(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023183809
(43)【公開日】2023-12-28
(54)【発明の名称】調理器用ガラストッププレート
(51)【国際特許分類】
F24C 15/10 20060101AFI20231221BHJP
H05B 6/12 20060101ALI20231221BHJP
C03C 17/23 20060101ALI20231221BHJP
【ＦＩ】
F24C15/10 B
H05B6/12 305
C03C17/23
【審査請求】有
【請求項の数】3
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022097547
(22)【出願日】2022-06-16
(11)【特許番号】
(45)【特許公報発行日】2023-06-07
(71)【出願人】
【識別番号】000244305
【氏名又は名称】鳴海製陶株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110000648
【氏名又は名称】弁理士法人あいち国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】阿部 祐作
【テーマコード（参考）】
3K151
4G059
【Ｆターム（参考）】
3K151AA11
3K151BA62
4G059AA01
4G059AC06
4G059EA02
4G059EA09
(57)【要約】
【課題】焦げ付きが抑制された調理器用ガラストッププレートを提供する。
【解決手段】調理器１５の上部に配置するための調理器用ガラストッププレート１０であって、ガラス基板１１と、前記ガラス基板１１の調理面１２の少なくとも一部に形成された赤外線反射層１３と、を備え、前記赤外線反射層１３は、波長８００－１００００ｎｍの範囲における赤外線反射率の積分平均値が２０％以上である、調理器用ガラストッププレート１０。
【選択図】図１
【解決手段】調理器１５の上部に配置するための調理器用ガラストッププレート１０であって、ガラス基板１１と、前記ガラス基板１１の調理面１２の少なくとも一部に形成された赤外線反射層１３と、を備え、前記赤外線反射層１３は、波長８００－１００００ｎｍの範囲における赤外線反射率の積分平均値が２０％以上である、調理器用ガラストッププレート１０。
【選択図】図１
【特許請求の範囲】
【請求項1】
調理器の上部に配置するための調理器用ガラストッププレートであって、
ガラス基板と、
前記ガラス基板の調理面の少なくとも一部に形成された赤外線反射層と、を備え、
前記赤外線反射層は、波長８００－１００００ｎｍの範囲における赤外線反射率の積分平均値が２０％以上である、調理器用ガラストッププレート。
ガラス基板と、
前記ガラス基板の調理面の少なくとも一部に形成された赤外線反射層と、を備え、
前記赤外線反射層は、波長８００－１００００ｎｍの範囲における赤外線反射率の積分平均値が２０％以上である、調理器用ガラストッププレート。
【請求項2】
前記赤外線反射層の可視光透過率が５０％以上である、請求項１に記載の調理器用ガラストッププレート。
【請求項3】
前記赤外線反射層はＦＴＯからなる請求項１に記載の調理器用ガラストッププレート。
【請求項4】
前記調理器が、ガスバーナを備えたガス調理器である、請求項１～３のいずれか一項に記載の調理器用ガラストッププレート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、調理器用ガラストッププレートに関する。
【背景技術】
【0002】
従来、特許文献１（特開２００８－１９２４５５号公報）に記載されているように、電磁調理器やガス調理器等の調理器の上部に載置される、ガラス基板を備えた調理器用ガラストッププレートが知られている。この調理器用ガラストッププレートには、鍋等の被加熱物が載置される。被加熱物は、調理器内部の誘導加熱を行う誘導加熱コイル、またはガスバーナ等の加熱装置により加熱される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】特開２００８－１９２４５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
調理中に、被加熱物から吹きこぼれた煮汁等が、調理器用ガラストッププレートの調理面の上に付着する場合がある。煮汁等が付着したまま調理器用ガラストッププレートが加熱され続けると、調理器用ガラストッププレートの調理面に、煮汁等に起因する焦げ付きが生じるおそれがある。調理器用ガラストッププレートの調理面に焦げ付きが生じた場合、容易に除去することが難しいという課題がある。
【0005】
本発明は、かかる背景に鑑みてなされたものであり、焦げ付きが抑制可能な調理器用ガラストッププレートを提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明の態様は、
調理器の上部に配置するための調理器用ガラストッププレートであって、
ガラス基板と、
前記ガラス基板の調理面の少なくとも一部に形成された赤外線反射層と、を備え、
前記赤外線反射層は、波長８００－１００００ｎｍの範囲における赤外線反射率の積分平均値が２０％以上である、調理器用ガラストッププレートにある。
調理器の上部に配置するための調理器用ガラストッププレートであって、
ガラス基板と、
前記ガラス基板の調理面の少なくとも一部に形成された赤外線反射層と、を備え、
前記赤外線反射層は、波長８００－１００００ｎｍの範囲における赤外線反射率の積分平均値が２０％以上である、調理器用ガラストッププレートにある。
【発明の効果】
【0007】
本発明によれば、調理器の加熱装置から発せられる赤外線、および調理器の上に設置された鍋等の被加熱物から発せられた赤外線等を、赤外線反射層により反射することができる。これにより、調理器用ガラストッププレートの調理面の温度が上昇することを抑制することができる。この結果、調理面に吹きこぼれた煮汁等が液体で存在する時間が長くなるので、調理面に焦げ付きが形成されることを抑制することができる。
【0008】
以上のごとく、本発明によれば、調理器用ガラストッププレートに焦げ付きが形成されることを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
【発明を実施するための形態】
【0010】
（実施形態１）
本発明の調理器用ガラストッププレート１０について、図１～３を用いて説明する。図１に示すように、調理器用ガラストッププレート１０は、ガラス基板１１と、ガラス基板１１の調理面１２に形成された赤外線反射層１３と、を備える。
本発明の調理器用ガラストッププレート１０について、図１～３を用いて説明する。図１に示すように、調理器用ガラストッププレート１０は、ガラス基板１１と、ガラス基板１１の調理面１２に形成された赤外線反射層１３と、を備える。
【0011】
ガラス基板１１は、ガラス製であって、調理面１２と、この調理面１２の反対側に位置する裏面１４と、を備える。図２に示すように、調理器用ガラストッププレート１０は、調理器１５の上面に、調理面１２を上方に向けて載置されている。ガラス基板１１の裏面１４は調理器１５の上面と対向している。調理器１５の上部にはガスバーナ、ＩＨヒータ等の加熱装置１６が配置されている。本実施形態では加熱装置１６としてガスバーナが用いられている。
【0012】
図３に示すように、ガスバーナが配置された、いわゆるガス調理器（調理器１５の一例）においては、鍋等の被加熱物１７から発せられる赤外線に加えて、ガスの燃焼火炎から発せられる赤外線によって調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２が加熱されるので、焦げ付きが生じやすい。本実施形態によれば、焦げ付きが生じやすいガス調理器において、効果的に焦げ付きを抑制することができる。ただし、加熱装置１６としてＩＨヒータが用いられていてもよい。
【0013】
図３に示すように、調理器用ガラストッププレート１０には、加熱装置１６が挿通される貫通孔１８が、調理器用ガラストッププレート１０を貫通して形成されている。本実施形態においては、調理器用ガラストッププレート１０の上部のうち、貫通孔１８の孔縁部の近傍に、例えば金属等の、耐熱性を有する材料からなる五徳１９が取り付けられている。五徳１９の上には、被加熱物１７が配置される。五徳１９の上に載置された被加熱物１７は、加熱装置１６により加熱されるようになっている。これにより、被加熱物１７の中に収容された内容物が調理されるようになっている。ただし、加熱装置１６としてＩＨヒータが用いられる場合には、貫通孔１８、および五徳１９は省略してもよい。
【0014】
ガラス基板１１は、β－石英固溶体及びβ－スポジューメンを主結晶とすることが好ましい。β－石英固溶体又はβ－スポジューメンを主結晶とする透明低膨張結晶化ガラス板は、特に調理器用ガラストッププレート１０のガラス基板１１として適している。
【0015】
ガラス基板１１は、線熱膨張係数が－１０～８０×１０－７／℃（３０～５００℃）であることが好ましい。ガラス基板１１の線熱膨張係数が－１０～８０×１０－７／℃（３０～５００℃）であることにより、加熱と冷却が繰り返される調理器用ガラストッププレート１０において、寸法安定性が向上するので好ましい。
【0016】
赤外線反射層１３は、ガラス基板１１の調理面１２に形成されている。赤外線反射層１３は、ガラス基板１１の調理面１２に、全面に亘って形成されていてもよいし、ガラス基板１１の調理面１２の一部に形成されていてもよい。ガラス基板１１の調理面１２の一部に赤外線反射層１３が形成される場合には、例えば、加熱装置１６の近傍の領域、被加熱物１７が配置される可能性がある領域等、比較的に赤外線が照射されやすい部分に、赤外線反射層１３が形成されることが好ましい。
【0017】
赤外線反射層１３は、赤外線を反射可能に構成されている。本実施形態において、赤外線とは、波長７８０ｎｍ－１ｍｍの電磁波をいう。本実施形態に係る赤外線反射層１３は、波長８００－１００００ｎｍの範囲における赤外線反射率の積分平均値が２０％以上であることが好ましい。これにより、調理器１５の加熱装置１６から発せられる赤外線、および調理器１５の上に設置された鍋等の被加熱物１７から発せられた赤外線等を、赤外線反射層１３により反射することができる。これにより、調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２の温度が上昇することを抑制することができる。この結果、調理面１２に吹きこぼれた煮汁等が液体で存在する時間が長くなるので、調理面１２に焦げ付きが形成されることを抑制することができる。
【0018】
波長８００－１００００ｎｍの範囲における赤外線反射率の積分平均値が３０％以上であると、調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２の温度が上昇することをさらに抑制することができるので、調理面１２に吹きこぼれた煮汁等が液体で存在する時間がさらに長くなる。この結果、調理面１２に焦げ付きが形成されることをさらに抑制することができるので好ましい。波長８００－１００００ｎｍの範囲における赤外線反射率の積分平均値が４０％以上であればより好ましく、５０％以上であればさらに好ましい。
【0019】
波長８００－１００００ｎｍの範囲における赤外線反射率の積分平均値が６０％以上であると、調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２の温度が上昇することをさらに抑制することができるので、特に好ましい。
【0020】
赤外線反射層１３を構成する材料としては、金属酸化物、焼結体等、任意の材料を選択することができる。
【0021】
金属酸化物としては、例えば、Ｉｎ２Ｏ３系酸化物、ＳｎＯ２系酸化物、ＺｎＯ系酸化物、及びＴｉＯ２系酸化物等、任意の金属酸化物を選択できる。金属酸化物は、１種からなる構成としてもよく、また、２種以上からなる構成としてもよい。
【0022】
Ｉｎ２Ｏ３系酸化物半導体としては、例えば、ＩＴＯ［Ｉｎ２Ｏ３－Ｓｎ］、ＩＺＯ［Ｉｎ２Ｏ３－ＺｎＯ系アモルファス酸化物］等が挙げられる。また、ＳｎＯ２系酸化物半導体としては、例えば、ＳｎＯ２、ＦＴＯ［ＳｎＯ２－Ｆ］、ＡＴＯ［ＳｎＯ２－Ｓｂ］等が挙げられる。また、ＺｎＯ系酸化物半導体としては、ＺｎＯ、ＡＺＯ［ＺｎＯ－Ａｌ］、ＧＺＯ［ＺｎＯ－Ｇａ］等が挙げられる。また、ＴｉＯ２系酸化物半導体としては、ＴＮＯ［ＴｉＯ２－Ｎｂ、ＴｉＯ２－Ｔａ］等が挙げられる。その中でも、耐熱性に優れることから、特にＦＴＯが好ましい。
【0023】
金属酸化物からなる赤外線反射層１３は、単層であってもよいし、複数積層したものであってもよい。金属酸化物からなる赤外線反射層１３は、スパッタリング、ＣＶＤ法等、公知の手法により形成される。
【0024】
焼結体は、金属または非金属を含むペーストが焼結されて形成される。焼結体に含まれる金属としては、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、パラジウム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）、ロジウム（Ｒｈ）、アルミニウム（Ａｌ）等、またはそれらの合金が挙げられる。焼結体に含まれる非金属としては、カーボン等、が挙げられる。焼結体は、ガラス基板１１の調理面１２に塗布された金属粒子を含む金属レジネート、またはカーボン含有ペーストが、例えば３００－９００℃の温度で焼結されることにより形成される。
【0025】
焼結体は、ガラス基板１１の調理面１２に、１層形成されていてもよく、また、２層以上に積層して形成されていてもよい。複数層の焼結体は、例えば、ガラス基板１１の調理面１２に金属レジネート、またはカーボン含有ペーストを１層塗布して焼結した後、さらに金属レジネート、またはカーボン含有ペーストを１層塗布して焼結するという工程を所望の回数繰り返すことにより形成することができる。
【0026】
赤外線反射層１３は、可視光透過率が５０％以上であることが好ましい。これにより、意匠性に優れた装飾層が形成された場合において、赤外線反射層１３、およびガラス基板１１を通してガラス基板１１の裏面１４の装飾層を視認することができる。この結果、調理器用ガラストッププレート１０の意匠性を向上させることができる。本実施形態においては、可視光の波長は３８０－７８０ｎｍとされる。
【0027】
赤外線反射層１３の上面に、赤外線反射層１３を保護するためのコーティング層が形成されてもよい。
【0028】
ガラス基板１１の裏面１４に、板状をなす金属製の金属パネルが積層されていてもよい。金属はガラスに比べて熱伝導率が高いので、ガラス基板１１の温度が上昇したときに、ガラス基板１１から金属パネルに熱伝達され、その後、金属パネルに伝達された熱が金属パネル内に拡散される。これにより、ガラス基板１１が局所的に高温になることが抑制されるので、ガラス基板１１のうち局所的に高温になった部分において焦げ付きが発生することを抑制することができる。金属パネルを構成する金属としては、鉄、鉄合金、アルミニウム、アルミニウム合金、銅、銅合金等、任意の金属を適宜に選択することができる。
【0029】
続いて、本発明の実施例１－３、および比較例１－３について、下記の実験を行った。
【0030】
（実施例１）
本発明の調理器用ガラストッププレート１０にかかる実施例１について説明する。実施例１の調理器用ガラストッププレート１０は、低膨張結晶化ガラス板よりなるガラス基板１１の調理面１２に赤外線反射層１３を積層することにより形成した。ガラス基板１１としては、β－石英を主結晶とする透明低膨張結晶化ガラスを用いた。ガラス基板１１の調理面１２の全面に、公知のスパッタリングにより、ＦＴＯ層を形成した。ＦＴＯの可視光透過率は７０％以上であった。
本発明の調理器用ガラストッププレート１０にかかる実施例１について説明する。実施例１の調理器用ガラストッププレート１０は、低膨張結晶化ガラス板よりなるガラス基板１１の調理面１２に赤外線反射層１３を積層することにより形成した。ガラス基板１１としては、β－石英を主結晶とする透明低膨張結晶化ガラスを用いた。ガラス基板１１の調理面１２の全面に、公知のスパッタリングにより、ＦＴＯ層を形成した。ＦＴＯの可視光透過率は７０％以上であった。
【0031】
（実施例２）
実施例２に係る調理器用ガラストッププレート１０については、ガラス基板１１の調理面１２に、金を含む金レジネートを、公知のスクリーン印刷により塗布した。その後、８００℃で焼成を行い、１層の焼結体の層を形成した。形成された焼結体の層の上に、上記と同様の操作を２回繰り返すことにより、金レジネートを焼結してなる焼結体の層を２層積層した。本例においては、合計３層の焼結体の層により、赤外線反射層１３を形成した。上記以外は実施例１と同様に行った。
実施例２に係る調理器用ガラストッププレート１０については、ガラス基板１１の調理面１２に、金を含む金レジネートを、公知のスクリーン印刷により塗布した。その後、８００℃で焼成を行い、１層の焼結体の層を形成した。形成された焼結体の層の上に、上記と同様の操作を２回繰り返すことにより、金レジネートを焼結してなる焼結体の層を２層積層した。本例においては、合計３層の焼結体の層により、赤外線反射層１３を形成した。上記以外は実施例１と同様に行った。
【0032】
（実施例３）
実施例３に係る調理器用ガラストッププレート１０については、赤外線反射層１３を、金レジネートを用いて、２層の焼結体の層により形成した。上記以外は実施例２と同様に行った。
実施例３に係る調理器用ガラストッププレート１０については、赤外線反射層１３を、金レジネートを用いて、２層の焼結体の層により形成した。上記以外は実施例２と同様に行った。
【0033】
（比較例１）
比較例１に係る調理器用ガラストッププレート１０については、赤外線反射層１３を、金レジネートを用いて、１層の焼結体の層により形成した。上記以外は実施例２と同様に行った。
比較例１に係る調理器用ガラストッププレート１０については、赤外線反射層１３を、金レジネートを用いて、１層の焼結体の層により形成した。上記以外は実施例２と同様に行った。
【0034】
（比較例２）
比較例２に係る調理器用ガラストッププレート１０については、ガラス基板１１の裏面１４にアルミニウム製の金属パネルを積層した。ガラス基板１１の調理面１２には、赤外線反射層１３は形成されていない。上記以外は実施例１と同様に行った。
比較例２に係る調理器用ガラストッププレート１０については、ガラス基板１１の裏面１４にアルミニウム製の金属パネルを積層した。ガラス基板１１の調理面１２には、赤外線反射層１３は形成されていない。上記以外は実施例１と同様に行った。
【0035】
（比較例３）
比較例３に係る調理器用ガラストッププレート１０については、ガラス基板１１の調理面１２に赤外線反射層１３は形成されておらず、また、ガラス基板１１の裏面１４に金属パネルは積層されていない。上記以外は実施例１と同様に行った。
比較例３に係る調理器用ガラストッププレート１０については、ガラス基板１１の調理面１２に赤外線反射層１３は形成されておらず、また、ガラス基板１１の裏面１４に金属パネルは積層されていない。上記以外は実施例１と同様に行った。
【0036】
（赤外線反射率測定）
実施例１―３および比較例１－３に係る調理器用ガラストッププレート１０を所定の大きさに切り出して試験片を作成した。この試験片を用いて、調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２における、波長８００－１００００ｎｍの赤外線反射率を測定した。波長８００－２５００ｎｍの範囲では、日本分光株式会社製、紫外可視分光光度計 Ｖ－５７０を用い、波長２５００－１００００ｎｍの範囲では、日本分光株式会社製、フーリエ変換赤外分光光度計 ＦＴ／ＩＲ－４１０を用いた。上記の実験結果から、波長８００－１００００ｎｍの範囲について赤外線反射率の積分平均を算出した。なお、比較例２については赤外線反射率を測定しなかった。これは、ガラス基板１１の裏面１４に積層された金属パネルはガラス基板の熱を分散させることを目的したものであって、赤外線を反射させることを目的としたものではないからである。測定結果を表１および図４にまとめた。
実施例１―３および比較例１－３に係る調理器用ガラストッププレート１０を所定の大きさに切り出して試験片を作成した。この試験片を用いて、調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２における、波長８００－１００００ｎｍの赤外線反射率を測定した。波長８００－２５００ｎｍの範囲では、日本分光株式会社製、紫外可視分光光度計 Ｖ－５７０を用い、波長２５００－１００００ｎｍの範囲では、日本分光株式会社製、フーリエ変換赤外分光光度計 ＦＴ／ＩＲ－４１０を用いた。上記の実験結果から、波長８００－１００００ｎｍの範囲について赤外線反射率の積分平均を算出した。なお、比較例２については赤外線反射率を測定しなかった。これは、ガラス基板１１の裏面１４に積層された金属パネルはガラス基板の熱を分散させることを目的したものであって、赤外線を反射させることを目的としたものではないからである。測定結果を表１および図４にまとめた。
【0037】
【表1】
【0038】
（加熱実験）
実施例１―３および比較例１－３について、下記のように加熱実験を行った。調理器用ガラストッププレート１０を調理器１５の上部に配置した。五徳１９の上に被加熱物１７として金属製の鍋を載置した。鍋の内部には空焚きを防止するために水等の内容物を収容した。ガスバーナを点火し最大火力に調節した。点火してから５分経過した後に、ガスバーナを消火し、鍋を五徳１９から移動させ、調理器用ガラストッププレート１０のうちガスバーナの近傍の領域を公知のサーモグラフィ装置で撮影し、調理器用ガラストッププレート１０の表面温度を測定した。その後、鍋を五徳１９の上に載置し、ガスバーナを点火して最大火力に調節した。その後、５分ごとに上記と同様の操作を実行し、３０分後に加熱実験を終了した。実験結果を表１および図５にまとめた。
実施例１―３および比較例１－３について、下記のように加熱実験を行った。調理器用ガラストッププレート１０を調理器１５の上部に配置した。五徳１９の上に被加熱物１７として金属製の鍋を載置した。鍋の内部には空焚きを防止するために水等の内容物を収容した。ガスバーナを点火し最大火力に調節した。点火してから５分経過した後に、ガスバーナを消火し、鍋を五徳１９から移動させ、調理器用ガラストッププレート１０のうちガスバーナの近傍の領域を公知のサーモグラフィ装置で撮影し、調理器用ガラストッププレート１０の表面温度を測定した。その後、鍋を五徳１９の上に載置し、ガスバーナを点火して最大火力に調節した。その後、５分ごとに上記と同様の操作を実行し、３０分後に加熱実験を終了した。実験結果を表１および図５にまとめた。
【0039】
（焦げ付き実験）
実施例１―３および比較例１－３について、下記のように焦げ付き実験を行った。調理器用ガラストッププレート１０を調理器１５の上部に配置した。調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２であって、ガスバーナの近傍の領域に、砂糖：醤油：みりんを質量比で１：１：１に調製した溶液を、スポイトで滴下した。続いて、五徳１９の上に被加熱物１７として金属製の鍋を載置した。鍋の内部には空焚きを防止するために、水等の任意の内容物を収容した。ガスバーナを点火し最大火力に調節した。これにより、調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２に焦げ付きを形成した。点火してから所定時間経過した後に、ガスバーナを消火し、鍋を五徳１９から移動させ、その後、十分に冷却し、ぬれ布巾で擦り、焦げ付きを除去できるか否かを試験した。ぬれ布巾は、毎回、新しいものを使用した。ぬれ布巾で擦る前の面積に対する、ぬれ布巾で擦った後の面積の百分率を算出した。ぬれ布巾で擦った後の焦げ付きの面積は、予め作成されたひな形に基づいて判定した。図６にひな形を示した。
実施例１―３および比較例１－３について、下記のように焦げ付き実験を行った。調理器用ガラストッププレート１０を調理器１５の上部に配置した。調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２であって、ガスバーナの近傍の領域に、砂糖：醤油：みりんを質量比で１：１：１に調製した溶液を、スポイトで滴下した。続いて、五徳１９の上に被加熱物１７として金属製の鍋を載置した。鍋の内部には空焚きを防止するために、水等の任意の内容物を収容した。ガスバーナを点火し最大火力に調節した。これにより、調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２に焦げ付きを形成した。点火してから所定時間経過した後に、ガスバーナを消火し、鍋を五徳１９から移動させ、その後、十分に冷却し、ぬれ布巾で擦り、焦げ付きを除去できるか否かを試験した。ぬれ布巾は、毎回、新しいものを使用した。ぬれ布巾で擦る前の面積に対する、ぬれ布巾で擦った後の面積の百分率を算出した。ぬれ布巾で擦った後の焦げ付きの面積は、予め作成されたひな形に基づいて判定した。図６にひな形を示した。
【0040】
実施例１については、ぬれ布巾で擦る前の面積に対する、ぬれ布巾で擦った後の面積の百分率が５０％になった時点で、焦げ付き実験を終了した。また、実施例２－６については、ぬれ布巾で擦る前の面積に対する、ぬれ布巾で擦った後の面積の百分率が１００％になった時点で焦げ付き実験を終了した。実験結果を表２および図７にまとめた。
【0041】
【表2】
【0042】
（赤外線反射率測定の結果）
表１および図４に示すように、実施例１の調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２の赤外線反射率は、波長が８００－２０００ｎｍの領域では２０％以下であるが、波長が２０００ｎｍを超えると急激に上昇し、約３０００ｎｍを超えると赤外線反射率は５０％以上となり、波長が８０００ｎｍを超える領域では、赤外線反射率は約８０％と非常に高い値となった。実施例１について、波長が８００－１００００ｎｍにおける赤外線反射率の積分平均は６２％であった。
表１および図４に示すように、実施例１の調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２の赤外線反射率は、波長が８００－２０００ｎｍの領域では２０％以下であるが、波長が２０００ｎｍを超えると急激に上昇し、約３０００ｎｍを超えると赤外線反射率は５０％以上となり、波長が８０００ｎｍを超える領域では、赤外線反射率は約８０％と非常に高い値となった。実施例１について、波長が８００－１００００ｎｍにおける赤外線反射率の積分平均は６２％であった。
【0043】
実施例２の調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２の赤外線反射率は、波長が８００－６０００ｎｍの領域では３０％を超える高い値を示した。波長が約８０００ｎｍの領域では赤外線反射率は２０％以下となったが、波長が約９０００ｎｍを超える領域では赤外線反射率は２０％以上となった。実施例２について、波長が８００－１００００ｎｍにおける赤外線反射率の積分平均は３３％であった。
【0044】
実施例３の調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２の赤外線反射率は、波長が８００－４０００ｎｍの領域では２０％を超える高い値を示した。波長が５０００－８０００ｎｍの領域では赤外線反射率は２０％以下であったが、波長が約９０００ｎｍを超える領域では、赤外線反射率は２０以上であった。実施例３について、波長が８００－１００００ｎｍにおける赤外線反射率の積分平均は２２％であった。
【0045】
比較例１の調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２の赤外線反射率は、波長が８００－２０００ｎｍの領域では２０％を超える値を示した。波長が３０００－８０００ｎｍの領域では赤外線反射率は２０％以下であったが、波長が９０００ｎｍ付近を超える領域では、赤外線反射率は２０以上であった。実施例４について、波長が８００－１００００ｎｍにおける赤外線反射率の積分平均は１４％であった。
【0046】
比較例３の調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２の赤外線反射率は、波長が８００－７０００ｎｍの領域では１０％以下と低い値であった。波長が８０００ｎｍを超える領域では赤外線反射率は１０％以上となり上昇したが、波長が９０００ｎｍ付近を超える領域では、赤外線反射率は３０％以上であった。実施例４について、波長が８００－１００００ｎｍにおける赤外線反射率の積分平均は１０％であった。
【0047】
（加熱実験の結果）
表１および図５に示すように、実施例１の調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２の温度は、３０分間加熱しても、１２１．２℃以下であった。これは、実施例１の調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２の波長８００－１００００ｎｍにおける赤外線反射率の積分平均が６２％であったため、加熱部材および被加熱物１７から発せられる赤外線が反射されたことにより、調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２の温度上昇が抑制されたためと考えられる。
表１および図５に示すように、実施例１の調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２の温度は、３０分間加熱しても、１２１．２℃以下であった。これは、実施例１の調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２の波長８００－１００００ｎｍにおける赤外線反射率の積分平均が６２％であったため、加熱部材および被加熱物１７から発せられる赤外線が反射されたことにより、調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２の温度上昇が抑制されたためと考えられる。
【0048】
実施例１の調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２の温度は、加熱してから５分後で５５．９℃、１０分後で８４．５℃までしか上昇しなかった。このため、少なくとも加熱後１０分間は、調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２に付着した水分は、液体の状態で保持されると考えられる。加熱開始後１０分経過すると、調理面１２の温度は１００．５℃と水の沸点である１００℃を超えるので、調理面１２に付着した水分が沸騰し始めると考えられる。加熱開始後３０経過後であっても、調理面１２の温度は１２１．２℃と、比較的に低かった。このため、調理面１２に付着した水分は、沸騰はするものの、直ちに蒸発せず、液体の状態が比較的に長く維持されると考えられる。
【0049】
実施例２－３、および比較例１－２の調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２の温度は、加熱開始後、５分で約１００℃となり、加熱後３０分経過したときには、約１５０℃まで上昇した。実施例２―４については、調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２の波長８００－１００００ｎｍにおける赤外線反射率の積分平均が１４％以上であったため、加熱部材および被加熱物１７から発せられる赤外線が反射されたことにより、調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２の温度上昇が比較的に抑制されたためと考えられる。比較例２については、ガラス基板１１の裏面１４に積層された金属パネルによってガラス基板１１の熱が拡散された結果、ガラス基板１１の温度が局所的に高温になることが抑制されたためと考えられる。
【0050】
比較例３の調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２の温度は、加熱してから５分で水の沸点である１００℃を超えた。このため比較例３の調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２に水分が付着した場合には、加熱開始後５分経過したときには既に水分が沸騰し始めていると考えられる。その後も調理面１２の温度は上昇し、加熱後３０分の時点で１９０．９℃となった。このように調理面１２が非常に高温になったのは、比較例３の調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２の波長８００－１００００ｎｍにおける赤外線反射率の積分平均が１０％と低い値であったため、加熱部材および被加熱物１７から発せられる赤外線が十分に反射されなかったことによると考えられる。
【0051】
（焦げ付き実験の結果）
図７に示すように、実施例１の調理器用ガラストッププレート１０については、加熱開始後１５０分経過しても、焦げ付き残り面積は０％であった。さらに加熱開始後１８０分経過しても焦げ付き残り面積は５％であり、加熱開始後３００分が経過しても焦げ付き残り面積は５０％であった。
図７に示すように、実施例１の調理器用ガラストッププレート１０については、加熱開始後１５０分経過しても、焦げ付き残り面積は０％であった。さらに加熱開始後１８０分経過しても焦げ付き残り面積は５％であり、加熱開始後３００分が経過しても焦げ付き残り面積は５０％であった。
【0052】
実施例１の調理器用ガラストッププレート１０においては、赤外線反射層１３はＦＴＯからなる。この赤外線反射層１３について、波長８００－１００００ｎｍの範囲における赤外線反射率の積分平均値が６０％以上（６２％）であることから、調理器１５の加熱装置１６から発せられる赤外線、および調理器１５の上に設置された鍋等の被加熱物１７から発せられた赤外線等を、赤外線反射層１３により反射することができると考えられる。これにより、調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２の温度が上昇することを抑制することができる結果、調理面１２に滴下された溶液が液体で存在する時間が長くなるので、調理面１２に焦げ付きが形成されることを抑制することができると考えられる。
【0053】
実施例２の調理器用ガラストッププレート１０については、加熱開始後３０分経過しても、焦げ付き残り面積は０％であった。加熱開始後６０分経過したときの焦げ付き残り面積は４０％と、比較的に低い値が維持された。その後、加熱開始後１５０分が経過したとき、焦げ付き残り面積は１００％となった。
【0054】
実施例２の調理器用ガラストッププレート１０においては、赤外線反射層１３が、波長８００－１００００ｎｍの範囲における赤外線反射率の積分平均値が３０％以上（３３％）であることから、調理器１５の加熱装置１６から発せられる赤外線、および調理器１５の上に設置された鍋等の被加熱物１７から発せられた赤外線等を、赤外線反射層１３により反射することができると考えられる。これにより、調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２の温度が上昇することを抑制することができる結果、調理面１２に滴下された溶液が液体で存在する時間が長くなるので、調理面１２に焦げ付きが形成されることを抑制することができると考えられる。
【0055】
実施例３の調理器用ガラストッププレート１０については、加熱開始３０分後の焦げ付き残り面積が３０％であり、加熱開始６０分後の焦げ付き残り面積が６０％であり、加熱開始９０分後の焦げ付き残り面積が９５％であり、加熱開始１２０分後の焦げ付き残り面積が１００％であった。実施例３に係る調理器用ガラストッププレート１０の焦げ付きを抑制する性能については、後述する比較例２とほぼ同等であった。
【0056】
実施例３は、加熱開始後６０分で焦げ付き残り面積が６０％であることから、後述する比較例３に比べて、焦げ付きが抑制されている。これは、実施例３の赤外線反射層１３が、波長８００－１００００ｎｍの範囲における赤外線反射率の積分平均値が２０％以上（２２％）である。ことから、調理器１５の加熱装置１６から発せられる赤外線、および調理器１５の上に設置された鍋等の被加熱物１７から発せられた赤外線等を、赤外線反射層１３により反射することができると考えられる。これにより、調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２の温度が上昇することを抑制することができる結果、調理面１２に滴下された溶液が液体で存在する時間が長くなるので、調理面１２に焦げ付きが形成されることを抑制することができると考えられる。
【0057】
比較例１の調理器用ガラストッププレート１０については、加熱開始３０分後の焦げ付き残り面積が４５％であり、加熱開始６０分後の焦げ付き残り面積が９０％であり、加熱開始９０分後の焦げ付き残り面積が１００％であった。
【0058】
比較例１は、加熱開始後６０分で焦げ付き残り面積が９０％であることから、後述する比較例３に比べて、焦げ付きが十分に抑制されているとは言えない。これは、比較例１の赤外線反射層１３が、波長８００－１００００ｎｍの範囲における赤外線反射率の積分平均値が１４％である。ことから、調理器１５の加熱装置１６から発せられる赤外線、および調理器１５の上に設置された鍋等の被加熱物１７から発せられた赤外線等を、赤外線反射層１３により十分に反射することができないことによると考えられる。これにより、調理器用ガラストッププレート１０の調理面１２の温度が上昇することを十分に抑制することができない結果、調理面１２に滴下された溶液が比較的早期に蒸発してしまい、調理面１２に焦げ付きが形成されたと考えられる。
【0059】
比較例２の調理器用ガラストッププレート１０については、加熱開始３０分後の焦げ付き残り面積が５％であり、加熱開始６０分後の焦げ付き残り面積が５５％であり、加熱開始９０分後の焦げ付き残り面積が８０％であり、加熱開始１２０分後の焦げ付き残り面積が９５％であり、加熱開始１５０分後の焦げ付き残り面積が１００％であった。
【0060】
比較例２は、加熱開始後６０分で焦げ付き残り面積が５５％であることから、後述する比較例３に比べて、焦げ付きが抑制されている。これは、比較例２については、ガラス基板１１の裏面１４に積層された金属パネルによってガラス基板１１の熱が拡散された結果、ガラス基板１１の温度が局所的に高温になることが抑制されたためと考えられる。比較例２については、後述する比較例３に比べると、焦げ付きを抑制する効果は高い。
【0061】
比較例３の調理器用ガラストッププレート１０については、加熱開始３０分後の焦げ付き残り面積が６０％であり、加熱開始６０分後の焦げ付き残り面積が１００％であった。比較例３の調理器用ガラストッププレート１０については、ガラス基板１１の調理面１２に赤外線反射層１３が形成されておらず、また、ガラス基板１１の裏面１４に金属パネルが積層されていない。このため、ガスバーナから発せられる赤外線、および鍋から発せられる赤外線によって調理器用ガラストッププレート１０が短時間で高温になると考えられる。これにより、比較例３の調理面１２に滴下された溶液は、短時間のうちに沸騰して蒸発してしまい、焦げ付きが形成されたと考えられる。
【0062】
本発明は上記各実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の実施形態に適用することが可能である。
【符号の説明】
【0063】
１０ 調理器用ガラストッププレート、１１ ガラス基板、１２ 調理面、１３ 赤外線反射層、１４ 裏面、１５ 調理器、１６ 加熱装置、１７ 被加熱物、１８ 貫通孔、１９ 五徳
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【手続補正書】
【提出日】2022-09-20
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
調理器の上部に配置するための調理器用ガラストッププレートであって、
ガラス基板と、
前記ガラス基板の調理面の少なくとも一部に形成された赤外線反射層と、を備え、
前記赤外線反射層は、波長８００－１００００ｎｍの範囲における赤外線反射率の積分平均値が２０％以上であり、
被加熱物を前記調理器に載置した状態で、前記調理器の最大火力で加熱したときに、加熱後３０分経過したときの前記調理面の表面温度が１５０℃以下である、調理器用ガラストッププレート。
ガラス基板と、
前記ガラス基板の調理面の少なくとも一部に形成された赤外線反射層と、を備え、
前記赤外線反射層は、波長８００－１００００ｎｍの範囲における赤外線反射率の積分平均値が２０％以上であり、
被加熱物を前記調理器に載置した状態で、前記調理器の最大火力で加熱したときに、加熱後３０分経過したときの前記調理面の表面温度が１５０℃以下である、調理器用ガラストッププレート。
【請求項2】
前記赤外線反射層の可視光透過率が５０％以上である、請求項１に記載の調理器用ガラストッププレート。
【請求項3】
前記赤外線反射層はＦＴＯからなる請求項１に記載の調理器用ガラストッププレート。
【請求項4】
前記調理器が、ガスバーナを備えたガス調理器である、請求項１～３のいずれか一項に記載の調理器用ガラストッププレート。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0006】
本発明の態様は、
調理器の上部に配置するための調理器用ガラストッププレートであって、
ガラス基板と、
前記ガラス基板の調理面の少なくとも一部に形成された赤外線反射層と、を備え、
前記赤外線反射層は、波長８００－１００００ｎｍの範囲における赤外線反射率の積分平均値が２０％以上であり、被加熱物を前記調理器に載置した状態で、前記調理器の最大火力で加熱したときに、加熱後３０分経過したときの前記調理面の表面温度が１５０℃以下である、調理器用ガラストッププレートにある。
調理器の上部に配置するための調理器用ガラストッププレートであって、
ガラス基板と、
前記ガラス基板の調理面の少なくとも一部に形成された赤外線反射層と、を備え、
前記赤外線反射層は、波長８００－１００００ｎｍの範囲における赤外線反射率の積分平均値が２０％以上であり、被加熱物を前記調理器に載置した状態で、前記調理器の最大火力で加熱したときに、加熱後３０分経過したときの前記調理面の表面温度が１５０℃以下である、調理器用ガラストッププレートにある。
【手続補正書】
【提出日】2023-03-08
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
調理器の上部に配置するための調理器用ガラストッププレートであって、
ガラス基板と、
前記ガラス基板の調理面の少なくとも一部に形成された赤外線反射層と、を備え、
前記赤外線反射層は、波長８００－１００００ｎｍの範囲における赤外線反射率の積分平均値が２０％以上であり、
被加熱物を前記調理器に載置した状態で、前記調理器の最大火力で加熱したときに、加熱後３０分経過したときの前記調理面の表面温度が１５０℃以下であり、
前記調理器が、ガスバーナを備えたガス調理器である、調理器用ガラストッププレート。
ガラス基板と、
前記ガラス基板の調理面の少なくとも一部に形成された赤外線反射層と、を備え、
前記赤外線反射層は、波長８００－１００００ｎｍの範囲における赤外線反射率の積分平均値が２０％以上であり、
被加熱物を前記調理器に載置した状態で、前記調理器の最大火力で加熱したときに、加熱後３０分経過したときの前記調理面の表面温度が１５０℃以下であり、
前記調理器が、ガスバーナを備えたガス調理器である、調理器用ガラストッププレート。
【請求項2】
前記赤外線反射層の可視光透過率が５０％以上である、請求項１に記載の調理器用ガラストッププレート。
【請求項3】
前記赤外線反射層はＦＴＯからなる請求項１に記載の調理器用ガラストッププレート。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0006】
本発明の態様は、
調理器の上部に配置するための調理器用ガラストッププレートであって、
ガラス基板と、
前記ガラス基板の調理面の少なくとも一部に形成された赤外線反射層と、を備え、
前記赤外線反射層は、波長８００－１００００ｎｍの範囲における赤外線反射率の積分平均値が２０％以上であり、被加熱物を前記調理器に載置した状態で、前記調理器の最大火力で加熱したときに、加熱後３０分経過したときの前記調理面の表面温度が１５０℃以下であり、前記調理器が、ガスバーナを備えたガス調理器である、調理器用ガラストッププレートにある。
調理器の上部に配置するための調理器用ガラストッププレートであって、
ガラス基板と、
前記ガラス基板の調理面の少なくとも一部に形成された赤外線反射層と、を備え、
前記赤外線反射層は、波長８００－１００００ｎｍの範囲における赤外線反射率の積分平均値が２０％以上であり、被加熱物を前記調理器に載置した状態で、前記調理器の最大火力で加熱したときに、加熱後３０分経過したときの前記調理面の表面温度が１５０℃以下であり、前記調理器が、ガスバーナを備えたガス調理器である、調理器用ガラストッププレートにある。