【図1】
一実施形態に従って、LED光源と、電気的絶縁のための光路を提供するモールディングされたパッケージ構造の内部キャビティにおける拡張された有効接合距離にわたって、横方向に離間される複数のpn接合を有する半導体構造を備える横方向光受容ダイオードセンサとを含む、光絶縁集積回路の側断面図である。
【図2】
LED光源と、パッケージキャビティの凹状表面に形成される反射コーティングを含む横方向光ダイオードセンサとを備える、別の光絶縁IC実施形態の側断面図である。
【図3】
LED光源と横方向光ダイオードセンサとの間に、ガラス又はプラスチック光送信媒体位置を有する、別の光絶縁IC実施形態の側断面図である。
【図4】
横方向多段光起電力(LMSPV)光センサを形成するために、複数のpn接合を個々に含む2つの垂直にスタックされた横方向光ダイオード半導体構造を含む光センサを備える、別の光絶縁IC実施形態の側断面図である。
【図5】
図4の光センサにおける受光の部分的側断面図である。
【図6】
単一の拡張されたpn接合を個々に含む4個の垂直にスタックされた横方向光ダイオード半導体構造を含む光センサを備える、別の光絶縁IC実施形態の側断面図である。
【図7】
図6の光センサにおける受光の部分的側断面図である。
【図8】
放物線収束ミラーを備える赤外線又は近赤外線光源と、単一の拡張されたpn接合を含む光ダイオード半導体構造とを含む、別の例示の絶縁回路の側断面図である。
【図9】
例示の出力電流タップを備える横方向に拡張された接合光ダイオード半導体構造の一例の平面図を含む、光絶縁システムの部分的概略図である。
【図10】
図9の半導体構造における有効接合距離の関数としての、集電されたタップ電流のグラフである。
【図11】
シリコンに対する光子波長の関数としての、例示の吸収深さ曲線のグラフである。
【図12】
LMSPV pvバイアス生成器アレイを含む例示の絶縁された低ドロップアウト(LDO)レギュレータの簡略化された概略図である。
【図13】
LMSPV pvバイアス生成器アレイを含む例示のソリッドステートリレー(SSR)の簡略化された概略図である。
【図14】
LMSPV光センサを含む例示の絶縁されたラッチングSSRの簡略化された概略図である。
【図15】
光ファイバによって接続される光源及びLMSPV光センサを含む細長い絶縁回路の側断面図の部分的概略図である。
【図16】
光ファイバによって接続される光源及びLMSPV光センサを含む細長い絶縁回路の平面断面図の部分的概略図である。
【図17】
光ファイバによって結合される光源IC及びLMSPV光センサを含む光絶縁システムの平面断面図の部分的概略図である。
【図18】
LMSPV光センサと図17のシステムに用いられ得るその他の回路要素との間に形成されるブラックポリマー光障壁を備えるLMSPV光センサを含む例示のLDOレギュレータの平面図の部分的概略図である。
【図19】
ブラックポリマー障壁によって分離される複数のLMSPV光センサチャネルを備える例示のLDOレギュレータの平面図の部分的概略図である。
【図20】
ブラックポリマー障壁によって分離され、LMSPV光センサチャネルの周りに反射材料で充填されるカーブしたトレンチを個々に含む、複数のLMSPV光センサチャネルを備える例示のLDOレギュレータの平面図の部分的概略図である。
【図21】
複数の横方向に離間されるpn接合を形成するために、pドープ領域において複数のnドープ領域を個々に含む、幾つかの例示の相互接続された半導体構造の更なる詳細を示す、例示のLMSPV光センサ半導体構造の平面図の部分的な概略図である。
【図22】
拡張された有効接合距離に沿って配置される複数のpn接合を備える横方向光センサ半導体構造と、光子増倍回路を提供するためのクエンチング回路とを含む例示の光子センサの部分的な概略図である。
【図23】
拡張された有効接合距離に沿って配置される単一のpn接合を備える横方向光センサ半導体構造と、光子増倍回路を提供するためのクエンチング回路とを含む別の例示の光子センサの部分的な概略図である。