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特開2023-36684フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を製造する方法
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023036684
(43)【公開日】2023-03-14
(54)【発明の名称】フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を製造する方法
(51)【国際特許分類】
C01B 39/48 20060101AFI20230307BHJP
B01J 29/70 20060101ALI20230307BHJP
B01J 37/10 20060101ALI20230307BHJP
B01D 53/94 20060101ALI20230307BHJP
【ＦＩ】
C01B39/48 ZAB
B01J29/70 A
B01J29/70 Z
B01J37/10
B01D53/94 222
【審査請求】有
【請求項の数】15
【出願形態】ＯＬ
【外国語出願】
(21)【出願番号】P 2022197830
(22)【出願日】2022-12-12
(62)【分割の表示】P 2019563088の分割
【原出願日】2018-05-15
(31)【優先権主張番号】17171040.3
(32)【優先日】2017-05-15
(33)【優先権主張国・地域又は機関】EP
(71)【出願人】
【識別番号】505470786
【氏名又は名称】ビーエーエスエフ コーポレーション
(74)【代理人】
【識別番号】100100354
【弁理士】
【氏名又は名称】江藤 聡明
(74)【代理人】
【識別番号】100167106
【弁理士】
【氏名又は名称】倉脇 明子
(74)【代理人】
【識別番号】100194135
【弁理士】
【氏名又は名称】山口 修
(74)【代理人】
【識別番号】100206069
【弁理士】
【氏名又は名称】稲垣 謙司
(74)【代理人】
【識別番号】100185915
【弁理士】
【氏名又は名称】長山 弘典
(72)【発明者】
【氏名】マクガイア，ロバート
(72)【発明者】
【氏名】モイニ，アーマド
(72)【発明者】
【氏名】ミュラー，ウルリヒ
(57)【要約】 （修正有）
【課題】フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を製造する方法を提供する。
【解決手段】フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、及び酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を製造する方法であって、（ｉ）フレームワークタイプＣＨＡを有し４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、及び酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、（ｉｉ）（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外の４価の元素Ｙの供給源、及びＡＥＩフレームワーク構造指向剤を含む合成混合物を製造する工程と、（ｉｉｉ）（ｉｉ）において製造された合成混合物を、合成混合物を１００～２００℃の範囲の温度に加熱し、自生圧力下に維持することを含む水熱合成条件にかけ、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を得る工程とを含む、方法。
【選択図】なし
【解決手段】フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、及び酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を製造する方法であって、（ｉ）フレームワークタイプＣＨＡを有し４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、及び酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、（ｉｉ）（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外の４価の元素Ｙの供給源、及びＡＥＩフレームワーク構造指向剤を含む合成混合物を製造する工程と、（ｉｉｉ）（ｉｉ）において製造された合成混合物を、合成混合物を１００～２００℃の範囲の温度に加熱し、自生圧力下に維持することを含む水熱合成条件にかけ、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を得る工程とを含む、方法。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を製造する方法であって、
（ｉ）フレームワークタイプＣＨＡを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、
（ｉｉ）（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外の４価の元素Ｙの供給源、およびＡＥＩフレームワーク構造指向剤を含む合成混合物を製造する工程と、
（ｉｉｉ）（ｉｉ）において製造された合成混合物を、合成混合物を１００～２００℃の範囲の温度に加熱し、この範囲の温度で自生圧力下に維持することを含む水熱合成条件にかけ、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を得る工程と
を含み、
Ｙは、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒの１種または複数であり、
Ｘは、Ａｌ、Ｂ、Ｇａ、Ｉｎの１種または複数であり、
（ｉ）において用意されたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｙ：Ｘは、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して最大でも２０：１であり、
（ｉｉｉ）にかけられる、（ｉｉ）において製造された合成混合物が、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外のＡｌの供給源を含まない、
方法。
（ｉ）フレームワークタイプＣＨＡを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、
（ｉｉ）（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外の４価の元素Ｙの供給源、およびＡＥＩフレームワーク構造指向剤を含む合成混合物を製造する工程と、
（ｉｉｉ）（ｉｉ）において製造された合成混合物を、合成混合物を１００～２００℃の範囲の温度に加熱し、この範囲の温度で自生圧力下に維持することを含む水熱合成条件にかけ、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を得る工程と
を含み、
Ｙは、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒの１種または複数であり、
Ｘは、Ａｌ、Ｂ、Ｇａ、Ｉｎの１種または複数であり、
（ｉ）において用意されたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｙ：Ｘは、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して最大でも２０：１であり、
（ｉｉｉ）にかけられる、（ｉｉ）において製造された合成混合物が、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外のＡｌの供給源を含まない、
方法。
【請求項2】
ＹがＳｉであり、ＸがＡｌであり、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料のフレームワークの好ましくは少なくとも９８質量％、より好ましくは少なくとも９９質量％、より好ましくは少なくとも９９．５質量％が、Ｙ、Ｘ、Ｏ、およびＨからなる、請求項１に記載の方法。
【請求項3】
（ｉ）において用意されたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｙ：Ｘが、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して３：１～２０：１の範囲、好ましくは４：１～１５：１の範囲、より好ましくは５：１～１０：１の範囲である、請求項１または２に記載の方法。
【請求項4】
ＹがＳｉであり、（ｉｉ）による４価の元素Ｙの供給源が、湿式法シリカ、乾式法シリカ、およびコロイダルシリカの１種または複数、好ましくはコロイダルシリカを含み、ＡＥＩフレームワーク構造指向剤が、１種もしくは複数の第四級ホスホニウムカチオン含有化合物および／または１種もしくは複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物を含み、１種または複数のホスホニウムカチオン含有化合物は、１種または複数のＲ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４Ｐ＋含有化合物を含み、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４は互いに独立して、任意に置換されたおよび／または任意に分枝状の（Ｃ１～Ｃ６）アルキル、好ましくは（Ｃ１～Ｃ５）アルキル、より好ましくは（Ｃ１～Ｃ４）アルキル、より好ましくは（Ｃ２～Ｃ３）アルキル、さらにより好ましくは任意に置換されたメチルまたはエチルを表し、さらにより好ましくはＲ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４は、任意に置換されたエチル、好ましくは非置換エチルを表し、１種または複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、１種または複数のＮ，Ｎ－ジアルキル－ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物、好ましくは１種または複数のＮ，Ｎ－（Ｃ１～Ｃ３）ジアルキル－（Ｃ１～Ｃ３）ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物、より好ましくは１種または複数のＮ，Ｎ－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキル－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物を含み、より好ましくは、１種または複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、Ｎ，Ｎ－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキル－２，６－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオンおよびＮ，Ｎ－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキル－３，５－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物からなる群、より好ましくはＮ，Ｎ－ジメチル－２，６－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオンおよびＮ，Ｎ－ジメチル－３，５－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキル－ピペリジニウムカチオン含有化合物からなる群、より好ましくはＮ，Ｎ－ジメチル－２，６－ジメチルピペリジニウムカチオンおよびＮ，Ｎ－ジメチル－３，５－ジメチル－ピペリジニウムカチオン含有化合物からなる群から選択され、１種もしくは複数の第四級ホスホニウムカチオン含有化合物および／または１種もしくは複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、好ましくはハロゲン化物、好ましくは塩化物および／または臭化物、より好ましくは塩化物；水酸化物；硫酸塩；硝酸塩；リン酸塩；酢酸塩；ならびにそれらの２種以上の混合物からなる群、より好ましくは塩化物、水酸化物、硫酸塩、およびそれらの２種以上の混合物からなる群から選択される塩であり、より好ましくは、１種もしくは複数の第四級ホスホニウムカチオン含有化合物および／または１種もしくは複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、水酸化物および／または塩化物、さらにより好ましくは水酸化物であり、ＡＥＩフレームワーク構造指向剤が、Ｎ，Ｎ－ジメチル－３，５－ジメチルピペリジニウム水酸化物を含み、好ましくはそれである、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項5】
（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物において、ゼオライト系材料の４価の元素Ｙの供給源に対する質量比が、ＹＯ２として計算して１．０：１～３．０：１の範囲、好ましくは１．５：１～２．５の範囲、より好ましくは２．０：１～２．２：１の範囲であり、ゼオライト系材料の水に対する質量比が、０．００５：１～０．０３０：１の範囲、好ましくは０．０１０：１～０．０２５：１の範囲、より好ましくは０．０１５：１～０．０２０：１の範囲であり、ゼオライト系材料のＡＥＩフレームワーク構造指向剤に対する質量比が、０．１：１～０．９：１の範囲、好ましくは０．３：１～０．７：１の範囲、より好ましくは０．４：１～０．５：１の範囲である、請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項6】
（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物が、塩基の供給源、好ましくは水酸化物の供給源を追加的に含み、（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物において、ゼオライト系材料の塩基の供給源に対する質量比が、好ましくは０．１：１～１．０：１の範囲、より好ましくは０．２：１～０．８：１の範囲、より好ましくは０．３：１～０．６：１の範囲である、請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項7】
水熱合成温度が、１１０～１７５℃の範囲、好ましくは１２０～１５０℃の範囲であり、水熱合成条件が、水熱合成時間、好ましくは２～１２０時間の範囲、より好ましくは２０～１００時間の範囲、より好ましくは４０～８０時間の範囲を含む、請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項8】
（ｉｖ）（ｉｉｉ）から得られた混合物を、好ましくは１０～５０℃の範囲、より好ましくは２０～３５℃の範囲の温度に冷却する工程と、
（ｖ）ゼオライト系材料を、（ｉｖ）から得られた混合物から分離する工程と、
（ｖｉ）（ｖ）から得られたゼオライト系材料を、好ましくは４００～６００℃の範囲、好ましくは４５０～５５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程と
をさらに含み、
（ｖ）は、好ましくは
（ｖ．１）（ｉｖ）から得られた混合物を、濾過方法または噴霧方法を好ましくは含む固液分離方法にかける工程と、
（ｖ．２）好ましくは、（ｖ．１）から得られたゼオライト系材料を洗浄する工程と、
（ｖ．３）（ｖ．１）または（ｖ．２）、好ましくは（ｖ．２）から得られたゼオライト系材料を、好ましくは８０～１７５℃の範囲、好ましくは１００～１５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で乾燥する工程と
を含む、請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
（ｖ）ゼオライト系材料を、（ｉｖ）から得られた混合物から分離する工程と、
（ｖｉ）（ｖ）から得られたゼオライト系材料を、好ましくは４００～６００℃の範囲、好ましくは４５０～５５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程と
をさらに含み、
（ｖ）は、好ましくは
（ｖ．１）（ｉｖ）から得られた混合物を、濾過方法または噴霧方法を好ましくは含む固液分離方法にかける工程と、
（ｖ．２）好ましくは、（ｖ．１）から得られたゼオライト系材料を洗浄する工程と、
（ｖ．３）（ｖ．１）または（ｖ．２）、好ましくは（ｖ．２）から得られたゼオライト系材料を、好ましくは８０～１７５℃の範囲、好ましくは１００～１５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で乾燥する工程と
を含む、請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項9】
（ｖｉｉ）金属Ｍをゼオライト系材料、好ましくは（ｖｉ）から得られたゼオライト系材料に担持させる工程
をさらに含み、
金属Ｍは、元素周期系の第７族～第１２族の遷移金属、好ましくはＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、およびＺｎの１種または複数、好ましくはＦｅおよびＣｕの１種または複数、より好ましくはＣｕである、請求項１から８のいずれか一項に記載の方法。
をさらに含み、
金属Ｍは、元素周期系の第７族～第１２族の遷移金属、好ましくはＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、およびＺｎの１種または複数、好ましくはＦｅおよびＣｕの１種または複数、より好ましくはＣｕである、請求項１から８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項10】
（ｖｉｉ）が、
（ｖｉｉ．１）ゼオライト系材料、好ましくは（ｖｉ）から得られたゼオライト系材料、金属Ｍの供給源、金属Ｍの供給源のための溶媒、および任意に酸、好ましくは有機酸を含む混合物を製造する工程であって、溶媒は、好ましくは水を含み、金属Ｍの供給源は、好ましくは金属Ｍの塩を含み、酸は、好ましくは酢酸を含む、工程と、
（ｖｉｉ．２）（ｖｉｉ．１）において製造された混合物を、３０～９０℃の範囲、好ましくは４０～８０℃の範囲の温度に加熱する工程と、
（ｖｉｉ．３）（ｖｉｉ．２）から得られた混合物を好ましくは冷却し、より好ましくは急速冷却する工程と、
（ｖｉｉ．４）金属Ｍを含むゼオライト系材料を、（ｖｉｉ．２）または（ｖｉｉ．３）、好ましくは（ｖｉｉ．３）から得られた混合物から分離する工程であって、好ましくは、金属Ｍを含むゼオライト系材料を洗浄する工程を含む、工程と、
（ｖｉｉ．５）好ましくは、（ｖｉｉ．４）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料をガス雰囲気中、好ましくは９０～２００℃の範囲、より好ましくは１００～１５０℃の範囲のガス雰囲気の温度で乾燥する工程であって、ガス雰囲気は、好ましくは酸素を含む、工程と、
（ｖｉｉ．６）好ましくは、（ｖｉｉ．４）または（ｖｉｉ．５）、好ましくは（ｖｉｉ．５）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料をガス雰囲気中、好ましくは３５０～６００℃の範囲、より好ましくは４００～５５０℃の範囲のガス雰囲気の温度でか焼する工程であって、ガス雰囲気は、好ましくは酸素を含む、工程と
を含む、請求項９に記載の方法。
（ｖｉｉ．１）ゼオライト系材料、好ましくは（ｖｉ）から得られたゼオライト系材料、金属Ｍの供給源、金属Ｍの供給源のための溶媒、および任意に酸、好ましくは有機酸を含む混合物を製造する工程であって、溶媒は、好ましくは水を含み、金属Ｍの供給源は、好ましくは金属Ｍの塩を含み、酸は、好ましくは酢酸を含む、工程と、
（ｖｉｉ．２）（ｖｉｉ．１）において製造された混合物を、３０～９０℃の範囲、好ましくは４０～８０℃の範囲の温度に加熱する工程と、
（ｖｉｉ．３）（ｖｉｉ．２）から得られた混合物を好ましくは冷却し、より好ましくは急速冷却する工程と、
（ｖｉｉ．４）金属Ｍを含むゼオライト系材料を、（ｖｉｉ．２）または（ｖｉｉ．３）、好ましくは（ｖｉｉ．３）から得られた混合物から分離する工程であって、好ましくは、金属Ｍを含むゼオライト系材料を洗浄する工程を含む、工程と、
（ｖｉｉ．５）好ましくは、（ｖｉｉ．４）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料をガス雰囲気中、好ましくは９０～２００℃の範囲、より好ましくは１００～１５０℃の範囲のガス雰囲気の温度で乾燥する工程であって、ガス雰囲気は、好ましくは酸素を含む、工程と、
（ｖｉｉ．６）好ましくは、（ｖｉｉ．４）または（ｖｉｉ．５）、好ましくは（ｖｉｉ．５）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料をガス雰囲気中、好ましくは３５０～６００℃の範囲、より好ましくは４００～５５０℃の範囲のガス雰囲気の温度でか焼する工程であって、ガス雰囲気は、好ましくは酸素を含む、工程と
を含む、請求項９に記載の方法。
【請求項11】
（ｖｉｉ）によれば、金属Ｍが、元素Ｍとして計算して、ゼオライト系材料の全質量に対して０．１～５質量％の範囲、好ましくは０．２～４質量％の範囲、より好ましくは０．５～３質量％の範囲の量でゼオライト系材料に担持されている、請求項９または１０に記載の方法。
【請求項12】
請求項１から１１のいずれか一項に記載の方法によって得られうるもしくは得られたまたは製造されうるもしくは製造された、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含み、金属Ｍを任意に含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料であって、酸性部位の全量が１．０～２．０ｍｍｏｌ／ｇの範囲であり、中酸性部位の量が０．１～０．８ｍｍｏｌ／ｇの範囲であり、酸性部位の全量は、アンモニアの昇温脱離に従って決定して、ゼオライト系材料の１質量（ｍａｓｓ）当たりの脱離したアンモニアの全モル量と定義され、中酸性部位の量は、２５０～５００℃の温度範囲におけるアンモニアの昇温脱離に従って決定して、ゼオライト系材料の１質量（ｍａｓｓ）当たりの脱離したアンモニアの量と定義される、ゼオライト系材料。
【請求項13】
請求項１２に記載のゼオライト系材料を触媒活性材料、触媒、または触媒成分として使用する方法。
【請求項14】
排ガス流、好ましくはディーゼルエンジンからの排ガス流中の酸化窒素の選択的接触還元のために使用する、請求項１３に記載の方法。
【請求項15】
Ｃ１化合物から１種もしくは複数のオレフィンへの転換、好ましくはメタノールから１種もしくは複数のオレフィンへの転換、または一酸化炭素と水素を含む合成ガスから１種もしくは複数のオレフィンへの転換のために使用する、請求項１３に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を製造する方法に関する。さらに、本発明は、前記方法によって得られうるまたは得られた、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料に関し、さらに、前記ゼオライト系材料を触媒活性材料、触媒、または触媒成分として使用する方法にも関する。
【背景技術】
【0002】
フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料は、工業用途における燃焼排ガスを処理する、例えば排ガス流中の酸化窒素（ＮＯｘ）を転換するための触媒または触媒成分として潜在的に有効であることが知られている。合成ＡＥＩゼオライト系材料は通常、ケイ素の供給源やアルミニウムの供給源などゼオライトフレームワークを構築する元素の供給源を含む合成混合物からゼオライト系材料の結晶を沈降させることによって生成される。代替手法は、ゼオライトフレームワーク転換による製造でありうる。その変換に従って、ＡＥＩ以外のフレームワークタイプを有する好適なゼオライト系材料である出発物質が適切に反応して、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料が得られる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】国際公開第２０１３／０６８９７６号
【特許文献2】国際公開第２０１３／１８２９７４号
【非特許文献】
【0004】
【非特許文献1】Ｄｉｎｎｅｂｉｅｒ，Ｒ．Ｅ．、Ｂｉｌｌｉｎｇｅ Ｓ．Ｊ．Ｌ．（編）「Ｐｏｗｄｅｒ ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ：ｔｈｅｏｒｙ ａｎｄ ｐｒａｃｔｉｃｅ」中のＭａｄｓｅｎ，Ｉ．Ｃ．、Ｓｃａｒｌｅｔｔ，Ｎ．Ｖ．Ｙ．（２００８年）「Ｑｕａｎｔｉｔａｔｉｖｅ ｐｈａｓｅ ａｎａｌｙｓｉｓ」、Ｔｈｅ Ｒｏｙａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｃａｍｂｒｉｄｇｅ、２９８～３３１頁
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本発明によれば、そのような転換には、フレームワークタイプＣＨＡを有するゼオライト系材料が使用されるが、すべてのＣＨＡ材料が適しているというわけではないことが判明した。したがって、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を製造するのに使用することができるフレームワークタイプＣＨＡを有する好適なゼオライト系材料を見出すことが本発明の目的であった。驚くべきことに、フレームワークタイプＣＨＡを有する前記ゼオライト系材料を使用することができるか否かは、フレームワークタイプＣＨＡを有するゼオライト系材料のフレームワークの組成に依存することが判明した。
【課題を解決するための手段】
【0006】
したがって、本発明は、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を製造する方法であって、
（ｉ）フレームワークタイプＣＨＡを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、
（ｉｉ）（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外の４価の元素Ｙの供給源、およびＡＥＩフレームワーク構造指向剤を含む合成混合物を製造する工程と、
（ｉｉｉ）（ｉｉ）において製造された合成混合物を、合成混合物を１００～２００℃の範囲の温度に加熱し、この範囲の温度で自生圧力下に維持することを含む水熱合成条件にかけ、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を得る工程と
を含み、
Ｙは、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒの１種または複数であり、
Ｘは、Ａｌ、Ｂ、Ｇａ、Ｉｎの１種または複数であり、
（ｉ）において用意されたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｙ：Ｘは、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して最大でも２０：１である、方法に関する。
（ｉ）フレームワークタイプＣＨＡを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、
（ｉｉ）（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外の４価の元素Ｙの供給源、およびＡＥＩフレームワーク構造指向剤を含む合成混合物を製造する工程と、
（ｉｉｉ）（ｉｉ）において製造された合成混合物を、合成混合物を１００～２００℃の範囲の温度に加熱し、この範囲の温度で自生圧力下に維持することを含む水熱合成条件にかけ、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を得る工程と
を含み、
Ｙは、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒの１種または複数であり、
Ｘは、Ａｌ、Ｂ、Ｇａ、Ｉｎの１種または複数であり、
（ｉ）において用意されたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｙ：Ｘは、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して最大でも２０：１である、方法に関する。
【図面の簡単な説明】
【0007】
【図1】実施例１によるゼオライト系材料のＸＲＤパターンを示す図である。
【図2】実施例１によるゼオライト系材料のＳＥＭ写真を示す図である。
【図3】実施例２によるゼオライト系材料のＸＲＤパターンを示す図である。
【図4】実施例２によるゼオライト系材料のＳＥＭ写真を示す図である。
【図5】実施例２において用意された天然ＣＨＡ材料のＳＥＭ写真を示す図である。
【図6】実施例２において用意された天然ＣＨＡ材料のＸＲＤパターンを示す図である。
【図7】実施例２において用意された天然ＣＨＡ材料の水吸収等温線を示す図である。
【図8】比較例３に従って得られた組成物のＸＲＤパターンを示す図である。
【図9】比較例３に従って得られた組成物のＳＥＭ写真を示す図である。
【図10】比較例２のａ）に従って用意されたゼオライト系材料のＳＥＭ写真を示す図である。
【図11】２０１７年５月１２日の状態のｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｉｚａ－ｏｎｌｉｎｅ．ｏｒｇ／ｎａｔｕｒａｌ／Ｄａｔａｓｈｅｅｔｓ／Ｃｈａｂａｚｉｔｅ／ｃｈａｂａｚｉｔｅ．ｈｔｍに「化学組成」の節で示されているように、天然ゼオライト系材料の化学組成（Ｒ２＋－Ｒ＋－Ｓｉ組成プロット）を示す図である。
【図12】２０１７年５月１２日の状態のｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｉｚａ－ｏｎｌｉｎｅ．ｏｒｇ／ｎａｔｕｒａｌ／Ｄａｔａｓｈｅｅｔｓ／Ｃｈａｂａｚｉｔｅ／ｃｈａｂａｚｉｔｅ．ｈｔｍに「化学組成」の節で示されているように、天然ゼオライト系材料の化学組成（Ｎａ－Ｃａｓ－Ｋプロット）を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0008】
好ましくは、フレームワーク構造は、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、酸素、およびＨを含む。好ましくは、Ｙは、Ｓｉである。好ましくは、ＸはＡｌである。より好ましくは、ＹはＳｉであり、ＸはＡｌである。
【0009】
４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素、ならびに好ましくはＨに加えて、（ｉ）において用意されたフレームワークタイプＣＨＡを有するゼオライト系材料は、１種または複数のさらなる追加の成分を含むことができる。（ｉ）において用意されたゼオライト系材料のフレームワークの好ましくは少なくとも９５質量％、より好ましくは少なくとも９８質量％、より好ましくは少なくとも９９質量％、より好ましくは少なくとも９９．５質量％は、Ｙ、Ｘ、Ｏ、およびＨからなる。
【0010】
好ましくは、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料は、Ｃｕを含まない。特に非天然ゼオライト系材料が（ｉ）において用意された場合、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料は、好ましくはＣｕおよびＦｅの１種または複数を含まず、より好ましくはＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、およびＺｎの１種または複数を含まず、より好ましくはＹまたはＸが金属である場合、ＹおよびＸ以外の金属Ｍを含まない。好ましくは、（ｉ）において用意されたフレームワークタイプＣＨＡを有するゼオライト系材料のＣｕに関する含有量は、元素として計算して、ゼオライト系材料の全質量に対して最大でも５００質量ｐｐｍ、好ましくは最大でも１００質量ｐｐｍである。特に非天然ゼオライト系材料が（ｉ）において用意された場合、（ｉ）において用意されたフレームワークタイプＣＨＡを有するゼオライト系材料のＣｕおよびＦｅの１種または複数に関する含有量はそれぞれ元素として計算して、より好ましくはＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、およびＺｎの１種または複数に関する含有量はそれぞれ元素として計算して、より好ましくはＹまたはＸが金属である場合、ＹおよびＸ以外の金属Ｍに関する含有量は、元素として計算して、ゼオライト系材料の全質量に対して最大でも５００質量ｐｐｍ、好ましくは最大でも１００質量ｐｐｍである。
【0011】
（ｉ）において用意されたフレームワークタイプＣＨＡを有するゼオライト系材料において、モル比Ｙ：Ｘは、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して、好ましくは３：１～２０：１の範囲、好ましくは４：１～１５：１の範囲、より好ましくは５：１～１０：１の範囲である。好ましい範囲は、例えば５：１～７：１または６：１～８：１または７：１～９：１または８：１～１０：１である。
【0012】
したがって、本発明は好ましくは、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を製造する方法、好ましくは本明細書に上述された方法であって、
（ｉ）フレームワークタイプＣＨＡを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、
（ｉｉ）（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外の４価の元素Ｙの供給源、およびＡＥＩフレームワーク構造指向剤を含む合成混合物を製造する工程と、
（ｉｉｉ）（ｉｉ）において製造された合成混合物を、合成混合物を１００～２００℃の範囲の温度に加熱し、この範囲の温度で自生圧力下に維持することを含む水熱合成条件にかけ、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を得る工程と
を含み、
ＹはＳｉであり、
ＸはＡｌであり、
（ｉ）において用意されたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｙ：Ｘは、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して５：１～１０：１の範囲である、方法に関する。
（ｉ）フレームワークタイプＣＨＡを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、
（ｉｉ）（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外の４価の元素Ｙの供給源、およびＡＥＩフレームワーク構造指向剤を含む合成混合物を製造する工程と、
（ｉｉｉ）（ｉｉ）において製造された合成混合物を、合成混合物を１００～２００℃の範囲の温度に加熱し、この範囲の温度で自生圧力下に維持することを含む水熱合成条件にかけ、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を得る工程と
を含み、
ＹはＳｉであり、
ＸはＡｌであり、
（ｉ）において用意されたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｙ：Ｘは、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して５：１～１０：１の範囲である、方法に関する。
【0013】
本発明の文脈では、（ｉ）において用意されたフレームワークタイプＣＨＡを有するゼオライト系材料は、好ましくはか焼ゼオライト系材料、より好ましくはガス雰囲気中、３５０～６００℃の範囲、好ましくは４００～５５０℃の範囲のガス雰囲気温度でか焼されたゼオライト系材料である。好ましくは、ガス雰囲気は、酸素を含む。より好ましくは、ガス雰囲気は、空気、希薄空気、または工業用窒素などの窒素、より好ましくは空気を含む。より好ましくは、ガス雰囲気は、空気である。
【0014】
一般に、ゼオライト系材料は、そのアンモニウムの形、その水素の形（Ｈの形）、またはそのナトリウムの形などいずれか他の好適なカチオンの形で提供されることが考えられうる。好ましくは、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料は、その水素（Ｈ）の形である。
【0015】
本発明によれば、フレームワークタイプＣＨＡを有する天然ゼオライト系材料を使用することが有利でありうる。一般に、フレームワークタイプＣＨＡを有する天然ゼオライト系材料は、とりわけ本明細書の図１１に示す化学組成を有することができ、本発明の文脈では、シリカ：アルミナ比が最大でも２０：１、好ましくは３：１～２０：１の範囲、より好ましくは４：１～１５：１の範囲、より好ましくは５：１～１０：１の範囲である、フレームワークタイプＣＨＡを有するそのような天然ゼオライト系材料が使用される。
【0016】
本発明の方法の工程（ｉｉ）の文脈において、（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物は、好ましくはフレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を含まない。より好ましくは、（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物は、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系シード材料を含まない。
【0017】
一般に、（ｉｉ）によれば、４価の元素Ｙのいずれか好適な供給源を使用することができる。特にＹがＳｉである場合、Ｙの供給源は、湿式法シリカ、乾式法シリカ、およびコロイダルシリカの１種または複数を含み、より好ましくはそれらの１種または複数である。コロイダルシリカは、好ましくはアルカリ性および／またはアンモニア性溶液、より好ましくはアンモニア性溶液として、とりわけ、例えばＬｕｄｏｘ（登録商標）、Ｓｙｔｏｎ（登録商標）、Ｎａｌｃｏ（登録商標）またはＳｎｏｗｔｅｘ（登録商標）として市販されている。「湿式法」シリカは、とりわけ、例えばＨｉ－Ｓｉｌ（登録商標）、Ｕｌｔｒａｓｉｌ（登録商標）、Ｖｕｌｃａｓｉｌ（登録商標）、Ｓａｎｔｏｃｅｌ（登録商標）、Ｖａｌｒｏｎ－Ｅｓｔｅｒｓｉｌ（登録商標）、Ｔｏｋｕｓｉｌ（登録商標）またはＮｉｐｓｉｌ（登録商標）として市販されている。「乾式法」シリカは、とりわけ、例えばＡｅｒｏｓｉｌ（登録商標）、Ｒｅｏｌｏｓｉｌ（登録商標）、Ｃａｂ－Ｏ－Ｓｉｌ（登録商標）、Ｆｒａｎｓｉｌ（登録商標）またはＡｒｃＳｉｌｉｃａ（登録商標）として市販されている。本発明によれば、とりわけ、コロイダルシリカのアンモニア性溶液を使用することができる。より好ましくは、ＹがＳｉである場合、（ｉｉ）による４価の元素Ｙの供給源は、コロイダルシリカを含み、好ましくはそれである。
【0018】
（ｉｉ）によれば、ＡＥＩフレームワーク構造指向剤は、（ｉｉｉ）に従ってフレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を製造するいずれかの作用剤でありうる。好ましくは、ＡＥＩフレームワーク構造指向剤は、１種もしくは複数の第四級ホスホニウムカチオン含有化合物および／または１種もしくは複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物を含む。
【0019】
好ましくは、１種または複数のホスホニウムカチオン含有化合物は、１種または複数のＲ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４Ｐ＋含有化合物を含み、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４は互いに独立して、任意に置換されたおよび／または任意に分枝状の（Ｃ１～Ｃ６）アルキル、より好ましくは（Ｃ１～Ｃ５）アルキル、より好ましくは（Ｃ１～Ｃ４）アルキル、より好ましくは（Ｃ２～Ｃ３）アルキル、好ましくは任意に置換されたメチルまたはエチルを表し、より好ましくは、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４は、任意に置換されたエチル、好ましくは非置換エチルを表す。
【0020】
好ましくは、１種または複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、１種または複数のＮ，Ｎ－ジアルキル－ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物、より好ましくは１種または複数のＮ，Ｎ－（Ｃ１～Ｃ３）ジアルキル－（Ｃ１～Ｃ３）ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物、より好ましくは１種または複数のＮ，Ｎ－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキル－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物を含み、より好ましくは、１種または複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、Ｎ，Ｎ－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキル－２，６－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオンおよびＮ，Ｎ－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキル－３，５－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物からなる群、より好ましくはＮ，Ｎ－ジメチル－２，６－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオンおよびＮ，Ｎ－ジメチル－３，５－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキル－ピペリジニウムカチオン含有化合物からなる群、より好ましくはＮ，Ｎ－ジメチル－２，６－ジメチルピペリジニウムカチオンおよびＮ，Ｎ－ジメチル－３，５－ジメチル－ピペリジニウムカチオン含有化合物からなる群から選択される。
【0021】
好ましくは、１種もしくは複数の第四級ホスホニウムカチオン含有化合物および／または１種もしくは複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、塩、好ましくはハロゲン化物、より好ましくは塩化物および／または臭化物、より好ましくは塩化物；水酸化物；硫酸塩；硝酸塩；リン酸塩；酢酸塩；ならびにそれらの２種以上の混合物からなる群、より好ましくは塩化物、水酸化物、硫酸塩、およびそれらの２種以上の混合物からなる群から選択される塩であり、より好ましくは、１種もしくは複数の第四級ホスホニウムカチオン含有化合物および／または１種もしくは複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、水酸化物および／または塩化物、より好ましくは水酸化物である。
【0022】
より好ましくは、ＡＥＩフレームワーク構造指向剤は、Ｎ，Ｎ－ジメチル－３，５－ジメチルピペリジニウム水酸化物を含み、好ましくはそれである。
【0023】
好ましくは、（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物において、ゼオライト系材料の４価の元素Ｙの供給源に対する質量比は、ＹＯ２として計算して１．０：１～３．０：１の範囲、より好ましくは１．５：１～２．５の範囲、より好ましくは２．０：１～２．２：１の範囲である。本発明の考えられる実施形態によれば、ゼオライト系材料の４価の元素Ｙの供給源に対する質量比は、無限大でありうる。これは、Ｙを含むゼオライト系材料以外に、４価の元素の別の供給源は、（ｉｉ）における合成混合物中に含まれないことを意味する。
【0024】
好ましくは、（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物において、ゼオライト系材料の水に対する質量比は、０．００５：１～０．０３０：１の範囲、より好ましくは０．０１０：１～０．０２５：１の範囲、より好ましくは０．０１５：１～０．０２０：１の範囲である。
【0025】
好ましくは、（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物において、ゼオライト系材料のＡＥＩフレームワーク構造指向剤に対する質量比は、０．１：１～０．９：１の範囲、好ましくは０．３：１～０．７：１の範囲、より好ましくは０．４：１～０．５：１の範囲である。
【0026】
（ｉｉ）において製造された合成混合物のｐＨは、いずれの特定の値にも限定されない。好ましくは、（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物は、塩基の供給源、より好ましくは水酸化物の供給源を追加的に含む。
【0027】
好ましくは、（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物は、ナトリウム、リチウム、カリウムなどのアルカリ金属およびマグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウムなどのアルカリ土類金属、より好ましくはアルカリ金属の１種または複数の供給源、より好ましくはナトリウムを追加的に含む。
【0028】
より好ましくは、塩基の供給源は、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の１種または複数の供給源、好ましくはアルカリ金属塩基、より好ましくはアルカリ金属水酸化物、より好ましくは水酸化ナトリウムである。
【0029】
（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物は、混合物中に含まれる成分のいずれの特定の質量比にも限定されない。好ましくは、（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物において、ゼオライト系材料の塩基の供給源に対する質量比は、０．１：１～１．０：１の範囲、好ましくは０．２：１～０．８：１の範囲、より好ましくは０．３：１～０．６：１の範囲である。
【0030】
好ましくは、（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物は、Ｃｕの供給源を含まず、好ましくはＣｕおよびＦｅの１種または複数の供給源を含まず、より好ましくはＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、およびＺｎの１種または複数の供給源を含まず、より好ましくはＹまたはＸが金属である場合、ＹおよびＸ以外の金属Ｍの供給源を含まない。
【0031】
好ましくは、（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物は、フルオリドの供給源を含まず、好ましくはハロゲン化物の供給源を含まない。好ましくは、（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物は、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外にＡｌの供給源を含まず、好ましくは（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外にＸの供給源を含まず、より好ましくはＡｌ、Ｂ、Ｇａ、Ｉｎまたはそれらの組合せの供給源を含まない。
【0032】
（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物の好ましくは少なくとも９５質量％、より好ましくは少なくとも９８質量％、より好ましくは少なくとも９９質量％は、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、４価の元素Ｙの供給源、ＡＥＩフレームワーク構造指向剤、好ましくは塩基の供給源ならびにアルカリ金属およびアルカリ土類金属の１種または複数の供給源からなる。
【0033】
本発明の方法の工程（ｉｉｉ）は、（ｉｉ）において製造された合成混合物を水熱合成条件にかける工程を含む。
【0034】
好ましくは、水熱合成は、自生圧力下に、好ましくはオートクレーブ中で実施される。好ましくは、（ｉｉ）において製造された合成混合物は、オートクレーブ中、０．５～４Ｋ／分の範囲、より好ましくは１～３Ｋ／分の範囲の加熱速度で水熱合成温度に加熱される。好ましくは、混合物が加熱される水熱合成温度は、１１０～１７５℃の範囲、好ましくは１２０～１５０℃の範囲である。好ましくは、水熱合成条件は、合成時間の少なくとも一部分の間に合成混合物を撹拌する工程をさらに含む。好ましくは、水熱合成条件は、２～１２０時間の範囲、より好ましくは２０～１００時間の範囲、より好ましくは４０～８０時間の範囲の水熱合成時間をさらに含む。したがって、（ｉｉｉ）によれば、（ｉｉ）において用意された混合物は、１１０～１７５℃の範囲、好ましくは１２０～１５０℃の範囲の温度に加熱され、この温度で２～１２０時間の範囲の時間保持されることが好ましい。したがって、（ｉｉｉ）によれば、（ｉｉ）において用意された混合物は、１１０～１７５℃の範囲、好ましくは１２０～１５０℃の範囲の温度に加熱され、この温度で２０～１２０時間の範囲の時間保持されることがさらに好ましい。したがって、（ｉｉｉ）によれば、（ｉｉ）において用意された混合物は、１１０～１７５℃の範囲、好ましくは１２０～１５０℃の範囲の温度に加熱され、この温度で４０～８０時間の範囲の時間保持されることがさらに好ましい。
【0035】
（ｉｉｉ）による水熱合成から、水熱合成温度でその母液中に懸濁しているフレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を含む混合物が得られる。水熱合成が自生圧力下に実施されるので、（ｉｉｉ）は、混合物を減圧する工程をさらに含むことが好ましい。減圧の前、中、または後に、本発明の方法は、好ましくは、
（ｉｖ）（ｉｉｉ）から得られた混合物を冷却する工程
をさらに含む。
（ｉｖ）（ｉｉｉ）から得られた混合物を冷却する工程
をさらに含む。
【0036】
特定の限定はないが、混合物を１０～５０℃の範囲、より好ましくは２０～３５℃の範囲の温度に冷却することが好ましい。
【0037】
前述のように、その母液中に懸濁しているフレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を含む混合物が（ｉｉｉ）から得られるので、本発明の方法は、
（ｖ）ゼオライト系材料を、（ｉｉｉ）または（ｉｖ）から得られた混合物、好ましくは（ｉｖ）から得られた混合物から分離する工程
をさらに含むことがさらに好ましい。
（ｖ）ゼオライト系材料を、（ｉｉｉ）または（ｉｖ）から得られた混合物、好ましくは（ｉｖ）から得られた混合物から分離する工程
をさらに含むことがさらに好ましい。
【0038】
ゼオライト系材料が分離される方法について特定の限定はない。好ましくは、前記分離工程（ｖ）は、
（ｖ．１）（ｉｉｉ）または（ｉｖ）から得られた混合物を、濾過方法または噴霧方法を好ましくは含む固液分離方法にかける工程と、
（ｖ．２）好ましくは、（ｖ．１）から得られたゼオライト系材料を洗浄する工程と、
（ｖ．３）（ｖ．１）または（ｖ．２）、好ましくは（ｖ．２）から得られたゼオライト系材料を乾燥する工程と
を含む。
（ｖ．１）（ｉｉｉ）または（ｉｖ）から得られた混合物を、濾過方法または噴霧方法を好ましくは含む固液分離方法にかける工程と、
（ｖ．２）好ましくは、（ｖ．１）から得られたゼオライト系材料を洗浄する工程と、
（ｖ．３）（ｖ．１）または（ｖ．２）、好ましくは（ｖ．２）から得られたゼオライト系材料を乾燥する工程と
を含む。
【0039】
（ｖ．１）について、噴霧方法は、噴霧乾燥または噴霧顆粒化を含むことができる。（ｖ．２）が実施される場合、ゼオライト系材料は、洗浄剤としての水で好ましくは洗浄水の伝導率が最大でも５００マイクロジーメンス、好ましくは最大でも２００マイクロジーメンスになるまで洗浄されることが好ましい。（ｖ．３）について、ゼオライト系材料は、８０～１７５℃の範囲、より好ましくは１００～１５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で乾燥されることが好ましい。好ましくは、ガス雰囲気は酸素を含み、より好ましくは空気、希薄空気、または合成空気を含み、より好ましくはそれである。
【0040】
好ましくは、本発明の方法は、
（ｖｉ）（ｖ）から得られたゼオライト系材料をか焼する工程
をさらに含む。
（ｖｉ）（ｖ）から得られたゼオライト系材料をか焼する工程
をさらに含む。
【0041】
工程（ｖｉ）が実施される場合、ゼオライト系材料は、好ましくは４００～６００℃の範囲、より好ましくは４５０～５５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼される。好ましくは、ガス雰囲気は酸素を含み、より好ましくは空気、希薄空気、または合成空気を含み、より好ましくはそれである。
【0042】
好ましくは、（ｉｉｉ）において得られたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｘ：Ｙは、Ｘ２Ｏ３：ＹＯ２として計算して少なくとも０．０１：１、より好ましくは少なくとも０．０２：１、より好ましくは少なくとも０．０４：１、より好ましくは少なくとも０．０５：１である。好ましくは、（ｉｉｉ）において得られたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｘ：Ｙは、Ｘ２Ｏ３：ＹＯ２として計算して０．０１：１～０．２３：１の範囲、より好ましくは０．０２：１～０．２１：１の範囲、より好ましくは０．０３：１～０．１９：１の範囲、より好ましくは０．０４：１～０．１７：１の範囲、より好ましくは０．０５：１～０．１５：１の範囲、より好ましくは０．０６：１～０．１３：１の範囲、より好ましくは０．０７：１～０．１１：１の範囲である。あるいは、（ｉｉｉ）において得られたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｘ：Ｙは、Ｘ２Ｏ３：ＹＯ２として計算して０．０１：１～０．１７：１の範囲、より好ましくは０．０２：１～０．１５：１の範囲、より好ましくは０．０３：１～０．１３：１の範囲、より好ましくは０．０４：１～０．１１：１の範囲、より好ましくは０．０５：１～０．０９：１の範囲であることが好ましい。
【0043】
したがって、本発明はさらに好ましくは、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を製造する方法、好ましくは本明細書に上述された方法であって、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料が、か焼ゼオライト系材料であり、前記方法が、
（ｉ）フレームワークタイプＣＨＡを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、
（ｉｉ）（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外の４価の元素Ｙの供給源、およびＡＥＩフレームワーク構造指向剤を含む合成混合物を製造する工程と、
（ｉｉｉ）（ｉｉ）において製造された合成混合物を、合成混合物を１００～２００℃の範囲の温度に加熱し、この範囲の温度で自生圧力下に維持することを含む水熱合成条件にかけ、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を得る工程と、
（ｉｖ）（ｉｉｉ）から得られた混合物を、好ましくは１０～５０℃の範囲、より好ましくは２０～３５℃の範囲の温度に冷却する工程と、
（ｖ）ゼオライト系材料を、（ｉｖ）から得られた混合物から分離する工程であって、
（ｖ．１）（ｉｖ）から得られた混合物を、濾過方法または噴霧方法を好ましくは含む固液分離方法にかける工程と、
（ｖ．２）（ｖ．１）から得られたゼオライト系材料を洗浄する工程と、
（ｖ．３）（ｖ．２）から得られたゼオライト系材料を、８０～１７５℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で乾燥する工程と
を含む工程と、
（ｖｉ）（ｖ）から得られたゼオライト系材料を、４００～６００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程と
を含み、
ＹはＳｉであり、ＸはＡｌであり、モル比Ｙ：Ｘは、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して 最大でも２０：１である、方法に関する。
（ｉ）フレームワークタイプＣＨＡを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、
（ｉｉ）（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外の４価の元素Ｙの供給源、およびＡＥＩフレームワーク構造指向剤を含む合成混合物を製造する工程と、
（ｉｉｉ）（ｉｉ）において製造された合成混合物を、合成混合物を１００～２００℃の範囲の温度に加熱し、この範囲の温度で自生圧力下に維持することを含む水熱合成条件にかけ、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を得る工程と、
（ｉｖ）（ｉｉｉ）から得られた混合物を、好ましくは１０～５０℃の範囲、より好ましくは２０～３５℃の範囲の温度に冷却する工程と、
（ｖ）ゼオライト系材料を、（ｉｖ）から得られた混合物から分離する工程であって、
（ｖ．１）（ｉｖ）から得られた混合物を、濾過方法または噴霧方法を好ましくは含む固液分離方法にかける工程と、
（ｖ．２）（ｖ．１）から得られたゼオライト系材料を洗浄する工程と、
（ｖ．３）（ｖ．２）から得られたゼオライト系材料を、８０～１７５℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で乾燥する工程と
を含む工程と、
（ｖｉ）（ｖ）から得られたゼオライト系材料を、４００～６００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程と
を含み、
ＹはＳｉであり、ＸはＡｌであり、モル比Ｙ：Ｘは、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して 最大でも２０：１である、方法に関する。
【0044】
一般に、本発明の方法によれば、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を生じる上記の転換方法は、本質的に完全な転換であり、得られた材料は、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料から本質的になる可能性がある。しかし、転換は部分不完全な転換であり、得られた材料には、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料だけでなく、１種または複数の他の材料、好ましくはＡＥＩ以外のフレームワークタイプを有する１種または複数のゼオライト系材料、好ましくはフレームワークタイプＣＨＡを有するゼオライト系材料も含まれている可能性がある。好ましくは、そのようなそれぞれ得られた組成物について、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む前記組成物の５０質量％超、より好ましくは少なくとも６０質量％、より好ましくは少なくとも７０質量％が、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料からなる。より好ましくは、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む組成物の少なくとも７５質量％、より好ましくは少なくとも８５質量％、より好ましくは少なくとも９０質量％が、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料からなる。より好ましくは、組成物の少なくとも９０質量％、より好ましくは少なくとも９５質量％、より好ましくは少なくとも９９質量％が、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料と、フレームワークタイプＣＨＡを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料とからなる。フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を含む前記組成物を導くそのような部分不完全な転換は、例えば組成物を製造する方法を対象とする本発明の第２の好ましい実施形態群として考慮される。完全を期すために、これらの実施形態についても、転換が完全である場合、組成物は、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料からなるものと理解されるべきであると言及される。いずれの場合でも、転換が部分不完全な転換である場合でさえ、それにもかかわらず本発明は、例えばフレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を製造する方法を対象とする。というのは、このゼオライト系材料が前記組成物中に強制的に含められているからである。
【0045】
ゼオライト系材料を使用する所期の方法に応じて、材料、好ましくは（ｖｉ）から得られた材料をそのようなものとして使用することができる。さらに、このゼオライト系材料を１個または複数の別の後処理工程にかけることが考えられる。例えば、最も好ましくは粉末として得られるゼオライト系材料を、押出、打錠、噴霧など（に限定されない）を含めていずれか好適な方法で成形体または造形体に好適に加工することができる。好ましくは、造形体は、長方形、三角形、六角形、四角形、楕円形もしくは円形断面を有することがあり、および／または好ましくは星、錠剤、球体、円柱、撚糸、もしくは中空円柱の形をとる。造形体を製造するとき、造形体を使用する所期の方法に従って選択することができる１種または複数の結合剤を使用することができる。利用可能な結合剤材料としては、グラファイト、シリカ、チタニア、ジルコニア、アルミナ、ならびにケイ素、チタンおよびジルコニウムの２種以上の混合酸化物が挙げられるが、これらに限定されない。ゼオライト系材料の結合剤に対する質量比は、一般にいかなる特定の限定も受けておらず、例えば１０：１～１：１０の範囲でありうる。例えば、排ガス流、例えばエンジンの排ガス流を処理するための触媒または触媒成分としてゼオライト系材料が使用される別の例によれば、ゼオライト系材料は、壁面流フィルターなどの好適な基材に塗布されるウォッシュコートの成分として使用される可能性がある。
【0046】
好ましくは、（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物は、フルオリドの供給源を含まず、好ましくはハロゲン化物の供給源を含まない。好ましくは、（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物は、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外にＡｌの供給源を含まず、好ましくはＸの供給源を含まず、より好ましくは（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外にＡｌ、Ｂ、Ｇａ、Ｉｎまたはそれらの組合せの供給源を含まない。
【0047】
好ましくは、（ｉｉｉ）において得られたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｘ：Ｙは、Ｘ２Ｏ３：ＹＯ２として計算して少なくとも０．０１：１、より好ましくは少なくとも０．０２：１、より好ましくは少なくとも０．０４：１、より好ましくは少なくとも０．０５：１である。好ましくは、（ｉｉｉ）において得られたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｘ：Ｙは、Ｘ２Ｏ３：ＹＯ２として計算して０．０１：１～０．２３：１の範囲、より好ましくは０．０２：１～０．２１：１の範囲、より好ましくは０．０３：１～０．１９：１の範囲、より好ましくは０．０４：１～０．１７：１の範囲、より好ましくは０．０５：１～０．１５：１の範囲、より好ましくは０．０６：１～０．１３：１の範囲、より好ましくは０．０７：１～０．１１：１の範囲である。あるいは、（ｉｉｉ）において得られたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｘ：Ｙは、Ｘ２Ｏ３：ＹＯ２として計算して０．０１：１～０．１７：１の範囲、より好ましくは０．０２：１～０．１５：１の範囲、より好ましくは０．０３：１～０．１３：１の範囲、より好ましくは０．０４：１～０．１１：１の範囲、より好ましくは０．０５：１～０．０９：１の範囲であることが好ましい。
【0048】
本発明の好ましい実施形態によれば、ゼオライト系材料を、金属Ｍをゼオライト系材料に担持させる工程を含む後処理にかける。したがって、本発明はさらに好ましくは、以上で説明した方法であって、
（ｖｉｉ）金属Ｍをゼオライト系材料、好ましくは（ｖｉ）から得られたゼオライト系材料に担持させる工程
をさらに含む方法に関する。
（ｖｉｉ）金属Ｍをゼオライト系材料、好ましくは（ｖｉ）から得られたゼオライト系材料に担持させる工程
をさらに含む方法に関する。
【0049】
好ましくは、（ｖｉｉ）は、
（ｖｉｉ．１）ゼオライト系材料、好ましくは（ｖｉ）から得られたゼオライト系材料、金属Ｍの供給源、金属Ｍの供給源のための溶媒、および任意に酸、好ましくは有機酸を含む混合物を製造する工程であって、溶媒は、好ましくは水を含み、金属Ｍの供給源は、好ましくは金属Ｍの塩を含み、酸は、好ましくは酢酸を含む、工程と、
（ｖｉｉ．２）（ｖｉｉ．１）において製造された混合物を、３０～９０℃の範囲、好ましくは４０～８０℃の範囲の温度に加熱する工程と、
（ｖｉｉ．３）（ｖｉｉ．２）から得られた混合物を好ましくは冷却し、より好ましくは急速冷却する工程と、
（ｖｉｉ．４）金属Ｍを含むゼオライト系材料を、（ｖｉｉ．２）または（ｖｉｉ．３）、好ましくは（ｖｉｉ．３）から得られた混合物から分離する工程であって、好ましくは、金属Ｍを含むゼオライト系材料を洗浄する工程を含む、工程と、
（ｖｉｉ．５）好ましくは、（ｖｉｉ．４）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料をガス雰囲気中、好ましくは９０～２００℃の範囲、より好ましくは１００～１５０℃の範囲のガス雰囲気温度で乾燥する工程であって、ガス雰囲気は、好ましくは酸素を含む、工程と、
（ｖｉｉ．６）好ましくは（ｖｉｉ．４）または（ｖｉｉ．５）、好ましくは（ｖｉｉ．５）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料をガス雰囲気中、好ましくは３５０～６００℃の範囲、より好ましくは４００～５５０℃の範囲のガス雰囲気温度でか焼する工程であって、ガス雰囲気は、好ましくは酸素を含む、工程と
を含む。
（ｖｉｉ．１）ゼオライト系材料、好ましくは（ｖｉ）から得られたゼオライト系材料、金属Ｍの供給源、金属Ｍの供給源のための溶媒、および任意に酸、好ましくは有機酸を含む混合物を製造する工程であって、溶媒は、好ましくは水を含み、金属Ｍの供給源は、好ましくは金属Ｍの塩を含み、酸は、好ましくは酢酸を含む、工程と、
（ｖｉｉ．２）（ｖｉｉ．１）において製造された混合物を、３０～９０℃の範囲、好ましくは４０～８０℃の範囲の温度に加熱する工程と、
（ｖｉｉ．３）（ｖｉｉ．２）から得られた混合物を好ましくは冷却し、より好ましくは急速冷却する工程と、
（ｖｉｉ．４）金属Ｍを含むゼオライト系材料を、（ｖｉｉ．２）または（ｖｉｉ．３）、好ましくは（ｖｉｉ．３）から得られた混合物から分離する工程であって、好ましくは、金属Ｍを含むゼオライト系材料を洗浄する工程を含む、工程と、
（ｖｉｉ．５）好ましくは、（ｖｉｉ．４）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料をガス雰囲気中、好ましくは９０～２００℃の範囲、より好ましくは１００～１５０℃の範囲のガス雰囲気温度で乾燥する工程であって、ガス雰囲気は、好ましくは酸素を含む、工程と、
（ｖｉｉ．６）好ましくは（ｖｉｉ．４）または（ｖｉｉ．５）、好ましくは（ｖｉｉ．５）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料をガス雰囲気中、好ましくは３５０～６００℃の範囲、より好ましくは４００～５５０℃の範囲のガス雰囲気温度でか焼する工程であって、ガス雰囲気は、好ましくは酸素を含む、工程と
を含む。
【0050】
好ましくは、金属Ｍは、元素周期系の第８族～第１２族の遷移金属である。より好ましくは、金属Ｍは、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、およびＺｎの１種または複数、より好ましくはＦｅおよびＣｕの１種または複数である。より好ましくは、金属Ｍは、Ｃｕを含み、好ましくはそれである。好ましくは、（ｖｉｉ）によれば、金属Ｍが、元素Ｍとして計算して、ゼオライト系材料の全質量に対して０．１～５質量％の範囲、より好ましくは０．２～４質量％の範囲、より好ましくは０．５～３質量％の範囲の量でゼオライト系材料に担持されている。
【0051】
ゼオライト系材料を使用する所期の方法に応じて、材料、好ましくは（ｖｉｉ）から得られた材料をそのようなものとして使用することができる。さらに、このゼオライト系材料を１個または複数の別の後処理工程にかけることが考えられる。例えば、最も好ましくは粉末として得られるゼオライト系材料を、押出、打錠、噴霧など（に限定されない）を含めていずれか好適な方法で成形体または造形体に好適に加工することができる。好ましくは、造形体は、長方形、三角形、六角形、四角形、楕円形もしくは円形断面を有することがあり、および／または好ましくは星、錠剤、球体、円柱、撚糸、もしくは中空円柱の形をとる。造形体を製造するとき、造形体を使用する所期の方法に従って選択することができる１種または複数の結合剤を使用することができる。利用可能な結合剤材料としては、グラファイト、シリカ、チタニア、ジルコニア、アルミナ、ならびにケイ素、チタンおよびジルコニウムの２種以上の混合酸化物が挙げられるが、これらに限定されない。ゼオライト系材料の結合剤に対する質量比は、一般にいかなる特定の限定も受けておらず、例えば１０：１～１：１０の範囲でありうる。例えば、排ガス流、例えばエンジンの排ガス流を処理するための触媒または触媒成分としてゼオライト系材料が使用される別の例によれば、ゼオライト系材料は、壁面流フィルターなどの好適な基材に塗布されるウォッシュコートの成分として使用される可能性がある。
【0052】
本発明はさらに、本明細書に上述された方法に従う方法で得られうるもしくは得られたまたは製造されうるもしくは製造された、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料にも関する。
【0053】
本発明はまたさらに、金属Ｍを（ｖｉｉ）によるゼオライト系材料に担持させる工程を含む本明細書に上述された方法で得られうるもしくは得られたまたは製造されうるもしくは製造された、金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料にも関する。
【0054】
好ましくは、前記ゼオライト系材料は、酸性部位の全量が１．０～２．０ｍｍｏｌ／ｇの範囲であり、酸性部位の全量は、本明細書の参考例１．６に記載されているアンモニアの昇温脱離（ＮＨ３－ＴＰＤ）に従って決定された、ゼオライト系材料の１質量（ｍａｓｓ）当たりの脱離したアンモニアの全モル量と定義され、ゼオライト系材料は、中酸性部位の量が０．１～０．８ｍｍｏｌ／ｇの範囲であり、中酸性部位の量は、２５０～５００℃の温度範囲で本明細書の参考例１．６に記載されているアンモニアの昇温脱離（ＮＨ３－ＴＰＤ）に従って決定されたゼオライト系材料の１質量（ｍａｓｓ）当たりの脱離したアンモニアの量と定義される。
【0055】
フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有する本発明のゼオライト系材料は、吸収剤、吸着剤、モレキュラーシーブ、触媒、触媒担体または１種もしくは複数のそれらを製造するための中間体を含めて考えられるいかなる目的にも使用することができるが、これらに限定されない。好ましくは、本発明のゼオライト系材料は、触媒活性材料、触媒、または触媒成分として、より好ましくは、排ガス流、好ましくはディーゼル機関からの排ガス流中の酸化窒素の選択的接触還元のための、より好ましくは、Ｃ１化合物から１種もしくは複数のオレフィンへの転換、好ましくはメタノールから１種もしくは複数のオレフィンへの転換、または一酸化炭素と水素を含む合成ガスから１種もしくは複数のオレフィンへの転換のための触媒活性材料、触媒、または触媒成分として使用される。
【0056】
さらに、本発明は、排ガス流、好ましくはディーゼル機関からの排ガス流中の酸化窒素を選択的に接触還元する方法であって、前記排ガス流と本発明によるゼオライト系材料を含む触媒とを接触させる工程を含む方法に関する。
【0057】
またさらに、本発明は、排ガス流、好ましくはディーゼル機関からの排ガス流中の酸化窒素を選択的に接触還元する方法であって、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を本発明による方法、好ましくは金属Ｍを（ｖｉｉ）によるゼオライト系材料に担持させる工程を含む本発明による方法で製造し、前記排ガス流と前記ゼオライト系材料を含む触媒とを接触させる工程を含む方法に関する。
【0058】
本発明はまた、Ｃ１化合物を１種もしくは複数のオレフィンに接触転換する、好ましくはメタノールを１種もしくは複数のオレフィンに転換する、または一酸化炭素と水素を含む合成ガスを１種もしくは複数のオレフィンに転換する方法であって、前記Ｃ１化合物と本発明によるゼオライト系材料を含む触媒とを接触させる工程を含む、方法にも関する。
【0059】
本発明はさらに、Ｃ１化合物を１種もしくは複数のオレフィンに接触転換する、好ましくはメタノールを１種もしくは複数のオレフィンに転換する、または一酸化炭素と水素を含む合成ガスを１種もしくは複数のオレフィンに転換する方法であって、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を本発明による方法、好ましくは金属Ｍを（ｖｉｉ）によるゼオライト系材料に担持させる工程を含む本発明による方法で製造し、前記Ｃ１化合物と前記ゼオライト系材料を含む触媒とを接触させる工程を含む、方法にも関する。
【0060】
本発明を、示される依存関係および後方参照関係に起因する以下の実施形態群および実施形態の組合せによりさらに説明する。特に、ある範囲の実施形態が記載されているそれぞれの場合、例えば「実施形態１から４のいずれか一形態に記載の方法」などの用語の文脈では、この範囲のあらゆる実施形態は、当業者にとって明確に開示されていることになっており、すなわち、この用語の表現は、当業者によって「実施形態１、２、３、および４のいずれか一形態に記載の方法」と同義であると理解されるものとすることが認められている。
【0061】
１．フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を製造する方法であって、
（ｉ）フレームワークタイプＣＨＡを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、
（ｉｉ）（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外の４価の元素Ｙの供給源、およびＡＥＩフレームワーク構造指向剤を含む合成混合物を製造する工程と、
（ｉｉｉ）（ｉｉ）において製造された合成混合物を、合成混合物を１００～２００℃の範囲の温度に加熱し、この範囲の温度で自生圧力下に維持することを含む水熱合成条件にかけ、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を得る工程と
を含み、
Ｙは、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒの１種または複数であり、
Ｘは、Ａｌ、Ｂ、Ｇａ、Ｉｎの１種または複数であり、
（ｉ）において用意されたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｙ：Ｘは、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して最大でも２０：１である、方法。
（ｉ）フレームワークタイプＣＨＡを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、
（ｉｉ）（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外の４価の元素Ｙの供給源、およびＡＥＩフレームワーク構造指向剤を含む合成混合物を製造する工程と、
（ｉｉｉ）（ｉｉ）において製造された合成混合物を、合成混合物を１００～２００℃の範囲の温度に加熱し、この範囲の温度で自生圧力下に維持することを含む水熱合成条件にかけ、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を得る工程と
を含み、
Ｙは、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒの１種または複数であり、
Ｘは、Ａｌ、Ｂ、Ｇａ、Ｉｎの１種または複数であり、
（ｉ）において用意されたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｙ：Ｘは、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して最大でも２０：１である、方法。
【0062】
２．Ｙが、Ｓｉである、実施形態１に記載の方法。
【0063】
３．ＸがＡｌである、実施形態１または２に記載の方法。
【0064】
４．ＹがＳｉであり、ＸがＡｌである、実施形態１から３のいずれか一形態に記載の方法。
【0065】
５．（ｉ）において用意されたゼオライト系材料のフレームワークの少なくとも９５質量％、好ましくは少なくとも９８質量％、より好ましくは少なくとも９９質量％、より好ましくは少なくとも９９．５質量％が、Ｙ、Ｘ、Ｏ、およびＨからなる、実施形態１から４のいずれか一形態に記載の方法。
【0066】
６．（ｉ）において用意されたゼオライト系材料が、Ｃｕを含まず、好ましくはＣｕおよびＦｅの１種または複数を含まず、より好ましくはＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、およびＺｎの１種または複数を含まず、より好ましくはＹまたはＸが金属である場合、ＹおよびＸ以外の金属Ｍを含まない、実施形態１から５のいずれか一形態に記載の方法。
【0067】
７．（ｉ）において用意されたゼオライト系材料のＣｕに関する含有量が、元素として計算して、好ましくはＣｕおよびＦｅの１種または複数に関する含有量がそれぞれ元素として計算して、より好ましくはＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、およびＺｎの１種または複数に関する含有量がそれぞれ元素として計算して、より好ましくはＹまたはＸが金属である場合、ＹおよびＸ以外の金属Ｍに関する含有量が、元素として計算して、ゼオライト系材料の全質量に対して最大でも５００質量ｐｐｍ、好ましくは最大でも１００質量ｐｐｍである、実施形態１から６のいずれか一形態に記載の方法。
【0068】
８．（ｉ）において用意されたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｙ：Ｘが、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して３：１～２０：１の範囲、好ましくは４：１～１５：１の範囲、より好ましくは５：１～１０：１の範囲である、実施形態１から７のいずれか一形態に記載の方法。
【0069】
９．フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を製造する方法、好ましくは実施形態１から８のいずれか一形態に記載の方法であって、
（ｉ）フレームワークタイプＣＨＡを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、
（ｉｉ）（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外の４価の元素Ｙの供給源、およびＡＥＩフレームワーク構造指向剤を含む合成混合物を製造する工程と、
（ｉｉｉ）（ｉｉ）において製造された合成混合物を、合成混合物を１００～２００℃の範囲の温度に加熱し、この範囲の温度で自生圧力下に維持することを含む水熱合成条件にかけ、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を得る工程と
を含み、
ＹはＳｉであり、
ＸはＡｌであり、
（ｉ）において用意されたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｙ：Ｘは、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して５：１～１０：１の範囲である、方法。
（ｉ）フレームワークタイプＣＨＡを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、
（ｉｉ）（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外の４価の元素Ｙの供給源、およびＡＥＩフレームワーク構造指向剤を含む合成混合物を製造する工程と、
（ｉｉｉ）（ｉｉ）において製造された合成混合物を、合成混合物を１００～２００℃の範囲の温度に加熱し、この範囲の温度で自生圧力下に維持することを含む水熱合成条件にかけ、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を得る工程と
を含み、
ＹはＳｉであり、
ＸはＡｌであり、
（ｉ）において用意されたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｙ：Ｘは、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して５：１～１０：１の範囲である、方法。
【0070】
１０．（ｉ）において用意されたゼオライト系材料が、か焼ゼオライト系材料であり、好ましくはゼオライト系材料が、ガス雰囲気中、３５０～６００℃の範囲、好ましくは４００～５５０℃の範囲のガス雰囲気温度でか焼され、ガス雰囲気は、好ましくは酸素を含む、実施形態１から９のいずれか一形態に記載の方法。
【0071】
１１．（ｉ）において用意されたゼオライト系材料が、そのＨの形をとる、実施形態１から１０のいずれか一形態に記載の方法。
【0072】
１２．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物が、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を含まない、実施形態１から１１のいずれか一形態に記載の方法。
【0073】
１３．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物が、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系シード材料を含まない、実施形態１から１２のいずれか一形態に記載の方法。
【0074】
１４．ＹがＳｉであり、（ｉｉ）による４価の元素Ｙの供給源が、湿式法シリカ、乾式法シリカ、およびコロイダルシリカの１種または複数を含む、実施形態１から１３のいずれか一形態に記載の方法。
【0075】
１５．ＹがＳｉであり、（ｉｉ）による４価の元素Ｙの供給源が、コロイダルシリカを含み、好ましくはそれである、実施形態１から１４のいずれか一形態に記載の方法。
【0076】
１６．ＡＥＩフレームワーク構造指向剤が、１種もしくは複数の第四級ホスホニウムカチオン含有化合物および／または１種もしくは複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物を含み、
１種または複数のホスホニウムカチオン含有化合物は、１種または複数のＲ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４Ｐ＋含有化合物を含み、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４は互いに独立して、任意に置換されたおよび／または任意に分枝状の（Ｃ１～Ｃ６）アルキル、好ましくは（Ｃ１～Ｃ５）アルキル、より好ましくは（Ｃ１～Ｃ４）アルキル、より好ましくは（Ｃ２～Ｃ３）アルキル、さらにより好ましくは任意に置換されたメチルまたはエチルを表し、さらにより好ましくはＲ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４は、任意に置換されたエチル、好ましくは非置換エチルを表し、
１種または複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、１種または複数のＮ，Ｎ－ジアルキル－ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物、好ましくは１種または複数のＮ，Ｎ－（Ｃ１～Ｃ３）ジアルキル－（Ｃ１～Ｃ３）ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物、より好ましくは１種または複数のＮ，Ｎ－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキル－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物を含み、より好ましくは、１種または複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、Ｎ，Ｎ－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキル－２，６－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオンおよびＮ，Ｎ－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキル－３，５－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物からなる群、より好ましくはＮ，Ｎ－ジメチル－２，６－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオンおよびＮ，Ｎ－ジメチル－３，５－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキル－ピペリジニウムカチオン含有化合物からなる群、より好ましくはＮ，Ｎ－ジメチル－２，６－ジメチルピペリジニウムカチオンおよびＮ，Ｎ－ジメチル－３，５－ジメチル－ピペリジニウムカチオン含有化合物からなる群から選択され、
１種もしくは複数の第四級ホスホニウムカチオン含有化合物および／または１種もしくは複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、塩、好ましくはハロゲン化物、好ましくは塩化物および／または臭化物、より好ましくは塩化物；水酸化物；硫酸塩；硝酸塩；リン酸塩；酢酸塩；ならびにそれらの２種以上の混合物からなる群、より好ましくは塩化物、水酸化物、硫酸塩、およびそれらの２種以上の混合物からなる群から選択される塩であり、より好ましくは、１種もしくは複数の第四級ホスホニウムカチオン含有化合物および／または１種もしくは複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、水酸化物および／または塩化物、さらにより好ましくは水酸化物である、実施形態１から１５のいずれか一形態に記載の方法。
１種または複数のホスホニウムカチオン含有化合物は、１種または複数のＲ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４Ｐ＋含有化合物を含み、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４は互いに独立して、任意に置換されたおよび／または任意に分枝状の（Ｃ１～Ｃ６）アルキル、好ましくは（Ｃ１～Ｃ５）アルキル、より好ましくは（Ｃ１～Ｃ４）アルキル、より好ましくは（Ｃ２～Ｃ３）アルキル、さらにより好ましくは任意に置換されたメチルまたはエチルを表し、さらにより好ましくはＲ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４は、任意に置換されたエチル、好ましくは非置換エチルを表し、
１種または複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、１種または複数のＮ，Ｎ－ジアルキル－ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物、好ましくは１種または複数のＮ，Ｎ－（Ｃ１～Ｃ３）ジアルキル－（Ｃ１～Ｃ３）ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物、より好ましくは１種または複数のＮ，Ｎ－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキル－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物を含み、より好ましくは、１種または複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、Ｎ，Ｎ－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキル－２，６－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオンおよびＮ，Ｎ－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキル－３，５－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物からなる群、より好ましくはＮ，Ｎ－ジメチル－２，６－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオンおよびＮ，Ｎ－ジメチル－３，５－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキル－ピペリジニウムカチオン含有化合物からなる群、より好ましくはＮ，Ｎ－ジメチル－２，６－ジメチルピペリジニウムカチオンおよびＮ，Ｎ－ジメチル－３，５－ジメチル－ピペリジニウムカチオン含有化合物からなる群から選択され、
１種もしくは複数の第四級ホスホニウムカチオン含有化合物および／または１種もしくは複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、塩、好ましくはハロゲン化物、好ましくは塩化物および／または臭化物、より好ましくは塩化物；水酸化物；硫酸塩；硝酸塩；リン酸塩；酢酸塩；ならびにそれらの２種以上の混合物からなる群、より好ましくは塩化物、水酸化物、硫酸塩、およびそれらの２種以上の混合物からなる群から選択される塩であり、より好ましくは、１種もしくは複数の第四級ホスホニウムカチオン含有化合物および／または１種もしくは複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、水酸化物および／または塩化物、さらにより好ましくは水酸化物である、実施形態１から１５のいずれか一形態に記載の方法。
【0077】
１７．ＡＥＩフレームワーク構造指向剤が、Ｎ，Ｎ－ジメチル－３，５－ジメチルピペリジニウム水酸化物を含み、好ましくはそれである、実施形態１から１６のいずれか一形態に記載の方法。
【0078】
１８．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物において、ゼオライト系材料の４価の元素Ｙの供給源に対する質量比は、ＹＯ２として計算して１．０：１～３．０：１の範囲、好ましくは１．５：１～２．５の範囲、より好ましくは２．０：１～２．２：１の範囲である、実施形態１から１７のいずれか一形態に記載の方法。
【0079】
１９．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物において、ゼオライト系材料の水に対する質量比が、０．００５：１～０．０３０：１の範囲、好ましくは０．０１０：１～０．０２５：１の範囲、より好ましくは０．０１５：１～０．０２０：１の範囲である、実施形態１から１８のいずれか一形態に記載の方法。
【0080】
２０．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物において、ゼオライト系材料のＡＥＩフレームワーク構造指向剤に対する質量比が、０．１：１～０．９：１の範囲、好ましくは０．３：１～０．７：１の範囲、より好ましくは０．４：１～０．５：１の範囲である、実施形態１から１９のいずれか一形態に記載の方法。
【0081】
２１．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物が、塩基の供給源、好ましくは水酸化物の供給源を追加的に含む、実施形態１から２０のいずれか一形態に記載の方法。
【0082】
２２．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物が、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の１種または複数の供給源、好ましくはアルカリ金属、より好ましくはナトリウムを追加的に含む、実施形態１から２１のいずれか一形態に記載の方法。
【0083】
２３．塩基の供給源が、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の１種または複数の供給源、好ましくはアルカリ金属塩基、より好ましくはアルカリ金属水酸化物、より好ましくは水酸化ナトリウムである、実施形態２１または２２に記載の方法。
【0084】
２４．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物において、ゼオライト系材料の塩基の供給源に対する質量比が、０．１：１～１．０：１の範囲、好ましくは０．２：１～０．８：１の範囲、より好ましくは０．３：１～０．６：１の範囲である、実施形態２１から２３のいずれか一形態に記載の方法。
【0085】
２５．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物が、Ｃｕの供給源、好ましくはＣｕおよびＦｅの１種または複数の供給源、より好ましくはＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、およびＺｎの１種または複数の供給源、より好ましくはＹまたはＸが金属である場合、ＹおよびＸ以外の金属Ｍの供給源を含まない、実施形態１から２４のいずれか一形態に記載の方法。
【0086】
２６．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物が、フルオリドの供給源を含まず、好ましくはハロゲン化物の供給源を含まない、実施形態１から２５のいずれか一形態に記載の方法。
【0087】
２７．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物が、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外のＡｌの供給源を含まず、好ましくはＸの供給源を含まず、より好ましくは（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外のＡｌ、Ｂ、Ｇａ、Ｉｎまたはそれらの組合せの供給源を含まない、実施形態１から２６のいずれか一形態に記載の方法。
【0088】
２８．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物の少なくとも９５質量％、好ましくは少なくとも９８質量％、より好ましくは少なくとも９９質量％が、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、４価の元素Ｙの供給源、ＡＥＩフレームワーク構造指向剤、好ましくは塩基の供給源ならびにアルカリ金属およびアルカリ土類金属の１種または複数の供給源からなる、実施形態１から２７のいずれか一形態に記載の方法。
【0089】
２９．水熱合成が、自生圧力下に、好ましくはオートクレーブ中で実施される、実施形態１から２８のいずれか一形態に記載の方法。
【0090】
３０．（ｉｉ）において製造された合成混合物が、オートクレーブ中、０．５～４Ｋ／分の範囲、好ましくは１～３Ｋ／分の範囲の加熱速度で水熱合成温度に加熱される、実施形態１から２９のいずれか一形態に記載の方法。
【0091】
３１．水熱合成温度が、１１０～１７５℃の範囲、好ましくは１２０～１５０℃の範囲である、実施形態１から３０のいずれか一形態に記載の方法。
【0092】
３２．水熱合成条件が、合成混合物を撹拌する工程を含む、実施形態１から３１のいずれか一形態に記載の方法。
【0093】
３３．水熱合成条件が、２～１２０時間の範囲、好ましくは２０～１００時間の範囲、より好ましくは４０～８０時間の範囲の水熱合成時間を含む、実施形態１から３２のいずれか一形態に記載の方法。
【0094】
３４．（ｉｖ）（ｉｉｉ）から得られた混合物を、好ましくは１０～５０℃の範囲、より好ましくは２０～３５℃の範囲の温度に冷却する工程
をさらに含む、実施形態１から３３のいずれか一形態に記載の方法。
をさらに含む、実施形態１から３３のいずれか一形態に記載の方法。
【0095】
３５．（ｖ）ゼオライト系材料を、（ｉｉｉ）または（ｉｖ）から得られた混合物から分離する工程
をさらに含む、実施形態１から３４のいずれか一形態に記載の方法。
をさらに含む、実施形態１から３４のいずれか一形態に記載の方法。
【0096】
３６．（ｖ）が、
（ｖ．１）（ｉｉｉ）または（ｉｖ）から得られた混合物を、濾過方法または噴霧方法を好ましくは含む固液分離方法にかける工程と、
（ｖ．２）好ましくは、（ｖ．１）から得られたゼオライト系材料を洗浄する工程と、
（ｖ．３）（ｖ．１）または（ｖ．２）、好ましくは（ｖ．２）から得られたゼオライト系材料を乾燥する工程と
を含む、実施形態３５に記載の方法。
（ｖ．１）（ｉｉｉ）または（ｉｖ）から得られた混合物を、濾過方法または噴霧方法を好ましくは含む固液分離方法にかける工程と、
（ｖ．２）好ましくは、（ｖ．１）から得られたゼオライト系材料を洗浄する工程と、
（ｖ．３）（ｖ．１）または（ｖ．２）、好ましくは（ｖ．２）から得られたゼオライト系材料を乾燥する工程と
を含む、実施形態３５に記載の方法。
【0097】
３７．（ｖ．２）によれば、ゼオライト系材料が、水で好ましくは洗浄水の伝導率が最大でも５００マイクロジーメンス、好ましくは最大でも２００マイクロジーメンスになるまで洗浄される、実施形態３６に記載の方法。
【0098】
３８．（ｖ．３）によれば、ゼオライト系材料が、８０～１７５℃の範囲、好ましくは１００～１５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で乾燥される、実施形態３６または３７に記載の方法。
【0099】
３９．ガス雰囲気が、酸素を含み、好ましくは空気、希薄空気、または合成空気である、実施形態３８に記載の方法。
【0100】
４０．（ｖｉ）（ｖ）から得られたゼオライト系材料をか焼する工程
をさらに含む、実施形態３５から３９のいずれか一形態に記載の方法。
をさらに含む、実施形態３５から３９のいずれか一形態に記載の方法。
【0101】
４１．（ｖｉ）によれば、ゼオライト系材料が、４００～６００℃の範囲、好ましくは４５０～５５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼される、実施形態４０に記載の方法。
【0102】
４２．ガス雰囲気が、酸素を含み、好ましくは空気、希薄空気、または合成空気である、実施形態４１に記載の方法。
【0103】
４３．（ｉｉｉ）において得られたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｘ：Ｙが、Ｘ２Ｏ３：ＹＯ２として計算して少なくとも０．０１：１、好ましくは少なくとも０．０２：１、より好ましくは少なくとも０．０３：１、より好ましくは少なくとも０．０４：１、より好ましくは少なくとも０．０５：１である、実施形態１から４２のいずれか一形態に記載の方法。
【0104】
４４．（ｉｉｉ）において得られたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｘ：Ｙが、Ｘ２Ｏ３：ＹＯ２として計算して０．０１：１～０．２３：１の範囲、好ましくは０．０２：１～０．２１：１の範囲、より好ましくは０．０３：１～０．１９：１の範囲、より好ましくは０．０４：１～０．１７：１の範囲、より好ましくは０．０５：１～０．１５：１の範囲、より好ましくは０．０６：１～０．１３：１の範囲、より好ましくは０．０７：１～０．１１：１の範囲である、実施形態４３に記載の方法。
【0105】
４５．（ｉｉｉ）において得られたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｘ：Ｙが、Ｘ２Ｏ３：ＹＯ２として計算して０．０１：１～０．１７：１の範囲、好ましくは０．０２：１～０．１５：１の範囲、より好ましくは０．０３：１～０．１３：１の範囲、より好ましくは０．０４：１～０．１１：１の範囲、より好ましくは０．０５：１～０．０９：１の範囲である、実施形態４３に記載の方法。
【0106】
４６．フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を製造する方法、好ましくは実施形態１から１０のいずれか一形態に記載の方法であって、
（ｉ）フレームワークタイプＣＨＡを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、
（ｉｉ）（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外の４価の元素Ｙの供給源、およびＡＥＩフレームワーク構造指向剤を含む合成混合物を製造する工程と、
（ｉｉｉ）（ｉｉ）において製造された合成混合物を、合成混合物を１００～２００℃の範囲の温度に加熱し、この範囲の温度で自生圧力下に維持することを含む水熱合成条件にかけ、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を得る工程と、
（ｉｖ）（ｉｉｉ）から得られた混合物を、好ましくは１０～５０℃の範囲、より好ましくは２０～３５℃の範囲の温度に冷却する工程と、
（ｖ）ゼオライト系材料を、（ｉｖ）から得られた混合物から分離する工程であって、
（ｖ．１）（ｉｖ）から得られた混合物を、濾過方法または噴霧方法を好ましくは含む固液分離方法にかける工程と、
（ｖ．２）（ｖ．１）から得られたゼオライト系材料を洗浄する工程と、
（ｖ．３）（ｖ．２）から得られたゼオライト系材料を、８０～１７５℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で乾燥する工程と
を含む工程と、
（ｖｉ）（ｖ）から得られたゼオライト系材料を、４００～６００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程と
を含み、ＹはＳｉであり、ＸはＡｌであり、モル比Ｙ：Ｘは、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して最大でも２０：１である、方法。
（ｉ）フレームワークタイプＣＨＡを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、
（ｉｉ）（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外の４価の元素Ｙの供給源、およびＡＥＩフレームワーク構造指向剤を含む合成混合物を製造する工程と、
（ｉｉｉ）（ｉｉ）において製造された合成混合物を、合成混合物を１００～２００℃の範囲の温度に加熱し、この範囲の温度で自生圧力下に維持することを含む水熱合成条件にかけ、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を得る工程と、
（ｉｖ）（ｉｉｉ）から得られた混合物を、好ましくは１０～５０℃の範囲、より好ましくは２０～３５℃の範囲の温度に冷却する工程と、
（ｖ）ゼオライト系材料を、（ｉｖ）から得られた混合物から分離する工程であって、
（ｖ．１）（ｉｖ）から得られた混合物を、濾過方法または噴霧方法を好ましくは含む固液分離方法にかける工程と、
（ｖ．２）（ｖ．１）から得られたゼオライト系材料を洗浄する工程と、
（ｖ．３）（ｖ．２）から得られたゼオライト系材料を、８０～１７５℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で乾燥する工程と
を含む工程と、
（ｖｉ）（ｖ）から得られたゼオライト系材料を、４００～６００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程と
を含み、ＹはＳｉであり、ＸはＡｌであり、モル比Ｙ：Ｘは、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して最大でも２０：１である、方法。
【0107】
４７．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物が、フルオリドの供給源を含まず、好ましくはハロゲン化物の供給源を含まない、実施形態４６に記載の方法。
【0108】
４８．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物が、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外のＡｌの供給源を含まず、好ましくはＸの供給源を含まず、より好ましくは（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外のＡｌ、Ｂ、Ｇａ、Ｉｎまたはそれらの組合せの供給源を含まない、実施形態４６または４７に記載の方法。
【0109】
４９．（ｉｉｉ）において得られたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｘ：Ｙが、Ｘ２Ｏ３：ＹＯ２として計算して少なくとも０．０１：１、好ましくは少なくとも０．０２：１、より好ましくは少なくとも０．０３：１、より好ましくは少なくとも０．０４：１、より好ましくは少なくとも０．０５：１である、実施形態４６から４８のいずれか一形態に記載の方法。
【0110】
５０．（ｉｉｉ）において得られたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｘ：Ｙが、Ｘ２Ｏ３：ＹＯ２として計算して０．０１：１～０．２３：１の範囲、好ましくは０．０２：１～０．２１：１の範囲、より好ましくは０．０３：１～０．１９：１の範囲、より好ましくは０．０４：１～０．１７：１の範囲、より好ましくは０．０５：１～０．１５：１の範囲、より好ましくは０．０６：１～０．１３：１の範囲、より好ましくは０．０７：１～０．１１：１の範囲である、実施形態４９に記載の方法。
【0111】
５１．（ｉｉｉ）において得られたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｘ：Ｙが、Ｘ２Ｏ３：ＹＯ２として計算して０．０１：１～０．１７：１の範囲、好ましくは０．０２：１～０．１５：１の範囲、より好ましくは０．０３：１～０．１３：１の範囲、より好ましくは０．０４：１～０．１１：１の範囲、より好ましくは０．０５：１～０．０９：１の範囲である、実施形態４９に記載の方法。
【0112】
５２．（ｖｉｉ）金属Ｍをゼオライト系材料、好ましくは（ｖｉ）から得られたゼオライト系材料に担持させる工程
をさらに含む、実施形態１から５１のいずれか一形態に記載の方法。
をさらに含む、実施形態１から５１のいずれか一形態に記載の方法。
【0113】
５３．（ｖｉｉ）が、
（ｖｉｉ．１）ゼオライト系材料、好ましくは（ｖｉ）から得られたゼオライト系材料、金属Ｍの供給源、金属Ｍの供給源のための溶媒、および任意に酸、好ましくは有機酸を含む混合物を製造する工程であって、溶媒は、好ましくは水を含み、金属Ｍの供給源は、好ましくは金属Ｍの塩を含み、酸は、好ましくは酢酸を含む、工程と、
（ｖｉｉ．２）（ｖｉｉ．１）において製造された混合物を、３０～９０℃の範囲、好ましくは４０～８０℃の範囲の温度に加熱する工程と、
（ｖｉｉ．３）（ｖｉｉ．２）から得られた混合物を好ましくは冷却し、より好ましくは急速冷却する工程と、
（ｖｉｉ．４）金属Ｍを含むゼオライト系材料を、（ｖｉｉ．２）または（ｖｉｉ．３）、好ましくは（ｖｉｉ．３）から得られた混合物から分離する工程であって、好ましくは金属Ｍを含むゼオライト系材料を洗浄する工程を含む、工程と、
（ｖｉｉ．５）好ましくは、（ｖｉｉ．４）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料をガス雰囲気中、好ましくは９０～２００℃の範囲、より好ましくは１００～１５０℃の範囲のガス雰囲気温度で乾燥する工程であって、ガス雰囲気は、好ましくは酸素を含む、工程と、
（ｖｉｉ．６）好ましくは（ｖｉｉ．４）または（ｖｉｉ．５）、好ましくは（ｖｉｉ．５）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料をガス雰囲気中、好ましくは３５０～６００℃の範囲、より好ましくは４００～５５０℃の範囲のガス雰囲気温度でか焼する工程であって、ガス雰囲気は、好ましくは酸素を含む、工程と
を含む、実施形態５２に記載の方法。
（ｖｉｉ．１）ゼオライト系材料、好ましくは（ｖｉ）から得られたゼオライト系材料、金属Ｍの供給源、金属Ｍの供給源のための溶媒、および任意に酸、好ましくは有機酸を含む混合物を製造する工程であって、溶媒は、好ましくは水を含み、金属Ｍの供給源は、好ましくは金属Ｍの塩を含み、酸は、好ましくは酢酸を含む、工程と、
（ｖｉｉ．２）（ｖｉｉ．１）において製造された混合物を、３０～９０℃の範囲、好ましくは４０～８０℃の範囲の温度に加熱する工程と、
（ｖｉｉ．３）（ｖｉｉ．２）から得られた混合物を好ましくは冷却し、より好ましくは急速冷却する工程と、
（ｖｉｉ．４）金属Ｍを含むゼオライト系材料を、（ｖｉｉ．２）または（ｖｉｉ．３）、好ましくは（ｖｉｉ．３）から得られた混合物から分離する工程であって、好ましくは金属Ｍを含むゼオライト系材料を洗浄する工程を含む、工程と、
（ｖｉｉ．５）好ましくは、（ｖｉｉ．４）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料をガス雰囲気中、好ましくは９０～２００℃の範囲、より好ましくは１００～１５０℃の範囲のガス雰囲気温度で乾燥する工程であって、ガス雰囲気は、好ましくは酸素を含む、工程と、
（ｖｉｉ．６）好ましくは（ｖｉｉ．４）または（ｖｉｉ．５）、好ましくは（ｖｉｉ．５）から得られた金属Ｍを含むゼオライト系材料をガス雰囲気中、好ましくは３５０～６００℃の範囲、より好ましくは４００～５５０℃の範囲のガス雰囲気温度でか焼する工程であって、ガス雰囲気は、好ましくは酸素を含む、工程と
を含む、実施形態５２に記載の方法。
【0114】
５４．金属Ｍが、元素周期系の第７族～第１２族の遷移金属である、実施形態５２または５３に記載の方法。
【0115】
５５．金属Ｍが、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、およびＺｎの１種または複数、好ましくはＦｅおよびＣｕの１種または複数である、実施形態５４に記載の方法。
【0116】
５６．金属Ｍが、Ｃｕを含み、好ましくはそれである、実施形態５５に記載の方法。
【0117】
５７．（ｖｉｉ）によれば、金属Ｍが、元素Ｍとして計算して、ゼオライト系材料の全質量に対して０．１～５質量％の範囲、好ましくは０．２～４質量％の範囲、より好ましくは０．５～３質量％の範囲の量でゼオライト系材料に担持されている、実施形態５２から５６のいずれか一形態に記載の方法。
【0118】
５８．実施形態１から５１のいずれか一形態に記載の方法で得られうるもしくは得られたまたは製造されうるもしくは製造された、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料。
【0119】
５９．実施形態５２から５７のいずれか一形態に記載の方法で得られうるもしくは得られたまたは製造されうるもしくは製造された、金属Ｍを含み、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料。
【0120】
６０．酸性部位の全量が１．０～２．０ｍｍｏｌ／ｇの範囲であり、酸性部位の全量は、本明細書の参考例１．６に記載されているアンモニアの昇温脱離（ＮＨ３－ＴＰＤ）に従って決定された、ゼオライト系材料の１質量（ｍａｓｓ）当たりの脱離したアンモニアの全モル量と定義され、ゼオライト系材料の中酸性部位の量が０．１～０．８ｍｍｏｌ／ｇの範囲であり、中酸性部位の量は、２５０～５００℃の温度範囲で本明細書の参考例１．６に記載されているアンモニアの昇温脱離（ＮＨ３－ＴＰＤ）に従って決定されたゼオライト系材料の１質量（ｍａｓｓ）当たりの脱離したアンモニアの量と定義される、実施形態５８または５９に記載のゼオライト系材料。
【0121】
６１．実施形態５８から６０のいずれか一形態に記載のゼオライト系材料を触媒活性材料、触媒、または触媒成分として使用する方法。
【0122】
６２．排ガス流、好ましくはディーゼル機関からの排ガス流中の酸化窒素の選択的接触還元のために使用する、実施形態６１に記載の方法。
【0123】
６３．Ｃ１化合物から１種もしくは複数のオレフィンへの転換、好ましくはメタノールから１種もしくは複数のオレフィンへの転換、または一酸化炭素と水素を含む合成ガスから１種もしくは複数のオレフィンへの転換のために使用する、実施形態６１に記載の方法。
【0124】
６４．排ガス流、好ましくはディーゼル機関からの排ガス流中の酸化窒素を選択的に接触還元する方法であって、前記排ガス流と実施形態５８から６０のいずれか一形態に記載のゼオライト系材料を含む触媒とを接触させる工程を含む方法。
【0125】
６５．排ガス流、好ましくはディーゼル機関からの排ガス流中の酸化窒素を選択的に接触還元する方法であって、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を実施形態１から５７、好ましくは５２から５７のいずれか一形態に記載の方法で製造し、前記排ガス流と前記ゼオライト系材料を含む触媒とを接触させる工程を含む方法。
【0126】
６６．Ｃ１化合物を１種もしくは複数のオレフィンに接触転換する、好ましくはメタノールを１種もしくは複数のオレフィンに転換する、または一酸化炭素と水素を含む合成ガスを１種もしくは複数のオレフィンに転換する方法であって、前記Ｃ１化合物と実施形態５８から６０のいずれか一形態に記載のゼオライト系材料を含む触媒とを接触させる工程を含む方法。
【0127】
６７．Ｃ１化合物を１種もしくは複数のオレフィンに接触転換する、好ましくはメタノールを１種もしくは複数のオレフィンに転換する、または一酸化炭素と水素を含む合成ガスを１種もしくは複数のオレフィンに転換する方法であって、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を実施形態１から５７、好ましくは５２から５７のいずれか一形態に記載の方法で製造し、前記Ｃ１化合物と前記ゼオライト系材料を含む触媒とを接触させる工程を含む方法。
【0128】
６８．触媒、好ましくは排ガス流、好ましくはディーゼル機関からの排ガス流中の酸化窒素を選択的に接触還元するための、あるいはＣ１化合物を１種もしくは複数のオレフィンに接触転換する、好ましくはメタノールを１種もしくは複数のオレフィンに転換する、または一酸化炭素と水素を含む合成ガスを１種もしくは複数のオレフィンに転換するための触媒であって、実施形態５８から６０のいずれか一形態に記載のゼオライト系材料を含む触媒。
【0129】
本発明を、示される依存関係および後方参照関係に起因する以下の実施形態群および実施形態の組合せによりさらに説明する。特に、ある範囲の実施形態が記載されているそれぞれの場合、例えば「実施形態１から４のいずれか一形態に記載の方法」などの用語の文脈では、この範囲のあらゆる実施形態は、当業者にとって明確に開示されていることになっており、すなわち、この用語の表現は、当業者によって「実施形態１、２、３、および４のいずれか一形態に記載の方法」と同義であると理解されるものとすることが認められている。
【0130】
１．フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む組成物を製造する方法であって、
（ｉ）フレームワークタイプＣＨＡを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、
（ｉｉ）（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外の４価の元素Ｙの供給源、およびＡＥＩフレームワーク構造指向剤を含む合成混合物を製造する工程と、
（ｉｉｉ）（ｉｉ）において製造された合成混合物を、合成混合物を１００～２００℃の範囲の温度に加熱し、この範囲の温度で自生圧力下に維持することを含む水熱合成条件にかけ、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を含む混合物を得る工程と
を含み、
Ｙは、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒの１種または複数であり、
Ｘは、Ａｌ、Ｂ、Ｇａ、Ｉｎの１種または複数であり、
（ｉ）において用意されたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｙ：Ｘは、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して最大でも２０：１である、方法。
（ｉ）フレームワークタイプＣＨＡを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、
（ｉｉ）（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外の４価の元素Ｙの供給源、およびＡＥＩフレームワーク構造指向剤を含む合成混合物を製造する工程と、
（ｉｉｉ）（ｉｉ）において製造された合成混合物を、合成混合物を１００～２００℃の範囲の温度に加熱し、この範囲の温度で自生圧力下に維持することを含む水熱合成条件にかけ、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を含む混合物を得る工程と
を含み、
Ｙは、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒの１種または複数であり、
Ｘは、Ａｌ、Ｂ、Ｇａ、Ｉｎの１種または複数であり、
（ｉ）において用意されたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｙ：Ｘは、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して最大でも２０：１である、方法。
【0131】
２．ＹがＳｉである、実施形態１に記載の方法。
【0132】
３．ＸがＡｌである、実施形態１または２に記載の方法。
【0133】
４．ＹがＳｉであり、ＸがＡｌである、実施形態１から３のいずれか一形態に記載の方法。
【0134】
５．（ｉ）において用意されたゼオライト系材料のフレームワークの少なくとも９５質量％、好ましくは少なくとも９８質量％、より好ましくは少なくとも９９質量％、より好ましくは少なくとも９９．５質量％が、Ｙ、Ｘ、Ｏ、およびＨからなる、実施形態１から４のいずれか一形態に記載の方法。
【0135】
６．（ｉ）において用意されたゼオライト系材料が、Ｃｕを含まず、好ましくはＣｕおよびＦｅの１種または複数を含まず、より好ましくはＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、およびＺｎの１種または複数を含まず、より好ましくはＹまたはＸが金属である場合、ＹおよびＸ以外の金属Ｍを含まない、実施形態１から５のいずれか一形態に記載の方法。
【0136】
７．（ｉ）において用意されたゼオライト系材料のＣｕに関する含有量が、元素として計算して、好ましくはＣｕおよびＦｅの１種または複数に関する含有量がそれぞれ元素として計算して、より好ましくはＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、およびＺｎの１種または複数に関する含有量がそれぞれ元素として計算して、より好ましくはＹまたはＸが金属である場合、ＹおよびＸ以外の金属Ｍに関する含有量が、元素として計算して、ゼオライト系材料の全質量に対して最大でも５００質量ｐｐｍ、好ましくは最大でも１００質量ｐｐｍである、実施形態１から５のいずれか一形態に記載の方法。
【0137】
８．（ｉ）において用意されたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｙ：Ｘが、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して３：１～２０：１の範囲、好ましくは４：１～１５：１の範囲である、実施形態１から７のいずれか一形態に記載の方法。
【0138】
９．（ｉ）において用意されたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｙ：Ｘが、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して５：１～１０：１の範囲である、実施形態８に記載の方法。
【0139】
１０．（ｉ）において用意されたゼオライト系材料が、か焼ゼオライト系材料であり、好ましくはゼオライト系材料が、ガス雰囲気中、３５０～６００℃の範囲、好ましくは４００～５５０℃の範囲のガス雰囲気温度でか焼され、ガス雰囲気は、好ましくは酸素を含む、実施形態１から９のいずれか一形態に記載の方法。
【0140】
１１．（ｉ）において用意されたゼオライト系材料が、そのＨの形をとる、実施形態１から１０のいずれか一形態に記載の方法。
【0141】
１２．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物が、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を含まない、実施形態１から１１のいずれか一形態に記載の方法。
【0142】
１３．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物が、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系シード材料を含まない、実施形態１から１２のいずれか一形態に記載の方法。
【0143】
１４．ＹがＳｉであり、（ｉｉ）による４価の元素Ｙの供給源が、湿式法シリカ、乾式法シリカ、およびコロイダルシリカの１種または複数を含む、実施形態１から１３のいずれか一形態に記載の方法。
【0144】
１５．ＹがＳｉであり、（ｉｉ）による４価の元素Ｙの供給源が、コロイダルシリカを含み、好ましくはそれである、実施形態１から１４のいずれか一形態に記載の方法。
【0145】
１６．ＡＥＩフレームワーク構造指向剤が、１種もしくは複数の第四級ホスホニウムカチオン含有化合物および／または１種もしくは複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物を含み、
１種または複数のホスホニウムカチオン含有化合物は、１種または複数のＲ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４Ｐ＋含有化合物を含み、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４は互いに独立して、任意に置換されたおよび／または任意に分枝状の（Ｃ１～Ｃ６）アルキル、好ましくは（Ｃ１～Ｃ５）アルキル、より好ましくは（Ｃ１～Ｃ４）アルキル、より好ましくは（Ｃ２～Ｃ３）アルキル、さらにより好ましくは任意に置換されたメチルまたはエチルを表し、さらにより好ましくはＲ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４は、任意に置換されたエチル、好ましくは非置換エチルを表し、
１種または複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、１種または複数のＮ，Ｎ－ジアルキル－ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物、好ましくは１種または複数のＮ，Ｎ－（Ｃ１～Ｃ３）ジアルキル－（Ｃ１～Ｃ３）ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物、より好ましくは１種または複数のＮ，Ｎ－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキル－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物を含み、より好ましくは、１種または複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、Ｎ，Ｎ－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキル－２，６－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオンおよびＮ，Ｎ－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキル－３，５－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物からなる群、より好ましくはＮ，Ｎ－ジメチル－２，６－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオンおよびＮ，Ｎ－ジメチル－３，５－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキル－ピペリジニウムカチオン含有化合物からなる群、より好ましくはＮ，Ｎ－ジメチル－２，６－ジメチルピペリジニウムカチオンおよびＮ，Ｎ－ジメチル－３，５－ジメチル－ピペリジニウムカチオン含有化合物からなる群から選択され、
１種もしくは複数の第四級ホスホニウムカチオン含有化合物および／または１種もしくは複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、塩、好ましくはハロゲン化物、好ましくは塩化物および／または臭化物、より好ましくは塩化物；水酸化物；硫酸塩；硝酸塩；リン酸塩；酢酸塩；ならびにそれらの２種以上の混合物からなる群、より好ましくは塩化物、水酸化物、硫酸塩、およびそれらの２種以上の混合物からなる群から選択される塩であり、より好ましくは、１種もしくは複数の第四級ホスホニウムカチオン含有化合物および／または１種もしくは複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、水酸化物および／または塩化物、さらにより好ましくは水酸化物である、実施形態１から１５のいずれか一形態に記載の方法。
１種または複数のホスホニウムカチオン含有化合物は、１種または複数のＲ１Ｒ２Ｒ３Ｒ４Ｐ＋含有化合物を含み、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４は互いに独立して、任意に置換されたおよび／または任意に分枝状の（Ｃ１～Ｃ６）アルキル、好ましくは（Ｃ１～Ｃ５）アルキル、より好ましくは（Ｃ１～Ｃ４）アルキル、より好ましくは（Ｃ２～Ｃ３）アルキル、さらにより好ましくは任意に置換されたメチルまたはエチルを表し、さらにより好ましくはＲ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４は、任意に置換されたエチル、好ましくは非置換エチルを表し、
１種または複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、１種または複数のＮ，Ｎ－ジアルキル－ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物、好ましくは１種または複数のＮ，Ｎ－（Ｃ１～Ｃ３）ジアルキル－（Ｃ１～Ｃ３）ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物、より好ましくは１種または複数のＮ，Ｎ－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキル－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物を含み、より好ましくは、１種または複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、Ｎ，Ｎ－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキル－２，６－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオンおよびＮ，Ｎ－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキル－３，５－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオン含有化合物からなる群、より好ましくはＮ，Ｎ－ジメチル－２，６－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキルピペリジニウムカチオンおよびＮ，Ｎ－ジメチル－３，５－（Ｃ１～Ｃ２）ジアルキル－ピペリジニウムカチオン含有化合物からなる群、より好ましくはＮ，Ｎ－ジメチル－２，６－ジメチルピペリジニウムカチオンおよびＮ，Ｎ－ジメチル－３，５－ジメチル－ピペリジニウムカチオン含有化合物からなる群から選択され、
１種もしくは複数の第四級ホスホニウムカチオン含有化合物および／または１種もしくは複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、塩、好ましくはハロゲン化物、好ましくは塩化物および／または臭化物、より好ましくは塩化物；水酸化物；硫酸塩；硝酸塩；リン酸塩；酢酸塩；ならびにそれらの２種以上の混合物からなる群、より好ましくは塩化物、水酸化物、硫酸塩、およびそれらの２種以上の混合物からなる群から選択される塩であり、より好ましくは、１種もしくは複数の第四級ホスホニウムカチオン含有化合物および／または１種もしくは複数の第四級アンモニウムカチオン含有化合物は、水酸化物および／または塩化物、さらにより好ましくは水酸化物である、実施形態１から１５のいずれか一形態に記載の方法。
【0146】
１７．ＡＥＩフレームワーク構造指向剤が、Ｎ，Ｎ－ジメチル－３，５－ジメチルピペリジニウム水酸化物を含み、好ましくはそれである、実施形態１から１６のいずれか一形態に記載の方法。
【0147】
１８．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物において、ゼオライト系材料の４価の元素Ｙの供給源に対する質量比は、ＹＯ２として計算して１．０：１～３．０：１の範囲、好ましくは１．５：１～２．５の範囲、より好ましくは２．０：１～２．２：１の範囲である、実施形態１から１７のいずれか一形態に記載の方法。
【0148】
１９．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物において、ゼオライト系材料の水に対する質量比が、０．００５：１～０．０３０：１の範囲、好ましくは０．０１０：１～０．０２５：１の範囲、より好ましくは０．０１５：１～０．０２０：１の範囲である、実施形態１から１８のいずれか一形態に記載の方法。
【0149】
２０．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物において、ゼオライト系材料のＡＥＩフレームワーク構造指向剤に対する質量比が、０．１：１～０．９：１の範囲、好ましくは０．３：１～０．７：１の範囲、より好ましくは０．４：１～０．５：１の範囲である、実施形態１から１９のいずれか一形態に記載の方法。
【0150】
２１．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物が、塩基の供給源、好ましくは水酸化物の供給源を追加的に含む、実施形態１から２０のいずれか一形態に記載の方法。
【0151】
２２．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物が、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の１種または複数の供給源、好ましくはアルカリ金属、より好ましくはナトリウムを追加的に含む、実施形態１から２１のいずれか一形態に記載の方法。
【0152】
２３．塩基の供給源が、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の１種または複数の供給源、好ましくはアルカリ金属塩基、より好ましくはアルカリ金属水酸化物、より好ましくは水酸化ナトリウムである、実施形態２１または２２に記載の方法。
【0153】
２４．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物において、ゼオライト系材料の塩基の供給源に対する質量比が、０．１：１～１．０：１の範囲、好ましくは０．２：１～０．８：１の範囲、より好ましくは０．３：１～０．６：１の範囲である、実施形態２１から２３のいずれか一形態に記載の方法。
【0154】
２５．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物が、Ｃｕの供給源、好ましくはＣｕおよびＦｅの１種または複数の供給源、より好ましくはＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、およびＺｎの１種または複数の供給源、より好ましくはＹまたはＸが金属である場合、ＹおよびＸ以外の金属Ｍの供給源を含まない、実施形態１から２４のいずれか一形態に記載の方法。
【0155】
２６．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物が、フルオリドの供給源を含まず、好ましくはハロゲン化物の供給源を含まない、実施形態１から２５のいずれか一形態に記載の方法。
【0156】
２７．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物が、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外のＡｌの供給源を含まず、好ましくはＸの供給源を含まず、より好ましくは（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外のＡｌ、Ｂ、Ｇａ、Ｉｎまたはそれらの組合せの供給源を含まない、実施形態１から２６のいずれか一形態に記載の方法。
【0157】
２８．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物の少なくとも９５質量％、好ましくは少なくとも９８質量％、より好ましくは少なくとも９９質量％が、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、４価の元素Ｙの供給源、ＡＥＩフレームワーク構造指向剤、好ましくは塩基の供給源ならびにアルカリ金属およびアルカリ土類金属の１種または複数の供給源からなる、実施形態１から２７のいずれか一形態に記載の方法。
【0158】
２９．水熱合成が、自生圧力下に、好ましくはオートクレーブ中で実施される、実施形態１から２８のいずれか一形態に記載の方法。
【0159】
３０．（ｉｉ）において製造された合成混合物が、オートクレーブ中、０．５～４Ｋ／分の範囲、好ましくは１～３Ｋ／分の範囲の加熱速度で水熱合成温度に加熱される、実施形態１から２９のいずれか一形態に記載の方法。
【0160】
３１．水熱合成温度が、１１０～１７５℃の範囲、好ましくは１２０～１５０℃の範囲である、実施形態１から３０のいずれか一形態に記載の方法。
【0161】
３２．水熱合成条件が、合成混合物を撹拌する工程を含む、実施形態１から３１のいずれか一形態に記載の方法。
【0162】
３３．水熱合成条件が、２～１２０時間の範囲、好ましくは２０～１００時間の範囲、より好ましくは４０～８０時間の範囲の水熱合成時間を含む、実施形態１から３２のいずれか一形態に記載の方法。
【0163】
３４．（ｉｖ）（ｉｉｉ）から得られた混合物を、好ましくは１０～５０℃の範囲、より好ましくは２０～３５℃の範囲の温度に冷却する工程
をさらに含む、実施形態１から３３のいずれか一形態に記載の方法。
をさらに含む、実施形態１から３３のいずれか一形態に記載の方法。
【0164】
３５．（ｖ）フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む組成物を、（ｉｉｉ）または（ｉｖ）から得られた混合物から分離する工程
をさらに含む、実施形態１から３４のいずれか一形態に記載の方法。
をさらに含む、実施形態１から３４のいずれか一形態に記載の方法。
【0165】
３６．（ｖ）が、
（ｖ．１）（ｉｉｉ）または（ｉｖ）から得られた混合物を、濾過方法または噴霧方法を好ましくは含む固液分離方法にかけ、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む組成物を得る工程と、
（ｖ．２）好ましくは、（ｖ．１）から得られた組成物を洗浄する工程と、
（ｖ．３）（ｖ．１）または（ｖ．２）、好ましくは（ｖ．２）から得られた組成物を乾燥する工程と
を含む、実施形態３５に記載の方法。
（ｖ．１）（ｉｉｉ）または（ｉｖ）から得られた混合物を、濾過方法または噴霧方法を好ましくは含む固液分離方法にかけ、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む組成物を得る工程と、
（ｖ．２）好ましくは、（ｖ．１）から得られた組成物を洗浄する工程と、
（ｖ．３）（ｖ．１）または（ｖ．２）、好ましくは（ｖ．２）から得られた組成物を乾燥する工程と
を含む、実施形態３５に記載の方法。
【0166】
３７．（ｖ．２）によれば、組成物が、水で好ましくは洗浄水の伝導率が最大でも５００マイクロジーメンス、好ましくは最大でも２００マイクロジーメンスになるまで洗浄される、実施形態３６に記載の方法。
【0167】
３８．（ｖ．３）によれば、組成物が、８０～１７５℃の範囲、好ましくは１００～１５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で乾燥される、実施形態３６または３７に記載の方法。
【0168】
３９．ガス雰囲気が、酸素を含み、好ましくは空気、希薄空気、または合成空気である、実施形態３８に記載の方法。
【0169】
４０．（ｖｉ）（ｖ）から得られた組成物をか焼する工程
をさらに含む、実施形態３５から３９のいずれか一形態に記載の方法。
をさらに含む、実施形態３５から３９のいずれか一形態に記載の方法。
【0170】
４１．（ｖｉ）によれば、組成物が、４００～６００℃の範囲、好ましくは４５０～５５０℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼される、実施形態４０に記載の方法。
【0171】
４２．ガス雰囲気が、酸素を含み、好ましくは空気、希薄空気、または合成空気である、実施形態４１に記載の方法。
【0172】
４３．（ｉｉｉ）において得られたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｘ：Ｙが、Ｘ２Ｏ３：ＹＯ２として計算して少なくとも０．０１：１、好ましくは少なくとも０．０２：１、より好ましくは少なくとも０．０３：１、より好ましくは少なくとも０．０４：１、より好ましくは少なくとも０．０５：１である、実施形態１から４２のいずれか一形態に記載の方法。
【0173】
４４．（ｉｉｉ）において得られたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｘ：Ｙが、Ｘ２Ｏ３：ＹＯ２として計算して０．０１：１～０．２３：１の範囲、好ましくは０．０２：１～０．２１：１の範囲、より好ましくは０．０３：１～０．１９：１の範囲、より好ましくは０．０４：１～０．１７：１の範囲、より好ましくは０．０５：１～０．１５：１の範囲、より好ましくは０．０６：１～０．１３：１の範囲、より好ましくは０．０７：１～０．１１：１の範囲である、実施形態４３に記載の方法。
【0174】
４５．（ｉｉｉ）において得られたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｘ：Ｙが、Ｘ２Ｏ３：ＹＯ２として計算して０．０１：１～０．１７：１の範囲、好ましくは０．０２：１～０．１５：１の範囲、より好ましくは０．０３：１～０．１３：１の範囲、より好ましくは０．０４：１～０．１１：１の範囲、より好ましくは０．０５：１～０．０９：１の範囲である、実施形態４３に記載の方法。
【0175】
４６．フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む組成物を製造する方法、好ましくは実施形態１から１０のいずれか一形態に記載の方法であって、
（ｉ）フレームワークタイプＣＨＡを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、
（ｉｉ）（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外の４価の元素Ｙの供給源、およびＡＥＩフレームワーク構造指向剤を含む合成混合物を製造する工程と、
（ｉｉｉ）（ｉｉ）において製造された合成混合物を、合成混合物を１００～２００℃の範囲の温度に加熱し、この範囲の温度で自生圧力下に維持することを含む水熱合成条件にかけ、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を含む混合物を得る工程と、
（ｉｖ）（ｉｉｉ）から得られた混合物を、好ましくは１０～５０℃の範囲、より好ましくは２０～３５℃の範囲の温度に冷却する工程と、
（ｖ）フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む組成物を、（ｉｖ）から得られた混合物から分離する工程であって、
（ｖ．１）（ｉｖ）から得られた混合物を、濾過方法または噴霧方法を好ましくは含む固液分離方法にかける工程と、
（ｖ．２）（ｖ．１）から得られた組成物を洗浄する工程と、
（ｖ．３）（ｖ．２）から得られた組成物を、８０～１７５℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で乾燥する工程と
を含む工程と、
（ｖｉ）（ｖ）から得られた組成物を、４００～６００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程と
を含み、
ＹはＳｉであり、ＸはＡｌであり、モル比Ｙ：Ｘは、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して最大でも２０：１である、方法。
（ｉ）フレームワークタイプＣＨＡを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を用意する工程と、
（ｉｉ）（ｉ）において用意されたゼオライト系材料、水、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外の４価の元素Ｙの供給源、およびＡＥＩフレームワーク構造指向剤を含む合成混合物を製造する工程と、
（ｉｉｉ）（ｉｉ）において製造された合成混合物を、合成混合物を１００～２００℃の範囲の温度に加熱し、この範囲の温度で自生圧力下に維持することを含む水熱合成条件にかけ、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を含む混合物を得る工程と、
（ｉｖ）（ｉｉｉ）から得られた混合物を、好ましくは１０～５０℃の範囲、より好ましくは２０～３５℃の範囲の温度に冷却する工程と、
（ｖ）フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む組成物を、（ｉｖ）から得られた混合物から分離する工程であって、
（ｖ．１）（ｉｖ）から得られた混合物を、濾過方法または噴霧方法を好ましくは含む固液分離方法にかける工程と、
（ｖ．２）（ｖ．１）から得られた組成物を洗浄する工程と、
（ｖ．３）（ｖ．２）から得られた組成物を、８０～１７５℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中で乾燥する工程と
を含む工程と、
（ｖｉ）（ｖ）から得られた組成物を、４００～６００℃の範囲の温度を有するガス雰囲気中でか焼する工程と
を含み、
ＹはＳｉであり、ＸはＡｌであり、モル比Ｙ：Ｘは、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して最大でも２０：１である、方法。
【0176】
４７．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物が、フルオリドの供給源を含まず、好ましくはハロゲン化物の供給源を含まない、実施形態４６に記載の方法。
【0177】
４８．（ｉｉｉ）にかけられる（ｉｉ）において製造された合成混合物が、（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外のＡｌの供給源を含まず、好ましくはＸの供給源を含まず、より好ましくは（ｉ）において用意されたゼオライト系材料以外のＡｌ、Ｂ、Ｇａ、Ｉｎまたはそれらの組合せの供給源を含まない、実施形態４６または４７に記載の方法。
【0178】
４９．（ｉｉｉ）において得られたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｘ：Ｙが、Ｘ２Ｏ３：ＹＯ２として計算して少なくとも０．０１：１、好ましくは少なくとも０．０２：１、より好ましくは少なくとも０．０３：１、より好ましくは少なくとも０．０４：１、より好ましくは少なくとも０．０５：１である、実施形態４６から４８のいずれか一形態に記載の方法。
【0179】
５０．（ｉｉｉ）において得られたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｘ：Ｙが、Ｘ２Ｏ３：ＹＯ２として計算して０．０１：１～０．２３：１の範囲、好ましくは０．０２：１～０．２１：１の範囲、より好ましくは０．０３：１～０．１９：１の範囲、より好ましくは０．０４：１～０．１７：１の範囲、より好ましくは０．０５：１～０．１５：１の範囲、より好ましくは０．０６：１～０．１３：１の範囲、より好ましくは０．０７：１～０．１１：１の範囲である、実施形態４９に記載の方法。
【0180】
５１．（ｉｉｉ）において得られたゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｘ：Ｙが、Ｘ２Ｏ３：ＹＯ２として計算して０．０１：１～０．１７：１の範囲、好ましくは０．０２：１～０．１５：１の範囲、より好ましくは０．０３：１～０．１３：１の範囲、より好ましくは０．０４：１～０．１１：１の範囲、より好ましくは０．０５：１～０．０９：１の範囲である、実施形態４９に記載の方法。
【0181】
５２．フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む組成物の５０質量％超、好ましくは少なくとも６０質量％、より好ましくは少なくとも７０質量％が、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料からなる、実施形態１から５１のいずれか一形態に記載の方法。
【0182】
５３．フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む組成物の少なくとも７５質量％、好ましくは少なくとも８５質量％、より好ましくは少なくとも９０質量％が、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料からなる、実施形態５２に記載の方法。
【0183】
５４．組成物の少なくとも９０質量％、好ましくは少なくとも９５質量％、より好ましくは少なくとも９９質量％が、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料と、フレームワークタイプＣＨＡを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料とからなる、実施形態５２または５３に記載の方法。
【0184】
５５．（ｖｉｉ）金属Ｍを、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む組成物、好ましくは（ｖｉ）から得られた、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む組成物に担持させる工程
をさらに含む、実施形態１から５４のいずれか一形態に記載の方法。
をさらに含む、実施形態１から５４のいずれか一形態に記載の方法。
【0185】
５６．（ｖｉｉ）が、
（ｖｉｉ．１）フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む組成物、好ましくは（ｖｉ）から得られた、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む組成物、金属Ｍの供給源、金属Ｍの供給源のための溶媒、および任意に酸、好ましくは有機酸を含む混合物を製造する工程であって、溶媒は、好ましくは水を含み、金属Ｍの供給源は、好ましくは金属Ｍの塩を含み、酸は、好ましくは酢酸を含む、工程と、
（ｖｉｉ．２）（ｖｉｉ．１）において製造された混合物を、３０～９０℃の範囲、好ましくは４０～８０℃の範囲の温度に加熱する工程と、
（ｖｉｉ．３）（ｖｉｉ．２）から得られた混合物を好ましくは冷却し、より好ましくは急速冷却する工程と、
（ｖｉｉ．４）金属Ｍを含む組成物を、（ｖｉｉ．２）または（ｖｉｉ．３）、好ましくは（ｖｉｉ．３）から得られた混合物から分離する工程であって、好ましくは金属Ｍを含む組成物を洗浄する工程を含む、工程と、
（ｖｉｉ．５）好ましくは、（ｖｉｉ．４）から得られた金属Ｍを含む組成物をガス雰囲気中、好ましくは９０～２００℃の範囲、より好ましくは１００～１５０℃の範囲のガス雰囲気温度で乾燥する工程であって、ガス雰囲気は、好ましくは酸素を含む、工程と、
（ｖｉｉ．６）好ましくは、（ｖｉｉ．４）または（ｖｉｉ．５）、好ましくは（ｖｉｉ．５）から得られた金属Ｍを含む組成物をガス雰囲気中、好ましくは３５０～６００℃の範囲、より好ましくは４００～５５０℃の範囲のガス雰囲気温度でか焼する工程であって、ガス雰囲気は、好ましくは酸素を含む、工程と
を含む、実施形態５５に記載の方法。
（ｖｉｉ．１）フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む組成物、好ましくは（ｖｉ）から得られた、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む組成物、金属Ｍの供給源、金属Ｍの供給源のための溶媒、および任意に酸、好ましくは有機酸を含む混合物を製造する工程であって、溶媒は、好ましくは水を含み、金属Ｍの供給源は、好ましくは金属Ｍの塩を含み、酸は、好ましくは酢酸を含む、工程と、
（ｖｉｉ．２）（ｖｉｉ．１）において製造された混合物を、３０～９０℃の範囲、好ましくは４０～８０℃の範囲の温度に加熱する工程と、
（ｖｉｉ．３）（ｖｉｉ．２）から得られた混合物を好ましくは冷却し、より好ましくは急速冷却する工程と、
（ｖｉｉ．４）金属Ｍを含む組成物を、（ｖｉｉ．２）または（ｖｉｉ．３）、好ましくは（ｖｉｉ．３）から得られた混合物から分離する工程であって、好ましくは金属Ｍを含む組成物を洗浄する工程を含む、工程と、
（ｖｉｉ．５）好ましくは、（ｖｉｉ．４）から得られた金属Ｍを含む組成物をガス雰囲気中、好ましくは９０～２００℃の範囲、より好ましくは１００～１５０℃の範囲のガス雰囲気温度で乾燥する工程であって、ガス雰囲気は、好ましくは酸素を含む、工程と、
（ｖｉｉ．６）好ましくは、（ｖｉｉ．４）または（ｖｉｉ．５）、好ましくは（ｖｉｉ．５）から得られた金属Ｍを含む組成物をガス雰囲気中、好ましくは３５０～６００℃の範囲、より好ましくは４００～５５０℃の範囲のガス雰囲気温度でか焼する工程であって、ガス雰囲気は、好ましくは酸素を含む、工程と
を含む、実施形態５５に記載の方法。
【0186】
５７．金属Ｍが、元素周期系の第７族～第１２族の遷移金属である、実施形態５５または５６に記載の方法。
【0187】
５８．金属Ｍが、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、およびＺｎの１種または複数、好ましくはＦｅおよびＣｕの１種または複数である、実施形態５７に記載の方法。
【0188】
５９．金属Ｍが、Ｃｕを含み、好ましくはそれである、実施形態５８に記載の方法。
【0189】
６０．（ｖｉｉ）によれば、金属Ｍが、元素Ｍとして計算して、組成物の全質量に対して０．１～５質量％の範囲、好ましくは０．２～４質量％の範囲、より好ましくは０．５～３質量％の範囲の量で組成物に担持されている、実施形態５５から５９のいずれか一形態に記載の方法。
【0190】
６１．実施形態１から５４のいずれか一形態に記載の方法で得られうるもしくは得られたまたは製造されうるもしくは製造された、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む組成物。
【0191】
６２．実施形態５５から６０のいずれか一形態に記載の方法で得られうるもしくは得られたまたは製造されうるもしくは製造された、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む組成物。
【0192】
６３．酸性部位の全量が１．０～２．０ｍｍｏｌ／ｇの範囲であり、酸性部位の全量は、本明細書の参考例１．６に記載されているアンモニアの昇温脱離（ＮＨ３－ＴＰＤ）に従って決定された、組成物の１質量（ｍａｓｓ）当たりの脱離したアンモニアの全モル量と定義され、組成物の中酸性部位の量が０．１～０．８ｍｍｏｌ／ｇの範囲であり、中酸性部位の量は、２５０～５００℃の温度範囲で本明細書の参考例１．６に記載されているアンモニアの昇温脱離（ＮＨ３－ＴＰＤ）に従って決定された、組成物の１質量（ｍａｓｓ）当たりの脱離したアンモニアの量と定義される、実施形態６１または６２に記載の組成物。
【0193】
６４．実施形態６１から６３のいずれか一形態に記載の組成物を触媒活性材料、触媒、または触媒成分として使用する方法。
【0194】
６５．排ガス流、好ましくはディーゼル機関からの排ガス流中の酸化窒素の選択的接触還元のために使用する、実施形態６４に記載の方法。
【0195】
６６．Ｃ１化合物から１種もしくは複数のオレフィンへの転換、好ましくはメタノールから１種もしくは複数のオレフィンへの転換、または一酸化炭素と水素を含む合成ガスから１種もしくは複数のオレフィンへの転換のために使用する、実施形態６４に記載の方法。
【0196】
６７．排ガス流、好ましくはディーゼル機関からの排ガス流中の酸化窒素を選択的に接触還元する方法であって、前記排ガス流と実施形態６１から６３のいずれか一形態に記載の組成物を含む触媒とを接触させる工程を含む方法。
【0197】
６８．排ガス流、好ましくはディーゼル機関からの排ガス流中の酸化窒素を選択的に接触還元する方法であって、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む組成物を実施形態１から６０、好ましくは５５から６０のいずれか一形態に記載の方法で製造し、前記排ガス流と前記組成物を含む触媒とを接触させる工程を含む方法。
【0198】
６９．Ｃ１化合物を１種もしくは複数のオレフィンに接触転換する、好ましくはメタノールを１種もしくは複数のオレフィンに転換する、または一酸化炭素と水素を含む合成ガスを１種もしくは複数のオレフィンに転換する方法であって、前記Ｃ１化合物と実施形態６１から６３のいずれか一形態に記載の組成物を含む触媒とを接触させる工程を含む方法。
【0199】
７０．Ｃ１化合物を１種もしくは複数のオレフィンに接触転換する、好ましくはメタノールを１種もしくは複数のオレフィンに転換する、または一酸化炭素と水素を含む合成ガスを１種もしくは複数のオレフィンに転換する方法であって、フレームワークタイプＡＥＩを有し、４価の元素Ｙ、３価の元素Ｘ、および酸素を含むフレームワーク構造を有するゼオライト系材料を含む組成物を実施形態１から６０、好ましくは５５から６０のいずれか一形態に記載の方法で製造し、前記Ｃ１化合物と前記組成物を含む触媒とを接触させる工程を含む方法。
【0200】
７１．触媒、好ましくは排ガス流、好ましくはディーゼル機関からの排ガス流中の酸化窒素を選択的に接触還元するための、あるいはＣ１化合物を１種もしくは複数のオレフィンに接触転換する、好ましくはメタノールを１種または複数のオレフィンに転換する、または一酸化炭素と水素を含む合成ガスを１種もしくは複数のオレフィンに転換するための触媒であって、実施形態６１から６３のいずれか一形態に記載の組成物を含む触媒。
【0201】
以下の実施例、比較例、および参考例により、本発明をさらに説明する。
【実施例0202】
参考例１．１：結晶化度の決定
本発明によるゼオライト系材料の結晶化度をＸＲＤ分析により決定した。データは、Ｃｕ－Ｘ線供給源およびエネルギー分散点検出器を備えた標準Ｂｒａｇｇ－Ｂｒｅｎｔａｎｏ回折装置を使用して収集した。２°～７０°の（２θ）角度範囲をステップサイズ０．０２°で走査し、可変発散スリットは一定の開口角０．３°に設定した。次いで、ＴＯＰＡＳ Ｖ５ソフトウェアを使用して、データを分析した。ここで、ＡＥＩおよびＦＡＵについてはＰＯＮＫＣＳ相を、ＣＨＡについては結晶構造を使用して、シャープな回折ピークをモデル化した。モデルは、Ｍａｄｓｅｎ， Ｉ． Ｃ．らに記載されているように製造した。これを、データに適合するように改良した。独立したピークを角度位置２８°に挿入した。これを使用して、非結晶含有量を示した。結晶含有量は、全散乱強度に対する結晶のシグナル強度を示す。モデルには、直線状バックグラウンド、Ｌｏｒｅｎｔｚおよび偏光補正、格子パラメータ、空間群ならびにクリスタリットサイズも含めた。
本発明によるゼオライト系材料の結晶化度をＸＲＤ分析により決定した。データは、Ｃｕ－Ｘ線供給源およびエネルギー分散点検出器を備えた標準Ｂｒａｇｇ－Ｂｒｅｎｔａｎｏ回折装置を使用して収集した。２°～７０°の（２θ）角度範囲をステップサイズ０．０２°で走査し、可変発散スリットは一定の開口角０．３°に設定した。次いで、ＴＯＰＡＳ Ｖ５ソフトウェアを使用して、データを分析した。ここで、ＡＥＩおよびＦＡＵについてはＰＯＮＫＣＳ相を、ＣＨＡについては結晶構造を使用して、シャープな回折ピークをモデル化した。モデルは、Ｍａｄｓｅｎ， Ｉ． Ｃ．らに記載されているように製造した。これを、データに適合するように改良した。独立したピークを角度位置２８°に挿入した。これを使用して、非結晶含有量を示した。結晶含有量は、全散乱強度に対する結晶のシグナル強度を示す。モデルには、直線状バックグラウンド、Ｌｏｒｅｎｔｚおよび偏光補正、格子パラメータ、空間群ならびにクリスタリットサイズも含めた。
【0203】
参考例１．２：ＢＥＴ比表面積の決定
ＢＥＴ比表面積は、ＩＳＯ ９２７７、第２版、２０１０に従って、７７Ｋで窒素物理吸着により決定した。
ＢＥＴ比表面積は、ＩＳＯ ９２７７、第２版、２０１０に従って、７７Ｋで窒素物理吸着により決定した。
【0204】
参考例１．３：Ｃ値の決定
Ｃ値（ＢＥＴパラメータ）は、ＩＳＯ ９２７７、第２版、２０１０、７．２節に記載されているように決定した。
Ｃ値（ＢＥＴパラメータ）は、ＩＳＯ ９２７７、第２版、２０１０、７．２節に記載されているように決定した。
【0205】
参考例１．４：ＸＲＤパターンの決定
ＸＲＤ回折パターンは、参考例１．１に記載されているように決定した。
ＸＲＤ回折パターンは、参考例１．１に記載されているように決定した。
【0206】
参考例１．５：走査電子顕微鏡法
Ｈｉｔａｃｈｉ ＴＭ３０００を使用して、ＳＥＭ（走査電子顕微鏡法）写真（１５ｋＶ（キロボルト）の２次電子（ＳＥ）写真）を作製した。
Ｈｉｔａｃｈｉ ＴＭ３０００を使用して、ＳＥＭ（走査電子顕微鏡法）写真（１５ｋＶ（キロボルト）の２次電子（ＳＥ）写真）を作製した。
【0207】
参考例１．６：アンモニアの昇温脱離（ＮＨ３－ＴＰＤ）
アンモニアの昇温脱離（ＮＨ３－ＴＰＤ）は、熱伝導度検出器を有する自動化学吸着分析ユニット（Ｍｉｃｒｏｍｅｒｉｔｉｃｓ ＡｕｔｏＣｈｅｍ ＩＩ ２９２０）で実施した。オンライン質量分析計（Ｐｆｅｉｆｆｅｒ Ｖａｃｕｕｍ社のＯｍｎｉＳｔａｒ ＱＭＧ２００）を使用して、脱離種の連続分析を行った。試料（０．１ｇ）を石英管に導入し、下記のプログラムを使用して分析した。温度は、石英管中の試料の真上のＮｉ／Ｃｒ／Ｎｉ熱電対によって測定した。分析には、純度５．０のＨｅを使用した。測定の前にはいつも、較正のためにブランク試料を分析した。
アンモニアの昇温脱離（ＮＨ３－ＴＰＤ）は、熱伝導度検出器を有する自動化学吸着分析ユニット（Ｍｉｃｒｏｍｅｒｉｔｉｃｓ ＡｕｔｏＣｈｅｍ ＩＩ ２９２０）で実施した。オンライン質量分析計（Ｐｆｅｉｆｆｅｒ Ｖａｃｕｕｍ社のＯｍｎｉＳｔａｒ ＱＭＧ２００）を使用して、脱離種の連続分析を行った。試料（０．１ｇ）を石英管に導入し、下記のプログラムを使用して分析した。温度は、石英管中の試料の真上のＮｉ／Ｃｒ／Ｎｉ熱電対によって測定した。分析には、純度５．０のＨｅを使用した。測定の前にはいつも、較正のためにブランク試料を分析した。
【0208】
１．製造：記録の開始；１秒当たり１回測定。２５℃にてＨｅ流量３０ｃｍ３／分（室温（約２５℃）および１気圧）で１０分間待つ）；加熱速度２０Ｋ／分で６００℃まで加熱；１０分間保持。Ｈｅ流（３０ｃｍ３／分）下に冷却速度２０Ｋ／分で１００℃に冷却（炉傾斜温度）；Ｈｅ流（３０ｃｍ３／分）下に冷却速度３Ｋ／分で１００℃に冷却（試料傾斜温度）。
【0209】
２．ＮＨ３で飽和：記録の開始；１秒当たり１回測定。ガス流を、１００℃でＨｅ中１０％ＮＨ３の混合物（７５ｃｍ３／分；１００℃および１気圧）に変更；３０分間保持。
【0210】
３．過剰物の除去：記録の開始；１秒当たり１回測定。ガス流を、１００℃で７５ｃｍ３／分のＨｅ流れ（１００℃および１気圧）に変更；６０分間保持。
【0211】
４．ＮＨ３－ＴＰＤ：記録の開始；１秒当たり１回測定。Ｈｅ流（流量：３０ｃｍ３／分）下に加熱速度１０Ｋ／分で６００℃まで加熱；３０分間保持。
【0212】
５．測定終了。
【0213】
脱離したアンモニアをオンライン質量分析計によって測定し、これから、熱伝導度検出器からのシグナルは脱離したアンモニアによって生じたことが明らかになる。これは、アンモニアの脱離を監視するために、アンモニアに由来するｍ／ｚ＝１６のシグナルを利用するものである。アンモニアの吸着量（試料のｍｍｏｌ／ｇ数）は、水平ベースラインを用いて、ＭｉｃｒｏｍｅｒｉｔｉｃｓソフトウェアによってＴＰＤシグナルを積算することにより確認した。
【0214】
参考例１．７：水吸収の決定
水吸着／脱離等温線測定を、ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社のＶＴＩ ＳＡ計器で段階等温線プログラムに従って行った。実験は、計器の内側の微量天秤パンに配置された試料材料に対して行われた１回の試行または一連の試行からなるものであった。測定を開始する前に、試料を１００℃に加熱し（加熱傾斜５℃／分）、それを窒素流下で６時間保持することによって、試料の残留水分を除去した。乾燥プログラム後に、セル中の温度を２５℃に下げ、測定時に等温を維持した。微量天秤を較正し、乾燥した試料の質量を計測した（最大質量（ｍａｓｓ）偏差０．０１質量％）。試料による水吸収を、乾燥試料の質量に比べて質量の増加として測定した。まず、試料が曝露される相対湿度（ＲＨ）（セルの内側の雰囲気中の水の質量％として表す）を上げ、試料による水吸収を平衡状態で測定することによって、吸着曲線を測定した。ＲＨを、１段階１０％で５％から８５％に上げ、各段階で、システムによって、ＲＨを制御し、試料の質量を平衡状態に到達するまで監視し、質量吸収を記録した。試料を８５％ＲＨに曝露した後、試料による全吸着水量を取得した。脱離測定時に、ＲＨを１段階１０％で８５％から５％に下げ、試料の質量の変化（水吸収）を監視し、記録した。
水吸着／脱離等温線測定を、ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社のＶＴＩ ＳＡ計器で段階等温線プログラムに従って行った。実験は、計器の内側の微量天秤パンに配置された試料材料に対して行われた１回の試行または一連の試行からなるものであった。測定を開始する前に、試料を１００℃に加熱し（加熱傾斜５℃／分）、それを窒素流下で６時間保持することによって、試料の残留水分を除去した。乾燥プログラム後に、セル中の温度を２５℃に下げ、測定時に等温を維持した。微量天秤を較正し、乾燥した試料の質量を計測した（最大質量（ｍａｓｓ）偏差０．０１質量％）。試料による水吸収を、乾燥試料の質量に比べて質量の増加として測定した。まず、試料が曝露される相対湿度（ＲＨ）（セルの内側の雰囲気中の水の質量％として表す）を上げ、試料による水吸収を平衡状態で測定することによって、吸着曲線を測定した。ＲＨを、１段階１０％で５％から８５％に上げ、各段階で、システムによって、ＲＨを制御し、試料の質量を平衡状態に到達するまで監視し、質量吸収を記録した。試料を８５％ＲＨに曝露した後、試料による全吸着水量を取得した。脱離測定時に、ＲＨを１段階１０％で８５％から５％に下げ、試料の質量の変化（水吸収）を監視し、記録した。
【0215】
［実施例１］
フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料の製造
ａ）ＣＨＡゼオライト系材料を用意する
国際公開第２０１３／０６８９７６号、実施例２の４３頁２９行目～４４頁８行目に記載されているテンプレートフリー合成方法に従って、ＣＨＡゼオライト系材料（ナトリウム形）を製造した。
フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料の製造
ａ）ＣＨＡゼオライト系材料を用意する
国際公開第２０１３／０６８９７６号、実施例２の４３頁２９行目～４４頁８行目に記載されているテンプレートフリー合成方法に従って、ＣＨＡゼオライト系材料（ナトリウム形）を製造した。
【0216】
ゼオライト系材料は、シリカ：アルミナ比（ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３）が９：１であった。
【0217】
ｂ）ＡＥＩゼオライト系材料を製造する
使用材料：
ＮａＯＨ（水溶液；５０質量％）： ７０．７３ｇ
脱イオン水： ７７０．７１ｇ
１，１，３，５－テトラメチルピペリジニウムＯＨ（Ｓａｃｈｅｍ社；水性混合物、１９．７７質量％）： １９６．１８ｇ
Ｌｕｄｏｘ（登録商標） ＡＳ４０（Ｇｒａｃｅ社；コロイダルシリカ；水性溶液、４０質量％）： ２１９．８０ｇ
上記のａ）によるＣＨＡゼオライト系材料： １６．４０ｇ
使用材料：
ＮａＯＨ（水溶液；５０質量％）： ７０．７３ｇ
脱イオン水： ７７０．７１ｇ
１，１，３，５－テトラメチルピペリジニウムＯＨ（Ｓａｃｈｅｍ社；水性混合物、１９．７７質量％）： １９６．１８ｇ
Ｌｕｄｏｘ（登録商標） ＡＳ４０（Ｇｒａｃｅ社；コロイダルシリカ；水性溶液、４０質量％）： ２１９．８０ｇ
上記のａ）によるＣＨＡゼオライト系材料： １６．４０ｇ
【0218】
ビーカーを６７０．７１ｇの脱イオン水で満たし、撹拌下にＮａＯＨ溶液を添加した。次いで、テンプレート化合物（１，１，３，５－テトラメチルピペリジニウム水酸化物）を撹拌下に添加し、次に、ＣＨＡゼオライト系材料を撹拌下に添加した。この混合物を１時間さらに撹拌した。次いで、コロイダルシリカ溶液を撹拌下に添加し、得られた混合物をもう０．５時間撹拌した。得られた懸濁液を２．５Ｌのオートクレーブに移し、入り組んだラインを残りの脱イオン水１００ｇですすいだ。次いで、オートクレーブを密閉した。
【0219】
１時間以内に、オートクレーブ中の混合物を１４０℃の温度に加熱し、この結晶化温度にて、２５０ｒｐｍで撹拌下に７２時間維持した。圧力を放出し、室温まで冷却した後、得られた懸濁液を、ヌッチェ型フィルターを使用して濾過し、濾過ケークを、脱イオン水で洗浄水の伝導率が２００マイクロジーメンス未満になるまで洗浄した。こうして洗浄されたゼオライト系材料を、対流式オーブン中、空気下に１２０℃で終夜乾燥し、次に加熱速度２Ｋ／分で５００℃の温度に加熱し、この温度で５時間か焼した。１５．４ｇのゼオライト系材料が得られ、空時収量は、７３．９５ｋｇ／ｍ３／ｄであった。
【0220】
ゼオライト系材料の元素分析（質量％）：Ｓｉ＝３５；Ａｌ＝５．８；Ｎａ＝３．５。
【0221】
したがって、得られたＡＥＩゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｙ：Ｘは、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して１１．５９：１であり、モル比Ｘ：Ｙは、Ｘ２Ｏ３：ＹＯ２として計算して０．０８６：１であった。
【0222】
結晶化度は、参考例１．１に記載されているように決定して７７％であった。ＢＥＴ比表面積は、参考例１．２に記載されているように決定して５６９ｍ２／ｇであった。Ｃ値は、参考例１．３に記載されているように決定して－６６であった。参考例１．４に記載されているように決定したＸＲＤパターンを図１に示す。参考例１．５に記載されているように決定したＳＥＭ写真を図２に示す。
【0223】
結晶材料の７８％は、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料であり、結晶材料の２２％は、フレームワークタイプＣＨＡを有するゼオライト系材料であった。
【0224】
［実施例２］
フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料の製造
ａ）ＣＨＡゼオライト系材料を用意する
質量％単位でＳｉ＝２６．１；Ａｌ＝７．１；Ｎａ＝３．５；Ｃａ＝１．３；Ｋ＝０．８；Ｍｇ＝０．９を含むロット番号３１１８５５のＺＭＭ－Ｚｅｏｆｕｍｅから得られる天然ＣＨＡゼオライト系材料を用意した。
フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料の製造
ａ）ＣＨＡゼオライト系材料を用意する
質量％単位でＳｉ＝２６．１；Ａｌ＝７．１；Ｎａ＝３．５；Ｃａ＝１．３；Ｋ＝０．８；Ｍｇ＝０．９を含むロット番号３１１８５５のＺＭＭ－Ｚｅｏｆｕｍｅから得られる天然ＣＨＡゼオライト系材料を用意した。
【0225】
ゼオライト系材料は、シリカ：アルミナ比（ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３）が７．４：１であった。
【0226】
ＢＥＴ比表面積は、参考例１．２に記載されているように決定して４０２ｍ２／ｇであった。ラングミュア表面積は５２５ｍ２／ｇであった。材料の結晶化度は、参考例１．１に記載されているように決定して６５％であった。平均粒径は４２ｎｍであった。
【0227】
図５は、参考例１．５に記載されているように決定した、ゼオライト系材料のＳＥＭ写真を示す。図６は、参考例１．４に記載されているように決定した、ゼオライト系材料のＸＲＤパターンを示す。図７は、参考例１．７に記載されているように決定した、ゼオライト系材料の水吸収等温線を示す。
【0228】
ｂ）ＡＥＩゼオライト系材料を製造する
使用材料：
ＮａＯＨ（水溶液；５０質量％）： ７０．７３ｇ
脱イオン水： ７７０．７１ｇ
１，１，３，５－テトラメチルピペリジニウムＯＨ（Ｓａｃｈｅｍ社；水性混合物、１９．７７質量％）： １９６．１８ｇ
Ｌｕｄｏｘ（登録商標） ＡＳ４０（Ｇｒａｃｅ社；コロイダルシリカ；水性溶液、４０質量％）： ２１９．８０ｇ
上記のａ）によるＣＨＡゼオライト系材料： １６．４０ｇ
使用材料：
ＮａＯＨ（水溶液；５０質量％）： ７０．７３ｇ
脱イオン水： ７７０．７１ｇ
１，１，３，５－テトラメチルピペリジニウムＯＨ（Ｓａｃｈｅｍ社；水性混合物、１９．７７質量％）： １９６．１８ｇ
Ｌｕｄｏｘ（登録商標） ＡＳ４０（Ｇｒａｃｅ社；コロイダルシリカ；水性溶液、４０質量％）： ２１９．８０ｇ
上記のａ）によるＣＨＡゼオライト系材料： １６．４０ｇ
【0229】
ビーカーを６７０．７１ｇの脱イオン水で満たし、撹拌下にＮａＯＨ溶液を添加した。次いで、テンプレート化合物（１，１，３，５－テトラメチルピペリジニウム水酸化物）を撹拌下に添加し、次に、ＣＨＡゼオライト系材料を撹拌下に添加した。この混合物を１時間さらに撹拌した。次いで、コロイダルシリカ溶液を撹拌下に添加し、得られた混合物をもう０．５時間撹拌した。得られた懸濁液を２．５Ｌのオートクレーブに移し、入り組んだラインを残りの脱イオン水１００ｇですすいだ。次いで、オートクレーブを密閉した。
【0230】
１時間以内に、オートクレーブ中の混合物を１４０℃の温度に加熱し、この結晶化温度にて、２５０ｒｐｍで撹拌下に７２時間維持した。圧力を放出し、室温まで冷却した後、得られた懸濁液を、ヌッチェ型フィルターを使用して濾過し、濾過ケークを、脱イオン水で洗浄水の伝導率が２００マイクロジーメンス未満になるまで洗浄した。こうして洗浄されたゼオライト系材料を、対流式オーブン中、空気下に１２０℃で終夜乾燥し、次に加熱速度２Ｋ／分で５００℃の温度に加熱し、この温度で５時間か焼した。２２．０ｇのゼオライト系材料が得られ、空時収量は、５．６４ｋｇ／ｍ３／ｄであった。
【0231】
ゼオライト系材料の元素分析（質量％）：Ｓｉ＝３４；Ａｌ＝４．３；Ｎａ＝２．３。
【0232】
したがって、得られたＡＥＩゼオライト系材料のフレームワーク構造において、モル比Ｙ：Ｘは、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３として計算して１５．２：１であり、モル比Ｘ：Ｙは、Ｘ２Ｏ３：ＹＯ２として計算して０．０６６：１であった。
【0233】
結晶化度は、参考例１．１に記載されているように決定して７２％であった。ＢＥＴ比表面積は、参考例１．２に記載されているように決定して４９４ｍ２／ｇであった。Ｃ値は、参考例１．３に記載されているように決定して－６９であった。参考例１．４に記載されているように決定したＸＲＤパターンを図３に示す。参考例１．５に記載されているように決定したＳＥＭ写真を図４に示す。
【0234】
結晶材料の９４％は、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料であり、結晶材料の６％は、フレームワークタイプＣＨＡを有するゼオライト系材料であった。
【0235】
［比較例１］
フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を製造する試み
ａ）ＣＨＡゼオライト系材料を用意する
国際公開第２０１３／１８２９７４号の実施例１の４７頁１～１８行目に従って、ＣＨＡゼオライト系材料を製造した。
フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を製造する試み
ａ）ＣＨＡゼオライト系材料を用意する
国際公開第２０１３／１８２９７４号の実施例１の４７頁１～１８行目に従って、ＣＨＡゼオライト系材料を製造した。
【0236】
ゼオライト系材料は、シリカ：アルミナ比（ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３）が２２．４：１であった。
【0237】
ｂ）ＡＥＩ材料を製造しようと試みる
使用材料：
ＮａＯＨ（水溶液；５０質量％）： ７０．２７ｇ
脱イオン水： ７６９．５６ｇ
１，１，３，５－テトラメチルピペリジニウムＯＨ（Ｓａｃｈｅｍ社；水性混合物、１９．７７質量％）： １９７．９６ｇ
Ｌｕｄｏｘ（登録商標） ＡＳ４０（Ｇｒａｃｅ社；コロイダルシリカ；水性溶液、４０質量％）： ２１９．６０ｇ
上記のａ）によるＣＨＡゼオライト系材料： １６．４０ｇ
使用材料：
ＮａＯＨ（水溶液；５０質量％）： ７０．２７ｇ
脱イオン水： ７６９．５６ｇ
１，１，３，５－テトラメチルピペリジニウムＯＨ（Ｓａｃｈｅｍ社；水性混合物、１９．７７質量％）： １９７．９６ｇ
Ｌｕｄｏｘ（登録商標） ＡＳ４０（Ｇｒａｃｅ社；コロイダルシリカ；水性溶液、４０質量％）： ２１９．６０ｇ
上記のａ）によるＣＨＡゼオライト系材料： １６．４０ｇ
【0238】
ビーカーを６７０．７ｇの脱イオン水で満たし、撹拌下にＮａＯＨ溶液を添加した。次いで、テンプレート化合物（１，１，３，５－テトラメチルピペリジニウム水酸化物）を撹拌下に添加し、次に、ＣＨＡゼオライト系材料を撹拌下に添加した。この混合物を１時間さらに撹拌した。次いで、コロイダルシリカ溶液を撹拌下に添加し、得られた混合物をもう０．５時間撹拌した。得られた懸濁液を２．５Ｌのオートクレーブに移し、入り組んだラインを残りの脱イオン水ですすいだ。次いで、オートクレーブを密閉した。
【0239】
１時間以内に、オートクレーブ中の混合物を１４０℃の温度に加熱し、この結晶化温度にて、２５０ｒｐｍで撹拌下に７２時間維持した。圧力を放出し、室温まで冷却した後、得られた懸濁液を、ヌッチェ型フィルターを使用して濾過し、濾過ケークを、脱イオン水で洗浄水の伝導率が２００マイクロジーメンス未満になるまで洗浄した。こうして洗浄されたゼオライト系材料を、対流式オーブン中、空気下に１２０℃で終夜乾燥した。
【0240】
乾燥した試料の元素分析（質量％）：Ｓｉ＝１．１；Ａｌ＝＜０．０３；Ｎａ＝０．５。
【0241】
乾燥した材料のＸＲＤ分析は、試料が非結晶質であったこと、すなわち上記の水熱処理が結晶化を引き起こさなかったことを示した。
【0242】
［比較例２］
フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を製造する試み
ａ）ＣＨＡゼオライト系材料を用意する
２，０４０ｋｇの水を撹拌容器に入れ、それに、３，９２４ｋｇの１－アダマンチルトリメチルアンモニウム水酸化物溶液（２０％水溶液）を撹拌下に添加する。次いで、４１５．６ｋｇの水酸化ナトリウム溶液（２０質量％水溶液）を添加し、次に６７９ｋｇのアルミニウムトリイソプロピレート（Ｄｏｒｏｘ（登録商標） Ｄ １０、Ｉｎｅｏｓ社）を添加し、その後、得られた混合物を５分間撹拌した。次いで、７８００．５ｋｇのコロイダルシリカ溶液（４０質量％水溶液；Ｌｕｄｏｘ（登録商標） ＡＳ４０、Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ社）を添加し、得られた混合物をオートクレーブに移す前に１５分間撹拌した。撹拌容器を洗い流すのに使用する１，０００ｋｇの蒸留水を、オートクレーブ中の混合物に添加し、次いで、最終混合物を撹拌下に１７０℃で１６時間加熱した。次いで、固体生成物を濾別し、濾過ケークを蒸留水で洗浄した。次いで、得られた濾過ケークを噴霧乾燥機混合槽中で蒸留水に分散して、固形物濃度約２４％のスラリーを得、噴霧乾燥し、こうして、ＣＨＡフレームワーク構造を有するゼオライトの噴霧乾燥粉末を得た。ここで、入口温度を４７７～４８２℃に設定し、出口温度は１２７～１２９℃であることを示した。
フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を製造する試み
ａ）ＣＨＡゼオライト系材料を用意する
２，０４０ｋｇの水を撹拌容器に入れ、それに、３，９２４ｋｇの１－アダマンチルトリメチルアンモニウム水酸化物溶液（２０％水溶液）を撹拌下に添加する。次いで、４１５．６ｋｇの水酸化ナトリウム溶液（２０質量％水溶液）を添加し、次に６７９ｋｇのアルミニウムトリイソプロピレート（Ｄｏｒｏｘ（登録商標） Ｄ １０、Ｉｎｅｏｓ社）を添加し、その後、得られた混合物を５分間撹拌した。次いで、７８００．５ｋｇのコロイダルシリカ溶液（４０質量％水溶液；Ｌｕｄｏｘ（登録商標） ＡＳ４０、Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ社）を添加し、得られた混合物をオートクレーブに移す前に１５分間撹拌した。撹拌容器を洗い流すのに使用する１，０００ｋｇの蒸留水を、オートクレーブ中の混合物に添加し、次いで、最終混合物を撹拌下に１７０℃で１６時間加熱した。次いで、固体生成物を濾別し、濾過ケークを蒸留水で洗浄した。次いで、得られた濾過ケークを噴霧乾燥機混合槽中で蒸留水に分散して、固形物濃度約２４％のスラリーを得、噴霧乾燥し、こうして、ＣＨＡフレームワーク構造を有するゼオライトの噴霧乾燥粉末を得た。ここで、入口温度を４７７～４８２℃に設定し、出口温度は１２７～１２９℃であることを示した。
【0243】
得られた材料は、ＢＥＴ比表面積が５５８ｍ２／ｇであり、結晶化度が粉末Ｘ線回折により決定して１０５％であった。生成物のナトリウム含有量は、Ｎａ２Ｏとして計算して０．７５質量％であると決定した。
【0244】
ゼオライト系材料は、シリカ：アルミナ比（ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３）が３４：１であった。
【0245】
図１０は、参考例１．５に記載されているように決定した、ゼオライト系材料のＳＥＭ写真を示す。
【0246】
ｂ）ＡＥＩ材料を製造しようと試みる
使用材料：
ＮａＯＨ（水溶液；５０質量％）： ７０．７３ｇ
脱イオン水： ７７０．７１ｇ
１，１，３，５－テトラメチルピペリジニウムＯＨ（Ｓａｃｈｅｍ社；水性混合物、１９．７７質量％）： １９６．１８ｇ
Ｌｕｄｏｘ（登録商標） ＡＳ４０（Ｇｒａｃｅ社；コロイダルシリカ；水性溶液、４０質量％）： ２１９．８０ｇ
上記のａ）によるＣＨＡゼオライト系材料： １６．４０ｇ
使用材料：
ＮａＯＨ（水溶液；５０質量％）： ７０．７３ｇ
脱イオン水： ７７０．７１ｇ
１，１，３，５－テトラメチルピペリジニウムＯＨ（Ｓａｃｈｅｍ社；水性混合物、１９．７７質量％）： １９６．１８ｇ
Ｌｕｄｏｘ（登録商標） ＡＳ４０（Ｇｒａｃｅ社；コロイダルシリカ；水性溶液、４０質量％）： ２１９．８０ｇ
上記のａ）によるＣＨＡゼオライト系材料： １６．４０ｇ
【0247】
ビーカーを６７０．７ｇの脱イオン水で満たし、撹拌下にＮａＯＨ溶液を添加した。次いで、テンプレート化合物（１，１，３，５－テトラメチルピペリジニウム水酸化物）を撹拌下に添加し、次に、ＣＨＡゼオライト系材料を撹拌下に添加した。この混合物を１時間さらに撹拌した。次いで、コロイダルシリカ溶液を撹拌下に添加し、得られた混合物をもう０．５時間撹拌した。得られた懸濁液を２．５Ｌのオートクレーブに移し、入り組んだラインを残りの脱イオン水ですすいだ。次いで、オートクレーブを密閉した。
【0248】
１時間以内に、オートクレーブ中の混合物を１４０℃の温度に加熱し、この結晶化温度にて、２５０ｒｐｍで撹拌下に７２時間維持した。圧力を放出し、室温まで冷却した後、オートクレーブの内容物は完全に液体であることがわかった。
【0249】
したがって、上記の水熱処理は結晶化を引き起こさなかった。
【0250】
［比較例３］
フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を製造する試み
ａ）フレームワークタイプＣＨＡを有するゼオライト系材料を用意する
シリカ：アルミナ比（ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３）が３８．０である、フレームワークタイプＣＨＡを有するＺｅｏｌｙｓｔ社の市販ゼオライト系材料を用意した。
フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を製造する試み
ａ）フレームワークタイプＣＨＡを有するゼオライト系材料を用意する
シリカ：アルミナ比（ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３）が３８．０である、フレームワークタイプＣＨＡを有するＺｅｏｌｙｓｔ社の市販ゼオライト系材料を用意した。
【0251】
ｂ）ａ）において用意されたゼオライト系材料から出発して、フレームワークタイプＢＥＡを有するゼオライト系材料を製造する
使用材料：
アルミン酸ナトリウム、Ａｌｄｒｉｃｈ社、ＣＡＳ番号１３０２－４２－７： ２４．７５ｇ
ケイ酸ナトリウム、Ｗｏｅｌｌｎｅｒ社、ＣＡＳ番号１３４４－０９－８ ５５５．２７ｇ
Ｌｕｄｏｘ（登録商標） ＡＳ４０（Ｇｒａｃｅ社；コロイダルシリカ；水性溶液、４０質量％）： ９６．２１ｇ
脱イオン水： ５３４．６３ｇ
上記のａ）によるＣＨＡゼオライト系材料： １８．２８ｇ
使用材料：
アルミン酸ナトリウム、Ａｌｄｒｉｃｈ社、ＣＡＳ番号１３０２－４２－７： ２４．７５ｇ
ケイ酸ナトリウム、Ｗｏｅｌｌｎｅｒ社、ＣＡＳ番号１３４４－０９－８ ５５５．２７ｇ
Ｌｕｄｏｘ（登録商標） ＡＳ４０（Ｇｒａｃｅ社；コロイダルシリカ；水性溶液、４０質量％）： ９６．２１ｇ
脱イオン水： ５３４．６３ｇ
上記のａ）によるＣＨＡゼオライト系材料： １８．２８ｇ
【0252】
第１の容器において、ＣＨＡゼオライト系材料を水中に１００ｒｐｍで撹拌下に３０分以内懸濁した。第２の容器において、アルミン酸ナトリウムを水と混和し、５０ｒｐｍで撹拌下に３０分以内溶解した。２個の容器の内容物を５０ｒｐｍで撹拌下に１つにまとめた。ラインを脱イオン水ですすいだ。続いて、ケイ酸ナトリウムを２５ｒｐｍで撹拌下に添加し、ラインを脱イオン水ですすいだ。続いて、Ｌｕｄｏｘ（登録商標） ＡＳ４０を２５ｒｐｍで撹拌下に添加し、ラインを脱イオン水ですすいだ。混合物を自生圧力下で１２０℃の温度に３時間以内加熱し、この温度にて２５ｒｐｍで撹拌下に８４時間維持した。室温に冷却した後、得られた混合物を６０ｒｐｍで３０分間さらに撹拌することによって均質化した。得られた懸濁液を、ヌッチェ型フィルターを使用して濾過し、脱イオン水で洗浄水の伝導率が２０マイクロジーメンス未満になるまで洗浄した。得られた濾過ケークを、対流式オーブン中、空気下に１２０℃で終夜乾燥した。
【0253】
ＢＥＴ比表面積は、参考例１．２に記載されているように決定して４７１ｍ２／ｇであった。Ｃ値は、参考例１．３に記載されているように決定して－５３であった。乾燥したゼオライト系材料の元素分析（質量％）：Ｓｉ＝３１．０；Ａｌ＝５．６；Ｎａ＝４．６。
【0254】
ｃ）ｂ）において製造されたフレームワークタイプＢＥＡを有するゼオライト系材料のアンモニウム形を製造する
ｂ）において製造された１００ｇのゼオライト系材料を、１００ｇの１０質量％硝酸アンモニウム水溶液と混和し、８０℃で２時間撹拌した。ヌッチェ型フィルターを使用し、濾過ケークを脱イオン水で洗浄して、硝酸塩フリーにした。硝酸アンモニウム処理および洗浄を１回繰り返した。得られた濾過ケークを空気下に１２０℃で終夜乾燥した。９０ｇの乾燥した材料が得られた。
ｂ）において製造された１００ｇのゼオライト系材料を、１００ｇの１０質量％硝酸アンモニウム水溶液と混和し、８０℃で２時間撹拌した。ヌッチェ型フィルターを使用し、濾過ケークを脱イオン水で洗浄して、硝酸塩フリーにした。硝酸アンモニウム処理および洗浄を１回繰り返した。得られた濾過ケークを空気下に１２０℃で終夜乾燥した。９０ｇの乾燥した材料が得られた。
【0255】
乾燥したゼオライト系材料の元素分析（質量％）：Ｓｉ＝３３．０；Ａｌ＝６．０；Ｎａ＝０．０５。
【0256】
ｄ）ｃ）において製造されたフレームワークタイプＢＥＡを有するゼオライト系材料のＨ形を製造する
ｃ）において製造されたゼオライト系材料を空気下に５００℃で５時間か焼した。
ｃ）において製造されたゼオライト系材料を空気下に５００℃で５時間か焼した。
【0257】
ゼオライト系材料は、シリカ：アルミナ比（ＳｉＯ２：Ａｌ２Ｏ３）が１０．６：１であった。
【0258】
ｅ）ＡＥＩ材料を製造する
使用材料：
ＮａＯＨ（水溶液；５０質量％）： ７０．７３ｇ
脱イオン水： ７７０．７１ｇ
１，１，３，５－テトラメチルピペリジニウムＯＨ（Ｓａｃｈｅｍ社；水性混合物、１９．７７質量％）： １９６．１８ｇ
Ｌｕｄｏｘ（登録商標） ＡＳ４０（Ｇｒａｃｅ社；コロイダルシリカ；水性溶液、４０質量％）： ２１９．８０ｇ
上記のｄ）によるＢＥＡゼオライト系材料： １６．４０ｇ
使用材料：
ＮａＯＨ（水溶液；５０質量％）： ７０．７３ｇ
脱イオン水： ７７０．７１ｇ
１，１，３，５－テトラメチルピペリジニウムＯＨ（Ｓａｃｈｅｍ社；水性混合物、１９．７７質量％）： １９６．１８ｇ
Ｌｕｄｏｘ（登録商標） ＡＳ４０（Ｇｒａｃｅ社；コロイダルシリカ；水性溶液、４０質量％）： ２１９．８０ｇ
上記のｄ）によるＢＥＡゼオライト系材料： １６．４０ｇ
【0259】
ビーカーを６７０．７１ｇの脱イオン水で満たし、撹拌下にＮａＯＨ溶液を添加した。次いで、テンプレート化合物（１，１，３，５－テトラメチルピペリジニウム水酸化物）を撹拌下に添加し、次に、ＣＨＡゼオライト系材料を撹拌下に添加した。この混合物を１時間さらに撹拌した。次いで、コロイダルシリカ溶液を撹拌下に添加し、得られた混合物をもう０．５時間撹拌した。得られた懸濁液を２．５Ｌのオートクレーブに移し、入り組んだラインを残りの脱イオン水１００ｇですすいだ。次いで、オートクレーブを密閉した。
【0260】
１時間以内に、オートクレーブ中の混合物を１４０℃の温度に加熱し、この結晶化温度にて、２５０ｒｐｍで撹拌下に７２時間維持した。圧力を放出し、室温まで冷却した後、得られた懸濁液を、ヌッチェ型フィルターを使用して濾過し、濾過ケークを、脱イオン水で洗浄水の伝導率が２００マイクロジーメンス未満になるまで洗浄した。こうして洗浄されたゼオライト系材料を、対流式オーブン中、空気下に１２０℃で終夜乾燥し、次に加熱速度２Ｋ／分で５００℃の温度に加熱し、この温度で５時間か焼した。１９．８ｇのゼオライト系材料が得られた。
【0261】
ゼオライト系材料の元素分析（質量％）：Ｓｉ＝３６；Ａｌ＝４．５；Ｎａ＝２．１。
【0262】
結晶化度は、参考例１．１に記載されているように決定して４５％であった。ＢＥＴ比表面積は、参考例１．２に記載されているように決定して４９４ｍ２／ｇであった。Ｃ値は、参考例１．３に記載されているように決定して－７６であった。参考例１．４に記載されているように決定したＸＲＤパターンを図８に示す。参考例１．５に記載されているように決定したＳＥＭ写真を図９に示す。
【0263】
結晶材料の３６％のみ、フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料であり、結晶材料の６１％は、フレームワークタイプＭＯＲを有するゼオライト系材料であり、４％はグメリナイトであった。
【0264】
［実施例３］
フレームワークタイプＡＥＩを有し、金属Ｍ（Ｃｕ）を含むゼオライト系材料の製造
実施例１から得られたゼオライト系材料（粉末）に、インシピエントウェットネスにより硝酸Ｃｕ水溶液を含浸させた。ここで、硝酸Ｃｕの量は、ゼオライト系材料に担持されているＣｕを含む最終的に得られた材料において、ＣｕＯとして計算して、Ｃｕを担持している最終的に得られたか焼ゼオライト系材料の全質量に対して４質量％、５質量％、および６質量％となるように選択した。含浸後、材料を乾燥し、次いで４５０℃で５時間か焼した。この粉末材料をベースにして、それぞれの粉末材料と粉砕機にかけたアルミナスラリー（Ｐｕｒａｌｏｘ（登録商標） ＴＭ １００／１５０）を混合すること（ゼオライト系材料：アルミナの質量比＝７０：３０）によって成形体を製造した。撹拌下に、成形体を乾燥し、５５０℃で１時間か焼した。次いで、成形体を粉砕し、２５０～５００マイクロメートルの粒径に篩過した。
フレームワークタイプＡＥＩを有し、金属Ｍ（Ｃｕ）を含むゼオライト系材料の製造
実施例１から得られたゼオライト系材料（粉末）に、インシピエントウェットネスにより硝酸Ｃｕ水溶液を含浸させた。ここで、硝酸Ｃｕの量は、ゼオライト系材料に担持されているＣｕを含む最終的に得られた材料において、ＣｕＯとして計算して、Ｃｕを担持している最終的に得られたか焼ゼオライト系材料の全質量に対して４質量％、５質量％、および６質量％となるように選択した。含浸後、材料を乾燥し、次いで４５０℃で５時間か焼した。この粉末材料をベースにして、それぞれの粉末材料と粉砕機にかけたアルミナスラリー（Ｐｕｒａｌｏｘ（登録商標） ＴＭ １００／１５０）を混合すること（ゼオライト系材料：アルミナの質量比＝７０：３０）によって成形体を製造した。撹拌下に、成形体を乾燥し、５５０℃で１時間か焼した。次いで、成形体を粉砕し、２５０～５００マイクロメートルの粒径に篩過した。
【0265】
その後の試験には、それぞれ新鮮およびエージングしたＣｕ含有材料を使用した。エージングには、粉砕および篩過した粒子を、６５０℃で１０質量％の水を含む空気に５０時間付し、次に８００℃で１０質量％の水を含む空気に１６時間任意に付した。
【0266】
［実施例４］
フレームワークタイプＡＥＩを有し、金属Ｍ（Ｃｕ）を含むゼオライト系材料の製造
実施例２から得られたゼオライト系材料（粉末）をベースにして、新鮮およびエージングしたＣｕ含有材料を実施例３に記載されている方法に従って製造した。
フレームワークタイプＡＥＩを有し、金属Ｍ（Ｃｕ）を含むゼオライト系材料の製造
実施例２から得られたゼオライト系材料（粉末）をベースにして、新鮮およびエージングしたＣｕ含有材料を実施例３に記載されている方法に従って製造した。
【0267】
［実施例５］
フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を、酸化窒素を選択的に接触還元するために使用する方法
実施例３および４から得られたゼオライト系材料を選択的接触還元試験に付した。このために、それぞれ得られた新鮮およびエージングした試料（それぞれ１７０ｍｇ）を、試料と同じ粒径を有するコランダム１ｍＬで希釈した。所与の試料をフィード流（５００ｐｐｍ ＮＯ、５００ｐｐｍ ＮＨ３、５％Ｈ２Ｏ、１０％Ｏ２、残部Ｎ２）にガス時空間速度８０，０００／時、フィード流温度２００℃および５７５℃で曝露した。以下の結果（下記の表１を参照のこと）を得た。
フレームワークタイプＡＥＩを有するゼオライト系材料を、酸化窒素を選択的に接触還元するために使用する方法
実施例３および４から得られたゼオライト系材料を選択的接触還元試験に付した。このために、それぞれ得られた新鮮およびエージングした試料（それぞれ１７０ｍｇ）を、試料と同じ粒径を有するコランダム１ｍＬで希釈した。所与の試料をフィード流（５００ｐｐｍ ＮＯ、５００ｐｐｍ ＮＨ３、５％Ｈ２Ｏ、１０％Ｏ２、残部Ｎ２）にガス時空間速度８０，０００／時、フィード流温度２００℃および５７５℃で曝露した。以下の結果（下記の表１を参照のこと）を得た。
【0268】
【表1】
【0269】
引用文献
－国際公開第２０１３／０６８９７６号
－Ｄｉｎｎｅｂｉｅｒ，Ｒ．Ｅ．、Ｂｉｌｌｉｎｇｅ Ｓ．Ｊ．Ｌ．（編）「Ｐｏｗｄｅｒ ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ：ｔｈｅｏｒｙ ａｎｄ ｐｒａｃｔｉｃｅ」中のＭａｄｓｅｎ，Ｉ．Ｃ．、Ｓｃａｒｌｅｔｔ，Ｎ．Ｖ．Ｙ．（２００８年）「Ｑｕａｎｔｉｔａｔｉｖｅ ｐｈａｓｅ ａｎａｌｙｓｉｓ」、Ｔｈｅ Ｒｏｙａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｃａｍｂｒｉｄｇｅ、２９８～３３１頁
－国際公開第２０１３／１８２９７４号
－国際公開第２０１３／０６８９７６号
－Ｄｉｎｎｅｂｉｅｒ，Ｒ．Ｅ．、Ｂｉｌｌｉｎｇｅ Ｓ．Ｊ．Ｌ．（編）「Ｐｏｗｄｅｒ ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ：ｔｈｅｏｒｙ ａｎｄ ｐｒａｃｔｉｃｅ」中のＭａｄｓｅｎ，Ｉ．Ｃ．、Ｓｃａｒｌｅｔｔ，Ｎ．Ｖ．Ｙ．（２００８年）「Ｑｕａｎｔｉｔａｔｉｖｅ ｐｈａｓｅ ａｎａｌｙｓｉｓ」、Ｔｈｅ Ｒｏｙａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｃａｍｂｒｉｄｇｅ、２９８～３３１頁
－国際公開第２０１３／１８２９７４号
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【外国語明細書】