(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023183018
(43)【公開日】2023-12-27
(54)【発明の名称】パーソナルケア製品の製造方法及び製造装置
(51)【国際特許分類】
B05D 3/00 20060101AFI20231220BHJP
A61Q 1/00 20060101ALI20231220BHJP
A61Q 19/00 20060101ALI20231220BHJP
A61Q 5/02 20060101ALI20231220BHJP
A61Q 19/10 20060101ALI20231220BHJP
【ＦＩ】
B05D3/00 C
A61Q1/00
A61Q19/00
A61Q5/02
A61Q19/10
【審査請求】未請求
【請求項の数】10
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022096372
(22)【出願日】2022-06-15
(71)【出願人】
【識別番号】000000918
【氏名又は名称】花王株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110003339
【氏名又は名称】弁理士法人南青山国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】茂木 知之
(72)【発明者】
【氏名】平野 喬大
(72)【発明者】
【氏名】夏井 翔平
【テーマコード（参考）】
4C083
4D075
【Ｆターム（参考）】
4C083CC03
4C083CC23
4C083CC25
4C083CC38
4C083FF04
4D075AC06
4D075AC09
4D075AC71
4D075AC78
4D075AC88
4D075BB02X
4D075DA04
4D075DA07
4D075DA08
4D075DB01
4D075DB18
4D075DB20
4D075DB31
4D075DC30
4D075EA05
4D075EA07
4D075EA10
4D075EA15
4D075EC07
4D075EC11
4D075EC13
4D075EC30
(57)【要約】
【課題】磁気浮遊型リニア搬送装置の位置決め精度を高め、目的とする製品を高精度に製造する。
【解決手段】パーソナルケア製品の製造方法は、シャトルの原点位置であるシャトル原点位置を、加工ステーションの座標系の原点位置である加工ステーション原点位置に設定するための、シャトル固有の補正値を算出し、供給ステーションでワークが搭載されたシャトルを、加工ステーションに移動させ、シャトル原点位置を、補正値に基づき加工ステーション原点位置に設定し、加工ステーションにおいてシャトル及び加工ツールの少なくとも一方を他方に対して相対的に移動させて、加工ツールにワークへの加工工程を実行させ、ワークに加工工程が実行された後、シャトルを排出ステーションに移動させる。
【選択図】図４
【解決手段】パーソナルケア製品の製造方法は、シャトルの原点位置であるシャトル原点位置を、加工ステーションの座標系の原点位置である加工ステーション原点位置に設定するための、シャトル固有の補正値を算出し、供給ステーションでワークが搭載されたシャトルを、加工ステーションに移動させ、シャトル原点位置を、補正値に基づき加工ステーション原点位置に設定し、加工ステーションにおいてシャトル及び加工ツールの少なくとも一方を他方に対して相対的に移動させて、加工ツールにワークへの加工工程を実行させ、ワークに加工工程が実行された後、シャトルを排出ステーションに移動させる。
【選択図】図４
【特許請求の範囲】
【請求項1】
人体に適用可能なパーソナルケア製品の製造方法であって、
それぞれ電磁コイルを内蔵する複数のセグメントにより構成され、複数のステーションを有するステージと、
永久磁石を有し、前記パーソナルケア製品の前駆体であるワークを搭載して前記ステージ上を浮遊した状態で移動することで前記ワークを搬送する複数のシャトルと、
を有し、
前記複数のステーションは、
前記ワークが供給される供給ステーションと、
加工ツールにより、前記シャトルに搭載された前記ワークに加工工程が実行される加工ステーションと、
前記ワークが排出される排出ステーションと、を含む
製造装置において、
前記シャトルの原点位置であるシャトル原点位置を、前記加工ステーションの座標系の原点位置である加工ステーション原点位置に設定するための、前記シャトル固有の補正値を算出し、
前記供給ステーションで前記ワークが搭載された前記シャトルを、前記加工ステーションに移動させ、
前記シャトル原点位置を、前記補正値に基づき前記加工ステーション原点位置に設定し、
前記加工ステーションにおいて前記シャトル及び前記加工ツールの少なくとも一方を他方に対して相対的に移動させて、前記加工ツールに前記ワークへの加工工程を実行させ、
前記ワークに前記加工工程が実行された後、前記シャトルを前記排出ステーションに移動させる
製造方法。
それぞれ電磁コイルを内蔵する複数のセグメントにより構成され、複数のステーションを有するステージと、
永久磁石を有し、前記パーソナルケア製品の前駆体であるワークを搭載して前記ステージ上を浮遊した状態で移動することで前記ワークを搬送する複数のシャトルと、
を有し、
前記複数のステーションは、
前記ワークが供給される供給ステーションと、
加工ツールにより、前記シャトルに搭載された前記ワークに加工工程が実行される加工ステーションと、
前記ワークが排出される排出ステーションと、を含む
製造装置において、
前記シャトルの原点位置であるシャトル原点位置を、前記加工ステーションの座標系の原点位置である加工ステーション原点位置に設定するための、前記シャトル固有の補正値を算出し、
前記供給ステーションで前記ワークが搭載された前記シャトルを、前記加工ステーションに移動させ、
前記シャトル原点位置を、前記補正値に基づき前記加工ステーション原点位置に設定し、
前記加工ステーションにおいて前記シャトル及び前記加工ツールの少なくとも一方を他方に対して相対的に移動させて、前記加工ツールに前記ワークへの加工工程を実行させ、
前記ワークに前記加工工程が実行された後、前記シャトルを前記排出ステーションに移動させる
製造方法。
【請求項2】
前記複数のステーションは、複数の前記加工ステーションを含み、
前記補正値を、前記加工ステーション毎に算出し、
前記シャトル原点位置を、前記加工ステーション毎の前記補正値に基づき、前記加工ステーション毎の前記加工ステーション原点位置に設定する
請求項１に記載の製造方法。
前記補正値を、前記加工ステーション毎に算出し、
前記シャトル原点位置を、前記加工ステーション毎の前記補正値に基づき、前記加工ステーション毎の前記加工ステーション原点位置に設定する
請求項１に記載の製造方法。
【請求項3】
前記シャトル及び前記シャトルに搭載された前記ワークの組み合わせに応じて固有の前記補正値を算出する
請求項１又は２に記載の製造方法。
請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項4】
前記複数のステーションは、計測ステーションを含み、
前記計測ステーションに位置する前記シャトルの位置である実際位置を計測し、
前記計測ステーションの基準位置と前記実際位置との誤差に基づき前記補正値を算出する
請求項１乃至３の何れか一項に記載の製造方法。
前記計測ステーションに位置する前記シャトルの位置である実際位置を計測し、
前記計測ステーションの基準位置と前記実際位置との誤差に基づき前記補正値を算出する
請求項１乃至３の何れか一項に記載の製造方法。
【請求項5】
前記計測ステーション及び前記加工ステーションは、同一のセグメントに設けられ、
前記同一のセグメント内の前記計測ステーションで算出された前記補正値に基づき、前記加工ステーションの前記シャトル原点位置を設定する
請求項４に記載の製造方法。
前記同一のセグメント内の前記計測ステーションで算出された前記補正値に基づき、前記加工ステーションの前記シャトル原点位置を設定する
請求項４に記載の製造方法。
【請求項6】
前記補正値は、前記シャトル原点位置のＺ座標値を前記加工ステーション原点位置のＺ座標値に設定するためのＺ座標補正値を含み、
前記Ｚ座標補正値を用いて、前記シャトル原点位置のＺ座標値と前記加工ステーション原点位置のＺ座標値との誤差を、±０．５ｍｍ以内に設定する
請求項１乃至５の何れか一項に記載の製造方法。
前記Ｚ座標補正値を用いて、前記シャトル原点位置のＺ座標値と前記加工ステーション原点位置のＺ座標値との誤差を、±０．５ｍｍ以内に設定する
請求項１乃至５の何れか一項に記載の製造方法。
【請求項7】
前記補正値は、前記シャトル原点位置のＸ座標値及び／又はＹ座標値を前記加工ステーション原点位置のＸ座標値及び／又はＹ座標値に設定するためのＸ座標補正値及び／又はＹ座標補正値を含み、
前記Ｘ座標補正値及び／又はＹ座標補正値を用いて、前記シャトル原点位置のＸ座標値及び／又はＹ座標値と前記加工ステーション原点位置のＸ座標値及び／又はＹ座標値との誤差を、それぞれ±０．５ｍｍ以内に設定する
請求項１乃至５の何れか一項に記載の製造方法。
前記Ｘ座標補正値及び／又はＹ座標補正値を用いて、前記シャトル原点位置のＸ座標値及び／又はＹ座標値と前記加工ステーション原点位置のＸ座標値及び／又はＹ座標値との誤差を、それぞれ±０．５ｍｍ以内に設定する
請求項１乃至５の何れか一項に記載の製造方法。
【請求項8】
前記加工ステーションで実行される前記加工工程は、
前記加工ツールの切削機械及び前記シャトルの少なくとも一方を他方に対して相対的に移動させながら、前記ワークに導入された前記組成物を切削して溝部を形成する工程、及び／又は
流動性を有する前記組成物を前記加工ツールのノズルから前記シャトルに搭載された前記ワークに導入しながら、前記ノズル及び前記シャトルの少なくとも一方を他方に対して相対的に移動させて前記組成物を堆積させる工程
を含む
請求項１乃至７の何れか一項に記載の製造方法。
前記加工ツールの切削機械及び前記シャトルの少なくとも一方を他方に対して相対的に移動させながら、前記ワークに導入された前記組成物を切削して溝部を形成する工程、及び／又は
流動性を有する前記組成物を前記加工ツールのノズルから前記シャトルに搭載された前記ワークに導入しながら、前記ノズル及び前記シャトルの少なくとも一方を他方に対して相対的に移動させて前記組成物を堆積させる工程
を含む
請求項１乃至７の何れか一項に記載の製造方法。
【請求項9】
前記加工工程は、Ｇコードを用いたＮＣプログラムを制御装置が実行することにより実行される
請求項１乃至８の何れか一項に記載の製造方法。
請求項１乃至８の何れか一項に記載の製造方法。
【請求項10】
人体に適用可能なパーソナルケア製品の製造装置であって、
それぞれ電磁コイルを内蔵する複数のセグメントにより構成され、複数のステーションを有するステージと、
永久磁石を有し、前記パーソナルケア製品の前駆体であるワークを搭載して前記ステージ上を浮遊した状態で移動することで前記ワークを搬送する複数のシャトルと、
制御装置と、
を具備し、
前記複数のステーションは、
前記ワークが供給される供給ステーションと、
加工ツールにより、前記シャトルに搭載された前記ワークに加工工程が実行される加工ステーションと、
前記ワークが排出される排出ステーションと、を含み、
前記制御装置は、
前記シャトルの原点位置であるシャトル原点位置を、前記加工ステーションの座標系の原点位置である加工ステーション原点位置に設定するための、前記シャトル固有の補正値を算出し、
前記供給ステーションで前記ワークが搭載された前記シャトルを、前記加工ステーションに移動させ、
前記シャトル原点位置を、前記補正値に基づき前記加工ステーション原点位置に設定し、
前記加工ステーションにおいて前記シャトル及び前記加工ツールの少なくとも一方を他方に対して相対的に移動させて、前記加工ツールに前記ワークへの加工工程を実行させ、
前記ワークに前記加工工程が実行された後、前記シャトルを前記排出ステーションに移動させる
製造装置。
それぞれ電磁コイルを内蔵する複数のセグメントにより構成され、複数のステーションを有するステージと、
永久磁石を有し、前記パーソナルケア製品の前駆体であるワークを搭載して前記ステージ上を浮遊した状態で移動することで前記ワークを搬送する複数のシャトルと、
制御装置と、
を具備し、
前記複数のステーションは、
前記ワークが供給される供給ステーションと、
加工ツールにより、前記シャトルに搭載された前記ワークに加工工程が実行される加工ステーションと、
前記ワークが排出される排出ステーションと、を含み、
前記制御装置は、
前記シャトルの原点位置であるシャトル原点位置を、前記加工ステーションの座標系の原点位置である加工ステーション原点位置に設定するための、前記シャトル固有の補正値を算出し、
前記供給ステーションで前記ワークが搭載された前記シャトルを、前記加工ステーションに移動させ、
前記シャトル原点位置を、前記補正値に基づき前記加工ステーション原点位置に設定し、
前記加工ステーションにおいて前記シャトル及び前記加工ツールの少なくとも一方を他方に対して相対的に移動させて、前記加工ツールに前記ワークへの加工工程を実行させ、
前記ワークに前記加工工程が実行された後、前記シャトルを前記排出ステーションに移動させる
製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、人体に適用可能なパーソナルケア製品の製造方法及び製造装置に関する。
【背景技術】
【0002】
永久磁石で構成される搬送板（シャトル）が電磁コイルを内蔵した机（セグメント）上を浮遊して自在に動き回ることができる、磁気浮遊型リニア搬送が知られている（特許文献１）。コンベア搬送に代表される、一方向にしか搬送できない従来の搬送システムに対して、リニア搬送システムは個々のシャトルが独立して自在にワークを搬送可能であることから、各シャトルが搬送するワークは、それぞれ異なる搬送経路で異なる加工工程を経ることも可能であり、多品種同時生産を可能とする次世代搬送システムとして注目されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特表２０１４－５３１１８９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
磁気浮遊型リニア搬送システムにおけるシャトルには、形状（寸法・厚み）や永久磁石から発せられる磁気に個体差がある為、各シャトルを一律に制御しても、目標とする位置座標（Ｘ，Ｙ，Ｚ）に対してばらつきが生じてしまう。加えて、メカレス機構なので、機械精度並みの搬送精度が得られないこともある。しかし、移動先でワークに施される加工工程の中には、ワークの位置精度が求められるものが少なくない。すると、設計通りの加工をワークに施すことが難しい。また、加工ツールとワークが意図せず接触して破損してしまう可能性もある。
【0005】
以上のような事情に鑑み、磁気浮遊型リニア搬送装置の位置決め精度を高め、目的とする製品を高精度に製造することが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明の一形態に係るパーソナルケア製品の製造方法は、
人体に適用可能なパーソナルケア製品の製造方法であって、
それぞれ電磁コイルを内蔵する複数のセグメントにより構成され、複数のステーションを有するステージと、
永久磁石を有し、前記パーソナルケア製品の前駆体であるワークを搭載して前記ステージ上を浮遊した状態で移動することで前記ワークを搬送する複数のシャトルと、
を有し、
前記複数のステーションは、
前記ワークが供給される供給ステーションと、
加工ツールにより、前記シャトルに搭載された前記ワークに加工工程が実行される加工ステーションと、
前記ワークが排出される排出ステーションと、を含む
製造装置において、
前記シャトルの原点位置であるシャトル原点位置を、前記加工ステーションの座標系の原点位置である加工ステーション原点位置に設定するための、前記シャトル固有の補正値を算出し、
前記供給ステーションで前記ワークが搭載された前記シャトルを、前記加工ステーションに移動させ、
前記シャトル原点位置を、前記補正値に基づき前記加工ステーション原点位置に設定し、
前記加工ステーションにおいて前記シャトル及び前記加工ツールの少なくとも一方を他方に対して相対的に移動させて、前記加工ツールに前記ワークへの加工工程を実行させ、
前記ワークに前記加工工程が実行された後、前記シャトルを前記排出ステーションに移動させる。
人体に適用可能なパーソナルケア製品の製造方法であって、
それぞれ電磁コイルを内蔵する複数のセグメントにより構成され、複数のステーションを有するステージと、
永久磁石を有し、前記パーソナルケア製品の前駆体であるワークを搭載して前記ステージ上を浮遊した状態で移動することで前記ワークを搬送する複数のシャトルと、
を有し、
前記複数のステーションは、
前記ワークが供給される供給ステーションと、
加工ツールにより、前記シャトルに搭載された前記ワークに加工工程が実行される加工ステーションと、
前記ワークが排出される排出ステーションと、を含む
製造装置において、
前記シャトルの原点位置であるシャトル原点位置を、前記加工ステーションの座標系の原点位置である加工ステーション原点位置に設定するための、前記シャトル固有の補正値を算出し、
前記供給ステーションで前記ワークが搭載された前記シャトルを、前記加工ステーションに移動させ、
前記シャトル原点位置を、前記補正値に基づき前記加工ステーション原点位置に設定し、
前記加工ステーションにおいて前記シャトル及び前記加工ツールの少なくとも一方を他方に対して相対的に移動させて、前記加工ツールに前記ワークへの加工工程を実行させ、
前記ワークに前記加工工程が実行された後、前記シャトルを前記排出ステーションに移動させる。
【0007】
本発明の一形態に係るパーソナルケア製品の製造装置は、
人体に適用可能なパーソナルケア製品の製造装置であって、
それぞれ電磁コイルを内蔵する複数のセグメントにより構成され、複数のステーションを有するステージと、
永久磁石を有し、前記パーソナルケア製品の前駆体であるワークを搭載して前記ステージ上を浮遊した状態で移動することで前記ワークを搬送する複数のシャトルと、
制御装置と、
を具備し、
前記複数のステーションは、
前記ワークが供給される供給ステーションと、
加工ツールにより、前記シャトルに搭載された前記ワークに加工工程が実行される加工ステーションと、
前記ワークが排出される排出ステーションと、を含み、
前記制御装置は、
前記シャトルの原点位置であるシャトル原点位置を、前記加工ステーションの座標系の原点位置である加工ステーション原点位置に設定するための、前記シャトル固有の補正値を算出し、
前記供給ステーションで前記ワークが搭載された前記シャトルを、前記加工ステーションに移動させ、
前記シャトル原点位置を、前記補正値に基づき前記加工ステーション原点位置に設定し、
前記加工ステーションにおいて前記シャトル及び前記加工ツールの少なくとも一方を他方に対して相対的に移動させて、前記加工ツールに前記ワークへの加工工程を実行させ、
前記ワークに前記加工工程が実行された後、前記シャトルを前記排出ステーションに移動させる。
人体に適用可能なパーソナルケア製品の製造装置であって、
それぞれ電磁コイルを内蔵する複数のセグメントにより構成され、複数のステーションを有するステージと、
永久磁石を有し、前記パーソナルケア製品の前駆体であるワークを搭載して前記ステージ上を浮遊した状態で移動することで前記ワークを搬送する複数のシャトルと、
制御装置と、
を具備し、
前記複数のステーションは、
前記ワークが供給される供給ステーションと、
加工ツールにより、前記シャトルに搭載された前記ワークに加工工程が実行される加工ステーションと、
前記ワークが排出される排出ステーションと、を含み、
前記制御装置は、
前記シャトルの原点位置であるシャトル原点位置を、前記加工ステーションの座標系の原点位置である加工ステーション原点位置に設定するための、前記シャトル固有の補正値を算出し、
前記供給ステーションで前記ワークが搭載された前記シャトルを、前記加工ステーションに移動させ、
前記シャトル原点位置を、前記補正値に基づき前記加工ステーション原点位置に設定し、
前記加工ステーションにおいて前記シャトル及び前記加工ツールの少なくとも一方を他方に対して相対的に移動させて、前記加工ツールに前記ワークへの加工工程を実行させ、
前記ワークに前記加工工程が実行された後、前記シャトルを前記排出ステーションに移動させる。
【発明の効果】
【0008】
本発明によれば、磁気浮遊型リニア搬送装置の位置決め精度を高め、目的とする製品を高精度に製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
【図1】本発明の一実施形態に係る製造装置を示す。
【図2】複数のステーションを示す。
【図3】補正値を説明するための模式図である。
【図4】製造方法を示すフローチャートである。
【図5】第２の機械の例を示す。
【図6】複数のステーションの別の例を示す。
【発明を実施するための形態】
【0010】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明する。
１．製造装置
本発明の一実施形態に係る製造装置１は、人体に適用可能なパーソナルケア製品７１０の製造装置である。
パーソナルケア製品７１０は、これを皮膚上に直接塗布したり、あるいは水等の液媒に溶解又は分散させた液体を皮膚上に塗布、散布又は滴下等したりすることで、人体に適用可能なものである。
このようなパーソナルケア製品７１０としては、例えば、化粧品、洗浄剤及び入浴剤から選ばれる１又は２以上を含む。
化粧品は、メークアップ化粧品、基礎化粧品、香水及びヘアケア製品等を含む。
洗浄剤はシャンプー、練り石鹸及び固形石鹸等を含む。
メークアップ化粧品は、化粧料粉末等を含むアイシャドウ及びファンデーション、油剤等を含む口紅等の固形化粧品を含む。
パーソナルケア製品７１０は、立体的な成形を可能とする観点から、１気圧、２０℃において固体であることが好ましい。
本実施形態では、製造装置１を用いて製造されるパーソナルケア製品７１０を、化粧料粉末等を含むアイシャドウ又はファンデーション等のパウダー化粧品等の粉体を主成分とする固形のパーソナルケア製品７１０とする。
１．製造装置
本発明の一実施形態に係る製造装置１は、人体に適用可能なパーソナルケア製品７１０の製造装置である。
パーソナルケア製品７１０は、これを皮膚上に直接塗布したり、あるいは水等の液媒に溶解又は分散させた液体を皮膚上に塗布、散布又は滴下等したりすることで、人体に適用可能なものである。
このようなパーソナルケア製品７１０としては、例えば、化粧品、洗浄剤及び入浴剤から選ばれる１又は２以上を含む。
化粧品は、メークアップ化粧品、基礎化粧品、香水及びヘアケア製品等を含む。
洗浄剤はシャンプー、練り石鹸及び固形石鹸等を含む。
メークアップ化粧品は、化粧料粉末等を含むアイシャドウ及びファンデーション、油剤等を含む口紅等の固形化粧品を含む。
パーソナルケア製品７１０は、立体的な成形を可能とする観点から、１気圧、２０℃において固体であることが好ましい。
本実施形態では、製造装置１を用いて製造されるパーソナルケア製品７１０を、化粧料粉末等を含むアイシャドウ又はファンデーション等のパウダー化粧品等の粉体を主成分とする固形のパーソナルケア製品７１０とする。
【0011】
製造装置１は、ワーク７００に、パーソナルケア製品７１０を構成する１又は２以上の組成物を導入することで、パーソナルケア製品７１０を製造する。該組成物は典型的には流動性を有する。
流動性を有する組成物は、液体そのものであるか、液体を含むものであることが好ましい。即ち、本発明において用いられる組成物は、固体のみの形態又は気体のみの形態は除外される。このような組成物としては、例えば、化粧料などの粉体と、液体である分散媒とを含む混合物である分散液（いわゆるスラリー）や、化粧料などの各種の化合物を液体の溶媒に溶解させた溶液、あるいは、化粧料又は油剤の単体又は化粧料を含む組成物を加熱溶融させた溶融液などが挙げられる。
流動性を有する組成物は、液体そのものであるか、液体を含むものであることが好ましい。即ち、本発明において用いられる組成物は、固体のみの形態又は気体のみの形態は除外される。このような組成物としては、例えば、化粧料などの粉体と、液体である分散媒とを含む混合物である分散液（いわゆるスラリー）や、化粧料などの各種の化合物を液体の溶媒に溶解させた溶液、あるいは、化粧料又は油剤の単体又は化粧料を含む組成物を加熱溶融させた溶融液などが挙げられる。
【0012】
製造装置１は、典型的にはステージ１００と、複数のシャトル２００と、制御装置３００とを有する。ステージ１００及び複数のシャトル２００は、リニア搬送システムを構成することが好ましい。製造装置１は、さらに、マニピュレータロボット４００と、第１の機械５００と、第２の機械６００とを有してもよい。これらを備えた例を図１に示す。
【0013】
ステージ１００は典型的には、複数（例えば、８個）のセグメント１０１が組み合わされて構成される。各セグメント１０１は、典型的には物理的に独立した机状のユニットであり、それぞれ電磁コイルを内蔵する。複数のセグメント１０１は、シリアルなライン的ではなく、互いに接続されるように２次元的に配置され、ステージ１００を構成することが好ましい。
【0014】
ステージ１００は、複数のステーション１１０～１１９を有することが好ましい。複数のステーション１１０～１１９は、ステージ１００を役割に応じて仮想的に分割した複数のエリアである。それぞれのステーション１１０～１１９は、それぞれのセグメント１０１内に配置されてもよいし、隣接するセグメント１０１に跨って配置されてもよい。それぞれのセグメント１０１に複数（例えば、２～４個）のステーションが配置されてもよいし、１個のステーションが配置されてもよい。それぞれのステーション１１０～１１９のサイズは、シャトル２００のサイズ以上でよい。この配置の一例を図２に示す。
【0015】
各シャトル２００は、典型的には永久磁石を含む。ステージ１００の電磁コイルのオンオフ及び電流値が制御装置３００により制御された状態で、シャトル２００はステージ１００から浮上してステージ１００を浮遊し、ステージ１００を２次元的に移動する。シャトル２００は、ワーク７００を搭載して複数のステーション１１０～１１９間を移動することで、ステージ１００上でワーク７００を搬送する。シャトル２００は、搭載されたワーク７００を位置決めするための治具２１０（図３）を有してもよい。なお、シャトル２００について「ステージ１００上」等と記載するとき、シャトル２００はステージ１００に接触せず、ステージ１００から僅かな空間を空けて浮上した状態であることを意味する。
【0016】
ワーク７００は、典型的には、金皿や樹脂製の皿に、パーソナルケア製品７１０を構成する第１の組成物により構成される基材が充填されてなる。基材は、例えば、プレストパウダー、即ち、粉体を圧縮した打型品、例えばファンデーションである。皿は、金皿や樹脂製の皿に代えて、パーソナルケア製品７１０を構成する１又は２以上の組成物を導入可能であれば、紙、フィルム又は不織布等により製造されてもよい。
【0017】
ワーク７００をステージ１００上のシャトル２００に供給し、ステージ１００上のシャトル２００から排出するために、典型的にはマニピュレータロボット４００を用いる。１個のマニピュレータロボット４００がワーク７００を供給及び排出してもよい。あるいは、１個のマニピュレータロボット４００がワーク７００を供給し、別のマニピュレータロボット４００がワーク７００を排出してもよい。
【0018】
第１の機械５００は、ワーク７００がシャトル２００に搭載された状態で、ワーク７００に第１の加工工程を実行する。第２の機械６００は、ワーク７００がシャトル２００に搭載された状態で、ワーク７００に第２の加工工程を実行する。典型的には、第１の加工工程及び第２の加工工程は、ワーク７００の基材に加飾を施す作業である。ワーク７００がシャトル２００に搭載された状態で作業するとは、ワーク７００をシャトル２００からＸＹステージ等に載せ替える必要が無いことを意味する。載せ替えやアラインメントを行う装置やこれに掛かる時間が不要となるので、設備が拡大するのを防ぎ、サイクルタイムを短縮することができる。
【0019】
第１の機械５００は、典型的には、ワーク７００に充填された第１の組成物により構成される基材を切削する切削工具（例えば、エンドミル、ドリル、フライス等の加工ツール）を有することが好ましい。第１の機械５００が実行する第１の加工工程は、例えば、溝部形成工程であることが好ましい。溝部形成工程は、切削工具及びシャトル２００の少なくとも一方を他方に対して相対的に移動させながら、切削工具により基材の表面を切削することで、基材の表面に線状の溝部を形成することが好ましい。
【0020】
第２の機械６００は、典型的には、流動性を有する第２の組成物を吐出するノズル（加工ツール）を有するディスペンサであることが好ましい。この工程は所謂３Ｄプリンタと同様である。第２の機械６００が実行する第２の加工工程は、例えば、線状体堆積工程であることが好ましい。線状体堆積工程は、ノズル及びシャトル２００の少なくとも一方を他方に対して相対的に移動させながら、ノズルから流動性を有する第２の組成物を吐出することで、第２の組成物により構成される線状体を、基材に形成された線状の溝部の少なくとも一部に堆積することで、基材を加飾することが好ましい。線状体は、立体的模様を形成する。
【0021】
この様に、本実施形態では、第２の組成物により構成される線状体を、第１の組成物により構成される基材の未切削の平面ではなく、基材を切削して形成した溝部の少なくとも一部の中に堆積することで、線状体が基材から脱落するのを防止し、意匠的な品質を向上する。即ち、本実施形態では、溝部と線状体のデザインは略同じ形状であることが好ましい。
【0022】
第１の組成物と第２の組成物とは、同じものでもよいが、典型的には異なる。第１の組成物と第２の組成物が異なるとは、典型的にはその色が異なる。色が異なるとは、具体的には第１の組成物と第２の組成物の明度、彩度、色相、パール等の配合による色及び質感から選ばれる一又は二以上が異なる。第１の組成物と第２の組成物とは、含有する粒子の粒径や配合成分が異なってもよい。色が異なることで、線状体７３０の視認性や意匠性が向上する。
立体的模様は、例えばひらがな及びカタカナ等の日本語文字、アルファベット、アラビア数字、ローマ数字、諸外国の文字等の各種文字、直線及び曲線並びにこれらの組み合わせからなる図形や幾何学形状、記号、色、模様又はこれらの組み合わせの形状の模様でよい。
立体的模様は、例えばひらがな及びカタカナ等の日本語文字、アルファベット、アラビア数字、ローマ数字、諸外国の文字等の各種文字、直線及び曲線並びにこれらの組み合わせからなる図形や幾何学形状、記号、色、模様又はこれらの組み合わせの形状の模様でよい。
【0023】
制御装置３００は、典型的にはＣＰＵがＲＯＭに記録されたコンピュータプログラムをＲＡＭにロードして実行することにより製造装置１を制御する。ここでいう製造装置とは典型的にはステージ１００、マニピュレータロボット４００、第１の機械５００及び第２の機械６００を含む。制御装置３００は、コンピュータプログラムを実行してステージ１００の電磁コイルのオンオフ及び電流値を制御してシャトル２００を移動させる。
【0024】
制御装置３００は、上記の基本コンピュータプログラムのサブルーチンとしてＧコードを用いたＮＣプログラムに基づき、第１の機械５００及び第２の機械６００を制御することが好ましい。第１の機械５００及び第２の機械６００のオンオフは、Ｇコードにより制御される。制御装置３００は、複数の異なる第１のプログラムの何れかを実行するように第１の機械５００を制御し、複数の異なる第２のプログラムの何れかを実行するように第２の機械６００を制御することができる。例えば、制御装置３００は、異なる第１のプログラム（ＮＣプログラム）に基づき、第１の機械５００に、異なる形状（異なる模様）の溝部を切削加工させることが可能である。制御装置３００は、異なる第２のプログラム（ＮＣプログラム）に基づき、第２の機械６００に、異なる形状（異なる模様）の線状体を堆積させることが可能である。なお、第１の機械５００及び第２の機械６００が固定でシャトル２００が第１の機械５００及び第２の機械６００に対して移動する場合、制御装置３００は、シャトル２００が移動するようにステージ１００を制御する。
【0025】
２．複数のステーション
ステージ１００は、複数のステーション１１０～１１９を有することが好ましい。複数のステーション１１０～１１９は、供給ステーション１１０と、待機ステーション１１１と、第１の計測ステーション１１２と、第１の加工ステーション１１３と、第２の加工ステーション１１４と、第２の計測ステーション１１５と、第２の作業待機ステーション１１６と、複数の排出待機ステーション１１７と、排出ステーション１１８と、供給待機ステーション１１９とを含むことが好ましい。これらを有する一例を図２に示す。
ステージ１００のうち、複数のステーション１１０～１１９以外のエリアは、複数のステーション間の経路として使用される。
ステージ１００は、複数のステーション１１０～１１９を有することが好ましい。複数のステーション１１０～１１９は、供給ステーション１１０と、待機ステーション１１１と、第１の計測ステーション１１２と、第１の加工ステーション１１３と、第２の加工ステーション１１４と、第２の計測ステーション１１５と、第２の作業待機ステーション１１６と、複数の排出待機ステーション１１７と、排出ステーション１１８と、供給待機ステーション１１９とを含むことが好ましい。これらを有する一例を図２に示す。
ステージ１００のうち、複数のステーション１１０～１１９以外のエリアは、複数のステーション間の経路として使用される。
【0026】
複数のステーション１１０～１１９は、シリアルなライン的ではなく、自在に行き来が可能である様に２次元的に配置されることが好ましい。具体的には、第１の加工ステーション１１３と第２の加工ステーション１１４とを結ぶ直線に対して、第１の加工ステーション１１３及び第２の加工ステーション１１４と供給ステーション１１０及び排出ステーション１１８とをそれぞれ結ぶ複数の直線が交差するように、第１の加工ステーション１１３、第２の加工ステーション１１４、供給ステーション１１０及び排出ステーション１１８が２次元に配置されることが好ましい。
【0027】
供給ステーション１１０では、典型的にはマニピュレータロボット４００により、空のシャトル２００にワーク７００が搭載される。ワーク７００には、パーソナルケア製品を構成する第１の組成物が充填され、第１の組成物により構成される基材が形成されている。
待機ステーション１１１では、供給ステーション１１０でワーク７００が搭載されたシャトル２００が、供給ステーション１１０から第１の計測ステーション１１２に移動するために待機する。
第１の計測ステーション１１２では、供給ステーション１１０から出発したワーク７００が搭載されたシャトル２００が、第１の加工ステーション１１３に移動するために待機する。第１の計測ステーション１１２では、光学センサ（レーザ光センサ）、超音波センサ又は赤外線センサ等の距離センサ１１２Ｓ（図３）、若しくは画像センサ、又は光学センサと画像センサの両方を用いて、第１の計測ステーション１１２に位置するシャトル２００の位置（実際位置）（Ｘ，Ｙ，Ｚ）を計測する。
待機ステーション１１１では、供給ステーション１１０でワーク７００が搭載されたシャトル２００が、供給ステーション１１０から第１の計測ステーション１１２に移動するために待機する。
第１の計測ステーション１１２では、供給ステーション１１０から出発したワーク７００が搭載されたシャトル２００が、第１の加工ステーション１１３に移動するために待機する。第１の計測ステーション１１２では、光学センサ（レーザ光センサ）、超音波センサ又は赤外線センサ等の距離センサ１１２Ｓ（図３）、若しくは画像センサ、又は光学センサと画像センサの両方を用いて、第１の計測ステーション１１２に位置するシャトル２００の位置（実際位置）（Ｘ，Ｙ，Ｚ）を計測する。
【0028】
第１の加工ステーション１１３には、典型的には第１の機械５００が設置される。第１の加工ステーション１１３では、ワーク７００がシャトル２００に搭載された状態で、第１の機械５００がワーク７００に第１の加工工程（溝部形成工程）を実行する。
第２の加工ステーション１１４には、典型的には第２の機械６００が設置される。第２の加工ステーション１１４では、ワーク７００がシャトル２００に搭載された状態で、第２の機械６００がワーク７００に第２の加工工程（線状体堆積工程）を実行する。
第２の計測ステーション１１５では、第１の加工ステーション１１３から第２の加工ステーション１１４に移動するシャトル２００が待機する。第２の計測ステーション１１５では、光学センサ（レーザ光センサ）、超音波センサ又は赤外線センサ等の距離センサ１１２Ｓ（図３）、若しくは画像センサ、又は光学センサと画像センサの両方を用いて、第２の計測ステーション１１５に位置するシャトル２００の位置（実際位置）（Ｘ，Ｙ，Ｚ）を計測する。
第２の加工ステーション１１４には、典型的には第２の機械６００が設置される。第２の加工ステーション１１４では、ワーク７００がシャトル２００に搭載された状態で、第２の機械６００がワーク７００に第２の加工工程（線状体堆積工程）を実行する。
第２の計測ステーション１１５では、第１の加工ステーション１１３から第２の加工ステーション１１４に移動するシャトル２００が待機する。第２の計測ステーション１１５では、光学センサ（レーザ光センサ）、超音波センサ又は赤外線センサ等の距離センサ１１２Ｓ（図３）、若しくは画像センサ、又は光学センサと画像センサの両方を用いて、第２の計測ステーション１１５に位置するシャトル２００の位置（実際位置）（Ｘ，Ｙ，Ｚ）を計測する。
【0029】
複数の排出待機ステーション１１７は、連続的に配置された第１の排出待機ステーション１１７Ａと、第２の排出待機ステーション１１７Ｂと、第３の排出待機ステーション１１７Ｃとを含むことが好ましい。排出ステーション１１８の直前に第１の排出待機ステーション１１７Ａが配置される。第１の排出待機ステーション１１７Ａの直前に第２の排出待機ステーション１１７Ｂが配置される。第２の排出待機ステーション１１７Ｂの直前に第３の排出待機ステーション１１７Ｃが配置される。複数の排出待機ステーション１１７は、第１の加工工程（溝部形成工程）及び第２の加工工程（線状体堆積工程）が終了しパーソナルケア製品７１０となったワーク７００を搭載したシャトル２００が、排出ステーション１１８に移動するために待機する。
【0030】
排出ステーション１１８では、典型的にはマニピュレータロボット４００により、パーソナルケア製品７１０となったワーク７００をシャトル２００から排出し、シャトル２００を空にする。
供給待機ステーション１１９では、排出ステーション１１８でワーク７００が排出された空のシャトル２００が、供給ステーション１１０に移動するために待機する。
供給待機ステーション１１９では、排出ステーション１１８でワーク７００が排出された空のシャトル２００が、供給ステーション１１０に移動するために待機する。
【0031】
３．本実施形態のコンセプト
図３は、補正値を説明するための模式図である。
ステージ１００は、磁気浮遊型リニア搬送装置であり、メカレス機構であるため、ステージ１００上でシャトル２００を移動するとき、機械精度並みの搬送精度が得られないおそれがある。言い換えれば、シャトル２００をステージ１００上の目標とする位置（Ｘ，Ｙ，Ｚ）で精密に停止させることは難しい。
図３は、補正値を説明するための模式図である。
ステージ１００は、磁気浮遊型リニア搬送装置であり、メカレス機構であるため、ステージ１００上でシャトル２００を移動するとき、機械精度並みの搬送精度が得られないおそれがある。言い換えれば、シャトル２００をステージ１００上の目標とする位置（Ｘ，Ｙ，Ｚ）で精密に停止させることは難しい。
【0032】
加えて、シャトル２００の形状（ＸＹ方向の寸法、Ｚ方向の厚みＤ１）及び永久磁石の磁気、セグメント１０１の高さ等の寸法及び電磁コイルの磁気、さらにはシャトル２００に搭載されるワーク７００の金皿及び基材の形状（ＸＹ方向の寸法、Ｚ方向の厚みＤ２）にはすべて個体差がある。また、シャトル２００の浮上制御量（浮上高さ）Ｄ３は、シャトル２００、ワーク７００及びセグメント１０１の組み合わせにより異なる。
【0033】
このため、シャトル２００の原点位置（Ｘ，Ｙ，Ｚ）と第１の加工ステーション１１３及び第２の加工ステーション１１４の原点位置（Ｘ，Ｙ，Ｚ）とが一致する様に各シャトル２００を一律に制御しても、第１の加工ステーション１１３及び第２の加工ステーション１１４の原点位置に対してシャトル２００の原点位置が一致せずばらつきが生じてしまう。
【0034】
しかし、第１の加工ステーション１１３及び第２の加工ステーション１１４でワーク７００に施される加工工程（溝部形成工程、線状体堆積工程）は、ワーク７００の位置（Ｘ，Ｙ，Ｚ）の精度が求められる。このため、シャトル２００の原点位置と第１の加工ステーション１１３及び第２の加工ステーション１１４の原点位置とが異なると、設計通りの加工をワーク７００に施せなくなるおそれがある。また、第１の機械５００の切削工具や第２の機械６００のノズルとワーク７００に充填された組成物７０１とが接触し、ワーク７００に充填された組成物７０１が破損するおそれがある。
【0035】
そこで、本実施形態では、シャトル２００に搭載されたワーク７００に第１の加工ステーション１１３及び第２の加工ステーション１１４で溝部形成工程及び線状体堆積工程を実行する前に、シャトル２００及びシャトル２００に搭載されたワーク７００の組み合わせに応じて固有の補正値を算出する。補正値とは、シャトル２００の原点位置（シャトル原点位置）を、第１の加工ステーション１１３及び第２の加工ステーション１１４の座標系の原点位置（加工ステーション原点位置）にそれぞれ設定するための、シャトル２００固有の補正値である。即ち、第１の加工ステーション１１３及び第２の加工ステーション１１４毎に、個別に補正値を算出する。
以下、第１の計測ステーション１１２において第１の加工ステーション１１３での補正値を算出する方法を説明する。説明は省略するが、第２の計測ステーション１１５において第２の加工ステーション１１４での補正値を算出する方法も同様である。
以下、第１の計測ステーション１１２において第１の加工ステーション１１３での補正値を算出する方法を説明する。説明は省略するが、第２の計測ステーション１１５において第２の加工ステーション１１４での補正値を算出する方法も同様である。
【0036】
制御装置３００は、シャトル２００を第１の計測ステーション１１２の基準位置で停止させる。このとき、シャトル２００の実際位置は、第１の計測ステーション１１２の基準位置（即ち、シャトル２００の目標の停止位置）から、所定のずれ量でずれると仮定する。このずれ量が補正値となる。仮に、シャトル２００の原点位置が第１の加工ステーション１１３の原点位置と一致する様にシャトル２００を停止させると、シャトル２００の原点位置は、第１の加工ステーション１１３の原点位置から、同じずれ量でずれて停止することが予測される。この様にシャトル２００の原点位置が第１の加工ステーション１１３の原点位置からずれることにより、シャトル２００に搭載されたワーク７００に対する切削位置も同じずれ量でずれることになる。
【0037】
そこで、本実施形態では、第１の加工ステーション１１３において、シャトル２００の原点位置（Ｘ，Ｙ，Ｚ）を、補正値（即ち、予測されるずれ量）に基づき、第１の加工ステーション１１３の原点位置（Ｘ，Ｙ，Ｚ）に設定する。これにより、第１の加工ステーション１１３において、Ｇコードを用いたＮＣプログラムに基づき第１の機械５００を制御するとき、第１の機械５００が動作する第１の加工ステーション１１３の座標系の原点位置と、シャトル２００の原点位置とが一致することになる。その結果、シャトル２００に搭載されたワーク７００の基材に、目標とする設計の加工を高精度に実行することができる。
【0038】
補正値は、シャトル２００の原点位置のＸ座標値、Ｙ座標値及びＺ座標値を第１の加工ステーション１１３の原点位置のＸ座標値、Ｙ座標値及びＺ座標値に設定するためのＸ座標補正値、Ｙ座標補正値及びＺ座標補正値を含む。Ｘ座標補正値を用いて、シャトル２００の原点位置のＸ座標値と第１の加工ステーション１１３の原点位置のＸ座標値との誤差が、±０．５ｍｍ以内に設定される。Ｙ座標補正値を用いて、シャトル２００の原点位置のＹ座標値と第１の加工ステーション１１３の原点位置のＹ座標値との誤差が、±０．５ｍｍ以内に設定される。Ｚ座標補正値を用いて、シャトル２００の原点位置のＺ座標値と第１の加工ステーション１１３の原点位置のＺ座標値との誤差が、±０．５ｍｍ以内に設定される。
【0039】
ここで、Ｘ座標値の誤差及びＹ座標値の誤差より、Ｚ座標値の誤差が小さいように設定される。言い換えれば、ＸＹ方向の位置ずれより、Ｚ方向の位置ずれが精密に調整される。何故なら、パーソナルケア製品７１０の完成品をユーザが見たとき、目標とする設計から溝部及び線状体がＸＹ方向に位置ずれしていても、ユーザはその位置ずれに気が付かず違和感を覚えない可能性がある。一方、第１の機械５００の切削工具がシャトル２００に対して相対的にＺ方向に位置ずれすると、基材に形成された溝部が浅くなり溝部内に堆積された線状体が基材から脱落しやすくなったり、逆に、基材に形成された溝部が深くなり基材が割れやすく結果的に溝部内に堆積された線状体も割れやすく脱落しやすくなったりするおそれがある。また、第２の機械６００のノズルがシャトル２００に対して相対的にＺ方向に位置ずれすると、目標とする設計とは異なるデザインの線状体が堆積されるおそれがある。このため、ＸＹ方向の位置ずれより、Ｚ方向の位置ずれが精密に調整されるのがよい。
【0040】
具体例を説明する。第１の加工ステーション１１３で実行される、Ｇコードを用いたＮＣプログラムの指令値（Ｘ，Ｙ，Ｚ）が、第１の加工ステーション１１３の原点位置に対して（Ａ１，Ｂ１，Ｃ１）であると仮定する。また、第１の計測ステーションで算出した補正値が（ａ１，ｂ１，ｃ１）であると仮定する。このとき、第１の加工ステーション１１３において、第１のシャトルＳ１の指令値を、第１のシャトルＳ１固有の補正値に基づき（Ａ１＋ａ１，Ｂ１＋ｂ１，Ｃ１＋ｃ１）と補正することで、第１のシャトルＳ１の原点位置が、第１の加工ステーション１１３の原点位置に設定される。
【0041】
上述のように、シャトル２００及びシャトル２００に搭載されたワーク７００の組み合わせに応じて固有の補正値が算出される。例えば、第２のシャトルＳ２の指令値（Ａ２，Ｂ２，Ｃ２）を、第２のシャトルＳ２固有の補正値（ａ２，ｂ２，ｃ２）に基づき（Ａ２＋ａ２，Ｂ２＋ｂ２，Ｃ２＋ｃ２）と補正することで、第２のシャトルＳ２の原点位置が、第１の加工ステーション１１３の原点位置に設定される。第３のシャトルＳ３の指令値（Ａ３，Ｂ３，Ｃ３）を、第３のシャトルＳ３固有の補正値に基づき（Ａ３＋ａ３，Ｂ３＋ｂ３，Ｃ３＋ｃ３）と補正することで、第３のシャトルＳ３の原点位置が、第１の加工ステーション１１３の原点位置に設定される。
【0042】
４．製造方法
製造装置１を用いたパーソナルケア製品の製造方法を説明する。本実施形態の製造方法は、磁気浮遊型搬送装置である製造装置１を用い、供給ステーション１１０でパーソナルケア製品７１０の前駆体であるワーク７００を積載した複数のシャトル２００が、ステージ１００上に設けられた第１の加工ステーション１１３から第２の加工ステーション１１４を経由することで、ワーク７００に所定の加工を施しながら、完成品であるパーソナルケア製品７１０となったワーク７００を排出ステーション１１８まで搬送する。
製造装置１を用いたパーソナルケア製品の製造方法を説明する。本実施形態の製造方法は、磁気浮遊型搬送装置である製造装置１を用い、供給ステーション１１０でパーソナルケア製品７１０の前駆体であるワーク７００を積載した複数のシャトル２００が、ステージ１００上に設けられた第１の加工ステーション１１３から第２の加工ステーション１１４を経由することで、ワーク７００に所定の加工を施しながら、完成品であるパーソナルケア製品７１０となったワーク７００を排出ステーション１１８まで搬送する。
【0043】
制御装置３００は、起動すると、ステージ１００上の１又は複数のシャトル２００を初期位置に移動させる。ユーザ（作業者等）は、ＨＭＩ（Human Machine Interface）を用いて、製造装置１が製造するパーソナルケア製品の品種や個数の情報を制御装置３００に入力する。制御装置３００は、入力された情報を実現するための変数をコンピュータプログラムに入力し、コンピュータプログラムを実行することで、パーソナルケア製品を製造するための動作を開始する。以下は動作の一具体例である。以下、説明の簡略化のため、１個のシャトル２００を説明する。
電磁コイルを内蔵するステージ１００は、シャトル２００を電磁的に検出する。制御装置３００は、ステージ１００がシャトル２００を電磁的に検出した結果に基づき、シャトル２００が位置するステーション１１０～１１９を判断することができる。
電磁コイルを内蔵するステージ１００は、シャトル２００を電磁的に検出する。制御装置３００は、ステージ１００がシャトル２００を電磁的に検出した結果に基づき、シャトル２００が位置するステーション１１０～１１９を判断することができる。
【0044】
図４は、製造方法を示すフローチャートである。
制御装置３００は、シャトル２００を供給待機ステーション１１９に初期配置する（ステップＳ１）。制御装置３００は、シャトル２００を供給ステーション１１０に移動し（ステップＳ２）、マニピュレータロボット４００を制御して、ワーク７００をシャトル２００に搭載する（ステップＳ３）。ワーク７００には、第１の組成物により構成される基材が充填されている。制御装置３００は、シャトル２００を待機ステーション１１１（ステップＳ４）から第１の計測ステーション１１２に移動し、シャトル２００を第１の計測ステーション１１２の基準位置で停止させる（ステップＳ５）。
制御装置３００は、シャトル２００を供給待機ステーション１１９に初期配置する（ステップＳ１）。制御装置３００は、シャトル２００を供給ステーション１１０に移動し（ステップＳ２）、マニピュレータロボット４００を制御して、ワーク７００をシャトル２００に搭載する（ステップＳ３）。ワーク７００には、第１の組成物により構成される基材が充填されている。制御装置３００は、シャトル２００を待機ステーション１１１（ステップＳ４）から第１の計測ステーション１１２に移動し、シャトル２００を第１の計測ステーション１１２の基準位置で停止させる（ステップＳ５）。
【0045】
制御装置３００は、光学センサ（レーザ光センサ）、超音波センサ又は赤外線センサ等の距離センサ１１２Ｓ（図３）、若しくは画像センサ、又は光学センサと画像センサの両方を用いて、第１の計測ステーション１１２に位置するシャトル２００の位置（実際位置）（Ｘ，Ｙ，Ｚ）を計測する。制御装置３００は、第１の計測ステーション１１２の基準位置（即ち、シャトル２００の目標の停止位置）と、シャトル２００の実際位置との誤差に基づき、第１の加工ステーション１１３で用いるための補正値を算出する（ステップＳ１１）。
制御装置３００は、シャトル２００を第１の加工ステーション１１３に移動させ、算出した補正値に基づき、シャトル２００の原点位置を第１の加工ステーション１１３の原点位置に設定する（ステップＳ６）。
制御装置３００は、シャトル２００を第１の加工ステーション１１３に移動させ、算出した補正値に基づき、シャトル２００の原点位置を第１の加工ステーション１１３の原点位置に設定する（ステップＳ６）。
【0046】
制御装置３００は、第１の機械５００を制御して、第１の加工ステーション１１３においてシャトル２００及び第１の機械５００の切削工具（加工ツール）の少なくとも一方を他方に対して相対的に移動させながら、ワーク７００に導入された第１の組成物により構成される基材を切削して溝部を形成する（ステップＳ７）。ここで、シャトル２００の原点位置が第１の加工ステーション１１３の原点位置に設定されているため、基材の表面の目標とするＸＹ位置に目標とするＺ位置から、溝部を形成することができる。
制御装置３００は、シャトル２００を第１の加工ステーション１１３から第２の計測ステーション１１５に移動し、シャトル２００を第２の計測ステーション１１５の基準位置で停止させる（ステップＳ８）。
制御装置３００は、シャトル２００を第１の加工ステーション１１３から第２の計測ステーション１１５に移動し、シャトル２００を第２の計測ステーション１１５の基準位置で停止させる（ステップＳ８）。
【0047】
制御装置３００は、光学センサ（レーザ光センサ）、超音波センサ又は赤外線センサ等の距離センサ１１２Ｓ（図３）、若しくは画像センサ、又は光学センサと画像センサの両方を用いて、第２の計測ステーション１１５に位置するシャトル２００の位置（実際位置）（Ｘ，Ｙ，Ｚ）を計測する。制御装置３００は、第２の計測ステーション１１５の基準位置（即ち、シャトル２００の目標の停止位置）と、シャトル２００の実際位置との誤差に基づき、第２の加工ステーション１１４で用いるための補正値を算出する（ステップＳ１５）。
制御装置３００は、シャトル２００を第２の加工ステーション１１４に移動させ、算出した補正値に基づき、シャトル２００の原点位置を第２の加工ステーション１１４の原点位置に設定する（ステップＳ９）。
制御装置３００は、シャトル２００を第２の加工ステーション１１４に移動させ、算出した補正値に基づき、シャトル２００の原点位置を第２の加工ステーション１１４の原点位置に設定する（ステップＳ９）。
【0048】
制御装置３００は、第２の機械６００を制御して、第２の加工ステーション１１４において、流動性を有する第２の組成物を第２の機械６００のノズル（加工ツール）からシャトル２００に搭載されたワーク７００に導入しながら、ノズル及びシャトル２００の少なくとも一方を他方に対して相対的に移動させて第２の組成物を堆積させることで線状体を形成する（ステップＳ１０）。第２の機械６００は、ワーク７００に充填された第１の組成物により構成される基材の表面に形成された溝部に、線状体を堆積する。ここで、シャトル２００の原点位置が第２の加工ステーション１１４の原点位置に設定されているため、基材の表面の目標とするＸＹ位置に目標とするＺ位置から、線状体を堆積することができる。
【0049】
制御装置３００は、シャトル２００を、第２の加工ステーション１１４から、第３の排出待機ステーション１１７Ｃ、第２の排出待機ステーション１１７Ｂ及び第１の排出待機ステーション１１７Ａをこの順に移動し（ステップＳ１２）、排出ステーション１１８へと移動する（ステップＳ１３）。制御装置３００は、シャトル２００が排出ステーション１１８に到着すると、シャトル２００に搭載されていたワーク７００に対する全ての作業が終了し、ワーク７００がパーソナルケア製品７１０の完成品となったと判断する。制御装置３００は、マニピュレータロボット４００を制御して、排出ステーション１１８に位置するシャトル２００から、ワーク７００を排出する（ステップＳ１４）。
【0050】
制御装置３００は、排出ステーション１１８に位置するシャトル２００の重量が減少したことを検出すると、シャトル２００からワーク７００が排出されたと判断し、シャトル２００を制御するための実行中のプログラムを削除し、新たに、シャトル２００が供給ステーション１１０に移動するための制御を開始する。
【0051】
５．補正値算出のバリエーション
第１の計測ステーション１１２及び第１の加工ステーション１１３は、同一のセグメント１０１に設けられてもよい。この場合、同一のセグメント１０１内の第１の計測ステーション１１２で算出された補正値に基づき、第１の加工ステーション１１３のシャトル原点位置が設定される。上述のように、セグメント１０１の高さ等の寸法及び電磁コイルの磁気には個体差がある。このため、補正対象である第１の加工ステーション１１３と同一のセグメント１０１内にある第１の計測ステーション１１２で補正値を算出することで、補正値がセグメント１０１の個体差の影響を受けることがない。このため、第１の計測ステーション１１２で算出した補正値が、第１の加工ステーション１１３で採用すべき補正値とより高い精度で一致するため、第１の加工ステーション１１３での原点位置を精密に設定することができる。例えば、第１の加工ステーション１１３を第１の計測ステーション１１２として使用してもよい。言い換えれば、第１の加工ステーション１１３で補正値を算出してもよい。第２の計測ステーション１１５及び第２の加工ステーション１１４にも同様のことが言える。
第１の計測ステーション１１２及び第１の加工ステーション１１３は、同一のセグメント１０１に設けられてもよい。この場合、同一のセグメント１０１内の第１の計測ステーション１１２で算出された補正値に基づき、第１の加工ステーション１１３のシャトル原点位置が設定される。上述のように、セグメント１０１の高さ等の寸法及び電磁コイルの磁気には個体差がある。このため、補正対象である第１の加工ステーション１１３と同一のセグメント１０１内にある第１の計測ステーション１１２で補正値を算出することで、補正値がセグメント１０１の個体差の影響を受けることがない。このため、第１の計測ステーション１１２で算出した補正値が、第１の加工ステーション１１３で採用すべき補正値とより高い精度で一致するため、第１の加工ステーション１１３での原点位置を精密に設定することができる。例えば、第１の加工ステーション１１３を第１の計測ステーション１１２として使用してもよい。言い換えれば、第１の加工ステーション１１３で補正値を算出してもよい。第２の計測ステーション１１５及び第２の加工ステーション１１４にも同様のことが言える。
【0052】
複数のシャトル２００は、異なるワーク７００を搭載して何周もステージ１００上を移動する。シャトル２００が異なるワーク７００を搭載して第１の計測ステーション１１２に到達する度に、補正値を算出してもよい。言い換えれば、複数のシャトル２００と複数のワーク７００との組み合わせ毎に補正値を算出してもよい。これにより、シャトル２００の個体差に加えてワーク７００の個体差に応じて補正値を算出できるので、第１の加工ステーション１１３での原点位置を精密に設定することができる。第２の計測ステーション１１５及び第２の加工ステーション１１４にも同様のことが言える。
【0053】
逆に、各シャトル２００が第１の計測ステーション１１２に最初に到達した回のみ、補正値を算出し、その補正値をそのシャトル２００の原点位置の設定に利用し続けてもよい。これにより、毎回補正値を算出する場合に比べて計算量が減り、全体的なサイクルタイムの短縮を図れる。本明細書で「全体的なサイクルタイム」とは、１個のパーソナルケア製品を製造するときのサイクルタイムを意図するものではなく、多品種のパーソナルケア製品を含む多数のパーソナルケア製品を製造するときのサイクルタイムを意図する。第２の計測ステーション１１５及び第２の加工ステーション１１４にも同様のことが言える。
【0054】
第２の計測ステーション１１５を設けずに、第１の計測ステーション１１２で算出した補正値を、第１の加工ステーション１１３及び第２の加工ステーション１１４の両方で使用してもよい。これにより、計算量が減り、全体的なサイクルタイムの短縮を図れる。
【0055】
６．第２の機械の例
第２の機械６００は、典型的には、流動性を有する第２の組成物Ｌを、組成物が供給されるワーク７００上に供給する供給部２０と、供給部２０と連通するように一体的に配置されたノズル２１とを備える。典型的には、平板状のシャトル２００がノズル２１の下方且つノズル２１と対向する位置に配されており、シャトル２００の上面にワーク７００が搭載できる。これらを備えた一例を図７に示す。
第２の機械６００は、典型的には、流動性を有する第２の組成物Ｌを、組成物が供給されるワーク７００上に供給する供給部２０と、供給部２０と連通するように一体的に配置されたノズル２１とを備える。典型的には、平板状のシャトル２００がノズル２１の下方且つノズル２１と対向する位置に配されており、シャトル２００の上面にワーク７００が搭載できる。これらを備えた一例を図７に示す。
【0056】
第２の機械６００は、供給部２０とシャトル２００とを所定の位置に支持又は保持する。第２の機械６００は、ノズル２１の位置及びシャトル２００の位置を、任意の方向に相対的に移動させる。これによって、ノズル２１及びシャトル２００の少なくとも一方を、平面方向、鉛直方向又はその組み合わせの方向に移動させて、ノズル２１及びシャトル２００上のワーク７００の少なくとも一方を他方に対して相対的に移動させることができる。
【0057】
供給部２０は、流動性を有する第２の組成物Ｌをワーク７００側に送液する部材である。供給部２０は、送液部２５と、組成物収容部２６とを備えることが好ましい。
送液部２５は、流路２８を介して組成物収容部２６が連通して接続されていることが好ましい。これにより、組成物収容部２６から送液部２５の内部に供給された第２の組成物Ｌをノズル２１側に連続的に又は非連続的に供給したり、あるいは供給を停止したりできる。このような送液部２５としては、第２の組成物Ｌを液滴状に吐出可能なジェットディスペンサー、あるいは第２の組成物Ｌを連続的に吐出可能なモーノディスペンサーやスクリューディスペンサーを用いることができる。
組成物収容部２６は、その一方がエア等の加圧手段やポンプと接続されており、組成物収容部２６に収容されている第２の組成物Ｌを、流路２８を介して、送液部２５側に圧送できるように構成されていることが好ましい。
送液部２５は、流路２８を介して組成物収容部２６が連通して接続されていることが好ましい。これにより、組成物収容部２６から送液部２５の内部に供給された第２の組成物Ｌをノズル２１側に連続的に又は非連続的に供給したり、あるいは供給を停止したりできる。このような送液部２５としては、第２の組成物Ｌを液滴状に吐出可能なジェットディスペンサー、あるいは第２の組成物Ｌを連続的に吐出可能なモーノディスペンサーやスクリューディスペンサーを用いることができる。
組成物収容部２６は、その一方がエア等の加圧手段やポンプと接続されており、組成物収容部２６に収容されている第２の組成物Ｌを、流路２８を介して、送液部２５側に圧送できるように構成されていることが好ましい。
【0058】
ノズル２１は、典型的には、第２の組成物Ｌを供給部２０からワーク７００に向けて供給する管状の部材である。ノズル２１は、その内部に形成された空間である第２の組成物Ｌの流路が第２の組成物Ｌの流動方向に沿って形成されている。ノズル２１は、その一方の端部であるノズル先端が第２の組成物Ｌの供給口を構成し、他方の端部は上述した供給部２０と連通して接続されている。ノズルの構成材料は特に限定されず、例えば金属やプラスチックなどを採用できる。
【0059】
７．第１の組成物及び第２の組成物の例
特に断りのない限り、以下に説明する物質の状態（三態）は、１気圧、２０℃を基準とする。
第１の組成物及び第２の組成物は、組成物に含まれる材料の均一分散性を向上し品質を安定化させることや、ノズルから吐出した線状体の崩れを抑制し形状を安定化させるといった観点から、その粘度が、好ましくは０．１Ｐａ・ｓ以上、より好ましくは０．５Ｐａ・ｓ以上、更に好ましくは１Ｐａ・ｓ以上である。また、上記粘度は、吐出性を向上させ、成形性を向上する観点から、好ましくは１０００Ｐａ・ｓ以下、より好ましくは５００Ｐａ・ｓ以下、更に好ましくは２００Ｐａ・ｓ以下である。上述した組成物の粘度は、組成物の温度をノズル２１からの供給時の組成物と同じ温度、すなわち吐出時の温度にした上で測定する。例えば組成物がスラリーである等といった加熱溶融液以外のものであり、室温（２５℃）でノズルから供給する場合には、２５℃において、Ｂ型粘度計（東機産業株式会社製、デジタル粘度計ＴＶＢ－１０Ｒ）を用いて測定された値とする。この場合の測定条件は、ローターをサンプルの粘度範囲に合わせてローターＮｏ．Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３、Ｍ４、Ｈ１、Ｈ２、Ｈ３、Ｈ４、Ｈ５、Ｈ６、Ｈ７、Ｔ－Ａ、Ｔ－Ｂ、Ｔ－Ｃ、Ｔ－Ｄ及びＴ－Ｅのいずれかとし、回転数を３～１００ｒｐｍとし、測定時間を６０秒間とする。組成物が加熱溶融液である場合、組成物の温度をノズル２１からの供給時の組成物と同じ温度にした上で、前述の測定条件にて粘度を測定する。
特に断りのない限り、以下に説明する物質の状態（三態）は、１気圧、２０℃を基準とする。
第１の組成物及び第２の組成物は、組成物に含まれる材料の均一分散性を向上し品質を安定化させることや、ノズルから吐出した線状体の崩れを抑制し形状を安定化させるといった観点から、その粘度が、好ましくは０．１Ｐａ・ｓ以上、より好ましくは０．５Ｐａ・ｓ以上、更に好ましくは１Ｐａ・ｓ以上である。また、上記粘度は、吐出性を向上させ、成形性を向上する観点から、好ましくは１０００Ｐａ・ｓ以下、より好ましくは５００Ｐａ・ｓ以下、更に好ましくは２００Ｐａ・ｓ以下である。上述した組成物の粘度は、組成物の温度をノズル２１からの供給時の組成物と同じ温度、すなわち吐出時の温度にした上で測定する。例えば組成物がスラリーである等といった加熱溶融液以外のものであり、室温（２５℃）でノズルから供給する場合には、２５℃において、Ｂ型粘度計（東機産業株式会社製、デジタル粘度計ＴＶＢ－１０Ｒ）を用いて測定された値とする。この場合の測定条件は、ローターをサンプルの粘度範囲に合わせてローターＮｏ．Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３、Ｍ４、Ｈ１、Ｈ２、Ｈ３、Ｈ４、Ｈ５、Ｈ６、Ｈ７、Ｔ－Ａ、Ｔ－Ｂ、Ｔ－Ｃ、Ｔ－Ｄ及びＴ－Ｅのいずれかとし、回転数を３～１００ｒｐｍとし、測定時間を６０秒間とする。組成物が加熱溶融液である場合、組成物の温度をノズル２１からの供給時の組成物と同じ温度にした上で、前述の測定条件にて粘度を測定する。
【0060】
第１の組成物及び第２の組成物は、粉体等の固体及び油剤から選ばれる一種又は二種以上を含むことが好ましい。このような固体としては、例えば、着色顔料及び体質顔料などの通常の化粧料成分に用いられる粉体を含むことが好ましい。着色顔料及び体質顔料としては、例えば、無機粉体、有機粉体、無機粉体と有機粉体との複合粉体などが挙げられる。無機粉体としては、ケイ酸、無水ケイ酸、ケイ酸マグネシウム、タルク、セリサイト、マイカ、カオリン、ベンガラ、クレー、ベントナイト、雲母、チタン被膜雲母、オキシ塩化ビスマス、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、硫酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化鉄、群青、酸化クロム、水酸化クロム、カラミン、カーボンブラック、チッ化ホウ素これらの複合体等が挙げられる。有機粉体としては、ポリアミド、ナイロン、ポリエステル、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリウレタン、ビニル樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フッ素樹脂、ケイ素樹脂 、アクリル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ジビニルベンゼン・スチレン共重合体、シルクパウダー、セルロース、長鎖アルキルリン酸金属塩、Ｎ－モノ長鎖アルキルアシル塩基性アミノ酸、これらの複合体等が挙げられる。これらの体質顔料や着色顔料は、着色しているか又は非着色（例えば、白色又は本質的に透明）であり、組成物又は皮膚に対して、着色、光の回折、油分吸収、半透明性、不透明性、光沢、光沢のない外観、滑らか感などのうちの一つ以上の効果を提供し得る。
【0061】
組成物中における粉体の含有量は、その目的に応じて異なるが、乾燥といった生産性の観点から、好ましくは２０質量％以上、より好ましくは３０質量％以上、更に好ましくは４０質量％以上である。組成物中における粉体の含有量は、供給時の流動性といった生産性の観点から、好ましくは８５質量％以下、より好ましくは８０質量％以下、更に好ましくは７０質量％以下である。このような範囲であることで、高精細な立体形状を有するパーソナルケア製品を製造しやすくすることができ、また製品を使用したときの良好な使用感を高めることができる。組成物中における粉体の平均粒径は、着色力や明度、彩度等の光学的性質の調整といった観点から、好ましくは０．１μｍ以上、より好ましくは１μｍ以上である。組成物中における粉体の平均粒径はノズル詰まりを抑制し連続的に安定した吐出を可能とするといった観点から、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは１５０μｍ以下、更に好ましくは１００μｍ以下である。平均粒径は、レーザ回折／散乱式粒度分布測定装置で測定される累積体積５０容量％における体積累積粒径Ｄ５０とする。なお、最終的な製品から粉体の平均粒径を測る場合には、まず製品を水や油に溶解させ、バインダー成分を溶かして溶媒に粒子を分散させる。その後、粒度分布計を用いて固形物としての粒度分布を測定し、得られた結果の体積累積粒径Ｄ５０を平均粒径とする。組成物中における粉体の平均粒径は、ノズルからの安定供給性といった観点から、ノズル２１の断面の長さＤ１より小さいことが好ましい。ノズル２１の断面が真円でない場合は、ノズルの断面の最小長さをＤ１とする。組成物中における粉体の平均粒径は、上述の方法で製造された線状体の平面視における線幅Ｗ１を細くし、立体的且つ高精細なデザインを安定的に形成するといった観点から、ノズル２１の断面の長さＤ１との比（平均粒径／ノズル断面長さ）が、好ましくは１以下、より好ましくは０．５以下、更に好ましくは０．３５以下、より一層好ましくは０．３以下である。平均粒径／ノズル断面長さは小さければ小さいほど好ましいが、現実的には０．００１以上である。
【0062】
流動体中に含まれ得る油剤は、１気圧、２０℃で液体の油（以下、これを液体油ともいう。）、及び１気圧、２０℃で固体の油（以下、これを固体油ともいう。）から選ばれる一種又は二種以上が挙げられる。
液体油としては、例えば、直鎖又は分岐の炭化水素油、植物油、動物油、エステル油、シリコーン油、高分子アルコールが挙げられる。直鎖又は分岐の炭化水素油としては、流動パラフィン、スクワラン等が挙げられる。植物油としては、ホホバ油、オリーブ油等が挙げられる。動物油としては、液状ラノリン等が挙げられる。エステル油としては、モノアルコール脂肪酸エステル、多価アルコール脂肪酸エステル等が挙げられる。シリコーン油としては、ジメチルポリシロキサン、ジメチルシクロポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、メチルハイドロジェンポリシロキサン、高級アルコール変性オルガノポリシロキサン等が挙げられる。 高分子アルコールとしては、ポリエチレングリコール等が挙げられる。固体油としては、例えば、ワセリン、セタノール、ステアリルアルコール、セラミド等が挙げられる。
液体油としては、例えば、直鎖又は分岐の炭化水素油、植物油、動物油、エステル油、シリコーン油、高分子アルコールが挙げられる。直鎖又は分岐の炭化水素油としては、流動パラフィン、スクワラン等が挙げられる。植物油としては、ホホバ油、オリーブ油等が挙げられる。動物油としては、液状ラノリン等が挙げられる。エステル油としては、モノアルコール脂肪酸エステル、多価アルコール脂肪酸エステル等が挙げられる。シリコーン油としては、ジメチルポリシロキサン、ジメチルシクロポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、メチルハイドロジェンポリシロキサン、高級アルコール変性オルガノポリシロキサン等が挙げられる。 高分子アルコールとしては、ポリエチレングリコール等が挙げられる。固体油としては、例えば、ワセリン、セタノール、ステアリルアルコール、セラミド等が挙げられる。
【0063】
組成物中における油剤の含有量は、その目的に応じて異なるが、総量として、好ましくは０．５質量％以上、より好ましくは１質量％以上であり、更に好ましくは１．５質量％以上である。組成物中における油剤の含有量は、好ましくは３０質量％以下、より好ましくは２０質量％以下、更に好ましくは１５質量％以下である。このような範囲であることで、パーソナルケア製品としての良好な発色性や感触を高めることができる。
【0064】
組成物は、目的とするパーソナルケア製品の種類に応じて、増粘剤、皮膜剤、界面活性剤、糖、多価アルコール、水溶性高分子、金属イオン封鎖剤、低級アルコール、アミノ酸、有機アミン、ｐＨ調整剤、皮膚コンディショニング剤、ビタミン、酸化防止剤、香料、防腐剤、紫外線吸収剤、紫外線散乱剤等から選ばれる一種又は二種以上の成分を、本発明の効果を損なわない範囲で適宜含有することができる。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾフェノン誘導体、メトキシ桂皮酸誘導体から選ばれる１種又は２種以上が挙げられる。ベンゾフェノン誘導体としては、ジヒドロキシベンゾフェノン、ジヒドロキシジメトキシベンゾフェノン、ヒドロキシメトキシベンゾフェノンスルホン酸塩、ジヒドロキシジメトキシベンゾフェノンジスルホン酸塩等が挙げられる。メトキシ桂皮酸誘導体としては、メトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル等が挙げられる。紫外線散乱剤としては、例えば平均粒径が０．１μｍ以下の微粒子を用いることができる。紫外線散乱剤としては、酸化亜鉛、酸化チタン及びシリカ等の１種又は２種以上が挙げられる。
【0065】
第１の組成物及び第２の組成物は、液媒を更に含むことも好ましい。液媒は、化粧料を溶解又は分散させる溶媒又は分散媒として使用することができる液体である。第１の組成物及び第２の組成物をスラリーの形態とする場合、第１の組成物及び第２の組成物は、粉体及び液媒を少なくとも含む混合物であることが好ましい。第１の組成物及び第２の組成物を化粧料スラリーの形態とする場合には、第１の組成物及び第２の組成物は、上述した顔料を含む粉体、油剤及び液媒を少なくとも含む混合物であることが好ましい。
【0066】
上述した液体（液媒）としては、例えば、液体の状態において揮発性を有する物質（揮発性溶媒）が挙げられる。具体的には液体（液媒）としては、水、アルコール、ケトン及び炭化水素等から選ばれる一種又は二種以上が好ましく挙げられる。アルコールとしては、例えば一価の炭素数１～６の鎖式脂肪族アルコールや、一価の炭素数３～６の環式脂肪族アルコールや、一価の芳香族アルコールが好適に用いられる。それらの具体例としては、エタノール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、フェニルエチルアルコール、プロパノール、ペンタノールなどが挙げられる。ケトンとしては例えば炭素数３～６の鎖式脂肪族ケトンや、炭素数３～６の環式脂肪族ケトンや、炭素数８～１０の芳香族ケトンが好適に用いられる。それらの具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセトフェノンなどが挙げられる。炭化水素としては、例えばイソパラフィン系炭化水素が好適に用いられ、その具体例としては、ＩＰソルベントが挙げられる。
【0067】
第１の組成物及び第２の組成物に液媒を含む場合、組成物中における液媒の含有量は、その目的に応じて異なるが、総量として、好ましくは２０質量％以上、より好ましくは３０質量％以上であり、更に好ましくは４０質量％以上である。組成物中における液媒の含有量は、好ましくは７０質量％以下、より好ましくは６０質量％以下、更に好ましくは５０質量％以下である。このような範囲であることで、第１の組成物及び第２の組成物の構成材料の均一分散性を高めつつ、取り扱い性を高めることができる。
【0068】
第１の組成物又は第２の組成物由来である線状体は、パウダー化粧品等の粉体を主成分とするパーソナルケア製品を製造する観点から、その固形分として、粉体を好ましくは７０質量％以上、より好ましくは８０質量％以上、更に好ましくは８５質量％以上含む。組成物由来である線状体は、成形性といった観点から、その固形分として、粉体を好ましくは９９質量％以下含む。線状体をこのような構成とするためには、例えば第１の組成物又は第２の組成物Ｌに粉体を上述の固形分の範囲で含有させたり、あるいは、液媒及び粉体を含む第１の組成物又は第２の組成物Ｌを用いてワーク７００上に供給した後、固化工程を行って液媒を除去したりすることで達成することができる。
【0069】
８．変形例
上記実施形態は、第１の加工ステーション１１３で第１の機械５００が溝部形成工程を実行し、第２の加工ステーション１１４で第２の機械６００が線状体堆積工程を実行する。これに代えて、第１の加工ステーション１１３で第１の機械５００が溝部形成工程を実行し、第２の加工ステーション１１４で第２の機械６００が溝部形成工程を実行してもよい。第１の加工ステーション１１３で第１の機械５００が線状体堆積工程を実行し、第２の加工ステーション１１４で第２の機械６００が線状体堆積工程を実行してもよい。第１の加工ステーション１１３で第１の機械５００が線状体堆積工程を実行し、第２の加工ステーション１１４で第２の機械６００が溝部形成工程を実行してもよい（この場合、基材の表面の一部に線状体を堆積し、別の一部に溝部を形成する）。
上記実施形態は、第１の加工ステーション１１３で第１の機械５００が溝部形成工程を実行し、第２の加工ステーション１１４で第２の機械６００が線状体堆積工程を実行する。これに代えて、第１の加工ステーション１１３で第１の機械５００が溝部形成工程を実行し、第２の加工ステーション１１４で第２の機械６００が溝部形成工程を実行してもよい。第１の加工ステーション１１３で第１の機械５００が線状体堆積工程を実行し、第２の加工ステーション１１４で第２の機械６００が線状体堆積工程を実行してもよい。第１の加工ステーション１１３で第１の機械５００が線状体堆積工程を実行し、第２の加工ステーション１１４で第２の機械６００が溝部形成工程を実行してもよい（この場合、基材の表面の一部に線状体を堆積し、別の一部に溝部を形成する）。
【0070】
工程の順番を問わない加工の場合、シャトル２００は適宜空いている加工ステーション１１３及び１１４に行き、必要な加工が施される。このため、図２のような一方通行の動き方ではなくなる。その例を図６に示す。図６のステージ１００は、第３の計測ステーション１１６をさらに含む。
【0071】
制御装置３００は、シャトル２００が第１の計測ステーション１１２に位置するとき、第１の加工ステーション１１３が空いておらず第２の加工ステーション１１４が空いている場合には、第２の加工ステーション１１４で用いるための補正値を算出する。制御装置３００は、シャトル２００を第２の加工ステーション１１４に移動させ、算出した補正値に基づき、シャトル２００の原点位置を第２の加工ステーション１１４の原点位置に設定する。制御装置３００は、第２の機械６００を制御して、第２の加工ステーション１１４において加工工程を実行する。
【0072】
制御装置３００は、シャトル２００を第２の加工ステーション１１４から第３の計測ステーション１１６に移動し、シャトル２００を第３の計測ステーション１１６の基準位置で停止させる。制御装置３００は、第３の計測ステーション１１６で、第１の加工ステーション１１３で用いるための補正値を算出する。制御装置３００は、シャトル２００を第１の加工ステーション１１３に移動させ、算出した補正値に基づき、シャトル２００の原点位置を第１の加工ステーション１１３の原点位置に設定する。制御装置３００は、第１の機械５００を制御して、第１の加工ステーション１１３において加工工程を実行する。
【0073】
制御装置３００は、シャトル２００を、第１の加工ステーション１１３から、第３の排出待機ステーション１１７Ｃ、第２の排出待機ステーション１１７Ｂ及び第１の排出待機ステーション１１７Ａをこの順に移動し、排出ステーション１１８へと移動する。
【0074】
本実施形態では、ステージ１００上の各計測ステーション１１２、１１５、１１６で補正値を算出している。これに代えて、予め、シャトル２００の個体差に起因するシャトル２００毎の補正値を算出し、第１の加工ステーション１１３及び第２の加工ステーション１１４で用いる補正値をＨＭＩ上で入力しておき、シャトル２００の原点位置（Ｘ，Ｙ，Ｚ）を、第１の加工ステーション１１３及び第２の加工ステーション１１４の原点位置（Ｘ，Ｙ，Ｚ）に設定してもよい。なお、Ｘ座標補正値、Ｙ座標補正値及びＺ座標補正値の全てを、予め算出しＨＭＩ上で入力しておいてもよい。あるいは、Ｘ座標補正値、Ｙ座標補正値及びＺ座標補正値の一部を予め算出しＨＭＩ上で入力しておき、残りはステージ１００上の各計測ステーション１１２、１１５、１１６でのインライン計測に基づき補正値を算出してもよい。例えば、Ｚ座標補正値を予め算出しＨＭＩ上で入力しておき、Ｘ座標補正値及びＹ座標補正値はステージ１００上の各計測ステーション１１２、１１５、１１６でのインライン計測に基づき補正値を算出してもよい。
【0075】
９．結語
本実施形態では、第１の加工ステーション１１３及び第２の加工ステーション１１４において、シャトル２００の原点位置（Ｘ，Ｙ，Ｚ）を、補正値（即ち、予測されるずれ量）に基づき、第１の加工ステーション１１３及び第２の加工ステーション１１４の原点位置（Ｘ，Ｙ，Ｚ）に設定する。これにより、第１の加工ステーション１１３及び第２の加工ステーション１１４において、Ｇコードを用いたＮＣプログラムに基づき第１の機械５００及び第２の機械６００を制御するとき、第１の機械５００及び第２の機械６００が動作する第１の加工ステーション１１３及び第２の加工ステーション１１４の座標系の原点位置と、シャトル２００の原点位置とが一致することになる。その結果、シャトル２００に搭載されたワーク７００の基材に、目標とする設計の加工を高精度に実行することができる。本実施形態によれば、磁気浮遊型リニア搬送装置である製造装置１において、位置決め精度を高め、目的とするパーソナルケア製品７１０を高精度に製造することが可能となる。
本実施形態では、第１の加工ステーション１１３及び第２の加工ステーション１１４において、シャトル２００の原点位置（Ｘ，Ｙ，Ｚ）を、補正値（即ち、予測されるずれ量）に基づき、第１の加工ステーション１１３及び第２の加工ステーション１１４の原点位置（Ｘ，Ｙ，Ｚ）に設定する。これにより、第１の加工ステーション１１３及び第２の加工ステーション１１４において、Ｇコードを用いたＮＣプログラムに基づき第１の機械５００及び第２の機械６００を制御するとき、第１の機械５００及び第２の機械６００が動作する第１の加工ステーション１１３及び第２の加工ステーション１１４の座標系の原点位置と、シャトル２００の原点位置とが一致することになる。その結果、シャトル２００に搭載されたワーク７００の基材に、目標とする設計の加工を高精度に実行することができる。本実施形態によれば、磁気浮遊型リニア搬送装置である製造装置１において、位置決め精度を高め、目的とするパーソナルケア製品７１０を高精度に製造することが可能となる。
【0076】
本技術の各実施形態及び各変形例について上に説明したが、本技術は上述の実施形態にのみ限定されるものではなく、本技術の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。
【符号の説明】
【0077】
１ 製造装置
１００ ステージ
１０１ セグメント
１１０ 供給ステーション
１１３ 第１の加工ステーション
１１４ 第２の加工ステーション
１１８ 排出ステーション
２００ シャトル
７００ ワーク
７１０ パーソナルケア製品
１００ ステージ
１０１ セグメント
１１０ 供給ステーション
１１３ 第１の加工ステーション
１１４ 第２の加工ステーション
１１８ 排出ステーション
２００ シャトル
７００ ワーク
７１０ パーソナルケア製品
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】