特開2023-3394酸化物半導体スパッタリング用ターゲット及びこれを利用した薄膜トランジスターの製造方法

発明の名称　酸化物半導体スパッタリング用ターゲット及びこれを利用した薄膜トランジスターの製造方法

出願人　ケイブイマテリアルズ株式会社　（識別番号 522015294）

　　　　特許公開件数ランキング 14225 位（0件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 12103 位（0件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2023-3394

公報発行日　2023年1月11

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2023-3394

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