(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023037588
(43)【公開日】2023-03-15
(54)【発明の名称】バブル測定ユニットとこれを含む基板処理装置及びバブル測定方法
(51)【国際特許分類】
H01L 21/027 20060101AFI20230308BHJP
G01N 21/956 20060101ALI20230308BHJP
【FI】
H01L21/30 564C
G01N21/956 Z
【審査請求】有
【請求項の数】20
【出願形態】OL
(21)【出願番号】P 2022131515
(22)【出願日】2022-08-22
(31)【優先権主張番号】10-2021-0117424
(32)【優先日】2021-09-03
(33)【優先権主張国・地域又は機関】KR
(71)【出願人】
【識別番号】518162784
【氏名又は名称】セメス カンパニー,リミテッド
(71)【出願人】
【識別番号】519001383
【氏名又は名称】ソウル ナショナル ユニバーシティ アールアンドディービー ファウンデーション
(74)【代理人】
【識別番号】100114775
【弁理士】
【氏名又は名称】高岡 亮一
(74)【代理人】
【識別番号】100121511
【弁理士】
【氏名又は名称】小田 直
(74)【代理人】
【識別番号】100202751
【弁理士】
【氏名又は名称】岩堀 明代
(74)【代理人】
【識別番号】100208580
【弁理士】
【氏名又は名称】三好 玲奈
(74)【代理人】
【識別番号】100191086
【弁理士】
【氏名又は名称】高橋 香元
(72)【発明者】
【氏名】ゴ,チョン ソク
(72)【発明者】
【氏名】チョ,ア ラ
(72)【発明者】
【氏名】パク,ヒョン ミン
(72)【発明者】
【氏名】ピャオ,リン フェン
(72)【発明者】
【氏名】イ,ジュ ボム
(72)【発明者】
【氏名】イ,ジョン ジン
【テーマコード(参考)】
2G051
5F146
【Fターム(参考)】
2G051AA51
2G051AA56
2G051AB12
2G051BB03
2G051CA04
2G051CB02
2G051EA16
5F146JA01
5F146JA04
(57)【要約】
【課題】液供給ユニットの内部を流動する液に含まれたバブルを測定することができるバブル測定ユニットとこれを含む基板処理装置及びバブル測定方法を提供する。
【解決手段】本発明は基板を処理する装置を提供する。基板を処理する装置は基板に対して液を供給する液供給ユニット、前記液供給ユニットに提供された部品に設置され、検査領域を提供する透光性材質のカバー、及び前記検査領域に提供された前記部品の内部を流動する前記液に含まれるバブルを検査する検査ユニットを含み、前記検査ユニットは前記カバーの外側で前記検査領域に向かって光を照射する光源、前記カバーの外側に位置され、前記検査領域を通過した前記光を受光する受光部及び前記受光部で受光した前記光から前記バブルを検査する検査部を含むことができる。
【選択図】
図9
【特許請求の範囲】
【請求項1】
基板を処理する装置において、
基板に対して液を供給する液供給ユニットと、
前記液供給ユニットに提供された部品に設置され、検査領域を提供する透光性材質のカバーと、
前記検査領域に提供された前記部品の内部を流動する前記液に含まれるバブルを検査する検査ユニットと、を含み、
前記噴射ユニットは、
前記カバーの外側から前記検査領域に向かって光を照射する光源と、
前記カバーの外側に位置され、前記検査領域を通過した前記光を受光する受光部と、
前記受光部で受光した前記光から前記バブルを検査する検査部と、を含む基板処理装置。
【請求項2】
前記カバーと前記部品との間に空間が提供されるように前記カバーは、前記部品を囲むように提供され、
前記空間には、
前記検査領域に提供された前記部品の材質と同一な屈折率を有する物質で満たされる請求項1に記載の基板処理装置。
【請求項3】
前記チャンバーは、
前記空間に満たされる前記物質より高い屈折率を有する材質で提供される請求項2に記載の基板処理装置。
【請求項4】
前記物質は、液体である請求項3に記載の基板処理装置。
【請求項5】
前記部品は、その長さ方向に垂直になる断面が曲線で形成され、
前記光源と対向する前記カバーの第1面は、平面で提供され、
前記光源は、前記第1面に垂直になる方向に前記光を照射する請求項1に記載の基板処理装置。
【請求項6】
前記第1面と対向する前記カバーの第2面は、前記第1面と平行に提供される請求項5に記載の基板処理装置。
【請求項7】
前記噴射ユニットは、
前記光源と前記第1面との間に位置し、前記光源で照射される前記光を拡散させる拡散板をさらに含む請求項6に記載の基板処理装置。
【請求項8】
前記軸供給ユニットは、
基板に液を吐出する液供給ノズルと、
前記液が貯蔵されるタンクと、
前記液供給ノズルに供給される前記液に流動圧を提供するポンプと、
前記タンクから前記液供給ノズルに前記液が供給される液供給ラインと、を含む請求項1乃至請求項7のいずれかの一項に記載の基板処理装置。
【請求項9】
前記カバーは、前記液供給ラインに設置される請求項8に記載の基板処理装置。
【請求項10】
前記カバーは、前記タンクに設置される請求項8に記載の基板処理装置。
【請求項11】
前記カバーは、前記液供給ノズルに設置される請求項8に記載の基板処理装置。
【請求項12】
前記カバーは、前記ポンプに設置される請求項8に記載の基板処理装置。
【請求項13】
部品の内部で流動する液に含まれたバブルを測定するユニットにおいて、
前記部品に設置され、検査領域を提供する透光性材質のカバーと、
前記検査領域に提供された前記部品の内部を流動する前記液に含まれるバブルを検査する検査ユニットと、を含み、
前記噴射ユニットは、
前記カバーの外側から前記検査領域に向かって光を照射する光源と、
前記カバーの外側に位置され、前記検査領域を通過した前記光を受光する受光部と、
前記受光部で受光した前記光から前記バブルを検査する検査部と、を含むバブル測定ユニット。
【請求項14】
前記カバーと前記部品との間に空間が提供されるように前記カバーは、前記部品を囲むように提供され、
前記空間には、、
前記検査領域に提供された前記部品の材質と同一な屈折率を有する物質で満たされる請求項13に記載のバブル測定ユニット。
【請求項15】
前記チャンバーは、
前記空間に満たされる前記物質より高い屈折率を有する材質で提供される請求項14に記載のバブル測定ユニット。
【請求項16】
前記部品は、その長さ方向に垂直になる断面が曲線で形成され、
前記光源と対向する前記カバーの第1面は、平面で提供され
前記第1面と対向する前記カバーの第2面は、前記第1面と平行に提供され、
前記光源は、前記第1面に垂直になる方向に前記光を照射する請求項14に記載のバブル測定ユニット。
【請求項17】
部品内に貯蔵されるか、或いは部品の内部を流れる液に含まれたバブルを測定する方法において、
前記部品の検査領域をカバーで囲み、前記カバーの外側で前記検査領域に光を照射し、前記検査領域を通過した前記光を受光して前記部品の内部に貯蔵されるか、或いは前記部品の内部に流れる前記液に含まれたバブルのイメージを獲得し、前記イメージから前記部品の内部に形成された前記バブルを検査するバブル測定方法。
【請求項18】
前記カバーと前記部品との間には前記部品の材質と同一な屈折率を有する物質が満たされる請求項17に記載のバブル測定方法。
【請求項19】
前記カバーは、前記物質より高い屈折率を有する材質で提供される請求項1に記載のバブル測定方法。
【請求項20】
前記部品は、その長さ方向に垂直になる断面が曲線で形成され、
前記光が照射される光源と対向する前記カバーの第1面は、平面で提供され、
前記第1面と対向する前記カバーの第2面は、前記第1面と平行に提供され、
前記光源は、前記第1面に垂直になる方向に前記光を照射する請求項17乃至請求項18のいずれかの一項に記載のバブル測定方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明はバブル測定ユニットとこれを含む基板処理装置及びバブル測定方法に関し、さらに詳細には流動する液に含まれるバブルを測定するバブル測定ユニットとこれを含む基板処理装置及びバブル測定方法に関する。
【背景技術】
【0002】
半導体素子を製造するためには洗浄、蒸着、写真、蝕刻、そしてイオン注入のような様々な工程が遂行される。このような工程の中で写真工程は基板の表面にフォトレジストのような感光液を塗布して膜を形成する塗布工程、基板に形成された膜に回路パターンを転写する露光工程、露光処理された領域、又はその反対領域で選択的に基板上に形成された膜を除去する現像工程を含む。
【0003】
洗浄、蒸着、写真、蝕刻、そしてイオン注入のような様々な工程において、液を供給する装置を構成する部品の内部を流動する液にはバブルが形成されることができる。バブルが含まれた液が基板上に供給される場合、基板上に形成される液の厚さの均一性を低下させる。したがって、基板の収率が減少する問題点を引き起こす。
【0004】
したがって、部品の内部を流動するバブルの数及びサイズを感知して部品の内部を流動する液からバブルを除去しなければならない。したがって、部品の内部を流動する液に含まれたバブルの数及びサイズを正確に測定しなければならない。液供給装置を構成する部品はその長さ方向に垂直になる断面が曲線で形成されることができる。部品の断面が曲線をなす場合、部品の境界面に向かって照射された光が反射又は屈折されることができる。光が反射されるか、或いは屈折されることによって、部品の内部を流動するバブルの形状が歪むことができる。したがって、部品に向かって光を照射して部品の内部を流動する液に含まれるバブルを検出することは難しい。これは部品の内部に流動するバブルのサイズ及び数を正確に測定することを妨害する。このような問題は部品の内部に流動するバブルのサイズが10μm以下の微細なサイズを有するバブルの場合、さらに深くなる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】国際特許公開第WO2016084927A1号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
本発明の目的は液供給ユニットの内部を流動する液に含まれたバブルを測定することができるバブル測定ユニットとこれを含む基板処理装置及びバブル測定方法を提供することにある。
また、本発明の目的は液供給ユニットに提供される部品の境界面で入射された光が屈折されることを最小化することができるバブル測定ユニットとこれを含む基板処理装置及びバブル測定方法を提供することにある。
【0007】
また、本発明の目的は液供給ユニットに提供される部品の断面形状とは無関係に一定のバブルイメージを獲得することができるバブル測定ユニットとこれを含む基板処理装置及びバブル測定方法を提供することにある。
【0008】
本発明の目的はここに制限されなく、言及されないその他の目的は下の記載から当業者に明確に理解されるべきである。
【課題を解決するための手段】
【0009】
基板を処理する装置は基板に対して液を供給する液供給ユニット、前記液供給ユニットに提供された部品に設置され、検査領域を提供する透光性材質のカバー、及び前記検査領域に提供された前記部品の内部を流動する前記液に含まれるバブルを検査する検査ユニットを含み、、前記検査ユニットは前記カバーの外側で前記検査領域に向かって光を照射する光源、前記カバーの外側に位置され、前記検査領域を通過した前記光を受光する受光部、及び前記受光部で受光した前記光から前記バブルを検査する検査部を含むことができる。
【0010】
一実施形態によれば、前記カバーと前記部品との間に空間が提供されるように前記カバーは前記部品を囲むように提供され、前記空間には前記検査領域に提供された前記部品の材質と同一な屈折率を有する物質で満たされることができる。
【0011】
一実施形態によれば、前記カバーは前記空間に満たされる前記物質より高い屈折率を有する材質で提供されることができる。
【0012】
一実施形態によれば、前記物質は液体であり得る。
【0013】
一実施形態によれば、前記部品はその長さ方向に垂直になる断面が曲線で形成され、前記光源と対向する前記カバーの第1面は平面で提供され、前記光源は前記第1面に垂直になる方向に前記光を照射することができる。
【0014】
一実施形態によれば、前記第1面と対向する前記カバーの第2面は前記第1面と平行に提供されることができる。
【0015】
一実施形態によれば、前記検査ユニットは前記光源と前記第1面との間に位置し、前記光源で照射される前記光を拡散させる拡散板をさらに含むことができる。
【0016】
一実施形態によれば、前記液供給ユニットは基板に液を吐出する液供給ノズル、前記液が貯蔵されるタンク及び前記液供給ノズルに供給される前記液に流動圧を提供するポンプ及び前記タンクから前記液供給ノズルに前記液が供給される液供給ラインを含むことができる。
【0017】
一実施形態によれば、前記カバーは前記液供給ラインに設置されることができる。
【0018】
一実施形態によれば、前記カバーは前記タンクに設置されることができる。
【0019】
一実施形態によれば、前記カバーは前記ポンプに設置されることができる。
【0020】
また、本発明は部品の内部で流動する液に含まれたバブルを測定するユニットを提供する。バブル測定ユニットは前記部品に設置され、検査領域を提供する透光性材質のカバー及び前記検査領域に提供された前記部品の内部を流動する前記液に含まれるバブルを検査する検査ユニットを含み、、前記検査ユニットは前記カバーの外側で前記検査領域に向かって光を照射する光源、前記カバーの外側に位置され、前記検査領域を通過した前記光を受光する受光部、及び前記受光部で受光した前記光から前記バブルを検査する検査部を含むことができる。
【0021】
一実施形態によれば、前記カバーと前記部品との間に空間が提供されるように前記カバーは前記部品を囲むように提供され、前記空間には前記検査領域に提供された前記部品の材質と同一な屈折率を有する物質で満たされることができる。
【0022】
一実施形態によれば、前記カバーは前記空間に満たされる前記物質より高い屈折率を有する材質で提供されることができる。
【0023】
一実施形態によれば、前記部品はその長さ方向に垂直になる断面が曲線で形成され、前記光源と対向する前記カバーの第1面は平面で提供され、前記第1面と対向する前記カバーの第2面は前記第1面と平行に提供され、前記光源は前記第1面に垂直になる方向に前記光を照射することができる。
【0024】
また、本発明は部品内に貯蔵されるか、或いは部品の内部を流れる液に含まれたバブルを測定する方法を提供する。バブル測定方法は前記部品の検査領域をカバーで囲み、前記カバーの外側で前記検査領域に光を照射し、前記検査領域を通過した前記光を受光して前記部品の内部に貯蔵されるか、或いは前記部品の内部に流れる前記液に含まれたバブルのイメージを獲得し、前記イメージから前記部品の内部に形成された前記バブルを検査することができる。
【0025】
一実施形態によれば、前記カバーと前記部品との間には前記部品の材質と同一な屈折率を有する物質が満たされることができる。
【0026】
一実施形態によれば、前記カバーは前記物質より高い屈折率を有する材質で提供されることができる。
【0027】
一実施形態によれば、前記部品はその長さ方向に垂直になる断面が曲線で形成され、前記光が照射される光源と対向する前記カバーの第1面は平面で提供され、前記第1面と対向する前記カバーの第2面は前記第1面と平行に提供され、前記光源は前記第1面に垂直になる方向に前記光を照射することができる。
【発明の効果】
【0028】
本発明の一実施形態によれば、液供給ユニットの内部を流動する液に含まれたバブルを測定することができる。
【0029】
また、本発明の一実施形態によれば、液供給ユニットに提供される部品の境界面で入射された光が屈折されることを最小化することができる。
【0030】
また、本発明の一実施形態によれば、液供給ユニットに提供される部品の断面形状とは無関係に一定のバブルイメージを獲得することができる。
【0031】
本発明の効果が上述した効果によって限定されることではなく、言及されない効果は本明細書及び添付された図面から本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に明確に理解されるべきである。
【図面の簡単な説明】
【0032】
【
図1】本発明の一実施形態による基板処理装置を概略的に示す斜視図である。
【
図2】
図1の塗布ブロック又は現像ブロックを概略的に示す基板処理装置の正面図である。
【
図3】
図1の基板処理装置を概略的に示す平面図である。
【
図4】
図3の搬送チャンバーに提供されるハンドの一例を示す図面である。
【
図5】
図3の熱処理チャンバーの一例を概略的に示す平面図である。
【
図7】
図3の液処理チャンバーの一例を概略的に示す図面である。
【
図8】
図7の液処理チャンバーに液を供給する液供給ユニットを概略的に示す図面である。
【
図9】
図8の液供給ユニットに提供されるバブル測定ユニットを概略的に示す斜視図である。
【
図11】
図8のバブル測定ユニットを正面から見た図面である。
【
図12】本発明の一実施形態によるバブル測定方法に対する順序図である。
【発明を実施するための形態】
【0033】
以下、本発明の実施形態を添付された図面を参照してさらに詳細に説明する。本発明の実施形態は々な形態に変形されることができ、本発明の範囲が下で説明する実施形態によって限定されないことと解釈されてはならない。本実施形態は当業界で平均的な知識を有する者に本発明をさらに完全に説明するために提供されることである。したがって、図面での構成要素の形状はより明確な説明を強調するために誇張されたものである。
【0034】
以下、
図1乃至
図12を参照して本発明の一例を詳細に説明する。下の実施形態では基板処理装置に基板上にフォトレジストを塗布し、露光後基板を現像する工程を遂行する装置を例として説明する。しかし、本発明はこれに限定されななく、回転する基板に液を供給して基板を処理する多様な種類の装置に適用可能である。例えば、基板処理装置は基板に洗浄液を供給して基板上に異物を除去するか、又は基板に薬液を供給して基板で薄膜を除去する工程を遂行する装置であり得る。
【0035】
図1は本発明の一実施形態による基板処理装置を概略的に示す斜視図であり、
図2は
図1の基板処理装置の正面図である。
図3は
図1の基板処理装置の平面図である。
【0036】
図1乃至
図3を参照すれば、基板処理装置1はインデックスモジュール10(Index module)、処理モジュール20(Treating module)、そしてインターフェイスモジュール30(Interface module)を含む。一実施形態によれば、インデックスモジュール10、処理モジュール20、そしてインターフェイスモジュール30は順次的に一列に配置される。以下、インデックスモジュール10、処理モジュール20、そしてインターフェイスモジュール30が配列された方向を第1方向2とし、上部から見る時、第1方向2と垂直になる方向を第2方向4とし、第1方向2及び第2方向4を全て含む平面に垂直になる方向を第3方向6と定義する。
【0037】
インデックスモジュール10は基板Wが収納された容器Fから基板Wを処理する処理モジュール20に基板Wを搬送する。インデックスモジュール10は処理モジュール20で処理が完了された基板Wを容器Fに収納する。インデックスモジュール10の長さ方向は第2方向4に提供される。インデックスモジュール10はロードポート120とインデックスフレーム140を有する。
【0038】
ロードポート120には基板Wが収納された容器Fが安着される。ロードポート120はインデックスフレーム140を基準に処理モジュール20の反対側に位置する。ロードポート120は複数が提供されることができ、複数のロードポート120は第2方向4に沿って一列に配置されることができる。ロードポート120の数は処理モジュール20の工程効率及びフットプリント条件等に応じて増加するか、又は減少することができる。
【0039】
容器Fには基板Wを地面に対して水平に配置した状態に収納するための多数のスロット(図示せず)が形成される。容器Fとしては前面開放一体型ポッド(Front Opening Unifed Pod;FOUP)のような密閉用容器が使用されることができる。容器Fはオーバーヘッドトランスファー(Overhead Transfer)、オーバーヘッドコンベア(Overhead Conveyor)、又は自動案内車両(Automatic Guided Vehicle)のような移送手段(図示せず)や作業者によってロードポート120に置かれることがきる。
【0040】
インデックスフレーム140の内部にはインデックスレール142とインデックスロボット144が提供される。インデックスレール142はインデックスフレーム140内にその長さ方向が第2方向4に沿って提供される。インデックスロボット144は基板Wを搬送することができる。インデックスロボット144はインデックスモジュール10、そして後述するバッファチャンバー240の間に基板Wを搬送することができる。インデックスロボット144はインデックスハンド1440を含むことができる。インデックスハンド1440には基板Wが置かれることができる。インデックスハンド1440は円周の一部が対称されるように切断された環状のリング形状を有するインデックスベース1442とインデックスベース1442を移動させるインデックス支持部1444を含むことができる。インデックスハンド1440の構成は後述する搬送ハンド2240の構成と同一又は類似である。インデックスハンド1440はインデックスレール142上で第2方向4に沿って移動可能に提供されることができる。したがって、インデックスハンド1440はインデックスレール142に沿って前進及び後進移動が可能である。また、インデックスハンド1440は第3方向6を軸とする回転、そして第3方向6に沿って移動可能に提供されることができる。
【0041】
処理モジュール20は容器Fに収納された基板Wが伝達されて基板Wに対して塗布工程及び現像工程を遂行する。処理モジュール20は塗布ブロック20a及び現像ブロック20bを有する。塗布ブロック20aは基板Wに対して塗布工程(Coating process)を遂行する。現像ブロック20bは基板Wに対して現像工程(Developing process)を遂行する。塗布ブロック20aは複数が提供され、塗布ブロック20aは互いに積層されるように提供される。現像ブロック20bは複数が提供され、現像ブロック20bは互いに積層されるように提供される。
図1の実施形態によれば、塗布ブロック20aは2つが提供され、現像ブロック20bは2つが提供される。塗布ブロック20aは現像ブロック20bの下に配置されることができる。一例によれば、2つの塗布ブロック20aは互いに同一な工程を実行し、互いに同一な構造で提供されることができる。また、2つの現像ブロック20bは互いに同一な工程を実行し、互いに同一な構造で提供されることができる。
【0042】
図3を参照すれば、塗布ブロック20aは搬送チャンバー220、バッファチャンバー240、熱処理チャンバー260、そして液処理チャンバー280を有する。搬送チャンバー220はバッファチャンバー240と熱処理チャンバー260との間に、バッファチャンバー240と液処理チャンバー280との間に、そして熱処理チャンバー260と液処理チャンバー280との間に基板Wを搬送する空間を提供する。バッファチャンバー240は塗布ブロック20a内に搬入される基板Wと塗布ブロック20aから搬出される基板Wが一時的に留まる空間を提供する。熱処理チャンバー260は基板Wに対して熱処理工程を遂行する。熱処理工程は冷却工程及び加熱工程を含むことができる。液処理チャンバー260は基板W上に液を供給して液膜を形成する。液膜はフォトレジスト膜又は反射防止膜であり得る。
【0043】
搬送チャンバー220は長さ方向が第1方向2に提供されることができる。搬送チャンバー220にはガイドレール222と搬送ロボット224が提供される。ガイドレール222は長さ方向が第1方向2に搬送チャンバー220内に提供される。搬送ロボット224はガイドレール222上で第1方向2に沿って直線移動可能に提供されることができる。搬送ロボット224はバッファチャンバー240と熱処理チャンバー260との間に、バッファチャンバー240と液処理チャンバー280との間に、そして熱処理チャンバー260と液処理チャンバー280との間に基板Wを搬送する。
【0044】
一例によれば、搬送ロボット224は基板Wが置かれる搬送ハンド2240を有する。搬送ハンド2240は前進及び後進移動、第3方向6を軸とする回転、そして第3方向6に沿って移動可能に提供されることができる。
【0045】
図4は
図3の搬送チャンバーに提供される搬送ハンドの一実施形態を示す図面である。
図4を参照すれば、搬送ハンド2240はベース2242及び支持突起2244を有する。ベース2242は円周の一部が切断された環状のリング形状を有することができる。ベース2242は円周の一部が対称されるように切断されたリング形状を有することができる。ベース2242は基板Wの直径より大きい内径を有する。支持突起2244はベース2242から内側に延長される。支持突起2244は複数が提供され、基板Wの縁領域を支持する。一例によれば、支持突起2244は等間隔に4つが提供されることができる。
【0046】
再び
図2及び
図3を参照すれば、バッファチャンバー240は複数に提供される。バッファチャンバー240の中で一部はインデックスモジュール10と搬送チャンバー220との間に配置される。以下、これらのバッファチャンバーを前段バッファ242(front buffer)として定義する。前段バッファ242は複数に提供され、上下方向に沿って互いに積層されるように位置される。バッファチャンバー240の中で他の一部は搬送チャンバー220とインターフェイスモジュール30との間に配置される。以下、これらのバッファチャンバーを後段バッファ244(rear buffer)として定義する。後段バッファ244は複数に提供され、上下方向に沿って互いに積層されるように位置される。前段バッファ242及び後段バッファ244の各々は複数の基板Wを一時的に保管する。前段バッファ242に保管された基板Wはインデックスロボット144及び搬送ロボット224によって搬入又は搬出される。後段バッファ244に保管された基板Wは搬送ロボット224及び後述する第1ロボット3820によって搬入又は搬出される。
【0047】
バッファチャンバー240の一側にはバッファロボット2420、2440が提供されることができる。バッファロボット2420、2440は前段バッファロボット2420と後段バッファロボット2440を含むことができる。前段バッファロボット2420は前段バッファ242の一側に提供されることができる。後段バッファロボット2440は後段バッファ244の一側に提供されることができる。これに限定されることではなく、バッファロボット2420、2440はバッファチャンバー240の両側に提供されることができる。
【0048】
前段バッファロボット2420は前段バッファ242の間に基板Wを搬送することができる。前段バッファロボット2420は前段バッファハンド2422を含むことができる。前段バッファハンド2422は第3方向6に沿って上下方向に移動されることができる。前段バッファハンド2422は回転されることができる。前段バッファハンド2422は基板Wを搬送することができる。前段バッファハンド2422は後述する支持プレート2482に提供されるピン2486に基板Wをローディング又はアンローディングすることができる。後段バッファロボット2440は後段バッファ244との間に基板Wを搬送することができる。後段バッファロボット2440は後段バッファハンド2442を含むことができる。後段バッファハンド2442の構成は前段バッファハンド2422の構成と同一又は類似である。したがって、後段バッファハンド2442に対する説明は省略する。
【0049】
図5は
図3の熱処理チャンバーの一実施形態を概略的に示す平面図であり、
図6は
図5の熱処理チャンバーの平面図である。
図5及び
図6を参照すれば、熱処理チャンバー260は複数に提供される。熱処理チャンバー260は第1方向2に沿って配置される。熱処理チャンバー260は搬送チャンバー220の一側に位置する。熱処理チャンバー260はハウジング2620、冷却ユニット2640、加熱ユニット2660、そして搬送プレート2680を含む。
【0050】
ハウジング2620は大体に直方体の形状に提供される。ハウジング2620は内部に空間を提供する。ハウジング2620の側壁には、基板Wが出入される出入口(図示せず)が形成される。出入口は開放された状態に維持されることができる。選択的に、出入口を開閉するようにドア(図示せず)が提供されることができる。
【0051】
ハウジング2620の内部空間には冷却ユニット2640、加熱ユニット2660、そして搬送プレート2680が提供される。冷却ユニット2640と加熱ユニット2660は第2方向4に沿って並べて提供される。一例によれば、冷却ユニット2640は加熱ユニット2660より相対的に搬送チャンバー220にさらに近く位置することができる。冷却ユニット2640は冷却プレート2642を含む。冷却プレート2642は上部から見る時、大体に円形の形状を有することができる。冷却プレート2642には冷却部材2644が提供される。一例によれば、冷却部材2644は冷却プレート2642の内部に形成され、冷却流体が流れる流路として提供されることができる。
【0052】
熱処理チャンバー260の中で一部の熱処理チャンバー260に提供された加熱ユニット2660は基板Wを加熱する際に、ガスを供給してフォトレジストの基板W付着率を向上させることができる。一例によれば、ガスはヘキサメチルジシラン(hexamethyldisilane)であり得る。
【0053】
加熱ユニット2660は加熱プレート2661、ヒーター2663、カバー2665、そして駆動器2667を含む。加熱プレート2661は上部から見る時、大体に円形の形状を有する。加熱プレート2661は基板Wより大きい直径を有する。加熱プレート2661にはヒーター2663が設置される。ヒーター2663は電流が印加される発熱抵抗体で提供されることができる。
【0054】
加熱プレート2661には第3方向6に沿って上下方向に駆動可能なリフトピン2669が提供される。リフトピン2669は加熱ユニット2660外部の搬送手段から基板Wを引き受けて加熱プレート2661上に置くか、或いは加熱プレート2661から基板Wを持ち上げて加熱ユニット2660外部の搬送手段に引き渡す。一例によれば、リフトピン2669は3つが提供されることができる。
【0055】
カバー2665は内部に下部が開放された空間を有する。カバー2665は加熱プレート2661の上部に位置され、駆動器2667によって上下方向に移動される。カバー2665が移動されてカバー2665と加熱プレート2661が形成する空間は基板Wを加熱する加熱空間として提供される。
【0056】
搬送プレート2680は大体に円板形状に提供され、基板Wと対応される直径を有する。搬送プレート2680の縁にはノッチ2682が形成される。ノッチ2682は搬送ロボット224の搬送ハンド2240に形成された支持突起2244と対応される数で提供され、支持突起2244と対応される位置に形成される。搬送ハンド2240と搬送プレート2680が上下方向に整列された位置で搬送ハンド2240と搬送プレート2680の上下位置が変更されれば、搬送ハンド2240と搬送プレート2680との間に基板Wの伝達が行われる。搬送プレート2680はガイドレール2692上に装着され、駆動器2694によってガイドレール2692に沿って第1領域2696と第2領域2698との間に移動することができる。
【0057】
搬送プレート2680にはスリット形状のガイド溝2684が複数に提供される。ガイド溝2684は搬送プレート2680の終端から搬送プレート2680の内部まで延長される。ガイド溝2684はその長さ方向が第2方向4に沿って提供され、ガイド溝2684は第1方向2に沿って互いに離隔されるように位置する。ガイド溝2684は搬送プレート2680と加熱ユニット2660との間に基板Wの引受引渡が行われる時、搬送プレート2680とリフトピン2669が互いに干渉されることを防止する。
【0058】
基板Wの冷却は基板Wが置かれる搬送プレート2680が冷却プレート2642に接触された状態で行われる。冷却プレート2642と基板Wとの間に熱伝達が良く行われるように搬送プレート2680は熱伝導性が高い材質で提供される。一例によれば、搬送プレート2680は金属材質で提供されることができる。
【0059】
再び
図2及び
図3を参照すれば、液処理チャンバー280は複数に提供される。液処理チャンバー280の中で一部は互いに積層されるように提供されることができる。液処理チャンバー280は搬送チャンバー220の一側に配置される。液処理チャンバー280は第1方向2に沿って並べて配列される。液処理チャンバー280の中でいずれかの一部はインデックスモジュール10と隣接する位置に提供される。以下、これらの液処理チャンバー280を前段液処理チャンバー282(front liquid treating chamber)と定義する。液処理チャンバー280の中で他の一部はインターフェイスモジュール30と隣接する位置に提供される。以下、これらの液処理チャンバー280を後段液処理チャンバー284(rear liquid treating chamber)と定義する。
【0060】
前段液処理チャンバー282は基板W上に第1液を塗布し、後段液処理チャンバー284は基板W上に第2液を塗布する。第1液と第2液は互いに異なる種類の液であり得る。一実施形態によれば、第1液は反射防止膜であり、第2液はフォトレジストである。フォトレジストは反射防止膜が塗布された基板W上に塗布されることができる。選択的に、第1液はフォトレジストであり、第2液は反射防止膜であり得る。この場合、反射防止膜はフォトレジストが塗布された基板W上に塗布されることができる。選択的に、第1液と第2液は同一な種類の液であり、これらは全てフォトレジストであり得る。
【0061】
図7は
図3の液処理チャンバーの一実施形態を概略的に示す図面である。
図7を参照すれば、液処理チャンバー280はハウジング2810、処理容器2820、そして支持ユニット2830を含む。
【0062】
ハウジング2810は内部に空間を提供する。ハウジング2810は大体に直方体形状に提供される。ハウジング2810の一側には開口(図示せず)が形成されることができる。開口は基板Wが内部空間に搬入されるか、或いは内部空間で基板Wが搬出される出入口として機能する。また、出入口を選択的に密閉させるため、出入口に隣接する領域にはドア(図示せず)が設置されることができる。ドアは内部空間に搬入された基板Wに対する処理工程が遂行される間に出入口を遮断して内部空間を密閉することができる。処理容器2820、そして支持ユニット2830、ハウジング2810内に配置される。
【0063】
処理容器2820は上部が開放された処理空間を有することができる。処理容器2820は処理空間を有するボウル(bowl)であり得る。内部空間は処理空間を囲むように提供されることができる。処理容器2820は上部が開放されたカップ形状を有することができる。処理容器2820が有する処理空間は後述する支持ユニット2830が基板Wを支持、そして回転させる空間であり得る。処理空間は後述する液供給ユニット3000が流体を供給して基板Wが処理される空間であり得る。
【0064】
一例によれば、処理容器2820は内側カップ2822と外側カップ2824を含むことができる。外側カップ2824は支持ユニット2830の周辺を囲むように提供され、内側カップ2822は外側カップ2824の内側に位置することができる。内側カップ2822及び外側カップ2824の各々は上部から見る時、環状のリング形状を有することができる。内側カップ2822及び外側カップ2824の間の空間は処理空間に流入された流体が回収される回収経路として提供されることができる。
【0065】
内側カップ2822は上部から見る時、後述する支持ユニット2830の支持軸2832を囲む形状に提供されることができる。例えば、内側カップ2822は上部から見る時、支持軸2832を囲む円形の板形状に提供されることができる。上部から見る時、内側カップ2822はハウジング2810に結合される後述する排気ライン2860と重畳されるように位置されることができる。
【0066】
内側カップ2822は内側部及び外側部を有することができる。内側部と外側部の各々の上面は仮想の水平線を基準に互いに異なる角度を有するように提供されることができる。例えば、内側部は上部から見る時、後述する支持ユニット2830の本体2831と重畳されるように位置されることができる。内側部は支持軸2832と対向するように位置されることができる。内側部は支持軸2832から遠くなるほど、その上面が上向傾いた方向に向かい、外側部は内側部から外側方向に延長されることができる。外側部は上面が支持軸2832から遠くなるほど、下方に傾いた方向に向かうことができる。内側部の上端は基板Wの側端部と上下方向に一致されることができる。一例によれば、外側部と内側部が出会う地点は内側部の上端より低い位置であり得る。内側部と外側部が互いに出会う地点はラウンドになるように提供されることができる。外側部は外側カップ2824と互いに組み合わせて処理媒体が回収される回収経路を形成することができる。
【0067】
外側カップ2824は支持ユニット2830及び内側カップ2822を囲むカップ形状に提供されることができる。外側カップ2824は底部2824a、側部2824b、傾斜部2824cを含むことができる。
【0068】
底部2824aは中空を有する円形の板形状を有することができる。底部2824aには回収ライン2870が連結されることができる。回収ライン2870は基板W上に供給された処理媒体を回収することができる。回収ライン2870によって回収された処理媒体は外部の再生システム(図示せず)によって再使用されることができる。
【0069】
側部2824bは支持ユニット2830を囲む環状のリング形状を有することができる。側部2824bは底部2824aの側端から垂直になる方向に延長されることができる。側部2824bは底部2824aから上に延長されることができる。
【0070】
傾斜部2824cは側部2824bの上端から外側カップ2824の中心軸に向かう方向に延長されることができる。傾斜部2824cの内側面は支持ユニット2830に近くなるように上向に傾くように提供されることができる。傾斜部2824cはリング形状を有するように提供されることができる。基板Wに対する処理工程の進行中には傾斜部2824cの上端が支持ユニット2830に支持された基板Wより高く位置されることができる。
【0071】
支持ユニット2830は基板Wを処理空間内で基板Wを支持し、基板Wを回転させる。支持ユニット2830は基板Wを支持、そして回転させるチャックであり得る。支持ユニット2830は本体2832、支持軸2834、そして駆動部2836を含むことができる。本体2832は基板Wが安着される上部面を有することができる。本体2832の上部面は上部から見る時、大体に円形に提供される。本体2832の上部面は基板Wより小さい直径を有するように提供されることができる。本体2832には吸着ホール(図示せず)が形成されて真空吸着方式に基板Wをチャッキング(chucking)することができる。選択的に、本体2832には静電板(図示せず)が提供されて静電気を利用した静電吸着方式に基板Wをチャッキングすることができる。選択的に、本体2832には基板Wを支持する支持ピンが提供されて支持ピンと基板Wが互いに物理的に接触されて基板Wをチャッキングすることができる。
【0072】
支持軸2834は本体2832と結合する。支持軸2834は本体2832の下面と結合することができる。支持軸2834は長さ方向が上下方向に向かうように提供されることができる。支持軸2834は駆動部2836から動力が伝達されて回転可能するように提供される。支持軸2834が駆動部2836の回転によって回転することによって本体2832を回転させる。駆動部2836は支持軸2834の回転速度を可変することができる。駆動部2836は駆動力を提供するモーターであり得る。しかし、これに限定されることではなく、駆動力を提供する公知された装置で多様に変形されることができる。
【0073】
昇降ユニット2840はハウジング2810内に配置される。昇降ユニット2840は処理容器2820と支持ユニット2830との間の相対高さを調節する。昇降ユニット2840は処理容器2820を第3方向6に直線移動させる。昇降ユニット2840は内側昇降部材2842、そして外側昇降部材2844を含むことができる。内側昇降部材2842は内側カップ2822を昇降移動させることができる。外側昇降部材2844は外側カップ2824を昇降移動させることができる。
【0074】
排気ライン2860は液処理チャンバー280の外部に提供されることができる。排気ライン2860は減圧ユニット(図示せず)が設置される。排気ライン2860は減圧ユニットによって処理空間の内部の雰囲気を排気する。排気ライン2860は処理容器2820と結合することができる。選択的に、排気ライン2860は外側カップ2824の底部2824aに結合することができる。上部から見る時、排気ライン2860は内側カップ2822と重畳されるように位置されることができる。
【0075】
気流供給ユニット2880はハウジング2810の内部空間に気流を供給する。気流供給ユニット2880は内部空間に下降気流を供給することができる。気流供給ユニット2880は温度及び/又は湿度が調節された気流を内部空間に供給することができる。気流供給ユニット2880はハウジング2810に設置されることができる。気流供給ユニット2880は処理容器2820と支持ユニット2830より上部に設置されることができる。気流供給ユニット2880はファン2882、気流供給ライン2884、そしてフィルター2886を含むことができる。気流供給ライン2884は温度及び/又は湿度が調節された外部の気流を内部空間に供給することができる。気流供給ライン2884にはフィルター2886が設置されることができる。フィルター2886は気流供給ライン2884に流れる外部の気流が有する不純物を除去することができる。ファン2882が駆動されれば、気流供給ライン2884が供給する外部の気流を内部空間に均一に伝達することができる。
【0076】
図8は
図7の液処理チャンバーに液を供給する液供給ユニットを概略的に示す図面である。以下では、
図8を参照して本発明の一実施形態による液供給ユニットに対して詳細に説明する。
【0077】
液供給ユニット3000は液処理チャンバー280に位置した基板Wに液を供給することができる。液供給ユニット3000は支持ユニット2830に支持された基板W上に液を供給することができる。液供給ユニット3000が基板Wに供給する液は塗布液であり得る。例えば、塗布液はフォトレジスト(Photoresist、PR)のような感光液であり得る。また、液供給ユニット3000は支持ユニット2830に支持された基板Wにプリウェット液を供給することができる。液供給ユニット3000が基板Wに供給するプリウェット液は基板Wの表面性質を変化させることができる液であり得る。例えば、プリウェット液は基板Wの表面性質を疎水性性質を有するように変化させることができる液であり得る。例えば、プリウェット液はシンナー(Thinner)であり得る。以下では、説明の便宜のために液供給ユニットが供給する液がフォトレジストである場合を例として説明する。
【0078】
液供給ユニット3000はメーンタンク3100、トラップタンク3200、ポンプ3300、フィルター3400、液供給ノズル3500、液供給ライン3600、そして廃液タンク3700を含むことができる。メーンタンク3100は密閉された内部空間を形成することができる。メーンタンク3100の内部空間には液が格納される。一例として、メーンタンク3100にはフォトレジスト液が貯蔵されることができる。メーンタンク3100には第1不活性ガス供給ライン3110と後述する第1供給ライン3610が連結されることができる。
【0079】
第1不活性ガス供給ライン3110はメーンタンク3100の内部空間に不活性ガスを供給することができる。第1不活性ガス供給ライン3110にはレギュレータ3120、ガスフィルター3130、そしてエア作動バルブ3140が順次的に設置されることができる。不活性ガスはレギュレータ3120を通じて供給されることができる。一例として、不活性ガスはヘリウムガス又は窒素ガスであり得る。メーンタンク3100の内部に不活性ガスが供給された場合、メーンタンク3100の内部に貯蔵されたフォトレジスト液は相対的な圧力差によって後述するトラップタンク3200に移動されることができる。ガスフィルター3130は第1不活性ガス供給ライン3110を流動する不活性ガスを濾過することができる。例えば、ガスフィルター3130は不活性ガスに含まれることができる不純物を濾過することができる。エア作動バルブ3140は第1不活性ガス供給ライン3110を開閉することができる。例えば、エア作動バルブ3140はメーンタンク3100の交替の時のみに第1不活性ガス供給ライン3110を閉鎖することができる。
【0080】
トラップタンク3200は密閉された内部空間を形成することができる。トラップタンク3200の内部空間には液が貯蔵される。一例として、トラップタンク3200にはフォトレジスト液が貯蔵されることができる。トラップタンク3200には第1供給ライン3710を通じて提供されたフォトレジスト液が貯蔵されることができる。トラップタンク3200の一側には水位感知センサー3220が設置されることができる。水位感知センサー3220はトラップタンク3200に貯蔵されたフォトレジスト液の水位を感知して適正水位までフォトレジスト液が継続的に充填されるようにすることができる。
【0081】
トラップタンク3200には第2不活性ガス供給ライン3210、第1供給ライン3610、後述する第2供給ライン3620、そして第1ドレーンライン3710が連結されることができる。トラップタンク3200の上端には第2不活性ガス供給ライン3210が連結されることができる。第2不活性ガス供給ライン3210はトラップタンク3200の内部空間に不活性ガスを供給することができる。第2不活性ガス供給ライン3210は上述した第1不活性ガス供給ライン3110と類似に提供されるので、重複される説明を避けるため、以下では、説明を省略する。
【0082】
トラップタンク3200の上端には第1供給ライン3610は第1ガス供給ライン3610と第1ドレーンライン3710が連結されることができる。第1ガス供給ライン3610はメーンタンク3100からトラップタンク3200にフォトレジスト液を供給することができる。第1ドレーンライン3710は後述する廃液タンク3700と連結されることができる。トラップタンク3200の下端には第2供給ライン3620が連結されることができる。第2供給ライン3620は後述するポンプ3300と連結されてトラップタンク3200からポンプ3300にフォトレジスト液を供給することができる。
【0083】
ポンプ3300はトラップタンク3200に貯蔵された液を液供給ノズル3500に供給する。一例として、ポンプ3300はトラップタンク3200に貯蔵されたフォトレジスト液を液供給ノズル3500に供給することができる。ポンプ3300はトラップタンク3200に貯蔵されたフォトレジスト液を定量供給することができる。例えば、ポンプ3300は吸引及び排出動作によって発生される流動圧によってトラップタンク3200に貯蔵されたフォトレジスト液を液供給ノズル3500に供給するベローズ駆動型チューブフラムポンプであり得る。一例として、ポンプ3300はトラップタンク3200から基板W上に供給することができる1回分のフォトレジスト液をポンプ3300に吸引して置き、基板Wに対して塗布処理する時、液供給ノズル3500に一定の圧力及び流量にフォトレジスト液を排出することができる。但し、これに限定されななく、ポンプ3300は流動圧を提供することができる公知された様々なポンプで提供されることができる。
【0084】
ポンプ3300には第2供給ライン3620、第3供給ライン3630、そして第2ドレーンライン3720が連結されることができる。一例として、第2供給ライン3620はポンプ3300の下端に提供されることができる。第2供給ライン3620には逆流防止バルブ(図示せず)が設置されることができる。第2供給ライン3620を通じてトラップタンク3200からポンプ3300にフォトレジスト液が供給されることができる。
【0085】
一例として、第3供給ライン3630はポンプ3300の上端に提供されることができる。第3供給ライン3630の一端はトラップタンク3200に連結され、第3供給ライン3630の他端は後述するフィルター3400に連結されることができる。第3供給ライン3630には逆流防止バルブ(図示せず)、サックバックバルブ3632(suckback valve)、カットオフバルブ3634(cut-off valve)、そして後述するフィルター3400が設置されることができる。第3供給ライン3630を通じてポンプ3300から後述する液供給ノズル3500にフォトレジスト液が供給されることができる。例えば、第2ドレーンライン3720はポンプ3300の上端に提供されることができる。第2ドレーンライン3720の一端はポンプ3300と連結され、第2ドレーンライン3720の他端は後述する廃液タンク3700と連結されることができる。
【0086】
フィルター3400はポンプ3300から液供給ノズル3500に供給される液を濾過することができる。例えば、フィルター3400はポンプ3300から液供給ノズル3500に供給されるフォトレジスト液を濾過することができる。フィルター3400はフォトレジスト液に含まれることができる不純物を濾過することができる。フィルター3400は第3供給ライン3630に設置されることができる。
【0087】
液供給ノズル3500は液を基板Wに供給することができる。一例として、液供給ノズル3500は支持ユニット2830に支持された基板W上にフォトレジスト液を供給することができる。液供給ノズル3500は駆動器(図示せず)によって移動されることができる。
【0088】
液供給ライン3600は第1供給ライン3610、第2供給ライン3620、そして第3供給ライン3630を含むことができる。第1供給ライン3610はメーンタンク3100とトラップタンク3200を連結する。第1供給ライン3610の一端はメーンタンク3100と連結され、他端はトラップタンク3200と連結されることができる。第2供給ライン3620はトラップタンク3200とポンプ3300を連結する。第2供給ライン3620の一端はトラップタンク3200に連結され、他端はポンプ3300に連結されることができる。第3供給ライン3630はポンプ3300と液供給ノズル3500に連結される。第3供給ライン3630の一端はポンプ300に連結され、他端は液供給ノズル3500に連結されることができる。
【0089】
廃液タンク3700は第1ドレーンライン3710と第2ドレーンライン3720に連結されることができる。第1ドレーンライン3710はメーンタンク3100と廃液タンク3700を連結することができる。第1ドレーンライン3710の一端はメーンタンク3100に連結され、他端は廃液タンク3700に連結されることができる。第1ドレーンライン3710はメーンタンク3100の上端に集まれる気泡を除去するか、又はフォトレジスト液の性質変化に対応して手動でフォトレジスト液を廃液タンク3700にドレーンさせることができる。
【0090】
第2ドレーンライン3720はトラップタンク3200と廃液タンク3700を連結することができる。第2ドレーンライン3720の一端はトラップタンク3200に連結され、他端は廃液タンク3700に連結されることができる。第2ドレーンライン3720にはエア作動バルブ3722が設置されることができる。第2ドレーンライン3720はトラップタンク3200の上端に集まれる気泡を除去するか、又はフォトレジスト液の性質変化に対応して手動でフォトレジスト液を廃液タンク3700にドレーンさせることができる。
【0091】
図9は
図8の液供給ユニットに提供されるバブル測定ユニットを概略的に示す斜視図である。
図10は
図8のカバーを上部から見た図面である。
図11は
図8のバブル測定ユニットを正面から見た図面である。以下では、
図8乃至
図11を参照して本発明の一実施形態に対するバブル測定ユニットに対して詳細に説明する。
【0092】
バブル測定ユニット4000は液供給ユニット3000に提供された部品の内部で流動する液に含まれたバブルを測定することができる。バブル測定ユニット4000は液供給ユニット3000に提供された部品の内部で流動するフォトレジスト液に含まれたバブルを測定することができる。バブル測定ユニット4000は液供給ユニット3000に提供された部品に設置されることができる。
【0093】
液供給ユニットに提供された部品とは液供給ユニットに含まれる様々な構成を含む概念で定義される。一例として、液供給ユニットに提供された部品はメーンタンク3100、トラップタンク3200、ポンプ3300、フィルター3400、液供給ノズル3500、及び/又は液供給ライン3600であり得る。例えば、液供給ユニットに提供された部品は第1供給ライン3610、第2供給ライン3620、及び/又は第3供給ライン3630を含むことができる。例えば、部品はその長さ方向と垂直になる断面が曲線で形成されることができる。本発明の実施形態では説明の便宜のためにバブル測定ユニット4000が第3供給ライン3630に提供された場合を例として説明する。
【0094】
バブル測定ユニット4000はカバー4200と検査ユニット4400を含むことができる。カバー4200は大体に直方体形状に提供されることができる。但し、これに限定されることではなく、後述する光源4420と対向する位置に提供されるカバー4200の第1面と後述する受光部4460と対向する位置に提供されるカバー4200の第2面が平面で提供され、第1面と第2面は平行に提供されることができる。
【0095】
カバー4200は部品に設置されることができる。カバー4200は部品に設置されて検査領域を提供することができる。部品に設置されたカバー4200の領域は部品の内部に存在するバブルを検出する検査領域として提供されることができる。一例として、カバー4200は第3供給ライン3630に設置されて第3供給ライン3630の内部を流動するフォトレジスト液に存在するバブルを検出する検査領域を提供することができる。
【0096】
カバー4200は透光性材質で提供されることができる。カバー4200の材質Aは後述する物質Bと部品の材質Cより大きい屈折率を有することができる。一例として、カバー4200の材質Aはアクリルで提供されることができる。カバー4200は部品を囲むように提供されることができる。したがって、カバー4200と部品との間に空間が提供されることができる。カバー4200と部品との間に形成された空間には部品の材質Cと同一な屈折率を有する物質Bで満たされることができる。一例として、空間に満たされた物質Bは液体であり得る。但し、これに限定されることではなく、空間に満たされた物質Bは部品の材質Cと同一な屈折率を有する様々な形状を有することができる。一例として、空間に満たされた物質Bは第3供給ライン3630の配管の材質Cと同一な屈折率を有することができる。物質Bと配管の材質Cが同一な屈折率を有する意味は厳密な同一ではなく、類似範囲を含む概念である。
【0097】
検査ユニット4400はカバー4200が設置された部品の検査領域内で部品の内部を流動する液に含まれるバブルを検査する。一例として、検査ユニット4400はカバー4200が設置された第3供給ライン3630の検査領域内で第3供給ライン3630の内部を流動するフォトレジスト液に含まれるバブルを検査することができる。検査ユニット4400は光源4420、拡散板4440、受光部4460、そして検査部(図示せず)を含むことができる。
【0098】
光源4420はカバー4200の外側に位置することができる。一例として、光源4420はカバー4200の外側で、カバー4200の第1面と対向する位置に提供されることができる。カバー4200の第1面は照射面として提供されることができる。照射面は平面で提供されることができる。光源4420は検査領域に向かって光を照射することができる。光源4420によって照射された光は第1面に垂直になる方向に入射されることができる。一例として、光源4420は発光ダイオード(LED)で提供されることができる。選択的に、光源4420はハロゲンランプで提供されることができる。
【0099】
拡散板4440は光源4420で照射される光を拡散させることができる。拡散板4440は光源4420で照射される光を広い面積に均一に拡散させることができる。拡散板4440は光源4420で照射された光が検査領域の全体に入射させることができる。拡散板4440は光源4420とカバー4200との間に位置することができる。一例として、拡散板4440は光源4420とカバー4200の第1面との間に位置することができる。
【0100】
受光部4460はカバー4200の外側に位置することができる。一例として、受光部4460はカバー4200の外側で、カバー4200の第1面と対向する第2面と対向する位置に提供されることができる。第2面は平面で提供されることができる。第2面は第1面と平行に提供されることができる。光源4420から照射された光は第2面に垂直になる方向に入射されることができる。受光部4460は検査領域を通過した光を受光することができる。
【0101】
検査部(図示せず)は受光した光からバブルイメージを獲得することができる。検査部(図示せず)は受光部4460で受光した光から部品の内部に存在するバブルを検査することができる。検査部(図示せず)は受光部4460から獲得したバブルイメージからバブルの有無、バブルのサイズ、バブルの数等の部品の内部に存在するバブルの状態を検査することができる。一例として、検査部(図示せず)は受光部4460から獲得したバブルイメージから第3供給ライン3630の中で第3供給ライン3630に提供された検査領域内に存在するバブルの有無、バブルのサイズ、バブルの数の中でバブルの状態を検査することができる。
【0102】
図11を参照すれば、光源4420から照射された光は拡散板4440、カバー4200の第1面、カバー4200と部品との間に提供された空間に満たされた物質B、液供給装置に提供された部品、そしてカバー4200の第2面を順次的に経て受光部4460に受光される。一例として、光源4420から照射された光は拡散板4440、カバー4200の第1面、カバー4200と第3供給ライン3630との間に提供された空間に満たされた物質B、第3供給ライン3630、そしてカバー4200の第2面を順次的に経て受光部4460に受光される。
【0103】
カバー4200と第3供給ライン3630との間の空間に第3供給ライン3630の配管の材質Cと同一な屈折率を有する物質Bを満たすことによって、第3供給ライン3630の配管の境界で光源4420によって入射された光が屈折されなくともよい。したがって、検査領域の中で第3供給ライン3630内部にバブルが存在しない領域に入射された光は屈折されなく、受光部4460に受光される。
【0104】
検査領域の中で第3供給ライン3630の内部にバブルが存在する領域に入射された光はバブルの境界面で屈折を発生させる。したがって、光源4420、カバー4200、そして受光部4460を連結する仮想の一直線上で、バブルが存在する領域と対応される線上には光が受光されない。したがって、バブルが存在する領域には影が形成される。したがって、検査部(図示せず)では検査領域の中で影が存在するイメージをバブルイメージで検出することができる。また、検査部(図示せず)では検査領域の中で影が存在する領域をバブルが形成された領域に検出することができる。検査部(図示せず)は検査領域の中で光源4420から照射された光が受光されないので、受光部4460から光が受光されない領域、即ち第3供給ライン3630の内部に影が形成された領域に対するバブルイメージを獲得することができる。検査部(図示せず)は受光部4460から受光した光からバブルイメージを獲得し、これを通じて検査領域に存在するバブルの有無、バブルのサイズ、バブルの数等を検査することができる。
【0105】
部品はその長さ方向に垂直になる断面が曲線で形成されることができる。断面が曲線状に形成される部品は部品の境界面に向かって照射された光が反射又は屈折されることができる。光が反射されるか、或いは屈折されることによって、部品の内部を流動するバブルの形状が歪むことができる。したがって、部品に向かって光を照射して部品の内部を流動する液に含まれるバブルを検出することは難しい。これは部品の内部に流動するバブルのサイズ及び数を正確に測定することを妨害する。このような問題は部品の内部に流動するバブルのサイズが微細な場合にさらに深くなる。
【0106】
上述した本発明の一実施形態によれば、カバー4200と部品との間に形成された空間に部品の材質Cと同一な屈折率を有する物質Bを満たすことによって、部品の境界面で部品に向かって入射される光の散乱又は屈折を最小化することができる。部品の内部を流動する液に含まれるバブルは曲率を有する。部品に向かって光を照射してもバブルの境界面のみで照射された光が反射又は屈折される。検査領域の中でバブルが存在する領域のみで影が形成されることができる。したがって、部品の内部を流動するバブルのイメージを正確に獲得することができる。
【0107】
また、本発明の一実施形態によれば、光源4420から照射された光がカバー4200の第1面に垂直になる方向に光を照射するようにカバー4200の第1面が平面で提供されるので、部品の長さ方向に垂直になる断面が曲線で形成されても部品の境界面で照射された光が屈折されることを最小化することができる。したがって、バブルが存在しない領域に対する歪み現象を最小化することができる。
【0108】
上述した本発明の実施形態ではバブル測定ユニット4000が液供給ユニット3000に提供された部品に設置されることを例として説明した。但し、これに限定されななく、カバー4200は液供給ユニット3000に提供された部品に複数に設置されることができる。この時、測定ユニット4400が図示しないレール上を移動し、各々のカバー4200に提供された検査領域の内部を流動する液に含まれるバブルイメージを検出することができる。
【0109】
上述した本発明の実施形態では基板W上に塗布液又は現像液を供給する液供給装置に含まれる部品にバブル測定ユニット4000が設置されることを例として説明した。但し、これに限定されななく、バブル測定ユニット4000は基板W上に洗浄液を供給する液供給装置又は平板ディスプレー製造用基板を処理する装置等の様々な液を供給する半導体装置に類似に提供されることができる。
【0110】
再び
図1乃至
図3を参照すれば、現像ブロック20bは搬送チャンバー220、バッファチャンバー240、熱処理チャンバー260、そして液処理チャンバー280を有する。現像ブロック20bの搬送チャンバー220、バッファチャンバー240、熱処理チャンバー260、そして液処理チャンバー280は塗布ブロック20aの搬送チャンバー220、バッファチャンバー240、熱処理チャンバー260、そして液処理チャンバー280と大体に類似な構造及び配置で提供されるので、これに対する説明は省略する。但し、現像ブロック20bの液処理チャンバー280は全て同様に現像液を供給して基板Wを現像処理する現像工程(developing process)を遂行する。
【0111】
インターフェイスモジュール30は処理モジュール20と外部の露光装置40を連結する。インターフェイスモジュール30はインターフェイスフレーム320、付加工程チャンバー340、インターフェイスバッファ360、そして搬送部材380を含む。
【0112】
インターフェイスフレーム320は内部空間を提供する。インターフェイスフレーム320の上端には内部空間に下降気流を形成するファンフィルターユニットが提供されることができる。インターフェイスフレーム320の内部空間に付加工程チャンバー340、インターフェイスバッファ360、そして搬送部材380が提供される。
【0113】
付加工程チャンバー340は塗布ブロック20aで工程が完了された基板Wが露光装置40に搬入される前に所定の付加工程を遂行することができる。選択的に、付加工程チャンバー340は露光装置40で工程が完了された基板Wが現像ブロック20bに搬入される前に所定の付加工程を遂行することができる。一実施形態によれば、付加工程は基板Wのエッジ領域を露光するエッジ露光工程、又は基板Wの上面を洗浄する上面洗浄工程、又は基板Wの下面を洗浄する下面洗浄工程であり得る。付加工程チャンバー340は複数が提供され、これらは互いに積層されるように提供されることができる。付加工程チャンバー340は全て同一な工程を遂行するように提供されることができる。選択的に、付加工程チャンバー340の中で一部は互いに異なる工程を遂行するように提供されることができる。
【0114】
インターフェイスバッファ360は塗布ブロック20a、付加工程チャンバー340、露光装置40、そして現像ブロック20bとの間に搬送される基板Wが搬送途中に一時的に留まる空間を提供する。インターフェイスバッファ360は複数が提供され、複数のインターフェイスバッファ360は互いに積層されるように提供されることができる。一例によれば、搬送チャンバー220の長さ方向の延長線を基準に一側面には付加工程チャンバー340が配置され、他の側面にはインターフェイスバッファ360が配置されることができる。
【0115】
搬送部材380は塗布ブロック20a、付加工程チャンバー340、露光装置40、そして現像ブロック20bとの間に基板Wを搬送する。搬送部材380は1つ又は複数のロボットが提供されることができる。一例によれば、搬送部材380は第1ロボット3820、第2ロボット3840、そして第3ロボット3860を含む。第1ロボット3820は塗布ブロック20a、付加工程チャンバー340、そしてインターフェイスバッファ360との間に基板Wを搬送する。第2ロボット3840はインターフェイスバッファ360と露光装置40との間に基板Wを搬送する。第3ロボット3860はインターフェイスバッファ360と現像ブロック20bとの間に基板Wを搬送する。
【0116】
第1ロボット3820、第2ロボット3840、そして第3ロボット3860は各々基板Wが置かれるハンドを含む。ハンドは前進及び後進移動、第3方向6に平行である軸を基準とした回転、そして第3方向6に沿って移動可能に提供されることができる。第1ロボット3820、第2ロボット3840、そして第3ロボット3860のハンドは全て搬送ロボット224の搬送ハンド2240と同一又は類似な形状に提供されることができる。選択的に、熱処理チャンバーの冷却プレート2642と直接基板Wを受け渡すロボットのハンドは搬送ロボット224の搬送ハンド2240と同一又は類似な形状に提供され、残りのロボットのハンドはこれと異なる形状に提供されることができる。
【0117】
以下では、
図7の支持ユニットに対する他の例に対して説明する。上述した本発明の実施形態で支持ユニット2830の本体2831を除いた他の構成は本発明の他の実施形態でも類似に提供される。したがって、以下では、説明の重複を避けるために類似に提供される構成に対しては説明を省略する。
【0118】
図12は本発明の一実施形態によるバブル測定方法に対する順序図である。以下では、
図12を参照して本発明の一実施形態によるバブル測定方法に対して説明する。
本発明の実施形態によるバブル測定方法は部品内に貯蔵されるか、或いは部品の内部を流れる液に含まれたバブルを測定することができる。一例として、バブル測定方法は液供給ユニット3000に提供される部品内に貯蔵されるか、或いは液供給ユニット3000の内部を流れる液に含まれたバブルを測定することができる。バブル測定方法はカバー提供段階(S10)、光照射段階(S20)、イメージ獲得段階(S30)、そしてバブル検出段階(S40)を含むことができる。
【0119】
カバー提供段階(S10)はカバー4200を設置する段階である。カバー4200は部品を囲むように提供される。カバー4200によって囲まれた部品の領域は検査領域として提供される。検査領域は部品の内部を流動するバブルを検出する領域である。カバー4200は複数の部品に各々設置されることができる。
【0120】
カバー提供段階(S10)でカバー4200が部品を囲まれながら、提供される間空間には部品の材質Cと同一な屈折率を有する物質Bが満たされる。また、カバー4200の材質は物質Bと部品の材質Cより高い屈折率を有することができる。物質Bと配管の材質Cが同一な屈折率を有する意味は厳密な同一ではなく、類似範囲を含む概念である。
【0121】
光照射段階(S20)は光源4420によって検査領域に光を照射する段階である。光源4420はカバー4200の外側に位置する。光源4420はカバー4200の第1面と対向する位置に離隔されて提供されることができる。光源4420はカバー4200の第1面に向かって光を照射する。第1面に向かって照射された光は第1面に垂直に入射される。一例として、光源4420によって照射された光は拡散板4440を通じて光が第1面に向かって均一に拡散されて第1面に垂直に入射されることができる。
【0122】
イメージ獲得段階(S30)は光源4420から照射された光を受光部4460が受光し、受光された光から検査部(図示せず)がイメージを獲得する段階である。受光部4460はカバー4200の外側に位置する。受光部4460はカバー4200の第1面と対向する第2面と対向する位置に離隔されて提供されることができる。第1面と第2面は平行に提供される。したがって、光源4420から検査領域に照射された光は第1面と第2面に垂直に入射されることができる。光源4420から検査領域に照射された光は拡散板4440、第1面(カバーの材質、A)、カバー4200と部品との間に形成された空間に満たされた物質B、部品の材質C、そして第2面(カバーの材質、A)を順次的に経て受光部4460に受光される。光源4420から検査領域に向かって照射された光を受光部4460が受光する。
【0123】
カバー4200と部品との間空間に部品の材質Cと同一な屈折率を有する物質Bを満たすことによって、部品の境界で光源4420によって入射された光が屈折されなくともよい。したがって、検査領域の中で部品の内部にバブルが存在しない領域に入射された光は屈折されなく、受光部4460に受光される。検査領域の中で第3供給ライン3630の内部にバブルが存在する領域に入射された光はバブルの境界面で屈折を発生させる。したがって、光源4420、カバー4200、そして受光部4460を連結する仮想の一直線上で、バブルが存在する領域と対応される線上には光が受光されない。したがって、部品の内部にバブルが存在する場合、検査部(図示せず)は影が形成されたイメージと影が形成されないイメージを得ることができる。
【0124】
バブル検出段階(S40)はイメージ獲得段階(S30)で検査部(図示せず)が受光部4460から獲得したイメージに対してバブルイメージを分析する段階である。上述したようにバブルが存在する領域には受光部4460に光が受光されないので、影が形成される。検査部(図示せず)では検査領域の中で影が存在する領域をバブルが形成された領域に検出することができる。したがって、バブル検出段階(S40)ではイメージ獲得段階(S30)で獲得したイメージから部品の内部に貯蔵されるか、或いは部品の内部を流れる液に含まれたバブルを検出することができる。検査部(図示せず)は受光部4460から獲得したバブルイメージからバブルの有無、バブルのサイズ、バブルの数等の部品の内部に存在するバブルの状態を検査することができる。
【0125】
上述した本発明の一実施形態によれば、カバー4200と部品との間に形成された空間に部品の材質Cと同一な屈折率を有する物質Bを満たすことによって、部品の境界面で部品に向かって入射される光の散乱又は屈折を最小化することができる。部品の内部を流動する液に含まれるバブルは曲率を有する。部品に向かって光を照射してもバブルの境界面のみで照射された光が反射又は屈折される。検査領域の中でバブルが存在する領域のみで影が形成されることができる。したがって、部品の内部を流動するバブルのイメージを正確に獲得することができる。
【0126】
また、本発明の一実施形態によれば、光源4420から照射された光がカバー4200の第1面に垂直になる方向に光を照射するようにカバー4200の第1面が平面で提供されるので、部品の長さ方向に垂直になる断面が曲線で形成されても部品の境界面で照射された光が屈折されることを最小化することができる。したがって、バブルが存在しない領域に対する歪み現象を最小化することができる。
【0127】
以上の詳細な説明は本発明を例示するものである。また、前述した内容は本発明の好ましい実施形態を例として説明することであり、本発明は多様な他の組合、変更、及び環境で使用することができる。即ち、本明細書に開示された発明の概念の範囲、前述した開示内容と均等な範囲、及び/又は当業界の技術又は知識の範囲内で変更又は修正が可能である。前述した実施形態は本発明の技術的思想を具現するための最善の状態を説明することであり、本発明の具体的な適用分野及び用途で要求される様々な変更も可能である。したがって、以上の発明の詳細な説明は開示された実施状態に本発明を制限しようとする意図ではない。添付された請求の範囲は他の実施状態も含むことと解析されなければならない。
【符号の説明】
【0128】
3000 液供給ユニット
3100 メーンタンク
3200 トラップタンク
3300 ポンプ
3400 フィルター
3500 液供給ノズル
3600 液供給ライン
4000 バブル測定ユニット
4200 カバー
4400 検査ユニット
4420 光源
4440 拡散板
4460 受光部