特開 2023-56759 表面計測装置及び表面計測方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】P2023056759

(43)【公開日】2023-04-20

(54)【発明の名称】表面計測装置及び表面計測方法

(51)【国際特許分類】

   G01N 21/47 20060101AFI20230413BHJP

【ＦＩ】

G01N21/47 Z

【審査請求】未請求

【請求項の数】9

【出願形態】ＯＬ

(21)【出願番号】P 2021166162

(22)【出願日】2021-10-08

(71)【出願人】

【識別番号】515086908

【氏名又は名称】株式会社トヨタプロダクションエンジニアリング

(74)【代理人】

【識別番号】100114306

【弁理士】

【氏名又は名称】中辻 史郎

(74)【代理人】

【識別番号】100148655

【弁理士】

【氏名又は名称】諏訪 淳一

(72)【発明者】

【氏名】石田 雄貴

【テーマコード（参考）】

2G059

【Ｆターム（参考）】

2G059AA05

2G059BB08

2G059BB10

2G059EE02

2G059FF01

2G059KK04

2G059MM09

2G059MM10

(57)【要約】

【課題】計測対象表面の反射分布特性の違いを簡易かつ短時間に計測することができる表面計測装置及び表面計測方法を提供すること。
【解決手段】計測対象表面Ｓから所定距離ｈ離隔した位置にレンズ１２ａを固定配置して計測対象表面Ｓを撮像する撮像部１２と、計測対象表面から所定距離ｈ離隔した位置であって撮像部１２に隣接した位置に固定配置されて計測対象表面Ｓに光を照射する点光源１１と、点光源１１から計測対象表面Ｓに光を照射し、撮像部１２を計測対象表面Ｓに合焦させて計測対象表面Ｓからの反射光を受光して計測対象表面Ｓの表面画像を取得する画像取得処理部２４ａと、計測対象表面Ｓから反射する異なる方向からの反射光を、点光源１１及び撮像部１２を計測対象表面Ｓに対して平行移動した場合における計測対象表面Ｓ上の１点からの反射光として反射分布特性を求める反射分布特性算出部２４ｂとを備える。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

計測対象表面の反射分布特性を計測する表面計測装置であって、
前記計測対象表面から所定距離離隔した位置にレンズを固定配置して前記計測対象表面を撮像する撮像部と、
前記計測対象表面から前記所定距離離隔した位置に固定配置されて前記計測対象表面に光を照射する点光源と、
前記点光源から前記計測対象表面に光を照射し、前記撮像部を前記計測対象表面に合焦させて前記計測対象表面からの反射光を受光して前記計測対象表面の表面画像を取得する画像取得処理部と、
前記計測対象表面から反射する異なる方向からの反射光を、前記点光源及び前記撮像部を前記計測対象表面に対して平行移動した場合における前記計測対象表面上の１点からの反射光として前記反射分布特性を求める反射分布特性算出部と
を備えたことを特徴とする表面計測装置。

【請求項2】

前記点光源は、前記計測対象表面から前記所定距離離隔した位置であって前記撮像部に隣接した位置に固定配置されて前記計測対象表面に光を照射することを特徴とする請求項１に記載の表面計測装置。

【請求項3】

前記計測対象表面から前記撮像部及び前記点光源を前記所定距離離隔した位置に保持して前記計測対象表面上の計測空間を覆う保持部を備えたことを特徴とする請求項１又は２に記載の表面計測装置。

【請求項4】

前記保持部は、前記計測空間の外部からの光入射を遮断する機能を有することを特徴とする請求項３に記載の表面計測装置。

【請求項5】

前記計測対象表面上に形成される計測空間の表面のうち、前記計測対象表面、前記点光源の光照射口、及び、前記撮像部の撮像口以外の領域に、前記計測空間内の光の反射を防止する反射防止膜が設けられることを特徴とする請求項１～４のいずれか一つに記載の表面計測装置。

【請求項6】

前記反射分布特性算出部によって求められた反射分布特性を表示部に３次元グラフ表示する表示処理部を備えたことを特徴とする請求項１～５のいずれか一つに記載の表面計測装置。

【請求項7】

計測対象表面の反射分布特性を計測する表面計測方法であって、
前記計測対象表面から所定距離離隔した位置にレンズを固定配置して前記計測対象表面を撮像する撮像部と、前記計測対象表面から前記所定距離離隔した位置に固定配置されて前記計測対象表面に光を照射する点光源とを配置し、前記点光源から前記計測対象表面に光を照射し、前記撮像部を前記計測対象表面に合焦させて前記計測対象表面からの反射光を受光して前記計測対象表面の表面画像を取得する画像取得処理ステップと、
前記計測対象表面から反射する異なる方向からの反射光を、前記点光源及び前記撮像部を前記計測対象表面に対して平行移動した場合における前記計測対象表面上の１点からの反射光として前記反射分布特性を求める反射分布特性算出ステップと
を含むことを特徴とする表面計測方法。

【請求項8】

画像取得処理ステップは、前記点光源を、前記計測対象表面から前記所定距離離隔した位置であって前記撮像部に隣接した位置に固定配置し、前記点光源から前記計測対象表面に光を照射し、前記撮像部を前記計測対象表面に合焦させて前記計測対象表面からの反射光を受光して前記計測対象表面の表面画像を取得することを特徴とする請求項７に記載の表面計測装置。

【請求項9】

前記反射分布特性算出ステップによって求められた反射分布特性を３次元グラフ表示する表示処理ステップを含むことを特徴とする請求項７又は８に記載の表面計測方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、計測対象表面の反射分布特性の違いを簡易かつ短時間に計測することができる表面計測装置及び表面計測方法に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、プラスチック部品などの部品の表面や塗装面は、光学的異方性があると、明るさや色味が同じであっても、見栄えが悪くなる。この光学的異方性の評価は、一般に、複数もしくは可動するレーザや光センサを用いて部品表面や塗装面からの反射光の拡散方向や光量（反射特性）を計測することによって行っている。計測結果は、双方向反射率分布関数（ＢＲＤＦ：Bidirectional Reflectance Distribution Function）と呼ばれ、物体から周囲への反射光の放射分布特性として求める手法があり、コンピュータグラフィックス（ＣＧ）などの各種用途にも用いられる。

【0003】

評価対象物体のＢＲＤＦを計測する手法としては、光源や光センサを相互に動かしながら行う手法（特許文献１参照）、多数の光ファイバを用いる手法（特許文献２参照）、球頂点に魚眼カメラと球殻上に複数のスポット光源を設置して可動部を排する手法（特許文献３）などが提案されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特表平０８－５０１８８０号公報

【特許文献2】特開２０００－１８７０００号公報

【特許文献3】特開２０１３－０３２９５１号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

しかしながら、上記のＢＲＤＦの計測手法は装置構成が複雑であるとともに、反射光の放射分布特性の取得に多大な時間を要するという課題があった。一方、表面評価の内容によっては、詳細な反射分布特性まで必要とせず、表面の反射分布特性が異なるか否かの情報のみで有効な評価を行うことができる場合がある。

【0006】

本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであり、計測対象表面の反射分布特性の違いを簡易かつ短時間に計測することができる表面計測装置及び表面計測方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0007】

上述した課題を解決し、目的を達成するため、本発明は、計測対象表面の反射分布特性を計測する表面計測装置であって、前記計測対象表面から所定距離離隔した位置にレンズを固定配置して前記計測対象表面を撮像する撮像部と、前記計測対象表面から前記所定距離離隔した位置に固定配置されて前記計測対象表面に光を照射する点光源と、前記点光源から前記計測対象表面に光を照射し、前記撮像部を前記計測対象表面に合焦させて前記計測対象表面からの反射光を受光して前記計測対象表面の表面画像を取得する画像取得処理部と、前記計測対象表面から反射する異なる方向からの反射光を、前記点光源及び前記撮像部を前記計測対象表面に対して平行移動した場合における前記計測対象表面上の１点からの反射光として前記反射分布特性を求める反射分布特性算出部とを備えたことを特徴とする。

【0008】

また、本発明は、上記の発明において、前記点光源は、前記計測対象表面から前記所定距離離隔した位置であって前記撮像部に隣接した位置に固定配置されて前記計測対象表面に光を照射することを特徴とする。

【0009】

また、本発明は、上記の発明において、前記計測対象表面から前記撮像部及び前記点光源を前記所定距離離隔した位置に保持して前記計測対象表面上の計測空間を覆う保持部を備えたことを特徴とする。

【0010】

また、本発明は、上記の発明において、前記保持部は、前記計測空間の外部からの光入射を遮断する機能を有することを特徴とする。

【0011】

また、本発明は、上記の発明において、前記計測対象表面上に形成される計測空間の表面のうち、前記計測対象表面、前記点光源の光照射口、及び、前記撮像部の撮像口以外の領域に、前記計測空間内の光の反射を防止する反射防止膜が設けられることを特徴とする。

【0012】

また、本発明は、上記の発明において、前記反射分布特性算出部によって求められた反射分布特性を表示部に３次元グラフ表示する表示処理部を備えたことを特徴とする。

【0013】

また、本発明は、計測対象表面の反射分布特性を計測する表面計測方法であって、前記計測対象表面から所定距離離隔した位置にレンズを固定配置して前記計測対象表面を撮像する撮像部と、前記計測対象表面から前記所定距離離隔した位置に固定配置されて前記計測対象表面に光を照射する点光源とを配置し、前記点光源から前記計測対象表面に光を照射し、前記撮像部を前記計測対象表面に合焦させて前記計測対象表面からの反射光を受光して前記計測対象表面の表面画像を取得する画像取得処理ステップと、前記計測対象表面から反射する異なる方向からの反射光を、前記点光源及び前記撮像部を前記計測対象表面に対して平行移動した場合における前記計測対象表面上の１点からの反射光として前記反射分布特性を求める反射分布特性算出ステップとを含むことを特徴とする。

【0014】

また、本発明は、上記の発明において、画像取得処理ステップは、前記点光源を、前記計測対象表面から前記所定距離離隔した位置であって前記撮像部に隣接した位置に固定配置し、前記点光源から前記計測対象表面に光を照射し、前記撮像部を前記計測対象表面に合焦させて前記計測対象表面からの反射光を受光して前記計測対象表面の表面画像を取得することを特徴とする。

【0015】

また、本発明は、上記の発明において、前記反射分布特性算出ステップによって求められた反射分布特性を３次元グラフ表示する表示処理ステップを含むことを特徴とする。

【発明の効果】

【0016】

本発明によれば、計測対象表面の反射分布特性の違いを簡易かつ短時間に計測することができる。

【図面の簡単な説明】

【0017】

【図1】図１は、本実施の形態に係る表面計測装置の構成を示す模式図である。

【図2】図２は、反射分布特性計測の原理を説明する説明図である。

【図3】図３は、計測対象表面を１つの測定点とした場合における入射角と反射角との反射分布特性のマトリックスを示す図である。

【図4】図４は、入反射角θと入反射角φとの関係を示す図である。

【図5】図５は、表面画像上の入反射角θと入反射角φとの位置関係を示す図である。

【図6】図６は、入反射角φが１２０°のときの入反射角θの入反射特性のマトリックスの一例を示す図である。

【図7】図７は、入反射角φを変化させたときの入反射角θの反射分布特性の一例を示す図である。

【図8】図８は、制御部による反射分布特性計測処理手順を示すフローチャートである。

【発明を実施するための形態】

【0018】

以下、添付図面を参照して、本実施の形態に係る表面計測装置及び表面計測方法について説明する。

【0019】

＜概要構成＞
図１は、本実施の形態に係る表面計測装置１の構成を示す模式図である。図１に示すように、表面計測装置１は、部品などの物体１００の計測対象表面Ｓの反射分布特性の違いを簡易かつ短時間に計測するものであり、計測部１０及び計測処理装置２０を有する。なお、物体１００は、樹脂射出成型された部品であるが、これに限らない。

【0020】

計測部１０は、物体１００の計測対象表面Ｓ上に配置されるものであり、計測対象表面Ｓから所定距離ｈ離隔した位置にレンズ１２ａを固定配置して計測対象表面Ｓを撮像する撮像部１２と、計測対象表面Ｓから所定距離ｈ離隔した位置であって撮像部１２に隣接した位置に固定配置されて計測対象表面Ｓに光を照射する点光源１１とを有する。撮像部１２は、広角カメラであり、実質的に同一の反射分布特性を有するとみなせる狭いエリアの計測対象表面Ｓを近距離で撮像する。点光源１１は、計測対象表面Ｓに対して同一強度の光を照射する。

【0021】

点光源１１及び撮像部１２は、保持部１３に取り付けられる。保持部１３は、有底筒状体をなし、開口部側が物体１００に向けられ、開口部に計測対象表面Ｓが内側に向けて露出する。この状態で、点光源１１及び撮像部１２のレンズ１２ａは、計測対象表面Ｓから所定距離ｈの高さ位置となり、点光源１１と撮像部１２とが隣接配置されるように配置される。なお、点光源１１は、撮像部１２に対して隣接配置されず、レンズ１２ａを通り計測対象表面Ｓに平行な平面上においてレンズ１２ａから一定距離離れた位置に配置してもよい。

【0022】

保持部１３内の点光源１１及びレンズ１２ａと、計測対象表面Ｓとの間には、計測空間Ｅが形成される。点光源１１は、この計測空間Ｅに光を照射し、撮像部１２は、計測対象表面Ｓから反射された光を受光して計測対象表面Ｓの表面画像を撮像する。

【0023】

保持部１３は、計測空間Ｅの外部からの光入射を遮断する機能を有する。また、計測空間Ｅの上面及び側面には、反射防止膜１４が配置される。反射防止膜１４は、点光源１１の光照射口及び撮像部１２の撮像口には設けられない。また、反射防止膜１４は、計測対象表面Ｓにも設けられない。これにより、計測空間Ｅには、ノイズとなる外来光は入射されない。また、撮像部１２は、計測対象表面Ｓで反射した反射光、例えば正反射光Ｌ１０，Ｌ１１の再反射光を受光することがなく、計測対象表面Ｓからの直接反射光、例えば反射光ＬＡ，ＬＢ，ＬＣを受光することができる。なお、反射防止膜１４に限らず、反射防止壁や反射シートなどの反射防止機能を有する反射防止手段であってもよい。また、保持部１３を設けず、所定距離ｈを計測するレーザ測距機などの測距部を設け、隣接配置された点光源１１及び撮像部１２によって反射分布特性を計測してもよい。これは、反射分布特性を得るための表面画像の取得が1回の撮像のみで瞬時に終わるからである。

【0024】

計測処理装置２０は、入力部２１、表示部２２、記憶部２３及び制御部２４を有する。入力部２１は、マウスやキーボードなどの入力インタフェースである。表示部２２は、各種情報を表示する液晶ディスプレイなどの表示インタフェースである。記憶部２３は、ハードディスク装置や不揮発性メモリなどの記憶デバイスである。

【0025】

制御部２４は、計測処理装置２０の全体を制御する制御部であり、画像取得処理部２４ａ、反射分布特性算出部２４ｂ及び表示処理部２４ｃを有する。制御部２４は、これらの機能部に対応するプログラムを不揮発性メモリや磁気ディスク装置などの記憶装置に記憶しておき、これらのプログラムをメモリにロードして、ＣＰＵで実行することで、対応するプロセスを実行させることになる。

【0026】

画像取得処理部２４ａは、点光源１１及び撮像部１２を制御して、点光源１１から計測対象表面Ｓに光を照射し、撮像部１２を計測対象表面Ｓに合焦させて計測対象表面Ｓからの反射光を受光して計測対象表面Ｓの表面画像を取得する。なお、撮像部１２の合焦時は、レンズ１２ａと撮像素子１２ｂとの間の距離が焦点距離となる。

【0027】

反射分布特性算出部２４ｂは、計測対象表面Ｓから反射する異なる方向からの反射光を、点光源１１及び撮像部１２を計測対象表面Ｓに対して平行移動した場合における計測対象表面Ｓ上の１点からの反射光として反射分布特性を求める。これは、前提として、計測対象表面Ｓ上のどの位置であっても反射分布特性が同じであるからであり、詳細については後述する。

【0028】

表示処理部２４ｃは、反射分布特性算出部２４ｂによって算出された反射分布特性を表示部２２に３次元グラフ表示する。なお、３次元グラフ表示に限らず、２次元グラフ表示であってもよい。

【0029】

＜反射分布特性計測の原理＞
図２は、反射分布特性計測の原理を説明する説明図である。図２（ａ）に示すように点光源１１から照射された拡散光は、例えば計測対象表面Ｓ上の測定点ＰＡ，ＰＢ，ＰＣに入射される。そして例えば、測定点ＰＡに入射した光は、大部分が正反射光Ｌ１０として反射し、一部は、拡散光として測定点ＰＡから様々な方向に拡散する。

【0030】

ここで、撮像部１２は、計測対象表面Ｓに合焦すると、測定点ＰＡから撮像部１２に向かう反射光ＬＡは、撮像素子１２ｂ上の１画素として結像する。同様に測定点ＰＢ，ＰＣから撮像部１２に向かう反射光ＬＢ，ＬＣも、それぞれ撮像素子１２ｂ上の１画素として結像する。そして、撮像素子１２ｂ上における反射光ＬＡ，ＬＢ、ＬＣの結像位置は、測定点ＰＡ，ＰＢ，ＰＣの位置にそれぞれ一意に対応する。なお、各画素の画素値は、反射光の光量を示し、この画素値を用いて一定光量の入射光に対する反射率を算出することができる。

【0031】

測定点ＰＡから撮像部１２に向かう反射光ＬＡは、測定点ＰＡに入射角θｉで入射し、反射角θｒで反射した光であり、反射角θｒは、レンズ１２ａと撮像素子１２ｂとの間の焦点距離と、撮像素子１２ｂ上における光軸から、反射光ＬＡの結像位置までの距離とをもとに求めることができる。反射光ＬＢ，ＬＣの反射角も同様にして求めることができる。ここで、点光源１１及び撮像部１２が隣接配置されているため、入射角θｉと反射角θｒとは実質的に同一となる。すなわち、測定点ＰＡ，ＰＢ，ＰＣの入反射光対Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３の入射角θｉは、それぞれ反射光ＬＡ，ＬＢ，ＬＣの反射角θｒと実質的に同じとなる。

【0032】

ここで、図２（ｂ）に示すように、入反射光対Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３は、計測対象表面Ｓの１つの測定点Ｐに対し、点光源１１及び撮像部１２を計測対象表面Ｓに対して平行移動して計測対象表面Ｓ上の１つの測定点に対するものと同じ入射角θｉ及び反射角θｒとなる。本実施の形態では、測定点ＰＡ，ＰＢ，ＰＣが計測対象表面Ｓ上の異なる位置であるが、計測対象表面Ｓ全体の反射分布特性は、計測対象表面Ｓの位置（Ｘ，Ｙ）に依らず、一様であることを前提としている。これは、計測対象表面Ｓのエリアをきわめて小さくすると、計測対象表面Ｓの反射分布特性は一様に近似していると言えるからである。したがって、本実施の形態では、点光源１１及び撮像部１２を平行移動せずとも、点光源１１及び撮像部１２を平行移動して得られる反射分布特性を計測することができる。

【0033】

図３は、計測対象表面Ｓを１つの測定点とした場合における入射角θｉと反射角θｒとの反射分布特性のマトリックスを示す図である。図３に示すように、測定点ＰＡは、入射角θｉ及び反射角θｒが３０°であり、反射率ＤＡとしてマトリックス上に記録される。同様に測定点ＰＢは、入射角θｉ及び反射角θｒが０°であり、反射率ＤＢとしてマトリックス上に記録される。同様に測定点ＰＣは、入射角θｉ及び反射角θｒが－３０°であり、反射率ＤＣとしてマトリックス上に記録される。なお、反射角θｒは、マイナスで示しているが、入射角と反射角とは同じ角度である。したがって、本実施の形態では、マトリックスの入射角θｉと反射角θｒと同じ対角線上の反射率が得られる粗の反射分布特性が得られる。

【0034】

図４に示すように、実際の入射角と反射角は、３次元角であり、図２におけるＹＺ平面に限るものではなく、Ｚ軸回りの角度成分を有し、ＢＲＤＦでは、入射角θｉと反射角θｒ、及び、入射角φｉと反射角φｒの４つの平面角を用いて定義される。そして、入射角φｉ及び反射角φｒは、入射角θｉ及び反射角θｒと同様に求めることができる。本実施の形態では、入射角と反射角とが同一という制限があるものの、入射角θｉ、反射角θｒ、入射角φｉ、反射角φｒのすべてを求めることができる。なお、点光源１１が撮像部１２に対して隣接配置されず、レンズ１２ａを通り計測対象表面Ｓに平行な平面（ＸＹ平面）上においてレンズ１２ａから一定距離離れた位置に配置した場合、図３のマトリクス上において入射角と反射角とが異なる領域の値を求めることができる。

【0035】

図５に示すように、表面画像Ｄにおける反射角φｒの反射光の画素位置は、光軸を中心にφ（φｒ）回転した位置に、反射率ＤＡ，ＤＢ，ＤＣと同様に反射率ＤＡ´，ＤＢ´，ＤＣ´が求められる。すなわち、入反射角φが変化した入反射角θの反射率を求めることができる。

【0036】

一般に、ＢＲＤＦは、６次元（位置Ｘ、位置Ｙ，入射角θｉ，入射角φｉ，反射角θｒ，反射角φｒ）のパラメータをもつが、本実施の形態では、位置Ｘ，Ｙが位置に依らず一定であり、入射角と反射角とが等しいため、入反射角θと入反射角φの２次元のパラメータとなり、簡易かつ短時間で反射分布特性を得ることができる。そして、この反射分布特性を用いて、計測対象表面の反射分布特性の違いを簡易かつ短時間に計測することができる。

【0037】

＜反射分布特性の一例＞
図６は、入反射角φが１２０°のときの入反射角θの入反射特性を示すマトリックスの一例である。本実施の形態では、対角線上の反射率が求められる。図７は、入反射角φを変化させたときの入反射角θの反射分布特性の一例を示す図である。なお、入反射角θ、入反射角φ、反射率の円筒座標系でグラフ化してもよい。図７に示すように、本実施の形態では、複雑な多次元の反射分布特性を、１つの３次元グラフとしてまとめることができるので、反射分布特性の違いを容易に判定することができる。

【0038】

＜反射分布特性計測処理＞
図８は、制御部２４による反射分布特性計測処理手順を示すフローチャートである。図８に示すように、まず、制御部２４は、計測対象表面Ｓへの計測部１０の配置を確認し（ステップＳ１１０）、点光源１１を点灯する（ステップＳ１２０）。その後、撮像部１２が計測対象表面Ｓに合焦し（ステップＳ１３０）、表面画像Ｄを取得する（ステップＳ１４０）。その後、点光源１１を消灯し（ステップＳ１５０）、表面画像Ｄの各画素の平面角である入反射角θ及び入反射角φ、及び、反射率を算出して（ステップＳ１６０）、反射分布特性を得る。そして、この反射分布特性を３次元グラフ表示して（ステップＳ１７０）、本処理を終了する。

【0039】

なお、上記の実施の形態で図示した各構成は機能概略的なものであり、必ずしも物理的に図示の構成をされていることを要しない。すなわち、各装置の分散・統合の形態は図示のものに限られず、その全部又は一部を各種の負荷や使用状況などに応じて、任意の単位で機能的又は物理的に分散・統合して構成することができる。

【産業上の利用可能性】

【0040】

本発明の表面計測装置及び表面計測方法は、計測対象表面の反射分布特性の違いを簡易かつ短時間に計測する場合に有用である。

【符号の説明】

【0041】

１ 表面計測装置
１０ 計測部
１１ 点光源
１２ 撮像部
１２ａ レンズ
１２ｂ 撮像素子
１３ 保持部
１４ 反射防止膜
２０ 計測処理装置
２１ 入力部
２２ 表示部
２３ 記憶部
２４ 制御部
２４ａ 画像取得処理部
２４ｂ 反射分布特性算出部
２４ｃ 表示処理部
１００ 物体
Ｄ 表面画像
ＤＡ，ＤＢ，ＤＣ，ＤＡ´，ＤＢ´，ＤＣ´ 反射率
Ｅ 計測空間
ｈ 所定距離
Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３ 入反射光対
Ｌ１０，Ｌ１１ 正反射光
ＬＡ，ＬＢ，ＬＣ 反射光
Ｐ，ＰＡ，ＰＢ，ＰＣ 測定点
Ｓ 計測対象表面
Ｘ，Ｙ 位置
θ，φ 入反射角
θｉ，φｒ 入射角
θｒ，φｒ 反射角

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】