知財求人 - 知財ポータルサイト「IP Force」
特開2023-57570疎水基を有するアルキレンオキシド重合体、組成物、その製造方法、及び、洗剤組成物
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】P2023057570
(43)【公開日】2023-04-24
(54)【発明の名称】疎水基を有するアルキレンオキシド重合体、組成物、その製造方法、及び、洗剤組成物
(51)【国際特許分類】
C08G 65/26 20060101AFI20230417BHJP
C11D 1/72 20060101ALI20230417BHJP
C11D 1/722 20060101ALI20230417BHJP
【ＦＩ】
C08G65/26
C11D1/72
C11D1/722
【審査請求】未請求
【請求項の数】5
【出願形態】ＯＬ
(21)【出願番号】P 2021167103
(22)【出願日】2021-10-12
(71)【出願人】
【識別番号】000004628
【氏名又は名称】株式会社日本触媒
(72)【発明者】
【氏名】山本 一裕
【テーマコード（参考）】
4H003
4J005
【Ｆターム（参考）】
4H003AC06
4H003DA01
4H003FA04
4H003FA06
4J005AA04
4J005AA11
4J005AA12
4J005BB01
4J005BB02
(57)【要約】
【課題】
洗浄度、もしくは、再汚染防止能が優れる疎水基を有するアルキレンオキシド重合体、当該重合体を含む組成物、その製造方法、当該化合物を含有する洗剤組成物を提供する。
【解決手段】
芳香環を含む炭素数６～２０の炭化水素基、及び、炭素数１～３０の炭化水素基による二種類の疎水基を有し、ポリアルキレンオキシドに由来する構造単位を有するアルキレンオキシド重合体である。
【選択図】なし
洗浄度、もしくは、再汚染防止能が優れる疎水基を有するアルキレンオキシド重合体、当該重合体を含む組成物、その製造方法、当該化合物を含有する洗剤組成物を提供する。
【解決手段】
芳香環を含む炭素数６～２０の炭化水素基、及び、炭素数１～３０の炭化水素基による二種類の疎水基を有し、ポリアルキレンオキシドに由来する構造単位を有するアルキレンオキシド重合体である。
【選択図】なし
【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記一般式（１）で表される疎水基を有するアルキレンオキシド重合体。
（一般式（１）中、
Ａｒは芳香環を含む炭素数６～２０の炭化水素基であり、
Ｒ１は炭素数１～３０の炭化水素基を表し、
Ｒ２は炭素数２～６の炭化水素基を表し、
Ｒ３は水素原子または炭素数１～３０の炭化水素基を表す。
Ｘ１，Ｘ２は、同一または異なって、直接結合、酸素原子または硫黄原子を表す。
但し、Ｘ１基，Ｘ２基は、同時に直接結合になることはない。
Ｙ１，Ｙ２は、同一または異なって、直接結合またはメチレン基を表す。
但し、Ｙ１基，Ｙ２基は、同時に直接結合になることはない。
ｎは１～２００の整数である。）
【化1】
Ａｒは芳香環を含む炭素数６～２０の炭化水素基であり、
Ｒ１は炭素数１～３０の炭化水素基を表し、
Ｒ２は炭素数２～６の炭化水素基を表し、
Ｒ３は水素原子または炭素数１～３０の炭化水素基を表す。
Ｘ１，Ｘ２は、同一または異なって、直接結合、酸素原子または硫黄原子を表す。
但し、Ｘ１基，Ｘ２基は、同時に直接結合になることはない。
Ｙ１，Ｙ２は、同一または異なって、直接結合またはメチレン基を表す。
但し、Ｙ１基，Ｙ２基は、同時に直接結合になることはない。
ｎは１～２００の整数である。）
【請求項2】
下記一般式（１）で表される疎水基を有するアルキレンオキシド重合体、及び、
（一般式（１）中、
Ａｒは芳香環を含む炭素数６～２０の炭化水素基であり、
Ｒ１は炭素数１～３０の炭化水素基を表し、
Ｒ２は炭素数２～６の炭化水素基を表し、
Ｒ３は水素原子または炭素数１～３０の炭化水素基を表す。
Ｘ１，Ｘ２は、同一または異なって、直接結合、酸素原子または硫黄原子を表す。
但し、Ｘ１基，Ｘ２基は、同時に直接結合になることはない。
Ｙ１，Ｙ２は、同一または異なって、直接結合またはメチレン基を表す。
但し、Ｙ１基，Ｙ２基は、同時に直接結合になることはない。
ｎは１～２００の整数である。）
下記一般式（２）で表されるアルキレンオキシド化合物を含む
（一般式（２）中、
Ｒ２は炭素数２～６の炭化水素基を表し、
Ｒ4は水素原子、Ａｒ、または、炭素数１～３０の炭化水素基を表す。
ｎは１～２００の整数である。）
組成物。
【化2】
Ａｒは芳香環を含む炭素数６～２０の炭化水素基であり、
Ｒ１は炭素数１～３０の炭化水素基を表し、
Ｒ２は炭素数２～６の炭化水素基を表し、
Ｒ３は水素原子または炭素数１～３０の炭化水素基を表す。
Ｘ１，Ｘ２は、同一または異なって、直接結合、酸素原子または硫黄原子を表す。
但し、Ｘ１基，Ｘ２基は、同時に直接結合になることはない。
Ｙ１，Ｙ２は、同一または異なって、直接結合またはメチレン基を表す。
但し、Ｙ１基，Ｙ２基は、同時に直接結合になることはない。
ｎは１～２００の整数である。）
下記一般式（２）で表されるアルキレンオキシド化合物を含む
【化3】
Ｒ２は炭素数２～６の炭化水素基を表し、
Ｒ4は水素原子、Ａｒ、または、炭素数１～３０の炭化水素基を表す。
ｎは１～２００の整数である。）
組成物。
【請求項3】
前記一般式（２）で表されるアルキレンオキシド化合物が、
組成物の総量を１００質量％とした場合に、１～２０質量％含む
請求項２に記載の組成物。
組成物の総量を１００質量％とした場合に、１～２０質量％含む
請求項２に記載の組成物。
【請求項4】
請求項２に記載の組成物の製造方法。
【請求項5】
請求項１に記載の疎水基を有するアルキレンオキシド重合体を含む洗剤組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本開示は、洗浄度、もしくは、再汚染防止能が優れる疎水基を有するアルキレンオキシド重合体、当該重合体を含む組成物、その製造方法、当該化合物を含有する洗剤組成物に関するものである。
【背景技術】
【0002】
従来、高級アルコールやベンジルアルコール等の疎水基を有するアルコールにエチレンオキシド等のアルキレンオキシドを付加反応させて得られる疎水基含有アルキレンオキシドが、各種の洗剤組成物に有用であることが知られている。
【0003】
例えば、特許文献１では、炭素数１～２４であって、ヒドロキシル基またはカルボキシル基１個を含む有機化合物にスチレンオキサイドを付加重合させ、更に、その化合物１モルに対して１～４５モルの割合で低級アルキレンオキサイドを付加重合させた界面活性剤の製造方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特公昭４９－４９１９８
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
ところで、本願発明者らは、これまでの検討により、疎水基を有するポリアルキレンオキシド重合体を洗剤組成物に用いることで、再汚染防止能が向上することを見出してきた。
【0006】
しかしながら、特許文献１に記載の炭素数１～２４であって、ヒドロキシル基またはカルボキシル基１個を含む有機化合物にスチレンオキサイドを付加重合させ、更に、その化合物１モルに対して１～４５モルの割合で低級アルキレンオキサイドを付加重合させた界面活性剤は、洗浄度や再汚染防止能に改良の余地があるという課題があった。
【0007】
本開示は欺かる点に鑑みてなされたものであり、洗浄度、もしくは、再汚染防止能が優れる疎水基を有するアルキレンオキシド重合体、当該重合体を含む組成物、その製造方法、当該化合物を含有する洗剤組成物を提供する。
【課題を解決するための手段】
【0008】
すなわち、本開示の疎水基を有するアルキレンオキシド重合体は、芳香環を含む炭素数６～２０の炭化水素基、及び、炭素数１～３０の炭化水素基による二種類の疎水基を有し、ポリアルキレンオキシドに由来する構造単位を有するアルキレンオキシド重合体である。
【発明の効果】
【0009】
本開示によれば、洗浄度、もしくは、再汚染防止能が優れる疎水基を有するアルキレンオキシド重合体、当該重合体を含む組成物、その製造方法、当該化合物を含有する洗剤組成物を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【0010】
以下、本開示の実施形態を詳細に説明する。以下の好ましい実施形態の説明は、本質的に例示に過ぎず、本開示、その適用物或いはその用途を制限することを意図するものでは全くない。
【0011】
なお、これ以降の説明において特に記載がない限り、「％」は「質量％」を、「部」は「質量部」を、それぞれ意味し、範囲を示す「Ａ～Ｂ」は、Ａ以上Ｂ以下であることを示す。また、本開示において、「（メタ）アクリレ－ト」は、「アクリレ－ト」または「メタクリレ－ト」を意味し、「（メタ）アクリル」は、「アクリル」または「メタクリル」を意味する。
【0012】
〔本開示の疎水基を有するアルキレンオキシド重合体〕
本開示の疎水基を有するアルキレンオキシド重合体は、下記一般式（１）で表すことができる。
本開示の疎水基を有するアルキレンオキシド重合体は、下記一般式（１）で表すことができる。
【0013】
【化1】
Ａｒは芳香環を含む炭素数６～２０の炭化水素基であり、
Ｒ１は炭素数１～３０の炭化水素基を表し、
Ｒ２は炭素数２～６の炭化水素基を表し、
Ｒ３は水素原子または炭素数１～３０の炭化水素基を表す。
Ｘ１，Ｘ２は、同一または異なって、直接結合、酸素原子または硫黄原子を表す。
但し、Ｘ１基，Ｘ２基は、同時に直接結合になることはない。
Ｙ１，Ｙ２は、同一または異なって、直接結合またはメチレン基を表す。
但し、Ｙ１基，Ｙ２基は、同時に直接結合になることはない。
ｎは１～２００の整数である。）
【0014】
一般式（１）中のＡｒ基は、芳香環を含む炭素数６～２０の炭化水素基であれば特に限定はない。芳香環は、一つあるいは、複数有してもよい。例えば、ベンゼン、ナフタレン、ビフェニル、アントラセン等の芳香環を有してもよい。これらの無置換、及び／又は、置換基を有した構造であってもよい。置換基は、炭素数１～１４の飽和、及び／又は、不飽和の炭化水素基であってもよい。また、鎖状、及び／又は、分岐状の炭化水素基であってもよい。更に、一部が、ハロゲン等により置換されていてもよい。
Ａｒ基は、芳香環を含む炭素数６～１２の炭化水素基であることが好ましく、より好ましくは炭素数６の炭化水素基である。
あるいは、別の表現として、ナフチル基、フェニル基であることが好ましい。より好ましくは、フェニル基である。
Ａｒ基は、芳香環を含む炭素数６～１２の炭化水素基であることが好ましく、より好ましくは炭素数６の炭化水素基である。
あるいは、別の表現として、ナフチル基、フェニル基であることが好ましい。より好ましくは、フェニル基である。
【0015】
一般式（１）中のＲ１基は、炭素数１～３０の炭化水素基であれば、特に限定はない。Ｒ１基は、飽和、及び／又は、不飽和の炭化水素基であってもよい。また、鎖状、及び／又は、分岐状の炭化水素基であってもよい。更に、一部が、ハロゲン等により置換されていてもよい。
Ｒ１基としては、より好ましくは、炭素数６～２４の炭化水素基であり、更に好ましくは、炭素数８～１６の炭化水素基であり、最も好ましくは、炭素数１０～１４の炭化水素基である。
具体的には、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基などが挙げられる。また、アルケニル基としては、例えば、ヘプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ウンデシレン基、ドデシレン基、トリデシレン基、テトラデシレン基、ペンタデシレン基、ヘキサデシレン基、ヘプタデシレン基、オクタデシレン基、ノナデシレン基、イコシレン基などが挙げられる。なかでも、Ｒ１は、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基であることが好ましく、ドデシル基であることがより好ましい。
Ｒ１基としては、より好ましくは、炭素数６～２４の炭化水素基であり、更に好ましくは、炭素数８～１６の炭化水素基であり、最も好ましくは、炭素数１０～１４の炭化水素基である。
具体的には、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基などが挙げられる。また、アルケニル基としては、例えば、ヘプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ウンデシレン基、ドデシレン基、トリデシレン基、テトラデシレン基、ペンタデシレン基、ヘキサデシレン基、ヘプタデシレン基、オクタデシレン基、ノナデシレン基、イコシレン基などが挙げられる。なかでも、Ｒ１は、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基であることが好ましく、ドデシル基であることがより好ましい。
【0016】
一般式（１）中のＲ２基は、炭素数２～６の炭化水素基であれば、特に限定はない。Ｒ２基は、鎖状、及び／又は、分岐状の炭化水素基であってもよい。より好ましくは、炭素数２～４の炭化水素基であり、更に、好ましくは炭素数２～３の炭化水素基であり、最も好ましくは炭素数２の炭化水素基である。
具体的には、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等が挙げられる。中でも、エチレン基、プロピレン基から選ばれる１種以上であると、本開示の疎水基を有するアルキレンオキシド重合体に親水性を付与できるために好ましい。
同様に、本開示の疎水基を有するアルキレンオキシド重合体に親水性を付与する観点から、Ｒ２基は、炭素数２の炭化水素基であるエチレン基であることが更に好ましい。
具体的には、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等が挙げられる。中でも、エチレン基、プロピレン基から選ばれる１種以上であると、本開示の疎水基を有するアルキレンオキシド重合体に親水性を付与できるために好ましい。
同様に、本開示の疎水基を有するアルキレンオキシド重合体に親水性を付与する観点から、Ｒ２基は、炭素数２の炭化水素基であるエチレン基であることが更に好ましい。
【0017】
一般式（１）中のＲ３基は、水素原子または炭素数１～３０の炭化水素基であれば、特に限定はない。
Ｒ３基が、炭化水素基である場合、飽和、及び／又は、不飽和の炭化水素基であってもよい。また、鎖状、及び／又は、分岐状の炭化水素基であってもよい。更に、一部が、ハロゲン等により置換されていてもよい。
具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基等の直鎖状アルキル基；イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ネオペンチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、テキシル基、２－エチルヘキシル基等の分岐状アルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の環状アルキル基等が挙げられる。
Ｒ３基としては、より好ましくは、水素原子、炭素数１～４の炭化水素基から選ばれる１種以上であることが好ましい。更に、好ましくは、水素原子、及び／又は、メチル基であることが好ましい。
Ｒ３基が、炭化水素基である場合、飽和、及び／又は、不飽和の炭化水素基であってもよい。また、鎖状、及び／又は、分岐状の炭化水素基であってもよい。更に、一部が、ハロゲン等により置換されていてもよい。
具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基等の直鎖状アルキル基；イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ネオペンチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、テキシル基、２－エチルヘキシル基等の分岐状アルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の環状アルキル基等が挙げられる。
Ｒ３基としては、より好ましくは、水素原子、炭素数１～４の炭化水素基から選ばれる１種以上であることが好ましい。更に、好ましくは、水素原子、及び／又は、メチル基であることが好ましい。
【0018】
一般式（１）中のＸ１基，Ｘ２基、同一または異なって、直接結合、酸素原子または硫黄原子であれば、特に限定はない。但し、Ｘ１基，Ｘ２基は、同時に直接結合になることはない。Ｘ１基，Ｘ２基は、好ましくは、それぞれ、酸素原子と直接結合の組み合わせである。
【0019】
一般式（１）中のＹ１基，Ｙ２基、同一または異なって、直接結合またはメチレン基であれば特に限定はない。但し、Ｙ１基，Ｙ２基は、同時に直接結合になることはない。
【0020】
一般式（１）中のＸ１基，Ｙ１基、Ｙ２基、Ｘ２基が、それぞれ、酸素原子、メチレン基、直接結合、直接結合である場合、下記一般式（１－１）で表すことができる。
【0021】
【化2】
【0022】
また、一般式（１）中のＸ１基，Ｙ１基、Ｙ２基、Ｘ２基が、それぞれ、酸素原子、メチレン基、メチレン基、酸素原子である場合、下記一般式（１－２）で表すことができる。
【0023】
【化3】
【0024】
また、一般式（１）中のＸ１基，Ｙ１基、Ｙ２基、Ｘ２基が、それぞれ、直接結合、直接結合、メチレン基、酸素原子である場合、下記一般式（１－３）で表すことができる。
【0025】
【化4】
【0026】
一般式（１）中のｎは１～２００の整数であれば特に限定はない。好ましくは、１～１００であり、更に好ましくは１～５０である。
本開示の疎水基を有するアルキレンオキシド重合体の洗浄度、もしくは、再汚染防止能を確保する観点から、前述の範囲であることが好ましい。
本開示の疎水基を有するアルキレンオキシド重合体の洗浄度、もしくは、再汚染防止能を確保する観点から、前述の範囲であることが好ましい。
【0027】
本開示のポリアルキレンオキシド含有化合物の理論分子量は、３００～１５，０００であれば限定はない。好ましくは３００～８,０００であり、より好ましくは５，０００～２００，００００である。疎水基を有するアルキレンオキシド重合体の洗浄度、もしくは、再汚染防止能を確保する観点から、前述の範囲であることが好ましい。
【0028】
〔本開示の組成物〕
前記一般式（１）で表される疎水基を有するアルキレンオキシド重合体、及び、
下記一般式（２）で表されるアルキレンオキシド化合物を含む、組成物であってもよい。
前記一般式（１）で表される疎水基を有するアルキレンオキシド重合体、及び、
下記一般式（２）で表されるアルキレンオキシド化合物を含む、組成物であってもよい。
【0029】
【化5】
Ｒ２は炭素数２～６の炭化水素基を表し、
Ｒ4は水素原子、Ａｒ、または、炭素数１～３０の炭化水素基を表す。
ｎは１～２００の整数である。
【0030】
前記一般式（２）中のＲ２基、ｎは、前記一般式（１）と同一である。
また、前記一般式（２）中のＲ４基は、Ａｒ、または、炭素数１～３０の炭化水素基を表す。Ａｒは、前記一般式（１）中のＡｒ基と同一である。
更に、炭素数１～３０の炭化水素基とは、前記一般式（１）中のＲ１基と同一である。
また、前記一般式（２）中のＲ４基は、Ａｒ、または、炭素数１～３０の炭化水素基を表す。Ａｒは、前記一般式（１）中のＡｒ基と同一である。
更に、炭素数１～３０の炭化水素基とは、前記一般式（１）中のＲ１基と同一である。
【0031】
前記一般式（２）で表されるアルキレンオキシド化合物が、本開示の組成物に含まれる場合、後述する製造方法（Ｉ）～（ＩＩＩ）により、副生成物として含まれる前記一般式（２）で表されるアルキレンオキシド化合物の構造が異なる。構造が異なる置換基は、前記一般式（２）中のＲ４基である。
具体的には、後述する製造方法（Ｉ）、及び、製造方法（ＩＩ）の場合、Ｒ４基は、水素原子、または、Ａｒ基となる。また、製造方法（ＩＩＩ）の場合、炭素数１～３０の炭化水素基となる。
具体的には、後述する製造方法（Ｉ）、及び、製造方法（ＩＩ）の場合、Ｒ４基は、水素原子、または、Ａｒ基となる。また、製造方法（ＩＩＩ）の場合、炭素数１～３０の炭化水素基となる。
【0032】
本開示の組成物には、前記一般式（２）で表されるアルキレンオキシド化合物が、組成物の総量を１００質量％とした場合に、２０質量％以下含んでもよい。好ましくは１０質量％以下であり、より好ましくは４質量％である。
前記一般式（２）で表されるアルキレンオキシド化合物は、０質量％でも問題ないが、通常、０．１質量％以上含まれる。あるいは、０．５質量％以上含まれる。
前記一般式（２）で表されるアルキレンオキシド化合物は、本開示の疎水基を有するアルキレンオキシド重合体を製造する際、後述する通り、未反応物として含まれることがある。
前記一般式（２）で表されるアルキレンオキシド化合物は、０質量％でも問題ないが、通常、０．１質量％以上含まれる。あるいは、０．５質量％以上含まれる。
前記一般式（２）で表されるアルキレンオキシド化合物は、本開示の疎水基を有するアルキレンオキシド重合体を製造する際、後述する通り、未反応物として含まれることがある。
【0033】
〔本開示の製造方法〕
本開示の疎水基を有するアルキレンオキシド重合体の製造方法（Ｉ）としては、芳香環を有するアルコール化合物に下記一般式（３）で表されるエポキシ化合物を付加反応させた後、付加反応で生成した水酸基に、アルキレンオキシド化合物を付加反応させることで製造することができる。
本開示の疎水基を有するアルキレンオキシド重合体の製造方法（Ｉ）としては、芳香環を有するアルコール化合物に下記一般式（３）で表されるエポキシ化合物を付加反応させた後、付加反応で生成した水酸基に、アルキレンオキシド化合物を付加反応させることで製造することができる。
【0034】
【化6】
【0035】
前記芳香族アルコールの具体例としては、フェノール、ｐ－クロロフェノール、２，３，５－トリクロロフェノール、ペンタクロロフェノール、ペンタブロモフェノール、ｐ－ブロモフェノール、ｏ－メトキシフェノール、ｐ－メトキシフェノール、ｐ－ベンジルフェノール、ｐ－フェノキシフェノール、ｏ－フェニルフェノール、ｐ－フェニルフェノール、ｐ－エトキシフェノール、ｏ－ブトキシフェノール、ｐ－エチルフェノール、ｍ－エチルフェノール、ｏ－エチルフェノール、ｐ－ブチルフェノール、ｐ－ノニルフェノール、ｐ－シクロヘキシルフェノール、デシルフェノール、ｐ－ニトロフェノール、ｐ－シアノフェノール、ｐ－クレゾール、ｏ－クレゾール、キシレノール、ジエチルフェノール、トリメチルフェノール、カテコール、ジヒドロキシビフェニル、レゾルシノール、ハイドロキノン、フロログルシノール、α－ナフトール、β－ナフトール、ジヒドロキシナフタレン、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ等のフェノール類；ベンジルアルコール、ｍ－、ｐ－ニトロベンジルアルコール、ｏ－、ｍ－、ｐ－メチルベンジルアルコール、ｍ－ヒドロキシベンジルアルコール、ｐ－エチルベンジルアルコール、２，４－、３，４－、３，５－ジメチルベンジルアルコールを基質として利用しそれぞれのアルデヒド体を合成したが、ｏ－ニトロベンジルアルコール、ｏ－、ｐ－ヒドロキシベンジルアルコール、２，５－ジメチルベンジルアルコール等のベンジルアルコール類；等が挙げられる。
好ましくはベンジルアルコール類であり、より好ましくはベンジルアルコールである。
好ましくはベンジルアルコール類であり、より好ましくはベンジルアルコールである。
【0036】
前記一般式（３）で表されるエポキシ化合物の具体例としては、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド、ブチレンオキシド、１，２－エポキシヘキサン、１，２－エポキシヘプタン、１，２－エポキシオクタン、１，２－エポキシノナン、１，２－エポキシデカン、１，２－エポキシウンデカン、１，２－エポキシドデカン、１，２－エポキシテトラデカン、１，２－エポキシペンタデカン、１，２－エポキシヘキサデカン、１，２－エポキシヘプタデカン、１，２－エポキシオクタデカン、１，２－エポキシノナデカン、１，２－エポキシエイコサン等のアルキル基を有するアルキレンオキシド化合物が挙げられる。好ましくは１，２－エポキシテトラデカンである。
【0037】
前記芳香族アルコールと前記一般式（３）で表されるエポキシ化合物を反応させる条件は、アルカリ触媒等を用いて、常法に従って反応することができる。例えば、反応温度は、５０～２００℃であることが好ましい。より好ましくは１００～２００℃である。反応時間は３０分から５時間であることが好ましい。より好ましくは４０分から３時間である。反応温度や反応時間が、上述の範囲であると、ほぼ定量的に反応が進み反応が向上するため、未反応の原料が少なくなるため、本開示の疎水基を有するアルキレンオキシド重合体の洗浄度、もしくは、再汚染防止能が向上する傾向にあることから好ましい。
【0038】
また、製造方法（Ｉ）に於けるアルキレンオキシド化合物を付加反応させる反応条件は、常法に従って行うことができる。例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の触媒を用いて、必要に応じて、オートクレーブ等の加圧反応器を用いて、常温から１５０℃程度の反応温度で行うことができる。後述する製造方法（ＩＩ）及び製造方法（ＩＩＩ）に於けるアルキレンオキシド化合物を付加反応させる反応条件も同様である。
【0039】
また、別の製造方法（ＩＩ）としては、芳香環を有するアルコール化合物に下記一般式（４）で表されるグリシジルエーテル化合物を付加反応させた後、付加反応で生成した水酸基に、アルキレンオキシド化合物を付加反応させることで製造することができる。
なお、芳香環を有するアルコール化合物は、前記製造方法（Ｉ）で用いた化合物と同じである。
なお、芳香環を有するアルコール化合物は、前記製造方法（Ｉ）で用いた化合物と同じである。
【0040】
【化7】
【0041】
前記一般式（４）で表されるグリシジルエーテル化合物の具体例としては、ブチルグリシジルエーテル、炭素数８～１０のアルキルグリシジルエーテル、炭素数１２～１４のアルキルグリシジルエーテル等が挙げられる。メチルグリシジルエーテル、エチルグリシジルエーテル、プロピルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、ペンチルグリシジルエーテル、ヘキシルグリシジルエーテル、ヘプチルグリシジルエーテル、オクチルグリシジルエーテル、ノニルグリシジルエーテル、デシルグリシジルエーテル、ウンデシルグリシジルエーテル、ドデシルグリシジルエーテル（ラウリルグリシジルエーテル）、トリデシルグリシジルエーテル、テトラデシルグリシジルエーテル、ペンタデシルグリシジルエーテル、ヘキサデシルグリシジルエーテル、ヘプタデシルグリシジルエーテル、オクタデシルグリシジルエーテル、ノナデシルグリシジルエーテル及びイコシルグリシジルエーテル等が挙げられる。
好ましくはドデシルグリシジルエーテル（ラウリルグリシジルエーテル）である。
好ましくはドデシルグリシジルエーテル（ラウリルグリシジルエーテル）である。
【0042】
前記芳香族アルコールと前記一般式（４）で表されるグリシジルエーテル化合物を反応させる条件は、アルカリ触媒等を用いて、常法に従って反応することができる。例えば、反応温度は、５０～２００℃であることが好ましい。より好ましくは１００～２００℃である。反応時間は３０分から５時間であることが好ましい。より好ましくは４０分から３時間である。反応温度や反応時間が、上述の範囲であると、ほぼ定量的に反応が進み反応が向上するため、未反応の原料が少なくなるため、本開示の疎水基を有するアルキレンオキシド重合体の洗浄度、もしくは、再汚染防止能が向上する傾向にあることから好ましい。
【0043】
また、別の製造方法（ＩＩＩ）としては、炭素数１～３０の炭化水素基を有するアルコール化合物に下記一般式（５）で表されるエポキシ化合物を付加反応させた後、付加反応で生成した水酸基に、アルキレンオキシド化合物を付加反応させることで製造することができる。
なお、炭素数１～３０の炭化水素基は、前記一般式（１）のＲ１基と同じである。
なお、炭素数１～３０の炭化水素基は、前記一般式（１）のＲ１基と同じである。
【0044】
炭素数１～３０の炭化水素基を有するアルコール化合物の具体例としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブチルアルコール等の低級アルコール；炭素数８～２４の脂肪族アルコールが挙げられる。
好ましくは炭素数８～２４の脂肪族アルコールであり、更に好ましくは、炭素数１０～１８のの脂肪族アルコールであり、最も好ましくは、炭素数１２～１４の脂肪族アルコールである。
具体的には、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノナノールデシルアルコール、ウンデシルアルコール、ドデシルアルコール、トリデシルアルコール、テトラデシルアルコール、ペンタデシルアルコール、ヘキサデシルアルコール、ヘプタデシルアルコール、オクタデシルアルコール、ノナデシルアルコール、イコシルアルコールなどが挙げられる。また、アルケニルアルコールとしては、例えば、ペンテノール、ヘキサナール、ヘプテナール、オクテナール、ノネナール、デシレンアルコール、ウンデシレンアルコール、ドデシレンアルコール、トリデシレンアルコール、テトラデシレンアルコール、ペンタデシレンアルコール、ヘキサデシレンアルコール、ヘプタデシレンアルコール、オクタデシレンアルコール、ノナデシレンアルコール、イコシレン基などが挙げられる。なかでも、ウンデシルアルコール、ドデシルアルコール、トリデシルアルコールであることが好ましく、ドデシルアルコールであることがより好ましい。
好ましくは炭素数８～２４の脂肪族アルコールであり、更に好ましくは、炭素数１０～１８のの脂肪族アルコールであり、最も好ましくは、炭素数１２～１４の脂肪族アルコールである。
具体的には、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノナノールデシルアルコール、ウンデシルアルコール、ドデシルアルコール、トリデシルアルコール、テトラデシルアルコール、ペンタデシルアルコール、ヘキサデシルアルコール、ヘプタデシルアルコール、オクタデシルアルコール、ノナデシルアルコール、イコシルアルコールなどが挙げられる。また、アルケニルアルコールとしては、例えば、ペンテノール、ヘキサナール、ヘプテナール、オクテナール、ノネナール、デシレンアルコール、ウンデシレンアルコール、ドデシレンアルコール、トリデシレンアルコール、テトラデシレンアルコール、ペンタデシレンアルコール、ヘキサデシレンアルコール、ヘプタデシレンアルコール、オクタデシレンアルコール、ノナデシレンアルコール、イコシレン基などが挙げられる。なかでも、ウンデシルアルコール、ドデシルアルコール、トリデシルアルコールであることが好ましく、ドデシルアルコールであることがより好ましい。
【0045】
【化8】
【0046】
前記一般式（５）で表される芳香環を有するエポキシ化合物の具体例としては、スチレンオキシド、フェニルグリシジルエーテル等が挙げられる。
【0047】
前記炭素数１～３０の炭化水素基を有するアルコール化合物に前記一般式（５）で表されるエポキシ化合物を反応させる条件は、アルカリ触媒等を用いて、常法に従って反応することができる。例えば、反応温度は、５０～２００℃であることが好ましい。より好ましくは１００～２００℃である。反応時間は３０分から５時間であることが好ましい。より好ましくは４０分から３時間である。反応温度や反応時間が、上述の範囲であると、ほぼ定量的に反応が進み反応が向上するため、未反応の原料が少なくなるため、本開示の疎水基を有するアルキレンオキシド重合体の洗浄度、もしくは、再汚染防止能が向上する傾向にあることから好ましい。
【0048】
前記製造方法（Ｉ）～（ＩＩＩ）には、アルコール化合物（前記芳香族アルコール、及び／又は、前記炭素数１～３０の炭化水素基を有するアルコール化合物）とエポキシ化合物（前記一般式（３）～（５）で表される化合物）の反応工程があるが、反応率が必ずしも１００％にならないため、未反応のアルコール化合物（前記芳香族アルコール、及び／又は、前記炭素数１～３０の炭化水素基を有するアルコール化合物）と未反応のエポキシ化合物（前記一般式（３）～（５）で表される化合物）、あるいは、未反応のエポキシ化合物（前記一般式（３）～（５）で表される化合物）と反応系内に微量に存在する水やその他不純物と未反応の前記エポキシ化合物が反応した副生物が存在することがある。
【0049】
未反応のアルコール化合物（前記芳香族アルコール、及び／又は、前記炭素数１～３０の炭化水素基を有するアルコール化合物）、及び／又は、未反応のエポキシ化合物（前記一般式（３）～（５）で表される化合物）は、本開示の疎水基を有するアルキレンオキシド重合体を含む組成物として、組成物の総量を１００質量％とした場合に、組成物の総量を１００質量％とした場合に、２０質量％以下含んでもよい。好ましくは１０質量％以下であり、より好ましくは４質量％である。また、０質量％でも問題ないが、通常、０．１質量％以上含まれる。あるいは、０．５質量％以上含まれる。
【0050】
未反応のエポキシ化合物（前記一般式（３）～（５）で表される化合物）と反応系内に微量に存在する水やその他不純物と未反応の前記エポキシ化合物が反応した副生物は、
本開示の疎水基を有するアルキレンオキシド重合体を含む組成物として、組成物の総量を１００質量％とした場合に、１～１５質量％含んでもよい。好ましくは１～１２質量％であり、より好ましくは１～１０質量％である。
本開示の疎水基を有するアルキレンオキシド重合体を含む組成物として、組成物の総量を１００質量％とした場合に、１～１５質量％含んでもよい。好ましくは１～１２質量％であり、より好ましくは１～１０質量％である。
【0051】
〔本開示の疎水基を有するアルキレンオキシド重合体の用途〕
本開示の疎水基を有するアルキレンオキシド重合体は、洗剤用ビルダー、洗剤、水処理剤、分散剤、繊維処理剤、スケール防止剤（スケール抑制剤）、セメント添加剤、金属イオン封止剤、増粘剤、各種バインダー等に好適に用いることができる。中でも、洗剤用ビルダー、洗剤に好適に用いることができる。
本開示の疎水基を有するアルキレンオキシド重合体は、洗剤用ビルダー、洗剤、水処理剤、分散剤、繊維処理剤、スケール防止剤（スケール抑制剤）、セメント添加剤、金属イオン封止剤、増粘剤、各種バインダー等に好適に用いることができる。中でも、洗剤用ビルダー、洗剤に好適に用いることができる。
【0052】
本開示は更に、本開示の疎水基を有するアルキレンオキシド重合体、又は、本開示の製造方法により製造されてなる疎水基を有するアルキレンオキシド重合体を必須成分とする洗剤用ビルダー、洗剤でもある。
【0053】
＜洗剤用ビルダー、洗剤組成物＞
本開示の洗剤用ビルダーは、洗浄中の衣類等に汚れが再付着するのを防止するための作用を発揮する。本開示の共重合体は、カルボキシル基の電荷反発の作用により、泥汚れを強力に分散し、また剥がれた泥汚れを分散させることで衣類に再付着することを防止することにより、白い衣類の白さをより高めることが出来、洗剤の付加価値を大幅に高めることが出来る。また粉末洗剤に用いられるゼオライトを分散させる能力が高く洗剤粉末を製造する際の分散剤としての効果も高い。
本開示の洗剤用ビルダーは、界面活性剤との相溶性に優れ、得られる洗剤が高濃縮の液体洗剤となる点から、液体洗剤用ビルダーとしても好適に用いることができる。界面活性剤との相溶性に優れることにより、液体洗剤に用いた場合の透明性が良好となり、濁りが原因として起こる液体洗剤の分離の問題を防ぐことができる。また、相溶性が優れることにより、高濃縮の液体洗剤とすることができ、液体洗剤の洗浄能力を向上することができる。本開示の洗剤用ビルダーは、液体洗剤に配合された際に優れた増粘効果を示すものである。従って、使用時の液ダレ等を抑制するため取扱い性に優れるものである。
本開示の洗剤用ビルダーは、洗浄中の衣類等に汚れが再付着するのを防止するための作用を発揮する。本開示の共重合体は、カルボキシル基の電荷反発の作用により、泥汚れを強力に分散し、また剥がれた泥汚れを分散させることで衣類に再付着することを防止することにより、白い衣類の白さをより高めることが出来、洗剤の付加価値を大幅に高めることが出来る。また粉末洗剤に用いられるゼオライトを分散させる能力が高く洗剤粉末を製造する際の分散剤としての効果も高い。
本開示の洗剤用ビルダーは、界面活性剤との相溶性に優れ、得られる洗剤が高濃縮の液体洗剤となる点から、液体洗剤用ビルダーとしても好適に用いることができる。界面活性剤との相溶性に優れることにより、液体洗剤に用いた場合の透明性が良好となり、濁りが原因として起こる液体洗剤の分離の問題を防ぐことができる。また、相溶性が優れることにより、高濃縮の液体洗剤とすることができ、液体洗剤の洗浄能力を向上することができる。本開示の洗剤用ビルダーは、液体洗剤に配合された際に優れた増粘効果を示すものである。従って、使用時の液ダレ等を抑制するため取扱い性に優れるものである。
【0054】
本開示の洗剤ビルダーは、再汚染防止能に優れ、更に、長期間保存した場合の性能低下や低温で保持した場合の不純物析出等が生じにくい極めて高品質な剤性能で安定性に優れた洗剤ビルダーとすることができる。
【0055】
前記洗浄能力は、洗浄率によって判断することができる。洗浄率は、以下の方法により求めることができる。
【0056】
以下の方法により測定された値と下記式により洗浄率（％）を求める。
洗浄力（％）＝
（洗浄後の人工汚染布の白色度－洗浄前の人工汚染布の白色度）÷（人工汚染布の元白布（ＥＭＰＡ２２１）の白色度－洗浄前の人工汚染布の白色度）×１００
前記洗浄率に関し、疎水基を有するアルキレンオキシド重合体を含む組成物により構成される洗剤用ビルダー、洗剤、水処理剤又は分散剤であって、洗浄率が、ＥＭＰＡ１６４を用いた場合に７．３％以上、又は、ＥＭＰＡ１０６を用いた場合に１７．４％以上であるものもまた、本開示の１つである。このような疎水基を有するアルキレンオキシド重合体を含む組成物、すなわち、洗剤用ビルダー、洗剤の中でも、これら２つの特性、すなわちＥＭＰＡ１６４を用いた場合の洗浄率、及び、ＥＭＰＡ１０６を用いた場合の洗浄率の両方を満たすものが好ましい。また、ＥＭＰＡ１６４を用いた場合の洗浄率としては、７．４％以上であることが好ましい。ＥＭＰＡ１０６を用いた場合の洗浄率としては、１７．５％以上であることが好ましい。より好ましくは、１７．６％以上である。なお、上記洗浄率の測定に用いる人工汚染布ＥＭＰＡ１６４及び１０６とは、布に一定の汚れを付着させた汚れ試験用の標準試料であり、ＥＭＰＡ１６４は、綿の白布（ＥＭＰＡ２２１）に草の汚れを付着させたものであり、ＥＭＰＡ１０６は、綿の白布（ＥＭＰＡ２２１）にカーボンブラックと鉱油の汚れを付着させたものである。
洗浄力（％）＝
（洗浄後の人工汚染布の白色度－洗浄前の人工汚染布の白色度）÷（人工汚染布の元白布（ＥＭＰＡ２２１）の白色度－洗浄前の人工汚染布の白色度）×１００
前記洗浄率に関し、疎水基を有するアルキレンオキシド重合体を含む組成物により構成される洗剤用ビルダー、洗剤、水処理剤又は分散剤であって、洗浄率が、ＥＭＰＡ１６４を用いた場合に７．３％以上、又は、ＥＭＰＡ１０６を用いた場合に１７．４％以上であるものもまた、本開示の１つである。このような疎水基を有するアルキレンオキシド重合体を含む組成物、すなわち、洗剤用ビルダー、洗剤の中でも、これら２つの特性、すなわちＥＭＰＡ１６４を用いた場合の洗浄率、及び、ＥＭＰＡ１０６を用いた場合の洗浄率の両方を満たすものが好ましい。また、ＥＭＰＡ１６４を用いた場合の洗浄率としては、７．４％以上であることが好ましい。ＥＭＰＡ１０６を用いた場合の洗浄率としては、１７．５％以上であることが好ましい。より好ましくは、１７．６％以上である。なお、上記洗浄率の測定に用いる人工汚染布ＥＭＰＡ１６４及び１０６とは、布に一定の汚れを付着させた汚れ試験用の標準試料であり、ＥＭＰＡ１６４は、綿の白布（ＥＭＰＡ２２１）に草の汚れを付着させたものであり、ＥＭＰＡ１０６は、綿の白布（ＥＭＰＡ２２１）にカーボンブラックと鉱油の汚れを付着させたものである。
【0057】
前記洗剤ビルダーにおける疎水基を有するアルキレンオキシド重合体以外の他の組成成分や配合比率としては、従来公知の洗剤ビルダーに用いることができる各種成分、及び、その配合比率に基づき、本開示の作用効果を損なわない範囲で適宜用いることができる。
【0058】
前記洗剤は、粉末洗剤であってもよいし、液体洗剤であってもよいが、疎水基を有するアルキレンオキシド重合体が液体洗剤との溶解性に優れる点から、液体洗剤が好ましい。上記洗剤には、疎水基を有するアルキレンオキシド重合体以外に、通常、洗剤に用いられる添加剤を用いることができる。前記添加剤としては、例えば、界面活性剤、アルカリビルダー、キレートビルダー、カルボキシメチルセルロースナトリウム等の汚染物質の再沈着を防止するための再付着防止剤、ベンゾトリアゾールやエチレン－チオ尿素等のよごれ抑制剤、ソイルリリース剤、色移り防止剤、柔軟剤、ｐＨ調節のためのアルカリ性物質、香料、可溶化剤、蛍光剤、着色剤、起泡剤、泡安定剤、つや出し剤、殺菌剤、漂白剤、漂白助剤、酵素、染料、溶媒等が好適である。また、粉末洗剤の場合にはゼオライトを配合することが好ましい。
【0059】
前記洗剤に用いる場合、本開示の疎水基を有するアルキレンオキシド重合体は、洗剤１００質量％に対して０．１～２０質量％添加することが好ましい。０．１質量％未満であると、洗剤の洗浄力が不充分になるおそれがあり、２０質量％を超えると、不経済になるおそれがある。
【0060】
なお、前記洗剤は、家庭用洗剤の合成洗剤、繊維工業その他の工業用洗剤、硬質表面洗浄剤のほか、その成分の１つの働きを高めた漂白洗剤等の特定の用途にのみ用いられる洗剤も含む。
【0061】
前記界面活性剤は、アニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤及び両性界面活性剤から選ばれる少なくとも１種であり、これらの界面活性剤は１種又は２種以上を使用することができる。２種以上使用する場合、アニオン系界面活性剤とノニオン系界面活性剤とを合わせた使用量は、全界面活性剤１００質量％に対して５０質量％以上が好ましい。より好ましくは、６０質量％以上であり、更に好ましくは、７０質量％以上であり、特に好ましくは、８０質量％以上である。
【0062】
前記アニオン系界面活性剤としては、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルエーテル硫酸塩、アルケニルエーテル硫酸塩、アルキル硫酸塩、アルケニル硫酸塩、α－オレフィンスルホン酸塩、α－スルホ脂肪酸又はエステル塩、アルカンスルホン酸塩、飽和脂肪酸塩、不飽和脂肪酸塩、アルキルエーテルカルボン酸塩、アルケニルエーテルカルボン酸塩、アミノ酸型界面活性剤、Ｎ－アシルアミノ酸型界面活性剤、アルキルリン酸エステル又はその塩、アルケニルリン酸エステル又はその塩等が好適である。上記アニオン系界面活性剤におけるアルキル基、アルケニル基は、メチル基等のアルキル基が分岐していてもよい。
【0063】
前記ノニオン系界面活性剤としては、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンアルケニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、高級脂肪酸アルカノールアミド又はそのアルキレンオキサイド付加物、ショ糖脂肪酸エステル、アルキルグリコキシド、脂肪酸グリセリンモノエステル、アルキルアミンオキサイド等が好適である。上記ノニオン系界面活性剤におけるアルキル基、アルケニル基は、メチル基等のアルキル基が分岐していてもよい。
前記カチオン系界面活性剤としては、第４級アンモニウム塩等が好適である。
前記両性界面活性剤としては、カルボキシル型両性界面活性剤、スルホベタイン型両性界面活性剤等が好適である。
上記カチオン系界面活性剤、両性界面活性剤におけるアルキル基、アルケニル基は、メチル基等のアルキル基が分岐していてもよい。
前記カチオン系界面活性剤としては、第４級アンモニウム塩等が好適である。
前記両性界面活性剤としては、カルボキシル型両性界面活性剤、スルホベタイン型両性界面活性剤等が好適である。
上記カチオン系界面活性剤、両性界面活性剤におけるアルキル基、アルケニル基は、メチル基等のアルキル基が分岐していてもよい。
【0064】
前記界面活性剤の配合割合は、通常、液体洗剤１００質量％に対して１０～６０質量％であることが好ましい。より好ましくは、１５質量％以上、５０質量％以下であり、更に好ましくは、２０質量％以上、４５質量％以下であり、特に好ましくは、２５質量％以上、４０質量％以下である。界面活性剤の配合割合が１０質量％未満であると、充分な洗浄力を発揮できなくなるおそれがあり、６０質量％を超えると、経済性が低下するおそれがある。
【0065】
前記液体洗剤用ビルダーの配合割合は、通常、液体洗剤１００質量％に対して０．１～２０質量％が好ましい。より好ましくは、０．２質量％以上、１５質量％以下であり、より好ましくは、０．３質量％以上、１０質量％以下であり、更に好ましくは、０．４質量％以上、８質量％以下であり、特に好ましくは、０．５質量％以上、５質量％以下である。液体洗剤用ビルダーの配合割合が０．１質量％未満であると、充分な洗剤性能を発揮できなくなるおそれがあり、２０質量％を超えると、経済性が低下するおそれがある。
【0066】
前記液体洗剤に含まれる水分量は、通常、液体洗剤１００質量％に対して０．１～７５質量％が好ましい。より好ましくは、０．２質量％以上、７０質量％以下であり、更に好ましくは、０．５質量％以上、６５質量％以下であり、特に好ましくは、０．７質量％以上、６０質量％以下であり、より特に好ましくは、１質量％以上、５５質量％以下であり、最も好ましくは、１．５質量％以上、５０質量％以下である。
【0067】
前記液体洗剤は、カオリン濁度が２００ｍｇ／Ｌ以下であることが好ましい。より好ましくは、１５０ｍｇ／Ｌ以下であり、更に好ましくは、１２０ｍｇ／Ｌ以下であり、特に好ましくは、１００ｍｇ／Ｌ以下であり、最も好ましくは、５０ｍｇ／Ｌ以下である。
【0068】
また、本開示の疎水基を有するアルキレンオキシド重合体を液体洗剤に添加する場合としない場合とでのカオリン濁度の変化（差）は、５００ｍｇ／Ｌ以下が好ましい。より好ましくは、４００ｍｇ／Ｌ以下であり、更に好ましくは、３００ｍｇ／Ｌ以下であり、特に好ましくは、２００ｍｇ／Ｌ以下であり、最も好ましくは、１００ｍｇ／Ｌ以下である。カオリン濁度は、例えば、下記の方法により測定することができる。
【0069】
（カオリン濁度の測定方法）
厚さ１０ｍｍの５０ｍｍ角セルに均一に攪拌した試料（液体洗剤）を仕込み、気泡を除いた後、日本電色株式会社製ＮＤＨ２０００（商品名、濁度計）を用いて２５℃でのＴｕｒｂｉｄｉｔｙ（カオリン濁度 ：ｍｇ／Ｌ）を測定する。
厚さ１０ｍｍの５０ｍｍ角セルに均一に攪拌した試料（液体洗剤）を仕込み、気泡を除いた後、日本電色株式会社製ＮＤＨ２０００（商品名、濁度計）を用いて２５℃でのＴｕｒｂｉｄｉｔｙ（カオリン濁度 ：ｍｇ／Ｌ）を測定する。
【0070】
本開示の洗剤に配合することができる酵素としては、プロテアーゼ、リパーゼ、セルラーゼ等が好適である。中でも、アルカリ洗浄液中で活性が高いプロテアーゼ、アルカリリパーゼ及びアルカリセルラーゼが好ましい。上記酵素の添加量は、洗剤１００質量％に対して５質量％以下であることが好ましい。５質量％を超えると、洗浄力の向上が見られなくなり、経済性が低下するおそれがある。
【0071】
前記アルカリビルダーとしては、珪酸塩、炭酸塩、硫酸塩等が好適である。上記キレートビルダーとしては、ジグリコール酸、オキシカルボン酸、ＥＤＴＡ（エチレンジアミン四酢酸）、ＤＴＰＡ（ジエチレントリアミン五酢酸）、クエン酸、MGDA（メチルグリシンジ酢酸）、HIDS（ヒドロキシイミノジ酢酸）等が好適である。水溶性ポリカルボン酸系ポリマーを用いてもよい。
【0072】
前記洗剤は、分散能に優れ、更に、長期間保存した場合の性能低下や低温で保持した場合の不純物析出等が生じにくい極めて高品質剤性能で安定性に優れた洗剤とすることができる。
【実施例0073】
以下に実施例を掲げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」は「質量部」を、「％」は「質量％」を意味するものとする。
【0074】
＜複合汚れの洗浄力評価試験＞
（１）５ｃｍ×５ｃｍの人工汚染布ＰＣ－Ｓ―９４（ＣＦＴ社製）のＬａｂ表色系のＬ値、ａ値、ｂ値を反射率計（分光式色差計、日本電色工業株式会社製、製品名：ＳＥ６０００）を用いて測定した。
（２）塩化カルシウム二水和物５６．８ｇ、塩化マグネシウム六水和物２６.１に純水を加えて、硬水母液（ｉ）を調整した。
（３）直鎖アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム（花王製ネオペレックスＧ－２５、以下ＬＡＳともいう）１１．６ｇに純水８８．４ｇを加えて３％ＬＡＳ水溶液(ｉｉ)を１００ｇ調製した。
（４）４０００ｇの純水に硬水母液（ｉ）を２０ｇ、３％ＬＡＳ水溶液（ｉｉ）を５４ｇ加え、撹拌を実施し、洗浄液（ｉｉｉ）を調製した。
（５）すすぎのために４０００ｇの純水に硬水母液（ｉ）を２０ｇ加えて撹拌しすすぎ液（ｉｖ）を調製した。
（６）Ｔｅｒｇｏｔ－ｏ－ｍｅｔｅｒ（大栄科学社製、製品名：ＴＭ－４）内の各ポットに洗浄液（ｉｉｉ）１０００ｇずつ加え、さらに評価サンプルの固形分１．５％水溶液を２．７ｍＬずつ、各ポットにそれぞれ加え撹拌した。
（７）ポット内の温度を２５℃に調温し、ＰＣ－Ｓ―９４を３枚、浴比調整のための綿布Ｔｅｓｔ ｆａｂｒｉｃｓ社製５ｃｍ×５ｃｍのＳｔｙｌｅ＃４６０）５０ｇを各ポットにそれぞれ入れ、撹拌後１分間漬け置きした。
（８）漬け置き後、１５０ｒｐｍで１０分間撹拌した。
（９）各ポットから汚染布を取り出し、手で水を切り、すすぎ液（ｉｖ）１０００ｇを各ポットに入れ２５℃に調温し、１５０ｒｐｍで５分間撹拌した。
（１０）（９）の操作をもう１回繰り返した。
（１１）各ポットから汚染布を取り出し、手で水を切り、室温で乾燥させた後、上記分光色差計にて再度、汚染布のＬ値、ａ値、ｂ値を反射率にて測定した。
（１０）以上の測定結果から下式により洗浄度（洗浄力）を求めた。
Ｌbefore, Ｌafterはそれぞれ洗浄前後のL値、ａbefore, ａafterはそれぞれ洗浄前後のa値、ｂbefore, ｂafterはそれぞれ洗浄前後のｂ値を表す。
洗浄度の値が大きいほど、洗浄力が良好であることを意味する。
（１）５ｃｍ×５ｃｍの人工汚染布ＰＣ－Ｓ―９４（ＣＦＴ社製）のＬａｂ表色系のＬ値、ａ値、ｂ値を反射率計（分光式色差計、日本電色工業株式会社製、製品名：ＳＥ６０００）を用いて測定した。
（２）塩化カルシウム二水和物５６．８ｇ、塩化マグネシウム六水和物２６.１に純水を加えて、硬水母液（ｉ）を調整した。
（３）直鎖アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム（花王製ネオペレックスＧ－２５、以下ＬＡＳともいう）１１．６ｇに純水８８．４ｇを加えて３％ＬＡＳ水溶液(ｉｉ)を１００ｇ調製した。
（４）４０００ｇの純水に硬水母液（ｉ）を２０ｇ、３％ＬＡＳ水溶液（ｉｉ）を５４ｇ加え、撹拌を実施し、洗浄液（ｉｉｉ）を調製した。
（５）すすぎのために４０００ｇの純水に硬水母液（ｉ）を２０ｇ加えて撹拌しすすぎ液（ｉｖ）を調製した。
（６）Ｔｅｒｇｏｔ－ｏ－ｍｅｔｅｒ（大栄科学社製、製品名：ＴＭ－４）内の各ポットに洗浄液（ｉｉｉ）１０００ｇずつ加え、さらに評価サンプルの固形分１．５％水溶液を２．７ｍＬずつ、各ポットにそれぞれ加え撹拌した。
（７）ポット内の温度を２５℃に調温し、ＰＣ－Ｓ―９４を３枚、浴比調整のための綿布Ｔｅｓｔ ｆａｂｒｉｃｓ社製５ｃｍ×５ｃｍのＳｔｙｌｅ＃４６０）５０ｇを各ポットにそれぞれ入れ、撹拌後１分間漬け置きした。
（８）漬け置き後、１５０ｒｐｍで１０分間撹拌した。
（９）各ポットから汚染布を取り出し、手で水を切り、すすぎ液（ｉｖ）１０００ｇを各ポットに入れ２５℃に調温し、１５０ｒｐｍで５分間撹拌した。
（１０）（９）の操作をもう１回繰り返した。
（１１）各ポットから汚染布を取り出し、手で水を切り、室温で乾燥させた後、上記分光色差計にて再度、汚染布のＬ値、ａ値、ｂ値を反射率にて測定した。
（１０）以上の測定結果から下式により洗浄度（洗浄力）を求めた。
洗浄度の値が大きいほど、洗浄力が良好であることを意味する。
【0075】
＜カーボンブラックの再汚染防止評価＞
下記の洗浄工程、すすぎ工程、乾燥工程をこの順序で行う洗濯処理を３回繰り返し、布へのカーボンブラックの再汚染防止能を測定した。
洗浄工程：
被洗物として、下記の綿布２種類を用いた。
綿布（１）：再汚染判定布として綿メリヤス（谷頭商店製）５ｃｍ×５ｃｍを５枚用意した。
綿布（２）：Ｔｅｓｔｆａｂｒｉｃｓ社より入手した綿布を綿布（１）と合わせて３０ｇになるように用意した。
界面活性剤として、３％ＬＡＳ水溶液と、各評価サンプルの固形分１．５％水溶液を用意した。
Ｔｅｒｇｏｔ－ｏ－ｍｅｔｅｒ（大栄科学社製、製品名：ＴＭ－４）内に、２５℃の１５°ＤＨ硬水（塩化カルシウム及び塩化マグネシウムで調製。Ｃａ／Ｍｇ＝３（質量比））９００ｍＬ、上記３％ＬＡＳ水溶液７．５ｇとカーボンブラック（以下ＣＢともいう）０．０５ｇを混合した汚染液、評価サンプル１．５％水溶液を０．４９８ｇ、並びに綿布（１）及び（２）を投入した。その後撹拌速度１２０ｒｐｍ、２５℃で１０分間洗浄を行った。
すすぎ工程：
洗浄工程後の被洗物と泥汚染布を、１．５分間脱水した後、２５℃の１５°ＤＨ硬水９００ｍＬを入れ、１２０ｒｐｍ、２５℃で３分間すすいだ。この操作（脱水およびすすぎ）を２回繰り返した。
乾燥工程：
すすぎ工程後の被洗物と泥汚染布を１．５分間脱水した後、綿布（１）のみ取り出し、綿布で挟み、アイロンで乾燥した。
上記洗濯処理を１～３回行った綿布（１）及び洗濯処理前の綿布（１）について、反射率計（分光式色差計、日本電色工業株式会社製、製品名：ＳＥ６０００）を用い、反射率（Ｚ値）を測定し、下記式より再汚染防止率を求めた。
再汚染防止率＝（洗濯処理を１～３回行った後の綿布（１）のＺ値）／（洗濯処理前の綿布（１）のＺ値）×１００
下記の洗浄工程、すすぎ工程、乾燥工程をこの順序で行う洗濯処理を３回繰り返し、布へのカーボンブラックの再汚染防止能を測定した。
洗浄工程：
被洗物として、下記の綿布２種類を用いた。
綿布（１）：再汚染判定布として綿メリヤス（谷頭商店製）５ｃｍ×５ｃｍを５枚用意した。
綿布（２）：Ｔｅｓｔｆａｂｒｉｃｓ社より入手した綿布を綿布（１）と合わせて３０ｇになるように用意した。
界面活性剤として、３％ＬＡＳ水溶液と、各評価サンプルの固形分１．５％水溶液を用意した。
Ｔｅｒｇｏｔ－ｏ－ｍｅｔｅｒ（大栄科学社製、製品名：ＴＭ－４）内に、２５℃の１５°ＤＨ硬水（塩化カルシウム及び塩化マグネシウムで調製。Ｃａ／Ｍｇ＝３（質量比））９００ｍＬ、上記３％ＬＡＳ水溶液７．５ｇとカーボンブラック（以下ＣＢともいう）０．０５ｇを混合した汚染液、評価サンプル１．５％水溶液を０．４９８ｇ、並びに綿布（１）及び（２）を投入した。その後撹拌速度１２０ｒｐｍ、２５℃で１０分間洗浄を行った。
すすぎ工程：
洗浄工程後の被洗物と泥汚染布を、１．５分間脱水した後、２５℃の１５°ＤＨ硬水９００ｍＬを入れ、１２０ｒｐｍ、２５℃で３分間すすいだ。この操作（脱水およびすすぎ）を２回繰り返した。
乾燥工程：
すすぎ工程後の被洗物と泥汚染布を１．５分間脱水した後、綿布（１）のみ取り出し、綿布で挟み、アイロンで乾燥した。
上記洗濯処理を１～３回行った綿布（１）及び洗濯処理前の綿布（１）について、反射率計（分光式色差計、日本電色工業株式会社製、製品名：ＳＥ６０００）を用い、反射率（Ｚ値）を測定し、下記式より再汚染防止率を求めた。
再汚染防止率＝（洗濯処理を１～３回行った後の綿布（１）のＺ値）／（洗濯処理前の綿布（１）のＺ値）×１００
【0076】
＜中間体（１）の合成例＞
（１，２－エポキシテトラデカン－ベンジルアルコール）の合成
温度計、攪拌機及び窒素導入管を備えた容量３００ｍＬのガラス製四つ口ナスフラスコ反
応容器に、ベンジルアルコール（富士フィルム和光純薬製、以下、ＢｎＯＨという。）４９.７ｇ（０．４６ｍｏｌ）、水酸化カリウム２．５８ｇ（富士フィルム和光純薬製、以下、ＫＯＨ）を仕込み、１２０℃で１時間１００ｍｌ/ｍｉｎで窒素バブリングを実施した。窒素流量を５０ｍｌ／ｍｉｎにした後、１，２－エポキシテトラデカン（東京化成工業製）を９７．７ｇ（０．４６ｍｏｌ））を反応容器内に滴下ロートで６０分かけて滴下し、窒素雰囲気下で３時間その温度を保持し、反応の粗生成物を得た。粗生成物を５００ｍｌ分液漏斗に移し、１５０ gの純水を加えて分液を実施した。有機層を回収後、再度１５０ｇの純水を加えて、分液を実施した。その後、有機層を回収し、有機層に含まれる水をエバポレーションによって除去し、芳香環を有するアルキレンアルコール化合物（以下、中間体（１））を得た。
（１，２－エポキシテトラデカン－ベンジルアルコール）の合成
温度計、攪拌機及び窒素導入管を備えた容量３００ｍＬのガラス製四つ口ナスフラスコ反
応容器に、ベンジルアルコール（富士フィルム和光純薬製、以下、ＢｎＯＨという。）４９.７ｇ（０．４６ｍｏｌ）、水酸化カリウム２．５８ｇ（富士フィルム和光純薬製、以下、ＫＯＨ）を仕込み、１２０℃で１時間１００ｍｌ/ｍｉｎで窒素バブリングを実施した。窒素流量を５０ｍｌ／ｍｉｎにした後、１，２－エポキシテトラデカン（東京化成工業製）を９７．７ｇ（０．４６ｍｏｌ））を反応容器内に滴下ロートで６０分かけて滴下し、窒素雰囲気下で３時間その温度を保持し、反応の粗生成物を得た。粗生成物を５００ｍｌ分液漏斗に移し、１５０ gの純水を加えて分液を実施した。有機層を回収後、再度１５０ｇの純水を加えて、分液を実施した。その後、有機層を回収し、有機層に含まれる水をエバポレーションによって除去し、芳香環を有するアルキレンアルコール化合物（以下、中間体（１））を得た。
【0077】
＜実施例１＞
温度計、撹拌機、原料導入管及び窒素導入管を備えた容量１ＬのＳＵＳ製オートクレーブ
反応容器に、中間体（１）８９．７ｇ（０．２８ｍоｌ）、触媒として水酸化カリウム
０．２２４ｇ（４.００ｍｍоｌ）を仕込み、撹拌下に反応容器内を窒素置換し、窒素雰
囲気下で１３０℃まで加熱した。その後、反応容器内を真空ポンプで１．８ｋＰａ
まで減圧状態にして、撹拌下で１時間脱水を行った。そして安全圧下で１５０±５℃を保
持したままエチレンオキシド（以下、ＥＯという）１６０．４ｇ（３．６４ｍｏｌ）を２．５時間かけて反応器内に導入し、導入後さらに３０分間その温度を保持した。その後、反応容器内からＥＯ１３モル付加物の中間体９２．６ｇを抜き出した。再度、ＥＯを６２．０ｇ（１．４１ｍｏｌ）を１時間かけて反応容器内に導入し、さらに３０分間その温度を保持した。その後、ＥＯ２１モル付加物の中間体を５９.５ｇ抜き出した。再度、ＥＯを２２．２ｇ（０．５０４ｍｏｌ）を３０分間かけて反応容器内に導入し、さらに３０分間その温度を保持した。その後、ＥＯ２５モル付加物の中間体を８７．９ｇ抜き出した。再度、ＥＯを４１．８ｇ（０．９５ｍｏｌ）を２０分間かけて反応容器内に導入し、さらに３０分間その温度を保持したのち、室温まで冷却した。こうして中間体（１）に平均４０モルのＥＯを付加したポリアルキレングリコール化合物（以下ＰＡＧ化合物という）（１）を得た。
温度計、撹拌機、原料導入管及び窒素導入管を備えた容量１ＬのＳＵＳ製オートクレーブ
反応容器に、中間体（１）８９．７ｇ（０．２８ｍоｌ）、触媒として水酸化カリウム
０．２２４ｇ（４.００ｍｍоｌ）を仕込み、撹拌下に反応容器内を窒素置換し、窒素雰
囲気下で１３０℃まで加熱した。その後、反応容器内を真空ポンプで１．８ｋＰａ
まで減圧状態にして、撹拌下で１時間脱水を行った。そして安全圧下で１５０±５℃を保
持したままエチレンオキシド（以下、ＥＯという）１６０．４ｇ（３．６４ｍｏｌ）を２．５時間かけて反応器内に導入し、導入後さらに３０分間その温度を保持した。その後、反応容器内からＥＯ１３モル付加物の中間体９２．６ｇを抜き出した。再度、ＥＯを６２．０ｇ（１．４１ｍｏｌ）を１時間かけて反応容器内に導入し、さらに３０分間その温度を保持した。その後、ＥＯ２１モル付加物の中間体を５９.５ｇ抜き出した。再度、ＥＯを２２．２ｇ（０．５０４ｍｏｌ）を３０分間かけて反応容器内に導入し、さらに３０分間その温度を保持した。その後、ＥＯ２５モル付加物の中間体を８７．９ｇ抜き出した。再度、ＥＯを４１．８ｇ（０．９５ｍｏｌ）を２０分間かけて反応容器内に導入し、さらに３０分間その温度を保持したのち、室温まで冷却した。こうして中間体（１）に平均４０モルのＥＯを付加したポリアルキレングリコール化合物（以下ＰＡＧ化合物という）（１）を得た。
【0078】
実施例１で得られたＰＡＧ化合物（１）、比較例１として日本乳化剤株式会社製ニューコール２３２０（炭素数１２～１３の第１級アルコールに酸化エチレンを平均２０モル付加した化合物であり、以下ＮＣ２３２０とも称する）、比較例２としてフェノールにＥＯを５０モル付加した化合物（以下、Ｐｈｅｎｏｌ－ＥＯ５０とも称する）について、上記複合汚れの洗浄力評価試験の結果を表１に示した。
【0079】
また実施例１で得られたＰＡＧ化合物（１）、比較例３として１-ドデカノールにＥＯを２５モル付加した化合物（以下、Ｃ１２－ＥＯ２５とも称する）について、上記再汚染防止評価の結果を表２に示した。実施例１のＰＡＧ化合物と比較例３のＣ１２―ＥＯ２５は同程度のＨＬＢである。
【0080】
【表1】
【0081】
【表2】