(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023055840
(43)【公開日】2023-04-18
(54)【発明の名称】ガス検出システム
(51)【国際特許分類】
G01N 27/12 20060101AFI20230411BHJP
G01N 1/00 20060101ALI20230411BHJP
G01N 1/02 20060101ALI20230411BHJP
G01N 33/497 20060101ALI20230411BHJP
E03D 9/00 20060101ALI20230411BHJP
【ＦＩ】
G01N27/12 A
G01N1/00 101T
G01N1/02 W
G01N33/497 D
E03D9/00 Z
【審査請求】有
【請求項の数】9
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2023013903
(22)【出願日】2023-02-01
(62)【分割の表示】P 2021516108の分割
【原出願日】2020-04-20
(31)【優先権主張番号】P 2019083066
(32)【優先日】2019-04-24
(33)【優先権主張国・地域又は機関】JP
(71)【出願人】
【識別番号】000006633
【氏名又は名称】京セラ株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100147485
【弁理士】
【氏名又は名称】杉村 憲司
(74)【代理人】
【識別番号】230118913
【弁護士】
【氏名又は名称】杉村 光嗣
(74)【代理人】
【識別番号】100132045
【弁理士】
【氏名又は名称】坪内 伸
(74)【代理人】
【識別番号】100203264
【弁理士】
【氏名又は名称】塩川 未久
(72)【発明者】
【氏名】阿部 真一
(57)【要約】
【課題】改善された、ガス検出システムを提供する。
【解決手段】ガス検出システムは、特定ガスの濃度に応じた電圧を出力する第１センサ部と、第１センサ部に供給されるサンプルガス及びパージガスの流量を制御可能な制御部とを備える。制御部は、サンプルガスを第１センサ部に供給する際、第１センサ部へのサンプルガスの供給を開始してから第１時間経過後、サンプルガスの流量がサンプルガスの供給開始時の流量よりも小さくなるように制御する。
【解決手段】ガス検出システムは、特定ガスの濃度に応じた電圧を出力する第１センサ部と、第１センサ部に供給されるサンプルガス及びパージガスの流量を制御可能な制御部とを備える。制御部は、サンプルガスを第１センサ部に供給する際、第１センサ部へのサンプルガスの供給を開始してから第１時間経過後、サンプルガスの流量がサンプルガスの供給開始時の流量よりも小さくなるように制御する。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
特定ガスの濃度に応じた電圧を出力する第１センサ部と、
前記第１センサ部に供給されるサンプルガス及びパージガスの流量を制御可能な制御部と、を備え、
前記制御部は、前記サンプルガスを前記第１センサ部に供給する際、前記第１センサ部への前記サンプルガスの供給を開始してから第１時間経過後、前記サンプルガスの流量が前記サンプルガスの供給開始時の流量よりも小さくなるように制御する、ガス検出システム。
前記第１センサ部に供給されるサンプルガス及びパージガスの流量を制御可能な制御部と、を備え、
前記制御部は、前記サンプルガスを前記第１センサ部に供給する際、前記第１センサ部への前記サンプルガスの供給を開始してから第１時間経過後、前記サンプルガスの流量が前記サンプルガスの供給開始時の流量よりも小さくなるように制御する、ガス検出システム。
【請求項2】
特定ガスの濃度に応じた電圧を出力する第１センサ部と、
前記第１センサ部に供給されるサンプルガス及びパージガスの流量を制御可能な制御部と、を備え、
前記制御部は、前記サンプルガスを前記第１センサ部に供給する際、前記第１センサ部への前記サンプルガスの供給を開始してから第１時間経過後、前記サンプルガスの前記第１センサ部への供給を停止させる、ガス検出システム。
前記第１センサ部に供給されるサンプルガス及びパージガスの流量を制御可能な制御部と、を備え、
前記制御部は、前記サンプルガスを前記第１センサ部に供給する際、前記第１センサ部への前記サンプルガスの供給を開始してから第１時間経過後、前記サンプルガスの前記第１センサ部への供給を停止させる、ガス検出システム。
【請求項3】
請求項１又は２に記載のガス検出システムであって、
前記制御部は、前記サンプルガスをチャンバに貯留し、前記チャンバに貯留した前記サンプルガスを前記第１センサ部に供給する、ガス検出システム。
前記制御部は、前記サンプルガスをチャンバに貯留し、前記チャンバに貯留した前記サンプルガスを前記第１センサ部に供給する、ガス検出システム。
【請求項4】
請求項３に記載のガス検出システムであって、
被検者が便座に座ったことを検出可能な第２センサ部をさらに有し、
前記制御部は、前記第２センサ部が、前記被検者が前記便座に座ったことを検出してから所定時間が経過した後に、前記サンプルガスを前記チャンバに貯留する、ガス検出システム。
被検者が便座に座ったことを検出可能な第２センサ部をさらに有し、
前記制御部は、前記第２センサ部が、前記被検者が前記便座に座ったことを検出してから所定時間が経過した後に、前記サンプルガスを前記チャンバに貯留する、ガス検出システム。
【請求項5】
請求項１から４までの何れか一項に記載のガス検出システムであって、
前記制御部は、前記パージガスを前記第１センサ部に供給する際、前記第１センサ部への前記パージガスの供給を開始してから第２時間経過後、前記パージガスの流量が、前記パージガスの供給開始時の流量以下になるように制御する、ガス検出システム。
前記制御部は、前記パージガスを前記第１センサ部に供給する際、前記第１センサ部への前記パージガスの供給を開始してから第２時間経過後、前記パージガスの流量が、前記パージガスの供給開始時の流量以下になるように制御する、ガス検出システム。
【請求項6】
請求項１から４までの何れか一項に記載のガス検出システムであって、
前記制御部は、前記パージガスを前記第１センサ部に供給する際、前記第１センサ部への前記パージガスの供給を開始してから第２時間経過後、前記パージガスの前記第１センサ部への供給を停止させる、ガス検出システム。
前記制御部は、前記パージガスを前記第１センサ部に供給する際、前記第１センサ部への前記パージガスの供給を開始してから第２時間経過後、前記パージガスの前記第１センサ部への供給を停止させる、ガス検出システム。
【請求項7】
請求項５又は６に記載のガス検出システムであって、
前記制御部は、前記サンプルガスと前記パージガスとを、交互に前記第１センサ部に供給する、ガス検出システム。
前記制御部は、前記サンプルガスと前記パージガスとを、交互に前記第１センサ部に供給する、ガス検出システム。
【請求項8】
請求項１から７までの何れか一項に記載のガス検出システムであって、
前記制御部は、前記第１センサ部に供給するパージガスの流量が、前記第１センサ部に供給するサンプルガスの流量よりも、大きくなるように制御する、ガス検出システム。
前記制御部は、前記第１センサ部に供給するパージガスの流量が、前記第１センサ部に供給するサンプルガスの流量よりも、大きくなるように制御する、ガス検出システム。
【請求項9】
請求項１から８までの何れか一項に記載のガス検出システムであって、
前記制御部は、前記第１時間よりも長い第３時間経過後前記第１センサ部へのパージガスの供給を開始する、ガス検出システム。
前記制御部は、前記第１時間よりも長い第３時間経過後前記第１センサ部へのパージガスの供給を開始する、ガス検出システム。
【発明の詳細な説明】
【関連出願の相互参照】
【0001】
本出願は、２０１９年４月２４日に日本国に特許出願された特願２０１９－０８３０６６の優先権を主張するものであり、この先の出願の開示全体を、ここに参照のために取り込む。
【技術分野】
【0002】
本開示は、ガス検出システムに関する。
【背景技術】
【0003】
従来、被検者が排出した便から発生する臭気性ガスを検出するシステムが知られている（例えば、特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開２０１７－６７５３８号公報
【発明の概要】
【0005】
本開示の一実施形態に係るガス検出システムは、
特定ガスの濃度に応じた電圧を出力する第１センサ部と、
前記第１センサ部に供給されるサンプルガス及びパージガスの流量を制御可能な制御部と、を備え、
前記制御部は、前記サンプルガスを前記第１センサ部に供給する際、前記第１センサ部への前記サンプルガスの供給を開始してから第１時間経過後、前記サンプルガスの流量が前記サンプルガスの供給開始時の流量よりも小さくなるように制御する。
特定ガスの濃度に応じた電圧を出力する第１センサ部と、
前記第１センサ部に供給されるサンプルガス及びパージガスの流量を制御可能な制御部と、を備え、
前記制御部は、前記サンプルガスを前記第１センサ部に供給する際、前記第１センサ部への前記サンプルガスの供給を開始してから第１時間経過後、前記サンプルガスの流量が前記サンプルガスの供給開始時の流量よりも小さくなるように制御する。
【0006】
本開示の一実施形態に係るガス検出システムは、
特定ガスの濃度に応じた電圧を出力する第１センサ部と、
前記第１センサ部に供給されるサンプルガス及びパージガスの流量を制御可能な制御部と、を備え、
前記制御部は、前記サンプルガスを前記第１センサ部に供給する際、前記第１センサ部への前記サンプルガスの供給を開始してから第１時間経過後、前記サンプルガスの前記第１センサ部への供給を停止させる。
特定ガスの濃度に応じた電圧を出力する第１センサ部と、
前記第１センサ部に供給されるサンプルガス及びパージガスの流量を制御可能な制御部と、を備え、
前記制御部は、前記サンプルガスを前記第１センサ部に供給する際、前記第１センサ部への前記サンプルガスの供給を開始してから第１時間経過後、前記サンプルガスの前記第１センサ部への供給を停止させる。
【図面の簡単な説明】
【0007】
【発明を実施するための形態】
【0008】
従来のシステムには、改善の余地がある。
【0009】
本開示は、改善された、ガス検出システムを提供することに関する。
【0010】
本開示の一実施形態によれば、改善された、ガス検出システムが提供され得る。
【0011】
以下、本開示に係る実施形態について、模式的に示した図面を参照して説明する。
【0012】
［ガス検出システムの構成例］
図１に示すように、ガス検出システム１は、便器２に設置されている。便器２は、限定ではないが、水洗便器であってよい。ガス検出システム１は、便器２の任意の箇所に設置されていてよい。便器２は、便器ボウル２Ａと、便座２Ｂとを備える。一例として、ガス検出システム１は、図１に示すように、便器ボウル２Ａと便座２Ｂとの間から便器２の外部にわたって配置されていてよい。ガス検出システム１の一部は、便座２Ｂの内部に埋め込まれていてよい。便器２の便器ボウル２Ａには、被検者の便が排出され得る。ガス検出システム１は、便器ボウル２Ａに排出された便から発生するガスを、サンプルガスとして取得し得る。ガス検出システム１は、サンプルガスに含まれるガスの種類及びガスの濃度等を検出し得る。ガス検出システム１は、検出結果等を電子機器３に送信し得る。図１に示すようなガス検出システム１は、「ガス検出装置」ともいう。
図１に示すように、ガス検出システム１は、便器２に設置されている。便器２は、限定ではないが、水洗便器であってよい。ガス検出システム１は、便器２の任意の箇所に設置されていてよい。便器２は、便器ボウル２Ａと、便座２Ｂとを備える。一例として、ガス検出システム１は、図１に示すように、便器ボウル２Ａと便座２Ｂとの間から便器２の外部にわたって配置されていてよい。ガス検出システム１の一部は、便座２Ｂの内部に埋め込まれていてよい。便器２の便器ボウル２Ａには、被検者の便が排出され得る。ガス検出システム１は、便器ボウル２Ａに排出された便から発生するガスを、サンプルガスとして取得し得る。ガス検出システム１は、サンプルガスに含まれるガスの種類及びガスの濃度等を検出し得る。ガス検出システム１は、検出結果等を電子機器３に送信し得る。図１に示すようなガス検出システム１は、「ガス検出装置」ともいう。
【0013】
ガス検出システム１の用途は、上述の用途に限定されない。例えば、ガス検出システム１は、冷蔵庫に設置されていてよい。この場合、ガス検出システム１は、食品から発生するガスをサンプルガスとして取得し得る。その他の用途としては、例えば、ガス検出システム１は、工場又は実験室に設置されていてよい。この場合、ガス検出システム１は、薬品等から発生するガスをサンプルガスとして取得し得る。
【0014】
便器２は、住宅又は病院等のトイレ室に設置され得る。便器２は、被検者によって使用され得る。便器２は、上述のように、便器ボウル２Ａと、便座２Ｂとを備える。便器ボウル２Ａには、被検者の便が排出され得る。
【0015】
電子機器３は、例えば、被検者が利用するスマートフォンである。ただし、電子機器３は、スマートフォンに限定されず、任意の電子機器であってよい。電子機器３は、被検者によってトイレ室に持ち込まれる場合、図１に示すようにトイレ室の内部に存在し得る。ただし、電子機器３は、例えば被検者がトイレ室に電子機器３を持ち込まない場合、トイレ室の外部に存在してよい。電子機器３は、ガス検出システム１から検出結果を、無線通信又は有線通信によって、受信し得る。電子機器３は、受信した検出結果を、表示部３Ａに表示し得る。表示部３Ａは、文字等を表示可能なディスプレイと、ユーザ（被検者）の指等の接触を検出可能なタッチスクリーンとを含んで構成されていてよい。当該ディスプレイは、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ：Liquid Crystal Display）、有機ＥＬディスプレイ（ＯＥＬＤ：Organic Electro‐Luminescence Display）又は無機ＥＬディスプレイ（ＩＥＬＤ：Inorganic Electro‐Luminescence Display）等の表示デバイスを含んで構成されていてよい。当該タッチスクリーンの検出方式は、静電容量方式、抵抗膜方式、表面弾性波方式、超音波方式、赤外線方式、電磁誘導方式又は荷重検出方式等の任意の方式でよい。
【0016】
図２に示すように、ガス検出システム１は、筐体１０と、吸引孔２０と、吸引孔２１と、排出路２２と、流路２３Ａ，２３Ｂ，２３Ｃ，２４Ａ，２４Ｂ，２４Ｃ，２５Ａ，２５Ｂ，２５Ｃ，２５Ｄ，２５Ｅ，２５Ｆとを備える。ガス検出システム１は、第１チャンバ３０と、第２チャンバ３２と、第３チャンバ３３と、第４チャンバ３５と、第５チャンバ３７と、弁４０，４１，４２，４３，４４，４５と、供給部５０，５１，５２とを備える。ガス検出システム１は、第３チャンバ３３内に、複数のセンサ部３４を有する。図３に示すように、ガス検出システム１は、回路基板６０を備える。ガス検出システム１は、回路基板６０内に、記憶部６１と、通信部６２と、制御部６４とを備える。ガス検出システム１は、センサ部６３を備える。さらに、ガス検出システム１は、バッテリ及びスピーカ等を備えてよい。
【0017】
筐体１０には、ガス検出システム１の各種部品が収容されている。筐体１０は、任意の材料で構成されていてよい。例えば、筐体１０は、金属又は樹脂等の材料で構成されていてよい。
【0018】
吸引孔２０は、図１に示すように、便器ボウル２Ａの内側へ露出し得る。吸引孔２０の一部は、便座２Ｂに埋め込まれていてよい。吸引孔２０は、便器ボウル２Ａに排出された便から発生するガスを、サンプルガスとして吸引する。吸引孔２０が吸引したサンプルガスは、第１チャンバ３０に供給されて貯留される。図１に示すように、吸引孔２０の一端は、便器ボウル２Ａの内部に向けられてよい。図２に示すように、吸引孔２０の他端は、第１チャンバ３０に接続されていてよい。吸引孔２０は、樹脂製チューブ或いは金属製又はガラス製配管等の管状の部材で構成されていてよい。
【0019】
吸引孔２０は、図２に示すように、その外側に、送風機２０Ａを有してよい。送風機２０Ａは、ファン及びモータを含んで構成されていてよい。送風機２０Ａは、制御部６４の制御に基づいて、モータを駆動させることにより、ファンを回転させ得る。送風機２０Ａは、ファンを回転させることにより、便から発生するガスを、吸引孔２０の近傍へ引き込む。送風機２０Ａが便から発生するガスを吸引孔２０の近傍へ引き込み、さらに供給部５０が駆動することにより、吸引孔２０は、便器ボウル２Ａ内の便から発生するガスを吸引し得る。
【0020】
吸引孔２１は、図１に示すように、便器ボウル２Ａの外側へ露出し得る。吸引孔２１の一部は、便座２Ｂに埋め込まれていてよい。吸引孔２１は、例えば、便器ボウル２Ａの外側にあるトイレ室の空気（環境ガス）を、パージガスとして吸引する。吸引孔２１が吸引したパージガスは、流路２４Ａ，２４Ｃを介して、第４チャンバ３５に供給されて貯留される。また、吸引孔２１が吸引したパージガスは、流路２３Ａ，２３Ｂを介して、第１チャンバ３０に供給される。図１に示すように、吸引孔２１の一端は、便器２の外側に向けられてよい。図２に示すように、吸引孔２１の他端は、流路２３Ａの一端及び流路２４Ａの一端に接続されていてよい。吸引孔２１は、樹脂製チューブ或いは金属製又はガラス製配管等の管状の部材で構成されていてよい。
【0021】
吸引孔２１は、図２に示すように、その外側に、送風機２１Ａを有してよい。送風機２１Ａは、ファン及びモータを含んで構成されていてよい。送風機２１Ａは、制御部６４の制御に基づいて、モータを駆動させることにより、ファンを回転させ得る。送風機２１Ａは、ファンを回転させることにより、トイレ室内の空気を吸引孔２１の近傍へ引き込む。送風機２１Ａがトイレ室内の空気を吸引孔２１の近傍へ引き込み、さらに供給部５１及び供給部５２の何れかが駆動することにより、吸引孔２１は、トイレ室内の空気をパージガスとして吸引し得る。
【0022】
図２に示すような排出路２２は、第１チャンバ３０からの排気を、流路２５Ａを介して外部に排出する。排出路２２は、第２チャンバ３２からの排気を、流路２５Ｂ，２５Ｆを介して、外部に排出する。排出路２２は、第３チャンバ３３からの排気を、流路２５Ｅ，２５Ｆを介して、外部に排出する。排出路２２は、第４チャンバ３５からの排気を、流路２５Ｄ，２５Ｅ，２５Ｆを介して、外部に排出する。排出路２２の一端は、図１に示すように、便座２Ｂから露出する。排出路２２の他端は、図２に示すように流路２５Ａの一端及び流路２５Ｆの一端に接続されている。排出路２２は、樹脂製チューブ或いは金属製又はガラス製配管等の管状の部材で構成されていてよい。
【0023】
図２に示すように、流路２３Ａの一端は、吸引孔２１及び流路２４Ａの一端に接続されている。流路２３Ａの他端は、流路２３Ｂの一端及び流路２３Ｃの一端に接続されている。流路２３Ｂの一端は、流路２３Ａの一端及び流路２３Ｃの一端に接続されている。流路２３Ｂの他端は、弁４０の接続口に接続されている。流路２３Ｃの一端は、流路２３Ａの一端及び流路２３Ｂの一端に接続されている。流路２３Ｃの他端は、弁４１の接続口に接続されている。流路２３Ａ～２３Ｃは、樹脂製チューブ或いは金属製又はガラス製配管等の管状の部材で構成されていてよい。
【0024】
図２に示すように、流路２４Ａの一端は、吸引孔２１及び流路２３Ａの一端に接続されている。流路２４Ａの他端は、流路２４Ｂの一端及び流路２４Ｃの一端に接続されている。流路２４Ｂの一端は、流路２４Ａの一端及び流路２４Ｃの一端に接続されている。流路２４Ｂの他端は、弁４５の接続口に接続されている。流路２４Ｃの一端は、流路２４Ａの一端及び流路２４Ｂの一端に接続されている。流路２４Ｃの他端は、弁４４の接続口に接続されている。流路２４Ａ～２４Ｃは、樹脂製チューブ或いは金属又はガラス製配管等の管状の部材で構成されていてよい。
【0025】
図２に示すように、流路２５Ａの一端は、弁４１の接続口に接続されている。流路２５Ａの他端は、排出路２２及び流路２５Ｆの一端に接続されている。流路２５Ｂの一端は、弁４２の接続口に接続されている。流路２５Ｂの他端は、流路２５Ｅの一端及び流路２５Ｆの一端に接続されている。流路２５Ｃの一端は、弁４３の接続口に接続されている。流路２５Ｃの他端は、流路２５Ｄの一端及び流路２５Ｅの一端に接続されている。流路２５Ｄの一端は、弁４５の接続口に接続されている。流路２５Ｄの他端は、流路２５Ｃの一端及び流路２５Ｅの一端に接続されている。流路２５Ｅの一端は、流路２５Ｃの一端及び流路２５Ｄの一端に接続されている。流路２５Ｅの他端は、流路２５Ｂの一端及び流路２５Ｆの一端に接続されている。流路２５Ｆの一端は、流路２５Ｂの一端及び流路２５Ｅの一端に接続されている。流路２５Ｆの他端は、流路２５Ａの一端及び排出路２２に接続されている。流路２５Ａ～２５Ｆは、樹脂製チューブ或いは金属又はガラス製配管等の管状の部材で構成されていてよい。
【0026】
図２に示すような第１チャンバ３０は、筒状であってよい。第１チャンバ３０は、直線状であってよい。第１チャンバ３０は、その両端に、入口３０ａ及び出口３０ｂを含む。第１チャンバ３０は、ガラス、金属又は樹脂等の材料で構成されていてよい。
【0027】
図２に示すような第１チャンバ３０には、吸引孔２０から、サンプルガスが供給される（図４参照）。第１チャンバ３０は、供給されたサンプルガスを貯留可能である。第１チャンバ３０に供給されたサンプルガスは、第２チャンバ３２に供給され得る（図５参照）。
【0028】
第１チャンバ３０の内部には、吸着剤３１が配されていてよい。吸着剤３１は、用途に応じた任意の材料を各々含んでよい。吸着剤３１は、例えば、活性炭、シリカゲル、ゼオライト及びモレキュラーシーブの少なくとも何れかが含まれてよい。吸着剤３１は、複数種類のものであってよいし、多孔質材料を含んでよい。
【0029】
吸着剤３１は、サンプルガスに含まれる検出対象外のガスを吸着するものであってよい。サンプルガスが便から発生するガスである場合には、検出対象外の特定ガスの一例として、アンモニア及び水等が挙げられる。検出対象外のガスを吸着する吸着剤３１の例としては、シリカゲル及びゼオライト等が挙げられる。また、第１チャンバ３０において、サンプルガスの濃縮が行われてよい。この場合、吸着剤３１は、サンプルガスに含まれる検出対象のガスを吸着するであってよい。サンプルガスが便から発生するガスである場合には、検出対象の特定ガスの一例として、メタン、水素、二酸化炭素、メチルメルカプタン、硫化水素、酢酸及びトリメチルアミン等が挙げられる。検出対象のガスを吸着する吸着剤３１の例としては、活性炭及びモレキュラーシーブ等が挙げられる。ただし、これらの組み合わせは、吸着するガス分子の極性によって適宜変更されてよい。
【0030】
図２に示すように、第２チャンバ３２は、第１チャンバ３０と、第３チャンバ３３との間に、位置する。換言すると、第２チャンバ３２は、第１チャンバ３０と、センサ部３４との間に、位置する。第２チャンバ３２は、筒状であってよい。第２チャンバ３２は、直線状であってよい。第２チャンバ３２は、その両端に、入口３２ａ及び出口３２ｂを含む。第１チャンバ３０のガス流れ方向に直交する断面において、第２チャンバ３２の面積は、第１チャンバ３０の面積よりも小さい。本開示において「第１チャンバ３０のガス流れ方向」とは、第１チャンバ３０から第２チャンバ３２にガスが流れる方向を意味する。例えば、第１チャンバ３０のガス流れ方向は、図５に示すように、サンプルガスが、第１チャンバ３０から第２チャンバ３２に向けて流れる方向であってよい。また、本開示において、「チャンバの面積」とは、当該チャンバ自体の面積ではなく、当該チャンバのガスを収容する部分の面積を意味する。第１チャンバ３０及び第２チャンバ３２の双方が筒状である場合、第２チャンバ３２の断面積は、第１チャンバ３０の断面積よりも、小さくてよい。第２チャンバ３２は、ガラス、金属又は樹脂等の材料で構成されていてよい。
【0031】
第２チャンバ３２には、第１チャンバ３０からサンプルガスが供給された後、流路２３Ｃからパージガスが供給される。流路２３Ｃから第２チャンバ３２に供給されたパージガスは、第２チャンバ３２内のサンプルガスを第３チャンバ３３へ押し出す（図７参照）。このような構成によって、第２チャンバ３２内のサンプルガスが、第３チャンバ３３に供給されてセンサ部３４に供給される。
【0032】
第２チャンバ３２の容積は、第１チャンバ３０の容積以下であり、且つ、センサ部３４が配置されている第３チャンバ３３の容積よりも大きくてよい。第２チャンバ３２の容積が第１チャンバ３０の容積以下となることで、第１チャンバ３０内においてサンプルガスがパージガスにより希釈される程度が低減され得る。また、第２チャンバ３２の容積が第３チャンバ３３の容積よりも大きいことで、第２チャンバ３２内のサンプルガスを第３チャンバ３３に少なくとも１回又は複数回供給することができる。
【0033】
図２に示すように、第３チャンバ３３は、第２チャンバ３２と流路２５Ｃとの間に位置する。第３チャンバ３３は、筒状である。第３チャンバ３３は、直線状であってよい。第３チャンバ３３は、その両端に、入口３３ａ及び出口３３ｂを含む。第３チャンバ３３には、センサ部３４が配置される。第３チャンバ３３は、ガラス、金属又は樹脂等の材料で構成されていてよい。
【0034】
第３チャンバ３３には、第５チャンバ３７からパージガスが供給される（図６参照）。第３チャンバ３３には、第２チャンバ３２からサンプルガスが供給される（図７参照）。第３チャンバ３３に供給されたパージガス及びサンプルガスは、センサ部３４に供給された後、流路２５Ｃから排出路２２を介して外部に排出される。
【0035】
図２に示すようなセンサ部３４は、第３チャンバ３３内に配置されている。センサ部３４は、特定ガスの濃度に応じた電圧を制御部６４に出力する。特定ガスには、検出対象の特定ガスと、検出対象外の特定ガスとが含まれる。サンプルガスが便から発生するガスである場合には、検出対象の特定ガスの一例として、メタン、水素、二酸化炭素、メチルメルカプタン、硫化水素、酢酸及びトリメチルアミン等が挙げられる。また、サンプルガスが便から発生するガスである場合には、検出対象外の特定ガスの一例として、アンモニア及び水等が挙げられる。複数のセンサ部３４の各々は、これらのガスの少なくとも何れかの濃度に応じた電圧を、制御部６４に出力し得る。センサ部３４は、半導体式センサ、接触燃焼式センサ又は電気化学式センサ等の何れかを含んで構成されていてよい。
【0036】
図２に示すような第４チャンバ３５は、筒状である。第４チャンバ３５は、直線状であってよい。第４チャンバ３５は、その両端に、入口３５ａ及び出口３５ｂを含む。第４チャンバ３５は、ガラス、金属又は樹脂等の材料で構成されていてよい。
【0037】
第４チャンバ３５には、流路２４Ｃを介して、パージガスが供給される。第４チャンバ３５は、供給されたパージガスを貯留可能である。第４チャンバ３５に供給されたパージガスは、第５チャンバ３７に供給され得る。
【0038】
第４チャンバ３５の内部には、吸着剤３６が配されてよい。吸着剤３６は、用途に応じた任意の材料を含んでよい。吸着剤３６は、例えば、活性炭、シリカゲル、ゼオライト及びモレキュラーシーブの少なくとも何れかを含んでよい。吸着剤３６は、複数種類のものであってよいし、多孔質材料を含んでよい。
【0039】
吸着剤３６は、パージガスに混入した検出対象外のガスを吸着するものを含んでよい。検出対象外のガスを吸着する吸着剤３６の例としては、シリカゲル及びゼオライト等が挙げられる。また、吸着剤３６は、パージガスに混入した検出対象のガスを吸着するものを含んでよい。検出対象のガスを吸着する吸着剤３６の例としては、活性炭及びモレキュラーシーブ等が挙げられる。ただし、これらの組み合わせは、吸着するガス分子の極性によって適宜変更させてよい。ここで、トイレ室内の空気が汚染されていることにより、パージガスに、検出対象外のガス及び検出対象のガスが混入する場合がある。この場合、第４チャンバ３５に吸着剤３６を配することにより、トイレ室内の汚染された空気を吸着剤３６により精製することができる。吸着剤３６によりトイレ室内の空気を精製することにより、十分な量のパージガスを第４チャンバ３５に確保することができる。
【0040】
図２に示すように、第５チャンバ３７は、第３チャンバ３３と、第４チャンバ３５との間に、位置する。第５チャンバ３７は、筒状である。第５チャンバ３７は、直線状であってよい。第５チャンバ３７は、その両端に入口３７ａ及び出口３２ｂを含む。第５チャンバ３７は、ガラス、金属又は樹脂等の材料で構成されていてよい。
【0041】
図２に示すように、弁４０は、吸引孔２０と、流路２３Ｂと、第１チャンバ３０の入口３０ａとの間に、位置する。弁４０は、吸引孔２０に接続される接続口と、流路２３Ｂに接続される接続口と、入口３０ａに接続される接続口とを含む。弁４０は、電磁駆動、ピエゾ駆動又はモータ駆動等の弁によって構成されていてよい。
【0042】
弁４０は、制御部６４の制御に基づいて、吸引孔２０と、流路２３Ｂと、入口３０ａとの間の接続状態を切替える。例えば、弁４０は、これらの間の接続状態を、吸引孔２０と入口３０ａとを接続させた状態、流路２３Ｂと入口３０ａとを接続させた状態、又は、吸引孔２０と流路２３Ｂと入口３０ａとを接続させない状態に切替える。
【0043】
図２に示すように、弁４１は、流路２３Ｃと、流路２５Ａと、第１チャンバ３０の出口３０ｂと、第２チャンバ３２の入口３２ａとの間に、位置する。弁４１は、流路２３Ｃに接続される接続口と、流路２５Ａに接続される接続口と、出口３０ｂに接続される接続口と、入口３２ａに接続される接続口とを含む。弁４１は、電磁駆動、ピエゾ駆動又はモータ駆動等の弁によって構成されていてよい。
【0044】
弁４１は、制御部６４の制御に基づいて、流路２３Ｃと、流路２５Ａと、出口３０ｂと、入口３２ａとの間の接続状態を切替える。例えば、弁４１は、これらの間の接続状態を、流路２３Ｃと出口３０ｂとを接続させた状態、出口３０ｂと入口３２ａとを接続させた状態、又は、流路２３Ｃと入口３２ａとを接続させた状態に切替える。又は、弁４１は、これらの間の接続状態を、流路２３Ｃと流路２５Ａと出口３０ｂと入口３２ａとを接続させない状態に切替える。
【0045】
図２に示すように、弁４２は、流路２５Ｂと、第２チャンバ３２の出口３２ｂと、第３チャンバ３３の入口３３ａと、第５チャンバ３７の出口３７ｂとの間に、位置する。弁４２は、流路２５Ｂに接続される接続口と、出口３２ｂに接続される接続口と、入口３３ａに接続される接続口と、出口３７ｂに接続される接続口とを含む。弁４２は、電磁駆動、ピエゾ駆動又はモータ駆動等の弁によって構成されていてよい。
【0046】
弁４２は、制御部６４の制御に基づいて、流路２５Ｂと、出口３２ｂと、入口３３ａと、出口３７ｂとの間の接続状態を切替える。例えば、弁４２は、これらの間の接続状態を、流路２５Ｂと出口３２ｂとを接続させた状態、入口３３ａと出口３７ｂとを接続させた状態、又は、出口３２ｂと入口３３ａとを接続させた状態に切替える。又は、弁４２は、これらの間の接続状態を、流路２５Ｂと出口３２ｂと入口３３ａと出口３７ｂとを接続させない状態に切替える。
【0047】
図２に示すように、弁４３は、流路２５Ｃと第３チャンバ３３の出口３３ｂとの間に、位置する。弁４３は、流路２５Ｃに接続される接続口と、出口３３ｂに接続される接続口とを含む。弁４３は、電磁駆動、ピエゾ駆動又はモータ駆動等の弁によって構成されていてよい。
【0048】
弁４３は、制御部６４の制御に基づいて、流路２５Ｃと出口３３ｂとの間の接続状態を切替える。例えば、弁４３は、流路２５Ｃと出口３３ｂとの間の接続状態を、流路２５Ｃと出口３３ｂとを接続させた状態、又は、流路２５Ｃと出口３３ｂとを接続させない状態に切替える。
【0049】
図２に示すように、弁４４は、流路２４Ｃと、第４チャンバ３５の入口３５ａとの間に、位置する。弁４４は、流路２４Ｃに接続される接続口と、入口３５ａに接続される接続口とを含む。弁４４は、電磁駆動、ピエゾ駆動又はモータ駆動等の弁によって構成されていてよい。
【0050】
弁４４は、制御部６４の制御に基づいて、流路２４Ｃと入口３５ａとの間の接続状態を切替える。例えば、弁４４は、流路２４Ｃと入口３５ａとの間の接続状態を、流路２４Ｃと入口３５ａとを接続させた状態、又は、流路２４Ｃと入口３５ａとを接続させない状態に切替える。
【0051】
図２に示すように、弁４５は、流路２４Ｂと、流路２５Ｄと、第４チャンバ３５の出口３５ｂと、第５チャンバ３７の入口３７ａとの間に、位置する。弁４５は、流路２４Ｂに接続される接続口と、流路２５Ｄに接続される接続口と、出口３５ｂに接続される接続口と、入口３７ａに接続される接続口とを含む。弁４５は、電磁駆動、ピエゾ駆動又はモータ駆動等の弁によって構成されていてよい。
【0052】
弁４５は、制御部６４の制御に基づいて、流路２４Ｂと流路２５Ｄと出口３５ｂと入口３７ａとの間の接続状態を切替える。例えば、弁４５は、これらの間の接続状態を、出口３５ｂと入口３７ａとを接続させた状態、流路２５Ｄと出口３５ｂとを接続させた状態、流路２４Ｂと入口３７ａとを接続させた状態、又は、流路２４Ｂと流路２５Ｄとを接続させた状態に切替える。又は、弁４５は、これらの間の接続状態を、流路２４Ｂと流路２５Ｄと出口３５ｂと入口３７ａとを接続させない状態に切替える。
【0053】
図２に示すような供給部５０は、吸引孔２０に取り付けられている。供給部５０は、制御部６４の制御に基づいて、吸引孔２０からのサンプルガスを第１チャンバ３０に供給可能である。供給部５０に示される矢印は、供給部５０がサンプルガスを送る方向を示す。供給部５０は、ピエゾポンプ又はモータポンプ等で構成されていてよい。
【0054】
図２に示すような供給部５１は、流路２４Ａに取り付けられている。供給部５１は、制御部６４の制御に基づいて、吸引孔２１からのパージガスを、流路２４Ｂ及び流路２４Ｃの少なくとも何れかに供給可能である。供給部５１に示される矢印は、供給部５１がパージガスを送る方向を示す。供給部５１は、ピエゾポンプ等で構成されていてよい。
【0055】
図２に示すような供給部５２は、流路２３Ａに取り付けられている。供給部５２は、制御部６４の制御に基づいて、吸引孔２１からのパージガスを、流路２３Ｂ及び流路２３Ｃの少なくとも何れかに供給する。供給部５２に示される矢印は、供給部５２がパージガスを送る方向を示す。供給部５２は、ピエゾポンプ等で構成されていてよい。
【0056】
図３に示すような回路基板６０は、電気信号が伝搬する配線、記憶部６１、通信部６２及び制御部６４等を実装する。
【0057】
図３に示すような記憶部６１は、例えば、半導体メモリ又は磁気メモリ等で構成される。記憶部６１は、各種情報、及び、ガス検出システム１を動作させるためのプログラム等を記憶する。記憶部６１は、ワークメモリとして機能してよい。
【0058】
図３に示すような通信部６２は、図１に示すような電子機器３と通信可能である。通信部６２は、外部サーバと通信可能であってよい。通信部６２と電子機器３及び外部サーバとの通信において用いられる通信方式は、近距離無線通信規格又は携帯電話網へ接続する無線通信規格であってよいし、有線通信規格であってよい。近距離無線通信規格は、例えば、ＷｉＦｉ（登録商標）、Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ（登録商標）、赤外線及びＮＦＣ（Near Field Communication）等を含んでよい。携帯電話網へ接続する無線通信規格は、例えば、ＬＴＥ（Long Term Evolution）又は第４世代以上の移動通信システム等を含んでよい。また、通信部６２と電子機器３及び外部サーバとの通信において用いられる通信方式は、例えばＬＰＷＡ（Low Power Wide Area）又はＬＰＷＡＮ（Low Power Wide Area Network）等の通信規格でもよい。
【0059】
図３に示すようなセンサ部６３は、画像カメラ、個人識別スイッチ、赤外線センサ及び圧力センサ等の少なくとも何れかを含んで構成されていてよい。センサ部６３は、検出結果を、制御部６４に出力する。
【0060】
例えば、センサ部６３は、赤外線センサを含んで構成される場合、赤外線センサが照射した赤外線の対象物からの反射光を検出することにより、被検者がトイレ室に入室したことを検出し得る。センサ部６３は、検出結果として、被検者がトイレ室に入室したことを示す信号を、制御部６４に出力する。
【0061】
例えば、センサ部６３は、圧力センサを含んで構成される場合、図１に示すような便座２Ｂにかかる圧力を検出することにより、被検者が便座２Ｂに座ったことを検出し得る。センサ部６３は、検出結果として、被検者が便座２Ｂに座ったことを示す信号を、制御部６４に出力する。
【0062】
例えば、センサ部６３は、圧力センサを含んで構成される場合、図１に示すような便座２Ｂにかかる圧力の低減を検出することにより、被検者が便座２Ｂから立ち上がったことを検出し得る。センサ部６３は、検出結果として、被検者が便座２Ｂから立ち上がったことを示す信号を、制御部６４に出力する。
【0063】
例えば、センサ部６３は、画像カメラ及び個人識別スイッチ等を含んで構成される場合には、顔画像、座高及び体重等のデータを収集する。センサ部６３は、収集したデータから個人を特定識別して検出する。センサ部６３は、検出結果として、特定識別した個人を示す信号を、制御部６４に出力する。
【0064】
例えば、センサ部６３は、個人識別スイッチ等を含んで構成される場合には、個人識別スイッチの操作に基づいて、個人を特定（検出）する。この場合、記憶部６１には、予め個人情報が登録（記憶）されてよい。センサ部６３は、検出結果として、特定した個人を示す信号を、制御部６４に出力する。
【0065】
図３に示すような制御部６４は、１以上のプロセッサを含む。プロセッサは、特定のプログラムを読み込ませて特定の機能を実行する汎用のプロセッサ、及び、特定の処理に特化した専用のプロセッサの少なくとも何れかを含んでよい。専用のプロセッサは、特定用途向けＩＣ（ＡＳＩＣ；Application Specific Integrated Circuit）を含んでよい。プロセッサは、プログラマブルロジックデバイス（ＰＬＤ；Programmable Logic Device）を含んでよい。ＰＬＤは、ＦＰＧＡ（Field-Programmable Gate Array）を含んでよい。制御部６４は、１つ又は複数のプロセッサが協働するＳｏＣ（System-on-a-Chip）、及び、ＳｉＰ（System-in-a-Package）の少なくとも何れかを含んでよい。
【0066】
制御部６４は、図２に示すような吸引孔２１に、トイレ室内の空気をパージガスとして吸引させるように制御する。制御部６４は、図２に示すような吸引孔２１に吸引させたパージガスが、第４チャンバ３５に貯留されるように制御する。例えば、制御部６４は、図２に示すような送風機２１Ａのファンを回転させることにより、吸引孔２１の近傍にパージガスを引き込む。さらに、制御部６４は、弁４４によって流路２４Ｃと第４チャンバ３５の入口３５ａとを接続させた状態にし、弁４５によって第４チャンバ３５の出口３５ｂと流路２５Ｄとを接続させた状態にする。加えて、制御部６４は、供給部５１を制御することにより、送風機２１Ａによって吸引孔２１の近傍に引き込んだパージガスを、吸引孔２１に吸引させる。吸引孔２１が引き込んだパージガスは、流路２４Ａ，２４Ｃを介して、第４チャンバ３５に供給されて貯留させる。制御部６４は、センサ部６３の検出結果に基づいて、被検者が便座２Ｂから立ち上がったことを検出してから所定時間が経過した後、吸引孔２１にパージガスを吸引させてよい。
【0067】
制御部６４は、吸引孔２１にパージガスを吸引させる際、パージガスの清浄度が高いとき、パージガスを第４チャンバ３５に貯留させてよい。例えば、制御部６４は、パージガスを第３チャンバ３３のセンサ部３４に供給し、センサ部３４の検出結果に基づいて、パージガスの清浄度が高いか否か判定してよい。制御部６４は、パージガスの洗浄度が高いと判定したとき、パージガスを第４チャンバ３５に貯留させてよい。この場合、ガス検出システム１は、吸引孔２１と第３チャンバ３３とを直接接続する流路、及び、第３チャンバ３３に供給したガスを外部に直接排出する排出路をさらに備えてよい。また、ガス検出システム１は、センサ部３４とは別に、パージガスの清浄度を検出する専用のセンサ部をさらに備えてよい。当該専用のセンサ部は、図２に示すような吸引孔２１の先端に、又は、吸引孔２１と第４チャンバ３５との間に、設けられてよい。この場合、ガス検出システム１は、当該専用のセンサ部に供給したガスを外部に直接排出する排出路をさらに備えてよい。
【0068】
制御部６４は、図２に示すような吸引孔２０がサンプルガスを吸引するように制御する。例えば、制御部６４は、図２に示すような送風機２０Ａのファンを回転させることにより、吸引孔２０の近傍にサンプルガスを引き込む。制御部６４は、供給部５０を制御することにより、吸引孔２０に引き込んだサンプルガスを、吸引孔２０に吸引させる。制御部６４は、センサ部６３の検出結果に基づいて、被検者が便座２Ｂに座ったことを検出してから所定時間が経過した後、吸引孔２０にサンプルガスを吸引させてよい。
【0069】
制御部６４は、吸引孔２０に吸引させたサンプルガスが、第１チャンバ３０内に貯留されるように制御する。例えば、制御部６４は、図４に示すような弁４０によって、吸引孔２０と第１チャンバ３０の入口３０ａとを接続させた状態にする。さらに、制御部６４は、図４に示すような弁４１によって、第１チャンバ３０の出口３０ｂと流路２５Ａとを接続させた状態にする。制御部６４は、図２に示すような供給部５０を制御して、図２に示すような吸引孔２０からのサンプルガスを、図４に示すように、第１チャンバ３０に供給する。吸引孔２０から入口３０ａを介して第１チャンバ３０に供給されたサンプルガスは、第１チャンバ３０内の残留ガスを、出口３０ｂの方へ押し出す。出口３０ｂの方へ押し出された残留ガスは、流路２５Ａから図２に示すような排出路２２を介して外部に排出される。このような構成によって、図４に示すように、第１チャンバ３０内にサンプルガスが溜まる。
【0070】
制御部６４は、第１チャンバ３０に貯留したサンプルガスが、第２チャンバ３２に供給されるように制御する。例えば、制御部６４は、図５に示すような弁４０によって、流路２３Ｂと第１チャンバ３０の入口３０ａを接続させた状態にし、図５に示すような弁４１によって、第１チャンバ３０の出口３０ｂと第２チャンバ３２の入口３２ａとを接続させた状態にする。さらに、制御部６４は、図５に示すような弁４２によって、第２チャンバ３２の出口３２ｂと流路２５Ｂとを接続させた状態にする。加えて、制御部６４は、図２に示すような供給部５２を制御して、図２に示すような吸引孔２１からのパージガスを、図５に示すように、流路２３Ｂを介して第１チャンバ３０に供給する。流路２３Ｂから入口３０ａを介して第１チャンバ３０に供給されたパージガスは、第１チャンバ３０内のサンプルガスを、出口３０ｂの方へ押し出す。出口３０ｂの方へ押し出されたサンプルガスは、入口３２ａを介して第２チャンバ３２に供給される。第２チャンバ３２に供給されたサンプルガスは、第２チャンバ３２内の残留ガスを、出口３２ｂの方へ押し出す。出口３２ｂの方へ押し出された残留ガスは、流路２５Ｂから図２に示すような排出路２２を介して外部に排出される。このような構成によって、第１チャンバ３０に貯められたサンプルガスは、図５に示すように、第２チャンバ３２に供給される。
【0071】
制御部６４は、第４チャンバ３５に貯留したパージガスが、第３チャンバ３３のセンサ部３４に供給されるように制御する。例えば、制御部６４は、図６に示すような弁４４によって、流路２４Ｄと第４チャンバ３５の入口３５ａとを接続させた状態にし、図６に示すような弁４５によって、第４チャンバ３５の出口３５ｂと第５チャンバ３７の入口３７ａとを接続させた状態にする。さらに、制御部６４は、図６に示すような弁４２によって、第３チャンバ３３の入口３３ａと第５チャンバ３７の出口３７ｂとを接続させた状態にし、図６に示すような弁４３によって、第３チャンバ３３の出口３３ｂと流路２５Ｃとを接続させた状態にする。加えて、制御部６４は、図２に示すような供給部５１を制御することにより、図２に示すような吸引孔２１からのパージガスを、図６に示すように、第４チャンバ３５に供給する。第４チャンバ３５に吸引孔２１から供給されたパージガスは、第４チャンバ３５内に貯留されていたパージガスを、第５チャンバ３７に押し出す。第５チャンバ３７に押し出されたパージガスは、第３チャンバ３３に供給される。第５チャンバ３７から入口３３ａを介して第３チャンバ３３に供給されたパージガスは、第３チャンバ３３内のセンサ部３４に供給される。センサ部３４にパージガスが供給されると、センサ部３４は、パージガスに含まれる特定ガスに応じた電圧を、制御部６４に出力する。検出処理後のパージガスは、出口３３ｂ及び流路２５Ｃから図２に示すような排出路２２を介して外部に排出される。
【0072】
制御部６４は、サンプルガスが、第３チャンバ３３のセンサ部３４に供給されるように制御する。例えば、制御部６４は、図７に示すような弁４１によって、流路２３Ｃと第２チャンバ３２の入口３２ａとを接続させた状態にし、図７に示すような弁４２によって、第２チャンバ３２の出口３２ｂと第３チャンバ３３の入口３３ａとを接続させた状態にする。さらに、制御部６４は、図７に示すような弁４３によって、第３チャンバ３３の出口３３ｂと流路２５Ｃとを接続させた状態にする。加えて、制御部６４は、図２に示すような供給部５２を制御することにより、図２に示すような吸引孔２１からのパージガスを、図７に示すように、流路２３Ｃから第２チャンバ３２に供給する。流路２３Ｃから入口３２ａを介して第２チャンバ３２に供給されたパージガスは、第２チャンバ３２内のサンプルガスを、出口３２ｂの方へ押し出す。出口３２ｂの方へ押し出されたサンプルガスは、出口３２ｂを介して入口３３ａから第３チャンバ３３に供給される。第３チャンバ３３に供給されたサンプルガスは、センサ部３４に供給される。センサ部３４にサンプルガスが供給されると、センサ部３４は、サンプルガスに含まれる特定ガスに応じた電圧を、制御部６４に出力する。検出処理後のサンプルガスは、出口３３ｂ及び流路２５Ｃから図２に示すような排出路２２を介して外部に排出される。
【0073】
制御部６４は、例えば所定回数、パージガスとサンプルガスを、交互に第３チャンバ３３のセンサ部３４に供給する。例えば、制御部６４は、例えば所定回数、図６を参照して説明した制御と図７を参照して説明した制御とを交互に繰り返す。制御部６４は、パージガスとサンプルガスを交互に第３チャンバ３３に供給することにより、センサ部３４から電圧波形を取得する。制御部６４は、例えばセンサ部３４から取得した電圧波形対する機械学習により、サンプルガスに含まれるガスの種類及び濃度を検出する。制御部６４は、検出したガスの種類及び濃度を、検出結果として、通信部６２を介して電子機器３に送信してよい。
【0074】
制御部６４は、例えば検出処理後、第１チャンバ３０内に残留しているサンプルガスが、第１チャンバ３０から排出されるように制御する。例えば、制御部６４は、図８に示すような弁４０によって、流路２３Ｂと第１チャンバ３０の入口３０ａとを接続させた状態にし、図８に示すような弁４１によって、第１チャンバ３０の出口３０ｂと流路２５Ａとを接続させた状態にする。さらに、制御部６４は、図２に示すような供給部５２を制御することにより、図２に示すような吸引孔２１からのパージガスを、図８に示すように、流路２３Ｂから第１チャンバ３０に供給する。流路２３Ｂから入口３０ａを介して第１チャンバ３０に供給されたパージガスは、第１チャンバ３０内に残留しているサンプルガスを、出口３０ｂの方へ押し出す。出口３０ｂの方へ押し出されたサンプルガスは、流路２５Ａから図２に示すような排出路２２を介して外部に排出される。
【0075】
ここで、制御部６４は、第３チャンバ３３に供給するサンプルガスの流量を制御可能である。換言すると、制御部６４は、センサ部３４に供給するサンプルガスの流量を制御可能である。例えば、制御部６４は、図７に示すような流路２３Ｃから第２チャンバ３２に供給するパージガスの流量を、図２に示すような供給部５２のピエゾポンプ又はモータポンプにより制御する。制御部６４は、図７に示すような第２チャンバ３２に供給するパージガスの流量を制御することにより、当該パージガスによって第２チャンバ３２から第３チャンバ３３に押し出すサンプルガスの流量を制御する。制御部６４は、サンプルガスを第３チャンバ３３に供給してセンサ部３４に供給する際、サンプルガスの流量を適宜制御してよい。
【0076】
制御部６４は、サンプルガスのセンサ部３４への供給開始時の流量が、第１流量よりも、大きくなるように制御してよい。センサ部３４への供給開始時の流量は、センサ部３４に供給するガスをパージガスからサンプルガスに切替える際に、センサ部３４の出力電圧が受ける影響を考慮して、適宜決定されてよい。ここで、センサ部３４に供給するガスをパージガスからサンプルガスへ又はサンプルガスからパージガスへ切替えると、センサ部３４の出力電圧は、立ち下がるか又は立ち上がった後、一定値となり得る。このセンサ部３４の出力電圧の立ち下がり又は立ち上がりは、センサ部３４への供給開始時の流量が大きいほど、センサ部３４自体の反応によるものに近づき得る。センサ部３４の出力電圧がセンサ部３４自体の反応によるものに近づくほど、ガス検出システム１は、ガスの種類及び濃度をより精度良く検出することができる。つまり、サンプルガスのセンサ部３４への供給開始時の流量を第１流量よりも大きくすることにより、センサ部３４の出力電圧は、センサ部３４自体の反応によるものに近づき得る。このような構成によって、ガス検出システム１は、ガスの種類及び濃度をより精度良く検出することができる。
【0077】
制御部６４は、センサ部３４へのサンプルガスの供給を開始してから第１時間経過後、サンプルガスの流量が、サンプルガスの供給開始時の流量よりも小さくなるように制御してよい。又は、制御部６４は、センサ部３４へのサンプルガスの供給を開始してから第１時間経過後、サンプルガスのセンサ部３４への供給を停止させてよい。例えば、制御部６４は、第１時間経過後、図２に示すような供給部５２を制御することにより、図７に示すような流路２３Ｃから第２チャンバ３２に供給するパージガスの流量が、パージガスの供給開始時の流量よりも小さくように制御してよい。図７に示すような流路２３Ｃから第２チャンバ３２に供給されるパージガスの流量を小さくすることにより、当該パージガスにより第２チャンバ３２から図７に示すような第３チャンバ３３へ押し出されるサンプルガスの流量が小さくなり得る。又は、制御部６４は、第１時間経過後、図２に示すような供給部５２を制御することにより、図７に示すような流路２３Ｃから第２チャンバ３２へのパージガスの供給を停止させてよい。図７に示すような流路２３Ｃから第２チャンバ３２へのパージガスの供給を停止させることにより、図７に示すような第２チャンバ３２から第３チャンバ３３へのサンプルガスの供給が停止し得る。ここで、サンプルガスは、便から発生するガスである。そのため、取得可能なサンプルガスの量が、限られる場合がある。特に、サンプルガス濃縮時には、サンプルガスの量が少なくなる。この場合でも、制御部６４が第１時間経過後のサンプルガスの流量をサンプルガスの供給開始時の流量よりも小さくする等により、サンプルガスを、流量を小さくしないとき等よりも長い時間、センサ部３４に供給し続けることができる。このような構成によって、センサ部３４は、サンプルガスに含まれる特定ガスに応じた電圧を、安定して出力することができる。また、第１時間は、第１チャンバ３０に貯留可能なサンプルガスの量を考慮して適宜設定されてよい。
【0078】
制御部６４は、上述の第１時間経過後において、サンプルガスの流量の低減と、サンプルガスのセンサ部３４への供給停止とが交互に繰り返されるように制御してよい。この場合、制御部６４は、第１チャンバ３０に貯留されたサンプルガスの量に応じて、サンプルガスの流量の低減と、サンプルガスのセンサ部３４への供給停止とが交互に繰り返えされるように制御してよい。
【0079】
ここで、制御部６４は、第３チャンバ３３に供給するパージガスの流量を制御可能である。換言すると、制御部６４は、センサ部３４に供給するパージガスの流量を制御可能である。例えば、制御部６４は、図６に示すような第５チャンバ３７から第３チャンバ３３に供給するパージガスの流量を、図２に示すような供給部５１のピエゾポンプにより制御することにより、第３チャンバ３３に供給するパージガスの流量を制御する。制御部６４は、パージガスを第３チャンバ３３のセンサ部３４に供給する際、パージガスの流量を適宜制御してよい。
【0080】
制御部６４は、パージガスのセンサ部３４への供給開始時の流量が、第２流量よりも、大きくなるように制御してよい。センサ部３４への供給開始時の流量は、上述の第１流量と同様に、センサ部３４に供給するガスを切替えることによりセンサ部３４の出力電圧が受ける影響を考慮して、適宜決定されてよい。上述のように、センサ部３４に供給するガスを切替える際、センサ部３４の出力電圧は、立ち下がるか又は立ち上がる。この出力電圧の立ち下がり又は立ち上がりは、センサ部３４への供給開始時の流量が大きいほど、センサ部３４自体の反応によるものに近づき得る。上述のように、センサ部３４の出力電圧がセンサ部３４自体の反応によるものに近づくほど、ガス検出システム１は、ガスの種類及び濃度をより精度良く検出することができる。つまり、上述の第１流量と同様に、パージガスのセンサ部３４への供給開始時の流量を第２流量よりも大きくすることにより、センサ部３４の出力電圧は、センサ部３４自体の反応によるものに近づき得る。このような構成によって、ガス検出システム１は、ガスの種類及び濃度をより精度良く検出することができる。
【0081】
制御部６４は、センサ部３４へのパージガスの供給を開始してから第２時間経過後のパージガスの流量が、パージガスの供給開始時の流量以下になるように制御してよい。又は、制御部６４は、第２時間経過後、パージガスのセンサ部３４への供給を停止させてよい。例えば、制御部６４は、上述の第２時間経過後、図２に示すような供給部５１を制御することにより、図６に示すような第５チャンバ３７から第３チャンバ３３に供給するパージガスの流量が、パージガスの供給開始時の流量以下になるように制御してよい。又は、制御部６４は、第２時間経過後、図２に示すような供給部５１を制御することにより、図７に示すような第５チャンバ３７から第３チャンバ３３へのパージガスの供給を停止させてよい。ここで、ガス検出システム１がトイレ室に設置される場合、トイレ室内の空気は汚染されている場合がある。この場合、取得可能なパージガスの量が、限られる場合がある。この場合でも、制御部６４によって第２時間経過後のパージガスの流量をパージガスの供給開始時の流量以下にする等により、パージガスを、流量を小さくしないとき等よりも長い時間、センサ部３４に供給し続けることができる。このような構成によって、センサ部３４は、パージガスに含まれる特定ガスに応じた電圧を、安定して出力することができる。また、第２時間は、第４チャンバ３５に貯留可能なパージガスの量を考慮して適宜設定されてよい。
【0082】
制御部６４は、センサ部３４に供給するパージガスの流量が、センサ部３４に供給するサンプルガスの流量よりも、大きくなるように制御してよい。例えば、制御部６４は、図６に示すような第４チャンバ３５から第５チャンバ３７を介して第３チャンバ３３に供給するパージガスの流量が、図７に示すような第２チャンバ３２から第３チャンバ３３に供給するサンプルガスの流量よりも、大きくなるように制御してよい。便から発生するサンプルガスの方が、トイレ室内の空気であるパージガスよりも、取得可能な量が限られる場合がある。特に、サンプルガス濃縮時には、サンプルガスの量が少なくなる。また、パージガスの流量を大きくすることにより、パージガスによってセンサ部３４に付着した検出対象ガスが、センサ部３４からより速く離脱し得る。このような構成により、ガス検出システム１は、サンプルガスを節約しつつ、センサ部３４に付着した検出対象ガスをセンサ部３４から速く離脱させることができる。
【0083】
制御部６４は、図５に示すような流路２３Ｂを介して第１チャンバ３０に供給するパージガスの流量が、図７に示すような流路２３Ｂから第２チャンバ３２に供給するパージガスの流量よりも、大きくなるように制御してよい。図５に示すような流路２３Ｂから第１チャンバ３０に供給するパージガスの流量を大きくすることにより、第１チャンバ３０内でサンプルガスとパージガスとが相互に拡散することが低減され得る。また、図５に示すような流路２３Ｂから第１チャンバ３０に供給するパージガスの流量を大きくすることにより、より短い時間で、サンプルガスを第２チャンバ３２に供給することができる。
【0084】
［ガス検出システムの動作例］
図９は、図１に示すガス検出システム１の動作を示すフローチャートである。制御部６４は、センサ部６３の検出結果に基づいて、被検者が便座２Ｂから立ち上がったことを検出してから所定時間が経過した後、図９に示すような処理を開始してよい。
図９は、図１に示すガス検出システム１の動作を示すフローチャートである。制御部６４は、センサ部６３の検出結果に基づいて、被検者が便座２Ｂから立ち上がったことを検出してから所定時間が経過した後、図９に示すような処理を開始してよい。
【0085】
制御部６４は、吸引孔２１がパージガスを吸引するように制御する（ステップＳ１０）。制御部６４は、吸引孔２１からのパージガスが第４チャンバ３５に貯留されるように制御する（ステップＳ１１）。
【0086】
制御部６４は、センサ部６３の検出結果に基づいて、被検者が便座２Ｂに座ったことを検出してから所定時間が経過した後、吸引孔２０がサンプルガスを吸引するように制御する（ステップＳ１２）。制御部６４は、吸引孔２０からのサンプルガスが、第１チャンバ３０に貯留されるように制御する（ステップＳ１３）（図４参照）。制御部６４は、第１チャンバ３０内に貯留したサンプルガスが、第２チャンバ３２に供給されるように制御する（ステップＳ１４）（図５参照）。
【0087】
制御部６４は、パージガスが、第５チャンバ３７を介して第３チャンバ３３に供給されるように制御する（ステップＳ１５）（図６参照）。つまり、ステップＳ１５の処理では、制御部６４は、パージガスがセンサ部３４に供給されるように制御する。ステップＳ１５の処理の詳細は、図１０を参照して後述する。
【0088】
制御部６４は、サンプルガスが、第３チャンバ３３に供給されるように制御する（ステップＳ１６）（図７参照）。つまり、ステップＳ１６の処理では、制御部６４は、サンプルガスが、センサ部３４に供給されるように制御する。ステップＳ１６の処理の詳細は、図１１を参照して後述する。
【0089】
制御部６４は、ステップＳ１５の処理とステップＳ１６の処理を、例えば所定回数、交互に実行する。制御部１８は、センサ部３４から電圧波形を取得する（ステップＳ１７）。
【0090】
制御部６４は、例えばセンサ部３４から取得した電圧波形対する機械学習により、サンプルガスに含まれるガスの種類及び濃度を検出する（ステップＳ１８）。ステップＳ１８の処理では、制御部６４は、検出したガスの種類及び濃度を、検出結果として、通信部６２を介して電子機器３に送信してよい。
【0091】
制御部６４は、図８を参照して上述したように、第１チャンバ３０内に残留しているサンプルガスが、第１チャンバ３０から排出されるように制御する（ステップＳ１９）。
【0092】
ステップＳ１４の処理を終了した後、制御部６４は、ステップＳ１５の処理と並行して、ステップＳ１８の処理を実行してよい。
【0093】
図１０は、図１に示すガス検出システム１のパージガス供給時の動作を示すフローチャートである。図１０に示すような処理は、図９に示すようなステップＳ１５の処理の詳細に相当する。制御部６４は、図９に示すようなステップＳ１４の処理を実行した後、図１０に示すような処理を開始してよい。
【0094】
制御部６４は、第２流量よりも大きい流量で、パージガスが、第３チャンバ３３に供給されるように制御する（ステップＳ３０）。換言すると、制御部６４は、パージガスのセンサ部３４への供給開始時の流量が、第２流量よりも、大きくなるように制御する。
【0095】
制御部６４は、センサ部３４へのパージガスの供給を開始してから第２時間が経過したか否か判定する（ステップＳ３１）。制御部６４は、センサ部３４へのパージガスの供給を開始してから第２時間が経過したと判定するとき（ステップＳ３１：Ｙｅｓ）、ステップＳ３２の処理に進む。一方、制御部６４は、センサ部３４へのパージガスの供給を開始してから第２時間が経過したと判定しないとき（ステップＳ３１：Ｎｏ）、ステップＳ３１の処理を繰り返し実行する。
【0096】
ステップＳ３２の処理では、制御部６４は、パージガスの流量がパージガスの供給開始時の流量以下になるように制御するか、又は、パージガスのセンサ部３４への供給を停止させる。
【0097】
図１１は、図１に示すガス検出システム１のサンプルガス供給時の動作を示すフローチャートである。図１１に示すような処理は、図９に示すようなステップＳ１６の処理の詳細に相当する。制御部６４は、図９に示すようなステップＳ１５の処理を実行した後、図１１に示すような処理を開始してよい。
【0098】
制御部６４は、第１流量よりも大きい流量で、サンプルガスが、第３チャンバ３３に供給されるように制御する（ステップＳ４０）。換言すると、制御部６４は、サンプルガスのセンサ部３４への供給開始時の流量が、第１流量よりも、大きくなるように制御する。
【0099】
制御部６４は、センサ部３４へのサンプルガスの供給を開始してから第１時間が経過したか否か判定する（ステップＳ４１）。制御部６４は、センサ部３４へのサンプルガスの供給を開始してから第１時間が経過したと判定するとき（ステップＳ４１：Ｙｅｓ）、ステップＳ４２の処理に進む。一方、制御部６４は、センサ部３４へのサンプルガスの供給を開始してから第１時間が経過したと判定しないとき（ステップＳ４１：Ｎｏ）、ステップＳ４１の処理を繰り返し実行する。
【0100】
ステップＳ４２の処理では、制御部６４は、サンプルガスの流量がサンプルガスの供給開始時の流量よりも小さくなるように制御するか、又は、サンプルガスのセンサ部３４への供給を停止させる。
【0101】
以上のように、本実施形態に係るガス検出システム１では、第１チャンバ３０のガス流れ方向に直交する断面において、第２チャンバ３２の面積は、第１チャンバ３０の面積よりも小さい。ここで、第２チャンバ３２内では、例えば図５に示すような構成と図７に示すような構成とが実行されることにより、パージガスとサンプルガスとが接し得る。本実施形態では、第１チャンバ３０のガス流れ方向に直交する断面において、第２チャンバ３２の面積を、第１チャンバ３０の面積よりも小さくすことにより、パージガスとサンプルガスとが接する境界の面積が、小さくなり得る。パージガスとサンプルガスとが接する境界の面積が小さくなることで、第２チャンバ３２内において、パージガスとサンプルガスとが混ざりにくくすることができる。上述のように、本実施形態では、第２チャンバ３２の断面積を第１チャンバ３０の断面積よりも小さくすることにより、第２チャンバ３２内において、パージガスとサンプルガスとが混ざりにくくなり得る。本実施形態では、パージガスとサンプルガスとが混ざりにくくなるため、ガスの種類及び濃度をより精度良く検出することができる。
【0102】
また、本実施形態に係るガス検出システム１では、制御部６４は、センサ部３４へのサンプルガスの供給を開始してから第１時間経過後のサンプルガスの流量が、サンプルガスの供給開始時の流量よりも小さくなるように制御する。又は、制御部６４は、上述の第１時間経過後、サンプルガスのセンサ部３４への供給が停止させる。上述のように、サンプルガスは、便から発生するガスである。そのため、取得可能なサンプルガスの量が、限られる場合がある。特に、サンプルガス濃縮時には、サンプルガスの量が少なくなる。この場合でも、制御部６４によって第１時間経過後のサンプルガスの流量をサンプルガスの供給開始時の流量よりも小さくする等により、サンプルガスを、流量を小さくしないとき等よりも長い時間、センサ部３４に供給し続けることができる。このような構成によって、センサ部３４は、サンプルガスに含まれる特定ガスに応じた電圧を、安定して出力することができる。センサ部３４が電圧を安定して出力することができるため、ガス検出システム１は、ガスの種類及び濃度をより精度良く検出することができる。また、このような構成によって、ガス検出システム１は、少ないサンプルガスでもガスの種類及び濃度を検出することができる。そのため、ガス検出システム１では、装置規模を小さくすることができる。つまり、ガス検出システム１は、検出精度を維持しつつ、小型化され得る。
【0103】
従って、本実施形態によれば、改善された、ガス検出システム１が提供され得る。
【0104】
本開示に係る実施形態について説明する図は模式的なものである。図面上の寸法比率等は、現実のものとは必ずしも一致していない。
【0105】
本開示に係る実施形態について、諸図面及び実施例に基づき説明してきたが、当業者であれば本開示に基づき種々の変形又は修正を行うことが容易であることに注意されたい。従って、これらの変形又は修正は本開示の範囲に含まれることに留意されたい。例えば、各構成部等に含まれる機能等は論理的に矛盾しないように再配置可能であり、複数の構成部などを１つに組み合わせたり、或いは、分割したりすることが可能である。
【0106】
例えば、上述の実施形態では、図２に示すように、第２チャンバ３２は、直線に沿って延在するものとして説明した。ただし、本開示の第２チャンバは、直線に沿って延在するに限定されない。例えば、本開示の第２チャンバは、図１２に示すような形状を有してよい。図１２に示すような第２チャンバ１３２は、曲がっている部分を有する。曲がっている部分の形状は、例えば、曲がりくねった形状である。第２チャンバ１３２は、その両端に、入口１３２ａ及び出口１３２ｂを含む。入口１３２ａは、図２に示すような第１チャンバ３０の出口３０ｂに接続可能である。出口１３２ｂは、図２に示すような第３チャンバ３３の入口３３ａに接続可能である。図１２に示すような第２チャンバ１３２の断面積は、図２に示すような第１チャンバ３０の断面積よりも、小さい。図１２に示すような第２チャンバ１３２は、曲がっている部分を有することにより、例えば曲がりくねった形状を有することにより、その容積と第２チャンバ１３２の占有体積を維持しつつ、第１チャンバ３０の断面積よりも小さい断面積を有することができる。
【0107】
例えば、上述の実施形態では、図２に示すような第１チャンバ３０は、図４に示すように、サンプルガスを貯留するものとして説明した。ただし、第１チャンバ３０の用途は、これに限定されない。第１チャンバ３０は、サンプルガスを濃縮するために、用いられてよい。この場合、吸着剤３１は、サンプルガスに含まれる検出対象のガスを吸着するであってよい。検出対象のガスを吸着する吸着剤３１の例としては、活性炭及びモレキュラーシーブ等が挙げられる。ただし、これらの組み合わせは、吸着するガス分子の極性によって適宜変更されてよい。また、第１チャンバ３０の外側には、ヒータが設けられてよい。
【0108】
例えば、上述の実施形態では、ガス検出システム１の構成として、図２に示すような構成を説明した。ただし、ガス検出システム１の構成は、図２に示すような構成に限定されない。例えば、ガス検出システム１には、図１３から１７に示すような構成が採用されてよい。
【0109】
図１３に示すようなガス検出システム１Ａは、図２に示すような第４チャンバ３５及び第５チャンバ３７の代わりに、流路２６を備える。ガス検出システム１Ａは、供給部として、供給部５０と、供給部５３Ａ，５３Ｂ，５３Ｃとを備える。流路２６は、図２に示すような吸引孔２１と弁４２の接続口とを直接接続する。流路２６は、樹脂製チューブ或いは金属製又はガラス製配管等の管状の部材で構成されていてよい。供給部５３Ａは、流路２３Ｂに取り付けられている。供給部５３Ｂは、流路２３Ｃに取り付けられている。供給部５３Ｃは、流路２６に取り付けられている。供給部５３Ａ～５３Ｃの各々に示される矢印は、供給部５３Ａ～５３Ｃの各々がガスを送る方向を示す。供給部５３Ａ～５３Ｃの各々は、ピエゾポンプ又はモータポンプ等で構成されていてよい。
【0110】
図１３に示すような構成では、制御部６４は、弁４０によって流路２３Ｂと第１チャンバ３０の入口３０ａとを接続させた状態にし、さらに供給部５３Ａを制御することにより、図２に示すような吸引孔２１からのパージガスを第１チャンバ３０に供給する。また、制御部６４は、弁４１によって流路２３Ｃと第２チャンバ３２の入口３２ａとを接続させた状態にし、さらに供給部５３Ｂを制御することにより、図２に示すような吸引孔２１からのパージガスを第２チャンバ３２に供給する。また、制御部６４は、弁４２によって流路２６と第３チャンバ３３の入口３３ａとを接続させた状態にし、さらに供給部５３Ｃを制御することにより、図２に示すような吸引孔２１からのパージガスを第３チャンバ３３に供給する。
【0111】
図１４に示すようなガス検出システム１Ｂは、図２に示すような流路２３Ｃ、第４チャンバ３５及び第５チャンバ３７の代わりに、流路２３Ｄ，２３Ｅ，２３Ｆを備える。ガス検出システム１Ｂは、供給部として、供給部５０と、供給部５４とを備える。流路２３Ｄの一端は、流路２３Ａの一端及び流路２３Ｂの一端に接続されている。流路２３Ｄの他端は、流路２３Ｅの一端及び流路２３Ｆの一端に接続されている。流路２３Ｅの一端は、流路２３Ｄの一端及び流路２３Ｆの一端に接続されている。流路２３Ｅの他端は、弁４２の接続口に接続されている。流路２３Ｆの一端は、流路２３Ｄの一端及び流路２３Ｅの一端に接続されている。流路２３Ｆの他端は、弁４１の接続口に接続されている。流路２３Ｄ，２３Ｅ，２３Ｆは、樹脂製チューブ或いは金属製又はガラス製配管等の管状の部材で構成されていてよい。供給部５４は、流路２３Ａに取り付けられている。供給部５４に示される矢印は、供給部５４がガスを送る方向を示す。供給部５４は、ピエゾポンプ等で構成されていてよい。
【0112】
図１４に示すような構成では、制御部６４は、弁４０によって流路２３Ｂと第１チャンバ３０の入口３０ａとを接続させた状態にし、さらに供給部５４を制御することにより、図２に示すような吸引孔２１からのパージガスを第１チャンバ３０に供給する。また、制御部６４は、弁４１によって流路２３Ｆと第２チャンバ３２の入口３２ａとを接続させた状態にし、さらに供給部５４を制御することにより、図２に示すような吸引孔２１からのパージガスを第２チャンバ３２に供給する。また、制御部６４は、弁４２によって流路２３Ｅと第３チャンバ３３の入口３３ａとを接続させた状態にし、さらに供給部５４を制御することにより、図２に示すような吸引孔２１からのパージガスを第３チャンバ３３に供給する。
【0113】
図１５に示すようなガス検出システム１Ｃは、図１４に示すような構成と同様に、流路２３Ｄ，２３Ｅ，２３Ｆを備える。ガス検出システム１は、流路２７を備える。ガス検出システム１Ｃは、供給部として供給部５５を備える。流路２７の一端は、弁４０の接続口に接続されている。流路２７の他端は、第１チャンバ３０の入口３０ａに接続されている。流路２７は、樹脂製チューブ或いは金属製又はガラス製配管等の管状の部材で構成されていてよい。供給部５５は、流路２７に取り付けられている。供給部５５に示される矢印は、供給部５５がガスを送る方向を示す。供給部５５は、ピエゾポンプ又はモータポンプ等で構成されていてよい。
【0114】
図１６に示すようなガス検出システム１Ｄは、図１３に示すような構成と同様に、流路２６を備える。ガス検出システム１Ｄは、供給部として、供給部５６Ａ，５６Ｂ，５６Ｃを備える。供給部５６Ａは、流路２５Ａに取り付けられている。供給部５６Ｂは、流路２５Ｂに取り付けられている。供給部５６Ｃは、流路２５Ｃに取り付けられている。供給部５６Ａ～５６Ｃの各々に示される矢印は、供給部５６Ａ～５６Ｃの各々がガスを送る方向を示す。供給部５６Ａ～５６Ｃの各々は、ピエゾポンプ又はモータポンプ等で構成されていてよい。
【0115】
図１６に示すような構成では、制御部６４は、弁４０によって吸引孔２０と第１チャンバ３０の入口３０ａとを接続させた状態にし、弁４１によって第１チャンバ３０の出口３０ｂと流路２５Ａとを接続させた状態にする。さらに、制御部６４は、供給部５６Ａを制御することにより、吸引孔２０からのサンプルガスを第１チャンバ３０に供給する。
【0116】
図１６に示すような構成では、制御部６４は、弁４０によって吸引孔２０と第１チャンバ３０の入口３０ａとを接続させた状態にし、弁４１によって第１チャンバ３０の出口３０ｂと第２チャンバ３２の入口３２ａとを接続させた状態にする。さらに、制御部６４は、弁４２によって第２チャンバ３２の出口３２ｂと流路２５Ｂとを接続させた状態にする。加えて、制御部６４は、供給部５６Ｂを制御することにより、図２に示すような吸引孔２１からのパージガスを、流路２３Ｂを介して第１チャンバ３０に供給する。第１チャンバ３０に供給されたパージガスは、第１チャンバ３０内のサンプルガスを、第２チャンバ３２に押し出す。このような構成により、第１チャンバ３０内のサンプルガスは、第２チャンバ３２に供給される。
【0117】
図１６に示すような構成では、制御部６４は、弁４１によって流路２３Ｃと第２チャンバ３２の入口３２ａとを接続させた状態にし、弁４２によって第２チャンバ３２の出口３２ｂと第３チャンバ３３の入口３３ａとを接続させた状態にする。さらに、制御部６４は、弁４３によって第３チャンバ３３の出口３３ｂと流路２５Ｃを接続させた状態にする。加えて、制御部６４は、供給部５６Ｃを制御させることにより、図２に示すような吸引孔２１からのパージガスを、流路２３Ｃを介して第２チャンバ３２に供給させる。流路２３Ｃから第２チャンバ３２に供給されたパージガスは、第２チャンバ３２内のサンプルガスを第３チャンバ３３へ押し出す。このような構成によって、第２チャンバ３２内のサンプルガスが、第３チャンバ３３に供給されてセンサ部３４に供給される。
【0118】
図１６に示すような構成では、制御部６４は、弁４２によって流路２６と第３チャンバ３３の入口３３ａとを接続させた状態にし、弁４３によって第３チャンバ３３の出口３３ｂと流路２５Ｃとを接続させた状態にする。さらに、制御部６４は、供給部５６Ｃを制御することにより、図２に示すような吸引孔２１からのパージガスを、流路２６を介して第３チャンバ３３に供給する。
【0119】
図１７に示すようなガス検出システム１Ｅは、図１３に示すような構成と同様に、流路２６を備える。ガス検出システム１Ｅは、図２に示すような流路２５Ａ，２５Ｂ，２５Ｃ，２５Ｅ，２５Ｆの代わりに、流路２８，２９Ａ，２９Ｂ，２９Ｃを備える。ガス検出システム１Ｅは、供給部として、供給部５７を備える。流路２８の一端は、弁４３の接続口に接続されている。流路２８の他端は、排出路２２に接続されている。流路２９Ａの一端は、弁４１の接続口に接続されている。流路２９Ａの他端は、流路２９Ｂの一端及び流路２９Ｃの一端に接続されている。流路２９Ｂの一端は、弁４２の接続口に接続されている。流路２９Ｂの他端は、流路２９Ａの一端及び流路２９Ｃの一端に接続されている。流路２９Ｃの一端は、流路２８の一端及び排出路２２に接続されている。流路２９Ｃの他端は、流路２９Ａの一端及び流路２９Ｂの一端に接続されている。流路２８，２９Ａ～２９Ｃは、樹脂製チューブ或いは金属製又はガラス製配管等の管状の部材で構成されていてよい。供給部５７は、排出路２２に取り付けられている。供給部５７に示される矢印は、供給部５７がガスを送る方向を示す。供給部５７は、ピエゾポンプ又はモータポンプ等で構成されていてよい。
【0120】
例えば、上述の実施形態では、図４に示すように、ガス検出システム１は、１つの装置であるものとして説明した。ただし、本開示のガス検出システムは、１つの装置に限定されない。本開示のガス検出システムは、独立した複数の装置を含んでよい。本開示のガス検出システムは、例えば、図１８に示すような構成であってよい。
【0121】
図１８に示すようなガス検出システム１Ｆは、ガス検出装置４と、サーバ装置５とを備える。ガス検出装置４とサーバ装置５は、ネットワーク６を介して通信可能である。ネットワーク６の一部は、有線であってよいし、無線であってよい。ガス検出装置４の構成は、図２に示すようなガス検出システム１の構成と同様である。サーバ装置５は、記憶部５Ａと、通信部５Ｂと、制御部５Ｃとを備える。制御部５Ｃは、上述した図４に示すような制御部６４の処理を実行可能である。例えば、制御部５Ｃは、上述した図２に示すようなセンサ部３４に供給されるサンプルガス及びパージガスの流量を制御可能である。制御部５Ｃは、サンプルガスをセンサ部３４に供給する際、センサ部３４へのサンプルガスの供給を開始してから第１時間経過後、サンプルガスの流量がサンプルガスの供給開始時の流量よりも小さくなるように制御する。又は、制御部５Ｃは、上述の第１時間経過後、サンプルガスのセンサ部３４への供給を停止させる。また、例えば、制御部５Ｃは、パージガスをセンサ部３４に供給する際、センサ部３４へのパージガスの供給を開始してから第２時間経過後、パージガスの流量が、パージガスの供給開始時の流量以下になるように制御する。又は、制御部５Ｃは、上述の第２時間経過後、パージガスのセンサ部３４への供給を停止させる。
【0122】
本開示において「第１」及び「第２」等の記載は、当該構成を区別するための識別子である。本開示における「第１」及び「第２」等の記載で区別された構成は、当該構成における番号を交換することができる。例えば、第１端子は、第２端子と識別子である「第１」と「第２」とを交換することができる。識別子の交換は同時に行われる。識別子の交換後も当該構成は区別される。識別子は削除してよい。識別子を削除した構成は、符号で区別される。本開示における「第１」及び「第２」等の識別子の記載のみに基づいて、当該構成の順序の解釈、小さい番号の識別子が存在することの根拠に利用してはならない。
【符号の説明】
【0123】
１，１Ａ～１Ｆ ガス検出システム
２ 便器
２Ａ 便器ボウル
２Ｂ 便座
３ 電子機器
３Ａ 表示部
４ ガス検出装置
５ サーバ装置
５Ａ 記憶部
５Ｂ 通信部
５Ｃ 制御部
６ ネットワーク
１０ 筐体
２０，２１ 吸引孔
２０Ａ，２１Ａ 送風機
２２ 排出路
２３Ａ～２３Ｆ，２４Ａ～２４Ｄ，２５Ａ～２５Ｆ，２６～２８，２９Ａ，２９Ｂ 流路
３０ 第１チャンバ
３１ 吸着剤
３２，１３２ 第２チャンバ
３３ 第３チャンバ
３４ センサ部
３５ 第４チャンバ
３６ 吸着剤
３７ 第５チャンバ
３０ａ，３２ａ，３３ａ，３５ａ，３７ａ，１３２ａ 入口
３０ｂ，３２ｂ，３３ｂ，３５ｂ，３７ｂ，１３２ｂ 出口
４０～４５ 弁
５０～５２，５３Ａ～５３Ｃ，５４，５５，５６Ａ～５６Ｃ，５７ 供給部
６０ 回路基板
６１ 記憶部
６２ 通信部
６３ センサ部
６４ 制御部
２ 便器
２Ａ 便器ボウル
２Ｂ 便座
３ 電子機器
３Ａ 表示部
４ ガス検出装置
５ サーバ装置
５Ａ 記憶部
５Ｂ 通信部
５Ｃ 制御部
６ ネットワーク
１０ 筐体
２０，２１ 吸引孔
２０Ａ，２１Ａ 送風機
２２ 排出路
２３Ａ～２３Ｆ，２４Ａ～２４Ｄ，２５Ａ～２５Ｆ，２６～２８，２９Ａ，２９Ｂ 流路
３０ 第１チャンバ
３１ 吸着剤
３２，１３２ 第２チャンバ
３３ 第３チャンバ
３４ センサ部
３５ 第４チャンバ
３６ 吸着剤
３７ 第５チャンバ
３０ａ，３２ａ，３３ａ，３５ａ，３７ａ，１３２ａ 入口
３０ｂ，３２ｂ，３３ｂ，３５ｂ，３７ｂ，１３２ｂ 出口
４０～４５ 弁
５０～５２，５３Ａ～５３Ｃ，５４，５５，５６Ａ～５６Ｃ，５７ 供給部
６０ 回路基板
６１ 記憶部
６２ 通信部
６３ センサ部
６４ 制御部
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】