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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023052844
(43)【公開日】2023-04-12
(54)【発明の名称】演奏操作装置および鍵盤楽器
(51)【国際特許分類】
G10H 1/34 20060101AFI20230404BHJP
【ＦＩ】
G10H1/34
【審査請求】未請求
【請求項の数】11
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023014466
(22)【出願日】2023-02-02
(62)【分割の表示】P 2021558277の分割
【原出願日】2020-11-05
(31)【優先権主張番号】P 2019209535
(32)【優先日】2019-11-20
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】000004075
【氏名又は名称】ヤマハ株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】110003177
【氏名又は名称】弁理士法人旺知国際特許事務所
(72)【発明者】
【氏名】石井 潤
(57)【要約】
【課題】鍵等の可動部材の変位を検出するためのシステムに関するＥＭＩ対策を実現する。
【解決手段】鍵盤楽器１００は、演奏動作に応じて変位する複数の鍵１２と、検出システム２０と、検出システム２０から放射される電磁波を遮蔽するための電磁シールド７０とを具備する。検出システム２０は、複数の鍵１２の各々について、当該鍵１２に設置された第１コイル５１と、第１コイル５２に対向する第２コイル６１とを含み、第１コイル５１と第２コイル６１との距離に応じたレベルの検出信号Ｄを生成する。電磁シールド７０は、複数の鍵１２にわたり連続する第２シールド部７２を含み、第２コイル６１は、第１コイル５１と第２シールド部７２との間に位置する。
【選択図】図２
【解決手段】鍵盤楽器１００は、演奏動作に応じて変位する複数の鍵１２と、検出システム２０と、検出システム２０から放射される電磁波を遮蔽するための電磁シールド７０とを具備する。検出システム２０は、複数の鍵１２の各々について、当該鍵１２に設置された第１コイル５１と、第１コイル５２に対向する第２コイル６１とを含み、第１コイル５１と第２コイル６１との距離に応じたレベルの検出信号Ｄを生成する。電磁シールド７０は、複数の鍵１２にわたり連続する第２シールド部７２を含み、第２コイル６１は、第１コイル５１と第２シールド部７２との間に位置する。
【選択図】図２
【特許請求の範囲】
【請求項1】
演奏動作に応じて変位する複数の可動部材と、
前記複数の可動部材の各々について、当該可動部材に設置された磁性体と、前記磁性体に対向するコイルとを含み、前記磁性体と前記コイルとの距離に応じたレベルの検出信号を生成する検出システムと、
前記検出システムから放射される電磁波を遮蔽するための電磁シールドと
を具備し、
前記電磁シールドは、前記複数の可動部材にわたり連続するシールド部を含み、
前記コイルは、前記磁性体と前記シールド部との間に位置する
演奏操作装置。
前記複数の可動部材の各々について、当該可動部材に設置された磁性体と、前記磁性体に対向するコイルとを含み、前記磁性体と前記コイルとの距離に応じたレベルの検出信号を生成する検出システムと、
前記検出システムから放射される電磁波を遮蔽するための電磁シールドと
を具備し、
前記電磁シールドは、前記複数の可動部材にわたり連続するシールド部を含み、
前記コイルは、前記磁性体と前記シールド部との間に位置する
演奏操作装置。
【請求項2】
前記複数の可動部材を支持する支持体をさらに具備し、
前記シールド部は、前記支持体に設置される
請求項１の演奏操作装置。
前記シールド部は、前記支持体に設置される
請求項１の演奏操作装置。
【請求項3】
前記シールド部は、
前記コイルからみて前記磁性体とは反対側に位置する基体部と、
前記基体部から前記可動部材に向けて突出する側壁部とを含む
請求項１または請求項２の演奏操作装置。
前記コイルからみて前記磁性体とは反対側に位置する基体部と、
前記基体部から前記可動部材に向けて突出する側壁部とを含む
請求項１または請求項２の演奏操作装置。
【請求項4】
前記磁性体は、第１コイルを含む
請求項１から請求項３の何れかの演奏操作装置。
請求項１から請求項３の何れかの演奏操作装置。
【請求項5】
前記複数の可動部材にそれぞれ設置された複数の容量素子をさらに具備し、
前記複数の可動部材の各々において、前記容量素子と前記第１コイルとを含む共振回路が構成される
請求項４の演奏操作装置。
前記複数の可動部材の各々において、前記容量素子と前記第１コイルとを含む共振回路が構成される
請求項４の演奏操作装置。
【請求項6】
前記電磁シールドは、前記複数の可動部材の各々に設置された第１シールド部を含む
請求項１から請求項５の何れかの演奏操作装置。
請求項１から請求項５の何れかの演奏操作装置。
【請求項7】
前記磁性体は、前記コイルと前記第１シールド部との間に位置する
請求項６の演奏操作装置。
請求項６の演奏操作装置。
【請求項8】
前記第１シールド部は、
前記磁性体からみて前記コイルとは反対側に位置する第１基体部と、
前記第１基体部から前記コイルに向けて突出する第１側壁部とを含む
請求項６または請求項７の演奏操作装置。
前記磁性体からみて前記コイルとは反対側に位置する第１基体部と、
前記第１基体部から前記コイルに向けて突出する第１側壁部とを含む
請求項６または請求項７の演奏操作装置。
【請求項9】
前記第１シールド部の少なくとも一部は、前記可動部材に埋設される
請求項６から請求項８の何れかの演奏操作装置。
請求項６から請求項８の何れかの演奏操作装置。
【請求項10】
前記コイルが設置された基材と、
前記基材と前記シールド部との間の距離を調整する調整部材と
を具備する請求項１から請求項９の何れかの演奏操作装置。
前記基材と前記シールド部との間の距離を調整する調整部材と
を具備する請求項１から請求項９の何れかの演奏操作装置。
【請求項11】
演奏動作に応じて変位する複数の鍵と、
前記複数の鍵の各々について、当該鍵に設置された磁性体と、前記磁性体に対向するコイルとを含み、前記磁性体と前記コイルとの距離に応じたレベルの検出信号を生成する検出システムと、
前記検出システムから放射される電磁波を遮蔽するための電磁シールドと、
前記検出信号に応じた音を生成する音生成部と
を具備し、
前記電磁シールドは、前記複数の鍵にわたり連続するシールド部を含み、
前記コイルは、前記磁性体と前記シールド部との間に位置する
鍵盤楽器。
前記複数の鍵の各々について、当該鍵に設置された磁性体と、前記磁性体に対向するコイルとを含み、前記磁性体と前記コイルとの距離に応じたレベルの検出信号を生成する検出システムと、
前記検出システムから放射される電磁波を遮蔽するための電磁シールドと、
前記検出信号に応じた音を生成する音生成部と
を具備し、
前記電磁シールドは、前記複数の鍵にわたり連続するシールド部を含み、
前記コイルは、前記磁性体と前記シールド部との間に位置する
鍵盤楽器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、演奏に利用される演奏操作装置および鍵盤楽器に関する。
【背景技術】
【0002】
例えば鍵盤楽器における鍵等の可動部材の変位を検出するための各種の技術が従来から提案されている。特許文献１には、鍵盤楽器のフレームに設置された第１コイルと、各鍵に設置された第２コイルとを利用して、各鍵の位置を検出する構成が開示されている。以上の構成において、押鍵により第２コイルが変位すると、第１コイルに流れる電流が変化する。第１コイルに流れる電流を検出することで、押鍵の有無を表す検出信号が生成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】米国特許第４５８０４７８号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかし、特許文献１の技術においては、各コイルに供給される電流に起因した電磁波が、鍵盤楽器の周囲に位置する他の電子機器に影響するという課題がある。以上の事情を考慮して、本開示のひとつの態様は、鍵等の可動部材の位置を検出するためのシステムにおけるＥＭＩ（Electromagnetic Interference）対策の実現を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0005】
以上の課題を解決するために、本開示のひとつの態様に係る演奏操作装置は、演奏動作に応じて変位する複数の可動部材と、前記複数の可動部材の各々について、当該可動部材に設置された磁性体と、前記磁性体に対向するコイルとを含み、前記磁性体と前記コイルとの距離に応じたレベルの検出信号を生成する検出システムと、前記検出システムから放射される電磁波を遮蔽するための電磁シールドとを具備し、前記電磁シールドは、前記複数の可動部材にわたり連続するシールド部を含み、前記コイルは、前記磁性体と前記シールド部との間に位置する。
【0006】
本開示のひとつの態様に係る鍵盤楽器は、演奏動作に応じて変位する複数の鍵と、前記複数の鍵の各々について、当該鍵に設置された磁性体と、前記磁性体に対向するコイルとを含み、前記磁性体と前記コイルとの距離に応じたレベルの検出信号を生成する検出システムと、前記検出システムから放射される電磁波を遮蔽するための電磁シールドと、前記検出信号に応じた音を生成する音生成部とを具備し、前記電磁シールドは、前記複数の鍵にわたり連続するシールド部を含み、前記コイルは、前記磁性体と前記シールド部との間に位置する。
【図面の簡単な説明】
【0007】
【図1】第１実施形態における鍵盤楽器の構成を例示するブロック図である。
【図2】鍵盤楽器の構成を例示するブロック図である。
【図3】信号生成部の回路図である。
【図4】被検出部の回路図である。
【図5】信号処理回路の構成を例示するブロック図である。
【図6】信号生成部側からみた鍵の平面図である
【図7】被検出部の具体的な構成を例示する平面図である。
【図9】被検出部の第１コイルに発生する磁界の説明図である。
【図10】鍵側からみた信号生成部の平面図である。
【図11】信号生成部の具体的な構成を例示する平面図である。
【図13】信号生成部の第２コイルに発生する磁界の説明図である。
【図14】第２実施形態における信号生成部の平面図である。
【図16】第２実施形態における第２シールド部の平面図である。
【図17】第２実施形態の変形例における第２シールド部の平面図である。
【図18】第３実施形態における被検出部の平面図である。
【図20】第３実施形態における第１シールド部の平面図である。
【図21】第４実施形態における信号生成部の断面図である。
【図22】第５実施形態における被検出部の断面図である。
【図23】第６実施形態に係る検出システムの模式図である。
【図24】第７実施形態に係る検出システムの模式図である。
【図25】第８実施形態に係る検出システムの模式図である。
【図26】変形例に係る第１シールド部の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0008】
Ａ：第１実施形態
図１は、本開示の第１実施形態に係る鍵盤楽器１００の構成を例示するブロック図である。鍵盤楽器１００（「演奏操作装置」の例示）は、鍵盤１０と検出システム２０と情報処理装置３０と放音装置４０とを具備する電子楽器である。鍵盤１０は、複数の白鍵と複数の黒鍵とを含む複数の鍵１２（「可動部材」の例示）で構成される。複数の鍵１２の各々は、利用者による演奏動作に応じて変位する可動部材である。検出システム２０は、各鍵１２の位置を検出する。情報処理装置３０は、検出システム２０による検出の結果に応じた音響信号Ｖを生成する。音響信号Ｖは、利用者が操作した鍵１２に対応する音高の楽音を表す信号である。放音装置４０は、音響信号Ｖが表す音響を放音する。例えばスピーカまたはヘッドホンが放音装置４０として利用される。
図１は、本開示の第１実施形態に係る鍵盤楽器１００の構成を例示するブロック図である。鍵盤楽器１００（「演奏操作装置」の例示）は、鍵盤１０と検出システム２０と情報処理装置３０と放音装置４０とを具備する電子楽器である。鍵盤１０は、複数の白鍵と複数の黒鍵とを含む複数の鍵１２（「可動部材」の例示）で構成される。複数の鍵１２の各々は、利用者による演奏動作に応じて変位する可動部材である。検出システム２０は、各鍵１２の位置を検出する。情報処理装置３０は、検出システム２０による検出の結果に応じた音響信号Ｖを生成する。音響信号Ｖは、利用者が操作した鍵１２に対応する音高の楽音を表す信号である。放音装置４０は、音響信号Ｖが表す音響を放音する。例えばスピーカまたはヘッドホンが放音装置４０として利用される。
【0009】
図２は、鍵盤１０の１個の鍵１２に着目して鍵盤楽器１００の具体的な構成を例示するブロック図である。Ｘ軸とＹ軸とを想定する。複数の鍵１２は、Ｘ軸に沿って配列する。Ｙ軸は、Ｘ軸に対して直交する。Ｘ-Ｙ平面は、水平面である。各鍵１２は、長手方向がＹ軸に沿うように配置される。すなわち、Ｙ軸は、各鍵１２の長辺に沿う軸線である。Ｘ-Ｙ平面に垂直な方向から観察することを以下では「平面視」と表記する。
【0010】
鍵盤１０の各鍵１２は、支点部（バランスピン）１３を支点として支持体１４に支持される。支持体１４は、鍵盤楽器１００の各要素を支持する構造体（フレーム）である。各鍵１２の端部１２１は、利用者による押鍵および離鍵により鉛直方向に変位する。検出システム２０は、複数の鍵１２の各々について、鉛直方向における端部１２１の位置Ｚに応じたレベルの検出信号Ｄを生成する。位置Ｚは、鍵１２に荷重が作用しない解放状態における端部１２１の位置を基準とした当該端部１２１の変位量で表現される。
【0011】
検出システム２０は、被検出部５０と信号生成部６０と基材６５と信号処理回路２１とを具備する。被検出部５０および信号生成部６０は、鍵１２毎に設置される。信号生成部６０は、支持体１４に設置される。被検出部５０は、鍵１２に設置される。具体的には、被検出部５０は、鍵１２の底面（以下「設置面」という）１２２に設置される。被検出部５０は第１コイル５１（「磁性体」の例示）を含む。信号生成部６０は第２コイル６１（「コイル」の例示）を含む。第１コイル５１と第２コイル６１とは、鉛直方向に相互に間隔をあけて対向する。信号生成部６０と被検出部５０との距離（第１コイル５１と第２コイル６１との距離）は、鍵１２における端部１２１の位置Ｚに応じて変化する。
【0012】
図３は、信号生成部６０の電気的な構成を例示する回路図である。信号生成部６０は、入力端子Ｔ1と出力端子Ｔ2と第２コイル６１と容量素子６２と容量素子６３とを含む共振回路を具備する。第２コイル６１は、入力端子Ｔ1と出力端子Ｔ2との間に接続される。容量素子６２は、入力端子Ｔ1と接地線との間に接続され、容量素子６３は、出力端子Ｔ2と接地線との間に接続される。信号生成部６０は、入力端子Ｔ1に供給される信号における低域成分を抑圧する低域除去フィルタとして機能する。
【0013】
図４は、被検出部５０の電気的な構成を例示する回路図である。被検出部５０は、第１コイル５１と容量素子５２とを含む共振回路を具備する。第１コイル５１の両端と容量素子５２の両端とが相互に接続される。被検出部５０の共振周波数と信号生成部６０の共振周波数とは共通する。ただし、被検出部５０の共振周波数と信号生成部６０の共振周波数とは相違してもよい。
【0014】
図２の信号処理回路２１は、第１コイル５１と第２コイル６１との距離に応じたレベルの検出信号Ｄを生成する。図５は、信号処理回路２１の具体的な機能的な構成を例示するブロック図である。信号処理回路２１は、供給回路２２と出力回路２３とを具備する。供給回路２２は、複数の信号生成部６０の各々に基準信号Ｒを供給する。基準信号Ｒは、周期的にレベルが変動する電流信号または電圧信号である。例えば正弦波等の任意の波形の周期信号が基準信号Ｒとして利用される。供給回路２２は、各信号生成部６０に対して基準信号Ｒを時分割で供給する。具体的には、供給回路２２は、複数の信号生成部６０の各々を順次に選択し、選択状態の信号生成部６０に対して基準信号Ｒを供給するデマルチプレクサである。すなわち、複数の信号生成部６０の各々に対して時分割で基準信号Ｒが供給される。なお、基準信号Ｒの周期は、供給回路２２が１個の信号生成部６０を選択する期間の時間長よりも充分に短い。また、基準信号Ｒの周波数は、信号生成部６０および被検出部５０の共振周波数と略同等である。ただし、基準信号Ｒの周波数と信号生成部６０および被検出部５０の共振周波数とは相違してもよい。
【0015】
図３に例示される通り、基準信号Ｒは、信号生成部６０の入力端子Ｔ1に供給される。基準信号Ｒに応じた電流が第２コイル６１に供給されることで第２コイル６１に磁界が発生する。第２コイル６１に発生した磁界による電磁誘導で第１コイル５１には誘導電流が発生する。したがって、第２コイル６１の磁界の変化を相殺する方向の磁界が第１コイル５１に発生する。第１コイル５１に発生する磁界は、第１コイル５１と第２コイル６１との距離に応じて変化する。したがって、第１コイル５１と第２コイル６１との距離に応じた振幅レベルδの検出信号ｄが信号生成部６０の出力端子Ｔ2から出力される。検出信号ｄは、基準信号Ｒと同じ周期でレベルが変動する周期信号である。
【0016】
図５の出力回路２３は、複数の信号生成部６０の各々から順次に出力される検出信号ｄを時間軸上に配列することで検出信号Ｄを生成する。すなわち、検出信号Ｄは、各鍵１２における第１コイル５１と第２コイル６１との距離に応じた振幅レベルδの電圧信号である。前述の通り第１コイル５１と第２コイル６１との距離は各鍵１２の位置Ｚに連動するから、検出信号Ｄは、複数の鍵１２の各々の位置Ｚに応じた信号と表現される。出力回路２３が生成した検出信号Ｄは、情報処理装置３０に供給される。
【0017】
図２の情報処理装置３０は、信号処理回路２１から供給される検出信号Ｄを解析することで各鍵１２の位置Ｚを解析する。情報処理装置３０は、制御装置３１と記憶装置３２とＡ/Ｄ変換器３３と音源回路３４とを具備するコンピュータシステムで実現される。Ａ/Ｄ変換器３３は、信号処理回路２１から供給される検出信号Ｄをアナログからデジタルに変換する。
【0018】
制御装置３１は、鍵盤楽器１００の各要素を制御する単数または複数のプロセッサで構成される。例えば、制御装置３１は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＳＰＵ（Sound Processing Unit）、ＤＳＰ（Digital Signal Processor）、ＦＰＧＡ（Field Programmable Gate Array）、またはＡＳＩＣ（Application Specific Integrated Circuit）等の１種類以上のプロセッサで構成される。
【0019】
記憶装置３２は、制御装置３１が実行するプログラムと制御装置３１が使用するデータとを記憶する単数または複数のメモリである。記憶装置３２は、例えば磁気記録媒体または半導体記録媒体等の公知の記録媒体で構成される。なお、複数種の記録媒体の組合せにより記憶装置３２を構成してもよい。また、鍵盤楽器１００に着脱可能な可搬型の記録媒体、または、鍵盤楽器１００が通信可能な外部記録媒体（例えばオンラインストレージ）を、記憶装置３２として利用してもよい。
【0020】
制御装置３１は、Ａ/Ｄ変換器３３による変換後の検出信号Ｄを解析することで各鍵１２の位置Ｚを解析する。また、制御装置３１は、各鍵１２の位置Ｚに応じた楽音の発音を音源回路３４に対して指示する。音源回路３４は、制御装置３１から指示された楽音を表す音響信号Ｖを生成する。すなわち、音源回路３４は、検出信号Ｄの振幅レベルδに応じた音響信号Ｖを生成する。例えば振幅レベルδに応じて音響信号Ｖの音量が制御される。音響信号Ｖが音源回路３４から放音装置４０に供給されることで、利用者による演奏動作（各鍵１２の押鍵または離鍵）に応じた楽音が放音装置４０から放音される。なお、記憶装置３２に記憶されたプログラムを実行することで制御装置３１が音源回路３４の機能を実現してもよい。
【0021】
検出システム２０は、第１コイル５１から発生する磁界と第２コイル６１から発生する磁界とにより電磁波を放射する。図２の電磁シールド７０は、検出システム２０から放射される電磁波が周囲に位置する他の電子機器に影響するＥＭＩ（Electromagnetic Interference）の対策に利用される。具体的には、電磁シールド７０は、検出システム２０から放射される電磁波を遮断するための障壁である。電磁シールド７０は、磁性材料または導電材料で形成される。例えば金属で電磁シールド７０が形成される。
【0022】
具体的には、電磁シールド７０は、検出システム２０を包囲するように形成される。第１実施形態の電磁シールド７０は、第１シールド部７１と第２シールド部７２とを含む。第１シールド部７１は、被検出部５０から放射される電磁波を遮断するための障壁である。他方、第２シールド部７２は、信号生成部６０から放射される電磁波を遮断するための障壁である。第１シールド部７１は鍵１２に設置され、第２シールド部７２は支持体１４に設置される。第１シールド部７１および第２シールド部７２の具体的な構成は後述する。
【0023】
図６は、信号生成部６０側からみた鍵１２の平面図である。被検出部５０は、鍵１２毎に設置される。第１シールド部７１は、被検出部５０（第１コイル５１）毎に設置される。図７は、被検出部５０の具体的な構成を例示する平面図である。被検出部５０を信号生成部６０側からみた平面図が図７には図示されている。また、図８は、図７におけるａ－ａ線の断面図である。
【0024】
第１実施形態の被検出部５０は、第１コイル５１と基材５５とを含む配線基板で構成される。基材５５は、表面Ｆ1と表面Ｆ2とを含む矩形状の板状部材である。表面Ｆ2は、鍵１２の設置面１２２に対向する表面である。表面Ｆ1は、表面Ｆ2とは反対側の表面である。したがって、表面Ｆ1は信号生成部６０に対向する。基材５５の横幅は１個の鍵１２の横幅を下回る。
【0025】
第１コイル５１は、基材５５の表面（表面Ｆ1および表面Ｆ2）に形成された導電膜である。具体的には、基材５５の全面を被覆する導電膜を選択的に除去するパターニングにより、第１コイル５１が形成される。第１コイル５１は、第１区間５１１と第２区間５１２とを含む。第１区間５１１と第２区間５１２とは表面Ｆ1に形成される。第１区間５１１と第２区間５１２とは、表面Ｆ1に垂直な方向からの平面視で相異なる領域に形成される。具体的には、第１区間５１１と第２区間５１２とは、鍵１２の長手方向（Ｙ軸）に沿って相互に隣合う。
【0026】
第１区間５１１は、内周側の端部Ｅa1から外周側の端部Ｅa2にかけて時計回りに回旋する渦巻状の部分である。他方、第２区間５１２は、内周側の端部Ｅb1から外周側の端部Ｅb2にかけて時計回りに回旋する渦巻状の部分である
【0027】
第１コイル５１は、基材５５の表面Ｆ2に形成された連結配線５１４を含む。端部Ｅa1と端部Ｅb1とは、連結配線５１４を介して相互に接続される。また、端部Ｅa2と端部Ｅb2との間には、表面Ｆ1に実装された容量素子５２が介在する。
【0028】
以上の説明から理解される通り、第１区間５１１に流れる電流の方向と第２区間５１２に流れる電流の方向とは逆方向である。具体的には、第１区間５１１に方向Ｑ1の電流が流れる状態においては、方向Ｑ1とは反対の方向Ｑ2の電流が第２区間５１２には流れる。したがって、図９に例示される通り、第１区間５１１と第２区間５１２とには逆方向の磁界が発生する。すなわち、第１区間５１１および第２区間５１２の一方から他方に向かう磁界が形成される。
【0029】
図８に例示される通り、第１実施形態の第１シールド部７１は、鍵１２に埋設される。第１シールド部７１は、平面視において第１コイル５１と重なるように形成される。具体的には、第１シールド部７１は、第１基体部７１aと第１側壁部７１b1と第１側壁部７１b2とを含む。第１基体部７１aは、第１コイル５１からみて第２コイル６１とは反対側に位置する部分である。すなわち、第１コイル５１は、第２コイル６１と第１基体部７１aとの間に位置する。具体的には、第１基体部７１aは、基材５５に平行な板状部材である。図６に例示される通り、平面視において第１基体部７１aの内側に第１コイル５１が位置する。第１基体部７１aは、例えば鍵１２の短手方向（Ｘ軸の方向）の全体にわたり形成される。
【0030】
図８に例示される通り、第１側壁部７１b1および第１側壁部７１b2は、第１基体部７１aから支持体１４に向けて突出する部分である。すなわち、第１基体部７１aの表面から設置面１２２に向かって形成される。第１基体部７１aのうちＸ軸に沿う周縁に第１側壁部７１b1および第１側壁部７１b2が形成される。第１側壁部７１b1は、第１基体部７１aのうちＹ軸の負方向においてＸ軸に沿う周縁に形成される。第１側壁部７１b2は、第１基体部７１aのうちＹ軸の正方向においてＸ軸に沿う周縁に形成される。図６に例示される通り、第１側壁部７１b1と第１側壁部７１b2との間に第１コイル５１が位置する。なお、第１側壁部７１b1および第１側壁部７１b2の一方または双方は省略されてもよい。
【0031】
第１コイル５１から放射される電磁波は第１シールド部７１により遮蔽される。第１実施形態では、第１シールド部７１が第１基体部７１aを含むから、図９に例示される通り、コイルとは反対側に磁性体から放射される電磁波を第１シールド部７１により効果的に遮蔽できる。また、第１シールド部７１が第１側壁部７１b1および第１側壁部７１b2を含むから、第１コイル５１から周囲に放射される電磁波を効果的に遮蔽できるという利点がある。
【0032】
図１０は、鍵１２側からみた信号生成部６０の平面図である。第２コイル６１は、第１コイル５１毎に設置される。第１実施形態の第２シールド部７２は、複数の鍵１２にわたり連続して設置される。すなわち、Ｘ軸に沿って長尺状に第２シールド部７２が形成される。図１１は、信号生成部６０の具体的な構成を例示する平面図である。信号生成部６０を被検出部５０側からみた平面図が図１１には図示されている。また、図１２は、図１１におけるｂ－ｂ線の断面図である。
【0033】
図１１に例示される通り、信号生成部６０は、第２コイル６１を含む配線基板で構成される。基材６５に信号生成部６０が形成される。基材６５は、複数の鍵１２にわたり連続する長尺状の板状部材である。図１２に例示される通り、基材６５は、表面Ｆ3と表面Ｆ4とを含む板状部材である。表面Ｆ4は、第２基体部７２aに対向する。表面Ｆ3は、表面Ｆ4とは反対側の表面である。したがって、表面Ｆ3は被検出部５０に対向する。なお、基材６５を鍵１２毎に個別に設置してもよい。
【0034】
図１１に例示される通り、第２コイル６１は、基材６５の表面（表面Ｆ3および表面Ｆ4）に形成された導電膜である。具体的には、基材６５の全面を被覆する導電膜を選択的に除去するパターニングにより、複数の第２コイル６１が一括的に形成される。相異なる鍵１２に対応する複数の第２コイル６１が基材６５に形成される。具体的には、第２コイル６１は、第３区間６１１と第４区間６１２とを含む。第３区間６１１と第４区間６１２とは表面Ｆ3に形成される。第３区間６１１と第４区間６１２とは、表面Ｆ3に垂直な方向からの平面視で相異なる領域に形成される。具体的には、第３区間６１１と第４区間６１２とは、鍵１２の長手方向に沿って相互に隣合う。
【0035】
第３区間６１１は、内周側の端部Ｅc1から外周側の端部Ｅc2にかけて反時計回りに回旋する渦巻状の部分である。他方、第４区間６１２は、内周側の端部Ｅd1から外周側の端部Ｅd2にかけて回旋する渦巻状の部分である。第２コイル６１の中心軸の方向（すなわち表面Ｆ3に垂直な方向）における第１コイル５１と第２コイル６１との距離が、鍵１２の位置Ｚに応じて変化する。
【0036】
第２コイル６１は、基材６５の表面Ｆ4に形成された連結配線６１４を含む。端部Ｅc1と端部Ｅd1とは、連結配線６１４を介して相互に接続される。また、表面Ｆ3には入力端子Ｔ1と出力端子Ｔ2とが形成される。入力端子Ｔ1と第３区間６１１の端部Ｅc2との間には容量素子６２が接続される。出力端子Ｔ2と第４区間６１２の端部Ｅd2との間には容量素子６３が接続される。容量素子６２と容量素子６３とを相互に接続する配線は、接地電位に設定される接地点Ｇに接続される。
【0037】
以上の説明から理解される通り、第３区間６１１に流れる電流の方向と第４区間６１２に流れる電流の方向とは逆方向である。具体的には、第３区間６１１に方向Ｑ3の電流が流れる状態においては、方向Ｑ3とは反対の方向Ｑ4の電流が第４区間６１２には流れる。したがって、図１３に例示される通り、第３区間６１１と第４区間６１２とには逆方向の磁界が発生する。すなわち、第３区間６１１および第４区間６１２の一方から他方に向かう磁界が形成される。
【0038】
図１２に例示される通り、第２シールド部７２は、支持体１４の表面に設置される。具体的には、平面視において複数の第２コイル６１に重なる位置に第２シールド部７２が設置される。第１実施形態の第２シールド部７２は、第２基体部７２aと第２側壁部７２b1と第２側壁部７２b2とを含む。第２基体部７２aは、第２コイル６１からみて第１コイル５１とは反対側に位置する部分である。すなわち、第２コイル６１は、第１コイル５１と第２基体部７２aとの間に位置する。図１０に例示される通り、第１実施形態の第２基体部７２aは、Ｘ軸に沿って長尺な板状部材である。例えば、鍵盤１０の一端から他端にかけて第２基体部７２aが延在する。支持体１４の表面に第２基体部７２aが設置される。
【0039】
図１０に例示される通り、第２側壁部７２bは、第２基体部７２aから鍵１２に向けて突出する部分である。第２基体部７２aのうちＸ軸に沿う周縁に第２側壁部７２b1および第２側壁部７２b2が形成される。第２側壁部７２b1は、第２基体部７２aのうちＹ軸の負方向においてＸ軸に沿う周縁に形成される。第２側壁部７２b2は、第１基体部７１aのうちＹ軸の正方向においてＸ軸に沿う周縁に形成される。図１０に例示される通り、第２側壁部７２b1と第２側壁部７２b2との間に信号生成部６０（複数の第２コイル６１）が位置する。なお、第２側壁部７２b1および第２側壁部７２b2の一方または双方は省略されてもよい。
【0040】
図１２に例示される通り、信号生成部６０が形成された基材６５は、第２基体部７２aと第２側壁部７２b1と第２側壁部７２b2とで囲まれる空間内に設置される。第１実施形態の基材６５は、第２シールド部７２に支持される。具体的には、基材６５は、第２基体部７２aの表面に設置された固定部材８１に支持される。固定部材８１は、例えば絶縁材料で形成され、第２基体部７２aに対して間隔をあけた位置に基材６５を保持するスペーサである。すなわち、基材６５と第２シールド部７２とは直接的には接触しない。
【0041】
第２コイル６１から放射される電磁波は第２シールド部７２により遮蔽される。第１実施形態では、第１コイル５１とは反対側に第２コイル６１から放射される電磁波を第２シールド部７２により効果的に遮蔽できる。また、第２シールド部７２が第２側壁部７２b1および第２側壁部７２b2を含むから、第２コイル６１から周囲に放射される電磁波を効果的に遮蔽できるという利点がある。例えば、第２コイル６１からＹ軸の方向に放射される電磁波が第２側壁部７２b1および第２側壁部７２b2により遮蔽される。
【0042】
以上の説明から理解される通り、第１実施形態では、第１コイル５１と第２コイル６１とを含む検出システム２０から放射される電磁波を遮蔽するための電磁シールド７０によりＥＭＩ対策が実現される。したがって、検出システム２０から放射される電磁波が周囲の電子機器に与える影響を低減できる。第１実施形態では特に、鍵１２に設置された第１シールド部７１と支持体１４に設置された第２シールド部７２とを電磁シールド７０が含むから、支持体１４および鍵１２の一方のみに電磁シールド７０が設置された構成と比較して効果的なＥＭＩ対策が実現される。
【0043】
Ｂ：第２実施形態
第２実施形態を以下に説明する。なお、以下に例示する各構成において機能が第１実施形態と同様である要素については、第１実施形態の説明で使用した符号を流用して各々の詳細な説明を適宜に省略する。
第２実施形態を以下に説明する。なお、以下に例示する各構成において機能が第１実施形態と同様である要素については、第１実施形態の説明で使用した符号を流用して各々の詳細な説明を適宜に省略する。
【0044】
図１４は、第２実施形態における信号生成部６０の平面図である。図１５は、図１４におけるｃ－ｃ線の断面図である。また、図１６は、第２実施形態における第２シールド部７２の平面図である。基材６５を図１４から除去した状態が図１６に図示されている。
【0045】
第２シールド部７２の第２基体部７２aは、平面視で領域Ａ20と領域Ａ21と領域Ａ22とを含む。領域Ａ21は、第２側壁部７２b1に沿ってＸ軸の方向に延在する帯状の領域である。領域Ａ22は、第２側壁部７２b2に沿ってＸ軸の方向に延在する帯状の領域である。領域Ａ20は、領域Ａ21と領域Ａ22との間においてＸ軸の方向に延在する帯状の領域である。図１４および図１５から理解される通り、複数の第２コイル６１は、基材６５の表面Ｆ3のうち領域Ａ20に平面視で重なる帯状の領域内においてＸ軸の方向に配列する。基材６５のうち領域Ａ21および領域Ａ22に重なる領域には第２コイル６１は形成されない。
【0046】
【0047】
複数の開口Ｏ21は、第２基体部７２aの領域Ａ21に形成される。具体的には、複数の開口Ｏ21は、平面視で領域Ａ21内において相互に間隔をあけてＸ軸の方向に配列する。また、複数の開口Ｏ22は、第２基体部７２aの領域Ａ22に形成される。具体的には、複数の開口Ｏ22は、平面視で領域Ａ22内において相互に間隔をあけてＸ軸の方向に配列する。他方、領域Ａ20には開口Ｏ2は形成されない。すなわち、第２実施形態における各開口Ｏ2は、複数の第２コイル６１の何れにも平面視で重複しない。
【0048】
第２実施形態においても第１実施形態と同様の効果が実現される。なお、第２実施形態のように第２シールド部７２に開口Ｏ2が形成された構成においては、第２コイル６１に発生した磁界を阻害する第２シールド部７２の作用が開口Ｏ2により緩和される。したがって、第２シールド部７２によるＥＭＩ対策の効果を適度に維持しながら、第２コイル６１の周囲の広範囲に磁界を発生させることが可能である。第２コイル６１の磁界の範囲が拡大されることで、磁界を変化させる鍵１２の位置Ｚの範囲が拡大する。すなわち、鍵１２の位置Ｚを検出できる範囲を確保し易い。
【0049】
なお、第２シールド部７２における開口Ｏ2の形態（例えば平面形状または個数）は任意である。例えば、図１６においては複数の開口Ｏ21がＸ軸の方向に配列する構成を例示したが、Ｘ軸の方向に延在する１個の開口Ｏ21が領域Ａ21内に形成されてもよい。同様に、Ｘ軸の方向に配列する複数の開口Ｏ22に代えて、Ｘ軸の方向に延在する１個の開口Ｏ22が領域Ａ22内に形成されてもよい。
【0050】
また、以上の説明においては、第２基体部７２aの領域Ａ21および領域Ａ22の各々に開口Ｏ2を形成したが、図１７に例示される通り、第２基体部７２aの領域Ａ20内に開口Ｏ2を形成してもよい。すなわち、Ｘ軸の方向に延在する１個の開口Ｏ2が領域Ａ20内に形成される。開口Ｏ2は、複数の第２コイル６１に平面視で重なる。すなわち、平面視で開口Ｏ2の内側に複数の第２コイル６１が位置する。なお、相互に間隔をあけてＸ軸の方向に配列する複数の開口Ｏ2が領域Ａ20内に形成されてもよい。
【0051】
Ｃ：第３実施形態
図１８は、信号生成部６０側からみた鍵１２の平面図である。図１９は、図１８におけるｄ－ｄ線の断面図である。また、図２０は、第３実施形態における第１シールド部７１の平面図である。複数の被検出部５０を図１８から除去した状態が図２０に図示されている。
図１８は、信号生成部６０側からみた鍵１２の平面図である。図１９は、図１８におけるｄ－ｄ線の断面図である。また、図２０は、第３実施形態における第１シールド部７１の平面図である。複数の被検出部５０を図１８から除去した状態が図２０に図示されている。
【0052】
第１シールド部７１の第１基体部７１aは、平面視で領域Ａ10と領域Ａ11と領域Ａ12とを含む。領域Ａ11は、第１側壁部７１b1に隣合う領域である。領域Ａ12は、第１側壁部７１b2に隣合う領域である。領域Ａ10は、領域Ａ11と領域Ａ12との間の領域である。図１８および図１９から理解される通り、第１コイル５１は、基材５５の表面Ｆ1のうち領域Ａ10に平面視で重なる領域内に形成される。基材５５のうち領域Ａ11および領域Ａ12に重なる領域には第１コイル５１は形成されない。
【0053】
【0054】
開口Ｏ11は、第１基体部７１aの領域Ａ11に形成される。開口Ｏ12は、第１基体部７１aの領域Ａ12に形成される。他方、領域Ａ10には開口Ｏ1は形成されない。すなわち、第２実施形態における各開口Ｏ1は、平面視で第１コイル５１に重複しない。
【0055】
第３実施形態においても第１実施形態と同様の効果が実現される。なお、第３実施形態のように第１シールド部７１に開口Ｏ1が形成された構成においては、第１コイル５１に発生した磁界を阻害する第１シールド部７１の作用が開口Ｏ1により緩和される。したがって、第１シールド部７１によるＥＭＩ対策の効果を適度に維持しながら、第１コイル５１に充分な磁界を発生させることが可能である。第１コイル５１の磁界の範囲が拡大されることで、磁界を変化させる鍵１２の位置Ｚの範囲が拡大する。すなわち、鍵１２の位置Ｚを検出できる範囲を確保し易い。
【0056】
なお、領域Ａ11および領域Ａ12の各々に複数の開口Ｏ1が形成されてもよい。また、平面視で第１コイル５１に重複する１個以上の開口Ｏ1が領域Ａ10に形成されてもよい。領域Ａ11または領域Ａ12における開口Ｏ1は省略されてもよい。
【0057】
Ｄ：第４実施形態
図２１は、第４実施形態における信号生成部６０の断面図である。図２１におけるネジ８２１は、基材６５および第２シールド部７２を支持体１４に固定するためのネジである。すなわち、ネジ８２１は、基材６５に形成された貫通孔と第２シールド部７２に形成された貫通孔とを通過して支持体１４に挿入される。基材６５と第２シールド部７２（第２基体部７２a）との間にはバネ８２２が介在する。バネ８２２は、ネジ８２１を包囲するコイルバネである。バネ８２２は、支持体１４から離間する方向に基材６５を付勢する。
図２１は、第４実施形態における信号生成部６０の断面図である。図２１におけるネジ８２１は、基材６５および第２シールド部７２を支持体１４に固定するためのネジである。すなわち、ネジ８２１は、基材６５に形成された貫通孔と第２シールド部７２に形成された貫通孔とを通過して支持体１４に挿入される。基材６５と第２シールド部７２（第２基体部７２a）との間にはバネ８２２が介在する。バネ８２２は、ネジ８２１を包囲するコイルバネである。バネ８２２は、支持体１４から離間する方向に基材６５を付勢する。
【0058】
以上の構成において、基材６５と第２シールド部７２との距離（間隔）は、ネジ８２１の締付の度合に応じて変化する。すなわち、ネジ８２１およびバネ８２２は、基材６５と第２シールド部７２との距離を調整するための調整部材として機能する。第２コイル６１により発生する磁界は、基材６５と第２シールド部７２との距離に応じて変化する。なお、基材６５と第２シールド部７２との距離を調整することで、第１コイル５１と第２コイル６１と距離も変化する。すなわち、ネジ８２１およびバネ８２２で実現される調整部材は、第１コイル５１と第２コイル６１との距離を調整する要素としても機能する。
【0059】
第４実施形態においても第１実施形態と同様の効果が実現される。また、第４実施形態においては、調整部材（ネジ８２１およびバネ８２２）により基材６５と第２シールド部７２との距離を調整することで、第２コイル６１に発生する磁界を調整できる。
【0060】
なお、基材６５と第２シールド部７２との距離を調整するための形態は、以上の例示に限定されない。例えば、全長が相違する複数の固定部材８１の何れかを選択的に基材６５と第２シールド部７２との間に介在させることで、両者間の距離を調整してもよい。すなわち、固定部材８１は調整部材として利用される。
【0061】
Ｅ：第５実施形態
図２２は、第５実施形態における被検出部５０の断面図である。被検出部５０は、ネジ８３１により鍵１２の設置面１２２に設置される。被検出部５０における基材５５の表面Ｆ2と設置面１２２との間にはバネ８３２が介在する。バネ８３２は、例えばネジ８３１を包囲するコイルバネである。バネ８３２は、設置面１２２から離間する方向に基材５５を付勢する。
図２２は、第５実施形態における被検出部５０の断面図である。被検出部５０は、ネジ８３１により鍵１２の設置面１２２に設置される。被検出部５０における基材５５の表面Ｆ2と設置面１２２との間にはバネ８３２が介在する。バネ８３２は、例えばネジ８３１を包囲するコイルバネである。バネ８３２は、設置面１２２から離間する方向に基材５５を付勢する。
【0062】
以上の構成において、基材５５と第１シールド部７１との距離は、ネジ８３１の締付の度合に応じて変化する。すなわち、ネジ８３１およびバネ８３２は、基材５５と第１シールド部７１との距離を調整するための調整部材として機能する。第１コイル５１により発生する磁界は、基材５５と第１シールド部７１との距離に応じて変化する。なお、基材５５と第１シールド部７１との距離を調整することで、第１コイル５１と第２コイル６１との距離も変化する。すなわち、ネジ８３１およびバネ８３２で実現される調整部材は、第１コイル５１と第２コイル６１との距離を調整する要素としても機能する。
【0063】
第５実施形態においても第１実施形態と同様の効果が実現される。また、第５実施形態においては、調整部材（ネジ８３１およびバネ８３２）により基材５５と第１シールド部７１との距離を調整することで、第１コイル５１に発生する磁界を調整できる。
【0064】
なお、基材５５と第１シールド部７１との距離を調整するための形態は、以上の例示に限定されない。例えば、全長が相違する複数の固定部材の何れかを選択的に基材５５と第１シールド部７１との間に介在させることで、両者間の距離を調整してもよい。
【0065】
Ｆ：第６実施形態
図２３は、第６実施形態に係る検出システム２０の模式図である。検出システム２０は、第１実施形態と同様に、複数の鍵１２の各々について、鉛直方向における端部１２１の位置Ｚに応じたレベルの検出信号Ｄを生成する。
図２３は、第６実施形態に係る検出システム２０の模式図である。検出システム２０は、第１実施形態と同様に、複数の鍵１２の各々について、鉛直方向における端部１２１の位置Ｚに応じたレベルの検出信号Ｄを生成する。
【0066】
各鍵１２は、支点部Ｇ1を支点として支持体１４に支持される。支点部Ｇ1は、支持体１４に設置された支持支点部１４１を介して支持体１４に設置される。すなわち、鍵１２は、支点部Ｇ1および支持支点部１４１を介して、支持体１４に支持される。鍵１２は、支点部Ｇ1を中心に回転する。
【0067】
第６実施形態の鍵１２は、突出部１２４を具備する。突出部１２４は、端部１２１において設置面１２２から突出する部分である。突出部１２４は、利用者による押鍵および離鍵により鉛直方向に変位する。突出部１２４の先端は曲面である。
【0068】
第６実施形態の鍵盤楽器１００は、筐体２００および付勢体９０を具備する。筐体２００は、中空の構造体であり、支持体１４に設置される。突出部１２４は、筐体２００に形成された開口を貫通する。付勢体９０は、押鍵による操作感を利用者に付与するための構造体である。複数の鍵１２の各々について付勢体９０が設置される。筐体２００の内部に複数の付勢体９０が収容される。具体的には、付勢体９０は、支点部Ｇ2を支点として支持体１４に支持される。支点部Ｇ2は、筐体２００の内部空間に設置された支点支持部１４２を介して筐体２００に設置される。すなわち、付勢体９０は、支点部Ｇ2と支点支持部１４２と筐体２００とを介して、支持体１４に支持される。
【0069】
付勢体９０が押圧されていない状態では、付勢体９０は筐体２００の内部空間に設置されたストッパ１９に突き当たる。押鍵により突出部１２４の先端が付勢体９０を押圧すると、付勢体９０はストッパ１９から離間して支点部Ｇ2を中心に回転する。なお、付勢体９０のうち被検出部５０とは反対側の端部の内部には、当該端部を加重するための錘部Ｎが設置される。したがって、付勢体９０が突出部１２４により押圧されると、適度な抵抗感が利用者に付与される。すなわち、演奏者に対して良好な操作感を与えることができる。
【0070】
被検出部５０は、付勢体９０に設置される。例えば、付勢体９０のうち突出部１２４とは反対側の面に設置される。第６実施形態では、平面視において突出部１２４と重なる位置に被検出部５０が設置される。なお、付勢体９０において被検出部５０が設置される位置は任意である。例えば付勢体９０のうち突出部１２４側の面に被検出部５０を設置してもよい。他方、信号生成部６０は、筐体２００の内壁面Ｗaに設置される。信号生成部６０の第２コイル６１は、平面視において被検出部５０の第１コイル５１に重なるように設置される。
【0071】
第１コイル５１が設置された付勢体９０は押鍵により変位する。したがって、第１実施形態と同様に、第１コイル５１と第２コイル６１との距離に応じたレベルの検出信号Ｄが検出システム２０により生成される。
【0072】
筐体２００の内壁面Ｗaは磁性材料または導電材料で形成される。筐体２００の内壁面Ｗaは、第１コイル５１および第２コイル６１を包囲する。すなわち、筐体２００の内壁面Ｗaは、検出システム２０から放射される電磁波を遮蔽する電磁シールドとして機能する。第６実施形態の内壁面Ｗa（すなわち電磁シールド）は、第１部分Ｗa1と第２部分Ｗa2と第３部分Ｗa3と第４部分Ｗa4とを含む。
【0073】
第１部分Ｗa1は、第１コイル５１および第２コイル６１に対してＹ軸の負方向（「第１方向」の例示）に位置する部分である。第２部分Ｗa2は、第１コイル５１および第２コイル６１に対してＹ軸の正方向（以下「第２方向」の例示）に位置する部分である。第３部分Ｗa3は、第１コイル５１および第２コイル６１の上方に位置する部分である。第４部分Ｗa4は、第１コイル５１および第２コイル６１の下方に位置する部分である。なお、鍵１２の突出部１２４のうち筐体２００の開口に対応する位置に電磁シールドとして機能する遮蔽部１２６を埋設してもよい。遮蔽部１２６は、磁性材料または導電材料で形成される。遮蔽部１２６（「第３部分」の例示）は、第１コイル５１および第２コイル６１の上方に位置する。
【0074】
第６実施形態では、電磁シールドとして機能する内壁面Ｗaが第１コイル５１および第２コイル６１を包囲するから、効果的なＥＭＩ対策が実現される。
【0075】
Ｇ：第７実施形態
図２４は、第７実施形態に係る検出システム２０の模式図である。第７実施形態では、被検出部５０および信号生成部６０の位置が第６実施形態とは相違する。
図２４は、第７実施形態に係る検出システム２０の模式図である。第７実施形態では、被検出部５０および信号生成部６０の位置が第６実施形態とは相違する。
【0076】
第７実施形態の鍵盤楽器１００は、筐体２００に変えて筐体３００を具備する。筐体３００は、中空の構造体であり、支持体１４に設置される。複数の鍵１２について１つの筐体２００が設置される。各鍵１２における端部１２１とは反対側（支持体１４に支持されている側）の端部１２８が筐体３００の内部空間に収容される。各鍵１２は筐体の貫通孔を貫通する。
【0077】
第７実施形態の被検出部５０は、筐体３００の内部空間において鍵１２の設置面１２２に設置される。信号生成部６０は、筐体３００の内壁面Ｗbにおいて信号生成部６０と対向する位置に設置される。すなわち、筐体３００の内壁面Ｗbは、第１コイル５１および第２コイル６１を包囲する。
【0078】
筐体３００の内壁面Ｗbは磁性材料または導電材料で形成される。筐体３００の内壁面Ｗbは、第１コイル５１および第２コイル６１を包囲する。すなわち、筐体３００の内壁面Ｗbは、検出システム２０から放射される電磁波を遮蔽する電磁シールドとして機能する。第７実施形態の内壁面Ｗb（すなわち電磁シールド）は、第１部分Ｗb1と第２部分Ｗb2と第３部分Ｗb3と第４部分Ｗb4とを含む。
【0079】
第１部分Ｗb1は、第１コイル５１および第２コイル６１に対してＹ軸の負方向に位置する部分である。第２部分Ｗb2は、第１コイル５１および第２コイル６１に対してＹ軸の正方向に位置する部分である。第３部分Ｗb3は、第１コイル５１および第２コイル６１の上方に位置する部分である。第４部分Ｗb4は、第１コイル５１および第２コイル６１の下方に位置する部分である。なお、鍵１２のうち筐体３００の開口に対応する位置に電磁シールドとして機能する遮蔽部１２７を埋設してもよい。例えば、磁性材料または導電材料で遮蔽部１２７が形成される。遮蔽部１２７（「第２部分」の例示）は、第１コイル５１および第２コイル６１に対してＹ軸の正方向に位置する。
【0080】
第７実施形態においても第６実施形態と同様に、電磁シールドとして機能する内壁面Ｗbが第１コイル５１および第２コイル６１を包囲するから、効果的なＥＭＩ対策が実現される。なお、例えば図２４における筐体３００を省略した構成では、例えば金属等の磁性体で形成される錘部Ｎが鍵１２に連動して上下に移動することで、被検出部５０または信号生成部６０の周囲の磁界に影響する。第７実施形態においては、錘部Ｎと検出システム２０（被検出部５０および信号生成部６０）との間に筐体３００の一部が介在するから、検出システム２０に対する錘部Ｎの影響が低減される。すなわち、検出システム２０の近傍に位置する要素（例えば錘部Ｎ）が、位置Ｚの検出のための磁界に影響することを抑制できる。したがって、各鍵１２の位置Ｚを高精度に検出できるという利点もある。なお、第７実施形態において付勢体９０は省略してもよい。
【0081】
Ｈ：第８実施形態
第８実施形態では、鍵盤楽器１００の打弦機構９１に検出システム２０を適用する構成を例示する。図２５は、第８実施形態に係る検出システム２０の構成を例示する模式図である。打弦機構９１は、自然楽器のピアノと同様に、鍵盤１０の各鍵１２の変位に連動して弦（図示略）を打撃するアクション機構である。具体的には、打弦機構９１は、回動により打弦可能なハンマ９１１と、鍵１２の変位に連動してハンマ９１１を回動させる伝達機構９１２（例えばウィペン，ジャック，レペティションレバー等）とを、鍵１２毎に具備する。以上の構成において、検出システム２０は、ハンマ９１１（「可動部材」の例示）の変位を検出する。
第８実施形態では、鍵盤楽器１００の打弦機構９１に検出システム２０を適用する構成を例示する。図２５は、第８実施形態に係る検出システム２０の構成を例示する模式図である。打弦機構９１は、自然楽器のピアノと同様に、鍵盤１０の各鍵１２の変位に連動して弦（図示略）を打撃するアクション機構である。具体的には、打弦機構９１は、回動により打弦可能なハンマ９１１と、鍵１２の変位に連動してハンマ９１１を回動させる伝達機構９１２（例えばウィペン，ジャック，レペティションレバー等）とを、鍵１２毎に具備する。以上の構成において、検出システム２０は、ハンマ９１１（「可動部材」の例示）の変位を検出する。
【0082】
第８実施形態の被検出部５０は、ハンマ９１１（例えばハンマシャンク）に設置される。第８実施形態の第１シールド部７１は、ハンマ９１１に埋設される。第１シールド部７１は、第１実施形態と同様に、第１基体部７１aと第１側壁部７１b1と第１側壁部７１b2とを含み、平面視において第１コイル５１に重なる位置に設置される。
【0083】
信号生成部６０は、第１実施形態と同様に、支持体１４に設置される。第８実施形態の支持体１４は、例えば打弦機構９１を支持する構造体である。また、打弦機構９１におけるハンマ９１１以外の部材に被検出部５０を設置してもよい。第２シールド部７２は、第１実施形態と同様に、第２基体部７２aと第２側壁部７２b1と第２側壁部７２b2とを含む。第１実施形態と同様に、支持体１４の表面に設置された第２シールド部７２（第２基体部７２a）に固定部材８１を介して信号生成部６０が支持される。第８実施形態においても第１実施形態と同様の効果が実現される。なお、第２実施形態から第６実施形態の構成は、第８実施形態にも同様に適用される。
【0084】
Ｉ：変形例
以上に例示した各態様に付加される具体的な変形の態様を以下に例示する。以下の例示から任意に選択された２以上の態様を、相互に矛盾しない範囲で適宜に併合してもよい。
以上に例示した各態様に付加される具体的な変形の態様を以下に例示する。以下の例示から任意に選択された２以上の態様を、相互に矛盾しない範囲で適宜に併合してもよい。
【0085】
（１）前述の各形態においては、鍵１２、付勢体９０およびハンマ９１１を可動部材として例示したが、可動部材は以上の例示に限定されない。可動部材は演奏に応じて変位する部材であれば任意である。例えば、鍵盤楽器１００のペダル機構に検出システム２０を適用してもよい。ペダル機構は、利用者が足で操作するペダルと、ペダルを支持する支持体１４とを具備する。以上の構成において、検出システム２０はペダルの変位を検出する。例えば、被検出部５０がペダルに設置され、信号生成部６０が被検出部５０に対向するように支持体１４に設置される。ペダルは可動部材の例示である。
【0086】
以上の例示から理解される通り、検出システム２０による検出の対象は、演奏動作に応じて変位する可動部材として包括的に表現される。可動部材は、利用者が直接的に操作する鍵１２またはペダル等の演奏操作子のほか、演奏操作子に対する操作に連動して変位するハンマ９１１等の構造体を含む。ただし、本開示における可動部材は、演奏動作に応じて変位する部材に限定されない。すなわち、可動部材は、変位を発生させる契機に関わらず、変位可能な部材として包括的に表現される。
【0087】
（２）前述の各形態において、被検出部５０は可動部材に設置され、信号生成部６０は当該被検出部５０と対向するように設置されれば、被検出部５０と信号生成部６０とが設置される位置は任意である。
【0088】
（３）第１実施形態および第８実施形態では、第１シールド部７１が第１基体部７１aと第１側壁部７１b1と第１側壁部７１b2とを含んだが、第１シールド部７１の構成は以上の例示に限定されない。例えば、第１基体部７１aおよび第１側壁部７１b（７１b1，７１b2）の何れか一方のみを第１シールド部７１が具備する構成、または、第１基体部７１aおよび第１側壁部７１b（７１b1，７１b2）とは異なる部分を第１シールド部７１が具備する構成も採用される。また、第１基体部７１aのうちＸ軸の周縁から支持体１４に向けて突出する第１側壁部を第１シールド部７１が具備してもよい。以上の説明から理解される通り、第１シールド部７１の形状は任意である。
【0089】
（４）第１実施形態および第８実施形態では、第２シールド部７２が第２基体部７２aと第２側壁部７２b1と第２側壁部７２b2とを含んだが、第２シールド部７２の構成は以上の例示に限定されない。例えば、第２基体部７２aおよび第２側壁部７２b（７２b1，７２b2）の何れか一方のみを第２シールド部７２が具備する構成、または、第２基体部７２aおよび第２側壁部７２b（７２b1，７２b2）とは異なる部分を第２シールド部７２が具備する構成も採用される。また、第２基体部７２aのうちＸ軸の周縁から可動部材に向けて突出する第２側壁部を第２シールド部７２が具備してもよい。以上の説明から理解される通り、第２シールド部７２の形状は任意である。
【0090】
（５）第１実施形態および第８実施形態では、電磁シールド７０が第１シールド部７１と第２シールド部７２とを含んだが、電磁シールド７０の構成は以上の例示に限定されない。例えば、第１シールド部７１および第２シールド部７２の何れか一方のみを電磁シールド７０が含む構成、または、第１シールド部７１および第２シールド部７２とは異なる部分を電磁シールド７０が含む構成も採用される。
【0091】
（６）第１実施形態では、第１シールド部７１の全体を鍵１２に埋設したが、第１シールド部７１の少なくとも一部が可動部材に埋設されればよい。また、第１シールド部７１を鍵１２に埋設することは必須ではない。図２６に例示される通り、例えば、鍵１２の表面に第１シールド部７１を設置して、当該第１シールド部７１の表面に絶縁材料で形成された固定部材８１を介して被検出部５０を設置してもよい。なお、第８実施形態においても同様に、第１シールド部７１の全体をハンマ９１１に埋設しなくてもよい。
【0092】
（７）第１実施形態では、第２シールド部７２を支持体１４の表面に設置したが、第２シールド部７２を支持体１４に埋設させてもよい。以上の構成では、例えば、支持体１４の表面において第２シールド部７２と平面視において重なる位置に、信号生成部６０を設置する。
【0093】
（８）第１実施形態および第８実施形態において、鍵１２毎に第２シールド部７２を設けてもよい。
【0094】
（９）第６実施形態において、筐体２００の全体を磁性材料または導電材料で形成してもよい。すなわち、筐体２００の全体が、検出システム２０から放射される電磁波を遮蔽するための電磁シールドとして機能する。第７実施形態においても同様に、筐体３００の全体を磁性材料または導電材料で形成してもよい。
【0095】
（１０）第６実施形態および第７実施形態において、筐体（２００または３００）内壁面（ＷaまたはＷb）を電磁シールドとして利用したが、当該筐体を電磁シールドとして利用しなくてもよい。すなわち、筐体とは異なる部材を電磁シールドとして利用してもよい。電磁シールドのうち、第１コイル５１および第２コイル６１に対してＹ軸の負方向に位置する部分が第１部分として包括的に表現され、電磁シールドのうち、第１コイル５１および第２コイル６１に対してＹ軸の正方向に位置する部分が第２部分として包括的に表現される。また、電磁シールドのうち、第１コイル５１および第２コイル６１の上方に位置する部分が第３部分として包括的に表現され、電磁シールドのうち、第１コイル５１および第２コイル６１の下方に位置する部分が第４部分として包括的に表現される。なお、第１シールド部７１は第３部分の例示であり、第２シールド部７２は、第４部分の例示であるともいえる。電磁シールドは、第１部分と第２部分と第３部分と第４部分とのうち一部のみを含んでもよいし、第１部分と第２部分と第３部分と第４部分とは異なる部分を含んでもよい。
【0096】
（１１）第６実施形態において、付勢体９０毎に筐体２００を設けてもよい。同様に、第７実施形態において鍵１２毎に筐体３００を設けてもよい。
【0097】
（１２）前述の各形態においては、鍵盤楽器１００が音源回路３４を具備する構成を例示したが、例えば鍵盤楽器１００が打弦機構９１等の発音機構を具備する構成においては、音源回路３４を省略してもよい。検出システム２０は、鍵盤楽器１００の演奏内容を記録するために利用される。発音機構および音源回路３４は、検出システム２０による検出の結果に応じて音を生成する音生成部として包括的に表現される。
【0098】
以上の説明から理解される通り、本開示は、音源回路３４または発音機構に対して演奏動作に応じた操作信号を供給することで楽音を制御する装置（演奏操作装置）として特定される。前述の各形態の例示のように音源回路３４または発音機構を具備する楽器（鍵盤楽器１００）のほか、音源回路３４または発音機構を具備しない機器（例えばＭＩＤＩコントローラまたは前述のペダル機構）が、演奏操作装置（instrument playing apparatus）の概念に包含される。すなわち、本開示における演奏操作装置は、演奏者（操作者）が演奏のために操作する装置である。
【0099】
（１３）前述の各形態においては、第１コイル５１が第１区間５１１と第２区間５１２とを含む構成を例示したが、第１コイル５１が２個のコイルで形成される構成は必須ではない。第１コイル５１を１個のコイル（例えば第１区間５１１および第２区間５１２の一方のみ）で形成してもよい。第２コイル６１についても同様に、２個のコイル（第３区間６１１および第４区間６１２）で形成される構成は必須ではない。
【0100】
（１４）前述の各形態において、被検出部５０は、第１コイル５１に代えて、例えば金属板等を含んでもよい。被検出部５０は、第２コイル６１に発生した磁界による電磁誘導で誘導電流が発生する磁性体を具備すればよい。第１コイル５１は磁性体の例示である。
【0101】
Ｊ：付記
以上に例示した形態から、例えば以下の構成が把握される。
以上に例示した形態から、例えば以下の構成が把握される。
【0102】
本開示のひとつの態様（態様１）に係る演奏操作装置は、演奏動作に応じて変位する可動部材と、前記可動部材に設置された磁性体と、前記磁性体に対向し、電流の供給により磁界を発生するコイルとを含み、前記磁性体と前記コイルとの距離に応じたレベルの検出信号を生成する検出システムと、前記検出システムから放射される電磁波を遮蔽するための電磁シールドとを具備する。以上の態様においては、磁性体とコイルとを含む検出システムから放射される電磁波を遮蔽するための電磁シールドによりＥＭＩ対策が実現される。したがって、検出システムから放射される電磁波が周囲の電子機器に与える影響を低減できる。また、検出システムの近傍に位置する要素がコイルの周囲の磁界に与える影響も低減できる。
【0103】
態様１の具体例（態様２）において、前記可動部材を支持する支持体をさらに具備し、前記電磁シールドは、前記可動部材に設置された第１シールド部と、前記支持体に設置された第２シールド部とを含む。以上の態様においては、可動部材に設置された第１シールド部と支持体に設置された第２シールド部とを電磁シールドが含むから、支持体および可動部材の一方のみに電磁シールドが設置された構成と比較して効果的なＥＭＩ対策が実現される。
【0104】
態様２の具体例（態様３）において、前記第１シールド部は、第１基体部を含み、前記コイルは、前記磁性体と前記第１基体部との間に位置する。以上の態様によれば、磁性体と第１基体部との間にコイルが位置するから、コイルとは反対側に磁性体から放射される電磁波を第１シールド部により効果的に遮蔽できる。
【0105】
態様３の具体例（態様４）において、前記可動部材は、前記支持体に対向し、前記第１シールド部は、前記第１基体部から前記支持体に向けて突出する第１側壁部を含む。以上の態様によれば、第１シールド部が第１側壁部を含むから、磁性体から周囲に放射される電磁波を効果的に遮蔽できる。
【0106】
態様２から態様４の何れかの具体例（態様５）において、前記第１シールド部の少なくとも一部は、前記可動部材に埋設される。以上の態様によれば、第１シールド部の少なくとも一部が可動部材に埋設されるから、可動部材の本来の概形を大幅に変更することなくＥＭＩ対策が実現される。
【0107】
態様２の具体例（態様６）において、前記第２シールド部は、第２基体部を含み、前記コイルは、前記磁性体と前記第２基体部との間に位置する。以上の態様によれば、磁性体と第２基体部との間にコイルが位置するから、磁性体とは反対側にコイルから放射される電磁波を第２シールド部により効果的に遮蔽できる。
【0108】
態様６の具体例（態様７）において、前記可動部材は、前記支持体に対向し、前記第２シールド部は、前記第２基体部から前記可動部材に向けて突出する第２側壁部を含む。以上の態様によれば、第２シールド部が第２側壁部を含むから、コイルから周囲に放射される電磁波を効果的に遮蔽できる。
【0109】
態様２から態様７の具体例（態様８）に係る演奏操作装置は、前記コイルが設置された基材と、前記基材と前記第２シールド部との間の距離を調整する調整部材とを具備する。以上の態様によれば、第２シールド部と基材との間の距離の調整により、コイルに発生する磁界を変化させることが可能である。
【0110】
態様１の具体例（態様９）において、前記電磁シールドは、前記磁性体および前記コイルを包囲する。以上の態様によれば、電磁シールドが磁性体およびコイルを包囲するから、効果的なＥＭＩ対策が実現される。
【0111】
態様９の具体例（態様１０）において、前記可動部材は、鍵盤楽器の鍵盤を構成する長尺状の鍵であり、前記電磁シールドは、前記磁性体および前記コイルに対して前記鍵の長辺に沿う第１方向に位置する第１部分と、前記磁性体および前記コイルに対して前記第１方向とは反対の第２方向に位置する第２部分と、前記磁性体および前記コイルの上方に位置する第３部分と、前記磁性体および前記コイルの下方に位置する第４部分とを含む。以上の態様によれば、電磁シールドが磁性体およびコイルを包囲するから、効果的なＥＭＩ対策が実現される。
【0112】
本開示のひとつの態様（態様１１）に係る鍵盤楽器は、演奏動作に応じて変位する鍵と、前記鍵に設置された磁性体と、前記磁性体に対向し、電流の供給により磁界を発生するコイルとを含み、前記磁性体と前記コイルとの距離に応じたレベルの検出信号を生成する検出システムと、前記検出システムから放射される電磁波を遮蔽するための電磁シールドと、前記検出信号に応じた音を生成する音生成部とを具備する。
【符号の説明】
【0113】
１００…鍵盤楽器（演奏操作装置）、１０…鍵盤、１２…鍵、１２２…設置面、１２４…突出部、１２６，１２７…遮蔽部、１４…支持体、１９…ストッパ、２０…検出システム、２００…筐体、２１…信号処理回、２２…供給回路、２３…出力回路、３０…情報処理装置、３００…筐体、３１…制御装置、３２…記憶装置、３３…変換器、３４…音源回路、４０…放音装置、５０…被検出部、５１…第１コイル、５１１…第１区間、５１２…第２区間、５１４…連結配線、５２…容量素子、５５…基材、６０…信号生成部、６１…第２コイル、６１１…第３区間、６１２…第４区間、６１４…連結配線、６２，６３…容量素子、６５…基材、７０…電磁シールド、７１…第１シールド部、７１a…第１基体部、７１b1，７１b2…第１側壁部、７２…第２シールド部、７２a…第２基体部、７２b1，７２b2…第２側壁部、８１…固定部材、９０…付勢体、９１…打弦機構、９１１…ハンマ、９１２…伝達機構、Ｔ1…入力端子、Ｔ2…出力端子、Ｗa…内壁面、Ｗa1…第１部分、Ｗa2…第２部分、Ｗa3…第３部分、Ｗa4…第４部分、Ｗb…内壁面、Ｗb1…第１部分、Ｗb2…第２部分、Ｗb3…第３部分、Ｗb4…第４部分、Ｇ1，Ｇ2…支点部、１４１，１４２…支点支持部。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図26】