特開 2023-37433 締結構造

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023037433

(43)【公開日】2023-03-15

(54)【発明の名称】締結構造

(51)【国際特許分類】

   F16B 33/06 20060101AFI20230308BHJP

   C23C 16/455 20060101ALI20230308BHJP

   C23C 16/40 20060101ALI20230308BHJP

【ＦＩ】

F16B33/06 A

F16B33/06 C

C23C16/455

C23C16/40

【審査請求】未請求

【請求項の数】3

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2021144191

(22)【出願日】2021-09-03

(71)【出願人】

【識別番号】000003207

【氏名又は名称】トヨタ自動車株式会社

(71)【出願人】

【識別番号】504147243

【氏名又は名称】国立大学法人 岡山大学

(71)【出願人】

【識別番号】518126144

【氏名又は名称】株式会社三井Ｅ＆Ｓマシナリー

(74)【代理人】

【識別番号】100107766

【弁理士】

【氏名又は名称】伊東 忠重

(74)【代理人】

【識別番号】100070150

【弁理士】

【氏名又は名称】伊東 忠彦

(72)【発明者】

【氏名】両角 由貴夫

(72)【発明者】

【氏名】大宮 祐也

(72)【発明者】

【氏名】服部 望

(72)【発明者】

【氏名】牧野 貴明

(72)【発明者】

【氏名】石原 修二

【テーマコード（参考）】

4K030

【Ｆターム（参考）】

4K030AA03

4K030AA11

4K030AA14

4K030BA43

4K030CA02

4K030CA11

4K030EA03

4K030FA10

4K030HA01

4K030JA01

4K030LA02

4K030LA23

(57)【要約】

【課題】摩擦係数の変化を抑えて、小さい摩擦係数を安定して有することができる締結構造を提供する。
【解決手段】本発明に係る締結構造は、ボルトと、ナット又は構成部品とを螺合させることにより、複数の前記構成部品同士を締結する締結構造であって、前記ボルトと前記ナット若しくは前記構成部品との接触領域と、前記ナットと前記構成部品との接触領域との少なくとも一部の前記ボルト又は前記ナットが、原子層堆積法により形成されたアルミナ薄膜で被覆されている。
【選択図】図３

【特許請求の範囲】

【請求項1】

ボルトと、ナット又は構成部品とを螺合させることにより、複数の前記構成部品同士を締結する締結構造であって、
前記ボルトと前記ナット若しくは前記構成部品との接触領域と、前記ナットと前記構成部品との接触領域との少なくとも一部の前記ボルト又は前記ナットが、原子層堆積法により形成されたアルミナ薄膜で被覆されている締結構造。

【請求項2】

前記アルミナ薄膜の膜厚が、１００ｎｍ以下である請求項１に記載の締結構造。

【請求項3】

前記アルミナ薄膜の膜厚のばらつきが、±３０％以下である請求項１又は２に記載の締結構造。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、締結構造に関する。

【背景技術】

【0002】

車体部品や航空部品等のように金属等で形成された複数の構成部品の締結に、ボルトの雄ネジを構成部品の貫通孔に貫通させてナットの雌ネジに螺合させた締結構造が採用されている。ボルト及びナットは、ステンレス、ニッケル及びニッケル合金等の金属製であるため、ボルトとナットとの摩擦により、ボルトとナットとの焼付きが生じ易い。そのため、ボルトとナットとの焼付きが生じることを抑制するため、ボルトとナットの表面には摩擦抵抗を低下させる処理が施されている。

【0003】

摩擦抵抗を低下させる処理が施された締結構造として、例えば、締結部表面を、ポリオレフィンワックスエマルジョンと、ウレタン変性ポリオレフィンエマルジョン又はオレフィン・不飽和カルボン酸共重合体エマルジョンとを含有する水性液体からなる摩擦係数安定化剤により被覆した締結部材が開示されている（例えば、特許文献１参照）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２００６－２０６６８３号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

しかしながら、特許文献１の締結部材では、摩擦係数安定剤が樹脂成分で構成されているため、摩擦係数安定剤の耐熱温度は高くない。そのため、締結部材が高温（例えば、１００℃～１５０℃）に曝されると、摩擦係数安定剤の特性が変化することで摩擦係数が低下して、適切な摩擦係数を発揮できない、という問題があった。

【0006】

本発明の一態様は、摩擦係数の変化を抑えて、小さい摩擦係数を安定して有することができる締結構造を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明に係る締結構造の一態様は、ボルトと、ナット又は構成部品とを螺合させることにより、複数の前記構成部品同士を締結する締結構造であって、前記ボルトと前記ナット若しくは前記構成部品との接触領域と、前記ナットと前記構成部品との接触領域との少なくとも一部の前記ボルト又は前記ナットが、原子層堆積法により形成されたアルミナ薄膜で被覆されている。

【発明の効果】

【0008】

本発明に係る締結構造の一態様は、摩擦係数の変化を抑えて、小さい摩擦係数を安定して有することができる。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1】本発明の実施形態に係る締結構造を模式的に示す側面図である。

【図2】図１の締結構造を分解した状態を示す側面図である。

【図3】図１の締結構造を分解した状態を示す断面図である。

【図4】アルミナ薄膜の膜厚を変化させて締結構造のすべり試験を実施した時の滑り距離と摩擦係数との関係を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0010】

以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。なお、説明の理解を容易にするため、各図面において同一の構成要素に対しては同一の符号を付して、重複する説明は省略する。また、図面における各部材の縮尺は実際とは異なる場合がある。本明細書において数値範囲を示す「～」は、別段の断わりがない限り、その前後に記載された数値を下限値及び上限値として含むことを意味する。

【0011】

本発明の実施形態に係る締結構造について説明する。本実施形態に係る締結構造は、一方の締結部材であるボルト（ねじ）と、他方の締結部材であるナット又は１つ以上の構成部品とを螺合させることにより、複数の構成部品同士を締結する締結構造であり、ボルトと、ナット若しくは構成部品との接触領域と、ナットと構成部品との接触領域との少なくとも一部を原子層堆積（ＡＬＤ：Atomic Layer Deposition）法により形成されたアルミナ薄膜で被覆している。

【0012】

図１は、本発明の実施形態に係る締結構造を模式的に示す側面図であり、図２は、図１の締結構造を分解した状態を示す側面図であり、図３は、図１の締結構造を分解した状態を示す断面図である。図１～図３では、本実施形態に係る締結構造を構成するボルトとナットとを螺合させて、２つの構成部品を締結する形態について説明する。

【0013】

図１及び図２に示すように、本実施形態に係る締結構造１は、ボルト１０、ナット２０及びアルミナ薄膜３０を有し、ボルト１０とナット２０とを螺合させることにより、２つの構成部品２及び３を締結してよい。

【0014】

なお、図１～図３中の一点鎖線は、締結構造１の中心軸Ｊを示す。中心軸Ｊとは、ボルト１０とナット２０を螺合した時の締結構造１の中心となる軸である。

【0015】

図１及び図２に示すように、ボルト１０は、構成部品２及び３のボルト孔２Ａ及び３Ａに挿入されるフランジ付き六角ボルトであり、頭部１１及び軸部１２を有する。

【0016】

頭部１１は、基体１１１及びフランジ部１１２を有する。

【0017】

基体１１１は、柱状部材であり、平面視において略六角形に形成されている。基体１１１の平面視における形状は、特に限定されず、略三角形、略四角形等の多角形及び円形等でもよい。

【0018】

フランジ部１１２は、円盤状の部材であり、基体１１１の一方の端面（図１～図３では、下側の端面）に設けられる。フランジ部１１２は、基体１１１よりも大径に形成されている。

【0019】

軸部１２は、頭部１１の裏面に対して略直角となるように、頭部１１から延設されている。軸部１２は、円柱状に形成されており、先端部１２ａからその途中にかけて、ナット２０の雌ネジ（内ネジ）２０ａに螺合可能に形成された雄ネジ（外ネジ）１２１を有する。

【0020】

基体１１１、フランジ部１１２及び軸部１２は、一体に形成されてもよいし、溶接、接着剤等により接合して形成されてもよい。

【0021】

図１及び図２に示すように、ナット２０は、構成部品２及び３を挟んでボルト１０の雄ネジ１２１に締め付けられるフランジ付き六角ナットであり、ナット基体２１及びフランジ部２２を有する。

【0022】

ナット基体２１は、頭部１１の基体１１１と同様、柱状部材であり、平面視において略六角形に形成されている。ナット基体２１の平面視における形状は、特に限定されず、略三角形、略四角形等の多角形及び円形等でもよい。

【0023】

フランジ部２２は、ナット基体２１の一方の端面（図１～図３では、上側の端面）に形成され、ナット基体２１よりも大径に形成されている。

【0024】

図３に示すように、ナット２０は、その貫通孔の壁面に、ボルト１０の雄ネジ１２１と螺合させる雌ネジ２０ａを有する。雌ネジ２０ａは、ナット基体２１の貫通孔の壁面に設けられる雌ネジ２１ａと、フランジ部２２の貫通孔の壁面に設けられる雌ネジ２２ａとを有する。

【0025】

ボルト１０及びナット２０を形成する材料としては、鋼鉄、ステンレス、チタン、ニッケル、ニッケル合金、アルミニウム、アルミニウム合金、真鍮等の金属を用いることができる。

【0026】

ボルト１０及びナット２０は、これらの一部又は全部が表面処理されていてもよい。表面処理として、例えば、めっき処理、リン酸処理、黒染処理、金属浸透処理、亜鉛－クロム処理、三価クロム化成皮膜処理（三価クロメート処理）等を用いることができる。

【0027】

アルミナ薄膜３０は、ボルト１０とナット２０とが互いに接触する接触領域と、ボルト１０と構成部品２とが互いに接触する接触領域と、ナット２０と構成部品３とが互いに接触する接触領域との少なくとも一部のボルト１０又はナット２０が被覆されるように設けられてよい。

【0028】

本実施形態では、接触領域は、フランジ部１１２の一方の端面（図１～図３では、下側の端面）１１２ａと、軸部１２の雄ネジ１２１と、ナット２０の雌ネジ２０ａと、フランジ部２２の一方の端面（図１～図３では、上側の端面）２２ｂとの４つの領域である。図３に示すように、アルミナ薄膜３０は、これらの４つの領域に設けてよい。なお、アルミナ薄膜３０は、これらの４つの領域の何れかに設けられればよく、これらの４つの領域のうちの１つ～３つの領域に設けられてもよい。

【0029】

アルミナ薄膜３０は、ＡＬＤ法により形成される。ＡＬＤ法は、真空成膜技術の１つであり、原子の自己制御性を利用して、堆積対象である、ボルト１０又はナット２０の上記の接触領域の少なくとも一部に気相原料を暴露し、１原子層ごとに薄膜を製膜する手法である。ＡＬＤ法は気相成長法（ＣＶＤ）等の他の一般的な成膜方法よりも高い被覆率を有するように成膜できる。そのため、アルミナ薄膜３０は、ボルト１０又はナット２０の上記の接触領域の少なくとも一部をこれらの形状に沿うように略均一な膜厚で被覆することができる。

【0030】

また、ＡＬＤ法は１原子層ごとに成膜できるため、ＡＬＤ法により形成されるアルミナ薄膜３０にクラックや欠陥が生じたり、アルミナ薄膜３０の内部又は表面にパーティクル等の粒子が付着する等の不具合が生じ難いため、アルミナ薄膜３０は、他の一般的な成膜方法に形成される場合に比べて膜欠陥を少なくできる。

【0031】

さらに、ＡＬＤ法は表面反応を用いた成膜方法であるため、膜厚を例えば数ｎｍ～数十ｎｍに制御して成膜することができる。そのため、アルミナ薄膜３０が、例えば膜厚３．５ｎｍの薄膜でも、アルミナ薄膜３０は、ボルト１０又はナット２０の上記の接触領域の少なくとも一部を略均一な膜厚で確実に被覆することができる。

【0032】

アルミナ薄膜３０は、ＡＬＤ法により形成されることで、ボルト１０又はナット２０の上記の接触領域に略均一な膜厚で被覆できるため、外部からの水分及び酸素の侵入を抑制でき、構成部品２及び３の劣化を抑制することができる。

【0033】

アルミナ薄膜３０の膜厚は、１００ｎｍ以下が好ましく、１ｎｍ～３５ｎｍがより好ましく、３．５ｎｍ～３０ｎｍがさらに好ましい。アルミナ薄膜３０の膜厚が１００ｎｍ以下であれば、アルミナ薄膜３０はその表面の摩擦係数の低減効果を発揮することができる。アルミナ薄膜３０の膜厚が１ｎｍ～３５ｎｍであれば、表面の摩擦係数を小さくすることができると共に、ボルト１０及びナット２０からの剥離を抑制することができる。

【0034】

なお、本明細書において、アルミナ薄膜３０の膜厚とは、アルミナ薄膜３０の主面に垂直な方向の長さをいう。アルミナ薄膜３０の膜厚は、例えば、アルミナ薄膜３０の断面において、任意の場所を測定した時の厚さである。アルミナ薄膜３０の断面において、任意の場所で数カ所測定した場合は、これらの測定箇所の厚さの平均値としてもよい。

【0035】

図４は、アルミナ薄膜の膜厚を変化させて締結構造のすべり試験を実施した時の滑り距離と摩擦係数との関係を示す図である。なお、アルミナ薄膜を形成する基材には、ＳＵＳ３０４を用い、摩擦係数は、往復摺動試験機を用いて、アルミナ薄膜を形成する基材上に球体（ボール）を一方向に往復させながら測定した。球体の荷重は８．６Ｎであり、面圧は９３４ＭＰａであり、球体の移動速度は３３ｍｍ／秒であり、球体を一方向に往復させた時の最大の滑り距離は５００ｍｍであり、球体の滑り距離の測定時間は１５秒であり、アルミナ薄膜を形成する基材上の状態は乾燥状態とした。図４中の滑り距離は、往復摺動試験機を用いて、プレート上に球体を往復させた時の長さの和を示す。図４中、例１は、基材に形成したアルミナ薄膜の膜厚が３．５ｎｍであり、例２は、基材に形成したアルミナ薄膜の膜厚が３５ｎｍであり、例３は、基材に形成したアルミナ薄膜の膜厚が１８０ｎｍであり、例４は、基材にアルミナ薄膜を形成しなかった。

【0036】

図４に示すように、アルミナ薄膜の膜厚が３．５ｎｍ～３５ｎｍでは、摩擦係数は、安定して約０．１５以下に低く抑えられることが確認された。

【0037】

アルミナ薄膜３０の膜厚のばらつきは、±３０％以下であることが好ましく、±２５％以下がより好ましく、±２０％以下がさらに好ましい。アルミナ薄膜３０の膜厚のばらつきが上記の好ましい範囲内であれば、アルミナ薄膜３０の表面の均一性が高められ、アルミナ薄膜３０はその表面の摩擦係数の低減効果をより発揮することができる。

【0038】

なお、本明細書において、アルミナ薄膜３０の膜厚のばらつきとは、アルミナ薄膜３０の断面において、任意の場所で数カ所測定し、これらの測定箇所の厚さの最大値と最小値との差を上記測定箇所のアルミナ薄膜３０の厚さの平均値で除した値に１００を乗じた値（アルミナ薄膜３０の膜厚のばらつき（％）＝（アルミナ薄膜３０の厚さの最大値－アルミナ薄膜３０の厚さの最小値）／アルミナ薄膜３０の厚さの平均値×１００）としてもよい。また、アルミナ薄膜３０の膜厚のばらつきは、アルミナ薄膜３０の上記測定箇所の厚さの平均値からの偏差を、アルミナ薄膜３０の厚さの平均値で除した値に１００を乗じた値（アルミナ薄膜３０の膜厚のばらつき（％）＝（アルミナ薄膜３０の厚さの平均値からの偏差）／アルミナ薄膜３０の厚さの平均値×１００）としてもよい。

【0039】

締結構造１の製造方法について説明する。図２に示すように、まず、ボルト１０又はナット２０の接触領域に、ＡＬＤ法を用いて、アルミナ薄膜３０を形成する（アルミナ薄膜の形成工程）。

【0040】

接触領域は、上述の通り、フランジ部１１２の一方の端面１１２ａと、軸部１２の雄ネジ１２１と、ナット２０の雌ネジ２０ａと、フランジ部２２の一方の端面２２ｂとの４つの領域である。

【0041】

ＡＬＤ法の成膜条件について説明する。

【0042】

ＡＬＤ法を用いて、アルミナ薄膜３０を形成する際、ボルト１０又はナット２０の上記の接触領域の少なくとも一部のみを露出させ、その他の部分は被覆し、反応装置内に設置する。そして、前駆体として、アルミナ薄膜３０を形成する材料を反応装置内に供給して、ボルト１０又はナット２０の上記の接触領域の少なくとも一部に付着させる。

【0043】

アルミナ薄膜３０を形成する材料には、アルミニウム化合物を用いることが好ましい。アルミニウム化合物は、アルミニウムを含み、気化できるガス成分であればよく、例えば、トリメチルアルミニウム（ＴＭＡ）、トリエチルアルミニウム（ＴＥＡ）、トリクロロアルミニウム及びジメチルアルミニウムハイドライド（ＤＭＡＨ）等を用いることができる。

【0044】

アルミナ薄膜３０を形成する材料を、ボルト１０又はナット２０の上記の接触領域の少なくとも一部に付着させた後、残りのアルミナ薄膜３０を形成する材料を反応装置内から排気する。その後、酸化剤を反応装置内に供給して、ボルト１０又はナット２０の上記の接触領域の少なくとも一部に付着させたアルミナ薄膜３０を形成する材料と反応させてアルミナを形成する。

【0045】

酸化剤は、アルミニウム化合物を酸化できる材料であればよく、例えば、水蒸気、オゾン及びプラズマで励起された酸素ラジカル等を用いることができる。

【0046】

反応装置内の反応時間は、特に限定されず、適宜設計可能である。

【0047】

反応装置内の反応温度は、適宜設計可能であり、４００℃以下であることが好ましい。

【0048】

ＡＬＤ法の成膜条件によりアルミナ薄膜３０を成膜することで、アルミナ薄膜３０が軸部１２の雄ネジ１２１及びナット２０の雌ネジ２０ａ等のようなネジ山等の凹凸部分に成膜されても、アルミナ薄膜３０の膜厚のばらつきは±３０％以下に抑えることができる。

【0049】

次に、ボルト１０の軸部１２を構成部品２及び３のボルト孔２Ａ及び３Ａに挿入して、軸部１２の先端部１２ａからその途中にかけて形成した雄ネジ１２１をナット２０の雌ネジ２０ａに螺合させることで、ボルト１０とナット２０とを締結する（締結工程）。

【0050】

これにより、構成部品２及び３をボルト１０とナット２０とで締結した締結構造１が得られる。

【0051】

このように、締結構造１は、上記の接触領域の少なくとも一部のボルト１０又はナット２０をＡＬＤ法により形成されたアルミナ薄膜３０で被覆している。アルミナ薄膜３０は、ＡＬＤ法により形成されるため、アルミナ薄膜３０の表面は滑らかであり、凹凸のバラツキが小さくできるため、摩擦係数を小さく抑えることができる。また、締結構造１が、高温（例えば、１００℃～１５０℃）の環境下に置かれても、アルミナ薄膜３０の特性の変化を抑えることができるので、所望の摩擦係数を安定して維持することができる。よって、締結構造１は、ボルト１０又はナット２０の上記の接触領域の少なくとも一部の摩擦係数の変化を抑えて、小さい摩擦係数を安定して有することができる。摩擦係数は、例えば、０．２以下、より好ましくは０．１５以下にできる。

【0052】

締結構造１は、ボルト１０及びナット２０が締め付け易くなるので、より小さい力（トルク）で締め付ける際に要求される軸力を得ることができる。実際の締結作業では、一般に軸力の管理は、トルクの大きさで管理される。一定の軸力をより小さいトルクで得るためには、摩擦係数が安定してより小さく抑えられる必要がある。締結構造１は、構成部品２及び３同士を締結する際、ボルト１０とナット２０とを安定してより小さいトルクで螺合させることができるので、小さいトルクでも構成部品２及び３の締結を確実に行なうことができる。

【0053】

なお、摩擦係数とは、ボルト１０及びナット２０が締付けにより摺動した時の総合摩擦係数μをいう。摩擦係数は、ボルト１０及びナット２０の上記の接触領域で生じる様々な摩擦係数を総合した値である。なお、様々な摩擦係数を総合した値は、様々な摩擦係数を代表する値でもよいし、様々な摩擦係数を統合した値でもよい。なお、上記の、総合した値、代表した値及び統合した値は、いずれも、接触領域で生じる様々な摩擦係数を合わせた値ではなく、接触領域で生じる様々な摩擦係数を平均した値でもよい。

【0054】

一般に、ボルト及びナットがステンレスを用いて形成される場合、ステンレスは熱伝導率が炭素鋼等よりも小さく、摩擦係数が大きいため、締結時にボルトとナットに特に焼き付けが生じ易い傾向にある。締結構造１は、ボルト１０及びナット２０がステンレスを用いて形成される場合でも、これらの接触領域の摩擦係数を安定して小さくすることができるので、締結時にボルト１０及びナット２０の接触領域での発熱を抑えることができる。これにより、ボルト１０及びナット２０を焼付き難くすることができる。

【0055】

ボルト１０及びナット２０の表面には、防錆処理として三価クロメート処理を施して、三価クロムのクロメート（クロム酸塩）を含む防錆皮膜を形成することがある。ボルト１０及びナット２０がその表面に防錆皮膜を有していても、締結構造１は、ボルト１０及びナット２０の接触領域にアルミナ薄膜３０を有することで、接触領域の摩擦係数は安定して小さい状態を維持することができるので、ボルト１０及びナット２０の締結時により小さいトルクで要求される軸力を得ることができる。

【0056】

締結構造１は、アルミナ薄膜３０の膜厚を１００ｎｍ以下にできる。アルミナ薄膜３０の膜厚が１００ｎｍ以下であれば、アルミナ薄膜３０の摩擦係数を十分小さく抑えることができる。よって、締結構造１は、ボルト１０又はナット２０の上記の接触領域の少なくとも一部の摩擦係数の変化を十分に抑えることができるため、小さい摩擦係数をより安定して有することができる。

【0057】

締結構造１は、アルミナ薄膜３０の膜厚のばらつきを±３０％以下にすることができる。これにより、アルミナ薄膜３０の表面はより滑らかとし、凹凸のバラツキをより小さくできるため、アルミナ薄膜３０の摩擦係数はさらに小さく抑えることができる。このため、締結構造１は、ボルト１０又はナット２０の上記の接触領域の少なくとも一部の摩擦係数の変化をさらに抑えることができるため、小さい摩擦係数を更に安定して有することができる。

【0058】

締結構造１は、上述の通り、高温の条件下に曝されても、ボルト１０又はナット２０の上記の接触領域の少なくとも一部の摩擦係数の変化を抑えて、小さい摩擦係数を安定して有することができる。そのため、締結構造１は、車両、航空機、人工衛星等の宇宙関連構造物のように、高温条件下で用いる、車体部品、航空部品、宇宙用部品等の固定に好適に用いることができる。

【0059】

なお、本実施形態においては、ボルト１０が構成部品２及び３のボルト孔２Ａ及び３Ａを貫通してナット２０と螺合させる場合について説明したが、構成部品２及び３のボルト孔２Ａ及び３Ａに雌ねじを形成し、ボルト１０をボルト孔２Ａ及び３Ａに螺合させてもよい。

【0060】

本実施形態においては、一方の締結部材は、ボルト１０に代えて、ねじ込みボルト、埋め込みボルト、タップねじ等を用いてもよい。この場合、構成部品２及び３のボルト孔２Ａ及び３Ａを雌ねじとしてよい。これにより、本実施形態に係る締結構造１は、ねじ込みボルト、埋め込みボルト、タップねじ等をボルト孔２Ａ及び３Ａと螺合させることで構成できる。

【0061】

本実施形態においては、締結構造１は、２つの構成部品２及び３を締結しているが、構成部品は１つでもよいし、３つ以上でもよい。

【0062】

以上の通り、実施形態を説明したが、上記実施形態は、例として提示したものであり、上記実施形態により本発明が限定されるものではない。上記実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の組み合わせ、省略、置き換え、変更などを行うことが可能である。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると共に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

【符号の説明】

【0063】

１ 締結構造
２、３ 構成部品
１０ ボルト
１１ 頭部
１１１ 基体
１１２、２２ フランジ部
１１２ａ、２２ｂ 端面
１２ 軸部
１２１ 雄ネジ（外ネジ）
２０ ナット
２０ａ、２１ａ、２２ａ 雌ネジ（内ネジ）
２１ ナット基体
３０ アルミナ薄膜

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】