特開 2023-26839 電気めっき方法、電気めっき装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023026839

(43)【公開日】2023-03-01

(54)【発明の名称】電気めっき方法、電気めっき装置

(51)【国際特許分類】

   C25D 21/00 20060101AFI20230221BHJP

   C25D 17/10 20060101ALI20230221BHJP

   C25D 21/10 20060101ALI20230221BHJP

【ＦＩ】

C25D21/00 K

C25D21/00 J

C25D17/10 A

C25D21/10 301

【審査請求】未請求

【請求項の数】13

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2021132237

(22)【出願日】2021-08-16

(71)【出願人】

【識別番号】000006633

【氏名又は名称】京セラ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110000338

【氏名又は名称】弁理士法人 ＨＡＲＡＫＥＮＺＯ ＷＯＲＬＤ ＰＡＴＥＮＴ ＆ ＴＲＡＤＥＭＡＲＫ

(72)【発明者】

【氏名】中谷 悦啓

(72)【発明者】

【氏名】笠川 美沙紀

(72)【発明者】

【氏名】小里 和寛

(57)【要約】

【課題】従来よりも均一なめっき膜を形成する。
【解決手段】めっき槽（６）中の電解液（Ｅ）に浸漬した対象物（Ｘ）に対して電解液を介して対向する、個々に電流制御される複数の陽極（１２）を用いて、対象物の表面の少なくとも一部にめっき膜を形成する。制御部（２６）は、陽極への印加電流を制御して、対象物へのめっき膜の形成を制御する。また、制御部は、各陽極において、隣接する他の陽極との間の距離Ｄ、および、対象物との距離Ｈを、めっき膜における、膜厚の厚い膜厚極大範囲から該膜厚極大範囲における膜厚よりも膜厚の薄い膜厚極小範囲までの最短距離である距離Ｗが前記目標値に最も近接する値に決定する。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

めっき槽中の電解液に浸漬した対象物に対して前記電解液を介して対向する、個々に電流制御される複数の陽極を用いて、前記対象物の表面の少なくとも一部にめっき膜を形成する電気めっき方法であって、
前記めっき膜における、膜厚の厚い膜厚極大範囲から該膜厚極大範囲における膜厚よりも膜厚の薄い膜厚極小範囲までの最短距離である距離Ｗの目標値を取得する工程と、
各前記陽極において、隣接する他の前記陽極との間の距離Ｄ、および、前記対象物との距離Ｈを、前記めっき膜における距離Ｗが前記目標値に最も近接する値に決定する工程と、
前記距離Ｄおよび前記距離Ｈを満たす前記陽極を用いて前記めっき膜を形成する工程とを含む電気めっき方法。

【請求項2】

前記めっき膜の形成に先立って、前記めっき槽中の前記電解液に試験対象物を浸漬し、前記電解液を介して対向する共通陽極を用いて、前記試験対象物の表面の少なくとも一部に試験めっき膜を形成する工程をさらに含み、
前記距離Ｄと前記距離Ｈとを決定する工程において、前記距離Ｗが、前記試験めっき膜において決定した、前記膜厚極大範囲から前記膜厚極小範囲までの最短距離である距離Ｗ’になるように、前記距離Ｄと前記距離Ｈとを決定する請求項１に記載の電気めっき方法。

【請求項3】

各前記陽極における、前記距離Ｄと、前記距離Ｈとが、Ｄ≦２Ｈを満たす請求項１または２に記載の電気めっき方法。

【請求項4】

前記距離Ｄと前記距離Ｈとを決定する工程において、各前記陽極における、前記距離Ｄと、前記距離Ｈとが、前記対象物の表面の各位置における前記距離Ｗについて、

【数1】

を満たすように決定する請求項１から３の何れか１項に記載の電気めっき方法。

【請求項5】

前記めっき膜を形成する工程において、前記陽極と前記対象物との間、かつ、少なくとも１組の互いに隣接する２つの前記陽極の間に、電気絶縁性を有する遮蔽板を配置した状態において、前記めっき膜を形成する請求項１から４の何れか１項に記載の電気めっき方法。

【請求項6】

前記めっき膜を形成する工程において、前記めっき槽中の前記電解液を循環させるポンプと、前記ポンプから送り出された前記電解液を放出するパイプとを用いて、前記陽極と前記対象物との間の前記電解液の撹拌または入れ替え、および、前記対象物の、前記陽極と対向する表面への、前記電解液の吹き付けを行いつつ、前記めっき膜を形成する請求項１から５の何れか１項に記載の電気めっき方法。

【請求項7】

めっき槽と、
前記めっき槽の内部に位置し、個々に電流制御される複数の陽極と、
前記陽極への印加電流を制御して、前記めっき槽中の電解液に浸漬した対象物に、前記電解液を介して対向する複数の前記陽極を用いた、前記対象物の表面の少なくとも一部へのめっき膜の形成を制御し、さらに、前記めっき膜における、膜厚の厚い膜厚極大範囲から該膜厚極大範囲における膜厚よりも膜厚の薄い膜厚極小範囲までの最短距離である距離Ｗの目標値を取得し、各前記陽極において、隣接する他の前記陽極との間の距離Ｄ、および、前記対象物との距離Ｈを、前記めっき膜における距離Ｗが前記目標値に最も近接する値に決定する制御部とを備えた電気めっき装置。

【請求項8】

前記めっき槽の内部に位置する共通陽極を備え、
前記めっき膜の形成に先立って、前記めっき槽中の前記電解液に試験対象物を浸漬し、前記共通陽極を用いて、前記試験対象物の表面の少なくとも一部に試験めっき膜を形成し、
前記制御部は、前記距離Ｗが、前記試験めっき膜において決定した、前記膜厚極大範囲から前記膜厚極小範囲までの最短距離である距離Ｗ’になるように前記距離Ｄと前記距離Ｈとを決定する請求項７に記載の電気めっき装置。

【請求項9】

各前記陽極における、前記距離Ｄと、前記距離Ｈとが、Ｄ≦２Ｈを満たす請求項７または８に記載の電気めっき装置。

【請求項10】

前記制御部が、各前記陽極における、前記距離Ｄと、前記距離Ｈとを、前記対象物の表面の各位置における前記距離Ｗについて、

【数1】

を満たすように決定する請求項７から９の何れか１項に記載の電気めっき装置。

【請求項11】

前記陽極と前記対象物との間、かつ、少なくとも１組の互いに隣接する２つの前記陽極の間に位置し、電気絶縁性を有する遮蔽板をさらに備えた請求項７から１０の何れか１項に記載の電気めっき装置。

【請求項12】

めっき槽中の電解液に浸漬した対象物に、前記電解液を介して対向し、個々に電流制御される複数の陽極を用いて、前記対象物の表面の少なくとも一部にめっき膜を形成する電気めっき方法であって、
各前記陽極において、隣接する他の前記陽極との間の距離Ｄ、および、前記対象物との距離Ｈが、Ｄ≦２Ｈを満たす電気めっき方法。

【請求項13】

めっき槽と、
前記めっき槽の内部に位置し、個々に電流制御される複数の陽極と、
前記陽極への印加電流を制御して、前記めっき槽中の電解液に浸漬した対象物に、前記電解液を介して対向する複数の前記陽極を用いた、前記対象物の表面の少なくとも一部へのめっき膜の形成を制御し、各前記陽極において、隣接する他の前記陽極との間の距離Ｄ、および、前記対象物との距離Ｈが、Ｄ≦２Ｈを満たすように前記距離Ｄと前記距離Ｈとを決定する制御部とを備えた電気めっき装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本開示は、電気めっき方法、および電気めっき装置に関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１には、電気めっきを行うための装置として、複数の陽極を備えた装置を開示する。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開平１０－２２６８９９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

一般に、電気めっきにより形成されるめっき膜は、均質性が求められる。

【課題を解決するための手段】

【0005】

本開示の一態様に係る電気めっき方法は、めっき槽中の電解液に浸漬した対象物に対して前記電解液を介して対向する、個々に電流制御される複数の陽極を用いて、前記対象物の表面の少なくとも一部にめっき膜を形成する電気めっき方法であって、前記めっき膜における、膜厚の厚い膜厚極大範囲から該膜厚極大範囲における膜厚よりも膜厚の薄い膜厚極小範囲までの最短距離である距離Ｗの目標値を取得する工程と、各前記陽極において、隣接する他の前記陽極との間の距離Ｄ、および、前記対象物との距離Ｈを、前記めっき膜における距離Ｗが前記目標値に最も近接する値に決定する工程と、前記距離Ｄおよび前記距離Ｈを満たす前記陽極を用いて前記めっき膜を形成する工程とを含む。

【0006】

本開示の他の一態様に係る電気めっき装置は、めっき槽と、前記めっき槽の内部に位置し、個々に電流制御される複数の陽極と、前記陽極への印加電流を制御して、前記めっき槽中の電解液に浸漬した対象物に、前記電解液を介して対向する複数の前記陽極を用いた、前記対象物の表面の少なくとも一部へのめっき膜の形成を制御し、さらに、前記めっき膜における、膜厚の厚い膜厚極大範囲から該膜厚極大範囲における膜厚よりも膜厚の薄い膜厚極小範囲までの最短距離である距離Ｗの目標値を取得し、各前記陽極において、隣接する他の前記陽極との間の距離Ｄ、および、前記対象物との距離Ｈを、前記めっき膜における距離Ｗが前記目標値に最も近接する値に決定する制御部とを備える。

【0007】

本開示の他の一態様に係る電気めっき方法は、めっき槽中の電解液に浸漬した対象物に、前記電解液を介して対向し、個々に電流制御される複数の陽極を用いて、前記対象物の表面の少なくとも一部にめっき膜を形成する電気めっき方法であって、各前記陽極において、隣接する他の前記陽極との間の距離Ｄ、および、前記対象物との距離Ｈが、Ｄ≦２Ｈを満たす。

【0008】

本開示の他の一態様に係る電気めっき装置は、めっき槽と、前記めっき槽の内部に位置し、個々に電流制御される複数の陽極と、前記陽極への印加電流を制御して、前記めっき槽中の電解液に浸漬した対象物に、前記電解液を介して対向する複数の前記陽極を用いた、前記対象物の表面の少なくとも一部へのめっき膜の形成を制御し、各前記陽極において、隣接する他の前記陽極との間の距離Ｄ、および、前記対象物との距離Ｈが、Ｄ≦２Ｈを満たすように前記距離Ｄと前記距離Ｈとを決定する制御部とを備える。

【発明の効果】

【0009】

従来よりも均一なめっき膜を形成できる。

【図面の簡単な説明】

【0010】

【図1】本開示の実施形態１に係る電気めっき方法を説明する、電気めっき装置の模式図である。

【図2】本開示の実施形態１に係る電気めっき装置の一部における等価回路図の一例である。

【図3】本開示の実施形態１に係る電気めっき方法を説明する、電気めっき装置の一部分における拡大模式図である。

【図4】本開示の実施形態１に係る電気めっき方法を説明する、電気めっき装置の他の部分における拡大模式図である。

【図5】本開示の実施形態１に係るめっき膜の例を説明する、めっき膜の一部分における拡大模式図である。

【図6】本開示の実施形態１に係る電気めっき方法を説明するフローチャートである。

【図7】本開示の実施形態１に係る電気めっき方法におけるめっき条件の決定方法を説明するフローチャートである。

【図8】本開示の実施形態２に係る電気めっき方法を説明する、電気めっき装置の一部分における拡大模式図である。

【図9】本開示の実施形態２に係る電気めっき装置の別例を説明する、電気めっき装置の一部分における拡大模式図である。

【図10】本開示の実施形態３に係る電気めっき方法を説明する、電気めっき装置の一部分における拡大模式図である。

【図11】本開示の実施形態３に係る電気めっき方法を説明する、電気めっき装置の他の一部分における拡大模式図である。

【図12】本開示の実施形態４に係る電気めっき方法を説明する、電気めっき装置の一部分における拡大模式図である。

【図13】本開示の実施形態５に係る電気めっき方法を説明する、電気めっき装置の一部分における拡大模式図である。

【図14】本開示の実施形態６に係る電気めっき方法を説明する、電気めっき装置の模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0011】

〔実施形態１〕
（めっき装置）
図１は、本実施形態に係る電気めっき装置と、当該電気めっき装置を用いてめっき膜が形成される様子とを示す模式図である。図１においては、後述するめっき膜の材料を含む電解液Ｅを用いて、プリント基板である対象物Ｘの表面にめっき膜を形成する方法を説明する。

【0012】

図１に示す電気めっき装置２は、液槽４を備える。例えば、液槽４は、電解液Ｅによって満たされためっき槽６と、該めっき槽６とは隔壁８によって隔離された循環槽１０とを含む。本実施形態において、めっき槽６の容積を超える電解液Ｅは、隔壁８を超えて、循環槽１０に溢れるように、液槽４が設計される。

【0013】

電気めっき装置２は、複数の陽極１２を備える。例えば、陽極１２のそれぞれは、平板形状を有し、めっき槽６の内部に位置する陽極支持具１４の一方の面上に、二次元的に配置される。このため、めっき槽６に電解液Ｅを満たした場合、陽極１２は電解液Ｅに浸漬される。例えば、電気めっき装置２は、２つの陽極支持具１４を備え、陽極１２が形成された面が互いに向かい合うように配置されていてもよい。この場合、対象物Ｘへのめっき膜の形成の間、対象物Ｘは、２つの陽極支持具１４の間に配置されてもよい。例えば、各陽極１２は、陽極支持具１４上に、隣接する他の陽極１２との間に、距離Ｄだけ間隔をおいて配置されている。

【0014】

本実施形態において、各陽極１２の形状、および、各陽極１２の陽極支持具１４上への配置方法については、特に問われない。例えば、本実施形態においては、陽極支持具１４上に矩形状の各陽極１２を行列方向に対し略等間隔に並べて配置してもよい。あるいは、互いに大きさの異なる枠形状または円環形状の陽極１２を、陽極支持具１４の中心から周囲にかけて、次第に大きさが大きくなるように配置してもよい。さらに、本実施形態においては、陽極１２をメッシュ状とし、電解液Ｅを含むめっき槽６中の液体が陽極１２を通過できるようにしてもよい。加えて、陽極支持具１４は、例えば、板状、枠形状、または格子形状であってもよい。

【0015】

電気めっき装置２は、複数の電源１６を備える。各電源１６は、陽極１２のそれぞれと電気的に接続する。これにより、電気めっき装置２は、各電源１６の出力電流値を個別に制御することにより、各陽極１２への電流印加を個別に制御できる。また、各電源１６は、接地側の電極として、対象物Ｘと電気的に接続される。

【0016】

電気めっき装置２は、対象物Ｘを把持することにより、対象物Ｘをめっき槽６中に支持する、対象物支持具１８を備える。対象物支持具１８は、対象物Ｘを、陽極支持具１４上の各陽極１２と距離をおいて支持する。例えば、図１に示すように、電気めっき装置２は、２つの陽極支持具１４の間、かつ、めっき槽６の下方と上方とのそれぞれに位置する、一対の対象物支持具１８を備えていてもよい。この場合、対象物支持具１８は、対象物Ｘをめっき槽６の上下方向に把持することにより、対象物Ｘをめっき槽６中に固定してもよい。

【0017】

めっき槽６に電解液Ｅを満たした場合、陽極支持具１４上の各陽極１２と、対象物支持具１８に支持された対象物Ｘとは、電解液Ｅに浸漬される。このため、電気めっき装置２による対象物Ｘへのめっき膜の形成の間、対象物Ｘと各陽極１２とは、電解液Ｅを介して互いに対向する。

【0018】

後に詳述するが、陽極支持具１４による各陽極１２の支持、および、対象物支持具１８による対象物Ｘの支持により、各陽極１２は、対象物Ｘに対して、距離Ｈだけ距離をおいて固定される。陽極支持具１４または対象物支持具１８は可動であってもよい。この場合、陽極支持具１４または対象物支持具１８の移動に伴い、各陽極１２における、対象物Ｘに対する距離Ｈは変化する。

【0019】

電気めっき装置２は、液体ポンプであるポンプ２０を備える。さらに、電気めっき装置２は、液体が流動できる中空のパイプとして、循環槽１０とポンプ２０とを連通する循環槽パイプ２２、および、めっき槽６とポンプ２０とを連通するめっき槽パイプ２４を備える。ポンプ２０は、循環槽パイプ２２を介して循環槽１０内の電解液Ｅを取り込み、めっき槽パイプ２４を介してめっき槽６内に電解液Ｅを送り込む。

【0020】

例えば、めっき槽パイプ２４の、電解液Ｅを放出する側の開口は、めっき槽６の底部近傍に位置する。当該構成により、電気めっき装置２は、めっき槽６の上部において、隔壁８から循環槽１０に溢れ出た電解液Ｅを、循環槽パイプ２２、ポンプ２０、およびめっき槽パイプ２４を順に介して、めっき槽６の下部に送りこむ。これにより、電気めっき装置２は、めっき槽６中の電解液Ｅを撹拌させることができる。加えて、本実施形態においては、循環槽１０中の電解液Ｅの取出し、および、循環槽１０への電解液Ｅの追加を行うことにより、めっき槽６中の電解液Ｅの入れ替えを行ってもよい。

【0021】

めっき槽パイプ２４はめっき槽６の内部において分岐していてもよく、また、分岐しためっき槽パイプ２４のそれぞれの先端に開口が形成されていてもよい。めっき槽パイプ２４の複数の先端が、陽極１２と対象物Ｘとの間に配置されることにより、めっき槽パイプ２４は、対象物Ｘに向かって電解液Ｅを送り込む構造を有していてもよい。

【0022】

例えば、陽極１２がメッシュ状であり電解液Ｅを通し、陽極支持具１４が枠形状または格子形状等一部分において電解液Ｅを通す構造を有するとする。この場合、めっき槽パイプ２４の開口を有する先端が、陽極支持具１４の陽極１２とは反対の側から陽極１２に向かって電解液Ｅを送り込むように、めっき槽パイプ２４を配置してもよい。

【0023】

電気めっき装置２は、制御部２６を備える。制御部２６は、電気めっき装置２の各部の動作を制御する。例えば、制御部２６は、陽極支持具１４または対象物支持具１８の位置を制御することにより、各陽極１２における、対象物Ｘに対する距離Ｈを制御してもよい。また、制御部２６は、各電源１６を制御して、各陽極１２への印加電流を個々に制御してもよい。また、制御部２６は、ポンプ２０の制御により、めっき槽６内の電解液Ｅの循環を制御してもよい。

【0024】

制御部２６は、ユーザによる不図示の入力インターフェースの操作、あるいは、不図示のメモリ等に記録されたプログラム等に基づいて、各部の制御を行ってもよい。制御部２６と電気めっき装置２の各部または外部との通信は、不図示の信号線等を介した信号送受信によって実施されてもよく、不図示の通信手段を用いた信号送受信によって実施されてもよい。

【0025】

（電源の制御方法）
図２は、制御部２６による、電源１６の制御、ならびに、各陽極１２への印加電流の制御をより詳細に説明するための、電気めっき装置２の一部における等価回路図の一例である。図２において、点線にて囲まれた各部は、対象物Ｘへのめっき膜の形成の間、めっき槽６の内部に位置する。

【0026】

例えば、制御部２６は、信号生成部２８と、演算命令部３０とを備えていてもよい。信号生成部２８は、各電源１６の制御のための信号を生成する。信号生成部２８が生成した信号は、演算命令部３０に入力される。演算命令部３０は、信号生成部２８からの信号に基づき、各電源１６に入力する信号を生成する。演算命令部３０による各電源１６入力する信号の生成は、例えば、信号生成部２８からの信号を、信号を入力する電源１６を切り替えながら、各電源１６に送信することにより実現してもよい。

【0027】

各電源１６は、演算命令部３０からの信号に基づき、各陽極１２に印加する信号を生成し、各陽極１２への電流印加を実施する。ここで、複数の陽極１２の間には、漏洩抵抗１２Ｒが形成されている場合がある。この場合、信号生成部２８は、それぞれの漏洩抵抗１２Ｒの抵抗値を考慮して信号を生成してもよい。

【0028】

演算命令部３０による各電源１６に入力する信号の生成は、例えば、信号生成部２８からの信号を、信号を入力する電源１６を切り替えながら、各電源１６に送信することにより実現してもよい。あるいは、信号生成部２８を内蔵する電源１６のそれぞれが生成すべき電流の情報を制御部２６において演算し、当該演算に基づいて各電源１６が内蔵する信号生成部２８が信号を生成してもよい。

【0029】

制御部２６による各制御は、ＡＩ（Artificial Intelligence：人工知能）によって実行されてもよい。この場合、ＡＩは制御部２６において動作するものであってもよいし、他の装置（例えば、エッジコンピュータまたはクラウドサーバ等）において動作するものであってもよい。

【0030】

（電気めっきの具体的方法）
図３を参照して、本実施形態に係る電気めっき装置２を用いた、対象物Ｘの表面へのめっき膜の方法について、より詳細に説明する。図３は、電気めっき装置２による対象物Ｘの表面へのめっき膜の形成の間における、電気めっき装置２の一部を拡大した模式図であり、特に、図１の領域Ａについて拡大した模式図である。

【0031】

図３には、電気めっき装置２の陽極１２のうち、第１陽極１２Ａと第２陽極１２Ｂとを抜き出して示している。電気めっき装置２が各陽極１２の電流印加を行うことにより、各陽極１２には電界が生じる。例えば、図３に示すように、第１陽極１２Ａと第２陽極１２Ｂとのそれぞれへの電流印加により、第１陽極１２Ａと第２陽極１２Ｂとのそれぞれから電界が生じる。これに伴い、電解液Ｅ中の電解質には、第１陽極１２Ａからの電界に起因する電気力と、第２陽極１２Ｂからの電界に起因する電気力とが作用する。図３には、第１陽極１２Ａおよび第２陽極１２Ｂのそれぞれからの電界により形成される第１電気力線ＥＡおよび第２電気力線ＥＢの例が示される。

【0032】

例えば、対象物Ｘがプリント基板である場合、対象物Ｘの表面ＸＳに位置する配線が、各陽極１２に対応する陰極として機能する。このため、対象物Ｘと各陽極１２とを電解液Ｅに浸漬した状態において、各陽極１２の電流制御を行うことにより、電解液Ｅ中の電解質が対象物Ｘの表面ＸＳに向かって流動する。これに伴い、流動した電解質が表面ＸＳに近接し、当該電解質が対象物Ｘとの間において電子を授受することにより、図３に示す通り、表面ＸＳには、めっき膜Ｐが形成される。

【0033】

ここで、本実施形態において、各陽極１２と対象物Ｘとの距離Ｈが、互いに隣接する陽極１２の間の距離Ｄよりも十分に長く、具体的には、Ｄ≦２Ｈである。このため、表面ＸＳのうち、ある陽極１２と対向する部分に対し、当該陽極１２と隣接する陽極１２とが形成する電場に対応しためっき膜Ｐが形成される。具体的には、例えば、表面ＸＳのうち、第１陽極１２Ａと対向する部分へのめっき膜Ｐの形成に、第２陽極１２Ｂからの電界が影響する。

【0034】

このように、本実施形態に係る電気めっき装置２においては、対象物Ｘへのめっき膜Ｐの形成の間、互いに隣接する陽極１２の一方が、他方と対向する表面ＸＳへのめっき膜Ｐの形成に関与する。換言すれば、本実施形態に係る電気めっき装置２において、互いに隣接する陽極１２の間には、相互作用が生じている。具体的には、例えば、第２陽極１２Ｂへ印加する電流の制御により、表面ＸＳのうち、第１陽極１２Ａと対向する部分へのめっき膜Ｐの膜厚制御が可能である。図３においては、例として、第１陽極１２Ａと第２陽極１２Ｂとに同一の電圧を印加してめっき膜Ｐの形成した場合について示す。めっき膜Ｐの詳細については後述する。

【0035】

（めっき膜の膜厚制御）
本実施形態において、表面ＸＳ上には、めっき膜Ｐの形成を行わない位置に対し、予め、ドライフィルムレジスト等の感光性レジストを含む、レジストＲが形成されていてもよい。これにより、表面ＸＳの一部のみに、めっき膜Ｐを形成できる。例えば、レジストＲは、対象物Ｘの表面ＸＳにおける配線パターンに沿って形成される。このため、表面ＸＳの状態によっては、表面ＸＳ上のレジストＲの密度が表面ＸＳの位置によって異なる場合がある。

【0036】

ここで、例えば、本実施形態においては、表面ＸＳのうち、第１陽極１２Ａと対向する位置の近傍は、第２陽極１２Ｂと対向する位置の近傍と比較して、表面ＸＳ上のレジストＲの密度が高く、一方、配線パターンの密度が低いとする。この場合、各陽極１２に同一の電流を印加した場合、第１陽極１２Ａと対向する位置の近傍の配線パターンには、第２陽極１２Ｂと対向する位置の近傍の配線パターンと比較して、第１陽極１２Ａからの電界が集中する。このため、各陽極１２に同一の電流を印加した場合、第１陽極１２Ａと対向する位置の近傍に形成されるめっき膜Ｐは、第２陽極１２Ｂと対向する位置の近傍に形成されるめっき膜Ｐと比較して、膜厚がより厚くなる。

【0037】

図４を参照して、本実施形態に係る電気めっき装置２により対象物Ｘの表面ＸＳに形成されるめっき膜Ｐについて、および、当該めっき膜Ｐの膜厚の均一度の評価について、より詳細に説明する。図４は、めっき膜Ｐの表面近傍を拡大した模式図である。特に、図４は、図３に示す対象物Ｘと当該対象物Ｘの表面ＸＳに形成されためっき膜Ｐのみを抜き出して図示している。また、表面ＸＳ上におけるめっき膜Ｐの厚みの変動をより明瞭に示すため、図４に示すめっき膜Ｐの縮尺は図３に示すめっき膜Ｐの縮尺から変更されている。

【0038】

めっき膜Ｐの膜厚は、図４に示す通り、厳密には均一ではない場合がある。ここで、本明細書において、めっき膜Ｐの膜厚とは、図４に示すように、表面ＸＳと平行な表面方向ＤＸと直交する、膜厚方向ＤＰに沿った、めっき膜Ｐの厚みを指す。

【0039】

本実施形態において、図４に示すように、表面ＸＳに形成されためっき膜Ｐの均一性の評価のために、予め設定した領域内において、めっき膜Ｐの測定点ＰＡ～ＰＦの６点において、めっき膜Ｐの膜厚の測定を行った。その結果、各測定点において、それぞれめっき膜Ｐの膜厚ＴＡ～ＴＦを得たとする。本実施形態においては、膜厚を測定した測定点のそれぞれにおける膜厚を比較して、膜厚が厚い範囲（以下、膜厚極大範囲）とそれよりも膜厚が薄い範囲（膜厚極小範囲）とを探索し決定する。これにより、表面方向ＤＸに沿った膜厚極大範囲と膜厚極小範囲との最短の距離となる距離Ｗを算出する。ここで、膜厚の測定は、例えば、渦電流式試験方法、蛍光Ｘ線式試験方法、触針走査法、走査電子顕微鏡試験方法など、各種公知の方法により５点以上の測定点において膜厚を測定することにより行ってもよい。

【0040】

図４には、例えば、膜厚の探索の結果、膜厚ＴＡを有する測定点ＰＡが膜厚極大範囲Ａ１に含まれる点であり、膜厚ＴＢを有する測定点ＰＢが膜厚極小範囲Ａ２に含まれる点であると特定したとする。ここで、膜厚ＴＡはめっき膜Ｐの膜厚の最大値とは限らず、膜厚ＴＢはめっき膜Ｐの膜厚の最小値とは限らない。例えば、膜厚ＴＡおよび膜厚ＴＢとほぼ同じ膜厚を有する測定点は、それぞれ膜厚極大範囲Ａ１および膜厚極小範囲Ａ２に含まれるとみなしてもよい。ただし、後記するように、ここでいう「極大」・「極小」とは、一般に数学において定義される極大・極小とは意味が異なる。

【0041】

例えば、測定点ＰＣにおけるめっき膜Ｐの膜厚ＴＣが膜厚ＴＡよりも大きい場合においても、膜厚ＴＣと膜厚ＴＡとの差が膜厚ＴＡの１０パーセント以下であれば、測定点ＰＣは膜厚極大範囲に含まれるとみなす。また、測定点ＰＤにおけるめっき膜Ｐの膜厚ＴＤが膜厚ＴＢよりも小さい場合においても、膜厚ＴＤと膜厚ＴＢとの差が膜厚ＴＢの１０パーセント以下であれば、測定点ＰＤは膜厚極小範囲Ａ２に含まれるとみなす。ただし、膜厚ＴＡと膜厚ＴＢとの間の膜厚である膜厚ＴＥを有する測定点ＰＥおよび膜厚ＴＦを有する測定点ＰＦは、膜厚極大範囲Ａ１および膜厚極小範囲Ａ２の探索の考慮から除外する。

【0042】

本実施形態においては、膜厚極大範囲Ａ１に含まれる膜厚測定点と膜厚極小範囲Ａ２に含まれる膜厚測定点との距離のうち、最短距離となるものを距離Ｗとして採用する。これにより、距離Ｗは、めっき膜Ｐの膜厚極大範囲Ａ１から膜厚極小範囲Ａ２までの最短距離とみなせる。この場合、一般に、膜厚極大範囲Ａ１の膜厚平均値と、膜厚極小範囲Ａ２の膜厚平均値の差が小さくなるほど、めっき膜Ｐの均一性が向上する。

【0043】

本実施形態において、めっき膜Ｐの各位置における膜厚は、各陽極１２の電流制御により制御できる。特に、互いに隣接する２つの陽極１２の間において相互作用が生じている場合、当該陽極１２のそれぞれと対向する表面ＸＳにおけるめっき膜Ｐの膜厚を、当該陽極１２の電流制御により、より厳密に制御することができる。

【0044】

したがって、本実施形態に係る電気めっき装置２は、各陽極１２の電流制御を行うことにより、めっき膜Ｐの膜厚極大範囲と膜厚極小範囲の平均膜厚差を低減することができる。

【0045】

ここで、電気めっき装置２の各陽極１２の何れか１つのみに電流印加を行い、平板の電極に対しめっき膜Ｐの成膜を行った場合における、当該めっき膜Ｐの膜厚極大範囲Ａ１から膜厚極小範囲Ａ２までの最短距離を距離ＷＡとする。この場合、本実施形態において、制御部２６は、各陽極１２に対し共通の電流を印加して対象物Ｘの表面ＸＳに形成しためっき膜Ｐの距離Ｗを目標値とし、上述した距離ＷＡをこの目標値により近づけてもよい。より具体的に、制御部２６は、例えば、距離ＷＡが距離Ｗに最も近接する値となるように、各陽極１２における距離Ｄおよび距離Ｈを決定してもよい。これにより、各陽極１２の電流制御により膜厚極大範囲Ａ１の膜厚平均値と、膜厚極小範囲Ａ２の膜厚平均値の差をより効率的に低減することができる。

【0046】

本実施形態において、制御部２６は、互いに隣接する陽極１２の距離Ｄと、当該陽極１２と対象物Ｘとの距離Ｈとを決定し、上述した距離ＷＡを決定する。これにより、対象物Ｘの表面ＸＳに形成されためっき膜Ｐについて、距離Ｄと距離Ｈとの制御を通じて、膜厚極大範囲Ａ１の膜厚平均値と、膜厚極小範囲Ａ２の膜厚平均値の差をより効率的に低減することができる。

【0047】

上記構成により、本実施形態に係る電気めっき装置２により、対象物Ｘの表面ＸＳの状態によらず、例えば、プリント基板の配線の疎密等によらず、よりめっき膜Ｐを均一に形成できる。これにより、めっき膜Ｐの特性が改善する。また、めっき膜Ｐを研磨して膜厚を均一とする工程を簡素化できる。これに伴い、めっき膜Ｐが無駄に厚く形成される部分が低減するため、めっき膜Ｐの材料のコストが低減する。さらに、従来めっき膜Ｐの均一性を向上するために使用されている、陽極間の遮蔽板等を不要とする、または簡素化できる。

【0048】

本実施形態において、上述の通り、各陽極１２において、隣接する他の陽極１２との間の距離Ｄと、対象物Ｘとの距離Ｈとは、Ｄ≦２Ｈを満たす。このため、本実施形態に係る電気めっき装置２においては、めっき膜Ｐの形成の間、各陽極１２について、他の陽極１２との間に相互作用が生じる。したがって、本実施形態に係る電気めっき装置２は、より効果的に均一なめっき膜Ｐを形成できる。

【0049】

本実施形態において、めっき膜Ｐの距離Ｗは、隣接する他の陽極１２との間の距離Ｄ、および対象物Ｘとの距離Ｈを用いた、下記の式を満たす。

【0050】

【数1】

【0051】

したがって、目標とする距離Ｗ’が決定している場合、制御部２６は、上記式を満たすように、距離Ｄと距離Ｈとを決定してもよい。これにより、電気めっき装置２を用いて、当該距離Ｗ’を有するめっき膜Ｐを効率的に形成できる。さらに、上記構成によれば、陽極１２の電流制御を行うと、元々観測されていた膜厚極大範囲Ａ１と膜厚極小範囲Ａ２が観測できなくなり、Ｗ’も決定できない状態になるまで、めっき膜Ｐの平坦性が向上する。換言すれば、目標とする距離Ｗ’が決定している場合、制御部２６は、上記式によって、距離Ｄと距離Ｈとをより容易に決定でき、それに加えて、陽極１２の電流制御を行うことにより、めっき膜Ｐの平坦性を向上させることができる。

【0052】

本実施形態において、対象物Ｘの表面ＸＳにレジストＲが形成されている場合、当該レジストＲと電気めっき装置２によって成膜しためっき膜Ｐとの境界近傍においては、めっき膜Ｐの膜厚が周囲と比較して増減する場合がある。本実施形態に係る電気めっき装置２によって形成され得るめっき膜Ｐの例を、図５を参照して説明する。図５は、めっき膜Ｐの例について、対象物Ｘの表面ＸＳに形成されためっき膜Ｐの一部分の近傍を拡大して示す模式図である。

【0053】

図５のめっき膜形成例５０２に示すように、例えば、めっき膜Ｐは、レジストＲからの距離に関わらず、略一定膜厚にて形成されていてもよい。一方、図５のめっき膜形成例５０４に示すように、めっき膜Ｐは、レジストＲとの境界の近傍において、周囲よりも膜厚の薄いエッジ部Ｅ１が形成されていてもよい。あるいは、図５のめっき膜形成例５０６に示すように、めっき膜Ｐは、レジストＲとの境界の近傍において、周囲よりも膜厚の厚いエッジ部Ｅ２が形成されていてもよい。

【0054】

図５に示すエッジ部Ｅ１またはエッジ部Ｅ２は、めっき膜ＰとレジストＲとの境界の近傍における電界が、周囲における電界と比較して増減することにより形成される。本実施形態における電気めっき装置２によるめっき膜Ｐの形成時には、エッジ部Ｅ１またはエッジ部Ｅ２が形成されることを想定して、各陽極１２の電流制御を行ってもよく、あるいは、各陽極１２における距離Ｄおよび距離Ｈを制御してもよい。

【0055】

（試験めっきおよび本めっき）
本実施形態に係る電気めっき装置２を用いた、対象物Ｘに対するめっき膜Ｐの形成方法について、図６を参照し、より詳細に説明する。図６は、本実施形態に係る電気めっき装置２を用いた電気めっきの方法を示すフローチャートである。本実施形態においては、対象物Ｘに対するめっき膜Ｐの形成に先立ち、当該めっき膜Ｐの形成に必要な各条件を決定するための仮めっきを行う方法を例に挙げて説明する。

【0056】

はじめに、電気めっき装置２のめっき槽６を電解液Ｅにて満たし、対象物支持具１８に試験対象物を支持させることにより、電解液Ｅに試験対象物を浸漬する（ステップＳ２）。試験対象物は、対象物Ｘと同一の形状、および同一の材料からなるものであってもよい。対象物Ｘがプリント基板の場合、試験対象物は、対象物Ｘと同一の配線パターンを有するプリント基板であってもよい。また、対象物ＸがレジストＲを有する場合、試験対象物には、対象物Ｘと同一の形成パターンを有するレジストＲが形成されていてもよい。

【0057】

次に、各電源１６の制御により、各陽極１２の電流制御を行い、試験対象物に試験めっき膜を形成する（ステップＳ４）、試験めっきを実行する。ここで、試験めっきは、各電源１６の制御により、全ての陽極１２に同一の電流を印加することにより実施してもよい。ここで、試験めっきにおいては、各陽極１２について、距離Ｄおよび距離Ｈが、Ｄ≦２Ｈを満たすとする。これにより、各陽極１２は、試験対象物と電解液Ｅを介して対向する共通陽極として機能する。ただし、各陽極１２からの電界の均一性をより向上させるために、可能な限りＨをＤに対して大きくしてもよい。あるいは、試験めっきにおいて、複数の陽極１２に代えて、陽極支持具１４上に形成した単一の共通陽極を用いて、試験対象物への試験めっき膜を形成してもよい。

【0058】

試験対象物への試験めっき膜の形成の後、対象物支持具１８から試験対象物を取り外し、めっき槽６から試験対象物を取り出す（ステップＳ６）。次に、試験対象物に形成された試験めっき膜の特性を測定する（ステップＳ８）。例えば、試験めっき膜の特性の測定においては、試験めっき膜の各位置における膜厚極大範囲Ａ１および膜厚極小範囲Ａ２を測定し、試験めっき膜における、膜厚極大範囲Ａ１と膜厚極小範囲Ａ２との最短距離である距離Ｗ’を測定する。

【0059】

次に、測定された試験めっき膜の特性から、対象物Ｘへのめっき膜Ｐの形成に用いる、各陽極１２における、上述した距離Ｄおよび距離Ｈの条件を含む、めっき条件を決定する（ステップＳ１０）。めっき条件を決定する具体的な方法について、図７を参照し、より詳細に説明する。

【0060】

図７は、本実施形態に係る電気めっき装置２を用いてめっき膜Ｐを対象物Ｘに形成する際における、各陽極１２における、上述した距離Ｄおよび距離Ｈを含むめっき条件の決定方法を示すフローチャートである。

【0061】

はじめに、電気めっき装置２によって成膜されるめっき膜Ｐの距離Ｗの目標値を決定する（ステップＳ１０－２）。距離Ｗの目標値は、例えば、ステップＳ８にて得られた距離Ｗ’であってもよい。本実施形態において、距離Ｗ’は、ステップＳ８において実際にめっき膜を形成し、当該めっき膜の膜厚を測定することにより取得されているが、これに限られない。例えば、距離Ｗ’は、電気めっき装置２の使用者によるシミュレーションにより予め決定されてもよい。距離Ｗの目標値は、形成するめっき膜Ｐの要求仕様、または電気めっき装置２の装置設計の制約から決定されてもよい。

【0062】

次いで、電気めっき装置２における、各陽極１２についての距離Ｄと距離Ｈとの制約条件を取得する（ステップＳ１０－４）。例えば、本実施形態に係る電気めっき装置２において、各陽極１２は陽極支持具１４に直接形成されるため、互いに隣接する２つの陽極１２の間の距離は固定されている。また、本実施形態に係る電気めっき装置２においては、各陽極１２と対象物Ｘとの距離は陽極１２によらず全て一定である。このように、各陽極１２についての距離Ｄと距離Ｈとの制約条件は、電気めっき装置２の構成によって、当該電気めっき装置２の製造者によって予め決定されている。

【0063】

次いで、ステップＳ１０－４において取得された制約条件下において、距離Ｗが最もステップＳ１０－２において取得された目標値に近接する距離Ｄおよび距離Ｈを決定する（ステップＳ１０－６）。ステップＳ１０－６において、制御部２６は、例えば、ステップＳ８において得られた距離Ｗ’を含む、試験めっき膜の特性に基づき、対象物Ｘへのめっき膜Ｐの形成工程において、どのような電界を対象物Ｘにかけるべきかを求める。次いで、制御部２６は、得られた電界と最も近接する電界を対象物Ｘに印加することの可能な各陽極１２の構成を、距離Ｄおよび距離Ｈの制約条件下にて決定する。以上により、電気めっき装置２を使用して対象物Ｘにめっき膜Ｐを形成する際のめっき条件として、各陽極１２についての距離Ｄと距離Ｈとが、制御部２６によって決定される。例えば、制御部２６は、距離Ｄおよび距離Ｈの制約条件下にて、めっき膜Ｐの距離Ｗが、ステップＳ８において得られた距離Ｗ’に最も近接する距離Ｄおよび距離Ｈを、所定のアルゴリズムによって決定してよい。

【0064】

図６の参照に戻ると、ステップＳ１０に次いで、変更後のめっき条件を満たす陽極１２を用意する（ステップＳ１１）。ステップＳ１１は、例えば、ステップＳ１０－６において得られた距離Ｄを満たすように各陽極１２が形成された陽極支持具１４を電解液Ｅに浸漬することにより実行されてもよい。また、ステップＳ１１は、各陽極１２においてステップＳ１０－６において得られた距離Ｈが満たされるように、陽極支持具１４を配置することにより実現してもよい。

【0065】

次に、対象物支持具１８に対象物Ｘを支持させることにより、電解液Ｅに対象物Ｘを浸漬する（ステップＳ１２）。次に、各電源１６の制御により、各陽極１２の電流制御を行い、対象物Ｘにめっき膜Ｐを形成する（ステップＳ１４）、本めっきを実行する。ここで、本めっきは、例えば、試験めっき膜の特性の測定結果を参照して、各電源１６の制御を行うことにより実施してもよい。対象物Ｘへのめっき膜Ｐの形成の後、対象物支持具１８から対象物Ｘを取り外し、めっき槽６から対象物Ｘを取り出す（ステップＳ１６）ことにより、対象物Ｘに対するめっき膜Ｐの形成が完了する。上述した試験めっきおよび本めっきの間、ポンプ２０の制御により、めっき槽６中の電解液Ｅを循環させてもよい。

【0066】

図６に示すフローチャートに沿って、対象物Ｘにめっき膜Ｐを形成する方法を採用する場合、試験対象物に形成した試験めっき膜の特性から、対象物Ｘへのめっき膜Ｐの形成に使用するめっき条件を制御部２６が決定できる。このため、上記方法により、電気めっき装置２はより特性を改善しためっき膜Ｐを形成できる。

【0067】

〔実施形態２〕
（遮蔽板）
図８は、本実施形態に係る電気めっき装置２による対象物Ｘの表面へのめっき膜の形成の間における、電気めっき装置２の一部を拡大した模式図であり、特に、図３に示す模式図と同一の位置において拡大した模式図である。本実施形態に係る電気めっき装置２は、さらに、遮蔽板３２を備える点を除き、前実施形態に係る電気めっき装置２と同一の構成を備える。

【0068】

遮蔽板３２は、電気絶縁性を有し、少なくとも一部が、各陽極１２の間に位置する。例えば、遮蔽板３２は例えば、ポリ塩化ビニルを含む絶縁体を含んでいてもよい。例えば、遮蔽板３２の少なくとも一部は、対象物Ｘから陽極１２への方向に延伸する。例えば、遮蔽板３２は、図８に示すように、接着部３４を介して陽極支持具１４上に形成されていてもよい。遮蔽板３２は、各陽極１２の間に形成されていてもよいが、少なくとも１組の互いに隣接する陽極１２の間に形成されていればよい。

【0069】

遮蔽板３２は、さらに、電解液Ｅを介して、対象物ＸおよびレジストＲと重なる位置に、補助陰極３６を含んでいてもよい。補助陰極３６は、例えば、陽極１２および陽極支持具１４とは、絶縁材を挟んで対向する。補助陰極３６は、例えば、ＳＵＳを含むステンレス鋼を含んでいてもよい。補助陰極３６は、例えば、接地されていてもよく、電気的に遊離していてもよい。

【0070】

本実施形態に係る電気めっき装置２を用いた、対象物Ｘへのめっき膜Ｐの形成は、図６に示したフローチャートに沿って実行されてもよい。この場合、各遮蔽板３２の有無または形状は、試験めっき膜の特性の測定結果に基づいて、制御部２６が決定してもよい。

【0071】

本実施形態に係る電気めっき装置２を用いて、めっき膜Ｐの形成を行う場合、遮蔽板３２によって、互いに隣接する陽極１２の間における相互作用を低減することができる。このように、本実施形態においては、互いに隣接する陽極１２の間における相互作用を適切に設計でき、めっき膜Ｐの均一性がより効率よく向上する。

【0072】

ここで、遮蔽板３２の対象物Ｘの表面ＸＳの平面方向における厚みをＤ’、遮蔽板３２の対象物Ｘ側の先端から対象物Ｘまでの距離をＨ’とする。この場合、厚みＤ’と距離Ｈ’とは、Ｄ’≦２Ｈ’を満たしていてもよい。この場合、何れかの陽極１２について、上述した距離Ｄと距離ＨとがＤ≦２Ｈを満たさない場合においても、当該陽極１２と隣接する陽極１２との間の相互作用を生じさせることが可能である。

【0073】

さらに、本実施形態において、めっき膜Ｐの距離Ｗは、上述した数式１について、距離Ｄを距離Ｄ’、距離Ｈを距離Ｈ’に読み替えた式を満たしてもよい。この場合、何れかの陽極１２について、上述した距離Ｄと距離Ｈとが、数式１を満たさない場合においても、目標とする距離Ｗが決まっている場合、当該距離Ｗを有するめっき膜Ｐを効率的に形成できる。さらに、各陽極１２における電流制御を行うことにより、膜厚極大範囲と膜厚極小範囲とが観測されなくなり、距離Ｗが観測されない状態となるまで、めっき膜Ｐの平坦性が向上する。

【0074】

また、遮蔽板３２が補助陰極３６を含む場合、各陽極１２から補助陰極３６への方向にも電気力線が生じる。このため、本実施形態に係る電気めっき装置２を用いて、めっき膜Ｐの形成を行う場合、補助陰極３６上に余剰めっき膜ＰＲが形成される。このように、補助陰極３６により、各陽極１２における電界分布を矯正し、対象物Ｘの表面ＸＳに形成されるめっき膜Ｐの厚みをより容易に制御することができる。

【0075】

本実施形態における遮蔽板３２および補助陰極３６の構成は、図８に示す構成に限られない。本実施形態における遮蔽板３２および補助陰極３６の構成の他の例について、図９を参照して説明する。図９は、本実施形態における遮蔽板３２および補助陰極３６の構成の例を説明する、電気めっき装置２の一部分における拡大模式図であり、それぞれ、図３に示す模式図と同一の位置において拡大した模式図である。

【0076】

図９の構成例８０２および構成例８０４に示すように、電気めっき装置２は遮蔽板３２を備える一方、補助陰極３６を備えていなくともよい。例えば、図９の構成例８０２に示すように、電気めっき装置２は、陽極支持具１４から対象物Ｘへの方向に延伸する遮蔽板３２を、各陽極１２の間に備えていてもよい。一方、例えば、図９の構成例８０４に示すように、電気めっき装置２は、陽極支持具１４と対象物Ｘとの間に、各陽極１２の端部を遮蔽する遮蔽板３２を備えていてもよい。

【0077】

図９の構成例８０６に示すように、電気めっき装置２は補助陰極３６を備える一方、遮蔽板３２を備えていなくともよい。特に、例えば、図９の構成例８０６に示すように、電気めっき装置２は、陽極支持具１４と対象物Ｘとの間において、対象物Ｘの端部に位置する補助陰極３６を備えていてもよい。

【0078】

他に、例えば、図９の構成例８０８に示すように、電気めっき装置２は、各陽極１２の間に位置する遮蔽板３２と、陽極支持具１４と対象物Ｘとの間の補助陰極３６とを備えていてもよい。ここで、図９の構成例８０８に示すように、遮蔽板３２は、陽極支持具１４から対象物Ｘへの方向において各陽極１２の端部を遮蔽する庇部を有してもよい。また、図９の構成例８０８に示すように、補助陰極３６は、陽極支持具１４から対象物Ｘへの方向においてレジストＲと重なる位置に、レジストＲの形成パターンに合せて形成されていてもよい。

【0079】

〔実施形態３〕
（可動陽極）
図１０および図１１は、本実施形態に係る電気めっき装置２による対象物Ｘの表面へのめっき膜の形成の間における、電気めっき装置２の一部を拡大した模式図である。特に、図１０は、図３に示す模式図と同一の位置において拡大した模式図である。図１１は、液槽４の上側から下側に向かう方向において、後述する、図１０に示す第１可動陽極３８Ａおよびその周囲について拡大した模式図である。換言すれば、図１１は、図１０の紙面に向かって上側から下側に向かってみた場合における、図１０に示す第１可動陽極３８Ａおよびその周囲について拡大した模式図である。図１０および図１１においては、陽極支持具１４の上面と液槽４の底面との双方に平行な方向をＸ軸方向、液槽４の底面の法線方向をＹ軸方向、陽極支持具１４から対象物Ｘへの方向をＺ軸方向とする。

【0080】

本実施形態に係る電気めっき装置２は、各陽極１２に代えて、可動陽極と陽極制御部とを備える点を除き、実施形態１に係る電気めっき装置２と同一の構成を備える。

【0081】

より具体的には、例えば、図１０および図１１に示すように、本実施形態に係る電気めっき装置２は、第１陽極１２Ａに代えて、第１可動陽極３８Ａと、第１可動支持部３９Ａと、第１陽極制御部４０Ａとを備える。第１可動支持部３９Ａは第１可動陽極３８Ａを支持し、第１陽極制御部４０Ａは第１可動支持部３９Ａの位置を制御する。さらに、本実施形態に係る電気めっき装置２は、図１０に示すように、第２陽極１２Ｂに代えて、第２可動陽極３８Ｂと、第２可動陽極３８Ｂを支持する第２可動支持部３９Ｂと、第２可動支持部３９Ｂの位置を制御する第２陽極制御部４０Ｂとを備える。

【0082】

第１可動陽極３８Ａおよび第２可動陽極３８Ｂのそれぞれは、例えば、略球形状の電極であり、導電性の第１可動支持部３９Ａおよび第２可動支持部３９Ｂの先端部にそれぞれ形成される。第１可動陽極３８Ａおよび第２可動陽極３８Ｂのそれぞれは、電源１６により第１可動支持部３９Ａおよび第２可動支持部３９Ｂを介して個別に電流制御される。

【0083】

第１可動支持部３９Ａおよび第２可動支持部３９Ｂのそれぞれは、第１陽極制御部４０Ａおよび第２陽極制御部４０Ｂによる制御を介して、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸の３方向について個別かつ３次元的に位置制御される。例えば、第１可動支持部３９Ａおよび第２可動支持部３９Ｂのそれぞれは、第１陽極制御部４０Ａおよび第２陽極制御部４０Ｂのそれぞれにより、表面ＸＳの平面方向に沿って移動することにより、Ｘ軸方向またはＹ軸方向における位置を制御される。また、第１可動支持部３９Ａおよび第２可動支持部３９Ｂのそれぞれは、第１陽極制御部４０Ａおよび第２陽極制御部４０Ｂのそれぞれにより、表面ＸＳの平面方向と略垂直方向であるＺ軸方向に沿って位置を制御される。

【0084】

したがって、第１可動支持部３９Ａおよび第２可動支持部３９Ｂの位置の制御に伴い、第１可動陽極３８Ａおよび第２可動陽極３８Ｂのそれぞれは、３次元的に位置を制御される。第１陽極制御部４０Ａおよび第２陽極制御部４０Ｂは、例えば、ロボットまたは多軸アクチュエータ等であってもよい。

【0085】

このため、第１可動陽極３８Ａおよび第２可動陽極３８Ｂのそれぞれは、Ｘ軸方向またはＹ軸方向における位置を個別に制御される。換言すれば、第１可動陽極３８Ａは、隣接する第２可動陽極３８Ｂとの間の距離Ｄを制御される。さらに、第１可動陽極３８Ａおよび第２可動陽極３８Ｂのそれぞれは、Ｚ軸方向における位置を個別に制御されることにより、表面ＸＳとの距離Ｈを個別に制御されてもよい。第１可動陽極３８Ａおよび第２可動陽極３８Ｂのそれぞれの位置制御は、制御部２６による、第１陽極制御部４０Ａおよび第２陽極制御部４０Ｂのそれぞれの制御により実行されてもよい。

【0086】

さらに、図１１に示すように、本実施形態に係る電気めっき装置２は、第３可動陽極３８Ｃと、第３可動陽極３８Ｃを支持する第３可動支持部３９Ｃと、第３可動支持部３９Ｃの位置を制御する第３陽極制御部４０Ｃとを備える。第３可動陽極３８Ｃと、第３可動支持部３９Ｃと、第３陽極制御部４０Ｃとは、配置される位置を除き、第１可動陽極３８Ａと、第１可動支持部３９Ａと、第１陽極制御部４０Ａとのそれぞれと同一の構成を備えていてもよい。例えば、第３陽極制御部４０Ｃは、第１陽極制御部４０Ａと、Ｘ軸方向において互いに隣接する位置に配置されていてもよい。

【0087】

このため、第３可動陽極３８Ｃについても、Ｘ軸方向またはＹ軸方向における位置を個別に制御される。換言すれば、第３可動陽極３８Ｃは、例えば、隣接する第１可動陽極３８Ａとの間の距離Ｄを制御される。さらに、第３可動陽極３８Ｃは、Ｚ軸方向における位置を個別に制御されることにより、表面ＸＳとの距離Ｈを個別に制御されてもよい。第３可動陽極３８Ｃの位置制御は、第１可動陽極３８Ａまたは第２可動陽極３８Ｂの位置制御と同一の方法により実行されてもよい。

【0088】

本実施形態に係る電気めっき装置２を用いた、対象物Ｘへのめっき膜Ｐの形成は、図６に示したフローチャートに沿って実行されてもよい。この場合、各可動陽極の位置制御は、試験めっき膜の特性の測定結果に基づいて実行されてもよい。

【0089】

本実施形態においては、各可動陽極の位置を個別に制御できる。このため、本実施形態に係る電気めっき装置２は、各可動陽極における電界分布をより厳密に制御できる上、互いに隣接する可動陽極の間の相互作用をより厳密に制御できる。したがって、本実施形態に係る電気めっき装置２は、より均一なめっき膜Ｐを形成できる。

【0090】

〔実施形態４〕
（伸縮部）
図１２は、本実施形態に係る電気めっき装置２による対象物Ｘの表面へのめっき膜の形成の間における、電気めっき装置２の一部を拡大した模式図であり、特に、図３に示す模式図と同一の位置において拡大した模式図である。本実施形態に係る電気めっき装置２は、複数の伸縮部をさらに備える点において、実施形態１に係る電気めっき装置２と構成が異なる。より具体的には、例えば、図１２に示すように、本実施形態に係る電気めっき装置２は、第１伸縮部４２Ａと第２伸縮部４２Ｂとを備える。

【0091】

第１伸縮部４２Ａおよび第２伸縮部４２Ｂのそれぞれは、対象物Ｘの表面ＸＳの平面方向と略垂直方向、換言すれば、めっき膜Ｐの膜厚方向と略同一方向に対して伸縮する部材である。第１伸縮部４２Ａおよび第２伸縮部４２Ｂのそれぞれは、例えば、制御部２６により制御されてもよい。第１伸縮部４２Ａおよび第２伸縮部４２Ｂのそれぞれは、例えば、エアシリンダであってもよい。

【0092】

第１伸縮部４２Ａの対象物Ｘ側の先端部には、第１陽極１２Ａが形成され、また、第２伸縮部４２Ｂの対象物Ｘ側の先端部には、第２陽極１２Ｂが形成される。このため、第１伸縮部４２Ａおよび第２伸縮部４２Ｂのそれぞれの伸縮に伴い、第１陽極１２Ａおよび第２陽極１２Ｂのそれぞれの対象物Ｘとの距離Ｈが変動する。第１伸縮部４２Ａおよび第２伸縮部４２Ｂのそれぞれの伸縮を個別に制御することにより、第１陽極１２Ａおよび第２陽極１２Ｂのそれぞれにおける距離Ｈを個別に制御できる。

【0093】

上述した構成を除き、本実施形態に係る電気めっき装置２は、実施形態１に係る電気めっき装置２と同一の構成を備える。本実施形態に係る電気めっき装置２を用いた、対象物Ｘへのめっき膜Ｐの形成は、図６に示したフローチャートに沿って実行されてもよい。この場合、各伸縮部の伸縮による、各陽極１２の位置制御は、試験めっき膜の特性の測定結果に基づいて実行されてもよい。

【0094】

本実施形態においては、各陽極１２における距離Ｈを個別に制御できる。このため、本実施形態に係る電気めっき装置２は、各陽極１２における電界分布をより厳密に制御できる上、互いに隣接する陽極１２の間の相互作用をより厳密に制御できる。したがって、本実施形態に係る電気めっき装置２は、より均一なめっき膜Ｐを形成できる。

【0095】

〔実施形態５〕
（さらに分割された陽極）
図１３は、本実施形態に係る電気めっき装置２による対象物Ｘの表面へのめっき膜の形成の間における、電気めっき装置２の一部を拡大した模式図であり、特に、図３に示す模式図と同一の位置において拡大した模式図である。本実施形態に係る電気めっき装置２は、各陽極１２に代えて、当該陽極をさらに分割した陽極を備える点を除き、実施形態１に係る電気めっき装置２と同一の構成を備える。より具体的には、例えば、図１３に示すように、本実施形態に係る電気めっき装置２は、第１陽極１２Ａに代えて、複数の第１陽極４４Ａを備える。

【0096】

第１陽極４４Ａは、第２陽極１２Ｂを含む他の陽極とは独立して個別に電流制御される。さらに、複数の第１陽極４４Ａの間においても、個別に電流制御される。

【0097】

例えば、第１陽極４４Ａは、対象物Ｘのうち、表面ＸＳ上の配線パターンがより密集するまたは微細である位置と対向する位置に形成される。これにより、本実施形態に係る電気めっき装置２は、細かい配線パターンに対しより厳密なめっき膜Ｐの膜厚制御を実現する。

【0098】

上記構成により、本実施形態に係る電気めっき装置２においては、対象物Ｘの表面ＸＳ上の配線パターンに応じて、より適切な膜厚制御を行うことができる。このため、本実施形態に係る電気めっき装置２は、対象物Ｘの表面ＸＳ上の配線パターンによらず、対象物Ｘにより均一なめっき膜Ｐを形成できる。

【0099】

〔実施形態６〕
（分割パイプ）
図１４は、本実施形態に係る電気めっき装置と、当該電気めっき装置を用いてめっき膜が形成される様子とを示す模式図であり、特に、図１に示す模式図と同一の位置において拡大した模式図である。本実施形態に係る電気めっき装置４６は、実施形態１に示す電気めっき装置２と比較して、めっき槽パイプ２４に代えて、めっき槽パイプ４８と分割パイプ５０とを備える点においてのみ構成が異なる。

【0100】

本実施形態において、めっき槽パイプ４８は、ポンプ２０から、陽極支持具１４の内部までを連通する。また、本実施形態における陽極支持具１４には、各陽極１２の間に、分割パイプ５０がそれぞれ形成されている。各分割パイプ５０は、陽極支持具１４の内部と連通し、また、対象物Ｘと対向する開口を有する。

【0101】

ポンプ２０によってめっき槽パイプ４８を介し陽極支持具１４の内部に送り込まれた、電解液Ｅを含む液体は、各分割パイプ５０に分配され、各分割パイプ５０から対象物Ｘに向かって吹き付けられる。陽極支持具１４の内部には、例えば、めっき槽パイプ４８からの液体を、各分割パイプ５０に略均一に分配するように設計された流路が形成されていてもよい。

【0102】

本実施形態に係る電気めっき装置４６は、ポンプ２０によって、めっき槽６中の電解液Ｅの撹拌または入れ替えを行うとともに、各分割パイプ５０に電解液Ｅを送り込むことにより、各陽極１２と対向する対象物Ｘの表面に電解液Ｅを吹き付ける。これにより、対象物Ｘへのめっき膜Ｐの形成過程において、最も電解液Ｅの濃度変化が大きくなり得る陽極１２と対象物Ｘとの間における電解液Ｅの撹拌または入れ替えをより効率的に実施できる。したがって、本実施形態に係る電気めっき装置２は、より均一なめっき膜Ｐを形成できる。

【0103】

本実施形態に係る電気めっき装置２を用いた、対象物Ｘへのめっき膜Ｐの形成は、図６に示したフローチャートに沿って実行されてもよい。本実施形態において、対象物Ｘへのめっき膜Ｐの形成の間、ポンプ２０の動作により、分割パイプ５０から対象物Ｘへの電解液Ｅの吹き付けが実施されてもよい。

【0104】

以上、本開示に係る発明について、諸図面および実施例に基づいて説明してきた。しかし、本開示に係る発明は上述した各実施形態に限定されるものではない。すなわち、本開示に係る発明は本開示で示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本開示に係る発明の技術的範囲に含まれる。つまり、当業者であれば本開示に基づき種々の変形または修正を行うことが容易であることに注意されたい。また、これらの変形または修正は本開示の範囲に含まれることに留意されたい。

【符号の説明】

【0105】

２、４６ 電気めっき装置
６ めっき槽
１２ 陽極
１６ 電源
２０ ポンプ
２２ 循環槽パイプ
２４、４８ めっき槽パイプ
２６ 制御部
３２ 遮蔽板
５０ 分割パイプ

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】