特開 2023-21641 インライン分散装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023021641

(43)【公開日】2023-02-14

(54)【発明の名称】インライン分散装置

(51)【国際特許分類】

   B01F 27/72 20220101AFI20230207BHJP

   B01F 25/64 20220101ALI20230207BHJP

   B01F 35/10 20220101ALI20230207BHJP

   B01F 35/00 20220101ALI20230207BHJP

   B01F 23/41 20220101ALI20230207BHJP

   B01F 23/60 20220101ALI20230207BHJP

【ＦＩ】

B01F7/08 D

B01F5/16

B01F15/00 D

B01F15/00 Z

B01F3/08 A

B01F3/18

【審査請求】未請求

【請求項の数】7

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2021126629

(22)【出願日】2021-08-02

(71)【出願人】

【識別番号】591011384

【氏名又は名称】株式会社パウレック

(74)【代理人】

【識別番号】100107423

【弁理士】

【氏名又は名称】城村 邦彦

(74)【代理人】

【識別番号】100120949

【弁理士】

【氏名又は名称】熊野 剛

(72)【発明者】

【氏名】堀田 泰宏

(72)【発明者】

【氏名】土井 尚俊

【テーマコード（参考）】

4G035

4G037

4G078

【Ｆターム（参考）】

4G035AB38

4G035AB43

4G037DA14

4G037DA30

4G078AA13

4G078AA20

4G078AB09

4G078AB20

4G078BA01

4G078CA07

4G078DA17

4G078EA10

4G078EA20

(57)【要約】

【課題】プロセス中における被処理物への剪断力のコントロール幅を大きくすることが可能なホモジナイザを備えたインライン分散装置を提供する。
【解決手段】インライン分散装置は、軸線が同軸に配設されたステータ７及びロータ８を有するホモジナイザと、ステータ７とロータ８を前記軸線の方向に相対的に移動させる移動機構とを備える。半径方向クリアランスＣを介して相対向するステータ７のステータ歯部７ｂのステータ対向面９と、ロータ８のロータ歯部８ｂのロータ対向面１０は、半径方向クリアランスＣがステータ７とロータ８の前記軸線の方向の相対的移動に応じて変化する形状に形成され、前記移動機構により、半径方向クリアランスＣが可変で調整可能である。
【選択図】図３

【特許請求の範囲】

【請求項1】

ケーシングと、該ケーシングの内部に配置され、軸線が同軸に配設されたステータ及びロータを有し、該ロータの回転に伴うタービュランス効果により、被処理物の吸い込み・分散・押し出しを行うホモジナイザと、前記ケーシングの外部から内部に被処理物を供給するための供給部と、前記ケーシングの内部から外部に被処理物を排出するための排出部とを備え、前記供給部を介して前記ケーシングの内部に供給される被処理物を、前記ホモジナイザにより吸い込み、分散して、押し出し、前記排出部を介して前記ケーシングの外部に排出するインライン分散装置であって、
前記ホモジナイザの前記ステータと前記ロータを前記軸線の方向に相対的に移動させる移動機構が設けられ、
前記ステータは、ステータ基部と、該ステータ基部の周方向に沿って形成され、該ステータ基部から前記軸線方向の一方側に延びるステータ歯部を有し、前記ロータは、ロータ基部と、該ロータ基部の周方向に沿って形成され、該ロータ基部から前記軸線方向の他方側に延び、前記ステータ歯部と半径方向のクリアランスを介して組み合わされるロータ歯部を有し、
前記半径方向クリアランスを介して相対向する前記ステータ歯部と前記ロータ歯部の対向面は、前記半径方向クリアランスが前記ステータと前記ロータの前記軸線方向の相対的移動に応じて変化する形状に形成され、前記移動機構により、前記半径方向クリアランスが可変で調整可能であることを特徴とするインライン分散装置。

【請求項2】

前記ステータが、前記ケーシングの内周に対して前記軸線方向に摺動自在に配置されている請求項１に記載のインライン分散装置。

【請求項3】

前記供給部が、前記軸線に沿って前記ステータを貫通する供給路を有する請求項１又は２に記載のインライン分散装置。

【請求項4】

前記ステータ歯部と前記ロータ歯部のうち少なくとも一方の歯部の前記対向面は、前記軸線を含む断面において、前記歯部の先端側に向かって、該歯部の前記対向面と反対側の側面の側に漸次変位するように傾斜した傾斜面に形成されている請求項１～３の何れか１項に記載のインライン分散装置。

【請求項5】

前記ステータ歯部と前記ロータ歯部の双方の前記対向面が、前記傾斜面に形成されている請求項４に記載のインライン分散装置。

【請求項6】

前記軸線を含む断面において、前記傾斜面が直線状である請求項４又は５に記載のインライン分散装置。

【請求項7】

前記軸線を含む断面において、前記ステータ歯部と前記ロータ歯部は、それぞれ、前記軸線に平行な直線を対称軸とする線対称形状である請求項４～６の何れか１項に記載のインライン分散装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、医薬品、化粧品、ファインケミカル、電池、食品等の製造工程において、粘性の液体や粉体等の混合、乳化、分散、脱泡等の処理に使用されるインライン分散装置に関する。

【背景技術】

【0002】

医薬品、化粧品、ファインケミカル、電池、食品等の製造工程において、粘性の液体や粉体等の混合、乳化、分散、脱泡等の処理に使用される分散装置には、配管の途中に設置されるタイプのものがある（以下、インライン分散装置と記す）。このインライン分散装置として、軸線が同軸に配設されたステータ及びロータを有し、該ロータの回転に伴うタービュランス効果により、被処理物の吸い込み・分散・押し出しを行うホモジナイザを備えるものが知られている（例えば、特許文献１参照）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特許第６６８５０６６号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

ところで、特許文献１に開示されているように、この種のインライン分散装置では、前記ステータは、ステータ基部と、該ステータ基部の周方向に沿って形成され、該ステータ基部から前記軸線の方向の一方側に延びるステータ歯部を有する。また、前記ロータは、ロータ基部と、該ロータ基部の周方向に沿って形成され、該ロータ基部から前記軸線方向の他方側に延び、前記ステータ歯部と半径方向のクリアランスを介して組み合わされるロータ歯部を有する。

【0005】

被処理物は、ステータ歯部とロータ歯部によって剪断力が掛けられるが、その剪断力は、ステータ歯部とロータ歯部とのクリアランス（特に、半径方向クリアランス）と、ロータの回転速度とによってコントロールされる。

【0006】

しかしながら、ステータ歯部とロータ歯部とのクリアランスを変更する場合には、一旦インライン分散装置を停止して、分解・組立を行う必要がある。そのため、プロセス中には、剪断力は、ロータの回転速度のみでコントロールされることになり、コントロール幅が小さい。従って、プロセス中に剪断力の変更を行う場合に十分に対応できない事態が生じる。

【0007】

本発明は、上記事情に鑑み、プロセス中における被処理物への剪断力のコントロール幅を大きくすることが可能なホモジナイザを備えたインライン分散装置を提供することを技術的課題とする。

【課題を解決するための手段】

【0008】

上記課題を解決するために創案された本発明に係るインライン分散装置は、ケーシングと、該ケーシングの内部に配置され、軸線が同軸に配設されたステータ及びロータを有し、該ロータの回転に伴うタービュランス効果により、被処理物の吸い込み・分散・押し出しを行うホモジナイザと、前記ケーシングの外部から内部に被処理物を供給するための供給部と、前記ケーシングの内部から外部に被処理物を排出するための排出部とを備え、前記供給部を介して前記ケーシングの内部に供給される被処理物を、前記ホモジナイザにより吸い込み、分散して、押し出し、前記排出部を介して前記ケーシングの外部に排出するインライン分散装置であって、前記ホモジナイザの前記ステータと前記ロータを前記軸線の方向に相対的に移動させる移動機構が設けられ、前記ステータは、ステータ基部と、該ステータ基部の周方向に沿って形成され、該ステータ基部から前記軸線方向の一方側に延びるステータ歯部を有し、前記ロータは、ロータ基部と、該ロータ基部の周方向に沿って形成され、該ロータ基部から前記軸線方向の他方側に延び、前記ステータ歯部と半径方向のクリアランスを介して組み合わされるロータ歯部を有し、前記半径方向クリアランスを介して相対向する前記ステータ歯部と前記ロータ歯部の対向面は、前記半径方向クリアランスが前記ステータと前記ロータの前記軸線方向の相対的移動に応じて変化する形状に形成され、前記移動機構により、前記半径方向クリアランスが可変で調整可能であることを特徴とする。

【0009】

この構成によれば、ステータとロータを軸線の方向に相対的に移動させることにより、ステータ歯部とロータ歯部の半径方向クリアランスを可変で調整可能である。ステータとロータを軸線方向に相対的に移動させることは、プロセス中であっても可能である。従って、プロセス中であっても、ステータ歯部とロータ歯部の半径方向クリアランスが可変で調整可能である。このため、プロセス中であっても、被処理物への剪断力を可変で調整可能である。これにより、プロセス中の剪断力は、ステータ歯部とロータ歯部の半径方向クリアランスによってもコントロール可能になり、ロータの回転速度のみでコントロールされる従来の場合よりも、コントロール幅を大きくすることが可能である。すなわち、本発明に係るインライン分散装置によれば、プロセス中における被処理物への剪断力のコントロール幅を大きくすることが可能なホモジナイザを備えたインライン分散装置を提供することが可能である。

【0010】

また、ステータ歯部とロータ歯部の半径方向クリアランスを可変で調整することにより、被処理物がホモジナイザに入る際の抵抗を可変で調整でき、単位時間当たりの被処理物の流量（処理流量）を可変で調整できる。従って、プロセス中に、被処理物の処理流量を可変で調整可能である。

【0011】

また、洗浄工程において、ステータ歯部とロータ歯部の半径方向クリアランスを大きくし、ロータの回転で洗浄液を通過させてステータとロータを洗浄することによって、ステータとロータの洗浄性を高めることができる。これにより、ステータとロータの分解洗浄を不要とすることが可能である。

【0012】

また、ステータとロータの摩耗の具合に合わせて常にステータ歯部とロータ歯部の半径方向クリアランスを調整することが可能である。

【0013】

上記の構成において、前記ステータが、前記ケーシングの内周に対して前記軸線方向に摺動自在に配置されていてもよい。

【0014】

この構成であれば、ステータとロータを軸線方向に相対的に移動させる構造を容易に得ることができる。

【0015】

上記の構成において、前記供給部が、前記軸線に沿って前記ステータを貫通する供給路を有していてもよい。

【0016】

この構成であれば、ステータを貫通する供給路により、被処理物をスムーズにホモジナイザ内に供給することが可能である。

【0017】

上記の構成において、前記ステータ歯部と前記ロータ歯部のうち少なくとも一方の歯部の前記対向面は、前記軸線を含む断面において、前記歯部の先端側に向かって、該歯部の前記対向面と反対側の側面の側に漸次変位するように傾斜した傾斜面に形成されていてもよい。

【0018】

この構成であれば、ステータ歯部とロータ歯部の半径方向クリアランスがステータとロータの軸線方向の相対的移動に応じて変化する形状の対向面を、容易に得ることができる。

【0019】

上記の構成において、前記ステータ歯部と前記ロータ歯部の双方の前記対向面が、前記傾斜面に形成されていてもよい。

【0020】

上記の構成において、前記軸線を含む断面において、前記傾斜面が直線状であってもよい。

【0021】

上記の構成において、前記軸線を含む断面において、前記ステータ歯部と前記ロータ歯部は、それぞれ、前記軸線に平行な直線を対称軸とする線対称形状であってもよい。

【発明の効果】

【0022】

本発明によれば、プロセス中における被処理物への剪断力のコントロール幅を大きくすることが可能なホモジナイザを備えたインライン分散装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0023】

【図1】本発明の実施形態に係るインライン分散装置の概略部分断面（軸線を含む断面）平面図である。

【図2】図１のＸ部の拡大図である。

【図3】図２のＹ部の拡大図である。

【図4】ステータのステータ歯部の周辺の軸線方向の一方側の概略斜視図である。

【図5】ステータのステータ歯部の周辺の概略断面（軸線を含む断面）図である。

【図6】ステータ歯部のステータ歯部を軸線方向の一方側から見た概略図である。

【図7】ステータのステータ歯部の周辺を外周側から見た概略図である。

【図8】ロータの軸線方向の他方側の概略斜視図である。

【図9】ロータを軸線方向の他方側から見た概略図である。

【図10】ロータの概略断面（軸線を含む断面）図である。

【図11】ロータを外周側から見た概略図である。

【図12】インライン分散装置の変形例を示す図２に対応する図である。

【図13】ステータ歯部とロータ歯部の変形例を示す概略断面（軸線を含む断面）図である。

【発明を実施するための形態】

【0024】

図１～１１に基づいて、本発明の実施形態に係るインライン分散装置１について説明する。図１，２に示すように、インライン分散装置１は、ケーシング２と、ホモジナイザ３と、供給部４と、排出部５と、移動機構６とを主要な構成要素として備える。

【0025】

ホモジナイザ３は、ケーシング２の内部に配置され、軸線が同一の軸線Ａとなるように配設されたステータ７及びロータ８を有する。また、ホモジナイザ３は、ロータ８の回転に伴うタービュランス効果により、被処理物の吸い込み・分散・押し出しを行う。

【0026】

供給部４は、ケーシング２の外部から内部に被処理物を供給するための部位であり、排出部５は、ケーシング２の内部から外部に被処理物を排出するための部位である。移動機構６は、ホモジナイザ３のステータ７とロータ８を軸線Ａの方向に相対的に移動させる。

【0027】

なお、本実施形態では、軸線Ａの方向は、横方向（水平方向）に沿っているが、これに限定されること無く、例えば、軸線Ａの方向は、上下方向に沿っていてもよい。また、以下の説明において、軸線Ａ方向の一方側は、図１、２での右側、軸線Ａ方向の他方側は、図１、２での左側となる。

【0028】

図１に示すように、インライン分散装置１の供給部４には、供給用配管Ｐ１が接続され、インライン分散装置１の排出部５には、排出用配管Ｐ２が接続されている。

【0029】

図２に白矢印で示すように、インライン分散装置１では、供給部４を介してケーシング２の内部に供給される被処理物を、ホモジナイザ３により吸い込み、分散して、押し出し、排出部５を介してケーシング２の外部に排出する。

【0030】

図４～７に示すように、ステータ７は、円柱状のステータ基部７ａと、ステータ基部７ａの周方向に沿って連続して形成され、ステータ基部７ａから軸線Ａ方向の一方側に延びるステータ歯部７ｂを２個有する。ステータ歯部７ｂは、外周側と内周側にステータ側面７ｃを有する。ステータ歯部７ｂには、半径方向に貫通するステータ貫通孔７ｄが周方向等間隔に形成されている。ステータ貫通孔７ｄは、貫通方向に沿って見た場合に、軸線Ａ方向に対して傾斜した長穴形状である。２個のステータ歯部７ｂで、ステータ貫通孔７ｄの形状、寸法、個数、周方向位置は同じである。

【0031】

また、図１，２に示すように、ステータ７のステータ基部７ａは、軸線Ａ方向の一方側の部位が、ケーシング２の内部に配置され、軸線Ａ方向の他方側の部位は、ケーシング２の外部に配置されている。供給部４は、ステータ７のステータ基部７ａに設けられており、軸線Ａに沿ってステータ７を貫通する被処理物の供給路Ｒを有する。この供給路Ｒは、ステータ７のステータ基部７ａに軸線Ａに沿って形成された貫通孔の内部空間で構成されている。

【0032】

また、ステータ７のステータ基部７ａは、ケーシング２の内周に対して軸線Ａ方向に摺動自在に配置されている。詳述すると、図２に示すように、ケーシング２における軸線Ａ方向の他方側の周壁部２ａにおける内周側には、シール部材Ｓ１が配設されており、ステータ基部７ａの外周面が、シール部材Ｓ１に対して接触した状態で摺動するようになっている。

【0033】

図８～１１に示すように、ロータ８は、円板状のロータ基部８ａと、ロータ基部８ａの周方向に沿って連続して形成され、ロータ基部８ａから軸線Ａ方向の他方側に延びるロータ歯部８ｂを１個有する。ロータ歯部８ｂは、外周側と内周側にロータ側面８ｃを有する。ロータ歯部８ｂには、半径方向に貫通するロータ貫通孔８ｄが周方向等間隔に形成されている。ロータ貫通孔８ｄは、貫通方向に沿って見た場合に、軸線Ａ方向に沿って延びる長穴形状である。ロータ貫通孔８ｄの個数は、１つのステータ歯部７ｂのステータ貫通孔７ｄの個数と同じである。

【0034】

また、ロータ８のロータ歯部８ｂの内周側には、ロータ基部８ａから軸線Ａ方向の他方側に延びる複数の羽根部８ｅが形成されている。図９に示すように、羽根部８ｅは、軸線Ａ方向の他方側から見た場合に、外周側に向かって、ロータ基部８ａの周方向の一方側に漸次変位する形状となっている。また、ロータ基部８ａの中央には軸線Ａ方向の他方側に延びるボス部８ｆが形成されている。羽根部８ｅの内周端は、ボス部８ｆに対して径方向に所定距離で離隔している。また、ロータ基部８ａの中央には軸線Ａ方向の一方側に延びる軸部８ｇが形成されている。

【0035】

図３に示すように、ロータ８のロータ歯部８ｂは、ステータ７のステータ歯部７ｂと半径方向のクリアランスＣを介して組み合わされる。半径方向クリアランスＣを介して相対向するステータ歯部７ｂのステータ側面７ｃ（以下、ステータ対向面９と記す）とロータ歯部８ｂのロータ側面８ｃ（以下、ロータ対向面１０と記す）は、半径方向クリアランスＣがステータ７とロータ８の軸線Ａ方向の相対的移動に応じて変化する形状に形成されている。従って、移動機構６により、ステータ７とロータ８を軸線Ａ方向に相対的に移動させることにより、ステータ歯部７ｂとロータ歯部８ｂの半径方向クリアランスＣを可変で調整可能である。

【0036】

なお、内周側のステータ歯部７ｂの内周側のステータ側面７ｃと、ロータ８の羽根部８ｅの外周側端面８ｈも、所定の半径方向のクリアランスを介して相対向する。

【0037】

ステータ歯部７ｂのステータ対向面９は、軸線Ａを含む断面において、ステータ歯部７ｂの先端側に向かって、ステータ歯部７ｂにおけるステータ対向面９と反対側のステータ側面７ｃの側に漸次変位するように傾斜した傾斜面に形成されている。軸線Ａを含む断面において、この傾斜面は直線状である。

【0038】

また、軸線Ａを含む断面において、ステータ歯部７ｂは、軸線Ａに平行な直線Ｌを対称軸とする線対称形状である。

【0039】

本実施形態では、ロータ歯部８ｂのロータ側面８ｃの双方が、ロータ対向面１０となっている。ロータ歯部８ｂのロータ対向面１０の一方は、軸線Ａを含む断面において、ロータ歯部８ｂの先端側に向かって、ロータ歯部８ｂにおけるロータ対向面１０と反対側のロータ側面８ｃ（他方のロータ対向面１０）の側に漸次変位するように傾斜した傾斜面に形成されている。軸線Ａを含む断面において、この傾斜面は直線状である。

【0040】

また、軸線Ａを含む断面において、ロータ歯部８ｂは、軸線Ａに平行な直線Ｌを対称軸とする線対称形状である。

【0041】

なお、軸線Ａを含む断面において、ロータ対向面１０の傾斜面と、ステータ対向面９の傾斜面は、平行である。換言すれば、軸線Ａを含む断面において、ロータ対向面１０の傾斜面の軸線Ａに対する傾斜角度と、ステータ対向面９の傾斜面の軸線Ａに対する傾斜角度は同一である。このため、ロータ対向面１０とステータ対向面９の半径方向クリアランスＣは、軸線Ａの方向で均一である。このことは、ステータ７とロータ８を軸線Ａの方向に相対的に移動させても変わらない。

【0042】

本実施形態では、ロータ８は軸線Ａ方向の位置を固定されており、移動機構６は、ロータ８に対してステータ７を軸線Ａ方向に移動させるものである。図１に示すように、移動機構６は、送りねじ機構６ａと移動用モータ６ｂを有する。ステータ７のステータ基部７ａの外周面の軸線Ａ方向の他方側にはフランジ部７ｅが設けられており、フランジ部７ｅの周方向の一部には外周側に延びる取付部７ｆが設けられており、この取付部７ｆに送りねじ機構６ａのナット部が取り付けられている。送りねじ機構６ａのねじ軸の回転軸は、軸線Ａと平行である。移動用モータ６ｂの回転駆動力が、送りねじ機構６ａにより、ステータ７を軸線Ａ方向に沿って移動させる駆動力に変換される。ステータ７の軸線Ａ方向に沿った移動は、例えば０．１ｍｍ単位で行われる。

【0043】

なお、供給部４に接続された供給用配管Ｐ１は屈曲自在であり、移動機構６によるステータ７の移動に伴い、供給用配管Ｐ１の屈曲の度合いが変化し、これにより、移動機構６によるステータ７の移動が許容される。

【0044】

ロータ８の軸部８ｇが回転駆動軸１１の端部に挿入された状態で、ロータ８が回転駆動軸１１に対して固定されている。ロータ８は回転駆動軸１１と一体に回転する。回転駆動軸１１には、その軸線Ａ方向の一方側に配置された回転駆動用モータ１２から回転駆動力が入力される。

【0045】

なお、回転駆動軸１１は、ロータ８と同軸に配設されている。また、回転駆動軸１１は、ケーシング２の内部に配置され、軸受１１ａを介してケーシング２に回転自在に支持されている。ロータ８が配置されているケーシング２の内部空間は、回転駆動軸１１の大部分が配置されているケーシング２の内部空間からシール部Ｓ２により区画されている。

【0046】

また、ケーシング２は回転駆動用モータ１２に固定されており、回転駆動用モータ１２は不図示の支持台に固定されている。また、移動用モータ６ｂも、回転駆動用モータ１２が固定されている支持台に固定されている。

【0047】

インライン分散装置１の運転中は、ホモジナイザ３のロータ８の回転に伴うタービュランス効果によって、供給用配管Ｐ１から供給部４を介して供給された被処理物がホモジナイザ３の内部に吸い込まれ、さらに遠心力により、ステータ歯部７ｂのステータ貫通孔７ｄとロータ歯部８ｂのロータ貫通孔８ｄから押し出され、この時のステータ歯部７ｂ、ロータ歯部８ｂによる剪断作用で被処理物の分散が行われる。その後、分散が行われた被処理物は、排出部５を介して排出用配管Ｐ２に排出される。

【0048】

以上のように構成されたインライン分散装置１では、以下の効果を享受できる。

【0049】

ステータ７とロータ８を軸線Ａの方向に相対的に移動させることにより、ステータ歯部７ｂとロータ歯部８ｂの半径方向クリアランスＣを可変で調整可能である。ステータ７とロータ８を軸線Ａの方向に相対的に移動させることは、プロセス中であっても可能である。従って、プロセス中であっても、ステータ歯部７ｂとロータ歯部８ｂの半径方向クリアランスＣが可変で調整可能である。このため、プロセス中であっても、被処理物への剪断力を可変で調整可能である。これにより、プロセス中の剪断力は、ステータ歯部７ｂとロータ歯部８ｂの半径方向クリアランスＣによってもコントロール可能になり、ロータ８の回転速度のみでコントロールされる従来の場合よりも、コントロール幅を大きくすることが可能である。すなわち、本実施形態に係るインライン分散装置１によれば、プロセス中における被処理物への剪断力のコントロール幅を大きくすることが可能なホモジナイザを備えたインライン分散装置を提供することが可能である。

【0050】

また、ステータ歯部７ｂとロータ歯部８ｂの半径方向クリアランスＣを可変で調整することにより、被処理物がホモジナイザ３に入る際の抵抗を可変で調整でき、単位時間当たりの被処理物の流量（処理流量）を可変で調整できる。従って、プロセス中に、被処理物の処理流量を可変で調整可能である。

【0051】

また、洗浄工程において、ステータ歯部７ｂとロータ歯部８ｂの半径方向クリアランスＣを大きくし、ロータ８の回転で洗浄液を通過させてステータ７とロータ８を洗浄することによって、ステータ７とロータ８の洗浄性を高めることができる。これにより、ステータ７とロータ８の分解洗浄を不要とすることが可能である。

【0052】

また、ステータ７とロータ８の摩耗の具合に合わせて常にステータ歯部７ｂとロータ歯部８ｂの半径方向クリアランスＣを調整することが可能である。

【0053】

本発明は、上記実施形態に限定されるものでは無く、その技術的思想の範囲内で、様々な変形が可能である。例えば、上記実施形態では、供給部４は、ステータ７に設けられていたが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、図１２に示すように、環状のステータ７の全体が、ケーシング２の内部に配置され、供給部４がケーシング２の端壁部２ｂに設けられていてもよい。この場合、ケーシング２の端壁部２ｂに摺動自在に挿通された棒状部材６ｃの一端がステータ７のステータ基部７ａに固定され、他端が環状の連結部６ｄに固定される。連結部６ｄの周方向の一部には、外周側に延びる取付部６ｅが設けられ、取付部６ｅに送りねじ機構６ａのナット部（不図示）が固定されている。

【0054】

また、上記実施形態では、軸線Ａを含む断面において、ステータ歯部７ｂのステータ対向面９とロータ歯部８ｂのロータ対向面１０の双方が、軸線Ａに対して傾斜した傾斜面に形成されていたが、ステータ歯部７ｂのステータ対向面９とロータ歯部８ｂのロータ対向面１０は、半径方向クリアランスＣがステータ７とロータ８の軸線Ａの方向の相対的移動に応じて変化する形状に形成されていればよい。例えば、図１３（Ａ）に示すように、一方（図示例ではロータ対向面１０）が、軸線Ａを含む断面において、軸線Ａに平行になるように形成されていてもよい。また、図１３（Ｂ）に示すように、ステータ歯部７ｂのステータ対向面９とロータ歯部８ｂのロータ対向面１０の双方が、軸線Ａを含む断面で軸線Ａに平行な直線となる面９ａ，１０ａに、軸線Ａを含む断面でコ字状となる環状溝９ｂ，１０ｂを形成することにより、設けられたものであってもよい。

【0055】

また、上記実施形態では、移動機構６に、送りねじ機構６ａを利用していたが、ステータ７とロータ８を軸線Ａの方向に相対的に移動させる機構を利用すればよく、例えばシリンダ機構等を利用してもよい。

【0056】

また、上記実施形態では、特定の情報に基づき、移動機構６が、ロータ８に対してステータ７を軸線Ａ方向に移動させていなかったが、特定の情報に基づき、移動機構６が、ロータ８に対してステータ７を軸線Ａ方向に移動させてもよい。例えば、ロータ８のトルク値に基づき、移動機構６が、ロータ８に対してステータ７を軸線Ａ方向に移動させ、半径方向クリアランスＣを可変で調整するようにしてもよい。

【0057】

また、上記実施形態では、ステータ７のステータ貫通孔７ｄは、貫通方向に沿って見た場合に、軸線Ａ方向に対して傾斜した長穴形状であったが、貫通方向に沿って見た場合に、軸線Ａ方向に沿って延びる長穴形状であってもよい。また、上記実施形態では、ロータ８のロータ貫通孔８ｄは、貫通方向に沿って見た場合に、軸線Ａ方向に沿って延びる長穴形状であったが、貫通方向に沿って見た場合に、軸線Ａ方向に対して傾斜した長穴形状であってもよい。

【0058】

また、上記実施形態では、ステータ歯部７ｂは、ステータ基部７ａの周方向に沿って連続して形成されていたが、ステータ歯部７ｂが、ステータ基部７ａの周方向に沿って断続的に形成されてもよい。また、上記実施形態では、ロータ歯部８ｂも、ロータ基部８ａの周方向に沿って連続して形成されていたが、ロータ歯部８ｂも、ロータ基部８ａの周方向に沿って断続的に形成されていてもよい。

【符号の説明】

【0059】

１ インライン分散装置
２ ケーシング
３ ホモジナイザ
４ 供給部
５ 排出部
６ 移動機構
７ ステータ
７ａ ステータ基部
７ｂ ステータ歯部
７ｃ ステータ側面
８ ロータ
８ａ ロータ基部
８ｂ ロータ歯部
８ｃ ロータ側面
９ ステータ対向面
１０ ロータ対向面
Ａ 軸線
Ｃ 半径方向のクリアランス
Ｌ 軸線に平行な直線
Ｒ 供給路

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】