成されるようにめっきを行うことによってマスク５０を形成してもよい。
【0132】
マスク５０を構成する材料としては、例えば、ニッケルを含む鉄合金を用いることができる。鉄合金は、ニッケルに加えてコバルトを更に含んでいてもよい。例えば、マスク５０の材料として、ニッケル及びコバルトの含有量が合計で３０質量％以上且つ５４質量％以下であり、且つコバルトの含有量が０質量％以上且つ６質量％以下である鉄合金を用いてもよい。ニッケル若しくはニッケル及びコバルトを含む鉄合金としては、３４質量％以上且つ３８質量％以下のニッケルを含むインバー材、３０質量％以上且つ３４質量％以下のニッケルに加えてさらにコバルトを含むスーパーインバー材、又は３８質量％以上且つ５４質量％以下のニッケルを含む低熱膨張Ｆｅ－Ｎｉ系めっき合金等を用いてもよい。このような鉄合金を用いることにより、マスク５０の熱膨張係数を低くすることができる。例えば、基板１１０としてガラス基板が用いられる場合に、マスク５０の熱膨張係数を、ガラス基板と同等の低い値にすることができる。これにより、蒸着工程の際、基板１１０に形成される蒸着層の寸法精度及び位置精度がマスク５０と基板１１０との間の熱膨張係数の差に起因して低下することを抑制できる。
【0133】
マスク群５６について説明する。マスク群５６は、２つ以上のマスク５０を含む。本実施形態においては、マスク群５６は、上述した第１マスク５０Ａ、第２マスク５０Ｂ及び第３マスク５０Ｃを含んでいてもよい。第１マスク５０Ａ、第２マスク５０Ｂ及び第３マスク５０Ｃを重ねることにより得られる積層体を、マスク積層体５５とも称する。
【0134】
【0135】
図１５に示すように、第１マスク５０Ａは、第１貫通孔５３Ａ及び第１遮蔽領域５４Ａを含む。マスク第１領域Ｍ１及びマスク第２領域Ｍ２のそれぞれにおいて、第１貫通孔５３Ａは、第１電極１２０の第１色電極１２０Ａに対応する位置に位置している。
【0136】
図１５並びに後述する図１６～図２０に示す貫通孔５３の輪郭は、マスク５０Ａ～５０Ｃの第１面５１ａにおける貫通孔５３Ａ～５３Ｃの輪郭である。第１面５１ａにおける貫通孔５３Ａ～５３Ｃの輪郭は、第１面５１ａにおける第１凹部５３１の輪郭に相当する。
【0137】
図１５に示すように、マスク第１領域Ｍ１及びマスク第２領域Ｍ２のそれぞれにおいて、第１貫通孔５３Ａは、マスク第１方向Ｄ１に沿って並んでいてもよく、マスク第２方向Ｄ２に沿って並んでいてもよい。
【0138】
マスク第２領域Ｍ２に位置する第１貫通孔５３Ａは、マスク第１方向Ｄ１に沿う後述の第１孔配列６１に沿って並んでいてもよい。マスク第２領域Ｍ２に位置する第１貫通孔５３Ａは、マスク第２方向Ｄ２に沿う後述の第２孔配列６２に沿って並んでいてもよい。マスク第１領域Ｍ１に位置する第１貫通孔５３Ａは、マスク第１方向Ｄ１に沿う後述の第３孔配列６３に沿って並んでいてもよい。マスク第１領域Ｍ１に位置する第１貫通孔５３Ａは、マスク第２方向Ｄ２に沿う後述の第４孔配列６４に沿って並んでいてもよい。
【0139】
マスク第１方向Ｄ１に沿う第１貫通孔５３Ａのピッチは、上述した第１色電極１２０Ａと同様に、第１ピッチＰ１であってもよい。マスク第２方向Ｄ２に沿う第１貫通孔５３Ａのピッチは、第１ピッチＰ１であってもよい。マスク第１領域Ｍ１に位置する第１貫通孔５３Ａは、マスク第１方向Ｄ１及びマスク第２方向Ｄ２のそれぞれに沿って、等間隔で並んでいてもよい。マスク第２領域Ｍ２に位置する第１貫通孔５３Ａは、マスク第１方向Ｄ１及びマスク第２方向Ｄ２のそれぞれに沿って、等間隔で並んでいてもよい。
【0140】
【0141】
図１６に示すように、第２マスク５０Ｂは、第２貫通孔５３Ｂ及び第２遮蔽領域５４Ｂを含む。マスク第１領域Ｍ１及びマスク第２領域Ｍ２のそれぞれにおいて、第２貫通孔５３Ｂは、第１電極１２０の第２色電極１２０Ｂに対応する位置に位置している。
【0142】
図１６に示すように、マスク第１領域Ｍ１及びマスク第２領域Ｍ２のそれぞれにおいて、第２貫通孔５３Ｂは、マスク第１方向Ｄ１に沿って並んでいてもよく、マスク第２方向Ｄ２に沿って並んでいてもよい。
【0143】
マスク第２領域Ｍ２に位置する第２貫通孔５３Ｂは、マスク第１方向Ｄ１に沿う後述の第５孔配列６５に沿って並んでいてもよい。マスク第２領域Ｍ２に位置する第２貫通孔５３Ｂは、マスク第２方向Ｄ２に沿う後述の第６孔配列６６に沿って並んでいてもよい。マスク第１領域Ｍ１に位置する第２貫通孔５３Ｂは、マスク第１方向Ｄ１に沿う後述の第７孔配列６７に沿って並んでいてもよい。マスク第１領域Ｍ１に位置する第２貫通孔５３Ｂは、マスク第２方向Ｄ２に沿う後述の第８孔配列６８に沿って並んでいてもよい。
【0144】
マスク第１方向Ｄ１に沿う第２貫通孔５３Ｂのピッチは、上述した第２色電極１２０Ｂと同様に、第１ピッチＰ１であってもよく、第１貫通孔５３Ａのピッチと等しくてもよい。マスク第２方向Ｄ２に沿う第２貫通孔５３Ｂのピッチは、第１ピッチＰ１であってもよく、第１貫通孔５３Ａのピッチと等しくてもよい。マスク第１領域Ｍ１に位置する第２貫通孔５３Ｂは、マスク第１方向Ｄ１及びマスク第２方向Ｄ２のそれぞれに沿って、等間隔で並んでいてもよい。マスク第２領域Ｍ２に位置する第２貫通孔５３Ｂは、マスク第１方向Ｄ１及びマスク第２方向Ｄ２のそれぞれに沿って、等間隔で並んでいてもよい。
【0145】
【0146】
図１７に示すように、第３マスク５０Ｃは、第３貫通孔５３Ｃ及び第３遮蔽領域５４Ｃを含む。マスク第１領域Ｍ１及びマスク第２領域Ｍ２のそれぞれにおいて、第３貫通孔５３Ｃは、第１電極１２０の第３色電極１２０Ｃに対応する位置に位置している。
【0147】
後述する１つの貫通孔群５３Ｇを構成する２つの第３貫通孔５３Ｃは、１つの第３貫通孔５３Ｃａと、１つの第３貫通孔５３Ｃｂと、を含んでいてもよい。第３貫通孔５３Ｃａは、第１電極１２０の第３色電極１２０Ｃａに対応する位置に位置しており、第３貫通孔５３Ｃｂは、第１電極１２０の第３色電極１２０Ｃｂに対応する位置に位置している。本明細書の説明において、第３貫通孔５３Ｃの構成のうち、第３貫通孔５３Ｃａ及び第３貫通孔５３Ｃｂに共通する構成を説明する場合には、「第３貫通孔５３Ｃ」という用語及び符号を用いる。
【0148】
図１７に示すように、マスク第１領域Ｍ１及びマスク第２領域Ｍ２のそれぞれにおいて、第３貫通孔５３Ｃは、マスク第１方向Ｄ１に沿って並んでいてもよく、マスク第２方向Ｄ２に沿って並んでいてもよい。
【0149】
マスク第２領域Ｍ２に位置する第３貫通孔５３Ｃａは、マスク第１方向Ｄ１に沿う後述の第１孔配列６１に沿って並んでいてもよい。マスク第２領域Ｍ２に位置する第３貫通孔５３Ｃｂは、マスク第２方向Ｄ２に沿う後述の第２孔配列６２に沿って並んでいてもよい。マスク第２領域Ｍ２に位置する第３貫通孔５３Ｃｂは、マスク第１方向Ｄ１に沿う後述の第５孔配列６５に沿って並んでいてもよい。マスク第２領域Ｍ２に位置する第３貫通孔５３Ｃａは、マスク第２方向Ｄ２に沿う後述の第６孔配列６６に沿って並んでいてもよい。
【0150】
マスク第１領域Ｍ１に位置する第３貫通孔５３Ｃａは、マスク第１方向Ｄ１に沿う後述の第３孔配列６３に沿って並んでいてもよい。マスク第１領域Ｍ１に位置する第３貫通孔５３Ｃｂは、マスク第２方向Ｄ２に沿う後述の第４孔配列６４に沿って並んでいてもよい。マスク第１領域Ｍ１に位置する第３貫通孔５３Ｃｂは、マスク第１方向Ｄ１に沿う後述の第７孔配列６７に沿って並んでいてもよい。マスク第１領域Ｍ１に位置する第３貫通孔５３Ｃａは、マスク第２方向Ｄ２に沿う後述の第８孔配列６８に沿って並んでいてもよい。
【0151】
マスク第１方向Ｄ１に沿う第３貫通孔５３Ｃａのピッチは、上述した第３色電極１２０Ｃａと同様に、第１ピッチＰ１であってもよく、第１貫通孔５３Ａのピッチと等しくてもよい。マスク第１方向Ｄ１に沿う第３貫通孔５３Ｃｂのピッチは、第１ピッチＰ１であってもよく、第１貫通孔５３Ａのピッチと等しくてもよい。マスク第２方向Ｄ２に沿う第３貫通孔５３Ｃａのピッチは、第１ピッチＰ１であってもよく、第１貫通孔５３Ａのピッチと等しくてもよい。マスク第２方向Ｄ２に沿う第３貫通孔５３Ｃｂのピッチは、第１ピッチＰ１であってもよく、第１貫通孔５３Ａのピッチと等しくてもよい。
【0152】
マスク第１領域Ｍ１に位置する第３貫通孔５３Ｃａは、マスク第１方向Ｄ１及びマスク第２方向Ｄ２のそれぞれに沿って、等間隔で並んでいてもよい。マスク第１領域Ｍ１に位置する第３貫通孔５３Ｃｂは、マスク第１方向Ｄ１及びマスク第２方向Ｄ２のそれぞれに沿って、等間隔で並んでいてもよい。マスク第２領域Ｍ２に位置する第３貫通孔５３Ｃａは、マスク第１方向Ｄ１及びマスク第２方向Ｄ２のそれぞれに沿って、等間隔で並んでいてもよい。マスク第２領域Ｍ２に位置する第３貫通孔５３Ｃｂは、マスク第１方向Ｄ１及びマスク第２方向Ｄ２のそれぞれに沿って、等間隔で並んでいてもよい。
【0153】
各マスク５０Ａ～５０Ｃの貫通孔５３Ａ～５３Ｃの形状及び位置を測定する方法について説明する。各マスク５０Ａ～５０Ｃの第１面５１ａにおける貫通孔５３Ａ～５３Ｃの形状及び位置は、第１面５１ａを画像処理することによって測定する。撮影装置を用いて、各マスク５０Ａ～５０Ｃの第１面５１ａを撮像し、第１面５１ａにおける貫通孔５３Ａ～５３Ｃの輪郭に関する画像データを取得する。取得された画像データに基づいて、各貫通孔５３Ａ～５３Ｃの形状及び位置が算出されるとともに、各貫通孔５３Ａ～５３Ｃの上述したピッチが算出される。
【0154】
第１マスク５０Ａ、第２マスク５０Ｂ及び第３マスク５０Ｃの位置関係を、図１８～図２０を用いて説明する。図１８は、マスク第２領域Ｍ２におけるマスク群５６の貫通孔５３を示す拡大平面図である。図１９は、マスク第１領域Ｍ１におけるマスク群５６の貫通孔５３を示す拡大平面図である。図２０は、マスク第１領域Ｍ１及びマスク第２領域Ｍ２におけるマスク群５６の貫通孔５３を示す拡大平面図である。
【0155】
マスク群５６は、マスク積層体５５であってもよく、マスク積層体５５は、重ねられた２つ以上のマスク５０を含む。図１８～図２０に示すマスク積層体５５は、重ねられた第１マスク５０Ａ、第２マスク５０Ｂ及び第３マスク５０Ｃを含む。１つの素子１１５に対応する貫通孔５３の集まりを貫通孔群５３Ｇと称して、以下説明する。１つの貫通孔群５３Ｇは、１つの第１貫通孔５３Ａと、１つの第２貫通孔５３Ｂと、２つの第３貫通孔５３Ｃと、を含む。
【0156】
マスク積層体５５においては、各マスク５０Ａ～５０Ｃのアライメントマーク５０Ｍ（図１１～図１３参照）が重なっていてもよい。あるいは、各マスク５０Ａ～５０Ｃのセル５２の位置に基づいて、各マスク５０Ａ～５０Ｃが重ねられていてもよい。あるいは、各マスク５０Ａ～５０Ｃの貫通孔５３Ａ～５３Ｃ及び遮蔽領域５４Ａ～５４Ｃの位置に基づいて、各マスク５０Ａ～５０Ｃが重ねられていてもよい。各マスク５０Ａ～５０Ｃを重ねる際、各マスク５０Ａ～５０Ｃには張力が加えられていてもよい。
【0157】
２つ以上のマスク５０を重ねた状態を示す図は、各マスク５０の画像データを重ねることによって得られてもよい。例えば、画像処理装置を用いて、上述のようにして取得された各マスク５０Ａ～５０Ｃの第１面５１ａの画像データを重ねる。これにより、図１８～図２０のような図を作製できる。画像データを取得する際、各マスク５０Ａ～５０Ｃには張力が加えられていてもよい。２つ以上のマスク５０を重ねた状態の図は、各マスク５０Ａ～５０Ｃを製造するための設計図面を重ねることによって得られてもよい。
【0158】
図１８及び図１９に示すように、マスク第１領域Ｍ１及びマスク第２領域Ｍ２のそれぞれにおいて、第１貫通孔５３Ａと第３貫通孔５３Ｃは、マスク第１方向Ｄ１に沿って交互に並んでいてもよく、マスク第２方向Ｄ２に沿って交互に並んでいてもよい。
【0159】
図１８に示すように、マスク第２領域Ｍ２に位置する第１貫通孔５３Ａと第３貫通孔５３Ｃａが、マスク第１方向Ｄ１に沿う第１孔配列６１を構成していてもよい。第１孔配列６１は、上述した第１電極配列１５１に対応している。マスク第２領域Ｍ２に、複数の第１孔配列６１が形成されていてもよい。マスク第２領域Ｍ２に位置する第１貫通孔５３Ａと第３貫通孔５３Ｃｂが、マスク第２方向Ｄ２に沿う第２孔配列６２を構成していてもよい。第２孔配列６２は、上述した第２電極配列１５２に対応している。マスク第２領域Ｍ２に、複数の第２孔配列６２が形成されていてもよい。
【0160】
マスク第２領域Ｍ２に位置する第１貫通孔５３Ａと第３貫通孔５３Ｃは、マスク第１方向Ｄ１及びマスク第２方向Ｄ２のそれぞれに沿って、第２ピッチＰ２及び第３ピッチＰ３を繰り返すように並んでいてもよい。上述した第１孔配列６１において１つの貫通孔群５３Ｇを構成する第１貫通孔５３Ａと第３貫通孔５３Ｃａのピッチは、上述した第２ピッチＰ２であってもよい。第１孔配列６１において隣り合う２つの貫通孔群５３Ｇのうちの一方の貫通孔群５３Ｇを構成する第１貫通孔５３Ａと、他方の貫通孔群５３Ｇを構成する第３貫通孔５３Ｃａのピッチは、上述した第３ピッチＰ３であってもよい。上述した第２孔配列６２において１つの貫通孔群５３Ｇを構成する第１貫通孔５３Ａと第３貫通孔５３Ｃｂのピッチは、第２ピッチＰ２であってもよい。第２孔配列６２において隣り合う２つの貫通孔群５３Ｇのうちの一方の貫通孔群５３Ｇを構成する第１貫通孔５３Ａと、他方の貫通孔群５３Ｇを構成する第３貫通孔５３Ｃｂのピッチは、第３ピッチＰ３であってもよい。
【0161】
図１９に示すように、マスク第１領域Ｍ１に位置する第１貫通孔５３Ａと第３貫通孔５３Ｃａが、マスク第１方向Ｄ１に沿う第３孔配列６３を構成していてもよい。第３孔配列６３は、上述した第３電極配列１５３に対応している。マスク第１領域Ｍ１に、複数の第３孔配列６３が形成されていてもよい。マスク第１領域Ｍ１に位置する第１貫通孔５３Ａと第３貫通孔５３Ｃｂが、マスク第２方向Ｄ２に沿う第４孔配列６４を構成していてもよい。第４孔配列６４は、上述した第４電極配列１５４に対応している。マスク第１領域Ｍ１に、複数の第４孔配列６４が形成されていてもよい。
【0162】
マスク第１領域Ｍ１に位置する第１貫通孔５３Ａと第３貫通孔５３Ｃは、マスク第１方向Ｄ１及びマスク第２方向Ｄ２のそれぞれに沿って、第４ピッチＰ４で並んでいてもよい。上述した第３孔配列６３において、第１貫通孔５３Ａと第３貫通孔５３Ｃａのピッチは、第４ピッチＰ４であってもよい。上述した第４孔配列６４において、第１貫通孔５３Ａと第３貫通孔５３Ｃｂのピッチは、第４ピッチＰ４であってもよい。マスク第１領域Ｍ１に位置する第１貫通孔５３Ａと第３貫通孔５３Ｃは、マスク第１方向Ｄ１及びマスク第２方向Ｄ２のそれぞれに沿って、等間隔で並んでいてもよい。
【0163】
図１８及び図１９に示すように、マスク第１領域Ｍ１及びマスク第２領域Ｍ２のそれぞれにおいて、第２貫通孔５３Ｂと第３貫通孔５３Ｃは、マスク第１方向Ｄ１に沿って交互に並んでいてもよく、マスク第２方向Ｄ２に沿って交互に並んでいてもよい。
【0164】
図１８に示すように、マスク第２領域Ｍ２に位置する第２貫通孔５３Ｂと第３貫通孔５３Ｃｂが、マスク第１方向Ｄ１に沿う第５孔配列６５を構成していてもよい。第５孔配列６５は、上述した第５電極配列１５５に対応している。マスク第２領域Ｍ２に、複数の第５孔配列６５が形成されていてもよい。マスク第２領域Ｍ２に位置する第２貫通孔５３Ｂと第３貫通孔５３Ｃａが、マスク第２方向Ｄ２に沿う第６孔配列６６を構成していてもよい。第６孔配列６６は、上述した第６電極配列１５６に対応している。マスク第２領域Ｍ２に、複数の第６孔配列６６が形成されていてもよい。
【0165】
マスク第２領域Ｍ２に位置する第２貫通孔５３Ｂと第３貫通孔５３Ｃは、マスク第１方向Ｄ１及びマスク第２方向Ｄ２のそれぞれに沿って、第２ピッチＰ２及び第３ピッチＰ３を繰り返すように並んでいてもよい。上述した第５孔配列６５において１つの貫通孔群５３Ｇを構成する第２貫通孔５３Ｂと第３貫通孔５３Ｃｂのピッチは、上述した第２ピッチＰ２であってもよい。第５孔配列６５において隣り合う２つの貫通孔群５３Ｇのうちの一方の貫通孔群５３Ｇを構成する第２貫通孔５３Ｂと、他方の貫通孔群５３Ｇを構成する第３貫通孔５３Ｃｂのピッチは、上述した第３ピッチであってもよい。上述した第６孔配列６６において１つの貫通孔群５３Ｇを構成する第２貫通孔５３Ｂと第３貫通孔５３Ｃａのピッチは、第２ピッチＰ２であってもよい。第６孔配列６６において隣り合う２つの貫通孔群５３Ｇのうちの一方の貫通孔群５３Ｇを構成する第２貫通孔５３Ｂと、他方の貫通孔群５３Ｇを構成する第３貫通孔５３Ｃａのピッチは、第３ピッチＰ３であってもよい。
【0166】
図１９に示すように、マスク第１領域Ｍ１に位置する第２貫通孔５３Ｂと第３貫通孔５３Ｃｂが、マスク第１方向Ｄ１に沿う第７孔配列６７を構成していてもよい。第７孔配列６７は、上述した第７電極配列１５７に対応している。マスク第１領域Ｍ１に、複数の第７孔配列６７が形成されていてもよい。マスク第１領域Ｍ１に位置する第２貫通孔５３Ｂと第３貫通孔５３Ｃａが、マスク第２方向Ｄ２に沿う第８孔配列６８を構成していてもよい。第８孔配列６８は、上述した第８電極配列１５８に対応している。マスク第１領域Ｍ１に、複数の第８孔配列６８が形成されていてもよい。
【0167】
マスク第１領域Ｍ１に位置する第２貫通孔５３Ｂと第３貫通孔５３Ｃは、マスク第１方向Ｄ１及びマスク第２方向Ｄ２のそれぞれに沿って、第４ピッチＰ４で並んでいてもよい。上述した第７孔配列６７において、第２貫通孔５３Ｂと第３貫通孔５３Ｃｂのピッチは、第４ピッチＰ４であってもよい。上述した第８孔配列６８において、第２貫通孔５３Ｂと第３貫通孔５３Ｃａのピッチは、第４ピッチＰ４であってもよい。
【0168】
図２０に示すように、マスク第１領域Ｍ１に位置する貫通孔群５３Ｇと、マスク第２領域Ｍ２に位置する貫通孔群５３Ｇは、マスク第１方向Ｄ１に沿って並んでいてもよく、マスク第２方向Ｄ２に沿って並んでいてもよい。より具体的には、マスク第１領域Ｍ１に位置する貫通孔群５３Ｇの中心５３Ｏと、マスク第２領域Ｍ２に位置する貫通孔群５３Ｇの中心５３Ｏが、マスク第１方向Ｄ１に沿って並んでいてもよく、マスク第２方向Ｄ２に沿って並んでいてもよい。マスク第１方向Ｄ１及びマスク第２方向Ｄ２のそれぞれに沿って、マスク第２領域Ｍ２に位置する貫通孔群５３Ｇの中心５３Ｏは、マスク第１領域Ｍ１に位置する貫通孔群５３Ｇの中心５３Ｏの配列の延長上に位置していてもよい。貫通孔群５３Ｇの中心５３Ｏは、第１貫通孔５３Ａの中心と第２貫通孔５３Ｂの中心とを結ぶ線分と、第３貫通孔５３Ｃａの中心と第３貫通孔５３Ｃｂの中心とを結ぶ線分との交点であってもよい。この場合、貫通孔群５３Ｇの中心５３Ｏは、第１貫通孔５３Ａの中心と第２貫通孔５３Ｂの中心の中間位置に位置するとともに、第３貫通孔５３Ｃａの中心と第３貫通孔５３Ｃｂの中心の中間位置に位置する。
【0169】
図２０に示すように、上述した第１孔配列６１は、上述した第３孔配列６３と、マスク第２方向Ｄ２においてずれていてもよい。上述した第２孔配列６２は、上述した第４孔配列６４と、マスク第１方向Ｄ１においてずれていてもよい。上述した第５孔配列６５は、上述した第７孔配列６７と、マスク第２方向Ｄ２においてずれていてもよい。上述した第６孔配列６６は、上述した第８孔配列６８と、マスク第１方向Ｄ１においてずれていてもよい。
【0170】
有機デバイス１００の製造方法の一例について、図２１～図２６を用いて説明する。図２１は、第１電極１２０の第１色電極１２０Ａを形成する工程を説明するための断面図である。図２２は、第１電極１２０の第２色電極１２０Ｂを形成する工程を説明するための断面図であり、図２３は、第１電極１２０の第３色電極１２０Ｃを形成する工程を説明するための断面図である。図２４は、絶縁層形成工程を説明するための断面図である。図２５は、有機層形成工程を説明するための断面図である。図２６は、第２電極形成工程を説明するための断面図である。以下では、第２表示領域１０２の断面図を用いて有機デバイス１００の製造方法について説明するが、第１表示領域１０１においても同様にして有機デバイス１００を製造することができる。
【0171】
まず、基板１１０を準備する。
【0172】
続いて、第１電極形成工程が実施されてもよい。
【0173】
第１電極形成工程においては、上述のマスク群５６を用いて基板１１０上に第１電極１２０が形成される。
【0174】
まず、図２１に示すように、第１マスク５０Ａを用いる蒸着法によって第１電極１２０の第１色電極１２０Ａを形成する工程が実施されてもよい。例えば、第１マスク５０Ａの第1貫通孔５３Ａを介して、金属等の導電性材料等が基板１１０上に蒸着されてもよい。これにより、第１色電極１２０Ａが形成される。
【0175】
続いて、図２２に示すように、第２マスク５０Ｂを用いる蒸着法によって第１電極１２０の第２色電極１２０Ｂを形成する工程が実施されてもよい。例えば、第２マスク５０Ｂの第2貫通孔５３Ｂを介して、金属等の導電性材料等が基板１１０上に蒸着されてもよい。これにより、第２色電極１２０Ｂが形成される。
【0176】
続いて、図２３に示すように、第３マスク５０Ｃを用いる蒸着法によって第２電極１４０の第３色電極１２０Ｃを形成する工程が実施されてもよい。例えば、第３マスク５０Ｃの第3貫通孔５３Ｃを介して、金属等の電電性材料等が基板１１０上に蒸着されてもよい。これにより、第３色電極１２０Ｃが形成される。
【0177】
第１色電極１２０Ａ、第２色電極１２０Ｂ及び第３色電極１２０Ｃを形成する順序は特には限定されない。例えば、第３色電極１２０Ｃ、第２色電極１２０Ｂ及び第１色電極１２０Ａの順に工程が実施されてもよい。
【0178】
続いて、図２４に示すように、絶縁層形成工程が実施されてもよい。絶縁層１６０は、第１電極１２０の各色電極１２０Ａ～１２０Ｃの間に形成される。絶縁層１６０は、各色電極１２０Ａ～１２０Ｃの端部に重なっていてもよい。
【0179】
続いて、図２５に示すように、有機層形成工程が実施されてもよい。第１色有機層１３０Ａ、第２色有機層１３０Ｂ及び第３色有機層１３０Ｃを含む有機層１３０が第１電極１２０上に形成される。第１色有機層１３０Ａは、例えば、第１色有機層１３０Ａに対応する貫通孔を有するマスクを用いる蒸着法によって形成されてもよい。例えば、マスクを介して第１色電極１２０Ａ上に有機材料等を蒸着させることにより、第１色有機層１３０Ａが形成されてもよい。第２色有機層１３０Ｂも、第２色有機層１３０Ｂに対応する貫通孔を有するマスクを用いる蒸着法によって形成されてもよい。第３色有機層１３０Ｃも、第３色有機層１３０Ｃに対応する貫通孔を有するマスクを用いる蒸着法によって形成されてもよい。
【0180】
続いて、図２６に示すように、第２電極形成工程が実施されてもよい。第２電極１４０は、第１色有機層１３０Ａ、第２色有機層１３０Ｂ及び第３色有機層１３０Ｃ上に形成される。第２電極１４０は、有機層１３０の全体に、連続状に形成されてもよい。例えば、マスクを介して有機層１３０上に金属等の導電性材料等が有機層１３０上に蒸着させることにより、第２電極１４０が形成されてもよい。
【0181】
このようにして製造された有機デバイス１００の第２表示領域１０２を透過する光について説明する。
【0182】
第２表示領域１０２において、基板１１０の裏側に光学部品が位置している場合がある。有機デバイス１００に到達した光は、第２表示領域１０２を透過して光学部品に到達する。第２表示領域１０２に、素子１１５がパターン状に形成されており、各素子１１５を構成する第１電極１２０が、パターン状に形成されている。第１電極１２０の周囲に、第１電極１２０が存在しない非電極領域１２１が形成されており、第２表示領域１０２に到達した光は、非電極領域１２１を通過して、光学部品に到達する。
【0183】
第２表示領域１０２を透過する光は、第１電極１２０のパターンに応じて回折する。第１電極１２０の配置の規則性が高い場合、回折光の強度が高まり得る。この場合、光学部品によって生成される画像の鮮明度が低下し得る。例えば、素子第１方向Ｇ１に沿う第１色電極１２０Ａと第３色電極１２０Ｃａのピッチが一定である場合には、素子第１方向Ｇ１に沿う第１色電極１２０Ａと第３色電極１２０Ｃａの配置の規則性が高まり得る。同様に、素子第２方向Ｇ２に沿う第１色電極１２０Ａと第３色電極１２０Ｃｂのピッチが一定である場合には、素子第２方向Ｇ２に沿う第１色電極１２０Ａと第３色電極１２０Ｃｂの配置の規則性が高まり得る。素子第１方向Ｇ１に沿う第２色電極１２０Ｂと第３色電極１２０Ｃｂのピッチが一定である場合には、素子第１方向Ｇ１に沿う第２色電極１２０Ｂと第３色電極１２０Ｃｂの配置の規則性が高まり得る。素子第２方向Ｇ２に沿う第２色電極１２０Ｂと第３色電極１２０Ｃａのピッチが一定である場合には、素子第２方向Ｇ２に沿う第２色電極１２０Ｂと第３色電極１２０Ｃａの配置の規則性が高まる。
【0184】
一方、本実施形態による有機デバイス１００の第２表示領域１０２において、第１電極１２０の配置の規則性は低下し得る。より具体的には、素子第１方向Ｇ１に沿う第１色電極１２０Ａと第３色電極１２０Ｃａのピッチは、第２ピッチＰ２及び第３ピッチＰ３を繰り返すように並んでいる。このことにより、素子第１方向Ｇ１に沿う第１色電極１２０Ａと第３色電極１２０Ｃａの配置の規則性を低下できる。同様に、素子第２方向Ｇ２に沿う第１色電極１２０Ａと第３色電極１２０Ｃｂのピッチは、第２ピッチＰ２及び第３ピッチＰ３を繰り返すように並んでいる。このことにより、素子第２方向Ｇ２に沿う第１色電極１２０Ａと第３色電極１２０Ｃｂの配置の規則性を低下できる。素子第１方向Ｇ１に沿う第２色電極１２０Ｂと第３色電極１２０Ｃｂのピッチは、第２ピッチＰ２及び第３ピッチＰ３を繰り返すように並んでいる。このことにより、素子第１方向Ｇ１に沿う第２色電極１２０Ｂと第３色電極１２０Ｃｂの配置の規則性を低下できる。素子第２方向Ｇ２に沿う第２色電極１２０Ｂと第３色電極１２０Ｃａのピッチは、第２ピッチＰ２及び第３ピッチＰ３を繰り返すように並んでいる。このことにより、素子第２方向Ｇ２に沿う第２色電極１２０Ｂと第３色電極１２０Ｃａの配置の規則性を低下できる。
【0185】
このように本実施形態によれば、第２表示領域１０２に位置する第１電極１２０の第１色電極１２０Ａと第３色電極１２０Ｃは、素子第１方向Ｇ１及び素子第２方向Ｇ２のそれぞれに沿って、第２ピッチＰ２及び第３ピッチＰ３を繰り返すように並んでいる。第２ピッチＰ２は、第３ピッチＰ３と異なっている。このことにより、第１色電極１２０Ａと第３色電極１２０Ｃの配置の規則性を低下でき、第２表示領域１０２を透過する光の回折を弱めることができる。このため、有機デバイス１００を透過する光によって生じる回折光の強度を低減できる。
【0186】
また、本実施形態によれば、第１表示領域１０１及び第２表示領域１０２に位置する第１電極１２０の第１色電極１２０Ａは、素子第１方向Ｇ１及び素子第２方向Ｇ２のそれぞれに沿って第１ピッチＰ１で並んでいる。このことにより、第２表示領域１０２に位置する第１色電極１２０Ａのピッチと、第１表示領域１０１に位置する第１色電極１２０Ａのピッチを、等しくできる。この場合、第２表示領域１０２の画素密度を、第１表示領域１０１の画素密度と等しくできる。このため、第２表示領域１０２の画素密度が低下することを防止でき、第２表示領域１０２から表示される画像の品質を向上できる。
【0187】
また、本実施形態によれば、第１表示領域１０１に位置する第１色電極１２０Ａと第３色電極１２０Ｃは、素子第１方向Ｇ１及び素子第２方向Ｇ２のそれぞれに沿って第４ピッチＰ４で並んでいる。第４ピッチＰ４は、第１ピッチＰ１の半分である。このことにより、第１表示領域１０１に位置する第１色電極１２０Ａと第３色電極１２０Ｃを、素子第１方向Ｇ１及び素子第２方向Ｇ２のそれぞれに沿って等間隔に並べることができる。このため、第１表示領域１０１から表示される画像の品質を向上できる。
【0188】
また、本実施形態によれば、第２表示領域１０２に位置する１つの画素を構成する第１色電極１２０Ａと第３色電極１２０Ｃは、素子第１方向Ｇ１及び素子第２方向Ｇ２のそれぞれに沿って、第２ピッチＰ２で並んでいる。第２ピッチＰ２は、第３ピッチＰ３よりも小さい。このことにより、第２表示領域１０２から表示される画像の品質を向上できる。
【0189】
また、本実施形態によれば、第２表示領域１０２に位置する第１電極１２０の第２色電極１２０Ｂと第３色電極１２０Ｃは、素子第１方向Ｇ１及び素子第２方向Ｇ２のそれぞれに沿って、第２ピッチＰ２及び第３ピッチＰ３を繰り返すように並んでいる。第２ピッチＰ２は、第３ピッチＰ３と異なっている。このことにより、第２色電極１２０Ｂと第３色電極１２０Ｃの配置の規則性を低下でき、第２表示領域１０２を透過する光の回折を弱めることができる。このため、有機デバイス１００を透過する光によって生じる回折光の強度を低減できる。
【0190】
また、本実施形態によれば、第１表示領域１０１及び第２表示領域１０２に位置する第１電極１２０の第２色電極１２０Ｂは、素子第１方向Ｇ１及び素子第２方向Ｇ２のそれぞれに沿って第１ピッチＰ１で並んでいる。このことにより、第２表示領域１０２に位置する第２色電極１２０Ｂのピッチと、第１表示領域１０１に位置する第２色電極１２０Ｂのピッチを、等しくすることができる。この場合、第２表示領域１０２の画素密度を、第１表示領域１０１の画素密度と等しくすることができる。このため、第２表示領域１０２の画素密度が低下することを防止でき、第２表示領域１０２から表示される画像の品質を向上できる。
【0191】
また、本実施形態によれば、第１表示領域１０１に位置する第２色電極１２０Ｂと第３色電極１２０Ｃは、素子第１方向Ｇ１及び素子第２方向Ｇ２のそれぞれに沿って第４ピッチＰ４で並んでいる。第４ピッチＰ４は、第１ピッチＰ１の半分である。このことにより、第１表示領域１０１に位置する第２色電極１２０Ｂと第３色電極１２０Ｃを、素子第１方向Ｇ１及び素子第２方向Ｇ２のそれぞれに沿って等間隔に並べることができる。このため、第１表示領域１０１から表示される画像の品質を向上できる。
【0192】
また、本実施形態によれば、第２表示領域１０２に位置する１つの画素を構成する第２色電極１２０Ｂと第３色電極１２０Ｃは、素子第１方向Ｇ１及び素子第２方向Ｇ２のそれぞれに沿って、第２ピッチＰ２で並んでいる。第２ピッチＰ２は、第３ピッチＰ３よりも小さい。このことにより、第２表示領域１０２から表示される画像の品質を向上できる。
【0193】
また、本実施形態によれば、マスク群５６は、第１貫通孔５３Ａを含む第１マスク５０Ａと、第２貫通孔５３Ｂを含む第２マスク５０Ｂと、第３貫通孔５３Ｃを含む第３マスク５０Ｃと、を備えている。第１貫通孔５３Ａは、第１電極１２０の第１色電極１２０Ａを形成することができる。第２貫通孔５３Ｂは、第１電極１２０の第２色電極１２０Ｂを形成することができ、第３貫通孔５３Ｃは、第１電極１２０の第３色電極１２０Ｃを形成することができる。このことにより、配置の規則性を低下した第１電極１２０を形成できる。このため、回折光の強度を低減できる有機デバイス１００を得ることができる。
【0194】
上述した実施形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、必要に応じて図面を参照しながら、変形例について説明する。本明細書の説明及び本明細書の説明で用いる図面では、上述した実施形態と同様に構成され得る部分について、上述の実施形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。また、上述した実施形態において得られる作用効果が変形例においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。
【0195】
第１変形例について説明する。
【0196】
上述した本実施形態においては、第１表示領域１０１に位置する第１色電極１２０Ａと第３色電極１２０Ｃは、素子第１方向Ｇ１及び素子第２方向Ｇ２のそれぞれに沿って、第４ピッチＰ４で並んでいる例について説明した。しかしながら、本開示は、このことに限られることはない。
【0197】
例えば、第１表示領域１０１に位置する第１色電極１２０Ａと第３色電極１２０Ｃは、第２表示領域１０２に位置する第１色電極１２０Ａと第３色電極１２０Ｃと同様に並んでいてもよい。
【0198】
より具体的には、第１表示領域１０１に位置する第１色電極１２０Ａと第３色電極１２０Ｃは、素子第１方向Ｇ１及び素子第２方向Ｇ２のそれぞれに沿って、第２ピッチＰ２及び第３ピッチＰ３を繰り返すように並んでいてもよい。この場合、有機デバイス１００の製造効率を向上できる。例えば、上述した第３電極配列１５３において１つの素子１１５を構成する第１色電極１２０Ａと第３色電極１２０Ｃａのピッチは、第２ピッチであってもよい。第３電極配列１５３において隣り合う２つの素子１１５のうちの一方の素子１１５を構成する第１色電極１２０Ａと、他方の素子１１５を構成する第３色電極１２０Ｃａのピッチは、第３ピッチＰ３であってもよい。上述した第４電極配列１５４において１つの素子１１５を構成する第１色電極１２０Ａと第３色電極１２０Ｃｂのピッチは、第２ピッチＰ２であってもよい。第４電極配列１５４において隣り合う２つの素子１１５のうちの一方の素子１１５を構成する第１色電極１２０Ａと、他方の素子１１５を構成する第３色電極１２０Ｃｂのピッチは、第３ピッチＰ３であってもよい。
【0199】
第２変形例について説明する。
【0200】
上述した本実施形態においては、第１表示領域１０１に位置する第２色電極１２０Ｂと第３色電極１２０Ｃは、素子第１方向Ｇ１及び素子第２方向Ｇ２のそれぞれに沿って、第４ピッチＰ４で並んでいる例について説明した。しかしながら、本開示は、このことに限られることはない。
【0201】
例えば、第１表示領域１０１に位置する第２色電極１２０Ｂと第３色電極１２０Ｃは、第２表示領域１０２に位置する第２色電極１２０Ｂと第３色電極１２０Ｃと同様に並んでいてもよい。
【0202】
より具体的には、第１表示領域１０１に位置する第２色電極１２０Ｂと第３色電極１２０Ｃは、素子第１方向Ｇ１及び素子第２方向Ｇ２のそれぞれに沿って、第２ピッチＰ２及び第３ピッチＰ３を繰り返すように並んでいてもよい。この場合、有機デバイス１００の製造効率を向上できる。例えば、上述した第７電極配列１５７において１つの素子１１５を構成する第２色電極１２０Ｂと第３色電極１２０Ｃｂのピッチは、第２ピッチであってもよい。第７電極配列１５７において隣り合う２つの素子１１５のうちの一方の素子１１５を構成する第２色電極１２０Ｂと、他方の素子１１５を構成する第３色電極１２０Ｃｂのピッチは、第３ピッチＰ３であってもよい。上述した第８電極配列１５８において１つの素子１１５を構成する第２色電極１２０Ｂと第３色電極１２０Ｃａのピッチは、第２ピッチＰ２であってもよい。第８電極配列１５８において隣り合う２つの素子１１５のうちの一方の素子１１５を構成する第２色電極１２０Ｂと、他方の素子１１５を構成する第３色電極１２０Ｃａのピッチは、第３ピッチＰ３であってもよい。
【0203】
第３変形例について説明する。
【0204】
上述した本実施形態においては、第１表示領域１０１に位置する素子１１５の中心１１５Ｏと、第２表示領域１０２に位置する素子１１５の中心１１５Ｏが、素子第１方向Ｇ１に沿って並ぶとともに、素子第２方向Ｇ２に沿って並ぶ例について説明した。しかしながら、本開示は、このことに限られることはない。
【0205】
例えば、第１表示領域１０１に位置する素子１１５の中心１１５Ｏと、第２表示領域１０２に位置する素子１１５の中心１１５Ｏは、素子第２方向Ｇ２においてずれていてもよい。この場合、上述した第１電極配列１５１が、第３電極配列１５３の延長上に位置していてもよい。より具体的には、第２表示領域１０２に位置する第１色電極１２０Ａ及び第３色電極１２０Ｃａと、第１表示領域１０１に位置する第１色電極１２０Ａ及び第３色電極１２０Ｃａは、素子第１方向Ｇ１に沿って並ぶ。あるいは、第５電極配列１５５が、第７電極配列１５７の延長上に位置していてもよい。より具体的には、第２表示領域１０２に位置する第２色電極１２０Ｂ及び第３色電極１２０Ｃｂと、第１表示領域１０１に位置する第２色電極１２０Ｂ及び第３色電極１２０Ｃｂは、素子第１方向Ｇ１に沿って並ぶ。
【0206】
例えば、第１表示領域１０１に位置する素子１１５の中心１１５Ｏと、第２表示領域１０２に位置する素子１１５の中心１１５Ｏは、素子第１方向Ｇ１においてずれていてもよい。この場合、上述した第２電極配列１５２が、第４電極配列１５４の延長上に位置していてもよい。より具体的には、第２表示領域１０２に位置する第１色電極１２０Ａ及び第３色電極１２０Ｃｂと、第１表示領域１０１に位置する第１色電極１２０Ａ及び第３色電極１２０Ｃｂは、素子第２方向Ｇ２に沿って並ぶ。あるいは、第６電極配列１５６が、第８電極配列１５８の延長上に位置していてもよい。より具体的には、第２表示領域１０２に位置する第２色電極１２０Ｂ及び第３色電極１２０Ｃａと、第１表示領域１０１に位置する第２色電極１２０Ｂ及び第３色電極１２０Ｃａは、素子第２方向Ｇ２に沿って並ぶ。
【0207】
第４変形例について説明する。
【0208】
上述した本実施形態においては、平面視において隣り合う２つの第１電極１２０の間に絶縁層１６０が位置している例について説明した。しかしながら、本開示は、このことに限られることはない。隣り合う２つの各色電極１２０Ａ～１２０Ｃが離間している場合、絶縁層１６０は形成されていなくてもよい。
【0209】
第５変形例について説明する。
【0210】
上述した本実施形態においては、第１色有機層１３０Ａが赤色発光層であり、第２色有機層１３０Ｂが青色発光層である例について説明した。しかしながら、本開示は、このことに限られることはない。第１色有機層１３０Ａが青色発光層であり、第２色有機層１３０Ｂが赤色発光層であってもよい。この場合、第１色電極１２０Ａの直径は、第２色電極１２０Ｂの直径よりも大きくてもよい。
【0211】
上述した実施形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。
【実施例0212】
次に、図２７～図３０を用いて、本開示の実施形態を実施例により更に具体的に説明するが、本開示の実施形態はその要旨を超えない限り、以下の実施例の記載に限定されるものではない。図２７は、回折光の評価方法を示す図である。図２８は、例１における投影パターンの評価結果を示す図である。図２９は、例２における投影パターンの評価結果を示す図であり、図３０は、例３における投影パターンの評価結果を示す図である。
【0213】
例１～例３の第１電極１２０が形成された第２表示領域１０２を透過した光に生じる回折を、シミュレーションにより検証した。
【0214】
図５～図７に示す第１電極１２０を備える有機デバイス１００の第２表示領域１０２を設計した。各例における、第１ピッチＰ１、第２ピッチＰ２及び第３ピッチＰ３の寸法を、以下に示す。また、第３ピッチＰ３に対する第２ピッチＰ２の比率も示す。
（例１）
Ｐ１：８７．８μｍ
Ｐ２：４３．９μｍ
Ｐ３：４３．９μｍ
Ｐ３に対するＰ２の比率：１．００
（例２）
Ｐ１：８７．８μｍ
Ｐ２：３５．４μｍ
Ｐ３：５２．４μｍ
Ｐ３に対するＰ２の比率：０．６８
（例３）
Ｐ１：８７．８μｍ
Ｐ２：２９．５μｍ
Ｐ３：５８．３μｍ
Ｐ３に対するＰ２の比率：０．５１
（例１）
Ｐ１：８７．８μｍ
Ｐ２：４３．９μｍ
Ｐ３：４３．９μｍ
Ｐ３に対するＰ２の比率：１．００
（例２）
Ｐ１：８７．８μｍ
Ｐ２：３５．４μｍ
Ｐ３：５２．４μｍ
Ｐ３に対するＰ２の比率：０．６８
（例３）
Ｐ１：８７．８μｍ
Ｐ２：２９．５μｍ
Ｐ３：５８．３μｍ
Ｐ３に対するＰ２の比率：０．５１
【0215】
各色電極１２０Ａ～１２０Ｃの平面形状は、円形である。各色電極１２０Ａ～１２０Ｃの直径は、各例で同一であり、以下に示す。
第１色電極１２０Ａの直径：２６．１μｍ
第２色電極１２０Ｂの直径：３２．８μｍ
第３色電極１２０Ｃの直径：２０．７μｍ
第１色電極１２０Ａの直径：２６．１μｍ
第２色電極１２０Ｂの直径：３２．８μｍ
第３色電極１２０Ｃの直径：２０．７μｍ
【0216】
図３及び図４に示す第２電極１４０は、有機層１３０の全体に、連続状に形成されている。シミュレーションのモデルとして、図２７に示すように、第１電極１２０の周囲に位置する非電極領域１２１に、第２電極１４０を模擬した。
【0217】
例１～例３のそれぞれについてシミュレーションを行い、第２表示領域１０２を透過することにより生じた回折光の強度を得た。より具体的には、図２７に示すように、基板１１０の第１面１１０ａの法線方向に沿って光Ｌ１を基板１１０に入射させた。光Ｌ１の波長は、５５０ｎｍであり、光Ｌ１の直径は、３ｍｍである。続いて、非電極領域１２１を通過した光及び第１電極１２０を透過した光に生じる回折をシミュレーションによって算出した。符号Ｌ２は、回折されることなく直進してスクリーン１７０に到達する光を表す。符号Ｐｃは、スクリーン１７０上の光Ｌ２の到達点を表す。符号Ｌ３は、非電極領域１２１を通過することにより生じた回折光を表す。基板１１０の第２面１１０ｂとスクリーン１７０との間の距離は、５０００ｍｍである。
【0218】
各色電極１２０Ａ～１２０Ｃの透過率は、０％である。透過率は、５５０ｎｍの波長を有する光に対する透過率とした。各色電極１２０Ａ～１２０Ｃの透過率は、上述した基板１１０の透過率と同様に測定できる。
【0219】
第２電極１４０の透過率は、３８％に設定した。有機層１３０の透過率は、第２電極１４０の透過率に比べて著しく大きく、無視できる。このため、非電極領域１２１の透過率を、第２電極１４０の透過率に設定した。
【0220】
例１～例３におけるスクリーン１７０に到達する光の投影パターンを図２８～図３０に示す。図２８～図３０においては、光Ｌ２の到達点Ｐｃの周囲に現れる回折光が、ドット状に現れている。より具体的には、到達点Ｐｃに到達した光Ｌ２が、０次の回折光のピークを表している。０次の回折光のピークから離れるに従って、１次の回折光のピーク、２次の回折光のピーク、３次の回折光のピーク、及び４次の回折光のピークが順に現れている。図２８～図３０に示されている各回折光の大きさが大きい程、回折光の強度が強いことを示している。
【0221】
図２８に示す光の投影パターンにおいては、回折光が特定の位置に集中し、回折光の強度が大きいことが分かる。より具体的には、素子第１方向Ｇ１及び素子第２方向Ｇ２において２次の回折光のピークが比較的強く表れている。素子第１方向Ｇ１及び素子第２方向Ｇ２に沿う位置に位置する１次の回折光のピークは、２次の回折光のピークより弱く現れている。１次の回折光の強度と２次の回折光の強度の差が比較的大きい。
【0222】
一方、図２９及び図３０に示す光の投影パターンにおいては、図２８に示す光の投影パターンに比べて、回折光が分散していることが分かる。より具体的には、素子第１方向Ｇ１及び素子第２方向Ｇ２のそれぞれに沿って、１次の回折光の強度と２次の回折光の強度の差が低減されている。このことにより、例２及び例３によれば、例１の場合に比べて、回折光の強度が低減されていると言える。このため、例２及び例３によれば、センサ等の光学部品に入射する回折光の強度を低減できる。
【0223】
図３０に示す光の投影パターンにおいては、図２９に示す光の投影パターンに比べて、回折光がより一層分散していることが分かる。より具体的には、素子第１方向Ｇ１及び素子第２方向Ｇ２において、１次の回折光の強度と２次の回折光の強度の差がより一層低減されている。このため、図５等に示す第２ピッチＰ２と第３ピッチＰ３との差を大きくすることにより、回折光の分散を促進できると言える。
【0224】
例１～例３における回折光の最大強度を以下に示す。最大強度は、０次の回折光の強度に対する１次以降の回折光の強度の割合を示している。例１～例３では、素子第１方向Ｇ１及び素子第２方向Ｇ２における１次以降の回折光の強度が最も高くなっている。
例１：５．２％
例２：３．５％
例３：３．２％
例１：５．２％
例２：３．５％
例３：３．２％
【0225】
このように、例２における回折光の最大強度が、例１における回折光の最大強度よりも小さく、例３における回折光の最大強度が、例２における回折光の最大強度よりも小さいことが分かる。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29】
【図30】
