(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023020983
(43)【公開日】2023-02-09
(54)【発明の名称】基板処理装置
(51)【国際特許分類】
H01L 21/304 20060101AFI20230202BHJP
【ＦＩ】
H01L21/304 651Z
【審査請求】有
【請求項の数】23
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2022117282
(22)【出願日】2022-07-22
(31)【優先権主張番号】10-2021-0099854
(32)【優先日】2021-07-29
(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR
(71)【出願人】
【識別番号】518162784
【氏名又は名称】セメス カンパニー，リミテッド
(74)【代理人】
【識別番号】100114775
【弁理士】
【氏名又は名称】高岡 亮一
(74)【代理人】
【識別番号】100121511
【弁理士】
【氏名又は名称】小田 直
(74)【代理人】
【識別番号】100202751
【弁理士】
【氏名又は名称】岩堀 明代
(74)【代理人】
【識別番号】100208580
【弁理士】
【氏名又は名称】三好 玲奈
(74)【代理人】
【識別番号】100191086
【弁理士】
【氏名又は名称】高橋 香元
(72)【発明者】
【氏名】イ，ジョン ドゥ
(72)【発明者】
【氏名】オ，スン フン
(72)【発明者】
【氏名】ジェ，ジン モ
(72)【発明者】
【氏名】キム，キ ボン
(72)【発明者】
【氏名】イ，ヨン フン
【テーマコード（参考）】
5F157
【Ｆターム（参考）】
5F157AB48
5F157AB51
5F157AB64
5F157AC03
5F157AC56
5F157BB23
5F157BB45
5F157CB14
5F157CB26
5F157CB27
5F157CF22
5F157CF24
5F157CF62
5F157CF90
5F157CF92
5F157DA13
5F157DA43
5F157DB32
(57)【要約】
【課題】本発明は基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、ボディーと、前記ボディー内の処理空間で処理流体を供給する流体供給ユニットと、及び前記処理空間から処理流体を排気する流体排気ラインを含み、前記ボディーは、第１ボディーと、前記第１ボディーに対して相対的に移動する第２ボディーと、及び前記第１ボディーと前記第２ボディーの摩擦を防止する摩擦防止部材を含み、前記摩擦防止部材は、前記第１ボディーまたは前記第２ボディーが有する面らのうちで少なくともふたつ以上の面を連続的に覆うように構成されることができる。
【選択図】図８a
【解決手段】基板処理装置は、ボディーと、前記ボディー内の処理空間で処理流体を供給する流体供給ユニットと、及び前記処理空間から処理流体を排気する流体排気ラインを含み、前記ボディーは、第１ボディーと、前記第１ボディーに対して相対的に移動する第２ボディーと、及び前記第１ボディーと前記第２ボディーの摩擦を防止する摩擦防止部材を含み、前記摩擦防止部材は、前記第１ボディーまたは前記第２ボディーが有する面らのうちで少なくともふたつ以上の面を連続的に覆うように構成されることができる。
【選択図】図８a
【特許請求の範囲】
【請求項1】
基板を処理する装置において、
ボディーと、
前記ボディー内の処理空間で処理流体を供給する流体供給ユニットと、及び
前記処理空間から処理流体を排気する流体排気ラインを含み、
前記ボディーは、
第１ボディーと、
前記第１ボディーに対して相対的に移動する第２ボディーと、及び
前記第１ボディーと前記第２ボディーの摩擦を防止する摩擦防止部材を含み、
前記摩擦防止部材は、
前記第１ボディーまたは前記第２ボディーが有する面らのうちで少なくともふたつ以上の面を連続的に覆うように構成される、ことを特徴とする基板処理装置。
ボディーと、
前記ボディー内の処理空間で処理流体を供給する流体供給ユニットと、及び
前記処理空間から処理流体を排気する流体排気ラインを含み、
前記ボディーは、
第１ボディーと、
前記第１ボディーに対して相対的に移動する第２ボディーと、及び
前記第１ボディーと前記第２ボディーの摩擦を防止する摩擦防止部材を含み、
前記摩擦防止部材は、
前記第１ボディーまたは前記第２ボディーが有する面らのうちで少なくともふたつ以上の面を連続的に覆うように構成される、ことを特徴とする基板処理装置。
【請求項2】
前記第１ボディーまたは前記第２ボディーの有する面らは、
第１面と、及び
前記第１面から延長される第２面を含み、
前記摩擦防止部材は、
前記第１面を覆うように構成される第１部分と、及び
前記第１部分が延長される方向に交差して前記第１部分から延長され、前記第２面を覆うように構成される第２部分を含む、ことを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
第１面と、及び
前記第１面から延長される第２面を含み、
前記摩擦防止部材は、
前記第１面を覆うように構成される第１部分と、及び
前記第１部分が延長される方向に交差して前記第１部分から延長され、前記第２面を覆うように構成される第２部分を含む、ことを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項3】
前記第２部分は複数で提供される、ことを特徴とする請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項4】
前記第２部分らのうちである一部は前記第１部分から上に向ける方向に延長され、前記第２部分らのうちで他の一部は第１部分から下に向ける方向に延長される、ことを特徴とする請求項３に記載の基板処理装置。
【請求項5】
前記第２部分らのうちである一部は前記第１部分から上に向ける方向に傾くように延長され、前記第２部分らのうちで他の一部は第１部分から下に向ける方向に傾くように延長される、ことを特徴とする請求項４に記載の基板処理装置。
【請求項6】
前記摩擦防止部材は、
前記第１部分、そして前記第２部分が一体である形状を有する、ことを特徴とする請求項２に記載の基板処理装置。
前記第１部分、そして前記第２部分が一体である形状を有する、ことを特徴とする請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項7】
前記第２部分らは、
お互いに離隔されるが、その間隔が１５mm～２０mmである、ことを特徴とする請求項３に記載の基板処理装置。
お互いに離隔されるが、その間隔が１５mm～２０mmである、ことを特徴とする請求項３に記載の基板処理装置。
【請求項8】
前記第１ボディーまたは前記第２ボディーが有する面らは、
前記第１面及び前記第２面から延長される第３面をさらに含み、
前記摩擦防止部材は、
前記第１部分から延長される第３部分をさらに含む、ことを特徴とする請求項２に記載の基板処理装置。
前記第１面及び前記第２面から延長される第３面をさらに含み、
前記摩擦防止部材は、
前記第１部分から延長される第３部分をさらに含む、ことを特徴とする請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項9】
前記第１ボディーは、
前記処理空間を定義するチャンバボディーであり、
前記第２ボディーは、
前記チャンバボディーをクランピングするクランピングボディーである、ことを特徴とする請求項１乃至請求項８のうちで何れか一つに記載の基板処理装置。
前記処理空間を定義するチャンバボディーであり、
前記第２ボディーは、
前記チャンバボディーをクランピングするクランピングボディーである、ことを特徴とする請求項１乃至請求項８のうちで何れか一つに記載の基板処理装置。
【請求項10】
前記第１ボディー及び前記第２ボディーはそれぞれ、
お互いに組合されて前記処理空間を定義する第１チャンバボディー及び第２チャンバボディーである、ことを特徴とする請求項１乃至請求項８のうちで何れか一つに記載の基板処理装置。
お互いに組合されて前記処理空間を定義する第１チャンバボディー及び第２チャンバボディーである、ことを特徴とする請求項１乃至請求項８のうちで何れか一つに記載の基板処理装置。
【請求項11】
前記第１ボディーまたは前記第２ボディーのうちで何れか一つは側方向に移動可能に提供される、ことを特徴とする請求項１０に記載の基板処理装置。
【請求項12】
前記第１ボディーまたは前記第２ボディーのうちで何れか一つは上下方向に移動可能に提供される、ことを特徴とする請求項１０に記載の基板処理装置。
【請求項13】
基板を処理する装置において、
基板を処理する処理空間を定義するチャンバボディー-前記チャンバボディーは第１チャンバボディー、そして、前記第１チャンバボディーに対して相対的に移動可能に提供される第２チャンバボディーを含み-と、
前記第１チャンバボディーと前記第２チャンバボディーが密着される閉鎖位置にある時、前記第１チャンバボディー及び前記第２チャンバボディーをクランピングするクランピングボディーと、及び
前記クランピングボディーと前記チャンバボディーの摩擦を防止する摩擦防止部材を含む、ことを特徴とする基板処理装置。
基板を処理する処理空間を定義するチャンバボディー-前記チャンバボディーは第１チャンバボディー、そして、前記第１チャンバボディーに対して相対的に移動可能に提供される第２チャンバボディーを含み-と、
前記第１チャンバボディーと前記第２チャンバボディーが密着される閉鎖位置にある時、前記第１チャンバボディー及び前記第２チャンバボディーをクランピングするクランピングボディーと、及び
前記クランピングボディーと前記チャンバボディーの摩擦を防止する摩擦防止部材を含む、ことを特徴とする基板処理装置。
【請求項14】
前記摩擦防止部材は、
前記クランピングボディーまたは前記チャンバボディーのうちで何れか一つが有する面らのうちで少なくともふたつ以上の面を連続的に覆うように構成される、ことを特徴とする請求項１３に記載の基板処理装置。
前記クランピングボディーまたは前記チャンバボディーのうちで何れか一つが有する面らのうちで少なくともふたつ以上の面を連続的に覆うように構成される、ことを特徴とする請求項１３に記載の基板処理装置。
【請求項15】
前記摩擦防止部材は、
複数で提供され、お互いに離隔されて配置される、ことを特徴とする請求項１４に記載の基板処理装置。
複数で提供され、お互いに離隔されて配置される、ことを特徴とする請求項１４に記載の基板処理装置。
【請求項16】
前記摩擦防止部材らのうちで一部は、
上部から眺める時、円周方向に沿ってお互いに離隔されて配列される、ことを特徴とする請求項１５に記載の基板処理装置。
上部から眺める時、円周方向に沿ってお互いに離隔されて配列される、ことを特徴とする請求項１５に記載の基板処理装置。
【請求項17】
前記クランピングボディーまたは前記チャンバボディーのうちで何れか一つが有する面らは、
第１面と、
前記第１面から延長される第２面と、及び
前記第１面及び前記第２面から延長される第３面を含み、
前記摩擦防止部材は、
前記第１面を覆うように構成される第１部分と、
前記第１部分が延長される方向に交差して前記第１部分から延長され、前記第２面を覆うように構成される第２部分と、及び
前記第１部分から延長される第３部分を含む、ことを特徴とする請求項１６に記載の基板処理装置。
第１面と、
前記第１面から延長される第２面と、及び
前記第１面及び前記第２面から延長される第３面を含み、
前記摩擦防止部材は、
前記第１面を覆うように構成される第１部分と、
前記第１部分が延長される方向に交差して前記第１部分から延長され、前記第２面を覆うように構成される第２部分と、及び
前記第１部分から延長される第３部分を含む、ことを特徴とする請求項１６に記載の基板処理装置。
【請求項18】
前記摩擦防止部材はポリイミドフィルムである、ことを特徴とする請求項１３乃至請求項１７のうちで何れか一つに記載の基板処理装置。
【請求項19】
超臨界状態の処理流体を利用して基板を処理する装置において、
ボディーと、
前記ボディー内の処理空間に前記処理流体を供給する流体供給ユニットと、及び
前記処理空間から処理流体を排気する流体排気ラインを含み、
前記ボディーは、
基板を処理する処理空間を定義するチャンバボディー-前記チャンバボディーは第１チャンバボディー、そして前記第１チャンバボディーに対して相対的に移動可能に提供される第２チャンバボディーを含み-と、
前記第１チャンバボディーと前記第２チャンバボディーが密着される閉鎖位置にある時、前記第１チャンバボディー及び前記第２チャンバボディーをクランピングするクランピングボディー-前記クランピングボディーは第１クランピングボディー、そして、前記第１クランピングボディーと向い合う第２クランピングボディーを含み-と、及び
前記クランピングボディーと前記チャンバボディーの摩擦を防止する摩擦防止部材を含み、
前記摩擦防止部材は、
前記クランピングボディーに設置され、
前記クランピングボディーが有する面らのうちで少なくともふたつ以上の面を連続的に覆うように構成される、ことを特徴とする基板処理装置。
ボディーと、
前記ボディー内の処理空間に前記処理流体を供給する流体供給ユニットと、及び
前記処理空間から処理流体を排気する流体排気ラインを含み、
前記ボディーは、
基板を処理する処理空間を定義するチャンバボディー-前記チャンバボディーは第１チャンバボディー、そして前記第１チャンバボディーに対して相対的に移動可能に提供される第２チャンバボディーを含み-と、
前記第１チャンバボディーと前記第２チャンバボディーが密着される閉鎖位置にある時、前記第１チャンバボディー及び前記第２チャンバボディーをクランピングするクランピングボディー-前記クランピングボディーは第１クランピングボディー、そして、前記第１クランピングボディーと向い合う第２クランピングボディーを含み-と、及び
前記クランピングボディーと前記チャンバボディーの摩擦を防止する摩擦防止部材を含み、
前記摩擦防止部材は、
前記クランピングボディーに設置され、
前記クランピングボディーが有する面らのうちで少なくともふたつ以上の面を連続的に覆うように構成される、ことを特徴とする基板処理装置。
【請求項20】
前記クランピングボディーが有する面らは、
地面と平行な第１面と、
前記第１面に対して交差して延長される第２面と、及び
前記第１面及び前記第２面に対して交差して延長され、前記第１クランピングボディーと前記第２クランピングボディーがお互いに向い合う面である第３面を含み、
前記摩擦防止部材は、
前記第１面を覆うように構成される第１部分と、
前記第１部分から延長され、前記第２面を覆うように構成される第２部分と、及び
前記第１部分から延長され、前記第３面を覆うように構成される第３部分を含む、ことを特徴とする請求項１９に記載の基板処理装置。
地面と平行な第１面と、
前記第１面に対して交差して延長される第２面と、及び
前記第１面及び前記第２面に対して交差して延長され、前記第１クランピングボディーと前記第２クランピングボディーがお互いに向い合う面である第３面を含み、
前記摩擦防止部材は、
前記第１面を覆うように構成される第１部分と、
前記第１部分から延長され、前記第２面を覆うように構成される第２部分と、及び
前記第１部分から延長され、前記第３面を覆うように構成される第３部分を含む、ことを特徴とする請求項１９に記載の基板処理装置。
【請求項21】
超臨界状態の処理流体を利用して基板を処理する装置において、
第１ボディーと、
前記第１ボディーとお互いに組合されて基板が処理される処理空間を定義する第２ボディーと、及び
前記第１ボディー、そして前記第２ボディーが接合される接合面-前記接合面は前記第１ボディーまたは前記第２ボディーが有する面である-に設置される摩擦防止部材を含み、
前記摩擦防止部材は、
複数で提供される、ことを特徴とする基板処理装置。
第１ボディーと、
前記第１ボディーとお互いに組合されて基板が処理される処理空間を定義する第２ボディーと、及び
前記第１ボディー、そして前記第２ボディーが接合される接合面-前記接合面は前記第１ボディーまたは前記第２ボディーが有する面である-に設置される摩擦防止部材を含み、
前記摩擦防止部材は、
複数で提供される、ことを特徴とする基板処理装置。
【請求項22】
前記摩擦防止部材らは、
お互いに離隔されて前記接合面に設置される、ことを特徴とする請求項２１に記載の基板処理装置。
お互いに離隔されて前記接合面に設置される、ことを特徴とする請求項２１に記載の基板処理装置。
【請求項23】
前記第１ボディー及び前記第２ボディーのうちで何れか一つを前記第１ボディー及び前記第２ボディーのうちで他の一つに対して相対的に移動させる移動ユニットをさらに含み、
前記摩擦防止部材ら間の間隔は、
前記第１ボディー及び前記第２ボディーのうちで何れか一つが移動して前記処理空間を定義する閉鎖位置にある時、前記摩擦防止部材らのうちで何れか一つが接する前記摩擦防止部材らのうちで他の一つと離隔されることができるようにする間隔である、ことを特徴とする請求項２２に記載の基板処理装置。
前記摩擦防止部材ら間の間隔は、
前記第１ボディー及び前記第２ボディーのうちで何れか一つが移動して前記処理空間を定義する閉鎖位置にある時、前記摩擦防止部材らのうちで何れか一つが接する前記摩擦防止部材らのうちで他の一つと離隔されることができるようにする間隔である、ことを特徴とする請求項２２に記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、基板処理装置に関するものである。
【背景技術】
【0002】
半導体素子を製造するため、基板に写真、蝕刻、アッシング、イオン注入、そして、薄膜蒸着などの多様な工程らを通じて所望するパターンをウェハーなどの基板上に形成する。それぞれの工程には多様な処理液、処理ガスらが使用され、工程が進行中にはパーティクル、そして、工程副産物が発生する。このようなパーティクル、そして、工程副産物を基板から除去するためにそれぞれの工程前後には洗浄工程が遂行される。
【0003】
一般な洗浄工程は基板をケミカル及びリンス液で処理した後乾燥処理する。乾燥処理の一例で、基板を高速で回転させて基板上に残留するリンス液を除去する回転乾燥工程がある。しかし、このような回転乾燥方式は基板上に形成されたパターンを崩す恐れがある。
【0004】
これに、最近には基板上にイソプロピルアルコール(IPA)のような有機溶剤を供給して基板上に残留するリンス液を表面張力が低い有機溶剤で置換し、以後基板上に超臨界状態の処理流体を供給して基板に残留する有機溶剤を除去する超臨界乾燥工程が利用されている。超臨界乾燥工程では内部が密閉された工程チャンバに乾燥用ガスを供給し、乾燥用ガスを加熱及び加圧する。これに、乾燥用ガスの温度及び圧力はすべて臨界点以上に上昇して乾燥用ガスは超臨界状態に相変化する。
【0005】
超臨界乾燥工程を遂行する基板処理装置は、図１に示されたように、上部ボディー１、下部ボディー２、上部ボディー１と下部ボディー２はお互いに組合されて内部空間を形成し、内部空間ではウェハーなどの基板(W)が支持部材４によって支持され、内部空間では乾燥用ガスが供給される。乾燥用ガスが超臨界状態を維持するためには、内部空間の圧力を高圧で維持することが非常に重要である。内部空間はオーリングのようなシーリング部材３によってシーリングされる。また、上部ボディー１と下部ボディー２がお互いに接触される領域でパーティクルなどの不純物が発生されることを最小化するために、下部ボディー２が有する接合面には接触フィルム５が設置される。
【0006】
一方、乾燥用ガスによって基板(W)が乾燥する間には内部空間の圧力によって上部ボディー１と下部ボディー２には多様な方向に振動が発生する。このような振動は、X-Y-Z方向のみならず、X方向を軸に回転する方向、Y方向を軸に回転する方向、Z方向を軸に回転する方向などのように多様な方向に、そして、不規則に発生する。この場合、図２に示されたように、接触フィルム５には変形または押され現象が発生されることがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
【特許文献1】韓国特許第10-2041308号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
本発明は、基板を効率的に処理することができる基板処理装置を提供することを一目的とする。
【0009】
また、本発明はボディーの間に提供される摩擦防止部材に押され現象または変形現象が発生されることを最小化できる基板処理装置を提供することを一目的とする。
【0010】
また、本発明は高圧工程のうちでボディーが微細に震動することを最小化できる基板処理装置を提供することを一目的とする。
【0011】
また、本発明は摩擦防止部材の交替周期をふやすことができる基板処理装置を提供することを一目的とする。
【0012】
本発明の目的はこれに制限されないし、言及されなかったまた他の目的らは下の記載らから通常の技術者が明確に理解されることができるであろう。
【課題を解決するための手段】
【0013】
本発明は基板処理装置を提供する。基板処理装置は、ボディーと、前記ボディー内の処理空間に処理流体を供給する流体供給ユニットと、及び前記処理空間から処理流体を排気する流体排気ラインを含み、前記ボディーは、第１ボディーと、前記第１ボディーに対して相対的に移動する第２ボディーと、及び前記第１ボディーと前記第２ボディーの摩擦を防止する摩擦防止部材を含み、前記摩擦防止部材は、前記第１ボディーまたは前記第２ボディーが有する面らのうちで少なくともふたつ以上の面を連続的に覆うように構成されることができる。
【0014】
一実施例によれば、前記第１ボディーまたは前記第２ボディーが有する面らは、第１面と、及び前記第１面から延長される第２面を含み、前記摩擦防止部材は、前記第１面を覆うように構成される第１部分と、及び前記第１部分が延長される方向に交差して前記第１部分から延長され、前記第２面を覆うように構成される第２部分を含むことができる。
【0015】
一実施例によれば、前記第２部分は複数で提供されることができる。
【0016】
一実施例によれば、前記第２部分らのうちである一部は前記第１部分から上に向ける方向に延長され、前記第２部分らのうちで他の一部は第１部分から下に向ける方向に延長されることができる。
【0017】
一実施例によれば、前記第２部分らのうちである一部は前記第１部分から上に向ける方向に傾くように延長され、前記第２部分らのうちで他の一部は第１部分から下に向ける方向に傾くように延長されることができる。
【0018】
一実施例によれば、前記摩擦防止部材は、前記第１部分、そして、前記第２部分が一体である形状を有することができる。
【0019】
一実施例によれば、前記第２部分らは、お互いに離隔されるが、その間隔が１５mm～２０mmであることがある。
【0020】
一実施例によれば、前記第１ボディーまたは前記第２ボディーが有する面らは、前記第１面及び前記第２面から延長される第３面をさらに含み、前記摩擦防止部材は、前記第１部分から延長される第３部分をさらに含むことができる。
【0021】
一実施例によれば、前記第１ボディーは、前記処理空間を定義するチャンバボディーであり、前記第２ボディーは、前記チャンバボディーをクランピングするクランピングボディーであることができる。
【0022】
一実施例によれば、前記第１ボディー及び前記第２ボディーはそれぞれ、お互いに組合されて前記処理空間を定義する第１チャンバボディー及び第２チャンバボディーであることができる。
【0023】
一実施例によれば、前記第１ボディーまたは前記第２ボディーのうちで何れか一つは側方向に移動可能に提供されることができる。
【0024】
一実施例によれば、前記第１ボディーまたは前記第２ボディーのうちで何れか一つは上下方向に移動可能に提供されることができる。
【0025】
また、本発明は基板を処理する装置を提供する。基板処理装置は、基板を処理する処理空間を定義するチャンバボディー-前記チャンバボディーは第１チャンバボディー、そして前記第１チャンバボディーに対して相対的に移動可能に提供される第２チャンバボディーを含み-、前記第１チャンバボディーと前記第２チャンバボディーが密着される閉鎖位置にある時、前記第１チャンバボディー及び前記第２チャンバボディーをクランピングするクランピングボディーと、及び前記クランピングボディーと前記チャンバボディーの摩擦を防止する摩擦防止部材を含むことができる。
【0026】
一実施例によれば、前記摩擦防止部材は、前記クランピングボディーまたは前記チャンバボディーのうちで何れか一つが有する面らのうちで少なくともふたつ以上の面を連続的に覆うように構成されることができる。
【0027】
一実施例によれば、前記摩擦防止部材は、複数で提供され、お互いに離隔されて配置されることができる。
【0028】
一実施例によれば、前記摩擦防止部材らのうちで一部は、上部から眺める時、円周方向に沿ってお互いに離隔されて配列されることができる。
【0029】
一実施例によれば、前記クランピングボディーまたは前記チャンバボディーのうちで何れか一つが有する面らは、第１面と、前記第１面から延長される第２面と、及び前記第１面及び前記第２面から延長される第３面を含み、前記摩擦防止部材は、前記第１面を覆うように構成される第１部分と、前記第１部分が延長される方向に交差して前記第１部分から延長され、前記第２面を覆うように構成される第２部分と、及び前記第１部分から延長される第３部分を含むことができる。
【0030】
一実施例によれば、前記摩擦防止部材はポリイミドフィルムであることができる。
【0031】
また、本発明は超臨界状態の処理流体を利用して基板を処理する装置を提供する。基板処理装置は、ボディーと、前記ボディー内の処理空間に前記処理流体を供給する流体供給ユニットと、及び前記処理空間から処理流体を排気する流体排気ラインを含み、前記ボディーは、基板を処理する処理空間を定義するチャンバボディー-前記チャンバボディーは第１チャンバボディー、そして前記第１チャンバボディーに対して相対的に移動可能に提供される第２チャンバボディーを含み-と、前記第１チャンバボディーと前記第２チャンバボディーが密着される閉鎖位置にある時、前記第１チャンバボディー及び前記第２チャンバボディーをクランピングするクランピングボディー-前記クランピングボディーは第１クランピングボディー、そして前記第１クランピングボディーと向い合う第２クランピングボディーを含み-と、及び前記クランピングボディーと前記チャンバボディーの摩擦を防止する摩擦防止部材を含み、前記摩擦防止部材は、前記クランピングボディーに設置され、前記クランピングボディーが有する面らのうちで少なくともふたつ以上の面を連続的に覆うように構成されることができる。
【0032】
一実施例によれば、前記クランピングボディーが有する面らは、地面と平行な第１面と、前記第１面に対して交差して延長される第２面と、及び前記第１面及び前記第２面に対して交差して延長され、前記第１クランピングボディーと前記第２クランピングボディーがお互いに向い合う面である第３面を含み、前記摩擦防止部材は、前記第１面を覆うように構成される第１部分と、前記第１部分から延長され、前記第２面を覆うように構成される第２部分と、及び前記第１部分から延長され、前記第３面を覆うように構成される第３部分を含むことができる。
【0033】
また、本発明は超臨界状態の処理流体を利用して基板を処理する装置を提供する。基板処理装置は、第１ボディーと、前記第１ボディーとお互いに組合されて基板が処理される処理空間を定義する第２ボディーと、及び前記第１ボディー、そして、前記第２ボディーが接合される接合面-前記接合面は前記第１ボディーまたは前記第２ボディーが有する面である-に設置される摩擦防止部材を含み、前記摩擦防止部材は、複数で提供されることができる。
【0034】
一実施例によれば、前記摩擦防止部材らは、お互いに離隔されて前記接合面に設置されることができる。
【0035】
一実施例によれば、前記第１ボディー及び前記第２ボディーのうちで何れか一つを前記第１ボディー及び前記第２ボディーのうちで他の一つに対して相対的に移動させる移動ユニットをさらに含み、前記摩擦防止部材ら間の間隔は、前記第１ボディー及び前記第２ボディーのうちで何れか一つが移動して前記処理空間を定義する閉鎖位置にある時、前記摩擦防止部材らのうちで何れか一つが接する前記摩擦防止部材らのうちで他の一つと離隔されることができるようにする間隔であることができる。
【発明の効果】
【0036】
本発明の一実施例によれば、基板を効率的に処理することができる。
【0037】
また、本発明の一実施例によれば、ボディーの間に提供される摩擦防止部材に押され現象または変形現象が発生されることを最小化できる。
【0038】
また、本発明は高圧工程のうちでボディーが微細に震動することを最小化できる。
【0039】
また、本発明の一実施例によれば、摩擦防止部材の交替周期をふやすことができる。
【0040】
本発明の効果が上述した効果らに限定されるものではなくて、言及されない効果らは本明細書及び添付された図面らから本発明が属する技術分野で通常の知識を有した者に明確に理解されることができるであろう。
【図面の簡単な説明】
【0041】
【図1】一般な基板処理装置の姿を見せてくれる図面である。
【図3】本発明の一実施例による基板処理装置を見せてくれる図面である。
【図10】クランプボディーに伝達されることができるチャンバボディーの振動らを見せてくれる図面らである。
【図11】同じく、クランプボディーに伝達されることができるチャンバボディーの振動らを見せてくれる図面らである。
【図12】同じく、クランプボディーに伝達されることができるチャンバボディーの振動らを見せてくれる図面らである。
【図13】本発明の他の実施例による摩擦防止部材の姿を見せてくれる図面である。
【図14】本発明の他の実施例による摩擦防止部材の姿を見せてくれる図面である。
【図15】同じく、本発明の他の実施例による摩擦防止部材の姿を見せてくれる図面である。
【図16】本発明の摩擦防止部材の他の実施例を概略的に見せてくれる図面である。
【図17】本発明の他の実施例による乾燥チャンバ及び摩擦防止部材らを見せてくれる図面である。
【図18】同じく、本発明の他の実施例による乾燥チャンバ及び摩擦防止部材らを見せてくれる図面である。
【図19】同じく、本発明の他の実施例による乾燥チャンバ及び摩擦防止部材らを見せてくれる図面である。
【図20】同じく、本発明の他の実施例による乾燥チャンバ及び摩擦防止部材らを見せてくれる図面である。
【図21】同じく、本発明の他の実施例による乾燥チャンバ及び摩擦防止部材らを見せてくれる図面である。
【図22】同じく、本発明の他の実施例による乾燥チャンバ及び摩擦防止部材らを見せてくれる図面である。
【発明を実施するための形態】
【0042】
以下では添付した図面を参照にして本発明の実施例に対して本発明が属する技術分野で通常の知識を有した者が容易に実施できるように詳しく説明する。しかし、本発明はいろいろ相異な形態で具現されることができるし、ここで説明する実施例で限定されない。また、本発明の望ましい実施例を詳細に説明するにおいて、関連される公知機能または構成に対する具体的な説明が本発明の要旨を不必要に曇ることがあると判断される場合にはその詳細な説明を略する。また、類似機能及び作用をする部分に対しては図面全体にかけて等しい符号を使用する。
【0043】
ある構成要素を‘包含'するということは、特別に反対される記載がない限り他の構成要素を除くことではなく、他の構成要素をさらに含むことができるということを意味する。具体的に，“含む”または“有する”などの用語は明細書上に記載した特徴、数字、段階、動作、構成要素、部品またはこれらを組み合わせたものが存在することを指定しようとすることであって、一つまたはその以上の他の特徴らや数字、段階、動作、構成要素、部品またはこれらを組み合わせたものなどの存在または付加可能性をあらかじめ排除しないものとして理解されなければならない。
【0044】
単数の表現は文脈上明白に異なるように志さない限り、複数表現を含む。また、図面で要素らの形状及び大きさなどはより明確な説明のために誇張されることがある。
【0045】
第１、第２などの用語は多様な構成要素らを説明するのに使用されることができるが、前記構成要素らは前記用語によって限定されてはいけない。前記用語は一つの構成要素を他の構成要素から区別する目的で使用されることができる。例えば、本発明の権利範囲から離脱されないまま第１構成要素は第２構成要素で命名されることができるし、類似第２構成要素も第１構成要素に命名されることができる。
【0046】
ある構成要素が異なる構成要素に“連結されて”いるか、または“接続されて”いると言及された時には、その他の構成要素に直接的に連結されているか、または接続されていることもあるが、中間に他の構成要素が存在することもあると理解されなければならないであろう。反面に、ある構成要素が異なる構成要素に“直接連結されて”いるか、または“直接接続されて”いると言及された時には、中間に他の構成要素が存在しないことで理解されなければならないであろう。構成要素らとの関係を説明する他の表現ら、すなわち“～間に”と“すぐ～間に”または“～に隣合う”と“～に直接隣合う”なども同じく解釈されなければならない。
【0047】
異なるように定義されない限り、技術的であるか科学的な用語を含んでここで使用されるすべての用語らは、本発明が属する技術分野で通常の知識を有した者によって一般的に理解されることと等しい意味である。一般に使用される前もって定義されているもののような用語は、関連技術の文脈上有する意味と一致する意味であることで解釈されなければならないし、本出願で明白に定義しない限り、理想的や過度に形式的な意味で解釈されない。
【0048】
【0049】
図３は、本発明の一実施例による基板処理装置を見せてくれる図面である。
【0050】
図３を参照すれば、基板処理装置はインデックスモジュール１０、処理モジュール２０、そして、制御機３０を含む。上部から眺める時、インデックスモジュール１０と処理モジュール２０は一方向に沿って配置される。以下、インデックスモジュール１０と処理モジュール２０が配置された方向を第１方向(X)といって、上部から眺める時第１方向(X)と垂直な方向を第２方向(Y)といって、第１方向(X)及び第２方向(Y)にすべて垂直な方向を第３方向(Z)という。
【0051】
インデックスモジュール１０は基板(W)が収納された容器(C)から基板(W)を処理モジュール２０に返送し、処理モジュール２０で処理が完了された基板(W)を容器(C)に収納する。インデックスモジュール１０の長さ方向は第２方向(Y)に提供される。インデックスモジュール１０はロードポート１２とインデックスフレーム１４を有する。インデックスフレーム１４を基準にロードポート１２は処理モジュール２０の反対側に位置される。基板(W)らが収納された容器(C)はロードポート１２に置かれる。ロードポート１２は複数個が提供されることができるし、複数ロードポート１２は第２方向(Y)に沿って配置されることができる。
【0052】
容器(C)としては、前面開放一体式ポッド(Front Open Unified Pod:FOUP)のような密閉用容器が使用されることができる。容器(C)はオーバーヘッドトランスファー(Overhead Transfer)、オーバーヘッドコンベヤー(Overhead Conveyor)、または自動案内車両(Automatic Guided Vehicleのような移送手段(図示なさ)や作業者によってロードポート１２に置かれることができる。
【0053】
インデックスフレーム１４にはインデックスロボット１２０が提供される。インデックスフレーム１４内には長さ方向が第２方向(Y)に提供されたガイドレール１２４が提供され、インデックスロボット１２０はガイドレール１２４上で移動可能に提供されることができる。インデックスロボット１２０は基板(W)が置かれるハンド１２２を含み、ハンド１２２は前進及び後進移動、第３方向(Z)を軸にした回転、そして、第３方向(Z)に沿って移動可能に提供されることができる。ハンド１２２は複数個が上下方向に離隔されるように提供され、ハンド１２２らはお互いに独立的に前進及び後進移動することができる。
【0054】
制御機３０は基板処理装置を制御することができる。制御機３０は基板処理装置の制御を行うマイクロプロセッサー(コンピューター)でなされるプロセスコントローラーと、オペレーターが基板処理装置を管理するためにコマンド入力操作などを行うキーボードや、基板処理装置の稼働状況を可視化して表示するディスプレイなどでなされるユーザーインターフェースと、基板処理装置で実行される処理をプロセスコントローラーの制御で実行するための制御プログラムや、各種データ及び処理条件によって各構成部に処理を実行させるためのプログラム、すなわち、処理レシピが記憶された記憶部を具備することができる。また、ユーザーインターフェース及び記憶部はプロセスコントローラーに接続されることがある。処理レシピは記憶部のうちで記憶媒体に記憶されることがあって、記憶媒体は、ハードディスクであっても良く、CD-ROM、DVDなどの可搬性ディスクや、フラッシュメモリーなどの半導体メモリーであることもある。
【0055】
処理モジュール２０はバッファーユニット２００、返送チャンバ３００、液処理チャンバ４００、そして、乾燥チャンバ５００を含む。バッファーユニット２００は処理モジュール２０に搬入される基板(W)と処理モジュール２０から搬出される基板(W)が一時的にとどまる空間を提供する。液処理チャンバ４００は基板(W)上に液を供給して基板(W)を液処理する液処理工程を遂行する。乾燥チャンバ５００は基板(W)上に残留する液を除去する乾燥工程を遂行する。返送チャンバ３００はバッファーユニット２００、液処理チャンバ４００、そして乾燥チャンバ５００の間に基板(W)を返送する。
【0056】
返送チャンバ３００はその長さ方向が第１方向(X)に提供されることができる。バッファーユニット２００はインデックスモジュール１０と返送チャンバ３００との間に配置されることができる。液処理チャンバ４００と乾燥チャンバ５００は返送チャンバ３００の側部に配置されることができる。液処理チャンバ４００と返送チャンバ３００は第２方向(Y)に沿って配置されることができる。乾燥チャンバ５００と返送チャンバ３００は第２方向(Y)に沿って配置されることができる。バッファーユニット２００は返送チャンバ３００の一端に位置されることができる。
【0057】
一例によれば、液処理チャンバ４００らは返送チャンバ３００の両側に配置され、乾燥チャンバ５００らは返送チャンバ３００の両側に配置され、液処理チャンバ４００らは乾燥チャンバ５００らよりバッファーユニット２００にさらに近い位置に配置されることができる。返送チャンバ３００の一側で液処理チャンバ４００らは第１方向(X)及び第３方向(Z)に沿ってそれぞれAXB(A、Bはそれぞれ１または１より大きい自然数)配列で提供されることができる。また、返送チャンバ３００の一側で乾燥チャンバ５００らは第１方向(X)及び第３方向(Z)に沿ってそれぞれCXD(C、Dはそれぞれ１または１より大きい自然数)個が提供されることができる。前述したところと異なり、返送チャンバ３００の一側には液処理チャンバ４００らだけ提供され、その他側には乾燥チャンバ５００らだけ提供されることができる。
【0058】
返送チャンバ３００は返送ロボット３２０を有する。返送チャンバ３００内には長さ方向が第１方向(X)に提供されたガイドレール３２４が提供され、返送ロボット３２０はガイドレール３２４上で移動可能に提供されることができる。返送ロボット３２０は基板(W)が置かれるハンド３２２を含み、ハンド３２２は前進及び後進移動、第３方向(Z)を軸にした回転、そして、第３方向(Z)に沿って移動可能に提供されることができる。ハンド３２２は複数個が上下方向に離隔されるように提供され、ハンド３２２らはお互いに独立的に前進及び後進移動することができる。
【0059】
バッファーユニット２００は基板(W)が置かれるバッファー２２０を複数個具備する。バッファー２２０らは第３方向(Z)に沿ってお互いの間に離隔されるように配置されることができる。バッファーユニット２００は前面(front faceと後面(rear faceが開放される。前面インデックスモジュール１０と見合わせる面であり、後面は返送チャンバ３００と見合わせる面である。インデックスロボット１２０は前面を通じてバッファーユニット２００に近付いて、返送ロボット３２０は後面を通じてバッファーユニット２００に近付くことができる。
【0060】
【0061】
図４を参照すれば、液処理チャンバ４００はハウジング４１０、コップ４２０、支持ユニット４４０、液供給ユニット４６０、そして、昇降ユニット４８０を有する。
【0062】
ハウジング４１０は基板(W)が処理される内部空間を有することができる。ハウジング４１０は概して六面体の形状を有することができる。例えば、ハウジング４１０は直方体の形状を有することができる。また、ハウジング４１０には基板(W)が搬入されるか、または搬出される開口(図示せず)が形成されることができる。また、ハウジング４１０には開口を選択的に開閉するドア(図示せず)が設置されることができる。
【0063】
コップ４２０は上部が開放された桶形状を有することができる。コップ４２０は処理空間を有して、基板(W)は処理空間内で液処理されることができる。支持ユニット４４０は処理空間で基板(W)を支持する。液供給ユニット４６０は支持ユニット４４０に支持された基板(W)上に処理液を供給する。処理液は複数種類で提供され、基板(W)上に順次に供給されることができる。昇降ユニット４８０はコップ４２０と支持ユニット４４０との間の相対高さを調節する。
【0064】
一例によれば、コップ４２０は複数の回収桶４２２、４２４、４２６を有する。回収桶ら４２２、４２４、４２６はそれぞれ基板処理に使用された液を回収する回収空間を有する。それぞれの回収桶ら４２２、４２４、４２６は支持ユニット４４０を囲むリング形状で提供される。液処理工程が進行時基板(W)の回転によって飛散される処理液は各回収桶４２２、４２４、４２６の流入口４２２a、４２４a、４２６aを通じて回収空間に流入される。一例によれば、コップ４２０は第１回収桶４２２、第２回収桶４２４、そして、第３回収桶４２６を有する。第１回収桶４２２は支持ユニット４４０を囲むように配置され、第２回収桶４２４は第１回収桶４２２を囲むように配置され、第３回収桶４２６は第２回収桶４２４を囲むように配置される。第２回収桶４２４に液を流入する第２流入口４２４aは第１回収桶４２２に液を流入する第１流入口４２２aより上部に位置され、第３回収桶４２６に液を流入する第３流入口４２６aは第２流入口４２４aより上部に位置されることができる。
【0065】
支持ユニット４４０は支持板４４２と駆動軸４４４を有する。支持板４４２の上面は概して円形で提供されて基板(W)より大きい直径を有することができる。支持板４４２の中央部には基板(W)の後面を支持する支持ピン４４２aが提供され、支持ピン４４２aは基板(W)が支持板４４２から一定距離で離隔されるようにその上端が支持板４４２から突き出されるように提供される。支持板４４２の縁部にはチャックピン４４２bが提供される。チャックピン４４２bは支持板４４２から上部に突き出されるように提供され、基板(W)が回転される時基板(W)が支持ユニット４４０から離脱されないように基板(W)の側部を支持する。駆動軸４４４は駆動機４４６によって駆動され、基板(W)の底面中央と連結され、支持板４４２をその中心軸を基準で回転させる。
【0066】
一例によれば、液供給ユニット４６０はノズル４６２を含むことができる。ノズル４６２は基板(W)に処理液を供給することができる。処理液はケミカル、リンス液または有機溶剤であることができる。ケミカルは強酸または強塩基の性質を有するケミカルであることができる。また、リンス液は純水であることがある。また、有機溶剤はイソプロピルアルコール(IPA)であることがある。また、液供給ユニット４６０は複数のノズル４６２らを含むことができるし、それぞれのノズル４６２らではお互いに相異な種類の処理液を供給することができる。例えば、ノズル４６２らのうちで何れか一つではケミカルを供給し、ノズル４６２らのうちで他の一つではリンス液を供給し、ノズル４６２らのうちでまた他の一つでは有機溶剤を供給することができる。また、制御機３０はノズル４６２らのうちで他の一つで基板(W)にリンス液を供給した以後、ノズル４６２らのうちでまた他の一つで有機溶剤を供給するように液供給ユニット４６０を制御することができる。これに、基板(W)上に供給されたリンス液は表面張力が小さな有機溶剤で置き換えされることができる。
【0067】
昇降ユニット４８０はコップ４２０を上下方向に移動させる。コップ４２０の上下移動によってコップ４２０と基板(W)との間の相対高さが変更される。これによって基板(W)に供給される液の種類によって処理液を回収する回収桶４２２、４２４、４２６が変更されるので、液らを分離回収することができる。前述したところと異なり、コップ４２０は固定設置され、昇降ユニット４８０は支持ユニット４４０を上下方向に移動させることができる。
【0068】
【0069】
図５を参照すれば、本発明の一実施例による乾燥チャンバ５００は超臨界状態の乾燥用流体を利用して基板(W)上に残留する処理液を除去することができる。例えば、乾燥チャンバ５００は超臨界状態の二酸化炭素(CO２)を利用して基板(W)上に残留する有機溶剤を除去する乾燥工程を遂行することができる。
【0070】
乾燥チャンバ５００はチャンバボディー(第１ボディーの一例)５１０、クランピングボディー（第２ボディーの一例) ５２０、流体供給ユニット５３０、流体排気ライン５４０、支持部材５５０、第１移動ユニット５６０、第２移動ユニット５７０、そして、摩擦防止部材５８０を含むことができる。チャンバボディー５１０とクランピングボディー５２０はボディーと通称されることができる。
【0071】
チャンバボディー５１０は上部ボディー(第１ボディーの他の例)５１２、そして下部ボディー（第２ボディーの他の例)５１４を含むことができる。上部ボディー５１２と下部ボディー５１４はお互いに組合されて処理空間５１１を形成することができる。上部ボディー５１２と下部ボディー５１４のうちで何れか一つは他の一つに対して相対的に移動可能になるように構成されることができる。例えば、上部ボディー５１２、そして、下部ボディー５１４のうちで何れか一つは第１移動ユニット５６０によって移動されることができる。第１移動ユニット５６０は昇降駆動機５６２及び昇降板５６４を含むことができる。昇降駆動機５６２は複数で提供され、昇降板５６４と連結されることができる。昇降板５６４は下部ボディー５１４と結合されることができる。昇降駆動機５６２が昇降板５６４を昇降させれば、下部ボディー５１４も昇降板５６４と共に昇降されることができる。チャンバボディー５１０内には処理空間５１１に供給された乾燥用流体を加熱するためのヒーターが埋設されることができる。また、上部ボディー５１２、そして、下部ボディー５１４が閉鎖位置にある時、内部空間５１１の気密性を高めるように、下部ボディー５１４には溝が形成され、前記溝にはシーリング部材であるオーリング５１６が挿入されることができる。
【0072】
上部ボディー５１２の位置は固定され、下部ボディー５１４が第１移動ユニット５６０によって第３方向(Z)に沿って昇降されることができる。以下では、下部ボディー５１４が上昇して上部ボディー５１２と触れ合って処理空間５１１を形成する位置を閉鎖位置として、下部ボディー５１４が下降して上部ボディー５１２と離隔される位置を開放位置とする。
【0073】
クランピングボディー５２０は第１クランピングボディー５２２、そして、第２クランピングボディー５２４を含むことができる。第１クランピングボディー５２２と第２クランピングボディー５２４はお互いに反対される位置でチャンバボディー５１０をクランピングすることができる。第１クランピングボディー５２２、そして第２クランピングボディー５２４の内側面は、閉鎖位置にあるチャンバボディー５１０の外側面と概して対応される形状を有することができる。第１クランピングボディー５２２と第２クランピングボディー５２４は第２移動ユニット５７０によって移動されることができる。第２移動ユニット５７０は複数で提供されることができる。第２移動ユニット５７０のうちで何れか一つは、上部ボディー５１２及び第１クランピングボディー５２２と連結されることができるし、第２移動ユニット５７０のうちで他の一つは、上部ボディー５１２及び第２クランピングボディー５２４と連結されることができる。
【0074】
第２移動ユニット５７０は上部ボディー５２２と結合される第１胴体５７２、クランピングボディー５２０と結合され、移動レール５７８に沿って移動される第２胴体５７４、そして固定された外部壁体(B)と結合される第３胴体５７６を含むことができる。第２胴体５７４は第１方向(X)に沿って移動しながら、クランプボディー５２０をチャンバボディー５１０に向ける方向に移動させることができる。
【0075】
流体供給ユニット５３０は処理空間５１１に乾燥用流体を供給することができる。流体供給ユニット５３０が供給する乾燥用流体は二酸化炭素(CO２)を含むことができる。流体供給ユニット５３０は流体供給源５３１、第１供給ライン５３３、第１供給バルブ５３５、第２供給ライン５３７、そして第２供給バルブ５３９を含むことができる。
【0076】
流体供給源５３１は処理空間５１１に供給される乾燥用流体を貯蔵及び/または供給することができる。流体供給源５３１は第１供給ライン５３３及び/または第２供給ライン５３７に乾燥用流体を供給することができる。例えば、第１供給ライン５３３には第１供給バルブ５３５が設置されることができる。また、第１供給ライン５３３は上部ボディー５１２に形成された第１供給チャンネル５１２aと連結されることができる。また、第２供給ライン５３７には第２供給バルブ５３９が設置されることができる。また、第２供給ライン５３７は下部ボディー５１４に形成された第２供給チャンネル５１４aと連結されることができる。第１供給バルブ５３５と第２供給バルブ５３９はオン/オフバルブであることができる。第１供給バルブ５３５と第２供給バルブ５３９のオン/オフによって、第１供給ライン５３３または第２供給ライン５３７に選択的に乾燥用流体が流れることができる。
【0077】
前述した例では一つの流体供給源５３１に第１供給ライン５３３、そして、第２供給ライン５３７が連結されることを例に挙げて説明したが、これに限定されるものではない。例えば、流体供給源５３１は複数で提供され、第１供給ライン５３３は複数の流体供給源５３１のうちで何れか一つと連結され、第２供給ライン５３７は流体供給源５３１らのうちで他の一つと連結されることもできる。
【0078】
また、第１供給ライン５３３は処理空間５１１の上部で乾燥用ガスを供給する上部供給ラインであることができる。例えば、第１供給ライン５３３は処理空間５１１の上から下に向ける方向に乾燥用ガスを供給することができる。また、第２供給ライン５３７は処理空間５１１の下部に乾燥用ガスを供給する下部供給ラインであることができる。例えば、第２供給ライン５３７は処理空間５１１の下から上に向ける方向に乾燥用ガスを供給することができる。
【0079】
流体排気ライン５４０は処理空間５１１から乾燥用流体を排気することができる。流体排気ライン５４０は処理空間に減圧を提供する減圧部材(図示せず)と連結されることができる。また、流体排気ライン５４０は下部ボディー５１４に形成された排気チャンネル５１４bと連結されることができる。減圧部材はポンプであることができる。しかし、これに限定されるものではなくて減圧部材は処理空間に減圧を提供することができる公知された装置で多様に変形されることができる。
【0080】
支持部材５５０は処理空間５１１で基板(W)を支持することができる。支持部材５５０は処理空間５１１で基板(W)の縁領域を支持することができる。支持部材５５０は基板(W)の縁領域下面を支持することができる。支持部材５５０は上部ボディー５１２に設置されることができる。
【0081】
摩擦防止部材５８０はクランプボディー５２０に設置されることができる。摩擦防止部材５８０は、クランプボディー５２０の内側面に設置されることができる。摩擦防止部材５８０はクランプボディー５２０とチャンバボディー５１０がお互いに接触されることができる領域、すなわち、接合面に設置されることができる。摩擦防止部材５８０は摩擦防止フィルムと呼ばれることもできる。摩擦防止部材５８０は複数で提供されることができる。摩擦防止部材５８０らのうちで一部はクランプボディー５２０の内側面下部に設置され、摩擦防備部材５８０らのうちで他の一部はクランピングボディー５２０の内側面上部に設置されることができる。
【0082】
摩擦防止部材５８０は第１クランプボディー５２２、第２クランプボディー５２４それぞれに設置されることができる。第１クランプボディー５２２の内側面下部には２個の摩擦防止部材５８０が設置され、第１クランプボディー５２２の内側面上部にも２個の摩擦防止部材５８０が設置されることができる。これと類似に、第２クランプボディー５２２の内側面下部には２個の摩擦防止部材５８０が設置され、第２クランプボディー５２２の内側面上部にも２個の摩擦防止部材５８０が設置されることができる。すなわち、摩擦防止部材５８０は８個のポイントに設置されることができる。摩擦防止部材５８０その設置位置及び具体的な形状に対する内容は後述する。
【0083】
図６は、図５の上部ボディー及び下部ボディーが閉鎖位置に位置される姿を見せてくれる図面であり、図７は図５の第１クランピングボディー及び第２クランピングボディーがクランピング位置に位置される姿を見せてくれる図面である。
【0084】
図６及び図７を参照すれば、基板(W)に対する乾燥工程、例えば、超臨界状態の乾燥用流体を利用して基板(W)を乾燥する高圧乾燥工程が始まれば、第１移動ユニット５６０は上部ボディー５１２または下部ボディー５１４のうちで何れか一つを他の一つに対して離隔される開放位置で、密着される閉鎖位置に移動させることができる(図６参照)。以後、高圧乾燥工程が遂行されるうちに、上部ボディー５１２と下部ボディー５１４の移動を制限するため、第１クランプボディー５２２及び第２クランプボディー５２４は、上部ボディー５１２及び下部ボディー５１４の移動制限を解除する解除位置で上部ボディー５１２及び下部ボディー５１４の移動を制限するクランピング位置に移動されることができる(図７参照)。
【0085】
図８aは、図５のクランプボディーのうちで何れか一つを見せてくれる斜視図であり、図８bは図５のクランプボディーのうちで他の一つを見せてくれる斜視図であり、図９は図５のチャンバボディーとクランプボディーの一部分を拡大して見せてくれる図面である。
【0086】
図８a、図８b、そして、図９を参照すれば、上部ボディー５１２及び下部ボディー５１４がお互いに密着される閉鎖位置にある時、チャンバボディー５２０の外側面はクランプボディー５２０が有する内側面とお互いに対応する形状を有することができる。例えば、上部ボディー５１２及び下部ボディー５１４が閉鎖位置にある時、チャンバボディー５２０の外側面のうちで一部は第１クランプボディー５２２の内側面によってクランピングされ、チャンバボディー５２０の外側面のうちで他の一部は第２クランプボディー５２４の内側面によってクランピングされることができる。
【0087】
摩擦防止部材５８０は第１クランプボディー５２２の内側面に設置されることができる。摩擦防止部材５８０は第２クランプボディー５２４の内側面に設置されることができる。摩擦防止部材５８０らは第１クランプボディー５２２及び第２クランプボディー５２４の内側面に接着剤などによって付着設置されることもできる。しかし、これに限定されるものではなくて摩擦防止部材５８０らはボルト/ねじのような結合手段によってクランプボディー５２０の内側面に結合設置されることもできる。
【0088】
摩擦防止部材５８０は第１クランプボディー５２２の内側面に複数個が設置されることができる。第１クランプボディー５２２の内側面に設置される摩擦防止部材５８０はお互いに離隔されて設置されることができる。第１クランプボディー５２２がクランピング位置にある時、摩擦防止部材５８０らが圧縮されることができるが、摩擦防止部材５８０らの間の間隔は摩擦防止部材５８０らが圧縮されてもお互いに重ならない間隔で配置されることができる。また、摩擦防止部材５８０は第１クランプボディー５２２の内側面の下部に複数個(例えば、２個)がお互いに離隔されて設置されることができる。また、摩擦防止部材５８０は第１クランプボディー５２２の内側面の上部に複数個(例えば、２個)がお互いに離隔されて設置されることができる。摩擦防止部材５８０らは上部から眺める時、円周方向に沿ってお互いに離隔されて設置されることができる。例えば、第１クランプボディー５２２の内側面上部に配置される２個の摩擦防止部材５８０らは上部から眺める時、円周方向に沿ってお互いに離隔されて設置されることができる。また、第１クランプボディー５２２の内側面下部に配置される２個の摩擦防止部材５８０らは上部から眺める時、円周方向に沿ってお互いに離隔されて設置されることができる。第２クランプボディー５２４に設置される摩擦防止部材５８０らの配置は、第１クランプボディー５２２に設置される摩擦防止部材５８０らの配置とお互いに対称されるので、繰り返される説明は略する。
【0089】
また、第１クランプボディー５２２及び第２クランプボディー５２４の内側面はそれぞれ第１面５２０a、第２面５２０b、５２０c及び第３面５２０dを含むことができる。第１面５２０aは地面に平行な面であることができる。第２面５２０b、５２０cは第１面５２０aから延長される面であることができる。第２面５２０b、５２０cは第１面５２０aが延長される方向に対して交差する方向に延長される面であることができる。例えば、第２面５２０b、５２０cは第１面５２０aが延長される方向に対して垂直な方向に延長される面であることができる。第３面５２０dは第１面５２０a及び第２面５２０cから延長される面であることができる。第３面５２０dは第１面５２０aが延長される方向に対して垂直な方向に延長され、第２面５２０cが延長される方向に対して垂直な方向に延長される面であることができる。
【0090】
摩擦防止部材５８０はクランピングボディー５２０が有する内側面らのうちで少なくともふたつ以上の面を連続的に覆うように構成されることができる。例えば、摩擦防止部材５８０は第１部分５８１、第２部分５８２、５８３、そして、第３部分５８４を含むことができる。第１部分５８１はクランピングボディー５２０の第１面５２０aを覆うように構成されることができる。第１部分５８１は上部から眺める時に弧形状を有することができる。
【0091】
第２部分５８２、５８３は第１部分５８１から延長されることができる。第２部分５８２、５８３は第１部分５８１が延長される方向に交差して延長されることができる。例えば、第２部分５８２、５８３は第１部分５８１が延長される方向に垂直な方向に延長されることができる。第２部分５８２、５８３は第２面５２０b、５２０cを覆うように構成されることができる。第２部分５８２、５８３のうちで一部は上の方向に延長されることができるし、第２部分５８２、５８３のうちで他の一部は下の方向に延長されることができる。また、第２部分５８２、５８３らは複数で提供され、第２部分５８２、５８３らはお互いに離隔されて提供されることができる。第２部分５８２、５８３らがお互いに離隔される間隔は略１５mm乃至略２０mm程度であることができる。また、摩擦防止部材５８０は第３面５２０dを覆うように構成される第３部分５８４をさらに含むことができる。第３部分５８４は第１部分５８１から延長されることができる。
【0092】
また、摩擦防止部材５８０が有する第１部分５８１、第２部分５８２、５８３、そして、第３部分５８４は一体で提供されることができる。すなわち、摩擦防止部材５８０は多くのフィルムらがそれぞれクランプボディー５２０の内側面に付着されるものではない、第１部分５８１、第２部分５８２、５８３、そして第３部分５８４を一つの胴体が有するように一体で加工された形態を有することができる。これは多くのフィルムらが重なって第１部分５８１、第２部分５８２、５８３、そして第３部分５８４を有するように摩擦防止部材５８０を構成する場合、処理空間５１１の圧力によって発生する振動によって摩擦防止部材５８０が毀損される確率が高いためである。
【0093】
本願の摩擦防止部材５８０は単純に平面に付着される形状ではない、立体形態のフィルム構造物で提供される。また、摩擦防止部材５８０はチャンバボディー５１０が伝達する垂直、水平、前後に作用する力を耐えるように設置される。
【0094】
具体的に、チャンバボディー５１０は図１０に示されたところのように上下方向、例えば、第３方向(Z)に沿って搖れる振動(V１)をクランプボディー５２０に伝達することができる。この時、第３方向(Z)に沿って搖れる振動(V１)がクランプボディー５２０に伝達されても、摩擦防止部材５８０の第１部分５８１が受ける力はクランプボディー５２０の第１面５２０aを向ける方向に伝達されるので、摩擦防止部材５８０には変形や、押され現象がほとんど発生されない。
【0095】
また、チャンバボディー５１０は図１１に示されたように前後方向、例えば、第１方向(X)に沿って搖れる振動(V２)をクランプボディー５２０に伝達することができる。この時、第１方向(X)に沿って搖れる振動(V２)が摩擦防止部材５８０に伝達されても、摩擦防止部材５８０の第３部分５８４、そして、第２部分５８３によって押され現象が発生されることを制限することができる。
【0096】
また、チャンバボディー５１０は図１２に示されたように第３方向(Z)を軸に繰り返し回転する回転振動(V３)をクランプボディー５２０に伝達することができる。この時、第３方向(Z)を軸に繰り返し回転する回転振動(V３)が摩擦防止部材５８０に伝達されても、摩擦防止部材５８０の第３部分５８４によって押され現象が発生されることを制限することができる。
【0097】
前述した振動らは単純な例示に過ぎなくて、前述した振動外にも多様な形態の振動が摩擦防止部材５８０に伝達されることができる。本発明の一実施例による摩擦防止部材５８０は摩擦防止部材５８０が曲がる変曲ポイントを有することによって多様な方向に支持力を有して、これに変形や押され現象が易しく発生しない。すなわち、摩擦防止部材５８０が平面形構造を有するため、振動によって変形や押され現象が易しく発生したが、本発明の一実施例による摩擦防止部材５８０は立体型構造を有するので、上述した問題点が発生されることを最小化することができる。
【0098】
前述した例では摩擦防止部材５８０が第１部分５８１、第２部分５８２、５８３及び第３部分５８４を有することを例に挙げて説明したが、これに限定されるものではない。例えば、例えば、図１３に示されたように摩擦防止部材５８０は第１面５２０aのみを覆うように構成されることができる。
【0099】
前述した例では、第２部分５８２、５８３が第１部分５８１から垂直な方向に延長されることを例に挙げて説明したが、これに限定されるものではない。例えば、図１４、そして、図１５に示されたように第２部分５８２、５８３は第１部分５８１から上の方向及び下の方向に延長されるが、傾いた方向に延長されることもできる。
【0100】
前述した例では摩擦防止部材５８０がクランピングボディー５２０の内側面に設置されることを例に挙げて説明したが、これに限定されるものではない。例えば、図１６に示されたように摩擦防止部材５８０aは上部ボディー５１２または下部ボディー５１４の接合面に設置されることもできる。例えば、摩擦防止部材５８０aは下部ボディー５１４の接合面に設置されるが、下部ボディー５１４が有する第１面５１０a及び第２面５２０bを連続的に覆うように構成されることができる。例えば、摩擦防止部材５８０aは第１面５１０aを覆うように構成される第１部分５８１aと、第２面５１０bを覆うように構成される第２部分５８２bを含むことができる。また、摩擦防止部材５８０aはシーリング部材５１６よりは外側に設置されることができる。これは、摩擦防止部材５８０aの摩擦に発生されるパーティクルが処理空間５１１に流入されることを最小化するためのことである。
【0101】
図１７は、本発明の他の実施例による乾燥チャンバを概略的に見せてくれる図面である。前述した例ではチャンバ５１０が上部ボディー５１２、そして、下部ボディー５１４で構成されることを例に挙げて説明したが、これに限定されるものではない。例えば、図１７に示されたようにチャンバ５１０aはベースボディー５１２a及びドアボディー５１４aを含むことができる。ベースボディー５１２a及びドアボディー５１４aはお互いに組合されて処理空間５１８aを形成することができる。ベースボディー５１２aは側方向が開放された桶形状を有することができるし、ドアボディー５１４aは側方向に移動され、処理空間５１８aを選択的に開閉することができる。また、ドアボディー５１４aには、摩擦防止部材５８０bが付着設置されることができる。摩擦防止部材５８０bはベースボディー５１２aと向い合うドアボディー５１４aの第１面を覆う第１部分５８１b、そして、第１面と平行ではないドアボディー５１４aの第２面を覆う第２部分５８２bを含むことができる。すなわち、断面から眺める時、摩擦防止部材５８０、５９０は概して‘┐'、‘└'形状を有することができる。場合によって、図１８に示されたように、摩擦防止部材５８０、５９０は概して‘匸'、‘ └'形状を有することもできる。
【0102】
図１７は、本発明の他の実施例による乾燥チャンバを概略的に見せてくれる図面である。超臨界流体を利用して基板(W)を乾燥する乾燥チャンバ６００はベースボディー６１２及びドアボディー６１４を含むことができる。ベースボディー６１２及びドアボディー６１４はお互いに組合されて処理空間６１１を形成することができる。ベースボディー６１２は側方向が開放された桶形状を有することができるし、ドアボディー６１４は側方向に移動され、処理空間６１１を選択的に開閉することができる。ドアボディー６１４には基板(W)を支持する支持棚６１６が結合されることができる。
【0103】
乾燥用流体(G)を供給する第１供給ライン６３３は支持棚６１６に支持された基板(W)の側面に乾燥用流体(G)を供給することができる。乾燥用流体を供給する第２供給ライン６３７は支持棚６１６の下方に乾燥用流体を供給することができる。
乾燥用流体(G)を排気する排気ライン６５１は処理空間６１１を下に向ける方向に排気することができる。
乾燥用流体(G)を排気する排気ライン６５１は処理空間６１１を下に向ける方向に排気することができる。
【0104】
ドアボディー６１４には、摩擦防止部材５８０bが付着設置されることができる。摩擦防止部材５８０bはベースボディー６１２と向い合うドアボディー６１４の第１面を覆う第１部分５８１b、そして、第１面と平行ではないドアボディー６１４の第２面を覆う第２部分５８２bを含むことができる。断面から眺める時、摩擦防止部材５８０、５９０は概して‘┐'、‘└'形状を有することができる。場合によって、図１８に示されたように、摩擦防止部材５８０cは概して‘匸'形状を有することもできる。
【0105】
図１９は、本発明の他の実施例による乾燥チャンバを概略的に見せてくれる図面である。超臨界流体を利用して基板(W)を乾燥する乾燥チャンバ７００はベースボディー７１２及びドアボディー７１４を含むことができる。ベースボディー７１２及びドアボディー７１４はお互いに組合されて処理空間を形成することができる。ベースボディー７１２は側方向が開放された桶形状を有することができるし、ドアボディー７１４は側方向に移動され、処理空間を選択的に開閉することができる。ドアボディー７１４には基板(W)を支持する支持棚７１６が結合されることができる。
【0106】
供給ライン７３３が供給する乾燥用流体(G)は支持棚７１６及びベースボディー７１２が形成する乾燥用流体(G)の流動経路に沿って流れることができる。乾燥用流体(G)の流動経路は基板(W)の上面に沿って流れることができるように形成されることができる。
乾燥用流体(G)を排気する排気ライン７５１は処理空間６１１を上に向ける方向に排気することができる。
乾燥用流体(G)を排気する排気ライン７５１は処理空間６１１を上に向ける方向に排気することができる。
【0107】
ドアボディー７１４には、摩擦防止部材５８０dが付着設置されることができる。摩擦防止部材５８０dはベースボディー７１２と向い合うドアボディー７１４の第１面を覆う第１部分、そして、第１面と平行ではないドアボディー７１４の第２面を覆う第２部分を含むことができる。断面から眺める時、摩擦防止部材５８０dは概して‘┐'、‘└'形状を有することができる。
【0108】
図２０は、本発明の他の実施例による乾燥チャンバを概略的に見せてくれる図面である。超臨界流体を利用して基板(W)を乾燥する乾燥チャンバ８００はボディー８１０、昇降部材８２０を含むことができる。ボディー８１０は上部ボディー８１２と下部ボディー８１４を含むことができる。上部ボディー８１２と下部ボディー８１４はお互いに組合されて基板(W)が処理される処理空間を形成することができる。また、乾燥チャンバ８００は処理空間で基板(W)を支持する支持部材８３０を含むことができる。また、乾燥チャンバ８００は上部ボディー８１２及び下部ボディー８１４が形成する処理空間の気密性を維持することができるようにするシーリング部材８１６をさらに含むことができる。
【0109】
また、上部ボディー８１２には乾燥用流体(G)を供給する上部チャンネル８１２aが形成されることができる。また、下部ボディー８１４には乾燥用流体(G)の供給及び排気をすべて遂行することができる下部チャンネル８１４bが形成されることができる。下部チャンネル８１４bは乾燥用流体(G)を供給する供給チャンネル８１４a及び乾燥用流体(G)を排気する排気チャンネル８１４cと流体連通されることができる。
【0110】
上部ボディー８１２及び下部ボディー８１４が接触される接合面には摩擦防止部材５８０eが提供されることができる。摩擦防止部材５８０eは下部ボディー８１４に設置されることができる。摩擦防止部材５８０eは上部ボディー８１２及び下部ボディー８１４がお互いに向い合う面を覆う第１部分、そして、第１面に垂直な第２面を覆う第２部分を含むことができる。断面から眺める時、摩擦防止部材５８０eは概して‘┐'形状を有することができる。
【0111】
図２１は、本発明の他の実施例による乾燥チャンバを概略的に見せてくれる図面である。超臨界流体を利用して基板(W)を乾燥する乾燥チャンバ９００はチャンバボディー９１０及びクランプボディー９２０を含むことができる。チャンバボディー９１０は第１チャンバボディー９１２及び第２チャンバボディー９１４を含むことができる。第２チャンバボディー９１４は第１チャンバボディー９１２に対して相対的に移動可能に提供されることができる。このふたつのボディーはお互いに組合されて乾燥用流体によって基板が処理される処理空間を形成することができる。また、超臨界状態の乾燥用流体によって基板が処理される場合、第１チャンバボディー９１２及び第２チャンバボディー９１４は圧力によって閉鎖状態が解けることがある。
【0112】
これに、クランプボディー９２０は乾燥チャンバ９００で基板が処理されるうちに、チャンバボディー９１０をクランピングすることができる。
【0113】
クランプボディー９２０は第１クランプボディー９２２及び第２クランプボディー９２４を含むことができる。第１クランプボディー９２２が有する突起ら９２２a、９２２bはそれぞれ第１チャンバボディー９１２に形成された溝９１２２及び第２チャンバボディー９１４に形成された溝９１４２にそれぞれ挿入されることができる。また、第２クランプボディー９２４が有する突起ら９２４a、９２４bはそれぞれ第２チャンバボディー９１４に形成された溝９１２４及び第２チャンバボディー９１４に形成された溝９１４４にそれぞれ挿入されることができる。
【0114】
また、摩擦防止部材５８０fはクランプボディー９２０とチャンバボディー９１０が接合される接合面に設置されることができる。例えば、摩擦防止部材５８０fはクランプボディー９２０が有する突起ら９２２a、９２２b、９２４a、９２４bを覆うように構成されることができる。また、摩擦防止部材５８０fらは突起ら９２２a、９２２b、９２４a、９２４bそれぞれが有する面らのうちで少なくともふたつ以上を覆うように構成されることができる。
【0115】
図２２は、図１７で示している乾燥チャンバ６００に設置されることができる摩擦防止部材５８０gの他の実施例を示す。摩擦防止部材５８０gは複数で提供されることができる。摩擦防止部材５８０gはベースボディー６１２とドアボディー６１４がお互いに接合される接合面に設置されることができる。具体的に、摩擦防止部材５８０gはドアボディー６１４が有する接合面に複数個がお互いに離隔されて設置されることができる。また、前述したようにドアボディー６１４はベースボディー６１２に対して移動ユニットによって相対的に移動可能に提供されることができる。また、摩擦防止部材５８０gらの間の間隔は、ドアボディー６１４が移動して処理空間を定義する閉鎖位置にある時、摩擦防止部材５８０gらのうちで何れか一つが接する摩擦防止部材５８０gらのうちで他の一つと離隔されることができるようにする間隔であることができる。
【0116】
以上の詳細な説明は本発明を例示するものである。また、前述した内容は本発明の望ましい実施形態を示して説明するものであり、本発明は多様な他の組合、変更及び環境で使用することができる。すなわち、本明細書に開示された発明の概念の範囲、著わした開示内容と均等な範囲及び/または当業界の技術または知識の範囲内で変更または修正が可能である。著わした実施例は本発明の技術的思想を具現するための最善の状態を説明するものであり、本発明の具体的な適用分野及び用途で要求される多様な変更も可能である。したがって、以上の発明の詳細な説明は開示された実施状態で本発明を制限しようとする意図ではない。また、添付された請求範囲は他の実施状態も含むことで解釈されなければならない。
【符号の説明】
【0117】
５１０ チャンバボディー
５２０ クランプボディー
５３０ 流体供給ユニット
５４０ 流体排気ライン
５５０ 支持部材
５６０ 第１移動ユニット
５７０ 第２移動ユニット
５８０ 摩擦防止部材
５２０ クランプボディー
５３０ 流体供給ユニット
５４０ 流体排気ライン
５５０ 支持部材
５６０ 第１移動ユニット
５７０ 第２移動ユニット
５８０ 摩擦防止部材
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8a】
【図8b】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】