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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023042120
(43)【公開日】2023-03-27
(54)【発明の名称】非接触位置決め装置及び検査システム
(51)【国際特許分類】
B65G 49/07 20060101AFI20230317BHJP
H01L 21/68 20060101ALI20230317BHJP
【ＦＩ】
B65G49/07 E
H01L21/68 G
【審査請求】有
【請求項の数】7
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2021149241
(22)【出願日】2021-09-14
(71)【出願人】
【識別番号】398046921
【氏名又は名称】株式会社ナノテム
(71)【出願人】
【識別番号】304021288
【氏名又は名称】国立大学法人長岡技術科学大学
(74)【代理人】
【識別番号】100095407
【弁理士】
【氏名又は名称】木村 満
(74)【代理人】
【識別番号】100195648
【弁理士】
【氏名又は名称】小林 悠太
(74)【代理人】
【識別番号】100175019
【弁理士】
【氏名又は名称】白井 健朗
(74)【代理人】
【識別番号】100132883
【弁理士】
【氏名又は名称】森川 泰司
(72)【発明者】
【氏名】▲高▼田 篤
(72)【発明者】
【氏名】大橋 恭介
(72)【発明者】
【氏名】▲高▼田 大地
(72)【発明者】
【氏名】▲高▼田 大和
(72)【発明者】
【氏名】磯部 浩已
【テーマコード（参考）】
5F131
【Ｆターム（参考）】
5F131AA02
5F131CA18
5F131EB04
5F131EB43
(57)【要約】
【課題】浮上物を非接触で精度高く位置決めできるとともに、浮上する浮上物の変形を抑制することができる非接触位置決め装置及び検査システムを提供する。
【解決手段】非接触位置決め装置２は、ウエーハＷに正圧の流体及び負圧の流体を同時に供給することによりウエーハＷを浮上面１１ｆに対して浮上させた状態で浮上面１１ｆから離れないように保持する浮上部１０と、ウエーハＷの縁部に超音波を供給することによりウエーハＷを浮上した状態で位置決めする位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃと、浮上した状態でウエーハＷを回転させる回転部３０と、を備える。
【選択図】図２
【解決手段】非接触位置決め装置２は、ウエーハＷに正圧の流体及び負圧の流体を同時に供給することによりウエーハＷを浮上面１１ｆに対して浮上させた状態で浮上面１１ｆから離れないように保持する浮上部１０と、ウエーハＷの縁部に超音波を供給することによりウエーハＷを浮上した状態で位置決めする位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃと、浮上した状態でウエーハＷを回転させる回転部３０と、を備える。
【選択図】図２
【特許請求の範囲】
【請求項1】
浮上物に正圧の流体及び負圧の流体を同時に供給することにより前記浮上物を浮上面に対して浮上させた状態で前記浮上面から離れないように保持する浮上部と、
前記浮上物の縁部に超音波を供給することにより前記浮上物を浮上した状態で位置決めする位置決め部と、
前記浮上面に対して浮上した状態で前記浮上物を回転又は移動させる浮上物駆動部と、を備える、
非接触位置決め装置。
前記浮上物の縁部に超音波を供給することにより前記浮上物を浮上した状態で位置決めする位置決め部と、
前記浮上面に対して浮上した状態で前記浮上物を回転又は移動させる浮上物駆動部と、を備える、
非接触位置決め装置。
【請求項2】
前記浮上物駆動部は、前記浮上物に超音波を供給することにより浮上した状態の前記浮上物を回転軸を中心に回転させる回転部である、
請求項１に記載の非接触位置決め装置。
請求項１に記載の非接触位置決め装置。
【請求項3】
前記回転部は、前記浮上物の回転方向に沿って延び、前記浮上部の周囲を囲むように形成され、
複数の前記位置決め部は、前記回転部の周囲に配置され、円板状の前記浮上物の縁部に対向して位置する、
請求項２に記載の非接触位置決め装置。
複数の前記位置決め部は、前記回転部の周囲に配置され、円板状の前記浮上物の縁部に対向して位置する、
請求項２に記載の非接触位置決め装置。
【請求項4】
前記位置決め部及び前記回転部を有する位置決め回転部と、
前記位置決め回転部を収容する収容凹部と、
前記位置決め回転部が前記浮上物に超音波を供給する際に、前記位置決め回転部に流体を供給することにより前記位置決め回転部を前記収容凹部内で浮いた状態とする流体供給部と、を備える、
請求項２に記載の非接触位置決め装置。
前記位置決め回転部を収容する収容凹部と、
前記位置決め回転部が前記浮上物に超音波を供給する際に、前記位置決め回転部に流体を供給することにより前記位置決め回転部を前記収容凹部内で浮いた状態とする流体供給部と、を備える、
請求項２に記載の非接触位置決め装置。
【請求項5】
前記浮上物駆動部は、前記浮上部により浮上させられ、かつ前記位置決め部により位置決めされた前記浮上物を前記浮上部及び前記位置決め部と一体的に移動させる、
請求項１に記載の非接触位置決め装置。
請求項１に記載の非接触位置決め装置。
【請求項6】
前記浮上部、前記位置決め部及び前記浮上物駆動部は、前記浮上物の裏面側に配置されている、
請求項１から５の何れか１項に記載の非接触位置決め装置。
請求項１から５の何れか１項に記載の非接触位置決め装置。
【請求項7】
請求項２から４の何れか１項に記載の非接触位置決め装置と、
前記浮上物であるウエーハの一部である検査領域の欠陥又は汚れの有無を検査する検査部と、を備え、
前記回転部は、前記ウエーハを回転させることにより、前記ウエーハに対する前記検査領域の位置を相対的に移動させる、
検査システム。
前記浮上物であるウエーハの一部である検査領域の欠陥又は汚れの有無を検査する検査部と、を備え、
前記回転部は、前記ウエーハを回転させることにより、前記ウエーハに対する前記検査領域の位置を相対的に移動させる、
検査システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、非接触位置決め装置及び検査システムに関する。
【背景技術】
【0002】
例えば、特許文献１に記載のウエーハ搬送装置は、進行方向に沿って傾斜が付けられるとともにエアの吹き出し口が設けられたウエーハ搬送路と、このウエーハ搬送路の両側に設けられこのエアの吹き出し口が設けられたガイドレ－ルと、を備える。そして、このウエーハ搬送路により非接触にウエーハを浮上させるとともに、このウエーハ搬送路の傾斜により横方向の力をウエーハに与えてウエーハを移動させる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】実開平５－１４０３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
上記特許文献１の構成においては、ウエーハの位置決めが困難であるとともに、浮上するウエーハがエアにより変形するおそれがある。
【0005】
本発明は、上記実状を鑑みてなされたものであり、浮上物を非接触で精度高く位置決めできるとともに、浮上する浮上物の変形を抑制することができる非接触位置決め装置及び検査システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
上記目的を達成するため、本発明の第１の観点に係る非接触位置決め装置は、浮上物に正圧の流体及び負圧の流体を同時に供給することにより前記浮上物を浮上面に対して浮上させた状態で前記浮上面から離れないように保持する浮上部と、前記浮上物の縁部に超音波を供給することにより前記浮上物を浮上した状態で位置決めする位置決め部と、前記浮上面に対して浮上した状態で前記浮上物を回転又は移動させる浮上物駆動部と、を備える。
【0007】
また、上記非接触位置決め装置において、前記浮上物駆動部は、前記浮上物に超音波を供給することにより浮上した状態の前記浮上物を回転軸を中心に回転させる回転部である、ようにしてもよい。
【0008】
また、上記非接触位置決め装置において、前記回転部は、前記浮上物の回転方向に沿って延び、前記浮上部の周囲を囲むように形成され、複数の前記位置決め部は、前記回転部の周囲に配置され、円板状の前記浮上物の縁部に対向して位置する、ようにしてもよい。
【0009】
また、上記非接触位置決め装置において、前記位置決め部及び前記回転部を有する位置決め回転部と、前記位置決め回転部を収容する収容凹部と、前記位置決め回転部が前記浮上物に超音波を供給する際に、前記位置決め回転部に流体を供給することにより前記位置決め回転部を前記収容凹部内で浮いた状態とする流体供給部と、を備える、ようにしてもよい。
【0010】
また、上記非接触位置決め装置において、前記浮上物駆動部は、前記浮上部により浮上させられ、かつ前記位置決め部により位置決めされた前記浮上物を前記浮上部及び前記位置決め部と一体的に移動させる、ようにしてもよい。
【0011】
また、上記非接触位置決め装置において、前記浮上部、前記位置決め部及び前記浮上物駆動部は、前記浮上物の裏面側に配置されている、ようにしてもよい。
【0012】
上記目的を達成するため、本発明の第２の観点に係る検査システムは、前記非接触位置決め装置と、前記浮上物であるウエーハの一部である検査領域の欠陥又は汚れの有無を検査する検査部と、を備え、前記回転部は、前記ウエーハを回転させることにより、前記ウエーハに対する前記検査領域の位置を相対的に移動させる。
【発明の効果】
【0013】
本発明によれば、浮上物を非接触で精度高く位置決めできるとともに、浮上する浮上物の変形を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【0014】
【図1】本発明の第１実施形態に係る非接触位置決め装置の模式的な底面図である。
【図3】本発明の第１実施形態に係る回転部の概略的な斜視図である。
【図4】本発明の第１実施形態に係る検査プログラムの処理手順を示すフローチャートである。
【図5】（ａ）は本発明の第２実施形態に係る非接触位置決め装置の模式的な底面図であり、（ｂ）は（ａ）のＥ－Ｅ線の模式的な断面図であり、（ｃ）は（ｂ）の一部を拡大した図である。
【図6】（ａ）は本発明の第３実施形態に係る非接触位置決め装置の模式的な底面図であり、（ｂ）は（ａ）のＤ－Ｄ線の模式的な断面図であり、（ｃ）は（ｂ）の一部を拡大した図である。
【図7】（ａ）～（ｄ）は、本発明の変形例に係る非接触位置決め装置の模式的な底面図である。
【図8】本発明の変形例に係る搬送システムの模式的な断面図である。
【図10】本発明の変形例に係る基板授受システムの模式的な断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0015】
（第１実施形態）
本発明に係る非接触位置決め装置及び検査システムの第１実施形態について図面を参照して説明する。
図１及び図２に示すように、検査システム１は、非接触位置決め装置２と、検査部３Ａ，３Ｂ，３Ｃと、制御部６０と、を備える。
本発明に係る非接触位置決め装置及び検査システムの第１実施形態について図面を参照して説明する。
図１及び図２に示すように、検査システム１は、非接触位置決め装置２と、検査部３Ａ，３Ｂ，３Ｃと、制御部６０と、を備える。
【0016】
検査部３Ａ，３Ｂ，３Ｃは、非接触位置決め装置２により非接触で浮上した状態で停止させられたウエーハＷの欠陥又は汚れを検査する。図２に示すように、検査部３Ａ，３Ｂ，３Ｃは、ウエーハＷの一部である検査領域Ｗｋを撮像するカメラであり、撮像したデータを制御部６０に出力する。検査領域Ｗｋは、ウエーハＷの側面の一部を含む範囲に設定される。
【0017】
図１に示すように、検査部３Ａ，３Ｂ，３Ｃは、非接触位置決め装置２の後述する回転部３０の外周側に配置され、非接触位置決め装置２により停止させられたウエーハＷの側面に対向するように位置する。本例では、ウエーハＷは円板状に形成されている。ウエーハＷは、例えば、シリコンウエーハである。検査部３Ａ，３Ｂ，３Ｃは、ウエーハＷの側周面に等角度間隔、本例では１２０°間隔で配置されている。
【0018】
図１及び図２に示すように、非接触位置決め装置２は、ウエーハＷを非接触でウエーハＷの回転軸Ｏを中心に回転させ、所望の回転位置でウエーハＷを非接触で停止させる。
非接触位置決め装置２は、ウエーハＷを浮上させる浮上部１０と、浮上するウエーハＷを非接触で位置決めする位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃと、ウエーハＷを回転させる回転部３０と、を備える。
非接触位置決め装置２は、ウエーハＷを浮上させる浮上部１０と、浮上するウエーハＷを非接触で位置決めする位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃと、ウエーハＷを回転させる回転部３０と、を備える。
【0019】
図２に示すように、浮上部１０は、正圧のエア等の流体をウエーハＷに供給することにより、この流体の正の圧力によってウエーハＷを浮上させつつ、負圧のエア等の流体をウエーハＷに供給することにより、この流体の負の圧力によって浮上中のウエーハＷを浮上部１０から離れないように保持する。浮上部１０は、流体通過プレート１１と、ケース部１２と、パイプ部１４と、加圧部４０と、減圧部５０と、を備える。
流体通過プレート１１は、板状、例えば、円板状をなす。流体通過プレート１１には、流体通過プレート１１の厚さ方向に貫通する複数のエア通過孔１１ａ，１１ｂが形成されている。エア通過孔１１ａ，１１ｂは、流体通過プレート１１の面方向にマトリクス状に配置されている。エア通過孔１１ａは、ウエーハＷに供給されるエアが通過する孔である。エア通過孔１１ｂは、ウエーハＷから浮上部１０内に吸い込まれるエアが通過する孔である。
流体通過プレート１１は、流体通過プレート１１の表面である浮上面１１ｆを備える。ウエーハＷは、浮上面１１ｆに対して浮上する。
なお、流体通過プレート１１は、流体が通過可能な多孔質セラミック等の多孔質体であってもよい。この場合には、流体通過プレート１１の裏面には正圧空間と負圧空間が形成される。
流体通過プレート１１は、板状、例えば、円板状をなす。流体通過プレート１１には、流体通過プレート１１の厚さ方向に貫通する複数のエア通過孔１１ａ，１１ｂが形成されている。エア通過孔１１ａ，１１ｂは、流体通過プレート１１の面方向にマトリクス状に配置されている。エア通過孔１１ａは、ウエーハＷに供給されるエアが通過する孔である。エア通過孔１１ｂは、ウエーハＷから浮上部１０内に吸い込まれるエアが通過する孔である。
流体通過プレート１１は、流体通過プレート１１の表面である浮上面１１ｆを備える。ウエーハＷは、浮上面１１ｆに対して浮上する。
なお、流体通過プレート１１は、流体が通過可能な多孔質セラミック等の多孔質体であってもよい。この場合には、流体通過プレート１１の裏面には正圧空間と負圧空間が形成される。
【0020】
ケース部１２は、ウエーハＷが位置する方向に開口する箱状をなす。ケース部１２の開口部には、流体通過プレート１１が嵌め込まれている。ケース部１２は、内部空間を正圧室１２ａと負圧室１２ｂに区画する区画壁１３を備える。
正圧室１２ａは、流体通過プレート１１の各エア通過孔１１ａに連通している。負圧室１２ｂは、各パイプ部１４を介して流体通過プレート１１の各エア通過孔１１ｂに連通している。
正圧室１２ａは、流体通過プレート１１の各エア通過孔１１ａに連通している。負圧室１２ｂは、各パイプ部１４を介して流体通過プレート１１の各エア通過孔１１ｂに連通している。
【0021】
加圧部４０は、制御部６０による制御のもと、正圧室１２ａを正圧とする。これにより、正圧のエアがウエーハＷの裏面に供給されることにより、ウエーハＷが浮上面１１ｆに対して浮上する。
減圧部５０は、制御部６０による制御のもと、負圧室１２ｂを負圧とする。これにより、ウエーハＷの裏面の各エア通過孔１１ｂに対向する領域が負圧となる。加圧部４０及び減圧部５０が同時に駆動されることにより、ウエーハＷが浮上面１１ｆに対して浮上しつつ浮上面１１ｆに非接触で保持される。また、この際、ウエーハＷの裏面側には、正圧空間と負圧空間が交互に形成されているため、ウエーハＷがドーム状に変形することが抑制される。
減圧部５０は、制御部６０による制御のもと、負圧室１２ｂを負圧とする。これにより、ウエーハＷの裏面の各エア通過孔１１ｂに対向する領域が負圧となる。加圧部４０及び減圧部５０が同時に駆動されることにより、ウエーハＷが浮上面１１ｆに対して浮上しつつ浮上面１１ｆに非接触で保持される。また、この際、ウエーハＷの裏面側には、正圧空間と負圧空間が交互に形成されているため、ウエーハＷがドーム状に変形することが抑制される。
【0022】
回転部３０は、浮上部１０により浮上させられたウエーハＷを、非接触で、回転軸Ｏを中心に回転方向Ｃに回転させる。回転部３０は、浮上部１０の外周に位置し、浮上部１０を囲む円環状をなす。回転部３０は、超音波を利用してウエーハＷを回転させる。
詳しくは、図３に示すように、回転部３０は、複数の励振アクチュエータ３１と、弾性振動板３２と、を備える。
弾性振動板３２は、平板リング板状をなし、浮上部１０（図２参照）により浮上させられたウエーハＷに隙間を持って対面する。複数の励振アクチュエータ３１は、弾性振動板３２のウエーハＷと反対側の面に位置する。複数の励振アクチュエータ３１は、弾性振動板３２に進行波で超音波振動を与える。これにより、弾性振動板３２に撓み進行波Ｗｖが伝搬することで、超音波音響粘性力ＳがウエーハＷに作用する。これにより、ウエーハＷが回転方向Ｃに回転する。
詳しくは、図３に示すように、回転部３０は、複数の励振アクチュエータ３１と、弾性振動板３２と、を備える。
弾性振動板３２は、平板リング板状をなし、浮上部１０（図２参照）により浮上させられたウエーハＷに隙間を持って対面する。複数の励振アクチュエータ３１は、弾性振動板３２のウエーハＷと反対側の面に位置する。複数の励振アクチュエータ３１は、弾性振動板３２に進行波で超音波振動を与える。これにより、弾性振動板３２に撓み進行波Ｗｖが伝搬することで、超音波音響粘性力ＳがウエーハＷに作用する。これにより、ウエーハＷが回転方向Ｃに回転する。
【0023】
図１に示すように、位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃは、ウエーハＷの側面部分を非接触で把持する。位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０ＣによるウエーハＷの径方向の保持力は、位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０ＣによるウエーハＷの回転方向Ｃの保持力よりも大きく設定される。位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０ＣによるウエーハＷの回転方向Ｃの保持力は、回転部３０からウエーハＷに伝えられる回転力よりも小さく設定されている。これにより、位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０によりウエーハＷが保持された状態で、回転部３０によりウエーハＷが回転可能となる。また、ウエーハＷの回転中に回転部３０の動作が停止されると、位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０がウエーハＷの回転を停止させるブレーキ機能を果たす。
位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃは、回転部３０の外周側に位置し、ウエーハＷの回転方向Ｃに等角度間隔で配置されている。位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃは、回転方向Ｃにおいて、検査部３Ａ，３Ｂ，３Ｃの中間位置に配置される。位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃは、ウエーハＷの外周面をウエーハＷの径方向に跨がる位置に形成されている。
位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃは、回転部３０の外周側に位置し、ウエーハＷの回転方向Ｃに等角度間隔で配置されている。位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃは、回転方向Ｃにおいて、検査部３Ａ，３Ｂ，３Ｃの中間位置に配置される。位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃは、ウエーハＷの外周面をウエーハＷの径方向に跨がる位置に形成されている。
【0024】
図２に示すように、位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃは、それぞれ、振動板２１と、コニカルホーン２２と、振動子２３と、を備える。
振動子２３は、超音波を発するランジュバン振動子である。コニカルホーン２２は回転軸Ｏに沿って延び、振動板２１と振動子２３の間に位置している。コニカルホーン２２のウエーハＷに近い第１端部には振動板２１が固定されている。コニカルホーン２２のウエーハＷから遠い第２端部には振動子２３が固定されている。振動子２３からの超音波はコニカルホーン２２内を通過して振動板２１に伝達する。
振動板２１は、浮上部１０により浮上させられたウエーハＷの裏面の縁部に対向して位置する。振動板２１は、振動子２３からの超音波により励振される。振動板２１は、アルミニウム製の矩形板状で形成されている。振動板２１は、周波数２８ｋＨｚで長手方向（ウエーハＷの径方向）に１次の曲げモードを有し、両端と中央部が腹となる。超音波により振動板２１が高速で曲がることで負圧の領域を形成し、この負圧の領域によりウエーハＷが引き寄せられる。これにより、位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０ＣがウエーハＷの側面部分を非接触で把持する。
振動子２３は、超音波を発するランジュバン振動子である。コニカルホーン２２は回転軸Ｏに沿って延び、振動板２１と振動子２３の間に位置している。コニカルホーン２２のウエーハＷに近い第１端部には振動板２１が固定されている。コニカルホーン２２のウエーハＷから遠い第２端部には振動子２３が固定されている。振動子２３からの超音波はコニカルホーン２２内を通過して振動板２１に伝達する。
振動板２１は、浮上部１０により浮上させられたウエーハＷの裏面の縁部に対向して位置する。振動板２１は、振動子２３からの超音波により励振される。振動板２１は、アルミニウム製の矩形板状で形成されている。振動板２１は、周波数２８ｋＨｚで長手方向（ウエーハＷの径方向）に１次の曲げモードを有し、両端と中央部が腹となる。超音波により振動板２１が高速で曲がることで負圧の領域を形成し、この負圧の領域によりウエーハＷが引き寄せられる。これにより、位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０ＣがウエーハＷの側面部分を非接触で把持する。
【0025】
図２に示すように、制御部６０は、加圧部４０、減圧部５０、位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃ、回転部３０及び検査部３Ａ，３Ｂ，３Ｃを制御する。制御部６０は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＲＯＭ（Read Only Memory）、ＲＡＭ（Random Access Memory）等から構成される。このＲＯＭには、例えば、制御部６０の制御手順が規定された検査プログラムが記憶されている。制御部６０は、この検査プログラムに従って検査システム１を制御する。
【0026】
次に、図４のフローチャートに沿って、制御部６０により実行される検査プログラムの手順について説明する。
まず、制御部６０は、浮上部１０を介してウエーハＷを浮上面１１ｆに対して浮上させる（ステップＳ１０１）。このステップＳ１０１の際、制御部６０は、加圧部４０及び減圧部５０を同時に動作させる。
まず、制御部６０は、浮上部１０を介してウエーハＷを浮上面１１ｆに対して浮上させる（ステップＳ１０１）。このステップＳ１０１の際、制御部６０は、加圧部４０及び減圧部５０を同時に動作させる。
【0027】
次に、制御部６０は、浮上したウエーハＷを位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃにより非接触で保持する（ステップＳ１０２）。これにより、浮上面１１ｆに対して浮上するウエーハＷがその径方向にずれることが抑制される。
なお、上記ステップＳ１０１，Ｓ１０２の順番は逆であってもよいし、上記ステップＳ１０１，Ｓ１０２は同時に実行されてもよい。
なお、上記ステップＳ１０１，Ｓ１０２の順番は逆であってもよいし、上記ステップＳ１０１，Ｓ１０２は同時に実行されてもよい。
【0028】
そして、制御部６０は、回転部３０を介してウエーハＷを回転させつつ、検査部３Ａ，３Ｂ，３Ｃを介してウエーハＷの欠陥等の有無を検査し、この検査結果をディスプレイ（図示略）に表示する（ステップＳ１０３）。
このステップＳ１０３において、詳しくは、制御部６０は、回転部３０を介してウエーハＷを規定角度だけ回転させると、回転部３０の動作を停止することによりウエーハＷの回転を停止させる。この規定角度は、検査部３Ａ，３Ｂ，３Ｃの検査領域Ｗｋに基づき設定される。制御部６０は、ウエーハＷの回転を停止させた状態で、検査部３Ａ，３Ｂ，３Ｃを介してウエーハＷの検査、本例では撮像を行う。
本例では、複数の検査部３Ａ，３Ｂ，３ＣがウエーハＷの周囲に等角度間隔で配置されているため、上記ステップＳ１０３において、ウエーハＷの全周を検査するために、３６０°を検査部３Ａ，３Ｂ，３Ｃの数で除した角度、本例では１２０°にわたってウエーハＷを回転させる。
このステップＳ１０３において、詳しくは、制御部６０は、回転部３０を介してウエーハＷを規定角度だけ回転させると、回転部３０の動作を停止することによりウエーハＷの回転を停止させる。この規定角度は、検査部３Ａ，３Ｂ，３Ｃの検査領域Ｗｋに基づき設定される。制御部６０は、ウエーハＷの回転を停止させた状態で、検査部３Ａ，３Ｂ，３Ｃを介してウエーハＷの検査、本例では撮像を行う。
本例では、複数の検査部３Ａ，３Ｂ，３ＣがウエーハＷの周囲に等角度間隔で配置されているため、上記ステップＳ１０３において、ウエーハＷの全周を検査するために、３６０°を検査部３Ａ，３Ｂ，３Ｃの数で除した角度、本例では１２０°にわたってウエーハＷを回転させる。
【0029】
そして、制御部６０は、回転部３０の動作を停止させることにより、位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０ＣによりウエーハＷの回転を停止させ（ステップＳ１０４）、このフローチャートを終了する。
【0030】
（効果）
以上、説明した第１実施形態によれば、以下の効果を奏する。
（１）非接触位置決め装置２は、浮上物の一例であるウエーハＷの異なる位置に正圧の流体及び負圧の流体を同時に供給することによりウエーハＷを浮上面１１ｆに対して浮上させた状態で浮上面１１ｆから離れないように保持する浮上部１０と、ウエーハＷに超音波を供給することによりウエーハＷを浮上した状態で位置決めする位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃと、浮上した状態でウエーハＷを回転させる浮上物駆動部の一例である回転部３０と、を備える。
この構成によれば、浮上中のウエーハＷに正圧の流体及び負圧の流体が同時に供給されることにより、ウエーハＷの変形が抑制される。また、位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃにより、非接触で浮上中のウエーハＷの位置が精度高く位置決めできる。
また、上記構成によれば、ウエーハＷは浮上面１１ｆに対して浮上した状態で浮上面１１ｆから離れない。このため、ウエーハＷの重力方向に関わらず、ウエーハＷが浮上面１１ｆから離れない。よって、非接触位置決め装置２の設置位置の自由度が高まる。
また、非接触位置決め装置２全体を重力方向に回転させることが可能となる。
さらに、ウエーハＷの裏面に負圧のエアが供給されることにより、ウエーハＷがドーム状に変形することが抑制され、フラットな状態が保たれやすい。
以上、説明した第１実施形態によれば、以下の効果を奏する。
（１）非接触位置決め装置２は、浮上物の一例であるウエーハＷの異なる位置に正圧の流体及び負圧の流体を同時に供給することによりウエーハＷを浮上面１１ｆに対して浮上させた状態で浮上面１１ｆから離れないように保持する浮上部１０と、ウエーハＷに超音波を供給することによりウエーハＷを浮上した状態で位置決めする位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃと、浮上した状態でウエーハＷを回転させる浮上物駆動部の一例である回転部３０と、を備える。
この構成によれば、浮上中のウエーハＷに正圧の流体及び負圧の流体が同時に供給されることにより、ウエーハＷの変形が抑制される。また、位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃにより、非接触で浮上中のウエーハＷの位置が精度高く位置決めできる。
また、上記構成によれば、ウエーハＷは浮上面１１ｆに対して浮上した状態で浮上面１１ｆから離れない。このため、ウエーハＷの重力方向に関わらず、ウエーハＷが浮上面１１ｆから離れない。よって、非接触位置決め装置２の設置位置の自由度が高まる。
また、非接触位置決め装置２全体を重力方向に回転させることが可能となる。
さらに、ウエーハＷの裏面に負圧のエアが供給されることにより、ウエーハＷがドーム状に変形することが抑制され、フラットな状態が保たれやすい。
【0031】
（２）回転部３０は、ウエーハＷに超音波を供給することにより浮上した状態のウエーハＷを回転軸Ｏを中心に回転させる。
この構成によれば、回転部３０によりウエーハＷが非接触で回転させられ、位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０ＣによりウエーハＷが非接触で停止させられる。これにより、ウエーハＷを治具である固定部材により固定する必要がなくなり、ウエーハＷに固定部材から外力が加わることが抑制される。また、例えば、非接触位置決め装置２がウエーハＷの検査システム１に適用された場合には、固定部材によりウエーハＷの欠陥等が隠されることがないため、ウエーハＷの欠陥等を正確に検査することができる。
この構成によれば、回転部３０によりウエーハＷが非接触で回転させられ、位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０ＣによりウエーハＷが非接触で停止させられる。これにより、ウエーハＷを治具である固定部材により固定する必要がなくなり、ウエーハＷに固定部材から外力が加わることが抑制される。また、例えば、非接触位置決め装置２がウエーハＷの検査システム１に適用された場合には、固定部材によりウエーハＷの欠陥等が隠されることがないため、ウエーハＷの欠陥等を正確に検査することができる。
【0032】
（３）回転部３０は、浮上部１０の周囲を囲むように円環状に形成されている。複数の位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃは、回転部３０の周囲に配置され、円板状のウエーハＷの縁部に対向して位置する。
この構成によれば、ウエーハＷを安定的に浮上、回転及び停止させることができる。
この構成によれば、ウエーハＷを安定的に浮上、回転及び停止させることができる。
【0033】
（４）浮上部１０、位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃ及び回転部３０は、ウエーハＷの裏面側に配置されている。
この構成によれば、ウエーハＷの表面側には非接触位置決め装置２が配置されないため、ウエーハＷの表面を露出させることができる。よって、例えば、検査部３Ａ，３Ｂ，３ＣによりウエーハＷの表面側を検査しやすくなる。
この構成によれば、ウエーハＷの表面側には非接触位置決め装置２が配置されないため、ウエーハＷの表面を露出させることができる。よって、例えば、検査部３Ａ，３Ｂ，３ＣによりウエーハＷの表面側を検査しやすくなる。
【0034】
（５）検査システム１は、非接触位置決め装置２と、ウエーハＷの一部である検査領域Ｗｋの欠陥又は汚れの有無を検査する検査部３Ａ，３Ｂ，３Ｃと、を備える。回転部３０は、ウエーハＷを回転させることにより、ウエーハＷに対する検査領域Ｗｋの位置を相対的に移動させる。
この構成によれば、検査部３Ａ，３Ｂ，３ＣによりウエーハＷの全周が検査可能となる。
この構成によれば、検査部３Ａ，３Ｂ，３ＣによりウエーハＷの全周が検査可能となる。
【0035】
（第２実施形態）
本発明に係る非接触位置決め装置及び検査システムの第２実施形態について図面を参照して説明する。本実施形態では、位置決め部及び回転部が共通の構成である位置決め回転部により実現される。以下では、上記第１実施形態との相違点を中心に説明する。
本発明に係る非接触位置決め装置及び検査システムの第２実施形態について図面を参照して説明する。本実施形態では、位置決め部及び回転部が共通の構成である位置決め回転部により実現される。以下では、上記第１実施形態との相違点を中心に説明する。
【0036】
図５（ａ）に示すように、非接触位置決め装置２Ｃは、浮上部１１０と、複数の位置決め回転部１２１，１２２，１２３と、を備える。浮上部１１０は、上記第１実施形態の浮上部１０と形状が異なるが機能が同一である。
浮上部１１０は、回転軸Ｏに沿う方向から見てウエーハＷを含む略円形をなす。浮上部１１０は、浮上部１１０の周囲に形成される切り欠き部１１０Ａ，１１０Ｂ，１１０Ｃを備える。切り欠き部１１０Ａ，１１０Ｂ，１１０Ｃは、ウエーハＷの外周側面に対向する位置に設けられ、ウエーハＷの径方向外側に向けて開口する。切り欠き部１１０Ａ，１１０Ｂ，１１０Ｃには、それぞれ１つずつ検査部３Ａ，３Ｂ，３Ｃが配置可能である。
浮上部１１０は、回転軸Ｏに沿う方向から見てウエーハＷを含む略円形をなす。浮上部１１０は、浮上部１１０の周囲に形成される切り欠き部１１０Ａ，１１０Ｂ，１１０Ｃを備える。切り欠き部１１０Ａ，１１０Ｂ，１１０Ｃは、ウエーハＷの外周側面に対向する位置に設けられ、ウエーハＷの径方向外側に向けて開口する。切り欠き部１１０Ａ，１１０Ｂ，１１０Ｃには、それぞれ１つずつ検査部３Ａ，３Ｂ，３Ｃが配置可能である。
【0037】
位置決め回転部１２１，１２２，１２３は、それぞれ、ウエーハＷの外周側面に沿う湾曲板状をなす。複数、本例では３つの位置決め回転部１２１，１２２，１２３は、回転方向Ｃに沿って切り欠き部１１０Ａ，１１０Ｂ，１１０Ｃを介して等角度間隔で配置されている。
図５（ｂ）に示すように、位置決め回転部１２１，１２２，１２３は、浮上部１１０の流体通過プレート１１１の浮上面に形成された収容凹部１１５内に設置されている。位置決め回転部１２１，１２２，１２３は、圧電素子により形成される。位置決め回転部１２１，１２２，１２３には、制御部６０による制御のもと、進行波と定在波の何れかの交流電流が選択的に供給される。位置決め回転部１２１，１２２，１２３は、進行波の電流が供給されると、回転部として機能し、ウエーハＷを回転させるように進行波として超音波振動を与える。一方、位置決め回転部１２１，１２２，１２３は、定在波の電流が供給されると、位置決め部として機能し、ウエーハＷの回転を停止させるように非接触でウエーハＷを把持する。
なお、位置決め回転部１２１，１２２，１２３は、それぞれ回転方向Ｃに分割された複数の圧電素子から構成されてもよい。回転方向Ｃに隣り合う圧電素子には、位相が１８０°ずらされた交流電流が供給されてもよい。
図５（ｂ）に示すように、位置決め回転部１２１，１２２，１２３は、浮上部１１０の流体通過プレート１１１の浮上面に形成された収容凹部１１５内に設置されている。位置決め回転部１２１，１２２，１２３は、圧電素子により形成される。位置決め回転部１２１，１２２，１２３には、制御部６０による制御のもと、進行波と定在波の何れかの交流電流が選択的に供給される。位置決め回転部１２１，１２２，１２３は、進行波の電流が供給されると、回転部として機能し、ウエーハＷを回転させるように進行波として超音波振動を与える。一方、位置決め回転部１２１，１２２，１２３は、定在波の電流が供給されると、位置決め部として機能し、ウエーハＷの回転を停止させるように非接触でウエーハＷを把持する。
なお、位置決め回転部１２１，１２２，１２３は、それぞれ回転方向Ｃに分割された複数の圧電素子から構成されてもよい。回転方向Ｃに隣り合う圧電素子には、位相が１８０°ずらされた交流電流が供給されてもよい。
【0038】
図５（ｃ）に示すように、位置決め回転部１２１，１２２，１２３は、加圧部４０により供給される流体通過プレート１１１を通過する正圧のエアにより、収容凹部１１５内で浮いた状態に保たれる。流体通過プレート１１１は、多孔質体、例えば、多孔質セラミックである。位置決め回転部１２１，１２２，１２３が浮いた状態となることにより、位置決め回転部１２１，１２２，１２３が流体通過プレート１１１に固定されている場合と比較して、より確実に超音波をウエーハＷに供給することができる。また、位置決め回転部１２１，１２２，１２３が浮いた状態となることにより、ウエーハＷと位置決め回転部１２１，１２２，１２３の隙間を一定の距離に調整可能である。
【0039】
位置決め回転部１２１，１２２，１２３は、超音波の供給に伴いウエーハＷを引くスクイーズ力と位置決め回転部１２１，１２２，１２３の重力の合計と位置決め回転部１２１，１２２，１２３の裏面が受けるエアからの力の釣り合いにより収容凹部１１５内で浮いた状態に保たれる。また、位置決め回転部１２１，１２２，１２３は、収容凹部１１５内で浮いた状態で、収容凹部１１５内の側壁から受けるエアにより流体通過プレート１１１の面方向に位置決めされる。
また、位置決め回転部１２１，１２２，１２３には、収容凹部１１５内で浮いた状態で、正圧のエアに加えて、減圧部５０により負圧のエアが作用してもよい。これにより、位置決め回転部１２１，１２２，１２３は、収容凹部１１５内で浮いた状態で姿勢が保たれる。
また、位置決め回転部１２１，１２２，１２３には、収容凹部１１５内で浮いた状態で、正圧のエアに加えて、減圧部５０により負圧のエアが作用してもよい。これにより、位置決め回転部１２１，１２２，１２３は、収容凹部１１５内で浮いた状態で姿勢が保たれる。
【0040】
（効果）
以上、説明した第２実施形態によれば、以下の効果を奏する。
非接触位置決め装置２Ｃは、進行波で超音波を供給することによりウエーハＷを非接触で回転させ、定在波で超音波を供給することによりウエーハＷを非接触で位置決めする位置決め回転部１２１，１２２，１２３と、位置決め回転部１２１，１２２，１２３を収容する収容凹部１１５と、位置決め回転部１２１，１２２，１２３がウエーハＷに超音波を供給する際に、位置決め回転部１２１，１２２，１２３に流体の一例であるエアを供給することにより位置決め回転部１２１，１２２，１２３を収容凹部１１５内で浮いた状態とする流体供給部の一例である加圧部４０と、を備える。
この構成によれば、位置決め回転部１２１，１２２，１２３が浮いた状態となることにより、位置決め回転部１２１，１２２，１２３は、より確実に超音波をウエーハＷに供給することが可能となる。よって、超音波によるウエーハＷの回転及び位置決めが容易となる。
以上、説明した第２実施形態によれば、以下の効果を奏する。
非接触位置決め装置２Ｃは、進行波で超音波を供給することによりウエーハＷを非接触で回転させ、定在波で超音波を供給することによりウエーハＷを非接触で位置決めする位置決め回転部１２１，１２２，１２３と、位置決め回転部１２１，１２２，１２３を収容する収容凹部１１５と、位置決め回転部１２１，１２２，１２３がウエーハＷに超音波を供給する際に、位置決め回転部１２１，１２２，１２３に流体の一例であるエアを供給することにより位置決め回転部１２１，１２２，１２３を収容凹部１１５内で浮いた状態とする流体供給部の一例である加圧部４０と、を備える。
この構成によれば、位置決め回転部１２１，１２２，１２３が浮いた状態となることにより、位置決め回転部１２１，１２２，１２３は、より確実に超音波をウエーハＷに供給することが可能となる。よって、超音波によるウエーハＷの回転及び位置決めが容易となる。
【0041】
（第３実施形態）
本発明に係る非接触位置決め装置及び検査システムの第３実施形態について図面を参照して説明する。以下では、上記第２実施形態との相違点を中心に説明する。
図６（ａ），（ｂ）に示すように、非接触位置決め装置２Ｄは、上記第１実施形態と同様の浮上部１０と、位置決め回転部２２０と、収容部２２３と、を備える。
位置決め回転部２２０は、浮上部１０の周囲を囲むように、ウエーハＷの外周側面に沿うリング板状をなす。位置決め回転部２２０は、上記第２実施形態の複数の位置決め回転部１２１，１２２，１２３と同様の機能を有する。図６（ｃ）に示すように、位置決め回転部２２０は、回転方向Ｃに沿って分割された複数の圧電素子２２１と、複数の圧電素子２２１が固定されるリングステータ２２２と、を備える。
位置決め回転部２２０は、収容部２２３に形成される収容凹部２２５内に収容されている。収容部２２３は、上記第２実施形態の流体通過プレート１１１と同様の材質、例えば、多孔質セラミックである。位置決め回転部２２０は、上記第２実施形態の位置決め回転部１２１，１２２，１２３と同様に、図示しない加圧部により供給されるエアにより収容凹部２２５内で浮いた状態とされる。本実施形態でも、上記第２実施形態と同様の効果が得られる。
本発明に係る非接触位置決め装置及び検査システムの第３実施形態について図面を参照して説明する。以下では、上記第２実施形態との相違点を中心に説明する。
図６（ａ），（ｂ）に示すように、非接触位置決め装置２Ｄは、上記第１実施形態と同様の浮上部１０と、位置決め回転部２２０と、収容部２２３と、を備える。
位置決め回転部２２０は、浮上部１０の周囲を囲むように、ウエーハＷの外周側面に沿うリング板状をなす。位置決め回転部２２０は、上記第２実施形態の複数の位置決め回転部１２１，１２２，１２３と同様の機能を有する。図６（ｃ）に示すように、位置決め回転部２２０は、回転方向Ｃに沿って分割された複数の圧電素子２２１と、複数の圧電素子２２１が固定されるリングステータ２２２と、を備える。
位置決め回転部２２０は、収容部２２３に形成される収容凹部２２５内に収容されている。収容部２２３は、上記第２実施形態の流体通過プレート１１１と同様の材質、例えば、多孔質セラミックである。位置決め回転部２２０は、上記第２実施形態の位置決め回転部１２１，１２２，１２３と同様に、図示しない加圧部により供給されるエアにより収容凹部２２５内で浮いた状態とされる。本実施形態でも、上記第２実施形態と同様の効果が得られる。
【0042】
なお、本開示は以上の実施形態及び図面によって限定されるものではない。本開示の要旨を変更しない範囲で、適宜、変更（構成要素の削除も含む）を加えることが可能である。以下に、変形の一例を説明する。
【0043】
（変形例）
上記第１実施形態において回転部３０及び位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃは、上記第２実施形態及び上記第３実施形態と同様に、それぞれ圧電素子を有するタイプであってもよい。
上記各実施形態においては、検査部３Ａ，３Ｂ，３Ｃの数は３つに限らず、１つ、２つ、又は４つ以上であってもよい。
また、上記各実施形態においては、検査部３Ａ，３Ｂ，３Ｃは、ウエーハＷの側面を撮像するカメラであったが、ウエーハＷの他の部分、例えば、ウエーハＷの表面を撮像してもよいし、ウエーハＷの全体を撮像してもよい。
さらに、上記各実施形態においては、検査部３Ａ，３Ｂ，３Ｃは、カメラであったが、レーザ等の他の方式でウエーハＷを検査してもよい。
また、上記各実施形態においては、検査部３Ａ，３Ｂ，３Ｃは、ウエーハＷの表面側に配置されていたが、これに限らず、ウエーハＷの裏面側に配置されてもよい。
上記第１実施形態において回転部３０及び位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃは、上記第２実施形態及び上記第３実施形態と同様に、それぞれ圧電素子を有するタイプであってもよい。
上記各実施形態においては、検査部３Ａ，３Ｂ，３Ｃの数は３つに限らず、１つ、２つ、又は４つ以上であってもよい。
また、上記各実施形態においては、検査部３Ａ，３Ｂ，３Ｃは、ウエーハＷの側面を撮像するカメラであったが、ウエーハＷの他の部分、例えば、ウエーハＷの表面を撮像してもよいし、ウエーハＷの全体を撮像してもよい。
さらに、上記各実施形態においては、検査部３Ａ，３Ｂ，３Ｃは、カメラであったが、レーザ等の他の方式でウエーハＷを検査してもよい。
また、上記各実施形態においては、検査部３Ａ，３Ｂ，３Ｃは、ウエーハＷの表面側に配置されていたが、これに限らず、ウエーハＷの裏面側に配置されてもよい。
【0044】
上記各実施形態における浮上部１０は、エアによりウエーハＷを浮上させていたが、これに限らず、超音波によりウエーハＷを浮上させてもよい。また、位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃは、超音波をウエーハＷの縁部以外に供給することによりウエーハＷを位置決めしてもよい。また、位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃは、超音波以外の磁気等の手段により非接触でウエーハＷを位置決めしてもよい。
上記各実施形態においては、ウエーハＷの回転軸Ｏは、ウエーハＷの中心位置を通過していたが、これに限らず、ウエーハＷの中心位置からずれた位置を通過していてもよい。
上記各実施形態においては、ウエーハＷの回転軸Ｏは、ウエーハＷの中心位置を通過していたが、これに限らず、ウエーハＷの中心位置からずれた位置を通過していてもよい。
【0045】
上記各実施形態においては、ウエーハＷの形状は円板状に形成されていたが、これに限らず、多角形板状をなしていてもよい。
上記第１実施形態において、例えば、図７（ａ）に示すように、ウエーハＷは正方形板状をなし、位置決め部２０Ｄは、ウエーハＷの各辺の中央部に配置されていてもよい。
例えば、図７（ｂ）に示すように、ウエーハＷは三角形板状をなし、位置決め部２０Ｅは、ウエーハＷの各辺の中央部に配置されていてもよい。
例えば、図７（ｃ）に示すように、ウエーハＷは長方形板状をなす。そして、位置決め部２０Ｆは、図中の実線で示す第１の回転位置にあるウエーハＷの各辺の中央部に配置され、位置決め部２０Ｇは、図中の一点鎖線で示す第２の回転位置にあるウエーハＷの各辺の中央部に配置されてもよい。第１の回転位置と第２の回転位置は、回転方向Ｃに９０°離れた位置にある。
例えば、図７（ｄ）に示すように、上記図７（ｃ）と同様に、ウエーハＷは長方形板状をなす場合において、図中の実線で示す第１の回転位置のウエーハＷと図中の一点鎖線で示す第２の回転位置のウエーハＷが交わる４点に位置決め部２０Ｈが配置されてもよい。
また、位置決め部は、上記図７（ａ）～（ｄ）に示すウエーハＷの各角部に配置されていてもよい。
上記第１実施形態において、例えば、図７（ａ）に示すように、ウエーハＷは正方形板状をなし、位置決め部２０Ｄは、ウエーハＷの各辺の中央部に配置されていてもよい。
例えば、図７（ｂ）に示すように、ウエーハＷは三角形板状をなし、位置決め部２０Ｅは、ウエーハＷの各辺の中央部に配置されていてもよい。
例えば、図７（ｃ）に示すように、ウエーハＷは長方形板状をなす。そして、位置決め部２０Ｆは、図中の実線で示す第１の回転位置にあるウエーハＷの各辺の中央部に配置され、位置決め部２０Ｇは、図中の一点鎖線で示す第２の回転位置にあるウエーハＷの各辺の中央部に配置されてもよい。第１の回転位置と第２の回転位置は、回転方向Ｃに９０°離れた位置にある。
例えば、図７（ｄ）に示すように、上記図７（ｃ）と同様に、ウエーハＷは長方形板状をなす場合において、図中の実線で示す第１の回転位置のウエーハＷと図中の一点鎖線で示す第２の回転位置のウエーハＷが交わる４点に位置決め部２０Ｈが配置されてもよい。
また、位置決め部は、上記図７（ａ）～（ｄ）に示すウエーハＷの各角部に配置されていてもよい。
【0046】
上記第１実施形態においては、ウエーハＷの裏面側に、浮上部１０、位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃ及び回転部３０が配置されていたが、これに限らず、ウエーハＷの表面側に、浮上部１０、位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃ及び回転部３０の何れか一つ又は二つが配置されていてもよい。上記第２実施形態及び上記第３実施形態もこれと同様に変更可能である。
上記各実施形態においては、非接触位置決め装置２により回転及び停止させられる浮上物は、ウエーハＷであったが、ウエーハＷ以外の物であってもよい。
上記各実施形態においては、非接触位置決め装置２により回転及び停止させられる浮上物は、ウエーハＷであったが、ウエーハＷ以外の物であってもよい。
【0047】
上記各実施形態においては、非接触位置決め装置２，２Ｃ，２Ｄは、ウエーハＷを検査する検査システム１に適用されていたが、これに限らず、浮上物である基板を搬送する搬送システムに適用されてもよい。例えば、図８及び図９に示すように、搬送システム１Ａは、非接触位置決め装置２Ａと、スライド部１９と、浮上物駆動部の一例である基板駆動部７０と、制御部６０と、を備える。非接触位置決め装置２Ａは、浮上部１０Ａと、位置決め部２０Ｄ，２０Ｅ，２０Ｆ，２０Ｇと、を備える。すなわち、非接触位置決め装置２Ａは、上記第１実施形態の非接触位置決め装置２と異なり、回転部３０（図１及び図２参照）を有しない。浮上部１０Ａは、直方体をなし、形状以外については上記実施形態の浮上部１０と同様の構造及び機能を有する。浮上部１０Ａの浮上面１１ｆは矩形状をなす。本例では、基板Ｗ１は、矩形板状をなす。基板Ｗ１は、浮上部１０Ａの浮上面１１ｆに対して浮上した状態で保持される。
【0048】
位置決め部２０Ｄ，２０Ｅ，２０Ｆ，２０Ｇは、上記実施形態の位置決め部２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃと同じ構造及び機能を有する。
図９に示すように、位置決め部２０Ｄ，２０Ｅは、基板Ｗ１の第１辺部Ｗａに対向するように第１辺部Ｗａに沿って並べられる。位置決め部２０Ｆ，２０Ｇは、基板Ｗ１の第２辺部Ｗｂに対向するように第２辺部Ｗｂに沿って並べられる。第１辺部Ｗａと第２辺部Ｗｂは互いに直交する方向に延びる。位置決め部２０Ｄ，２０Ｅ，２０Ｆ，２０Ｇは、浮上面１１ｆに対して浮上した状態の基板Ｗ１を位置決めする。なお、位置決め部２０Ｄ，２０Ｅ，２０Ｆ，２０Ｇは、基板Ｗ１の各辺に１つずつ配置されていてもよい。
図９に示すように、位置決め部２０Ｄ，２０Ｅは、基板Ｗ１の第１辺部Ｗａに対向するように第１辺部Ｗａに沿って並べられる。位置決め部２０Ｆ，２０Ｇは、基板Ｗ１の第２辺部Ｗｂに対向するように第２辺部Ｗｂに沿って並べられる。第１辺部Ｗａと第２辺部Ｗｂは互いに直交する方向に延びる。位置決め部２０Ｄ，２０Ｅ，２０Ｆ，２０Ｇは、浮上面１１ｆに対して浮上した状態の基板Ｗ１を位置決めする。なお、位置決め部２０Ｄ，２０Ｅ，２０Ｆ，２０Ｇは、基板Ｗ１の各辺に１つずつ配置されていてもよい。
【0049】
図８に示すように、スライド部１９には、浮上部１０Ａ及び位置決め部２０Ｄ，２０Ｅ，２０Ｆ，２０Ｇが設置されている。
基板駆動部７０は、制御部６０による制御のもと、浮上部１０Ａ及び位置決め部２０Ｄ，２０Ｅ，２０Ｆ，２０Ｇとともにスライド部１９を移動させる。スライド部１９の移動方向は、浮上面１１ｆに沿う方向である。基板Ｗ１は、浮上部１０Ａにより浮上させられて、かつ位置決め部２０Ｄ，２０Ｅ，２０Ｆ，２０Ｇにより位置決めされた状態で、基板駆動部７０により移動させられる。これにより、搬送システム１Ａは、基板Ｗ１を非接触で搬送することができる。基板駆動部７０は、例えば、モータ及びボールねじ等を有する。
基板駆動部７０は、制御部６０による制御のもと、浮上部１０Ａ及び位置決め部２０Ｄ，２０Ｅ，２０Ｆ，２０Ｇとともにスライド部１９を移動させる。スライド部１９の移動方向は、浮上面１１ｆに沿う方向である。基板Ｗ１は、浮上部１０Ａにより浮上させられて、かつ位置決め部２０Ｄ，２０Ｅ，２０Ｆ，２０Ｇにより位置決めされた状態で、基板駆動部７０により移動させられる。これにより、搬送システム１Ａは、基板Ｗ１を非接触で搬送することができる。基板駆動部７０は、例えば、モータ及びボールねじ等を有する。
【0050】
さらに、図１０に示すように、基板授受システム４は、複数の搬送システム１Ａ，１Ｂを備え、複数の搬送システム１Ａ，１Ｂ間で基板Ｗ１を授受可能に構成されてもよい。複数、本例では２つの搬送システム１Ａ，１Ｂは、搬送する基板Ｗ１の厚さ方向に対向する向きに設けられ、搬送する基板Ｗ１の面方向に異なる位置に配置される。搬送システム１Ａは、基板Ｗ１を浮上部１０Ａにより浮上させつつ位置決め部２０Ｄ，２０Ｅ，２０Ｆ，２０Ｇにより位置決めされた状態で、矢印Ｙに示すように、搬送システム１Ｂの浮上部１０Ａに対向する位置まで移動させる。そして、搬送システム１Ｂの浮上部１０Ａ及び位置決め部２０Ｄ，２０Ｅ，２０Ｆ，２０Ｇが駆動されることにより、基板Ｗ１が搬送システム１Ｂの浮上部１０Ａから離れた状態で保持される。次に、搬送システム１Ａの浮上部１０Ａ及び位置決め部２０Ｄ，２０Ｅ，２０Ｆ，２０Ｇの駆動が停止される。よって、搬送システム１Ａの浮上部１０Ａ、位置決め部２０Ｄ，２０Ｅ，２０Ｆ，２０Ｇ及びスライド部１９が元の位置に移動しても、基板Ｗ１が搬送システム１Ｂの浮上部１０Ａ及び位置決め部２０Ｄ，２０Ｅ，２０Ｆ，２０Ｇに保持された状態に維持される。これにより、搬送システム１Ａ，１Ｂ間で非接触で基板Ｗ１の授受が可能となる。
【0051】
（効果）
以上、説明した図８～図１０の変形例によれば、以下の効果を奏する。
浮上物駆動部の一例である基板駆動部７０は、浮上部１０Ａにより浮上させられ、かつ位置決め部２０Ｄ，２０Ｅ，２０Ｆ，２０Ｇにより位置決めされた基板Ｗ１を浮上部１０Ａ及び位置決め部２０Ｄ，２０Ｅ，２０Ｆ，２０Ｇと一体的に移動させる。
この構成によれば、浮上する基板Ｗ１の変形を抑制しつつ、位置決め部２０Ｄ，２０Ｅ，２０Ｆ，２０Ｇにより非接触で精度高く位置決めされた状態で、基板Ｗ１を搬送可能となる。
以上、説明した図８～図１０の変形例によれば、以下の効果を奏する。
浮上物駆動部の一例である基板駆動部７０は、浮上部１０Ａにより浮上させられ、かつ位置決め部２０Ｄ，２０Ｅ，２０Ｆ，２０Ｇにより位置決めされた基板Ｗ１を浮上部１０Ａ及び位置決め部２０Ｄ，２０Ｅ，２０Ｆ，２０Ｇと一体的に移動させる。
この構成によれば、浮上する基板Ｗ１の変形を抑制しつつ、位置決め部２０Ｄ，２０Ｅ，２０Ｆ，２０Ｇにより非接触で精度高く位置決めされた状態で、基板Ｗ１を搬送可能となる。
【符号の説明】
【0052】
１…検査システム、１Ａ，１Ｂ…搬送システム、２，２Ａ，２Ｃ，２Ｄ…非接触位置決め装置、３Ａ，３Ｂ，３Ｃ…検査部、４…基板授受システム、１０，１０Ａ…浮上部、１１…流体通過プレート、１１ａ，１１ｂ…エア通過孔、１１ｆ…浮上面、１２…ケース部、１２ａ…正圧室、１２ｂ…負圧室、１３…区画壁、１４…パイプ部、２０，２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃ，２０Ｄ，２０Ｅ，２０Ｆ，２０Ｇ…位置決め部、２１…振動板、２２…コニカルホーン、２３…振動子、３０…回転部、３１…励振アクチュエータ、３２…弾性振動板、４０…加圧部、５０…減圧部、６０…制御部、２２１…圧電素子、２２２…リングステータ、２２３…収容部、１１５，２２５…収容凹部、１２１，１２２，１２３，２２０…位置決め回転部、Ｃ…回転方向、Ｏ…回転軸、Ｓ…超音波音響粘性力、Ｗ…ウエーハ、Ｗ１…基板、Ｗｋ…検査領域、Ｗｖ…撓み進行波
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
