特開 2023-184478出願番号特願 2023-97300
塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

出願人住友化学株式会社（識別番号 2093）

2026年特許公開件数ランキング 38位 419件（※）

2026年特許取得件数ランキング 55位 296件（※）

公報発行日　2023年12月28

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2023-184478　ログイン済みの方はこのURLへ

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※ 共同出願を含む

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塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

【課題】良好なラインエッジラフネスを有するレジストパターンを製造することができる塩、レジスト組成物等を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩、酸発生剤及びレジスト組成物。

［式中、Ａｒ^１－Ａｒ^３は其々ナフタレン等；Ｒ^１－Ｒ^３は其々－Ｏ－Ｒ^１０、－Ｏ－ＣＯ－Ｒ^１０等；Ｒ^１０は式（ＩＣ）で表される基］
【選択図】なし

本発明は、の塩を含有するレジスト組成物から形成されたレジストパターンよりも、ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が良好なレジストパターンを形成する塩を提供することを課題とする。

本発明は、以下の発明を含む。［１］式（Ｉ）で表される塩を含有する酸発生剤。 TIFF 2023184478000003.tif 57 149 ［式（Ｉ）中、Ａｒ１、Ａｒ２・・・　続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

本発明の塩を含有するレジスト組成物を用いることにより、良好なラインエッジラフネス（ＬＥＲ）でレジストパターンを製造することができる。

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