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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023183145
(43)【公開日】2023-12-27
(54)【発明の名称】抗菌部材、その製造方法及び評価方法
(51)【国際特許分類】
A61L 2/02 20060101AFI20231220BHJP
B24C 1/00 20060101ALI20231220BHJP
B24C 1/06 20060101ALI20231220BHJP
【ＦＩ】
A61L2/02
B24C1/00 Z
B24C1/06
【審査請求】有
【請求項の数】7
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022096618
(22)【出願日】2022-06-15
(71)【出願人】
【識別番号】519217434
【氏名又は名称】株式会社サーフテクノロジー
(74)【代理人】
【識別番号】100134212
【弁理士】
【氏名又は名称】提中 清彦
(72)【発明者】
【氏名】下平 英二
(72)【発明者】
【氏名】熊谷 正夫
(72)【発明者】
【氏名】児玉 伴子
(72)【発明者】
【氏名】新井 正彦
【テーマコード（参考）】
4C058
【Ｆターム（参考）】
4C058AA01
4C058BB02
(57)【要約】
【課題】 抗菌効果を有する微小凹凸の特徴を凹凸ピッチや凹部深さとは別の側面から特定し、その側面によって特定した微小凹凸を有する抗菌部材を提供する。
【解決手段】 本発明に係る抗菌部材は、微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下である表面を有することを特徴とする。また、本発明に係る抗菌部材は、微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下である、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面を有することを特徴とする。
【選択図】図３
【解決手段】 本発明に係る抗菌部材は、微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下である表面を有することを特徴とする。また、本発明に係る抗菌部材は、微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下である、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面を有することを特徴とする。
【選択図】図３
【特許請求の範囲】
【請求項1】
微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下である表面を有することを特徴とする抗菌部材。
【請求項2】
微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下である、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面を有することを特徴とする抗菌部材。
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下である、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面を有することを特徴とする抗菌部材。
【請求項3】
微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下であると共に、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下である、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面を有することを特徴とする抗菌部材。
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下である、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面を有することを特徴とする抗菌部材。
【請求項4】
前記微小凹凸を、ショット材投射処理、化学エッチング、プラズマ処理の何れか一つ或いはこれらの少なくとも２つ以上の組み合わせに基づいて形成することを特徴とする請求項１～３の何れか一つに記載の抗菌部材。
【請求項5】
前記微小凹凸は、ショット材投射処理、化学エッチング、プラズマ処理の何れか一つ或いはこれらの少なくとも２つ以上の組み合わせに基づいて形成された微小凹凸を有する型を用いて転写により形成されることを特徴とする請求項１～請求項３の何れか１つに記載の抗菌部材。
【請求項6】
微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下である表面を形成することで、部材の当該表面に抗菌効果を持たせることを特徴とする抗菌部材の生産方法。
【請求項7】
微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下である、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面を形成することで、部材の当該表面に抗菌効果を持たせることを特徴とする抗菌部材の生産方法。
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下である、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面を形成することで、部材の当該表面に抗菌効果を持たせることを特徴とする抗菌部材の生産方法。
【請求項8】
微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下である表面に基づいて、部材の当該表面の抗菌効果の有無を評価することを特徴とする抗菌部材の評価方法。
【請求項9】
微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下である、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面に基づいて、部材の当該表面の抗菌効果の有無を評価することを特徴とする抗菌部材の評価方法。
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下である、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面に基づいて、部材の当該表面の抗菌効果の有無を評価することを特徴とする抗菌部材の評価方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、部材表面に対して微小凹凸を無数にランダムに形成する処理を行うことで部材表面に抗菌作用或いは菌増殖抑制作用（抗菌効果或いは菌増殖・バイオフィルム形成抑制効果）を付与する技術に関する。
【0002】
これまで、本出願人等は、ディンプル状の微小凹凸を形成することによる表面改質技術の様々な分野への適用の可能性を探るべく、処理対象と接触する部材（処理対象接触部材）の表面に微小凹凸を無数に形成することによる作用効果を様々な分野で確認するといったアプローチを種々行っているが、その過程において、本出願人等は、特許文献１において記載したように、ショット材投射処理等によって部材の表面に形成される所定サイズの微小凹凸が、抗菌効果を発揮することを見い出した。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特許第６６９５５５８号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
ここで、特許文献１では、抗菌効果を発揮する微小凹凸を有する表面は、その微小凹凸の凹凸ピッチが０．４～７．３μｍの範囲にあり、当該凹凸ピッチに関連する凹部の深さが０．０４～１．０μｍの範囲にあるとしている。
しかし、本発明者等が、更に研究、解析を進めた結果、抗菌効果を発揮する微小凹凸の特徴について新たな知見を得た。
しかし、本発明者等が、更に研究、解析を進めた結果、抗菌効果を発揮する微小凹凸の特徴について新たな知見を得た。
【0005】
本発明は、上述した実情によりなされたもので、抗菌効果を有する微小凹凸の特徴を凹凸ピッチや凹部深さとは別の側面から特定し、その側面によって特定した微小凹凸を有する抗菌部材、その生産方法、及びその評価方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明に係る抗菌部材は、
微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下である表面を有することを特徴とする。
微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下である表面を有することを特徴とする。
【0007】
また、本発明に係る抗菌部材は、
微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下である、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面を有することを特徴とする。
微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下である、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面を有することを特徴とする。
【0008】
また、本発明に係る抗菌部材は、
微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下であると共に、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下である、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面を有することを特徴とする。
微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下であると共に、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下である、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面を有することを特徴とする。
【0009】
本発明において、前記微小凹凸を、ショット材投射処理、化学エッチング、プラズマ処理の何れか一つ或いはこれらの少なくとも２つ以上の組み合わせに基づいて形成することを特徴とすることができる。
【0010】
本発明において、前記微小凹凸は、ショット材投射処理、化学エッチング、プラズマ処理の何れか一つ或いはこれらの少なくとも２つ以上の組み合わせに基づいて形成された微小凹凸を有する型を用いて転写により形成されることを特徴とすることができる。
【0011】
本発明に係る抗菌部材の生産方法は、
微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下である表面を形成することで、部材の当該表面に抗菌効果を持たせることを特徴とする。
微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下である表面を形成することで、部材の当該表面に抗菌効果を持たせることを特徴とする。
【0012】
また、本発明に係る抗菌部材の生産方法は、
微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下である、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面を形成することで、部材の当該表面に抗菌効果を持たせることを特徴とする。
微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下である、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面を形成することで、部材の当該表面に抗菌効果を持たせることを特徴とする。
【0013】
本発明に係る抗菌部材の評価方法は、
微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下である表面に基づいて、部材の当該表面の抗菌効果の有無を評価することを特徴とする。
微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下である表面に基づいて、部材の当該表面の抗菌効果の有無を評価することを特徴とする。
【0014】
また、本発明に係る抗菌部材の評価方法は、
微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下である、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面に基づいて、部材の当該表面の抗菌効果の有無を評価することを特徴とする。
微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下である、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面に基づいて、部材の当該表面の抗菌効果の有無を評価することを特徴とする。
【発明の効果】
【0015】
本発明によれば、抗菌効果を有する微小凹凸の特徴を凹凸ピッチや凹部深さとは別の側面から特定し、その側面によって特定した微小凹凸を有する抗菌部材、その生産方法、及びその評価方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0016】
【図1】（Ａ）は「横軸にＲｄｑ、縦軸にＲｐ（最大山高さ）を取り、抗菌効果なし（抗菌性能なし）を〇、抗菌効果あり（抗菌性能あり）を□でプロットした図」であり、（Ｂ）は「横軸にＲｄｑ、縦軸にＲｖ（最大谷深さ）を取り、抗菌効果なし（抗菌性能なし）を〇、抗菌効果あり（抗菌性能あり）を□でプロットした図」であり、（Ｃ）は「横軸にＲｄｑ、縦軸にＲｚ（十点平均粗さ）を取り、抗菌効果なし（抗菌性能なし）を〇、抗菌効果あり（抗菌性能あり）を□でプロットした図」であり、（Ｄ）は「横軸にＲｄｑ、縦軸にＲｃ（平均高さ）を取り、抗菌効果なし（抗菌性能なし）を〇、抗菌効果あり（抗菌性能あり）を□でプロットした図」である。
【図2】（Ａ）は「横軸にＲｄｑ、縦軸にＲａ（算術平均高さ）を取り、抗菌効果なし（抗菌性能なし）を〇、抗菌効果あり（抗菌性能あり）を□でプロットした図」であり、（Ｂ）は「横軸にＲｄｑ、縦軸にＲｑ（二乗平均平方根高さ）を取り、抗菌効果なし（抗菌性能なし）を〇、抗菌効果あり（抗菌性能あり）を□でプロットした図」であり、（Ｃ）は「横軸にＲｄｑ、縦軸にＲｋｕ（クルトシス：山と谷の先端形状を表すパラメータ）を取り、抗菌効果なし（抗菌性能なし）を〇、抗菌効果あり（抗菌性能あり）を□でプロットした図」である。
【図3】横軸にＲｄｑ（稜線部の傾斜角）を取り、縦軸にＲＳｍ（凹凸の横方向のパラメータ）を取り、抗菌効果なし（抗菌性能なし）を〇、抗菌効果あり（抗菌性能あり）を□でプロットした図である。
【図4】サンプルＮｏ．１～５の各パラメータの値と抗菌活性値を列挙した一覧表である。
【図6】（Ａ）は二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑを説明する図であり、（Ｂ）は平均長さＲＳｍを説明する図である。
【図7】（Ａ）は最大山高さＲｐを説明する図であり、（Ｂ）は最大谷深さＲｖを説明する図である。
【図8】（Ａ）は十点平均粗さＲｚ（Ｒｚｊｉｓ）を説明する図であり、（Ｂ）は平均高さＲｃを説明する図である。
【図9】（Ａ）は算術平均高さＲａを説明する図であり、（Ｂ）は二乗平均平方根高さＲｑを説明する図である。
【図10】クルトシスＲｋｕを説明する図である。
【図11】ショット材投射処理により処理された「抗菌効果のある表面の形状および３Ｄ画像」の一例を示す図である。
【図12】ショット材投射処理の一例である微粒子ピーニング処理に用いるメディアをワンショットすることにより実験的に形成した単一の微小凹部の断面ＳＥＭ像である。
【図13】レーザ加工による凹部断面ＳＥＭ像である。
【発明を実施するための形態】
【0017】
以下、本発明に係る一実施の形態を、添付の図面を参照しつつ説明する。なお、以下で説明する実施の形態により、本発明が限定されるものではない。
【0018】
本出願人等は、特許第６６９５５５８号にて、微小凹凸を無数にランダムに形成した表面（微小凹凸表面）には、抗菌効果があることを提案したが、かかる抗菌効果を発揮する微小凹凸を有する表面は、その微小凹凸の凹凸ピッチが０．４～７．３μｍの範囲にあり、当該凹凸ピッチに関連する凹部の深さが０．０４～１．０μｍの範囲であった。
【0019】
しかし、本発明者等が、これまでに取りためてきた表面形状データに基づいて、更に研究、解析を進めた結果、抗菌効果を発揮する微小凹凸の特徴について、微小凹凸の凹凸ピッチや凹部深さとは異なる側面から特定することが可能であることがわかった。
【0020】
より詳しくは、凹凸ピッチは粗さで言えば、横方向のパラメータ、凹部深さは縦方向のパラメータになる。これまで、横方向・縦方向のパラメータが抗菌性能に大きく寄与していると考えていたが、研究開発を進める中で、多数の表面形状データを観察するうちに、凹凸の稜線部の角度が抗菌効果に大きく寄与していることを発見した。
【0021】
稜線部の角度のパラメータとしては、Ｒｄｑ（Ｒｏｏｔ ｍｅａｎ ｓｑｕａｒｅ ｓｌｏｐｅ：二乗平均平方根傾斜）というものがあり、これを用いて、微小凹凸の稜線部の角度・勾配（傾斜角）と、抗菌効果の有無と、の関係を整理した。
ＪＩＳ規格で定められる二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑの説明を、図６（Ａ）に示す。
ＪＩＳ規格で定められる二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑの説明を、図６（Ａ）に示す。
【0022】
横軸にＲｄｑ（稜線部の傾斜角）を取り、縦軸にその他の粗さパラメータをとって、データを整理した結果を図１に示す。
図１（Ａ）は、横軸にＲｄｑ、縦軸にＲｐ（最大山高さ）を取り、抗菌効果なし（抗菌性能なし）を〇、抗菌効果あり（抗菌性能あり）を□でプロットした図である。ＪＩＳ規格で定められる最大山高さＲｐの説明を、図７（Ａ）に示す。
図１（Ａ）から、Ｒｄｑが６°以上の場合に、抗菌効果があることがわかる。但し、図１（Ａ）では、抗菌効果がある表面は、Ｒｐ≦０．６μｍ（若しくは０．２μｍ≦Ｒｐ≦０．６μｍの範囲）である。なお、Ｒｄｑが６°以上のデータ群（抗菌効果ありのプロット群）におけるＲｐの最小値は０．２３２μｍであり、最大値は０．５６７μｍである(図５参照）。
図１（Ａ）は、横軸にＲｄｑ、縦軸にＲｐ（最大山高さ）を取り、抗菌効果なし（抗菌性能なし）を〇、抗菌効果あり（抗菌性能あり）を□でプロットした図である。ＪＩＳ規格で定められる最大山高さＲｐの説明を、図７（Ａ）に示す。
図１（Ａ）から、Ｒｄｑが６°以上の場合に、抗菌効果があることがわかる。但し、図１（Ａ）では、抗菌効果がある表面は、Ｒｐ≦０．６μｍ（若しくは０．２μｍ≦Ｒｐ≦０．６μｍの範囲）である。なお、Ｒｄｑが６°以上のデータ群（抗菌効果ありのプロット群）におけるＲｐの最小値は０．２３２μｍであり、最大値は０．５６７μｍである(図５参照）。
【0023】
図１（Ｂ）は、横軸にＲｄｑ、縦軸にＲｖ（最大谷深さ）を取り、抗菌効果なし（抗菌性能なし）を〇、抗菌効果あり（抗菌性能あり）を□でプロットした図である。ＪＩＳ規格で定められる最大谷深さＲｖの説明を、図７（Ｂ）に示す。
図１（Ｂ）から、Ｒｄｑが６°以上の場合に、抗菌効果があることがわかる。但し、図１（Ｂ）では、抗菌効果がある表面は、Ｒｖ≦０．６μｍ（若しくは０．２μｍ≦Ｒｖ≦０．６μｍの範囲）である。なお、Ｒｄｑが６°以上のデータ群（抗菌効果ありのプロット群）におけるＲｖの最小値は０．２３５μｍであり、最大値は０．５０６μｍである(図５参照）。
図１（Ｂ）から、Ｒｄｑが６°以上の場合に、抗菌効果があることがわかる。但し、図１（Ｂ）では、抗菌効果がある表面は、Ｒｖ≦０．６μｍ（若しくは０．２μｍ≦Ｒｖ≦０．６μｍの範囲）である。なお、Ｒｄｑが６°以上のデータ群（抗菌効果ありのプロット群）におけるＲｖの最小値は０．２３５μｍであり、最大値は０．５０６μｍである(図５参照）。
【0024】
図１（Ｃ）は、横軸にＲｄｑ、縦軸にＲｚ（十点平均粗さ）を取り、抗菌効果なし（抗菌性能なし）を〇、抗菌効果あり（抗菌性能あり）を□でプロットした図である。ＪＩＳ規格で定められる十点平均粗さＲｚ（Ｒｚｊｉｓ）の説明を、図８（Ａ）に示す。
図１（Ｃ）から、Ｒｄｑが６°以上の場合に、抗菌効果があることがわかる。但し、図１（Ｃ）では、抗菌効果がある表面は、Ｒｚ≦１．２μｍ（若しくは０．４μｍ≦Ｒｚ≦１．２μｍの範囲）である。なお、Ｒｄｑが６°以上のデータ群（抗菌効果ありのプロット群）におけるＲｚの最小値は０．５２７μｍであり、最大値は１．０３０μｍである(図５参照）。
図１（Ｃ）から、Ｒｄｑが６°以上の場合に、抗菌効果があることがわかる。但し、図１（Ｃ）では、抗菌効果がある表面は、Ｒｚ≦１．２μｍ（若しくは０．４μｍ≦Ｒｚ≦１．２μｍの範囲）である。なお、Ｒｄｑが６°以上のデータ群（抗菌効果ありのプロット群）におけるＲｚの最小値は０．５２７μｍであり、最大値は１．０３０μｍである(図５参照）。
【0025】
図１（Ｄ）は、横軸にＲｄｑ、縦軸にＲｃ（平均高さ）を取り、抗菌効果なし（抗菌性能なし）を〇、抗菌効果あり（抗菌性能あり）を□でプロットした図である。ＪＩＳ規格で定められる平均高さＲｃの説明を、図８（Ｂ）に示す。
図１（Ｄ）から、Ｒｄｑが６°以上の場合に、抗菌効果があることがわかる。但し、図１（Ｄ）では、抗菌効果がある表面は、Ｒｃ≦０．７μｍ（若しくは０．２μｍ≦Ｒｃ≦０．７μｍの範囲）である。なお、Ｒｄｑが６°以上のデータ群（抗菌効果ありのプロット群）におけるＲｃの最小値は０．３０４μｍであり、最大値は０．６４５μｍである(図５参照）。
図１（Ｄ）から、Ｒｄｑが６°以上の場合に、抗菌効果があることがわかる。但し、図１（Ｄ）では、抗菌効果がある表面は、Ｒｃ≦０．７μｍ（若しくは０．２μｍ≦Ｒｃ≦０．７μｍの範囲）である。なお、Ｒｄｑが６°以上のデータ群（抗菌効果ありのプロット群）におけるＲｃの最小値は０．３０４μｍであり、最大値は０．６４５μｍである(図５参照）。
【0026】
横軸にＲｄｑ（稜線部の傾斜角）を取り、縦軸に凹凸高さのパラメータをとって、データを整理した結果を図２に示す。
図２（Ａ）は、横軸にＲｄｑ、縦軸にＲａ（算術平均高さ）を取り、抗菌効果なし（抗菌性能なし）を〇、抗菌効果あり（抗菌性能あり）を□でプロットした図である。ＪＩＳ規格で定められる算術平均高さＲａの説明を、図９（Ａ）に示す。
図２（Ａ）から、Ｒｄｑが６°以上の場合に、抗菌効果があることがわかる。但し、図２（Ａ）では、抗菌効果がある表面は、Ｒａ≦０．２μｍ（若しくは０．０７μｍ≦Ｒａ≦０．２μｍの範囲）である。なお、Ｒｄｑが６°以上のデータ群（抗菌効果ありのプロット群）におけるＲａの最小値は０．０７２μｍであり、最大値は０．１８１μｍである(図５参照）。
図２（Ａ）は、横軸にＲｄｑ、縦軸にＲａ（算術平均高さ）を取り、抗菌効果なし（抗菌性能なし）を〇、抗菌効果あり（抗菌性能あり）を□でプロットした図である。ＪＩＳ規格で定められる算術平均高さＲａの説明を、図９（Ａ）に示す。
図２（Ａ）から、Ｒｄｑが６°以上の場合に、抗菌効果があることがわかる。但し、図２（Ａ）では、抗菌効果がある表面は、Ｒａ≦０．２μｍ（若しくは０．０７μｍ≦Ｒａ≦０．２μｍの範囲）である。なお、Ｒｄｑが６°以上のデータ群（抗菌効果ありのプロット群）におけるＲａの最小値は０．０７２μｍであり、最大値は０．１８１μｍである(図５参照）。
【0027】
図２（Ｂ）は、横軸にＲｄｑ、縦軸にＲｑ（二乗平均平方根高さ）を取り、抗菌効果なし（抗菌性能なし）を〇、抗菌効果あり（抗菌性能あり）を□でプロットした図である。ＪＩＳ規格で定められる二乗平均平方根高さＲｑの説明を、図９（Ｂ）に示す。
図２（Ｂ）から、Ｒｄｑが６°以上の場合に、抗菌効果があることがわかる。但し、図２（Ｂ）では、抗菌効果がある表面は、Ｒｑ≦０．２５μｍ（若しくは０．０９μｍ≦Ｒｑ≦０．２５μｍの範囲）である。なお、Ｒｄｑが６°以上のデータ群（抗菌効果ありのプロット群）におけるＲｑの最小値は０．０９４μｍであり、最大値は０．２２２μｍである(図５参照）。
図２（Ｂ）から、Ｒｄｑが６°以上の場合に、抗菌効果があることがわかる。但し、図２（Ｂ）では、抗菌効果がある表面は、Ｒｑ≦０．２５μｍ（若しくは０．０９μｍ≦Ｒｑ≦０．２５μｍの範囲）である。なお、Ｒｄｑが６°以上のデータ群（抗菌効果ありのプロット群）におけるＲｑの最小値は０．０９４μｍであり、最大値は０．２２２μｍである(図５参照）。
【0028】
図２（Ｃ）は、横軸にＲｄｑ、縦軸にＲｋｕ（クルトシス：山と谷の先端形状を表すパラメータ）を取り、抗菌効果なし（抗菌性能なし）を〇、抗菌効果あり（抗菌性能あり）を□でプロットした図である。ＪＩＳ規格で定められるクルトシスＲｋｕの説明を、図１０に示す。
図２（Ｃ）から、Ｒｄｑが６°以上の場合に、抗菌効果があることがわかる。但し、図２（Ｃ）では、抗菌効果がある表面は、Ｒｋｕ≦６．０（若しくは２．０≦Ｒｋｕ≦６．０の範囲）である。なお、Ｒｄｑが６°以上のデータ群（抗菌効果ありのプロット群）におけるＲｋｕの最小値は２．１８２であり、最大値は５．１２６である(図５参照）。
図２（Ｃ）から、Ｒｄｑが６°以上の場合に、抗菌効果があることがわかる。但し、図２（Ｃ）では、抗菌効果がある表面は、Ｒｋｕ≦６．０（若しくは２．０≦Ｒｋｕ≦６．０の範囲）である。なお、Ｒｄｑが６°以上のデータ群（抗菌効果ありのプロット群）におけるＲｋｕの最小値は２．１８２であり、最大値は５．１２６である(図５参照）。
【0029】
次に、図３に、横軸にＲｄｑ（稜線部の傾斜角）を取り、縦軸にＲＳｍ（凹凸の横方向のパラメータ）を取り、抗菌効果なし（抗菌性能なし）を〇、抗菌効果あり（抗菌性能あり）を□でプロットした図を示す。ＪＩＳ規格で定められる平均長さＲＳｍの説明を、図６（Ｂ）に示す。
図３から、Ｒｄｑが６°以上の場合に、抗菌効果があることがわかる。但し、図３では、抗菌効果がある表面は、ＲＳｍ≦２０μｍ（若しくは９μｍ≦ＲＳｍ≦２０μｍの範囲）である。なお、Ｒｄｑが６°以上のデータ群（抗菌効果ありのプロット群）におけるＲＳｍの最小値は９．６であり、最大値は１８．５である(図４参照）。
図３から、Ｒｄｑが６°以上の場合に、抗菌効果があることがわかる。但し、図３では、抗菌効果がある表面は、ＲＳｍ≦２０μｍ（若しくは９μｍ≦ＲＳｍ≦２０μｍの範囲）である。なお、Ｒｄｑが６°以上のデータ群（抗菌効果ありのプロット群）におけるＲＳｍの最小値は９．６であり、最大値は１８．５である(図４参照）。
【0030】
図４に、サンプルＮｏ．１～１０の各パラメータの値と抗菌活性値を列挙した一覧表を示す。なお、抗菌活性値２以上で抗菌効果がある。
【0031】
【0032】
しかし、Ｒｄｑと抗菌活性値の数値を観察すると、Ｒｄｑが大きいからと言って、抗菌活性値が大きくなる、というわけではない。例えば、サンプルＮｏ.７はＲｄｑが１０．６°と一番大きな角度を示しているが、抗菌活性値が一番大きいわけではなく、Ｎｏ.８のＲｄｑ＝７．１２°のサンプルが抗菌活性値としては一番大きい（つまり一番抗菌性能が高い）といった結果であり、Ｒｄｑの大きさと抗菌効果の大きさの関係は現段階では把握できてはいない。しかしながら、特許第６６９５５５８号で述べたように微小凹凸の凹凸ピッチや凹部深さの値が抗菌効果に影響するパラメーターであるが、Ｒｄｑ（稜線部の角度）も抗菌効果に影響を与える重要なパラメータであるということが今回わかった。
【0033】
すなわち、特許第６６９５５５８号では、その凹凸ピッチが０．４～７．３μｍの範囲にあり、当該凹凸ピッチに関連する凹部の深さが０．０４～１．０μｍの範囲にある微小凹凸を無数にランダムに形成した表面に抗菌効果があることを確認したが、その微小凹凸表面に「Ｒｄｑ（稜線部の傾斜角）が６°以上（傾斜勾配１０．５％以上）の凸部の稜線部」が存在すると、より一層高い抗菌効果が得られるものと考えられる。
【0034】
また、微小凹凸のある表面のＲｄｑ（稜線部の傾斜角）が６°以上（傾斜勾配１０．５％以上）であって、ＲＳｍが２０μｍ以下である場合には、その凹凸ピッチが０．４～７．３μｍの範囲にあり当該凹凸ピッチに関連する凹部の深さが０．０４～１．０μｍの範囲外にある微小凹凸の存在の有無にかかわらず、抗菌効果がある表面となると考えられる。
【0035】
なお、本実施の形態によれば、微小凹凸のある表面のＲｄｑ（稜線部の傾斜角）が６°以上（傾斜勾配１０．５％以上）であるという特定に加えて、微小凹凸のある表面の横方向のパラメータＲＳｍを考慮し、Ｒｄｑ（稜線部の傾斜角）が６°以上（傾斜勾配１０．５％以上）であって、ＲＳｍが２０μｍ以下（若しくは９μｍ≦ＲＳｍ≦２０μｍの範囲）である表面に抗菌効果があるとすることができる。
【0036】
また、本実施の形態によれば、微小凹凸のある表面の高さ方向のパラメータＲｐを考慮し、Ｒｄｑ（稜線部の傾斜角）が６°以上（傾斜勾配１０．５％以上）であって、Ｒｐが０．６μｍ以下（若しくは０．２μｍ≦Ｒｐ≦０．６μｍの範囲）である表面に抗菌効果があるとすることができる。
【0037】
また、本実施の形態によれば、微小凹凸のある表面の高さ方向のパラメータＲｖを考慮し、Ｒｄｑ（稜線部の傾斜角）が６°以上（傾斜勾配１０．５％以上）であって、Ｒｖが０．６μｍ以下（若しくは０．２μｍ≦Ｒｖ≦０．６μｍの範囲）である表面に抗菌効果があるとすることができる。
【0038】
また、本実施の形態によれば、微小凹凸のある表面の高さ方向のパラメータＲｚを考慮し、Ｒｄｑ（稜線部の傾斜角）が６°以上（傾斜勾配１０．５％以上）であって、Ｒｚが１．２μｍ以下（若しくは０．４μｍ≦Ｒｚ≦１．２μｍの範囲）である表面に抗菌効果があるとすることができる。
【0039】
また、本実施の形態によれば、微小凹凸のある表面の高さ方向のパラメータＲｃを考慮し、Ｒｄｑ（稜線部の傾斜角）が６°以上（傾斜勾配１０．５％以上）であって、Ｒｃが０．７μｍ以下（若しくは０．２μｍ≦Ｒｃ≦０．７μｍの範囲）である表面に抗菌効果があるとすることができる。
【0040】
また、本実施の形態によれば、微小凹凸のある表面の高さ方向のパラメータＲａを考慮し、Ｒｄｑ（稜線部の傾斜角）が６°以上（傾斜勾配１０．５％以上）であって、Ｒａが０．２μｍ以下（若しくは０．０７μｍ≦Ｒａ≦０．２μｍの範囲）である表面に抗菌効果があるとすることができる。
【0041】
また、本実施の形態によれば、微小凹凸のある表面の高さ方向のパラメータＲｑを考慮し、Ｒｄｑ（稜線部の傾斜角）が６°以上（傾斜勾配１０．５％以上）であって、Ｒｑが０．２５μｍ以下（若しくは０．０９μｍ≦Ｒｑ≦０．２５μｍの範囲）である表面に抗菌効果があるとすることができる。
【0042】
また、本実施の形態によれば、微小凹凸のある表面の高さ方向のパラメータＲｋｕを考慮し、Ｒｄｑ（稜線部の傾斜角）が６°以上（傾斜勾配１０．５％以上）であって、Ｒｋｕが６．０以下（若しくは２．０≦Ｒｋｕ≦６．０の範囲）である表面に抗菌効果があるとすることができる。
【0043】
また、Ｒｄｑ（稜線部の傾斜角）が６°以上（傾斜勾配１０．５％以上）であることに加え、微小凹凸のある表面の横方向のパラメータＲＳｍと、微小凹凸のある表面の高さ方向のパラメータＲｐ、Ｒｖ、Ｒｚ、Ｒｃ、Ｒａ、Ｒｑ、Ｒｋｕのうちの少なくとも一つと、を組み合わせることで、抗菌効果がある表面を特定することもできる。
【0044】
このように本実施の形態によれば、抗菌効果を有する微小凹凸の特徴を凹凸ピッチや凹部深さとは別の側面から特定し、その側面によって特定した微小凹凸を有する抗菌部材、その生産方法、及びその評価方法を提供することができる。
【0045】
なお、本実施の形態における抗菌試験は、特許第６６９５５５８号に記載したと同様の方法により行った。
すなわち、抗菌試験は、地方独立法人神奈川県立産業技術総合研究所にて実施した。
試験方法は、表面処理（表面テクスチャ）の異なる試料（試験片、サンプル）について、フィルム密着法による抗菌力評価試験を行った。
すなわち、抗菌試験は、地方独立法人神奈川県立産業技術総合研究所にて実施した。
試験方法は、表面処理（表面テクスチャ）の異なる試料（試験片、サンプル）について、フィルム密着法による抗菌力評価試験を行った。
【0046】
試験条件は、以下に示す通りである。
試験菌株：Ｅｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ ｃｏｌｉ ＮＢＲＣ３９７２株
接種菌液濃度：４．９×１０５ ＣＦＵ／ｍＬ
菌液接種量：０．４ｍＬ
試験面積：４０×４０ｍｍ角
被覆フィルム：エスクリニカパックＬ、積水化学工業(株)製
試験温度：３５°Ｃ
試験時間：８時間
生菌数測定には大腸菌群用微生物培地シート(ＪＮＣ（株)製)を用いた。
生菌数測定は、試料を滅菌生理食塩水９．６ｍＬで洗い、この洗い出した液中の生菌数濃度を測定することで行った。
試験菌株：Ｅｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ ｃｏｌｉ ＮＢＲＣ３９７２株
接種菌液濃度：４．９×１０５ ＣＦＵ／ｍＬ
菌液接種量：０．４ｍＬ
試験面積：４０×４０ｍｍ角
被覆フィルム：エスクリニカパックＬ、積水化学工業(株)製
試験温度：３５°Ｃ
試験時間：８時間
生菌数測定には大腸菌群用微生物培地シート(ＪＮＣ（株)製)を用いた。
生菌数測定は、試料を滅菌生理食塩水９．６ｍＬで洗い、この洗い出した液中の生菌数濃度を測定することで行った。
【0047】
本実施の形態に係るショット材投射処理は、ＳＵＳ３０４からなるステンレス製の板材の表面に、微粒子メディア「例えば（株）不二製作所製の研磨材（商品名「不二ランダムＣ（カーボランダム）」、粒番号Ｃ＃４００（最大粒子径７５μｍ以下、累積高さ５０％点の粒子径３０．０±２．０μｍ）のＳｉＣ（炭化ケイ素）」などを１／数（例えば０．３）ＭＰa程度の圧縮空気と共に噴射ノズルから噴射し、被加工面に投射処理（投射加工）を行った。
【0048】
抗菌効果のある表面の形状および３Ｄ画像の一例を、図１１に示す。
当該表面は、ＳＵＳ３０４の表面に、微粒子状のメディア（ショット材）を投射してディンプル状の微小凹部を形成するショット材投射処理によりディンプル状の微小凹部を無数にランダムに形成したものの一例である。微小凹凸が無数にランダムに形成されることで梨地状の表面が形成されている。
当該表面は、ＳＵＳ３０４の表面に、微粒子状のメディア（ショット材）を投射してディンプル状の微小凹部を形成するショット材投射処理によりディンプル状の微小凹部を無数にランダムに形成したものの一例である。微小凹凸が無数にランダムに形成されることで梨地状の表面が形成されている。
【0049】
本実施の形態における３Ｄ画像、表面形状、表面形状データは、ＫＥＹＥＮＣＥ社製の形状測定レーザーマイクロスコープＶＫ－Ｘ１００を用いて取得した。
【0050】
ここで、本実施の形態に係るショット材投射処理（微粒子投射処理、微小凹凸形成処理、マイクロディンプル処理（ＭＤ処理）などとも称される）は、既知の噴射装置により、上述したような仕様（材質やサイズや形状など）の異なるメディア（ショット材、研磨材粒子）を、条件を調整しつつ噴射して表面処理加工の対象である部材の表面に衝突させることで、異なる表面形状（表面テクスチャ）を有する所望の処理品を得ることができる。
【0051】
例えば、噴射装置としては、ブラスト装置を用いることができ、ブラスト装置の一例としては、例えば、株式会社不二製作所製の「ＰＮＥＵＭＡ ＢＬＡＳＴＥＲ」（型式：ＳＣシリーズ、ＳＧシリーズなど）などを用いることができる。また、例えば、特開２０１９－２５５８４号公報などに記載されているものを用いることができる。
【0052】
より具体的には、噴射粒体を部材の表面に向けて噴射する噴射装置としては、圧縮気体（空気、アルゴン、窒素等）と共に研磨材（微粒子）の噴射を行う既知のブラスト加工装置（ブラスト処理装置）を使用することができる。
【0053】
そして、ブラスト加工装置（ブラスト処理装置）としては、圧縮気体の噴射により生じた負圧を利用して研磨材を噴射するサクション式のブラスト加工装置，研磨材タンクから落下した研磨材を圧縮気体に乗せて噴射する重力式のブラスト加工装置，研磨材が投入されたタンク内に圧縮気体を導入し、別途与えられた圧縮気体供給源からの圧縮気体流に研磨材タンクからの研磨材流を合流させて噴射する直圧式のブラスト加工装置、及び、上記直圧式の圧縮気体流を、ブロワーユニットで発生させた気体流に乗せて噴射するブロワー式ブラスト加工装置等が市販されているが，これらはいずれも前述した噴射粒体の噴射に使用可能である。
また、水などの液体と共にショットを高圧で噴射するウォータージェット等のウェット系ブラストなども使用することができる。
また、水などの液体と共にショットを高圧で噴射するウォータージェット等のウェット系ブラストなども使用することができる。
【0054】
ここでは、微小凹凸をショット材投射処理により、ランダムに無数に（複数、多数）形成することとして説明したが、例えば、部材の表面に化学研磨（化学エッチング）或いはプラズマ処理（例えばアルゴンボンバード処理）などにより微小凹凸をランダムに無数に（複数、多数）形成することもできる。
なお、化学研磨（化学エッチング）としては、例えば、塩酸・硝酸・硫酸・リン酸などの酸性薬剤や塩化鉄（ＩＩＩ）などを任意の割合で水溶液に調製し使用することが想定される。
なお、化学研磨（化学エッチング）としては、例えば、塩酸・硝酸・硫酸・リン酸などの酸性薬剤や塩化鉄（ＩＩＩ）などを任意の割合で水溶液に調製し使用することが想定される。
【0055】
ところで、本発明において、微小凹凸を有する凹凸表面を形成することには、化学エッチング、プラズマ処理、ショット材投射処理、研磨処理などに基づいて（利用して）形成した凹凸表面を有する型を用いて、例えば転写等により、部材の表面に凹凸表面を形成する場合なども含まれるものである。
【0056】
また、本実施の形態は、例えばステンレス材であれば、処理前のベース材の♯４００、♯７００、２Ｂ等、表面の仕上げ仕様には拘らず、特に非磁性のオーステナイト系のステンレス（ＳＵＳ３０３、３０４、３１６など）、どれでも同等の効果が得られる。また、ステンレス材以外の金属材料（例えば、鉄の場合には、例えばスチール（ＳＳ４００など）、アルミニウム、チタン等の金属製或いは合金製など）であっても本発明は適用可能である。
【0057】
また、本発明に係る部材等は、樹脂製部材とすることも可能であり、その材料は特に限定されるものではない。例えばセラミックスとすることも可能である。
【0058】
ここで、本発明では、抗菌効果を有する凹凸表面を特定するために、微小凹凸が無数にランダムに形成されているといった特定方法を用いている。
すなわち、「ショット材投射処理により（或いは基づいて）、微小凹部を形成した表面」などの表現を用いる代わりに、「微小凹凸が無数にランダムに形成された表面」といった特定方法（表現）を用いている。
しかしながら、先行技術などとの対比において、上記特定方法（表現）では、ショット材投射処理により形成された凹凸表面を、他と区別した特徴的な特定方法（表現）として採用することが難しくなる場合も想定される。
すなわち、「ショット材投射処理により（或いは基づいて）、微小凹部を形成した表面」などの表現を用いる代わりに、「微小凹凸が無数にランダムに形成された表面」といった特定方法（表現）を用いている。
しかしながら、先行技術などとの対比において、上記特定方法（表現）では、ショット材投射処理により形成された凹凸表面を、他と区別した特徴的な特定方法（表現）として採用することが難しくなる場合も想定される。
【0059】
このため、「ショット材投射処理により（或いは基づいて）表面に微小凹凸を形成する」という特定方法（表現）により、抗菌効果を有する凹凸表面を特定せざるを得ない状況が想定される。
従って、ショット材投射処理により形成された微小凹凸を形状、構造、特性等により特定することには、本願出願時において不可能・非現実的事情が存在しており、「ショット材投射処理により（或いは基づいて（転写などの場合を考慮））表面に微小凹凸を形成することで」という表現を用いざるを得ない場合があることについて、以下に説明しておく。
従って、ショット材投射処理により形成された微小凹凸を形状、構造、特性等により特定することには、本願出願時において不可能・非現実的事情が存在しており、「ショット材投射処理により（或いは基づいて（転写などの場合を考慮））表面に微小凹凸を形成することで」という表現を用いざるを得ない場合があることについて、以下に説明しておく。
【0060】
ショット材投射処理は、投射粒（メディア）を、圧縮空気を介し秒速数十から百ｍ以上の速度で加工対象表面に衝突させ、有意な寸法変化を伴わずに、その縁に凸部を有する略球面状のミクロンサイズの微小凹部を不規則に加工面の略全面に形成するものであり、ショット材投射処理においてメディアが衝突して微小凹部が形成される際には、クレーター状に、その周囲が隆起して凸部が形成され（図１２参照）、この隆起した凸部は、他のメディアが衝突することで、凹まされるため凸部の高さは不規則となる。
【0061】
これに対して、レーザ加工や切削加工等の機械的加工は規則正しい凹部が形成されると共に、除去加工であるため凸部は形成されない（凹部の形成に伴って凸部が隆起されることはない）。このため、レーザ加工や切削加工等の機械的加工における微小凹部の周囲の凸部の高さは被加工材（レーザ加工されている部材）の表面（元々の素材表面）の高さに一致している（図１３参照）。
【0062】
また、ショット材投射処理により形成される微小凹凸は無数に不規則に（ランダムに）形成されるため、当該ショット材投射処理により形成される表面テクスチャ（形状）は、研磨や研削処理などの表面を削って傷（すじ状などの溝）を付与する処理により形成される表面形状（テクスチャ）とは異なるが、表面粗さ計などにより測定すると、両者は数値的には似た値となってしまうため、表面粗さなどにより両者を区別することはできない。
【0063】
しかし、ショット材投射処理により形成される表面テクスチャ（形状）によって得られる効果（抗菌効果など）は、研磨や研削処理などの表面を削って傷を付与する処理により形成される表面形状（テクスチャ）からは予想できない格別なものである。
また、数ミリオーダーのメディアを衝突させて残留応力を付与して疲労限を改善するショットピーニング処理からは、ショット材投射処理を施した表面が洗浄性改善効果などを有するといったことは到底予測できないものである。
また、数ミリオーダーのメディアを衝突させて残留応力を付与して疲労限を改善するショットピーニング処理からは、ショット材投射処理を施した表面が洗浄性改善効果などを有するといったことは到底予測できないものである。
【0064】
このように、ショット材投射処理により形成される微小凹凸は無数に不規則に（ランダムに）形成され、微小凹部及びその周囲の凸部の形状は不規則であり、その不規則性が本発明により奏される作用効果の源になっていることに鑑みれば、ショット材投射処理により形成された表面テクスチャ（形状）を特定するための用語として、「ショット材投射処理により（或いは基づいて）形成された」という表現を用いる以外には、ショット材投射処理により形成された表面を特定することはできない。
以上のように、ショット材投射処理により形成された微小凹凸を形状、構造、特性等により特定することには、本願出願時において不可能・非現実的事情が存在している。
以上のように、ショット材投射処理により形成された微小凹凸を形状、構造、特性等により特定することには、本願出願時において不可能・非現実的事情が存在している。
【0065】
ところで、本発明は、上述した発明の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において、種々変更を加え得ることは可能である。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【手続補正書】
【提出日】2022-12-07
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
ショット材投射処理により、微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下とすることで、当該表面に抗菌性を持たせたことを特徴とする抗菌部材。
【請求項2】
ショット材投射処理により、微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たすことで、当該表面に抗菌性を持たせたことを特徴とする抗菌部材。
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たすことで、当該表面に抗菌性を持たせたことを特徴とする抗菌部材。
【請求項3】
ショット材投射処理により、微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下であると共に、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たすことで、当該表面に抗菌性を持たせたことを特徴とする抗菌部材。
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たすことで、当該表面に抗菌性を持たせたことを特徴とする抗菌部材。
【請求項4】
ショット材投射処理により、微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下である表面を形成することで、部材の当該表面に抗菌効果を持たせることを特徴とする抗菌部材の生産方法。
【請求項5】
ショット材投射処理により、微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面を形成することで、部材の当該表面に抗菌効果を持たせることを特徴とする抗菌部材の生産方法。
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面を形成することで、部材の当該表面に抗菌効果を持たせることを特徴とする抗菌部材の生産方法。
【請求項6】
ショット材投射処理により、微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下である表面に基づいて、部材の当該表面の抗菌効果の有無を評価することを特徴とする抗菌部材の評価方法。
【請求項7】
ショット材投射処理により、微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面に基づいて、部材の当該表面の抗菌効果の有無を評価することを特徴とする抗菌部材の評価方法。
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面に基づいて、部材の当該表面の抗菌効果の有無を評価することを特徴とする抗菌部材の評価方法。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0006】
本発明に係る抗菌部材は、
ショット材投射処理により、微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下とすることで、当該表面に抗菌性を持たせたことを特徴とする。
ショット材投射処理により、微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下とすることで、当該表面に抗菌性を持たせたことを特徴とする。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0007】
また、本発明に係る抗菌部材は、
ショット材投射処理により、微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たすことで、当該表面に抗菌性を持たせたことを特徴とする。
ショット材投射処理により、微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たすことで、当該表面に抗菌性を持たせたことを特徴とする。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0008】
また、本発明に係る抗菌部材は、
ショット材投射処理により、微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下であると共に、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たすことで、当該表面に抗菌性を持たせたことを特徴とする。
ショット材投射処理により、微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下であると共に、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たすことで、当該表面に抗菌性を持たせたことを特徴とする。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0011】
本発明に係る抗菌部材の生産方法は、
ショット材投射処理により、微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下である表面を形成することで、部材の当該表面に抗菌効果を持たせることを特徴とする。
ショット材投射処理により、微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下である表面を形成することで、部材の当該表面に抗菌効果を持たせることを特徴とする。
【手続補正8】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0012】
また、本発明に係る抗菌部材の生産方法は、
ショット材投射処理により、微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面を形成することで、部材の当該表面に抗菌効果を持たせることを特徴とする。
ショット材投射処理により、微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面を形成することで、部材の当該表面に抗菌効果を持たせることを特徴とする。
【手続補正9】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0013】
本発明に係る抗菌部材の評価方法は、
ショット材投射処理により、微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下である表面に基づいて、部材の当該表面の抗菌効果の有無を評価することを特徴とする。
ショット材投射処理により、微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下である表面に基づいて、部材の当該表面の抗菌効果の有無を評価することを特徴とする。
【手続補正10】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0014】
また、本発明に係る抗菌部材の評価方法は、
ショット材投射処理により、微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面に基づいて、部材の当該表面の抗菌効果の有無を評価することを特徴とする。
ショット材投射処理により、微小凹凸が無数にランダムに形成された表面であって、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面に基づいて、部材の当該表面の抗菌効果の有無を評価することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】2023-02-15
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
部材の菌と接触する表面に、ショット材投射処理に基づいて、微小凹凸を無数にランダムに形成し、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下である表面を有することで、部材の当該表面に抗菌効果を持たせたことを特徴とする抗菌部材。
【請求項2】
部材の菌と接触する表面に、ショット材投射処理に基づいて、微小凹凸を無数にランダムに形成し、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面を有することで、部材の当該表面に抗菌効果を持たせたことを特徴とする抗菌部材。
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面を有することで、部材の当該表面に抗菌効果を持たせたことを特徴とする抗菌部材。
【請求項3】
部材の菌と接触する表面に、ショット材投射処理に基づいて、微小凹凸を無数にランダムに形成し、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下であると共に、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面を有することで、部材の当該表面に抗菌効果を持たせたことを特徴とする抗菌部材。
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面を有することで、部材の当該表面に抗菌効果を持たせたことを特徴とする抗菌部材。
【請求項4】
部材の菌と接触する表面に、ショット材投射処理に基づいて、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下である表面を、微小凹凸を無数にランダムに形成することで、部材の当該表面に抗菌効果を持たせることを特徴とする抗菌部材の生産方法。
【請求項5】
部材の菌と接触する表面に、ショット材投射処理に基づいて、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面を、微小凹凸を無数にランダムに形成することで、部材の当該表面に抗菌効果を持たせることを特徴とする抗菌部材の生産方法。
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面を、微小凹凸を無数にランダムに形成することで、部材の当該表面に抗菌効果を持たせることを特徴とする抗菌部材の生産方法。
【請求項6】
ショット材投射処理に基づいて、微小凹凸が無数にランダムに形成された菌と接触する表面であって、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下である表面に基づいて、部材の当該表面の抗菌効果の有無を評価することを特徴とする抗菌部材の評価方法。
【請求項7】
ショット材投射処理に基づいて、微小凹凸が無数にランダムに形成された菌と接触する表面であって、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面に基づいて、部材の当該表面の抗菌効果の有無を評価することを特徴とする抗菌部材の評価方法。
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面に基づいて、部材の当該表面の抗菌効果の有無を評価することを特徴とする抗菌部材の評価方法。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0006】
本発明に係る抗菌部材は、
部材の菌と接触する表面に、ショット材投射処理に基づいて、微小凹凸を無数にランダムに形成し、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下である表面を有することで、部材の当該表面に抗菌効果を持たせたことを特徴とする。
部材の菌と接触する表面に、ショット材投射処理に基づいて、微小凹凸を無数にランダムに形成し、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下である表面を有することで、部材の当該表面に抗菌効果を持たせたことを特徴とする。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0007】
また、本発明に係る抗菌部材は、
部材の菌と接触する表面に、ショット材投射処理に基づいて、微小凹凸を無数にランダムに形成し、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面を有することで、部材の当該表面に抗菌効果を持たせたことを特徴とする。
部材の菌と接触する表面に、ショット材投射処理に基づいて、微小凹凸を無数にランダムに形成し、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面を有することで、部材の当該表面に抗菌効果を持たせたことを特徴とする。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0008】
また、本発明に係る抗菌部材は、
部材の菌と接触する表面に、ショット材投射処理に基づいて、微小凹凸を無数にランダムに形成し、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下であると共に、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面を有することで、部材の当該表面に抗菌効果を持たせたことを特徴とする。
部材の菌と接触する表面に、ショット材投射処理に基づいて、微小凹凸を無数にランダムに形成し、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下であると共に、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面を有することで、部材の当該表面に抗菌効果を持たせたことを特徴とする。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0011】
本発明に係る抗菌部材の生産方法は、
部材の菌と接触する表面に、ショット材投射処理に基づいて、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下である表面を、微小凹凸を無数にランダムに形成することで、部材の当該表面に抗菌効果を持たせることを特徴とする。
部材の菌と接触する表面に、ショット材投射処理に基づいて、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下である表面を、微小凹凸を無数にランダムに形成することで、部材の当該表面に抗菌効果を持たせることを特徴とする。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0012】
また、本発明に係る抗菌部材の生産方法は、
部材の菌と接触する表面に、ショット材投射処理に基づいて、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面を、微小凹凸を無数にランダムに形成することで、部材の当該表面に抗菌効果を持たせることを特徴とする。
部材の菌と接触する表面に、ショット材投射処理に基づいて、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面を、微小凹凸を無数にランダムに形成することで、部材の当該表面に抗菌効果を持たせることを特徴とする。
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0013】
本発明に係る抗菌部材の評価方法は、
ショット材投射処理に基づいて、微小凹凸が無数にランダムに形成された菌と接触する表面であって、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下である表面に基づいて、部材の当該表面の抗菌効果の有無を評価することを特徴とする。
ショット材投射処理に基づいて、微小凹凸が無数にランダムに形成された菌と接触する表面であって、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、かつ、平均長さＲＳｍが２０μｍ以下である表面に基づいて、部材の当該表面の抗菌効果の有無を評価することを特徴とする。
【手続補正8】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0014】
また、本発明に係る抗菌部材の評価方法は、
ショット材投射処理に基づいて、微小凹凸が無数にランダムに形成された菌と接触する表面であって、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面に基づいて、部材の当該表面の抗菌効果の有無を評価することを特徴とする。
ショット材投射処理に基づいて、微小凹凸が無数にランダムに形成された菌と接触する表面であって、その表面の二乗平均平方根傾斜Ｒｄｑが６°以上であり、
かつ、
最大山高さＲｐが０．６μｍ以下、最大谷深さＲｖが０．６μｍ以下、十点平均粗さＲｚが１．２μｍ以下、平均高さＲｃが０．７μｍ以下、算術平均高さＲａが０．２μｍ以下、二乗平均平方根長さＲｑが０．３μｍ以下、或いはクルトシスＲｋｕが６．０以下のうちの少なくとも一つの条件を満たす表面に基づいて、部材の当該表面の抗菌効果の有無を評価することを特徴とする。