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▶ イフォクレール ヴィヴァデント アクチェンゲゼルシャフトの特許一覧
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023027009
(43)【公開日】2023-03-01
(54)【発明の名称】歯科修復物の調製のためのプロセス
(51)【国際特許分類】
A61C 13/083 20060101AFI20230221BHJP
A61C 13/00 20060101ALI20230221BHJP
A61C 5/70 20170101ALI20230221BHJP
C04B 35/64 20060101ALI20230221BHJP
C04B 35/488 20060101ALI20230221BHJP
【ＦＩ】
A61C13/083
A61C13/00 Z
A61C5/70
C04B35/64
C04B35/488
【審査請求】未請求
【請求項の数】22
【出願形態】ＯＬ
【外国語出願】
(21)【出願番号】P 2022123136
(22)【出願日】2022-08-02
(31)【優先権主張番号】21191535
(32)【優先日】2021-08-16
(33)【優先権主張国・地域又は機関】EP
(71)【出願人】
【識別番号】501151539
【氏名又は名称】イフォクレール ヴィヴァデント アクチェンゲゼルシャフト
【氏名又は名称原語表記】Ｉｖｏｃｌａｒ Ｖｉｖａｄｅｎｔ ＡＧ
【住所又は居所原語表記】Ｂｅｎｄｅｒｅｒｓｔｒ．２ ＦＬ－９４９４ Ｓｃｈａａｎ Ｌｉｅｃｈｔｅｎｓｔｅｉｎ
(74)【代理人】
【識別番号】100078282
【弁理士】
【氏名又は名称】山本 秀策
(74)【代理人】
【識別番号】100113413
【弁理士】
【氏名又は名称】森下 夏樹
(74)【代理人】
【識別番号】100181674
【弁理士】
【氏名又は名称】飯田 貴敏
(74)【代理人】
【識別番号】100181641
【弁理士】
【氏名又は名称】石川 大輔
(74)【代理人】
【識別番号】230113332
【弁護士】
【氏名又は名称】山本 健策
(72)【発明者】
【氏名】コリーナ セルバン
(72)【発明者】
【氏名】フランク ロスブラスト
(72)【発明者】
【氏名】クリスティアン リッツベルガー
(72)【発明者】
【氏名】セバスチャン クロリコフスキ
【テーマコード（参考）】
4C159
【Ｆターム（参考）】
4C159DD01
4C159GG04
4C159SS01
(57)【要約】
【課題】本発明は、歯科修復物を調製する方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る歯科修復物を調製する方法では、酸化セラミック材料は、（ａ）少なくとも１つの熱処理を受け、（ｂ）冷却され、前記冷却は、（ｂ１）冷却速度Ｔ１を有する第１の冷却ステップと（ｂ２）冷却速度Ｔ２を有する第２の冷却ステップとを含み、前記冷却速度Ｔ２の絶対値は、前記冷却速度Ｔ１の絶対値より小さい。
【選択図】なし
【解決手段】本発明に係る歯科修復物を調製する方法では、酸化セラミック材料は、（ａ）少なくとも１つの熱処理を受け、（ｂ）冷却され、前記冷却は、（ｂ１）冷却速度Ｔ１を有する第１の冷却ステップと（ｂ２）冷却速度Ｔ２を有する第２の冷却ステップとを含み、前記冷却速度Ｔ２の絶対値は、前記冷却速度Ｔ１の絶対値より小さい。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
歯科修復物を調製する方法であって、
酸化セラミック材料は、
（ａ）少なくとも１つの熱処理を受け、
（ｂ）冷却され、
前記冷却は、
（ｂ１）冷却速度Ｔ１を有する第１の冷却ステップと
（ｂ２）冷却速度Ｔ２を有する第２の冷却ステップと
を含み、
前記冷却速度Ｔ２の絶対値は、前記冷却速度Ｔ１の絶対値より小さい、方法。
酸化セラミック材料は、
（ａ）少なくとも１つの熱処理を受け、
（ｂ）冷却され、
前記冷却は、
（ｂ１）冷却速度Ｔ１を有する第１の冷却ステップと
（ｂ２）冷却速度Ｔ２を有する第２の冷却ステップと
を含み、
前記冷却速度Ｔ２の絶対値は、前記冷却速度Ｔ１の絶対値より小さい、方法。
【請求項2】
前記冷却は、
（ｂ１）冷却速度Ｔ１を有する第１の冷却ステップと、
（ｂ２）冷却速度Ｔ２を有する第２の冷却ステップと、
（ｂ３）冷却速度Ｔ３を有する第３の冷却ステップと
を含み、
前記冷却速度Ｔ２の絶対値は、前記冷却速度Ｔ１および前記冷却速度Ｔ３の絶対値よりも小さい、請求項１に記載の方法。
（ｂ１）冷却速度Ｔ１を有する第１の冷却ステップと、
（ｂ２）冷却速度Ｔ２を有する第２の冷却ステップと、
（ｂ３）冷却速度Ｔ３を有する第３の冷却ステップと
を含み、
前記冷却速度Ｔ２の絶対値は、前記冷却速度Ｔ１および前記冷却速度Ｔ３の絶対値よりも小さい、請求項１に記載の方法。
【請求項3】
ステップ（ｂ２）は、１０００℃から１５００℃の温度範囲、好ましくは１１００℃から１４００℃の温度範囲、より好ましくは１２００℃から１３００℃の温度範囲において実施される、請求項１または２に記載の方法。
【請求項4】
ステップ（ｂ２）において、前記冷却速度Ｔ２の絶対値は、６０Ｋ／分より小さく、好ましくは５０Ｋ／分より小さく、より好ましくは４０Ｋ／分より小さいく、さらに好ましくは２５Ｋ／分より小さく、さらに好ましくは１０Ｋ／分より小さく、最も好ましくは５Ｋ／分より小さい、請求項１から３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項5】
ステップ（ｂ２）は、実質的に一定の温度で実施される、請求項１から４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項6】
（ｂ２）は、１分から２０分、好ましくは１分から１０分、より好ましくは２分から８分、特に好ましくは３分から７分、最も好ましくは４分から６分、の期間で実施される、請求項１から５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項7】
前記冷却速度Ｔ１の絶対値および／または前記冷却速度Ｔ３の絶対値は、少なくとも４０Ｋ／分、好ましくは少なくとも５０Ｋ／分、特に好ましくは少なくとも６０Ｋ／分であり、特に４０Ｋ／分から２００Ｋ／分、好ましくは５０Ｋ／分から１００Ｋ／分、特に好ましくは６０Ｋ／分から８０Ｋ／分、の範囲である、請求項１から６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項8】
前記酸化セラミック材料は、ステップ（ａ）において、１１００℃から１７００℃の範囲、好ましくは１３００℃から１６００℃の範囲、より好ましくは１４００℃から１５５０℃の範囲、特に好ましくは１４５０℃から１５００℃の範囲、最も好ましくは約１４８０℃、の温度に加熱される、請求項１から７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項9】
前記酸化セラミック材料は、ステップ（ａ）において、５Ｋ／分から５００Ｋ／分の範囲、好ましくは５０Ｋ／分から２５０Ｋ／分の範囲、より好ましくは１００Ｋ／分から２００Ｋ／分の範囲、の加熱速度で加熱される、請求項１から８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項10】
前記酸化セラミック材料は、ステップ（ｂ）において、２０℃から１３００℃の範囲、好ましくは１００℃から１２５０℃の範囲、特に好ましくは１０００℃から１２００℃の範囲、の温度に冷却される、請求項１から９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項11】
ステップ（ａ）における前記酸化セラミック材料は、
（ａ１）第１の加熱処理を受け、
（ａ２）第２の加熱処理を受け、
ステップ（ａ１）における前記加熱処理は、ステップ（ａ２）における前記加熱処理と比べてより低い圧力で実施される、請求項１から１０のいずれか１項に記載の方法。
（ａ１）第１の加熱処理を受け、
（ａ２）第２の加熱処理を受け、
ステップ（ａ１）における前記加熱処理は、ステップ（ａ２）における前記加熱処理と比べてより低い圧力で実施される、請求項１から１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項12】
ステップ（ａ１）における前記加熱処理は、２００ｍｂａｒ未満、好ましくは１００ｍｂａｒ未満、特に好ましくは５０ｍｂａｒ未満、特に０．１ｍｂａｒから２００ｍｂａｒの範囲、好ましくは１ｍｂａｒから１５０ｍｂａｒの範囲、特に好ましくは５０ｍｂａｒから１００ｍｂａｒの範囲、の圧力で実施される、請求項１１に記載の方法。
【請求項13】
前記酸化セラミック材料は、ステップ（ａ２）において、さらに、加熱および保持され、並びに、１１００℃から１７００℃の範囲、特に１３００℃から１６００℃の範囲、好ましくは１４００℃から１５５０℃の範囲、特に好ましくは１４５０℃から１５００℃の範囲、最も好ましくは約１４８０℃、好ましくは一定、の温度で焼結され、
前記保持は、好ましくは１分から６０分、より好ましくは５分から３０分、さらに好ましくは１０分から２５分、特に好ましくは１５分から２０分の間実行される、請求項１１または１２に記載の方法。
前記保持は、好ましくは１分から６０分、より好ましくは５分から３０分、さらに好ましくは１０分から２５分、特に好ましくは１５分から２０分の間実行される、請求項１１または１２に記載の方法。
【請求項14】
ステップ（ａ２）における前記加熱処理は、５００ｍｂａｒ超えの圧力で実施され、特に大気圧でおよび／または酸素含有雰囲気で、特に空気、酸素豊富な空気または酸素中で実施される、請求項１１から１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項15】
ステップ（ａ２）の間、酸素含有雰囲気、好ましくは空気、酸素豊富な空気または酸素は、不連続的に、または、好ましくは連続的に、特に０．１ ｌ／分から５０ ｌ／分、好ましくは１ ｌ／分から１０ ｌ／分、特に好ましくは２ ｌ／分から５ ｌ／分の流速で加熱チャンバーを通過する、請求項１４に記載の方法。
【請求項16】
前記酸化セラミック材料は、ステップ（ａ１）において、前記酸化セラミック材料がステップ（ａ２）において保持される温度または温度範囲と比べて、０Ｋから５００Ｋ、特に１０Ｋから２５０Ｋ、好ましくは５０Ｋから１５０Ｋ、特に好ましくは７５Ｋから１００Ｋ、低い温度に加熱される、請求項１１から１５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項17】
前記酸化セラミック材料は、ジルコニアをベースとし、特に正方晶ジルコニア多結晶（ＴＺＰ）である、請求項１から１６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項18】
前記ジルコニウム酸化物は、Ｙ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＭｇＯおよび／またはＣａＯにより安定化され、好ましくは、ジルコニウム酸化物の量に基づき、これら酸化物の２ｍｏｌ％から１２ｍｏｌ％、特に３ｍｏｌ％から６ｍｏｌ％で安定化される、請求項１７に記載の方法。
【請求項19】
前記酸化セラミック材料は、有色であり、好ましくは少なくとも２つの層を含み、前記少なくとも２つの層は特に異なる色を有する、請求項１から１８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項20】
前記酸化セラミック材料は、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｐｒ、Ｔｂ、Ｅｒ、Ｙｂ、Ｃｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｎｄ、ＣｕおよびＢｉからなる群から選択される少なくとも１つの発色元素を含み、特にＦｅを含む、請求項１から１９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項21】
前記歯科修復物は、ブリッジ、インレー、アンレー、クラウン、ベニヤ、ファセット、またはアバットメントであり、好ましくは二つ以上の部材を含む、請求項１から２０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項22】
歯科修復物の調製のための酸化セラミック材料の使用であって、
前記酸化セラミック材料は、
（ａ）少なくとも１つの熱処理を受け、
（ｂ）冷却され、
前記冷却は、
（ｂ１）冷却速度Ｔ１を有する第１の冷却ステップと、
（ｂ２）冷却速度Ｔ２を有する第２の冷却ステップと
を含み、
前記冷却速度Ｔ２の絶対値は、前記冷却速度Ｔ１の絶対値より小さい、使用。
前記酸化セラミック材料は、
（ａ）少なくとも１つの熱処理を受け、
（ｂ）冷却され、
前記冷却は、
（ｂ１）冷却速度Ｔ１を有する第１の冷却ステップと、
（ｂ２）冷却速度Ｔ２を有する第２の冷却ステップと
を含み、
前記冷却速度Ｔ２の絶対値は、前記冷却速度Ｔ１の絶対値より小さい、使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、酸化セラミック材料から開始し、優れた特性を有する歯科修復物の生産を短期間に可能とするプロセスに関する。本発明は、さらに、本発明に係るプロセスにより、歯科修復物の調製のための酸化セラミック材料の使用に関する。
【背景技術】
【0002】
例えば酸化セラミックであるセラミック材料は、頻繁に、完全に解剖学的な歯科修復物を作り上げるために使用されている。これらは、高度な臨床的安全性を提供し、通常金属フリーであり、低侵襲の調製にも使用可能であり、他の金属フリーの修復物と比較して、価格において非常に魅力的である。しかしながら、このような修復物を作り上げるに必要とされる大量の作業ステップは、欠点として存在する。
【0003】
修復物は、通常予備焼結されたブランクからミルされ、または研削され、必要に応じてシェード（ｓｈａｄｅ）され、熱処理により密に焼結され、最後、必要に応じて、更にシェードされ、つや付けされ、および／または仕上げられる。
【0004】
歯科セラミックのための従来の焼結プロセスは、使用される酸化セラミック材料が緻密に焼結される最大温度にゆっくり加熱することを含む。低い加熱速度のため、焼結過程は、一般的に４時間より多くかかると解されることで、特に診察台脇での処置において、歯科セラミックの生産サイクルの思わしくない長期間がかかることは顕著に発生する。
【0005】
加熱速度を増加させることにより焼結プロセスを加速するアプローチは、一般的に知られている。
【0006】
例えば、欧州特許出願公開第２０９８１８８号は、歯科用炉および、歯科材料を焼結するための方法を説明しており、その方法において、当該炉は、第１加熱期間において５０Ｋ／分より速い加熱速度で少なくとも１０００℃である予備焼結温度に加熱される。
【0007】
欧州特許出願公開第２１０１１３３号は、焼結炉、および歯科用品を焼結するためのプロセスを説明しており、そのプロセスにおいて、当該歯科用品は、焼結セクションに沿って移動され、異なる温度に暴露されている。３００Ｋ／分またはそれよりも速い高速の加熱速度は、第１セクションに用いられ得る。
【0008】
国際公開第２０１２／０５７８２９号は、電磁的誘導またはプラズマを用いてセラミックを速く焼結するプロセスを説明している。
【0009】
国際公開第２０１５／０９１７４４号は、歯科予備焼結部分の焼結を計画するプロセスを説明しており、そのプロセスにおいて、歯科予備焼結部分の熱処理のための温度プロフィルは、生産される歯科予備焼結部分の所定のジオメトリーの一機能および材料のパラメーターとして、コンピューターにより自動的に決定されている。１００Ｋ／分から４００Ｋ／分の加熱速度は、所定の歯科予備焼結部分の焼結に使用される。
【0010】
国際公開第２０１５／１２１３６４号は、有用な範囲において、少なくとも２００Ｋ／分の加熱速度を可能とする加熱装置を備える、歯科成分のための焼結炉を説明している。
【0011】
不活性ガス中または真空中での歯科材料の焼結も従来から知られている。
【0012】
国際公開第２０１１／０２０６８８号は、不活性ガス中で、歯科技術において、金属またはセラミックの酸素フリー焼結用装置を説明している。
【0013】
欧州特許出願公開第２７０３７６０号は、義歯を焼結するための歯科用炉を説明しており、その加熱チャンバーは、例えばドアである従来型の閉鎖装置、または真空容器を有する取付により閉じられ得ることで、通常の焼結または真空焼結のために使用され得る。
【0014】
国際公開第２０１７／１８９４１４号は、色変化を誘導する追加的熱処置を含む歯科修復物を製造する方法を説明している。
【0015】
欧州特許出願公開第３６５９５４８号は、歯科修復物を製造するプロセスを説明しており、当該プロセスにおいて、酸化セラミック材料が少なくとも２つの熱処理に供されており、第１の熱処理は、第２の熱処理よりも低圧で実行されている。
しかしながら、焼結プロセスを加速させるアプローチにより、セラミック材料の特性、特に光学的特性が、歯科分野における高い要求を満たさない結果をもたらしている。
しかしながら、焼結プロセスを加速させるアプローチにより、セラミック材料の特性、特に光学的特性が、歯科分野における高い要求を満たさない結果をもたらしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0016】
【特許文献1】欧州特許出願公開第２０９８１８８号明細書
【特許文献2】欧州特許出願公開第２１０１１３３号明細書
【特許文献3】国際公開第２０１２／０５７８２９号
【特許文献4】国際公開第２０１５／０９１７４４号
【特許文献5】国際公開第２０１５／１２１３６４号
【特許文献6】国際公開第２０１１／０２０６８８号
【特許文献7】欧州特許出願公開第２７０３７６０号明細書
【特許文献8】国際公開第２０１７／１８９４１４号
【特許文献9】欧州特許出願公開第３６５９５４８号明細書
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【0017】
したがって、本願は、歯科修復物を調製するプロセスを提供する課題に基づいており、当該プロセスにより、優れた機械的、特に光学的特性が酸化セラミック材料の焼結により短期間で達成可能である歯科修復物が生産される。
【0018】
本発明では、当該課題は、請求項１から２１に係る歯科修復物を調製するためのプロセスにより解決される。本発明の更なる主題は、請求項２２に係る歯科修復物の調製のための酸化セラミック材料の使用である。
本発明は、例えば、以下の項目を提供する。
(項目１)
歯科修復物を調製する方法であって、
酸化セラミック材料は、
（ａ）少なくとも１つの熱処理を受け、
（ｂ）冷却され、
前記冷却は、
（ｂ１）冷却速度Ｔ１を有する第１の冷却ステップと
（ｂ２）冷却速度Ｔ２を有する第２の冷却ステップと
を含み、
前記冷却速度Ｔ２の絶対値は、前記冷却速度Ｔ１の絶対値より小さい、方法。
(項目２)
前記冷却は、
（ｂ１）冷却速度Ｔ１を有する第１の冷却ステップと、
（ｂ２）冷却速度Ｔ２を有する第２の冷却ステップと、
（ｂ３）冷却速度Ｔ３を有する第３の冷却ステップと
を含み、
前記冷却速度Ｔ２の絶対値は、前記冷却速度Ｔ１および前記冷却速度Ｔ３の絶対値よりも小さい、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目３)
ステップ（ｂ２）は、１０００℃から１５００℃の温度範囲、好ましくは１１００℃から１４００℃の温度範囲、より好ましくは１２００℃から１３００℃の温度範囲において実施される、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目４)
ステップ（ｂ２）において、前記冷却速度Ｔ２の絶対値は、６０Ｋ／分より小さく、好ましくは５０Ｋ／分より小さく、より好ましくは４０Ｋ／分より小さいく、さらに好ましくは２５Ｋ／分より小さく、さらに好ましくは１０Ｋ／分より小さく、最も好ましくは５Ｋ／分より小さい、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目５)
ステップ（ｂ２）は、実質的に一定の温度で実施される、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目６)
（ｂ２）は、１分から２０分、好ましくは１分から１０分、より好ましくは２分から８分、特に好ましくは３分から７分、最も好ましくは４分から６分、の期間で実施される、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目７)
前記冷却速度Ｔ１の絶対値および／または前記冷却速度Ｔ３の絶対値は、少なくとも４０Ｋ／分、好ましくは少なくとも５０Ｋ／分、特に好ましくは少なくとも６０Ｋ／分であり、特に４０Ｋ／分から２００Ｋ／分、好ましくは５０Ｋ／分から１００Ｋ／分、特に好ましくは６０Ｋ／分から８０Ｋ／分、の範囲である、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目８)
前記酸化セラミック材料は、ステップ（ａ）において、１１００℃から１７００℃の範囲、好ましくは１３００℃から１６００℃の範囲、より好ましくは１４００℃から１５５０℃の範囲、特に好ましくは１４５０℃から１５００℃の範囲、最も好ましくは約１４８０℃、の温度に加熱される、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目９)
前記酸化セラミック材料は、ステップ（ａ）において、５Ｋ／分から５００Ｋ／分の範囲、好ましくは５０Ｋ／分から２５０Ｋ／分の範囲、より好ましくは１００Ｋ／分から２００Ｋ／分の範囲、の加熱速度で加熱される、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目１０)
前記酸化セラミック材料は、ステップ（ｂ）において、２０℃から１３００℃の範囲、好ましくは１００℃から１２５０℃の範囲、特に好ましくは１０００℃から１２００℃の範囲、の温度に冷却される、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目１１)
ステップ（ａ）における前記酸化セラミック材料は、
（ａ１）第１の加熱処理を受け、
（ａ２）第２の加熱処理を受け、
ステップ（ａ１）における前記加熱処理は、ステップ（ａ２）における前記加熱処理と比べてより低い圧力で実施される、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目１２)
ステップ（ａ１）における前記加熱処理は、２００ｍｂａｒ未満、好ましくは１００ｍｂａｒ未満、特に好ましくは５０ｍｂａｒ未満、特に０．１ｍｂａｒから２００ｍｂａｒの範囲、好ましくは１ｍｂａｒから１５０ｍｂａｒの範囲、特に好ましくは５０ｍｂａｒから１００ｍｂａｒの範囲、の圧力で実施される、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目１３)
前記酸化セラミック材料は、ステップ（ａ２）において、さらに、加熱および保持され、並びに、１１００℃から１７００℃の範囲、特に１３００℃から１６００℃の範囲、好ましくは１４００℃から１５５０℃の範囲、特に好ましくは１４５０℃から１５００℃の範囲、最も好ましくは約１４８０℃、好ましくは一定、の温度で焼結され、
前記保持は、好ましくは１分から６０分、より好ましくは５分から３０分、さらに好ましくは１０分から２５分、特に好ましくは１５分から２０分の間実行される、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目１４)
ステップ（ａ２）における前記加熱処理は、５００ｍｂａｒ超えの圧力で実施され、特に大気圧でおよび／または酸素含有雰囲気で、特に空気、酸素豊富な空気または酸素中で実施される、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目１５)
ステップ（ａ２）の間、酸素含有雰囲気、好ましくは空気、酸素豊富な空気または酸素は、不連続的に、または、好ましくは連続的に、特に０．１ ｌ／分から５０ ｌ／分、好ましくは１ ｌ／分から１０ ｌ／分、特に好ましくは２ ｌ／分から５ ｌ／分の流速で加熱チャンバーを通過する、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目１６)
前記酸化セラミック材料は、ステップ（ａ１）において、前記酸化セラミック材料がステップ（ａ２）において保持される温度または温度範囲と比べて、０Ｋから５００Ｋ、特に１０Ｋから２５０Ｋ、好ましくは５０Ｋから１５０Ｋ、特に好ましくは７５Ｋから１００Ｋ、低い温度に加熱される、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目１７)
前記酸化セラミック材料は、ジルコニアをベースとし、特に正方晶ジルコニア多結晶（ＴＺＰ）である、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目１８)
前記ジルコニウム酸化物は、Ｙ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＭｇＯおよび／またはＣａＯにより安定化され、好ましくは、ジルコニウム酸化物の量に基づき、これら酸化物の２ｍｏｌ％から１２ｍｏｌ％、特に３ｍｏｌ％から６ｍｏｌ％で安定化される、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目１９)
前記酸化セラミック材料は、有色であり、好ましくは少なくとも２つの層を含み、前記少なくとも２つの層は特に異なる色を有する、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目２０)
前記酸化セラミック材料は、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｐｒ、Ｔｂ、Ｅｒ、Ｙｂ、Ｃｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｎｄ、ＣｕおよびＢｉからなる群から選択される少なくとも１つの発色元素を含み、特にＦｅを含む、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目２１)
前記歯科修復物は、ブリッジ、インレー、アンレー、クラウン、ベニヤ、ファセット、またはアバットメントであり、好ましくは二つ以上の部材を含む、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目２２)
歯科修復物の調製のための酸化セラミック材料の使用であって、
前記酸化セラミック材料は、
（ａ）少なくとも１つの熱処理を受け、
（ｂ）冷却され、
前記冷却は、
（ｂ１）冷却速度Ｔ１を有する第１の冷却ステップと、
（ｂ２）冷却速度Ｔ２を有する第２の冷却ステップと
を含み、
前記冷却速度Ｔ２の絶対値は、前記冷却速度Ｔ１の絶対値より小さい、使用。
本発明は、例えば、以下の項目を提供する。
(項目１)
歯科修復物を調製する方法であって、
酸化セラミック材料は、
（ａ）少なくとも１つの熱処理を受け、
（ｂ）冷却され、
前記冷却は、
（ｂ１）冷却速度Ｔ１を有する第１の冷却ステップと
（ｂ２）冷却速度Ｔ２を有する第２の冷却ステップと
を含み、
前記冷却速度Ｔ２の絶対値は、前記冷却速度Ｔ１の絶対値より小さい、方法。
(項目２)
前記冷却は、
（ｂ１）冷却速度Ｔ１を有する第１の冷却ステップと、
（ｂ２）冷却速度Ｔ２を有する第２の冷却ステップと、
（ｂ３）冷却速度Ｔ３を有する第３の冷却ステップと
を含み、
前記冷却速度Ｔ２の絶対値は、前記冷却速度Ｔ１および前記冷却速度Ｔ３の絶対値よりも小さい、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目３)
ステップ（ｂ２）は、１０００℃から１５００℃の温度範囲、好ましくは１１００℃から１４００℃の温度範囲、より好ましくは１２００℃から１３００℃の温度範囲において実施される、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目４)
ステップ（ｂ２）において、前記冷却速度Ｔ２の絶対値は、６０Ｋ／分より小さく、好ましくは５０Ｋ／分より小さく、より好ましくは４０Ｋ／分より小さいく、さらに好ましくは２５Ｋ／分より小さく、さらに好ましくは１０Ｋ／分より小さく、最も好ましくは５Ｋ／分より小さい、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目５)
ステップ（ｂ２）は、実質的に一定の温度で実施される、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目６)
（ｂ２）は、１分から２０分、好ましくは１分から１０分、より好ましくは２分から８分、特に好ましくは３分から７分、最も好ましくは４分から６分、の期間で実施される、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目７)
前記冷却速度Ｔ１の絶対値および／または前記冷却速度Ｔ３の絶対値は、少なくとも４０Ｋ／分、好ましくは少なくとも５０Ｋ／分、特に好ましくは少なくとも６０Ｋ／分であり、特に４０Ｋ／分から２００Ｋ／分、好ましくは５０Ｋ／分から１００Ｋ／分、特に好ましくは６０Ｋ／分から８０Ｋ／分、の範囲である、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目８)
前記酸化セラミック材料は、ステップ（ａ）において、１１００℃から１７００℃の範囲、好ましくは１３００℃から１６００℃の範囲、より好ましくは１４００℃から１５５０℃の範囲、特に好ましくは１４５０℃から１５００℃の範囲、最も好ましくは約１４８０℃、の温度に加熱される、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目９)
前記酸化セラミック材料は、ステップ（ａ）において、５Ｋ／分から５００Ｋ／分の範囲、好ましくは５０Ｋ／分から２５０Ｋ／分の範囲、より好ましくは１００Ｋ／分から２００Ｋ／分の範囲、の加熱速度で加熱される、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目１０)
前記酸化セラミック材料は、ステップ（ｂ）において、２０℃から１３００℃の範囲、好ましくは１００℃から１２５０℃の範囲、特に好ましくは１０００℃から１２００℃の範囲、の温度に冷却される、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目１１)
ステップ（ａ）における前記酸化セラミック材料は、
（ａ１）第１の加熱処理を受け、
（ａ２）第２の加熱処理を受け、
ステップ（ａ１）における前記加熱処理は、ステップ（ａ２）における前記加熱処理と比べてより低い圧力で実施される、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目１２)
ステップ（ａ１）における前記加熱処理は、２００ｍｂａｒ未満、好ましくは１００ｍｂａｒ未満、特に好ましくは５０ｍｂａｒ未満、特に０．１ｍｂａｒから２００ｍｂａｒの範囲、好ましくは１ｍｂａｒから１５０ｍｂａｒの範囲、特に好ましくは５０ｍｂａｒから１００ｍｂａｒの範囲、の圧力で実施される、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目１３)
前記酸化セラミック材料は、ステップ（ａ２）において、さらに、加熱および保持され、並びに、１１００℃から１７００℃の範囲、特に１３００℃から１６００℃の範囲、好ましくは１４００℃から１５５０℃の範囲、特に好ましくは１４５０℃から１５００℃の範囲、最も好ましくは約１４８０℃、好ましくは一定、の温度で焼結され、
前記保持は、好ましくは１分から６０分、より好ましくは５分から３０分、さらに好ましくは１０分から２５分、特に好ましくは１５分から２０分の間実行される、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目１４)
ステップ（ａ２）における前記加熱処理は、５００ｍｂａｒ超えの圧力で実施され、特に大気圧でおよび／または酸素含有雰囲気で、特に空気、酸素豊富な空気または酸素中で実施される、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目１５)
ステップ（ａ２）の間、酸素含有雰囲気、好ましくは空気、酸素豊富な空気または酸素は、不連続的に、または、好ましくは連続的に、特に０．１ ｌ／分から５０ ｌ／分、好ましくは１ ｌ／分から１０ ｌ／分、特に好ましくは２ ｌ／分から５ ｌ／分の流速で加熱チャンバーを通過する、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目１６)
前記酸化セラミック材料は、ステップ（ａ１）において、前記酸化セラミック材料がステップ（ａ２）において保持される温度または温度範囲と比べて、０Ｋから５００Ｋ、特に１０Ｋから２５０Ｋ、好ましくは５０Ｋから１５０Ｋ、特に好ましくは７５Ｋから１００Ｋ、低い温度に加熱される、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目１７)
前記酸化セラミック材料は、ジルコニアをベースとし、特に正方晶ジルコニア多結晶（ＴＺＰ）である、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目１８)
前記ジルコニウム酸化物は、Ｙ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＭｇＯおよび／またはＣａＯにより安定化され、好ましくは、ジルコニウム酸化物の量に基づき、これら酸化物の２ｍｏｌ％から１２ｍｏｌ％、特に３ｍｏｌ％から６ｍｏｌ％で安定化される、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目１９)
前記酸化セラミック材料は、有色であり、好ましくは少なくとも２つの層を含み、前記少なくとも２つの層は特に異なる色を有する、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目２０)
前記酸化セラミック材料は、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｐｒ、Ｔｂ、Ｅｒ、Ｙｂ、Ｃｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｎｄ、ＣｕおよびＢｉからなる群から選択される少なくとも１つの発色元素を含み、特にＦｅを含む、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目２１)
前記歯科修復物は、ブリッジ、インレー、アンレー、クラウン、ベニヤ、ファセット、またはアバットメントであり、好ましくは二つ以上の部材を含む、先行する項目のいずれか１項に記載の方法。
(項目２２)
歯科修復物の調製のための酸化セラミック材料の使用であって、
前記酸化セラミック材料は、
（ａ）少なくとも１つの熱処理を受け、
（ｂ）冷却され、
前記冷却は、
（ｂ１）冷却速度Ｔ１を有する第１の冷却ステップと、
（ｂ２）冷却速度Ｔ２を有する第２の冷却ステップと
を含み、
前記冷却速度Ｔ２の絶対値は、前記冷却速度Ｔ１の絶対値より小さい、使用。
【発明を実施するための形態】
【0019】
本発明は、歯科修復物の調製のためのプロセスであって、
酸化セラミック材料が、
（ａ）少なくとも１つの熱処理に供され、
（ｂ）冷却され、
前記冷却は、
（ｂ１）冷却速度Ｔ１を有する第１冷却ステップと
（ｂ２）冷却速度Ｔ２を有する第２冷却ステップとを含み、
前記冷却速度Ｔ２の絶対値は、前記冷却速度Ｔ１の絶対値より小さい、プロセスに関する。
本発明に係る歯科修復物の調製のためのプロセスは、
酸化セラミック材料が、
（ａ）少なくとも１つの熱処理に供され、
（ｂ）冷却されることを特徴とし、
前記冷却は、
（ｂ１）冷却速度Ｔ１を有する第１冷却ステップと
（ｂ２）冷却速度Ｔ２を有する第２冷却ステップとを含み、
前記冷却速度Ｔ２の絶対値は、前記冷却速度Ｔ１の絶対値より小さい。
酸化セラミック材料が、
（ａ）少なくとも１つの熱処理に供され、
（ｂ）冷却され、
前記冷却は、
（ｂ１）冷却速度Ｔ１を有する第１冷却ステップと
（ｂ２）冷却速度Ｔ２を有する第２冷却ステップとを含み、
前記冷却速度Ｔ２の絶対値は、前記冷却速度Ｔ１の絶対値より小さい、プロセスに関する。
本発明に係る歯科修復物の調製のためのプロセスは、
酸化セラミック材料が、
（ａ）少なくとも１つの熱処理に供され、
（ｂ）冷却されることを特徴とし、
前記冷却は、
（ｂ１）冷却速度Ｔ１を有する第１冷却ステップと
（ｂ２）冷却速度Ｔ２を有する第２冷却ステップとを含み、
前記冷却速度Ｔ２の絶対値は、前記冷却速度Ｔ１の絶対値より小さい。
【0020】
驚くべきことに、本発明に係る前記プロセスは、酸化セラミックを非常に速く歯科修復物に焼結することを可能としており、良好な機械的特性および極めて高い密度を有すると共に、歯科修復物の高い美的要求を満たし、天然歯科材料の優れた光学特性を模倣することが見出された。
【0021】
ステップ（ａ）に使用される酸化セラミック材料は、通常、疎に焼結された、特に、予備焼結された酸化セラミック材料である。典型的に、使用された酸化セラミック材料は、３０から９０％の範囲、特に４０から８０％の範囲、好ましくは５０から７０％の範囲の相対的な密度を有し、それぞれの場合では、酸化セラミック材料の真密度に基づく。
【0022】
相対的密度は、酸化セラミック材料の真密度に対する酸化セラミック材料の見掛け密度の比率である。
【0023】
酸化セラミック材料の見掛け密度は、その材料を秤量しおよびその体積を幾何学的に決めることにより、決定される。次に、その密度は、既知の式
密度＝重量／体積
に従い計算される。
密度＝重量／体積
に従い計算される。
【0024】
酸化セラミック材料の真密度の決定は、１０から３０μｍ、特に２０μｍの平均粒子サイズの粉末に酸化セラミック材料を研磨し、比重計により粉末の密度を決定することによって実施される。粒子サイズは、例えば、Ｑｕａｎｔａｃｈｒｏｍｅ ＧｍｂＨ ＆ Ｃｏ． ＫＧ社によるＣＩＬＡＳ（登録商標） Ｐａｒｔｉｃｌｅ Ｓｉｚｅ Ａｎａｌｙｚｅｒ １０６４で、ＩＳＯ１３３２０（２００９）に従いレーザ回折を用いて、決定することができる。
【0025】
当該プロセスに係る好適な形態では、冷却は、
（ｂ１）冷却速度Ｔ１を有する第１冷却ステップ、
（ｂ２）冷却速度Ｔ２を有する第２冷却ステップ、および
（ｂ３）冷却速度Ｔ３を有する第３冷却ステップを含み、
前記冷却速度Ｔ２の絶対値は、前記冷却速度Ｔ１およびＴ３の絶対値よりも小さい。
（ｂ１）冷却速度Ｔ１を有する第１冷却ステップ、
（ｂ２）冷却速度Ｔ２を有する第２冷却ステップ、および
（ｂ３）冷却速度Ｔ３を有する第３冷却ステップを含み、
前記冷却速度Ｔ２の絶対値は、前記冷却速度Ｔ１およびＴ３の絶対値よりも小さい。
【0026】
さらに、本発明では、好ましくは、ステップ（ｂ２）では、冷却速度Ｔ２の絶対値は、冷却速度Ｔ１の絶対値より小さく、必要に応じて冷却速度Ｔ３の絶対値よりも小さく、１０００から１５００℃、好ましくは１１００から１４００℃、特に好ましくは１２００から１３００℃の温度範囲で行われる。
【0027】
また、好ましくは、ステップ（ｂ２）では、冷却速度Ｔ２の絶対値は、６０Ｋ／分より少なく、好ましくは５０Ｋ／分より少なく、より好ましくは４０Ｋ／分より少なく、更に好ましくは２５Ｋ／分より少なく、更に好ましくは１０Ｋ／分より少なく、最も好ましくは５Ｋ／分より少ない。プロセスの特に好適な実施形態では、ステップ（ｂ２）は、実質的に一定の温度で実施され、すなわち、冷却速度Ｔ２が約０Ｋ／分である。
【0028】
ステップ（ｂ２）は、特に、１から２０分、好ましくは１から１０分、より好ましくは２から８分、特に好ましくは３から７分、最も好ましくは４から６分の期間で実施される。
【0029】
本発明では、冷却速度Ｔ２の絶対値は、冷却速度Ｔ１の絶対値より小さく、必要に応じて冷却速度Ｔ３の絶対値よりも小さい。好適な実施形態では、冷却速度Ｔ１の絶対値は、少なくとも４０Ｋ／分であり、好ましくは少なくとも５０Ｋ／分であり、特に好ましくは少なくとも６０Ｋ／分であり、特に４０から２００Ｋ／分、好適には５０から１００Ｋ／分、特に好ましくは６０から８０Ｋ／分の範囲である。他の好適な実施形態では、冷却速度Ｔ３の絶対値は、少なくとも４０Ｋ／分であり、好ましくは少なくとも５０Ｋ／分、特に好ましくは少なくとも６０Ｋ／分、特に、４０から２００Ｋ／分、好ましくは５０から１００Ｋ／分、特に好ましくは６０から８０ｋ／分の範囲である。特に好適な実施形態では、冷却速度Ｔ１およびＴ３の絶対値は、それぞれ少なくとも４０Ｋ／分であり、好ましくは少なくとも５０Ｋ／分、特に好ましくは少なくとも６０Ｋ／分であり、特に４０から２００Ｋ／分、好適には５０から１００Ｋ／分、特に好ましくは６０から８０Ｋ／分の範囲である。
【0030】
ステップ（ａ）では、好ましくは、酸化セラミック材料は、１１００から１７００℃、好ましくは１３００から１６００℃、より好ましくは１４００から１５５０℃、特に好ましくは１４５０から１５００℃の範囲、最も好ましくは約１４８０℃に加熱される。さらに好ましくは、酸化セラミック材料は、ステップ（ａ）の実施後に、各場合において、酸化セラミック材料の真密度に基づき、９０から９７％の範囲、好ましくは９３から９６％の範囲、特に好ましくは約９５％の相対的密度を有する。
【0031】
好ましくは、酸化セラミック材料は、ステップ（ａ）において、５から５００ｋ／分、好ましくは５０から２５０Ｋ／分、特に好ましくは１００から２００Ｋ／分の範囲である加熱速度で加熱されている。好適な実施形態では、酸化セラミック材料は、最初に、５０から５００Ｋ／分、好ましくは７５から２５０Ｋ／分、特に好ましくは１００から２００Ｋ／分の加熱速度で加熱され、ステップ（ａ）において到達した最大温度よりも１００から８００Ｋ、好ましくは３００から７００Ｋ、特に好ましくは５００から６００Ｋ低い温度に到達し、更に、５から２００Ｋ／分、好ましくは１０から１００Ｋ／分、特に好ましくは２５から５０Ｋ／分の加熱速度で加熱される。
【0032】
ステップ（ｂ）では、好ましくは、酸化セラミック材料は、２０から１３００℃、好ましくは１００から１２５０℃、特に好ましくは１０００から１２００℃の範囲に冷却される。このような温度に到達した後、酸化セラミック材料は、加熱チャンバーから除去され得る。
【0033】
更なる実施形態では、特に好ましくは、プロセスは、ステップ（ａ）における酸化セラミック材料は、
（ａ１）第１加熱処理に供され、
（ａ２）第２加熱処理に供され、
ステップ（ａ１）における加熱処理は、ステップ（ａ２）の加熱処理よりも、低めの圧力で実施されている。
（ａ１）第１加熱処理に供され、
（ａ２）第２加熱処理に供され、
ステップ（ａ１）における加熱処理は、ステップ（ａ２）の加熱処理よりも、低めの圧力で実施されている。
【0034】
好ましくは、ステップ（ａ１）における加熱処理は、２００ｍｂａｒよりも低く、好ましくは１００ｍｂａｒよりも低く、特に好ましくは５０ｍｂａｒよりも低い圧力、特に０．１から２００ｍｂａｒの範囲、好ましくは１から１５０ｍｂａｒの範囲、特に好ましくは５０から１００ｍｂａｒの範囲の圧力で実施される。
【0035】
酸化セラミック材料を加熱し始める前に、当該圧力は、大気圧に設定され得る。代替的に、ステップ（ａ）で定義される圧力が調整される前に、酸化セラミック材料は、まず、室温より高い温度に加熱してよい。この温度は、好ましくは２０から５００℃の範囲であり、特に２５から１００℃の範囲である。
【0036】
ステップ（ａ２）では、好ましくは、酸化セラミック材料は、さらに加熱、保持され、好ましくは一定である、１１００から１７００℃の範囲、特に１３００から１６００℃の範囲、好ましくは１４００から１５５０℃の範囲、より好ましくは１４５０から１５００℃の範囲の温度、最も好ましくは約１４８０℃で焼結される。好ましくは、更なる加熱は、５から２００ｋ／分、特に１０から１００ｋ／分、好ましくは２５から５０ｋ／分の加熱速度で実施される。好ましくは、保持は、１から６０分、特に５から３０分、好ましくは１０から２５分、特に好ましくは１５から２０分で実施される。対応の温度で保持され、酸化セラミック材料は、一般、密に焼結された。その後、各場合において、酸化セラミック材料の真密度に基づき、好ましくは、酸化セラミック材料は少なくとも９７％、特に少なくとも９８％、好ましくは少なくとも９９％、最も好ましくは少なくとも９９．５％の相対的密度を有する。
【0037】
好ましくは、ステップ（ａ２）における加熱処置は、５００ｍｂａｒより大きい圧力、特に大気圧で実施される。
【0038】
好ましくは、ステップ（ａ２）の加熱処置は、酸素含有雰囲気で実施される。特に、空気、酸素富化空気および酸素は、酸素含有雰囲気とみなされてもよい。このような雰囲気を設定するように、加熱処置のために使用される加熱チャンバーは、空気および／または酸素により充填される。好適な実施形態では、酸素含有雰囲気、好ましくは空気、酸素富化空気または酸素、不連続的に、または好ましくは連続的に、ステップ（２）の間の加熱処置に使用される加熱チャンバーを、特に、０．１から５０ ｌ／分、好ましくは１から１０ ｌ／分、特に好ましくは２から５ ｌ／分の流速で通過する。
【0039】
また、好ましくは、ステップ（ａ１）において、酸化セラミック材料は、ステップ（ａ２）において酸化セラミック材料が保持される温度または温度範囲よりも、０から５００Ｋ、特に１０から２５０Ｋ、好ましくは５０から１５０Ｋ、より好ましくは７５から１００Ｋ低い温度に加熱される。
【0040】
好ましくは、本発明によるプロセスで得られた酸化セラミック材料は、１ｎｍから１０００ｎｍ、特に１０ｎｍから８００ｎｍ、好ましくは１００ｎｍから６００ｎｍの範囲の数平均粒径を有する。数平均粒径は、特に、ＤＩＮ ＥＮ ６２３－３またはＡＳＴＭ Ｅ １１２に従う線交差（ｌｉｎｅ ｉｎｔｅｒｓｅｃｔｉｏｎ）方法によって決定することができ、決定された値は、Ｍ．Ｉ．Ｍｅｎｄｅｌｓｏｎ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｅｒａｍ．Ｓｏｃ．１９６９，５２（８），４４３－４４６に基づき、１．５６である比例定数でかけることにより、三次元マイクロ構造における、真の数平均粒径への変換に使用される。
【0041】
本発明に係るプロセスは、種々の酸化セラミック材料に適している。酸化セラミック材料は、酸化物をベースとして通常高い結晶性を有するセラミック材料であり、せいぜい、非常に少ない比率のガラス相を有する。典型的な酸化セラミック材料は、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＭｇＯ、その混合物、固溶系、または、特にＺｒＯ２／Ａｌ２Ｏ３（ＺＴＡ）、Ａｌ２Ｏ３／ＺｒＯ２（ＡＴＺ）またはＺｒＯ２／スピネルであるそれらの複合物であり、スピネルが好ましくはＳｒ－スピネル、Ｍｇ－スピネル、Ｌａ－スピネル、および／またはＣｅ－スピネルである。ＺｒＯ２および／またはＡｌ２Ｏ３をベースとする酸化セラミック材料は、本発明において好適である。
【0042】
ジルコニウム酸化物をベースとし、特に多結晶正方晶系ジルコニウム酸化物（ＴＺＰ）をベースとする酸化セラミック材料は特に好適である。さらに好ましくは、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＭｇＯおよび／またはＣａＯにより安定化されるジルコニウム酸化物をベースとする酸化セラミック材料であり、好ましくは、ジルコニウム酸化物成分をベースとして、２から１２ｍｏｌ％、特に３から６ｍｏｌ％のこれらの酸化物で安定化される。
【0043】
さらに好ましくは、酸化セラミック材料は色付きである。本発明では、酸化セラミック材料に、一つまたはそれより多くの有色元素が添加される。適切な有色元素の例は、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｐｒ、Ｔｂ、Ｅｒ、Ｙｂ、Ｃｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｎｄ、ＣｕおよびＢｉである。好ましくは、酸化セラミック材料は、特にＦｅを含む。特に好ましくは、酸化セラミック材料は、特にそれらの色で異なる少なくとも２つの層を含む。
【0044】
本願の範囲内では、「色」および「色付き」は、材料の色、光度、および／または透光性を意味する。
【0045】
「透光性」は、材料、本体または層の光透過性、例えば、入射光強度に対する透過光強度の比率である。
【0046】
歯科産業に通常使用されるＬ＊ａ＊ｂ＊色空間における色座標Ｌ＊、ａ＊、およびｂ＊により、またはに色コードより、色が特徴付けられる。
【0047】
Ｌ＊ａ＊ｂ色空間において、Ｌ＊値が、０（黒色）から１００（白色）までの値を有する色の輝度を表現しており、ａ＊値が、色の緑色または赤色の成分を表現し、負の値が緑色を表し、正の値が赤色を表し、ｂ＊値が、色の青色または黄色の成分を表現し、負の値が青色を表し、正の値が黄色を表す。色彩の違いは、ΔＥ＊値により、Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間において表現され得、ΔＥ＊値は、下記式
ΔＥ＊＝√（（ΔＬ＊）２＋（Δａ＊）２＋（Δｂ＊）２）
により計算される。
ΔＥ＊＝√（（ΔＬ＊）２＋（Δａ＊）２＋（Δｂ＊）２）
により計算される。
【0048】
通常歯科産業において使用される色彩コードの例は、ＶＩＴＡ Ｚａｈｎｆａｂｒｉｋ Ｈ．Ｒａｕｔｅｒ ＧｍｂＨ＆Ｃｏ．ＫＧからのＶｉｔａｐａｎ ｃｌａｓｓｉｃａｌ（登録商標）およびＶｉｔａ ３Ｄ Ｍａｓｔｅｒ（登録商標）、およびＩｖｏｃｌａｒ Ｖｉｖａｄｅｎｔ ＡＧからのＣｈｒｏｍａｓｃｏｐ（登録商標）である。透光性は、対比値ＣＲで特徴付けられ得、０％が完全透明を意味し、１００％が完全不透明を意味する。
【0049】
通常、色座標Ｌ＊、ａ＊およびｂ＊は、ＤＩＮ ５０３３およびＤＩＮ ６１７４に基づいて決定され、透光性は、ＢＳ ５６１２に基づいて決定される。対応する測定値は、特に、ＣＭ－３７００ｄ型（Ｋｏｎｉｃａ－Ｍｉｎｏｌｔａ社）の分光光度計により実施され得る。この目的のために、検体が測定のために使用され、ダイヤモンド粒子（粒子サイズが１５から２０μｍ）で検体の両面が湿式粉砕され、２．００±０．０２５ｍｍの最終検体厚みを得る。
【0050】
好ましくは、本発明により得られた歯科修復物の単色または多色は、自然の歯の色の範囲に属する。特に好ましくは、本発明により得られた歯科修復物は、５０から１００の範囲、特に８０から９７の範囲であるＬ＊値、－１０から１０の値の範囲、特に、－１から５の範囲のａ＊値、０から５０の範囲、特に１から２０の範囲におけるａｂ＊値、および／または、５０から１００％の範囲、特に７５から９９％の範囲のＣＲ値を有する。
【0051】
本発明によるプロセスは、歯科修復物の調製に特に適している。特に好適には、歯科修復物は、ブリッジ、インレー、オンレイ、クラウン、ベニヤ、ファセットおよびアバットメントである。本発明によるプロセスは、特に歯科修復物の調製のために適しており、特にブリッジであり、二つまたはそれより以上の部材を含む。
【0052】
本発明は、さらに、歯科修復物の調製のための酸化セラミック材料の使用にも関しており、酸化セラミック材料は、
（ａ）少なくとも１つの加熱処理に供され、
（ｂ）冷却され、
前記冷却は、
（ｂ１）冷却速度Ｔ１を有する第１冷却ステップ、および
（ｂ２）冷却速度Ｔ２を有する第２冷却ステップ
を含み、前記冷却速度Ｔ２の絶対値は、前記冷却速度Ｔ１の絶対値より小さい。
（ａ）少なくとも１つの加熱処理に供され、
（ｂ）冷却され、
前記冷却は、
（ｂ１）冷却速度Ｔ１を有する第１冷却ステップ、および
（ｂ２）冷却速度Ｔ２を有する第２冷却ステップ
を含み、前記冷却速度Ｔ２の絶対値は、前記冷却速度Ｔ１の絶対値より小さい。
【0053】
使用の好適な実施形態は、本発明によるプロセスにおいて既に説明されている。
【0054】
本発明は、下記実施例を参照して詳細に説明される。
【実施例0055】
（実施例１Ａから１Ｆ）
直径２４ｍｍ、高さ２．９ｍｍの試験検体は、９．２３ｗｔ．％のＹ２Ｏ３、０．０４５ｗｔ．％のＡｌ２Ｏ３、および０．２５ｗｔ．％のＦｅ２Ｏ３（Ｔｏｓｏｈ社からのＺｐｅｘスマイルイエロー）を含む、市販のジルコニアベース酸化セラミック材料から作製されており、１５０ＭＰａの圧力で、単軸にプレスして、１０００℃で２時間熱処理を受けた。
直径２４ｍｍ、高さ２．９ｍｍの試験検体は、９．２３ｗｔ．％のＹ２Ｏ３、０．０４５ｗｔ．％のＡｌ２Ｏ３、および０．２５ｗｔ．％のＦｅ２Ｏ３（Ｔｏｓｏｈ社からのＺｐｅｘスマイルイエロー）を含む、市販のジルコニアベース酸化セラミック材料から作製されており、１５０ＭＰａの圧力で、単軸にプレスして、１０００℃で２時間熱処理を受けた。
【0056】
試験検体は、ＭｏＳｉ２加熱エレメントを有する焼結炉において焼結を受けた。この目的のために、試験検体を室温で焼結炉の加熱チャンバー内に配置し、加熱チャンバーを閉じ、加熱チャンバー内において約５０から１００ｍｂａｒの最終的な圧力を有する部分真空を設けた。試験検体を、約１３０ｋ／分の加熱速度で約９００℃の温度に、その後、約５０ｋ／分の加熱速度で約１２２０℃の温度に、さらに、約１０Ｋ／分の加熱速度で約１４００℃の温度に加熱した。この温度に到達し、加熱チャンバーは、新鮮な空気で流して、その後、約２．２ ｌ／分の流速で新鮮な空気を連続的に通過させながら、試験検体をさらに、約１０ｋ／分の加熱速度で１４８０℃の温度に加熱して、この温度で約１７分間保持した。その後、表１に従い、試験検体は、約７０ｋ／分の冷却速度で、温度Ｔに冷却して、この温度でｔ分の期間で保持し、さらに、約７０Ｋ／分の冷却速度で約１２００℃の温度に冷却した。加熱チャンバーは、その後開放した。焼結プロセスの総持続期間は、６４から６６分間であった。
【0057】
実施例１Ｇ（比較）
実施例１Ａと同様であったが、検体を、中断することなく連続的に約７０Ｋ／分の冷却速度で１４８０℃から１２００℃に冷却した。焼結プロセスの総持続期間は、約６０分間であった。
実施例１Ａと同様であったが、検体を、中断することなく連続的に約７０Ｋ／分の冷却速度で１４８０℃から１２００℃に冷却した。焼結プロセスの総持続期間は、約６０分間であった。
【0058】
実施例１Ｈ（比較）
実施例１Ａと同様であったが、遅い焼結プロセスを用いた。この目的のため、試験検体は、約１０Ｋ／分の加熱速度で、約９００℃の温度に加熱し、この温度で３０分間保持し、さらに、約３Ｋ／分の加熱速度で約１５００℃に加熱して、この温度で約１２０分間保持した。その後、試験検体は、約１０Ｋ／分の冷却速度で、９００℃に冷却し、さらに、約８Ｋ／分の冷却速度で３００℃に冷却した。加熱チャンバーは、その後開放した。焼結プロセスの総期間は、約５７５分間であった。
実施例１Ａと同様であったが、遅い焼結プロセスを用いた。この目的のため、試験検体は、約１０Ｋ／分の加熱速度で、約９００℃の温度に加熱し、この温度で３０分間保持し、さらに、約３Ｋ／分の加熱速度で約１５００℃に加熱して、この温度で約１２０分間保持した。その後、試験検体は、約１０Ｋ／分の冷却速度で、９００℃に冷却し、さらに、約８Ｋ／分の冷却速度で３００℃に冷却した。加熱チャンバーは、その後開放した。焼結プロセスの総期間は、約５７５分間であった。
【0059】
実施例１Ａ－Ｈで得られた酸化セラミック材料のＣＲ値および色座標は、表１に示されている。本発明による実施例１Ａから１Ｆは、早い焼結プロセスを用いて得られた実施例１Ｇと比べて、顕著に高いａ＊値およびｂ＊値を示し、ａ＊値は、一貫して正の範囲である。その結果、これらの実施例は、天然歯科材料の色特性を模倣するためにより適している。同様に、本発明による実施例１Ａから１Ｆに使用される焼結プロセスは、実施例１Ｈによる遅い焼結プロセスの期間の約１０分の１に過ぎない。
＊（比較）
【表1】
【外国語明細書】